TW200909342A - Thermal pad with carbon nanotube array and method of making the same - Google Patents

Thermal pad with carbon nanotube array and method of making the same Download PDF

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200909342 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種奈米碳管複合熱界面材料及其 ' 製備方法,尤其涉及一種奈米碳管陣列複合導熱片及 其製備方法。 【先前技術】 自1991年日本NEC公司的Iijima發現奈米碳管 (Carbon Nanotube,CNT)以來(Ii lima S·,Nature,, vol 354,p56(1991)),立即引起科學界及産業界的 極大重視。奈米碳管具有優良的機械和光電性能,被 認爲係複合材料的理想添加物。奈米碳管/聚合物複 合材料首次報道後已成爲世界科學研究的熱點 (A jayan Ρ. Μ. , Stephan 0. , ColliexC. , Tranth D., ' Science., vol 265,pi212(1994): Calvert Ρ., Nature, vol 399,p210(1999))。奈米碳管作爲增强 體和導電體,形成的複合材料具有抗靜電,吸收微波 和屏蔽電磁等性能,具有廣泛的應用前景。 奈米碳管複合材料的製備方法通常有原位聚合 法、溶液共混法和熔體共混法。原位聚合法係利用奈 米碳管表面的官能團參與聚合或利用引發劑打開奈 ' 米碳管的7Γ鍵,使其參與聚合反應而達到與有機相的 良好相容。溶液共混一般係把奈米碳管分散到聚合物 的溶劑中,再將聚合物溶入其中,加工成型後將溶劑 清除,從而製得複合材料。融體共混法係把奈米碳管 200909342 4 與聚合物基體材料在大于基體材料熔點的溫度下熔 融幷均勻混合而得到奈米碳管複合材料。 , —由于奈米碳管具有優异的機械强度和熱導率,利 . 収向排列的奈米碳管㈣結構,可製備性能優异的 ,米碳管導熱材料和奈米碳管複合增强材料。奈米碳 官對複合材料的導熱性能和機械性能增强效果與奈 米碳管在複合材料中的密度相關。 、丁 先前技術中,奈米碳管複合熱界面材料中的夺米 碳管陣列一般采用化學氣相沈積(c V D)方法製備Γ然 而,CVD方法直接生長所得到的奈米碳管陣列中的夺 米碳管的密度小于0.01克每立方厘米(g/cm3),在: 觀上係較爲鬆散的,奈米碳管之間的間距大于奈米碳 管自身直徑的數倍。而且c V D法直接生長所得到的^ '米碳管陣列受CVD方法生長的限制,在其陣列中奈米 石厌官的岔度基本上為確定的,無法任意調控。以該低 密度奈米碳管陣列製備的奈米碳管複合熱界面材 料’由于其中奈米碳管導熱通道的密度太低,從而使 知其在導熱或複合材料等應用中並沒有達到理想的 效果。 對上述的低密度奈米碳管陣列複合熱界面材料 • 進行切片,所製備的奈米碳管陣列複合導熱片,同樣 由于其中的奈米碳管導熱通道的密度較低,所以該奈 米碳管陣列複合導熱片的導熱係數較低,從而阻礙了 奈米碳管陣列複合導熱片在導熱領域的廣泛應用。 200909342 有鑒於此,確有必要提供一種奈米$炭管陣列複合 導熱片及其製備方法,該奈米碳管陣列複合導熱片中 的奈米碳管的密度較高、排列緊密且定向排列;所述 的製備方法工序簡單且製備的奈米碳管陣列複合導 熱片中的奈米碳管的密度可以控制。 【發明内容】 一種奈米碳管陣列複合導熱片,該奈米碳管陣列 複合導熱片包括多個奈米碳管和高分子材料,其中的 多個奈米碳管以陣列形式排列,高分子材料填充在上 述的多個奈米碳管之間的間隙中,上述的奈米碳管排 列緊密且定向排列,奈米碳管陣列複合導熱片中的奈 米碳管的密度爲0.1〜2. 2g/cm3。 所述的奈米碳管陣列複合導熱片的厚度爲20微 米〜5毫米。在奈米碳管陣列複合導熱片中的奈米碳管 兩端開口,且奈米碳管的兩端從奈米碳管陣列複合導 熱片中露出。 一種奈米碳管陣列複合導熱片的製備方法,其包 括以下步驟:提供一形成于一基底的奈米碳管陣列和 一高分子前驅體溶液;將奈米碳管陣列和高分子前驅 體溶液混合,形成一高分子前驅體/奈米碳管陣列混 合體;沿著平行于基底的方向擠壓該高分子前驅體/ 奈米碳管陣列混合體,形成一高分子前驅體/高密度 奈米碳管陣列混合體;聚合高分子前驅體/高密度奈 米碳管陣列混合體中的高分子前驅體,形成高密度奈 10 200909342 米灰官陣列複合材料;對該高密度奈米碳管陣列複合 材料進行切片,從而形成奈米碳管陣列複合導熱片。 • 與先前技術相比較,所述的奈米碳管陣列複合導 . Μ片及其製備方法具有以下優點:其-,所述的奈米 碳管陣列複合導熱片中,奈米碳管排列緊密且定向排 列’其中的奈米碳管的密度可根據需要控制爲CVD法 直接生長所得到的奈米碳管陣列複合導熱片的 ^ 咖倍’即導熱片中奈米碳管導熱通道的密度提高 了 1 〇 2GG倍’ k而該奈米碳管陣列複合導熱片具有 優异的導熱性能,可廣泛地應用于導熱領域;其二, 所述的奈米碳管陣職合導熱片中,由于奈米碳管之 ^緊密地填充高分子材料’使得奈米碳管之間連接穩 疋,比純奈米碳管陣列的力學性能更爲優良;其三, .所述的奈米碳管陣列複合導熱片中的奈米碳管兩端 開:’且奈米碟管的兩端從奈米碳管陣列複合導熱片 I ^露出;其四’所述的製備方法工序簡單且製備的太 米碳管陣列複合導熱片中的奈米碳管的密度可以押 制。 【貫施方式】 、下面將結合附圖及具體實施例,對本技術方案作 • 進—步的詳細說明。 山—4參閱圖1,本技術方案實施例提供了一種奈米 奴督陣列複合導熱片的製備方法,其具體包括以下牛 驟: Γ父 11 200909342 (一)提供一形成于一基底的奈米碳管陣列和一 高分子前驅體溶液。 製備該奈米碳管陣列的方法爲化學氣相沈積 法。本實施例中奈米碳管陣列的製備過程具體爲: 首先,果供一基底,該基底可選用p型或N型石夕 基底,或選用石英片,另,還可選用玻璃,本實施例 優選爲采用4英寸的石夕基底; 其次,在基底上沈積一個催化劑層,催化劑可以 k用鐵(Fe)、録((:〇)、鎳(Ni)或者其任意組合的 合金之一,本實施例優選爲鐵作催化劑,所形成的催 化劑溥膜的厚度爲〇· 5〜5奈米(nm),本實施例優選爲 Inm厚度鐵催化劑薄膜,另,形成催化劑層的方法還 可為電子束蒸發或磁控濺射; 再次,將沈積有催化劑層的基底放置在空氣中, 在30(TC下退火0·2〜12h,催化劑層經退火後形成氧 化顆粒; 再次,將基底放置在低壓反應爐十,通入保護氣 體,在保護氣體的保護下加熱至一個預定溫度,一般 爲60(M00(TC。保護氣體爲惰性氣體或氮氣,優選 地’保護氣體爲氬氣; 再次’通入碳源氣與載氣的混合氣體,反應0 ·丨〜2 小時生長出奈米碳管陣列。其中,碳源氣爲碳氮化合 物’可爲乙炔、乙稀、甲烧等,優選地,碳源氣爲乙 炔;載氣爲惰性氣體或者氫氣,優選地,載氣爲氮氣。 12 200909342 該奈米碳管陣列爲多個彼此平行且垂直于基底 ^長?奈米碳管形成的純奈米碳管陣列,由于生成的 二只厌s長度較長,部分奈米碳管會相互纏繞。通過 =制上述生長條件,該超順排奈米碳管陣列中基本不 T有雜質,如無定型碳或殘留的催化劑金屬顆粒等。 ^以理解’本實施例提供的奈米碳管㈣不限于上述 製備ί法。本實施例提供的奈米碳管陣列包括單壁奈 米石厌&陣列、雙壁奈米碳管陣列及多^奈米碳管陣列 中的一種。 其中,局分子前驅體溶液爲由矽橡膠、灌封膠、 J哀氧樹脂及石臘中的一種或它們的組合組成的溶液 之-。可以理解’本技術方案中所涉及的高分子前驅 體溶液幷不僅限于上述的溶液,只要為通過㈣度的 前驅體固化方式聚合的高分子材料、或者通過溶解或 熔化的方式形成的低粘度液體的高分子材料均可。 本實施方式采用的高分子前驅體溶液爲矽橡膠 溶液。該矽橡膠溶液的製備方法爲在矽橡膠中加入適 量乙酸乙轉釋,㈣均㈣,形成—㈣橡膠的溶 液。 (二)將奈求碳管陣列和高分子前驅體溶液混 合,形成一高分子前驅體/奈米碳管陣列 其中,將綱管陣列和高分子前混合 爲在’壓裝置中進打混合。請參閱目2,本實施例 中所述的擠壓裝置10包括一上壓板12,一下壓板 13 200909342 14兩個第—侧板16,兩個第二側板。上述的兩 個第側板16與上述的兩個第二側板18設置于上壓 板12和下屋板14之間,幷在上壓板12和下壓板η 之間的中心位置形成-空腔22。上壓板12通過螺絲 2續稱地固定于下壓板14上,上壓板12的面積與下 壓板14相等。進-步地,兩個第-侧板16沿第—方 _地分布在空腔22的兩側;兩個第二側板18沿 第二方向對稱地分布在空腔22 @另外兩側,其中, 上述的第一方向與第二方向相互垂直。 本實施例令,將奈米碳管陣列4〇和高分子前驅 體溶液50混合包括以下步驟:將上述奈米碟管陣列 40連同基底30放置于擠壓裝置1〇的空腔22中,之 後,將问分子前驅體溶液5〇倒入放置有奈米碳管陣 列40 _壓裝£ 10空腔22巾進行混錯,形成— 高分子前驅體/奈米碳管陣列混合體6〇。 其中,將一奈米碳管陣列4〇連同基底3〇直接放 置于上述擠壓裝置10的空腔22中’具體的,先將上 述的兩個第一侧板16和兩個第二側板18放置在下壓 板14上,在下壓板14的中心位置形成一空腔22,再 將奈米碳管陣列40連同基底30直接放置到上述的空 腔22中,再將高分子前驅體溶液5〇倒入放置有奈米 碳管陣列40的擠壓裝置空腔22中,之後將再將上壓 板12固定到下壓板14上。
其中,將高分子前驅體溶液倒入擠壓裝置1Q 14 200909342 空腔22中後,進一步還包括一抽真空的過程。其包 括以下步驟:首先將放置于擠壓裝置10空腔22中的 奈米碳管陣列40浸沒在高分子前驅體溶液50中;之 後,將擠壓裝置10放入真空室抽真空,真空度小于 0. 2大氣壓(atm),真空度和抽真空的時間可根據實際 需要進行選擇,抽真空過程可以使得奈米碳管陣列40 中的氣泡膨脹,從而浮出液面;待奈米碳管陣列40 中的空氣排淨後,高分子前驅體溶液50便可充分填 充奈米碳管之間的間隙,使得高分子前驅體溶液50 和奈米碳管陣列40形成良好的混合,從而形成一種 高分子前驅體/奈米碳管陣列混合體60。 可以理解,本發明所述的製備高分子前驅體/奈 米碳管陣列混合體的步驟幷不僅限于上述的製備步 驟,其還可爲將奈米碳管陣列40和高分子前驅體溶 液50放入其他裝置如表面孤等淺碟狀容器中進行混 合、抽真空等步驟,在上述混合及抽真空步驟完成 後,高分子前驅體溶液50會充分浸入奈米碳管陣列 40,形成一高分子前驅體/奈米碳管陣列混合體60。 (三)沿著平行于基底的方向擠壓高分子前驅體 /奈米碳管陣列混合體60,形成一高分子前驅體/高密 度奈米碳管陣列混合體70。 本實施例中,根據製備的高分子前驅體/奈米碳 管陣列混合體60的方法不同,形成一高分子前驅體/ 高密度奈米碳管陣列混合體70的具體製備過程也不 15 200909342 同。在一擠壓裝置10中將奈米碳管陣列40和高分子 前驅體溶液50混合,製備得到高分子前驅體/奈米碳 管陣列混合體60,可以在該擠壓裝置10中直接沿著 平行于基底的方向擠壓高分子前驅體/奈米碳管陣列 混合體60,從而得到高分子前驅體/高密度奈米碳管 陣列混合體70。另,還可將奈米碳管陣列40和高分 子前驅體溶液50放入其他裝置如表面m等淺碟狀容 器中進行混合、抽真空等步驟,形成一高分子前驅體 /奈米碳管陣列混合體60 ;之後,將上述的高分子前 驅體/奈米碳管陣列混合體60放入擠壓裝置10中, 沿著平行于基底的方向擠壓高分子前驅體/奈米碳管 陣列混合體60,從而得到高分子前驅體/高密度奈米 碳管陣列混合體70。 請參閱圖3,對擠壓裝置10中的高分子前驅體/ 奈米碳管陣列混合體60進行擠壓的過程包括:用第 一侧板16沿著第一方向相對移動,對高分子前驅體/ 奈米碳管陣列混合體60進行擠壓;之後,用第二侧 板18沿著第二方向相對移動,對高分子前驅體/奈米 碳管陣列混合體60進行擠壓。 所述的用第一侧板16沿著第一方向相對移動, 對高分子前驅體/奈米碳管陣列混合體60進行擠壓, 包括以下步驟:首先通過兩個第二侧板18固定設置 在擠壓裝置10的空腔22中的高分子前驅體/奈米碳 管陣列混合體60,之後通過兩個第一侧板16沿著第 16 200909342 :體1相對移動:對高分子前驅體/奈米碳管陣列混 古八"進仃擠壓,隨著擠壓形變程度的增大,上述 驅體/奈米竣管陣列混合體6G中的奈米碳管 之間的間距在第—方向上减小。 古:述:用第二側板1δ沿著第二方向相對移動, ^刀子前驅體/奈米碳管陣列混合體6G進行播麼,. 古八=步驟·用兩個第—側板16把上述擠壓後的 =子別驅體/奈米碳管陣列混合體6()固定,通過兩 弟—側板18沿著第二方向相對移動,對上述擠壓 ,的局分子前驅體/奈米破管陣列混合體⑼進行擠 :’隨著擠壓形變程度的增大,上述擠壓後的高分子 别驅體/奈米碳管陣列混合體6〇中的奈米碳管之間的 間距在第二方向上减小。 、其中,通過對上述的高分子前驅體/奈米碳管陣 j此cr體60的擠壓使得高分子前驅體/奈米碳管陣列 此合/體6G中的奈米碳管的密度達到預先設定的密 土’從而形成高分子前驅體/高密度奈米碳管陣列混 口體70。該帛先設定的密度可根據實際需要進行選 擇。 可以理解,奈米碳管陣列4〇中的奈米碳管之間 的間距隨著擠壓形變的增大而减小;奈米碳管陣列 中的奈米碳管的密度隨著擠壓形變的增大而增加。 故,本實施例可通過控制對奈米碳管陣列4〇施加的 擠壓形ϋ的程度的大小,進而控制所述的高分子前驅 17 200909342 * 體/高密度奈米碳管陣列混合體70中奈米碳管的密 度。 * 本實施例獲得的高分子前驅體/高密度奈米碳管 . 陣列混合體70的奈米碳管的密度爲CVD法直接生長 所得到的奈米碳管密度的50倍;該高分子前驅體/高 密度奈米碳管陣列混合體70中的奈米碳管排列緊密 且定向排列。 另外,本發明中所采用的擠壓裝置10幷不限于 " 采用圖2所示的結構,進一步,本發明高分子前驅體 /高密度奈米碳管陣列混合體70的製備幷不限于采用 特定的擠壓裝置10壓縮的方式,其關鍵在于能沿著 平行于基底的方向對奈米碳管陣列40施加一機械壓 力,通過擠壓使奈米碳管陣列40中的奈米碳管之間 . 的間距减小,密度增大,從而獲得高分子前驅體/高 密度奈米碳管陣列混合體70,故,依據本發明精神對 本發明所述擠壓裝置作其它非實質性變化,都應包含 " 在本發明所要求的保護範圍内。 (四)聚合高分子前驅體/高密度奈米碳管陣列 混合體70中的高分子前驅體溶液50,從而形成高密 • 度奈米碳管陣列複合材料8 0。 . 其中,高分子前驅體溶液50固化步驟包括:在 高分子前驅體溶液50中預先加入少量固化劑,控制 固化劑的添加量以使高分子前驅體溶液50的固化時 間多于兩個小時爲准;按該南分子材料的適當固化方 18 200909342 法,如加熱,使高分子前驅體溶液5〇聚合固化。另, 高分子前驅體溶液50爲單組分的高分子前驅體5〇 ' 時,還可以釆用室溫靜置固化的方式進行聚合,即在 . I溫下’靜置該單組分的高分子前驅體溶液5〇進行 固化聚合。 固化劑包括環氧樹脂固化劑、驗性類固化劑或酸 性類固化劑,其中驗性類固化劑包括脂肪族二胺、芳 香族多胺、改性脂肪胺或其它含氮化合物,酸性類固 化劑包括有機酸、g复酐、三氟化蝴或其絡合物。 本實施例所得到的高密度奈米碳管陣列複合材 料80的熱導率爲3瓦/米.K (w/mK),而⑽法直接 生長所得到的奈米碳管陣列複合材料的熱導率僅爲 lW/mK ’故’本實施例的高密度奈米碳管陣列複合材 •料80與CVD法直接生長所得到的奈米碳管陣列複合 材料相比,導熱性能更好。 —利用本發明所提供的方法,製備的高密度奈米碳 官陣列複合材料80中,奈米碳管的密度可達到CVD ^直接生長所得到的奈米碳管密度的1〇_倍。本 實施例所製備的高密度奈米碳管陣列複合材料8〇,因 爲”中的不米石厌官的密度根據需要控制爲㈣法直接 生長所得到的奈米碳管陣列複合材料的5〇倍,從而 奈米碳管陣列複合材料8〇具有良好的導熱性 :’另’本只施例所製備的高密度奈米碳管陣列複合 材料8〇’由于其中的奈米碳管之間緊密填充有石夕橡膠 19 200909342 材料’使得奈米碳營之間g — 列的力學性能更爲優/,在』I疋,比純奈米碳管陣 用。 ^在泠熱領域具有很好的應 人材解,本發明所述的高密度奈米碳管陣列複 也可係弁斜太止—幷 于上述的製備步驟’ 子么驅官陣列40進行擠塵,之後將 _灌入擠壓後的奈米碳管陣列4", 驅體溶液5°中的高分子前驅體,形成 问在度不、米碳管複合材料8〇。 (五)對高密度奈米碳管陣列複合材料8〇進 刀片k而形成奈米碳管陣列複合導熱片⑽。 其中’對高密度奈米碳管陣列複合材料8〇進行 爲用-刀…割,其切割的方向 者垂直于奈米碳管陣列40軸向的方向,切割後, 即可彳于到奈米碳管陣列複合導熱片1〇〇。 本發明所得到的奈米碳料顺合導熱4 1〇〇包 括多個奈米碳管和高分子材料,射的多個奈米碳管 以陣列形式㈣,且高分子㈣填充在乡個奈米碳管 之^間隙中。奈米碳管陣列複合導熱片100中的奈 米碳管排列緊密且定向排列,且奈米碳管的密度爲 〇· 1〜2.2g/cm3。在上述的奈米碳管陣列複合導熱片1〇〇 :的奈米碳管兩端開口,且奈米碳管的兩端從奈米碳 官陣列複合導熱片100中露出。 另,還可以對上述的奈米碳管陣列複合導熱片 20 200909342 100々進行進—步的表面處理,其中,表面處理方法包 括等離子顧、化學修飾、金屬沈積或它們的任意組 合的方式之一。 、表面處理的具體方法不同’其産生作用的具體方 不同。如,采用等離子刻蝕處理奈米碳管陣列複 _ 、片10 0,可以使得奈米碳管的兩端從奈米碳管 陣列複合導熱片100中更加充分的露出,從而使得夺 米碳管複合導熱片⑽具有更加優异的導熱性能。采 用化學修飾處理奈米碳管陣列複合導熱y⑽,可以 使侍奈米碳管的兩端根據需要選擇吸附的化學基 團Y從而使得奈米碳管陣列複合導熱片100在導熱應 用時’具有更加優异的導熱性能。釆用錢沈積處理 奈=碳管陣列複合導熱片100,可以使得奈米碳管陣 列複合導熱片100的表面在導熱應用時具有更大的接 觸面積,且沈積的金屬與奈米碳管陣列複合導熱片 100的奈米碳管具有很好的連接,從而使得奈米碳管 陣列複合導熱片100導熱性能更加優异。 本實施例中奈米碳管陣列複合導熱片1〇〇及其製 備方法具有以下優點:其一,所述的奈米碳管陣列複 合導熱片100中,奈米碳管排列緊密且定向排列,本 發明所製備的奈米碳管陣列複合導熱片1〇0中,奈米 碳管的密度可根據需要控制爲CVD法直接生長所得到 的奈米碳管陣列複合導熱片的10〜200倍,即導熱片 中奈米碳管導熱通道的密度提高了 1〇〜2〇〇倍,從而 21 200909342 該奈米碳管陣列複合導熱片100具有優异的導熱性 能,可廣泛地應用于導熱材料等方面;其二,所述的 奈米碳管陣列複合導熱片100,由于奈米碳管之間緊 密地填充高分子材料,使得奈米碳管之間連接穩定, 比純奈米碳管陣列的力學性能更爲優良;其三,在奈 米碳管陣列複合導熱片100中的奈米碳管兩端開口, 且從奈米碳管的兩端從奈米碳管陣列複合導熱片100 中露出;其四,所述的製備方法工序簡單且製備的奈 米碳管陣列複合導熱片100中的奈米碳管的密度可以 控制。 综上所述,本發明確已符合發明專利之要件,遂依法 提出專利申請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施例, 自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝 之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化,皆應涵 蓋於以下申請專利範圍内。 【圖式簡單說明】 圖1係本發明實施例奈米碳管陣列複合導熱片的製備 方法的流程示意圖。 圖2係本發明實施例奈米碳管陣列複合導熱片的擠壓 裝置的結構示意圖。 圖3係本發明實施例奈米碳管陣列複合導熱片的製備 過程的示意圖。 22 200909342 【主要元件符號說明】 10 擠壓裝置 • 12 上壓板 • 14 下壓板 16 第一侧板 18 第二側板 22 空腔 24 螺絲 3 0 基底 40 奈米碳管陣列 5 0 尚分子前驅體溶液 60 高分子前驅體/奈米碳管陣列混 合體 70 高分子前驅體/高密度奈米碳管 陣列混合體 80 高密度奈米碳管陣列複合材料 k 90 刀片 100 奈米碳管陣列複合導熱片 23

Claims (1)

  1. 200909342 ~、申請專利範園 陣:複合導熱片’包括多個細管 ^ /、改良在于,該奈米碳管陣列複入 導=多個奈米碳管以陣列形式排列,且高: 4=多個奈米碳管之間的間隙中,奈米碳 複口‘熱片中的奈米碳管的密度爲〇_卜2·2 見母立方厘米。 述的奈米碳管陣列複合導 微'半中’奈米碳管陣列複合導熱片的厚度爲20 儆木〜5亳米。 叛申π專利feuj第2項所述的奈米碳管陣列複合導 总片山其中’奈米石厌官陣列複合導熱片中的奈米碳 二兩端開D ’且奈料料兩端從奈# 合導熱片中露出。 執申明專利範圍第1項所述的奈米碳管陣列複合導 :片’其中,奈米碳管陣列複合導熱片中的奈米碳 S排列緊密且定向排列。 申請專利範圍第1項所述的奈米碳管陣列複合導 ’、、'片其中,所述的奈米碳管爲單壁奈米碳管、雙 璧奈米碳管及多壁奈米碳管中的一種。 如申睛專利範圍第1項所述的奈米碳管陣列複合導 其中,所述的高分子材料爲矽橡膠、灌封膠、 了 %氣樹脂及石臘中的一種或他們的任意組合之一。 種奈米碳管陣列複合導熱片的製備方法,其包括 24 200909342 以下步驟: 提供一形成于一基底的奈米碳管陣列和一高分子前 驅體溶液; 將奈米碳管陣列和高分子前驅體溶液混合,形成一 高分子前驅體/奈米碳管陣列混合體; 沿著平行于基底的方向擠壓該高分子前驅體/奈米 碳管陣列混合體,形成一高分子前驅體/高密度奈米 碳管陣列混合體; 聚合高分子前驅體/高密度奈米碳管陣列混合體中 的高分子前驅體溶液,形成高密度奈米碳管陣列複 合材料;及 對該高密度奈米碳管陣列複合材料進行切片,從而 形成奈米碳管陣列複合導熱片。 8. 如申請專利範圍第7項所述的奈米碳管陣列複合導 熱片的製備方法,其中,將奈米碳管陣列和高分子 前驅體溶液混合的步驟係在一擠壓裝置中進行的。 9. 如申請專利範圍第8項所述的奈米碳管陣列複合導 熱片的製備方法,其中,所述的擠壓裝置包括一下 壓板,一上壓板,兩個第一侧板與兩個第二侧板設 置于上壓板和下壓板之間,幷在上壓板和下壓板之 間的中心位置形成一空腔;上壓板通過螺絲對稱地 固定于下壓板上,上壓板的面積與下壓板相等;兩 個第一側板沿第一方向對稱地分布于空腔的兩 侧,兩個第二侧板沿第二方向對稱地分布于空腔的 25 200909342 另外兩側,且,第-方向與第二方向相互垂直。 10.如申請專利範圍第9項所述的奈米碳管陣列複合 導熱片的製備方法’其中’沿著平行于基底的方向 擠壓高分子前㈣/奈米碳料舰合體爲采用上 述的擠«置進行擠壓,該擠壓過程包括:用第一 側板沿著第一方向相對移動,對高分子前驅體/奈 f碳管陣列混合體進行擠壓;之後,用第二側板沿 著第S向相對移動’對尚分子前驅體/奈米碳管 陣列混合體進行播麗。 11:如申請專利範圍第7項所述的奈米碳管陣列複合 導熱片的製備方法’其中’將奈米碳管陣列和高分 子前驅體溶液混合後,進—步包括—抽真空處理過 12.如申請專利範圍第u項所述的奈米碳管陣列複合 t熱片的製備方法’其中’所述的抽真空處理過
    私匕括以下步驟.首先將放置于擠壓裳置空腔中 的奈米碳管陣列浸沒在高分子前驅體溶液中;之 後,將上述的擠壓裝置放人真空室抽真空,直 小于0.2大氣壓。 ,、工度 "專利範圍第7項所述的奈米碳管陣列複 ^熱片的製備方法,其中,聚合高分子前驅體/ 密度奈米碳管陣列混合體中的高分子前驅體溶 的過程包括以下步驟:換人固化劑,混合 熱聚合固化。 26 200909342 # .如巾請專利翻第〗3項所述的奈切料列複人 導熱片的製備方法’其卜固化㈣括環氧樹脂固口 . 化劍、驗性類固化剩或酸性類固化劑,1中驗㈣ • 劑包括脂肪族二胺、芳香族多胺、改性脂肪: 或"它錄化合物,酸性類固化劑包括有機酸、酸 酐、三氟化硼或其絡合物。 鄕㈣7項料的奈米碳管陣列複合 二:的‘備方法’其中,進-步包括對切片後的 米碳管陣列複合材料進行表面處理。 導轨利範圍第15項所述的奈米碳管陣列複合 導熱片的製備方法,1中,跖、+. A + 括等離子刻钱、化學㈣^述的表面處理方法包 組合之一。予t飾、金屬沈積或它們的任意 27
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