TW201214513A - Roll mold, method for fabricating the same and method for fabricating thin film pattern using the same - Google Patents
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Description
201214513
V 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發赌及-種雜…種製i«顧財法及—種使職賴製造 薄膜圖案的方法。 【先前技術】 已經採用了各種平面顯示器,以減少陰極射線管的重量及體積的問 題。平面顯示裝置的示例包括液晶顯示裝置、場發射顯示裝置、電锻顯示 面板裝置及電致發光(electroluminescent,EL)顯示裝置。 這種平面顯示裝置包括複數個由光罩製輯形成的賴,該製程包括 -系列沉積(塗層)、糾、顯影及_製程。然而,光罩製程是複雜的,因 此不利地增加了製造成本。據此,近來正在研究透過使用滾模1〇的壓印製 程形成薄膜,如第1圖所示。 這種滾模10是經由蝕刻製程圖案化基輥14的表面所形成。具體而言, 在基輥14的表面形成姓刻保護層和光罩圖案。然後,透過初級侧製程使 用光罩圖案作為光罩來圖案化該敍刻保護層。透過次級触刻製程使用圖案 化的侧賴層作為光罩來_化基報14的表面,城得設有溝槽u 滚模10。 /袞模1G需要二個侧製程,因此使整個製造過程獅化。基輥的 直么經過—個蚀刻製程之後減少了,因此不利地造成賴ι〇最終 異及篡轡彬。 【發明内容】 據此’本發明係針對一種滾模,一種製造該滚模的方法及一種使用該 滾模製造薄_案的方法,大致上避免了由於現有技術的限制或缺點所引 起的一個或多個問題。 +本發明的;7個目的是提供-種賴…種製造該賴的方法和-種使 用《模製造薄膜圖_方法,以防止滚模的尺寸變異並簡化整個製造 程0 為達成此目的及其他益處,並依照本發明的目的,如此處具體而廣泛 201214513 描述的’提供了-種製造滾模的方法’包括:提供設有主圖案層的基板; 順序地在設有主圖案層的基板上形成模具表面層及固體緩衝層,以提供平 板模具;在與平板模具對齊的基輥上形成黏著麵脂層;以及將設有黏著 纖脂層力基概壓平滅具’赠獅細細旨躲該平滅絲附至 基輥。 與模具表面層接觸的主圖案層的表面,可經過使用諸如氟曱基三氣矽 院(flur〇〇Ctyl-triChl〇r〇-silane,F0TS)或(十七氟邻,2,3,氫癸烧)三氣矽烷 (Xheptadeeafluon>l’l’;2’3_tetrahydiOdecyl)trichlorosilane,HDFS)的疏水性材料 作表面處理。 在-個實施例巾’提供平板模具的步驟可包括:在主圖案層上形成模 具表面層;在模具表面層上形成緩衝層,同時撓性基板的—_附至一開 卷機’而撓性基板的另-端黏社—回捲機,並且保持該緩衝層水平;將 基棍滾壓緩制’並使職置於基财的統硬化模具表面層;以及將緩 衝層切割成賴具表®層的尺寸’其巾透娜著劑麟層將平板模具黏附 至基輥進一步包括:使用基輥中的光源硬化黏著劑樹脂層。 在另-個實施例中,提供平板模具的步驟可包括:在主圖案層上形成 模具表面層;在模具表面層上形成緩衝層,同時撓性基板的-端黏附至一 開卷機,而該撓性基板的另一端黏附至一回捲機,並且保持該緩衝層水平; 以及將緩衝層蝴賴具“層的尺寸,錢其巾透雌著讎脂層將平 板模具黏社基輥進_步包括:使麟置於基輥巾的絲硬化模具表面層 及黏著劑樹脂層。 ^依照本發明的另—特點,提供了—種滾模,包括:基輥,設有光源; 黏著麵Μ ’形成在基輥上:緩衝層,形成在該黏著纖麟上;以及 ,具表面層’具有溝槽·突出形狀,形成在緩衝層上,其中模具表面層及黏 者劑樹脂層是透過設置於基輥巾的光源所發射的光線而硬化的。 所述模具表面層可由諸如聚氨醋_丙稀酸醋或聚二甲基石夕氧院的光可硬 化模具樹騎觀’簡層可峨錄減軸,錢姆纖脂層可由 光可硬化黏著劑所製造。 依…、本發明的另—特點,提供了—翻於製造賴的裝置,包括:臺 階’具有主_層的基板安裝在該臺階上;第-供應喷嘴,將液體模具表 201214513 面層塗敷到主圖案層上;開卷機及回捲機,固定液體緩衝層的二端,從而 固體緩衝層形成在液體模具表面層上,同時維持固體緩衝層水平;切割單 元,將緩衝層切割成與模具表面層相同的尺寸;以及第二供應喷嘴,將液 體模具表面層塗敷到滚壓緩衝層的基輥上。 所述的裝置可進一步包括:光源,設置於基輥中,該光源硬化液體模 具表面層及液體黏著劑樹脂層;以及攝影機,可移動地黏附於基輥,以使 基輥在緩衝層上對齊。 對應於本發明的另一方面,提供了一種製造薄膜圖案的方法,包括: 提供滾模,該滚模包括設有光源的基輥、形成在基輥上的黏著劑樹脂層、 形成在黏著劑樹脂層上的緩衝層、以及形成在緩衝層上具有溝槽突出形狀 的模具表面層;在滾模或基板上形成印刷液體;以及將滾模在基板上滾壓, 以在基板上形成薄膜圖案,其中模具表面層及黏著劑樹脂層是透過設置於 基輥中的光源所發射的光線而硬化的。 必須理解的是本發明的前述一般描述及以下詳細描述係示例性及解釋 性,且旨在提供如所請求之本發明的進一步解釋。 【實施方式】 以下,本發明將參考所附圖式進行描述。 視圖。 第2圖係說_於形成依據本發明之薄麵案的印刷或壓印裝置的透 第2圖中的印刷或壓印裝置包括印刷液體供應器12〇及滾模⑽。 印刷液體供應器120儲存印刷液體。在圖案化薄膜的過程 刷液體供應至滾模⑽,或使用断方法將儲存的印刷液
接觸 是固 li、J。 在薄膜圖案化的過程中,
置供應器120的 +的印刷液體轉 201214513 此外,在薄膜圖案化的過程中,使用壓印方法將滚模14〇滚壓塗敷有 印刷液體的基板101,從而滾模14〇與基板1〇1接觸。 這種滾模140包括基輥144、黏著劑樹脂層142、緩衝層148以及模具 表面層146。 模具表面層146是由光可硬化材料諸如聚氨酿_丙稀酸醋或聚二曱基矽 氧烧所製成。模具表面層146形成為具有溝槽及突出,具有與形成在基板 101上的圖案相同的形狀,或它們的相反形狀。 在製造滾模140的過程中,當滾模14〇滾壓基板1〇1並與基輥144平 面接觸時,緩衝層148抵消從滾模到基板1〇1的壓力。 ,著劑樹脂層142將基報144黏附至緩衝層148。此外,黏著麵脂層 142疋由光硬化黏著劑所形成,例如基輥144及緩衝層之間的密封膠。 <作為硬化模具表面層146及黏著劑樹脂層142的硬化裝置的光源122 係f於基1^ 144中。光源122產生紫外光並被光源外殼(在第3C圖中元 件符號124所代表)所包圍。即是,光源外殼124包圍光源122的表面,除 了光源122面對臺階的表面之夕卜此時,光源122及光源外殼124並沒有 與旋轉的基輥144 一起旋轉,而是保持靜止。 此外’協助對齊基輥144的攝影機(在帛3C目中以元件符號126所代 表)係叹置於基輥144中。具體而言,當基報144設置於緩衝層148上,並 且當黏著劑樹脂層142已塗敷的基輥144設置於緩衝層148上時,攝影機 126對齊基輥144。攝影機126係可旋轉地安裝在基親144巾該基親144 在對齊的触巾_,攝職126並在完成贿之後拆除。 第3A圖至第3E圖係說明製造依據第__實施例第2圖中所示的滾 模之方法的剖視圖。 如第3A圖中所不’具有溝槽圖案U2a及突出圖案腿的主圖案層ιΐ2 =成在具有平坦表面的主基板則上。主圖㈣112藉由塗敷可剝離的 材料如光阻劑,然後透過微影侧、全像微影侧、雷射加工、電 加工、聚焦離子束加工等圖案化材料來形成。同時,主圖案層⑴及 ^板110分別地形成,或表面具有溝槽圖案及突出圖案 圖案化主基板uo而形成。 圖案層112可以自組裝單分子膜(seif_assemble(j m〇n〇iayer,sAM)來 201214513 i. 表面處理,以利於從模具表面層146解除(拆除)主圖案層112。據此,當從 模具表面層146解除主圖案層112時’可防止主圖案層112隨著模具表面 層146黏附至滾模140。SAM是由疏水性材料,諸如氟甲基三氳 (flurooctyl-trichloro-silane,F0TS)或(十七 iu,2,3_四氫癸院)三氣矽烷 ((h印饴知诏職〇-1,1,2,3-她咖办〇如咖)晌111〇1^1概5扭^5)所製造0 接著’如第3B圖令所示,透過第一供應喷嘴132將模具樹脂液體塗敷 到主圖案層112之上’以形成模具表面層146。與主圖案層112接觸之模具 表面層146的下表面,隨著主圖案層112的突出圖案U2b及溝槽圖案li2a 形成為突出_溝槽狀。模具表面層146具有平坦的上表面,並隨著主圖案層 112的突出圖案..112b及溝槽圖案112a形成為突出_溝槽狀。模具表面層146 是由一個光可硬化模具樹脂·液體,諸如聚氨醋_丙稀酸醋或聚二甲基石夕氧 所製造的。 接著’如第3C圖中所示,在回捲機118及開卷機116上滾動並因此維 持平行狀態的緩衝層148,係與模具表面層丨奶對齊。然後,基輥114的二 側透過對準鍵(圖中未示)及攝纖126而在緩衝層148上對#,攝影機^ 形成在臺階130、主基板11〇、主圖案層112及模具表面層146的至少其中 之中攝衫機126進行成像以確認設置於基輥丨44二側的對準鍵是否對 應於基輥144的二側,從而增進對齊精確度。 在緩衝層148上對齊的基輥144在緩衝層148之上滾壓。據此,藉由 土親44的旋轉所產生的印刷壓力施加到緩衝層Mg,並且張力透通過回捲 機^及開卷機116施加於緩衝層148。此外,模具表面層146透過設置於 在緩衝層148上旋轉的基輥144 t之光源122而硬化。 ,—同時,本發明的基輥144在緩衝層之上滾壓,同時基輥144與緩 衝層148平面接觸。在此情況中,基棍144不會在硬化的固體緩衝層148 上滑動’並增進了固體緩衝層148及基輥144之間的對齊精確度,因此增 進了圖案精確度。此外,固體緩衝層148與基輥144平面接觸,因此相^ 加了緩衝層148及基輥144之間的接觸面積,並且甚至使用少量的光 線及相對短的時間週期而硬化模具表面層146。 f另—方面’傳統基輥旋轉’同時直接接觸雜模具表面層而不具有 何緩衝層,並且與液體模具表面層平面接觸。在此情況中,基輥可在未 201214513 % 硬化的液體模具表面層上滑動,因此減少了緩衝層和基輥之間的對齊精確 度,並減少了圖案精確度。此外,液體模具表面層與基輥平面接觸,因此 相對地減少了緩衝層及基歡間的接觸面積,並且必須以A量的光線及相 對較長的時間來硬化模具表面層。 接著,如第3D圖中所示,透過切割過程使用切割單元(圖中未示)將緩 衝層148切割成與模具表面層146相同的尺寸,以獲得包括模具表面層146 及缓衝層148的平板模具。同時間或者稍後,黏著劑樹脂層142透過第二 供應喷嘴134而塗敷到基輥144之上。黏著劑樹脂層142可透過第3B圖中 所示的第一供應噴嘴132而不是透過第二供應喷嘴134塗敷到基輥144。 接著如第3E圖中所示,黏著劑樹脂層142塗敷的基輥144在緩衝層 148之上滾壓。與此同時,打開設置於基親144中的光源122,並且黏著劑 樹,層142透過光源122所發射的光線而硬化。據此,包括模具表面層146 及緩衝層148 6¾平板模具,透過黏著劑樹脂@ 142而被吸附及固定在基概 144上’以獲得具有溝槽及突出的滾模14〇。 第4A圖至第4D圖係說明用於製造依據第三實施例第2圖中所示的滾 模之方法的剖視圖。此第二實施例與第一實施例的不同在於模具表面層⑽ 及黏著劑樹脂層142是同時硬化的。 具體而言,如第4A®中所示,具有溝槽圖案肋及突出圖案⑽的 主圖案層112形成在具有平坦表面的主基板11〇上。將具有溝槽圖案肋 及突出圖案112b的主圖案層112形成在具有平坦表面的主基板11〇上。然 後’如第4B圖中所示,透過第一供應喷仙2將模具樹脂液體塗敷到主圓、 案層112之上,以形成模具表面層146。接著,如第4C圖中所示捲曲在 回捲機118及開卷機116上並因此維持平行狀態的緩_ 148係形成在模 具表面層146上。接著,透過切割過程使用切割單元(圖中未示)將緩衝層 148切割成與模具表面層!46相同的尺寸,以獲得包括模具表面層146及緩 衝層148的平板模具。與蘭時補後,透過第二供射嘴134將劑 樹脂層142塗敷到基輥144之上。 接著,如第4D圖中所示,塗敷有黏著劑樹脂層142之基親114的二側, 係使用對準鍵(圖中未示)與攝影機126在緩衝層148上對齊,該攝影機126 形成在臺階130、主基板110、主圖案層112及模具表面層146的至少其中 201214513 % 之一中。接著,打開設置於基輥144中的光源122,並且黏著劑樹脂層142 透過光源122所發射的光線而硬化。據此,包括模具表面層146及緩衝層 148的平板模具透過黏著劑樹脂層142而吸附及固定在基輥144上,以獲得 具有溝槽及突出的滾模140。 第5A圖至第5C圖係說明依據第一實施例,經由使用本發明之滾模的 壓印方法圖案化薄膜之方法的視圖。 如第5A圖中所示’透過印刷液體供應器12〇將印刷液體1〇2塗敷於 基板101。然後,如第5B圖中所示,包括基輥144、黏著劑樹脂層142、 緩衝層148以及模具表面層146的滾模140在基板101上對齊。接著,滾 模140在基板1〇1之上滾壓。與此同時,印刷液體1〇2透過設置於滾模 之基輥144中如UV燈的硬化裝置、或設置於基板101背面的硬化裝置而 硬化。結果,如第5C圖中所示,印刷液體丨〇2以薄膜圖案1〇4的形式形成 在基板101上。 第6A圖至第6C圖係說明依據第二實施例,經由使用本發明之滾模的 壓印方法圖案化薄膜之方法的視圖。 如第6A圖中所示,提供了 一種包括基輥144、黏著劑樹脂層142、緩 衝層148及模具表面層146的滾模14〇。印刷液體供應器12〇所供應的印刷 液體102充滿滾模140的溝槽。 接著,如第6B圖中所示,填滿印刷液體102的滚模14〇在基板1〇1之 上滾壓。據此’印刷液體102透過設置於滾模丨4〇之基輥144中如uv燈 的硬化裝置、或設置於基板1〇1背面的硬化裝置而硬化。因此,印刷液體 102在基板101上轉錄、乾燥及硬化,並因此形成為薄膜圖案,如第6C圖 中所示。 第7A圖至第7D圖係說明依據第三實施例,經由使用本發明之滾模的 壓印方法圖案化薄膜之方法的視圖。 如第7A圖所示,提供了 一種包括基輥144、黏著劑樹脂層142、緩衝 層148以及模具表面層146的滾模14〇。印刷液體供應器丨2〇所供應的印刷 液體102充滿滾模140的溝槽。 接著,如第7B圖中所示,印刷液體1〇2轉錄到旋轉的轉錄輥1〇6,並 且在此同時與滾模140嚙合。設有印刷液體1〇2的轉錄輥1〇6在基板1〇1 201214513 上滾壓,如第7C圖中所示。據此,印刷液體1〇2在基板1〇1上轉錄、乾燥 及硬化’並因此形成為薄膜圖案,如第7D圖令所示。 如此,可使用如第5C圖、第6C圖及第7D圖中所示的薄膜圖案, 以在諸如電漿顯示面板、EL顯示面板及場發射顯示裝置的平面顯示裝置以 及液晶顯示面板上’形成薄膜或厚膜。 具體而言,如第8圖中所示依據本發明的液晶顯示面板,包括薄膜電 晶體基板180以及彩色濾光片基板16〇,從而液晶層171插設於薄膜電晶體 基板180與彩色濾光片基板160之間。 % 彩色濾光片基板160包括依序設置於上基板162上的黑色矩陣164、彩 色濾光片166、共同電極168以及柱間隔件(圖中未示)。 薄膜電晶體基板180包括複數個閘極線186以及複數個資料線184,二 者在下基板182上彼此交又、鄰近於閘極線186及資料線184之間每個交 又點的薄膜電晶體188、以及形成在交又點所提供之像素區域的像素電 170。 ’、 使用根據本發明的滾模,藉由印刷製程可形成用作光罩的有機圖案, °亥有機圖案用於圖案化由有機材料如液晶顯示面板的彩色滤光片166、專色 矩陣164及柱間隔件所製造的薄麵案、以及用於圖案化由無機材料如液 晶顯示面板的薄膜電晶體188、閘極線186、資料線184及像素電極17〇 製造的薄膜圖案。 本發明使用塗敷及轉錄製程而不使用任何傳統的蝕刻製程而形成滾 模,因此減少了製造過程的複雜性和成本,並防止了蝕刻製程所引起之滾 模,尺寸變異。此外,形成平板模具的過程及將平板模具黏附到基親的過 程是在一個設備中以一直線的方式執行。此外,依據本發明,使用基輥中 所設置的光源’藉由至少二個曝光過程,黏著劑樹脂層及模具表面層硬化, 因而減少了製造時間及成本。此外,依據本發明,基觀旋轉並在此同時平 板模具黏附至基輥,目此增加了平減具的厚度及圖案的羽&此外, 依據本發% ’賴是在與賴補鄉成義_之卷料餅製程中相 同的張力、軋輥壓力及熱的條件下所形成,因此補償了在卷對卷壓印製程 中由於張力、壓力及熱所導致的基板變形。 以上所述者僅為用以解釋本發明的較佳實施例,並非企圖據以對本發 201214513 明做任何形式上的限制’因此,凡有在相_發縣理下所作有關本發明 的任何修似變更,皆仍應包括在本發明意圖保護的範嘴。 【圖式簡單說明】 所附圖式被包括以提供對本發明的進一步理解,且結合並構成本發明 的'^分,本發明圖示的實施例及描述一同作為本發明原理的解釋。 圖式中: 第1圖係說明傳統滾模的剖視圖; 第2圖係說明用於形成依據本發明之薄膜圖案的印刷或壓印裝置的透 視圖; 第3A圖至第3E圖係說明用於製造依據第一實施例第2圖中所示的滾 模之方法的刮視圖。 第4A圖至第4D圖係說明用於製造依據第二實施例第2圖中所示的滾 模之方法的剖視圖; 第5A圖至第5C圖係說明依據第一實施例,經由使用本發明之滾模的 壓印方法圖案化薄膜之方法的視圖; 第6A圖至第6C圖係說明依據第二實施例’經由使用本發明之滚模的 壓印方法圖案化薄膜之方法的視圖; 第7A圖至第7D圖係說明依據第三實施例’經由使用本發明之滾模的 壓印方法圖案化薄膜之方法的視圖;以及 第8圖係說明經由依據本發明製造薄膜圖案之方法形成液晶顯示面板 的透視圖。 【主要元件符號說明】 10 滾模 106 轉錄輥 12 溝槽 110 主基板 14 基輥 112 主圖案層 101 基板 112a 溝槽圖案 102 印刷液體 112b 突出圖案 104 薄膜圖案 116 開卷機 11 201214513 % 118 回捲機 148 溝槽/緩衝層 120 印刷液體供應器 160 彩色濾光月基板 122 光源 162 上基板 124 光源外殼 164 黑色矩陣 126 攝影機 166 彩色濾光片 128 輸送機 168 共同電極 130 臺階 170 像素電極 132 第一供應喷嘴 171 液晶層 134 第二供應喷嘴 180 薄膜電晶體基板 140 滾模 182 下基板 142 黏著劑樹脂層 184 資料線 144 基輥 186 間極線 146 模具表面層 188 薄膜電晶體 12
Claims (1)
- 201214513 七、申請專利範圍: 1. 一種製造滾模的方法,包括: 提供設有一主圖案層的基板; 順序地在設有該主圖案層的該基板上 層,以提供一平板模具; &模具表面層及-固體緩衝 在與該平板模具對錢該基輥上形成―黏著娜愧層; 將設有該黏著劑樹脂層的該基輥滾壓該 脂層將該平板模具黏附至該基報。 板i ’以透過該黏著麵 (flurooctyl-tnchloro-silane,FOTS)或(十七氟]户 土一氣石夕烧 專利範㈣1賴叙製造賴的綠,其中提供該平板模具 在該主圖案層上形成該模具表面層; 在該表面層上軸騎衝層’同辆錄板的—雜酿 機,而雜性基板的另-端黏附至—回捲機,並且保持該緩衝層水 將該基雛壓該緩衝層,ϋ仙設置於該基輥中的—光源硬化祕 表面層;以及 对果兴 將該緩衝層切割成該模具表面層的尺寸, 其中透過該黏著麵脂層將該平板模具點附至該基親進一步包括·· 使用該基輥中的該光源硬化該黏著劑樹脂層。 U艮據巾料利細S 1顿述H織的方法,其巾提倾平板模具 在該主圖案層上形成該模具表面層; 在該模具表面層上形成該緩衝層,同時該撓性基板的一端黏附至一 卷機’而該撓性基板的另-端黏附至一回捲機,並且保持該緩 : 以及 g h卞, 將該緩衝層切割成該模具表面層的尺寸,以及 13 201214513 樹脂層將該平板模具_至該基輥進-步包括: 5. 健申2^ 職光__料侧樹脂層。 由1項蘭之製造賴的綠,Μ麵具表面層是 令緩衝么i酸§日絲—甲基魏燒的光可硬化模具麟所製造’ 。亥緩,層是由—撓性基板所形成’以及 該黏著劑樹脂層是由一光可硬化黏著劑戶 6- —種滾模,包括: 一基輥,設有一光源; 一黏著劑樹脂層,形成在該基輥上; 一緩衝層’形成在該黏著劑樹脂層上;以及 :模具表面層,具有—溝槽突出形狀,形成在該緩衝層上, 中賴具表面層及雜魏樹脂層是透過設置於絲親㈣該光源 所發射的光線而硬化。 L根ί巾請專利細第6項所述的滾模,其中該模具表面層是由諸如聚氨 日-丙稀酸自旨絲二甲基魏制光可硬化模具樹脂所製造, 該緩衝層是由一撓性基板所形成,以及 該黏著劑樹脂層是由一光可硬化黏著劑所製造。 8. —種用於製造滾模的裝置,包括: 一臺階,具有一主圖案層的一基板負載在該臺階上; 一第一供應噴嘴,將一液體模具表面層塗敷到該主圖案層上; 、一開卷機及一回捲機,固定該液體緩衝層的二端,從而固體緩衝層形 成在該液體模具表面層上,同時維持該固體緩衝層水平; 一切割單元,將該緩衝層切割成與該模具表面層相同的尺寸;以及 一第二供應喷嘴,將一液體模具表面層塗敷到滾壓該緩衝層的該基輥 上0 9. 根據申請專利範圍第8項所述之用於製造滚模的裝置,進一步包括: 一光源,設置於該基輥中,該光源硬化該液體模具表面層及該液體黏 著劑樹脂層;以及 一攝影機,可移動地黏附於該基輥,以使該基輥在該緩衝層上對齊。 10. —種製造薄膜圖案的方法,包括: 201214513 提供一滚模’該滚模包括設有光源的一基輥、形成在該基輥上的一黏 著劑樹脂層、形成在該黏著劑樹脂層上的一緩衝層、以及形成在該緩衝層 上具有溝槽-突出形狀的一模具表面層; 在該滾模或該基板上形成一印刷液體;以及 將該滾模在該基板上滾壓,以在該基板上形成一薄膜圖案, 其中該模具表面層及該黏著劑樹脂層是透過設置於該基輥中的該光源 所發射的光線而硬化。 11_根據申請專利範圍第1〇項所述之製造薄膜圖案的方法,其中該模具表 面層是由諸如聚氨酯-丙烯酸酯或聚二甲基矽氧烷的光可硬化模具樹脂所製 造, 該緩衝層是由一撓性基板所形成,以及 該黏著劑樹脂層是由一光可硬化黏著劑所製造。 15
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Families Citing this family (9)
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Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH05189815A (ja) * | 1992-01-13 | 1993-07-30 | Canon Inc | 光記録媒体用基板製造用ローラーの製造方法 |
| JPH08111279A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Brother Ind Ltd | 定着用加熱ローラの製造方法 |
| JP2000015770A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-18 | Think Laboratory Co Ltd | 印刷版の再利用方法 |
| US6027595A (en) * | 1998-07-02 | 2000-02-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of making optical replicas by stamping in photoresist and replicas formed thereby |
| KR20030017244A (ko) * | 2001-08-24 | 2003-03-03 | 주식회사 유피디 | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 롤링몰드 제작방법 및 그를 이용한 격벽 형성방법 |
| CN1298440C (zh) * | 2004-08-26 | 2007-02-07 | 李玉龙 | 卷筒纸印刷品连续镜面压光工艺 |
| CN101184783B (zh) * | 2005-05-31 | 2011-11-30 | 电气化学工业株式会社 | 能量射线固化性树脂组合物及使用该组合物的粘接剂 |
| CN101272918A (zh) * | 2005-09-30 | 2008-09-24 | 株式会社新克 | 附有缓冲层的凹版制版辊及其制造方法 |
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| KR101308441B1 (ko) * | 2006-11-29 | 2013-09-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 박막 패턴의 제조장치 및 이를 이용한 박막 패턴의제조방법 |
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| JP2010158883A (ja) * | 2008-12-10 | 2010-07-22 | Asahi Kasei Corp | エレクトロニクス材料の凸版印刷方法 |
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