TW201428574A

TW201428574A - 導電片及觸控面板

Info

Publication number: TW201428574A
Application number: TW102137052A
Authority: TW
Inventors: Hiroshige Nakamura
Original assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2012-10-16
Filing date: 2013-10-15
Publication date: 2014-07-16
Also published as: WO2014061591A1; JP2014081766A

Abstract

本發明提供視認性得到改善的導電片及觸控面板。導電片1中依序積層著：具有多列第一電極12的第一電極層10，透明絕緣層30，以及具有多列第二電極42的第二電極層40。第一電極12包含多個第一格子26，多個第一格子26包含M×N格子群。第二電極42包含多個第二格子56，多個第二格子56包含M×N格子群。第一電極層10與第二電極層40中，將多個第一格子26與多個第二格子56以不相互重疊的方式，且自上面觀察時，多個第一格子26與多個第二格子56於整個面連續地進行配置。M、N為整數且M+N≦9。

Description

導電片及觸控面板

本發明是有關於一種導電片及觸控面板。

近年來，作為行動終端或電腦的輸入裝置，大多利用觸控面板。觸控面板配置於顯示器的表面，對手指等接觸的位置進行檢測，而進行輸入操作。作為觸控面板的位置檢測方法，已知有靜電電容方式等。

例如在靜電電容方式的觸控面板中，自視認性的觀點考慮，使用氧化銦錫(Indium Tin Oxide，ITO)來作為透明電極圖案的材料。然而，因ITO具有高配線電阻，而不具有充分的透明性，故研究將使用了金屬細線的透明電極圖案用於觸控面板中。

例如，專利文獻1-專利文獻4中揭示有如下的觸控面板，其包括導電片，該導電片包括：包含由金屬細線構成的格子且在一方向並列配置的多個第1電極，以及包含由金屬細線構成的格子且在與第1電極正交的方向並列配置的多個第2電極。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]WO2010/013679號公報

[專利文獻2]WO2011/062301號公報

[專利文獻3]日本專利特開2011-237839號公報

[專利文獻4]日本專利特表2012-508937號公報

構成上述導電片的第1電極及第2電極包括配置著金屬細線的格子的區域、及未配置金屬細線的格子的區域。而且，藉由將第1電極與第2電極重合，而以俯視觀察時格子狀的金屬細線於整個面成為均勻的配置的方式構成導電片。藉此，實現導電片的視認性的改善。

在光照到該導電片的情況下，在構成第1電極及第2電極的金屬細線的格子的區域中光受到反射。然而，第1電極與第2電極中光的反射率稍有不同，因而存在因微小的反射光量的差而目視到電極的問題。

本發明考慮上述課題而完成，其目的在於提供一種具有金屬細線的格子的電極且改善了視認性的導電片及觸控面板。

本發明的一形態的導電片依序積層著：第一電極層，具有多個第一電極，上述多個第一電極沿第一方向延伸且在與上述第一方向交叉的第二方向上排列；透明絕緣層；以及第二電極層，具有多個第二電極，上述多個第二電極沿第二方向延伸且在第一方向上排列，第一電極具有在寬度方向上擴展的分支電極，且第一電極包含由金屬細線構成的多個第一格子，多個第一格子包含M×N格子群，第二電極具有在寬度方向上擴展的分支電極，且第二電極包含由金屬細線構成的多個第二格子，多個第二格子包含M×N格子群，第一電極層與第二電極層中，將多個第一格子與上述多個第二格子以不相互重疊的方式，且自上面觀察時，上述多個第一格子與上述多個第二格子於整個面連續地進行配置，M、N為整數且M+N≦9。

較佳為，導電片中，第一電極具有98%~99.8%的開口率、40Ω/sq.~80Ω/sq.的表面電阻率，第二電極具有98%~99.5%的開口率、40Ω/sq.~80Ω/sq.的表面電阻率。

較佳為，導電片中，第一電極層與第二電極層中，將多個第一格子與多個第二格子以不相互重疊的方式，且自上面觀察時，多個第一格子與多個第二格子分別為4個以下而鄰接配置。

較佳為，導電片中，構成第一格子及第二格子的各金屬細線於每單位面積中所佔的比例為0.2%~2%。

較佳為，導電片中，第一格子及第二格子分別具有200 μm~1000μm的一邊。

較佳為，導電片中，第一電極及第二電極具有4mm~ 12mm的寬度。

較佳為，導電片中，第一格子及第二格子分別具有240 μm~500μm的一邊，上述第一電極及上述第二電極具有5mm~7mm的寬度。

較佳為，導電片中，M、N均為4以下。

本發明的第二形態的觸控面板具有上述導電片。

本發明的第三形態的導電片依序積層著：第一電極層，具有沿第一方向延伸且在與上述第一方向交叉的第二方向上排列的多個第一電極；透明絕緣層；以及第二電極層，具有沿第二方向延伸且在第一方向上排列的多個第二電極，第一電極具有由金屬細線構成的多個第一格子，第二電極具有由金屬細線構成的多個第二格子，且由包含4個以上、8個以下的第二格子的第一感知部與包含9個以上、20個以下的第二格子的第二感知部交替地配置而構成，第一電極層與第二電極層中，將多個第一格子與多個第二格子以不相互重疊的方式，且自上面觀察時，上述多個第一格子與上述多個第二格子於整個面連續地進行配置。

本發明的第四形態的導電片依序積層著：第一電極層，具有沿第一方向延伸且在與上述第一方向交叉的第二方向上排列的多個第一電極；透明絕緣層；以及第二電極層，具有沿第二方向延伸且在第一方向上排列的多個第二電極，第一電極具有由金屬細線構成的多個第一格子，第二電極具有由金屬細線構成的多個第二格子，且由第一感知部與具有該第一感知部的1.5倍以上的面積的第二感知部交替地配置而構成，第一電極層與第二電極層中，將多個第一格子與上述多個第二格子以不相互重疊的方式，且自上面觀察時，多個第一格子與多個第二格子於整個面連續地進行配置。

較佳為，導電片中，第一格子與第二格子為相同形狀。

較佳為，導電片中，包含第一電極的2個以上的第一格子的感知部包圍第二電極的第二感知部。

較佳為，導電片中，第二感知部具有7mm²以下的面積。

根據本發明，在具有包含金屬細線的格子的電極的導電片及觸控面板中，可改善視認性。

1、101‧‧‧導電片

10‧‧‧第一電極層

12、112‧‧‧第一電極

14‧‧‧第1電極端子

16‧‧‧第1配線

26、26-1~26-5‧‧‧第一格子

29、59‧‧‧虛設圖案

30‧‧‧透明絕緣層

40‧‧‧第二電極層

42、142‧‧‧第二電極

44‧‧‧第二電極端子

46‧‧‧第二配線

56、56-1、56-2‧‧‧第二格子

100‧‧‧觸控面板

102‧‧‧感測器本體

106‧‧‧保護層

108‧‧‧顯示裝置

110‧‧‧顯示面板

126、156‧‧‧格子

132、162‧‧‧格子群

A、B、C‧‧‧區域

W1、W2‧‧‧寬度

X‧‧‧第一方向

Y‧‧‧第二方向

圖1是導電片的概略平面圖。

圖2是導電片的概略剖面圖。

圖3是包含菱形圖案的導電片的平面圖。

圖4是第一電極層的概略平面圖。

圖5是第二電極層的概略平面圖。

圖6是重疊著第一電極層與第二電極層的導電片的概略平面圖。

圖7是導電片的部分放大圖。

圖8是導電片的部分放大圖。

圖9A是表示第一電極與第二電極的重疊狀態的平面圖。

圖9B是表示第一電極與第二電極的重疊狀態的平面圖。

圖9C是表示第一電極與第二電極的重疊狀態的平面圖。

圖10是表示觸控面板的構成的分解立體圖。

以下，根據隨附圖式對本發明的較佳的實施形態進行說明。本發明藉由以下的較佳的實施形態而說明，但可不脫離本發明的範圍而藉由多種方法進行變更，且可利用本實施形態以外的其他實施形態。因此，本發明的範圍內的所有變更包含於申請專利範圍。另外，本說明書中表示數值範圍的「~」，是作為將其前後記載的數值作為下限值及上限值而包含的含義而加以使用。

圖1是觸控面板用的導電片1的概略平面圖，圖2是導電片1的概略剖面圖。導電片1包括：第一電極層10，具有多個第一電極12，上述多個第一電極12沿第一方向(X方向)延伸且在與第一方向交叉的第二方向(Y方向)上排列；透明絕緣層30；以及第二電極層40，具有多個第二電極42，上述多個第二電極42沿第二方向(Y方向)延伸且在第一方向(X方向)上排列。

各第一電極12於其一端與第一電極端子14電性連接。進而，各第一電極端子14與導電性的第一配線16電性連接。各第二電極42於其一端與第二電極端子44電性連接。各第二電極端子44與導電性的第二配線46電性連接。第一電極12及第二電極42分別包含金屬細線的格子。

導電片1包括：具有第1主面與第2主面的透明絕緣層 30，配置於透明絕緣層30的第1主面的第一電極層10，以及配置於透明絕緣層30的第2主面的第二電極層40。如圖2所示，第一電極12與第二電極42夾著透明絕緣層30而形成，但第一電極12與第二電極42並未設置於相向的位置。另一方面，在對導電片1進行俯視觀察的情況下，以看得見整個面上均勻的電極的方式將第一電極12與第二電極42形成於透明絕緣層30的第1主面與第2主面。

本發明者對因光照到上述構成的導電片時所產生的微小的反射光量的差而目視到電極的問題進行了積極研究。

圖3是表示普通的包含所謂的菱形圖案的導電片101的概略平面圖。導電片101包括第一電極112及第二電極142。第一電極112包含多個金屬細線的格子126，第二電極142包含多個金屬細線的格子156。為了明確第一電極112與第二電極142，將第一電極112表示得比第二電極142粗。第一電極112具有包含8×8的多個格子126的2個格子群132。同樣地，第二電極142亦具有包含8×8的多個格子156的2個格子群162。

當光照到導電片101時，在格子群132及格子群162的區域光受到反射。格子群132及格子群162均包含8×8的多個格子126、格子156，格子群132及格子群162具有相對較大的面積。發現在格子群132與格子群162中，即便反射率的差小，若面積大則即便為微小的反射光量的差亦容易目視到電極。

結果發現，儘可能地將第一電極及第二電極細分化而減小其格子群的面積，進而使第一電極及第二電極構成為以在寬度方向上擴展的方式分支而成的分支電極，藉此微小的反射光量的差異不易被人的眼睛目視到，從而完成本發明。

圖4是表示本實施形態的一例的第一電極層10的概略平面圖。第一電極層10具有多個第一電極12，該多個第一電極 12沿第一方向(X方向)延伸，且在與第一方向交叉的第二方向(Y方向)上排列。第一電極12包含金屬細線的多個第一格子26。第一格子26藉由使金屬細線彼此在相互導通的狀態下進行包圍而構成，在第一格子26中形成著開口區域。本實施形態的第一格子26由4個邊形成開口區域。

若整體上進行觀察則第一電極12沿第一方向延伸。若觀察構成第一電極12的各第一格子26，則其以第一格子26-1為起點，以沿著第三方向而在第一電極12的寬度方向上擴展的方式連續地延伸。而且，以第一格子26-1為起點，以沿著第四方向而在第一電極12的寬度方向上擴展的方式連續地延伸。亦即，第一電極12具有以第一格子26-1為起點而沿著第三方向及第四方延伸的分支電極。藉由具有分支電極而可擴大能夠進行感測的區域。

第一格子26連續是指2個第一格子26共有一邊而鄰接配置的狀態。然而，在不共有邊而僅於一角配置2個第一格子26的情況下，第一格子26不處於連續的狀態。

沿著第三方向連續的第一格子26藉由金屬細線導通且沿第1方向延伸。同樣地，沿著第四方向連續的第一格子26藉由金屬細線導通且沿第1方向延伸。

以第三方向上連續地擴展的方式而延伸的第一格子26 繼而沿著第四方向朝向第一格子26-2連續地延伸。而且，以第四方向上連續地擴展的方式延伸的第一格子26繼而沿著第三方向，朝向第一格子26-2連續地延伸。藉此，構成由圓形標記包圍的第一電極12的重複圖案。本實施形態中一個重複圖案具有6邊形的形狀，3個重複圖案沿第一方向延伸。

鄰接的重複圖案藉由成為第一格子26-2與第一格子 26-3，而且藉由第一格子26-4與第一格子26-5而電性連接。其中，第一格子26-2與第一格子26-3的角彼此連接著，而且，第一格子26-4與第一格子26-5的角彼此連接著，因而並非相當於連續的第一格子26。

第一電極12如圖4所示，包含由M×N的多個第一格子 26構成的格子群。此處，包含M×N的多個第一格子26的格子群是指共有邊的多個第一格子26呈矩陣狀以M×N配置的狀態。此時，以M、N為整數且M+N≦9的方式來排列多個第一格子26。在多個第一格子26以M×N配置的情況下，是以防止格子群的面積過大為目標。藉由將第一電極12的由第一格子26構成的格子群設為M+N≦9，而可改善視認性。進而，較佳為M、N均為4以下。

關於M、N，例如在M=7、N=2的情況下，M+N=9，從而滿足M+N≦9。M×N=7×2，格子群包含14個第一格子26。因而格子群的面積不會過大，因而可改善視認性。

另一方面，在M=5、N=5的情況下，M+N=10，不滿足 M+N≦9。包含第一格子26的格子群整體上具有大面積，因而自視認性的觀點考慮欠佳。

圖4中，沿著第三方向而第一格子26以M×N=1×5連續地形成格子群。而且，沿著第四方向而第一格子26以M×N=1×5連續地形成格子群。圖4中，該些格子群成為具有最大面積的格子群。圖4的格子群滿足M+N≦9，因而可改善視認性。第一電極12具有細長的形狀，因而較佳為M×N=2×7，更佳為M×N=2×5，進而較佳為M×N=1×5。

而且，自其他觀點考慮，在第一電極12中，第一格子 26相對於第三方向連續7個以上的情況下，以在第四方向不連續3個以上的方式配置第一格子26。亦即，第一格子26並不以7×3以上的矩陣狀進行配置，從而限制了格子群佔據大的面積。重要的是滿足M+N≦9。

另外，就方向而言，將第一電極12延伸的方向與排列的方向分別設為第一方向與第二方向，將連續的第一格子26的延伸的方向設為第三方向與第四方向。連續的第一格子26的延伸的方向不限定為第三方向與第四方向，可採用第五方向等多個方向。

第一方向與第三方向、第二方向與第四方向可分別相同，亦可分別具有固定的傾斜角度。本實施形態的圖4中，第一方向與第三方向、第二方向與第四方向具有固定的傾斜角度。

一般而言，第一方向與第二方向是指使用導電片1的畫面顯示的縱方向與橫方向，但此處不作特別限定。較佳為使連續的第一格子26的方向與第一電極12的方向，具有不易引起疊紋的角度。第一電極12的方向亦可在畫面的縱橫方向上大致一致，但並非完全相同。

構成第一電極12的金屬細線具有30μm以下的線寬，金屬細線包含金、銀、銅等金屬材料或金屬氧化物等導電材料。

關於金屬細線的線寬，理想的是30μm以下，較佳為15μm以下，更佳為10μm以下，更佳為9μm以下，更佳為7μm以下，且為0.5μm以上，較佳為1μm以上。

第一電極12包括多個第一格子26，該多個第一格子26包含交叉的金屬細線。第一格子26包含由金屬細線包圍的開口區域。第一格子26較佳為具有200μm~1000μm的一邊。第一格子26進而較佳為具有240μm~500μm的一邊。藉由設為該範圍，光透過率優異而不易目視到細線。

第一電極12處於4mm~12mm以下的寬度W1的範圍，較佳為處於5mm~7mm的寬度W1的範圍。藉由設為該範圍而可形成適合於手指接觸的電極寬度。

尤其將第一格子26的一邊設為240μm~500μm，第一電極12的寬度設為5mm~7mm，藉此可實現低電阻與視認性改良的效果。

自可見光透過率的觀點而言，第一電極12較佳為98%~99.8%的開口率。開口率相當於在規定區域中未被第一電極12的金屬細線所佔據的透光性部分在整個面積中所佔的比例。亦即，相當於自1減去金屬細線於每單位面積中所佔的比例所得的比例，且以百分率表示。因此，金屬細線於每單位面積中所佔的比例為0.2%~2%。

第一電極12的表面電阻率處於10Ω/sq.~120Ω/sq.的範圍，尤其處於40Ω/sq.~80Ω/sq.以下的範圍。開口率與表面電阻率存在折衷(trade off)的關係。在為應用本實施形態的導電片1的例如面向電子紙的顯示器的情況下，優先增大第一格子26而提高開口率，在為面向個人電腦監視器或平板電腦(tablet PC)的顯示器的情況下，優先降低表面電阻率。因此，考慮到所應用的顯示器，來決定開口率與表面電阻率。

表面電阻率以三菱化學股份有限公司製造的MCP-T610 的表面電阻率計而求出。另外，在進行測定時，製作具有與電極相同的線寬、格子的大小及開口率的約10cm×10cm的整個面為網狀的樣本(無切斷部等的樣本)來進行測定。

上述導電片1中，第一格子26具有矩形的形狀。然而，此外亦可設為多邊形狀。而且，除將一邊的形狀設為直線狀以外，亦可為彎曲形狀，還可設為圓弧狀。在設為圓弧狀的情況下，例如關於相向的2邊，可設為向外部凸出的圓弧狀，而關於其他的相向的2邊，設為向內部凸出的圓弧狀。而且，亦可將各邊的形狀設為向外部凸出的圓弧與向內部凸出的圓弧連續而成的波浪線形狀。當然，亦可將各邊的形狀設為正弦曲線。

圖5是表示本實施形態的一例的第二電極層40的概略平面圖。第二電極層40具有多個第二電極42，該多個第二電極42沿第二方向(Y方向)延伸，且在與第二方向交叉的第一方向 (X方向)上排列。第二電極42包含金屬細線的多個第二格子56。第二格子56藉由使金屬細線彼此在相互導通的狀態下進行包圍而構成，在第二格子56中形成著開口區域。本實施形態的第二格子56藉由4個邊形成開口區域。

若整體上進行觀察則第二電極42沿第二方向延伸。圖5中，第二格子56沿第三方向與第四方向連續而構成呈矩陣狀配置而成的多個格子群。具體而言，第二電極42包含由圓形標記包圍的區域A中所示的面積小的格子群、及由圓形標記包圍的區域B中所示的面積大的格子群。面積小的格子群與面積大的格子群沿著第二方向交替地配置。面積小的格子群與面積大的格子群藉由金屬細線而電性連接。面積小的格子群構成第一感知部，面積大的格子群構成第二感知部。

第一感知部包含由M+N≦9且為7個的第二格子56構成的格子群。本實施形態中的第一感知部包含如下的格子群，該格子群包含M×N=2×2個第二格子56。第一感知部較佳為包含4個以上、8個以下的數量的第二格子56。

而且，自其他觀點而言，在第二電極42中，在第二格子56相對於第三方向而連續7個以上的情況下，以在第四方向上不連續5個以上的方式配置第二格子56。亦即，第二格子56並不以7×3以上的矩陣狀進行配置，從而限制了格子群佔據大的面積。重要的是滿足M+N≦9。

第二感知部包含由M+N≦9且為14個的第二格子56構成的格子群。本實施形態中的第二感知部包含如下的格子群，該格子群包含M×N=3×3個第二格子56。第二感知部較佳為包含9個以上、20個以下的第二格子56。

關於第二感知部與第一感知部的大小，較佳為第二感知部具有第一感知部的1.5倍以上的面積。而且，第二感知部的面積較佳為7mm²以下。面積可根據(第二格子56的面積)×(第二格子56的數量)而求出。

第二電極42具備自第一感知部沿第一方向延伸的2個分支電極。藉由具有分支電極而可擴大能夠進行感測的區域。分支電極設置於重複配置的第一感知部。

關於構成第二電極42的金屬細線的線寬與材料，可應用與第一電極12相同的線寬與材料。構成第二格子56的一邊的長度與第一格子26同樣地為200μm~1000μm，較佳為240μm~500μm。

第二電極42處於4mm~12mm的寬度W2的範圍，較佳為處於5mm~7mm以下的寬度W2的範圍。與第一電極12同樣地，較佳為將第二格子56的一邊設為240μm~500μm，將第二電極42的寬度設為5mm~7mm。

第二電極42的開口率處於98%~99.8%的範圍。第二電極42的金屬細線於每單位面積中所佔的比例為0.2%~2%。而且，第二電極42的表面電阻率處於40Ω/sq.~80Ω/sq.的範圍。上述導電片1中，第二格子56具有矩形的形狀，但並不限定於此，可具有與第一格子26相同的形狀。

圖6是使第一電極層10與第二電極層40相向配置的導電片1的平面圖。以將第一電極12與第二電極42正交的方式進行配置，而構成導電片1。

將第一電極層10與第二電極層40相向配置，但以在第一電極12與第二電極42不相對的位置，俯視時第一電極12的第一格子26與第二電極42的第二格子56不相互重疊的方式進行配置。亦即，第一電極層10的形成著第一電極12的區域與第二電極層40的未形成著第二電極42的區域相互重疊，第一電極層10的未形成著第一電極12的區域與第二電極層40的形成著第二電極42的區域相互重疊。圖6中，為了容易識別第一電極12與第二電極42，而以比第一電極12粗的線來表示第二電極42。

藉由使第一電極層10與第二電極層40相向配置，而如圖6所示，多個第一格子26與多個第二格子56於整個面連續地配置。多個第一格子26與多個第二格子56於整個面連續地配置是指第一格子26與第二格子56看起來是連續的狀態。第一格子26形成於第一電極層10，第二格子56形成於第二電極層40，因而第一格子26與第二格子56物理上不連接。當將第一電極層10與第二電極層40重疊而透視時，只要第一格子26與第二格子56看起來是連續的狀態即可。而且，在看起來是連續的狀態下，亦包含如下狀態：第一格子26的金屬細線與第二格子56的金屬細線並非準確地以直線狀連續，人的裸眼看起來是如此，若通過放大透鏡進行觀察，則具有斷線部或線稍微偏移。

圖7是圖6所示的導電片1的部分放大圖。以俯視時第一電極12與第二電極42不相互重疊的方式進行配置。俯視時，區域C中包含構成第一電極12的一部分的4個第一格子26-1~26-4。第一格子26-1~26-4與區域C中構成第二電極42的金屬細線或第二格子56-1~56-2鄰接配置。本實施形態中，第一格子26與第二格子56分別以4個以下進行鄰接配置。

如此配置為第一格子26與第二格子56，藉此可減小靜電電容Cm。若減小靜電電容Cm則利用手指進行接觸時發生變化的靜電電容ΔCm的比例ΔCm/Cm增大，從而容易檢測到有無手指。即便在減小第一格子26與第二格子56重疊的部分的情況下，感測區域亦增大的原因在於，第一電極12具有重複圖案為6邊形的形狀，第二電極42具有在第二電極42的寬度方向上擴展的分支電極。

圖8是圖6所示的導電片1的部分放大圖。圖8的導電片與圖7的導電片不同，具有虛設圖案(dummy pattern)。圖6中，俯視時，第一電極12與第二電極42之間存在未形成金屬細線的間隙。即便照射於該間隙中，光亦不會反射，因而會作為圖案而被識別，從而對視認性造成影響。

因此，圖8中，在第一電極12與第二電極42的間隙內由金屬細線而形成虛設圖案29、虛設圖案59。虛設圖案29形成於第一電極層10，虛設圖案59形成於第二電極層40。虛設圖案 29、虛設圖案59形成於第一電極12與第二電極42的間隙，因而亦可形成於第一電極層10及第二電極層40中的任一者中。俯視時，藉由第一電極12、第二電極42、及虛設圖案29、虛設圖案59，第一格子26與第二格子56看起來是連續的狀態即可。

在使第一電極層10與第二電極層40相向配置時，有時因步驟誤差而在第一格子26與第二格子56之間，對於金屬細線的位置產生偏移。因此設計上若將第一電極層10與第二電極層40重疊則整體上形成均勻間隔、均勻形狀的連續的格子。然而，會發生圖9A~圖9C的現象。圖9A中第一電極12與第二電極42中無偏移，如設計般一致。圖9B中，第一電極12與第二電極42未呈一直線狀排列。然而，裸眼無法識別出。圖9C中，第一電極12與第二電極42在一部分發生重疊，而在一部分產生間隙(間斷)。第一電極12與第二電極42重疊的部分因金屬細線看起來粗而成為使視認性劣化的因素。

上述狀況下，藉由進行以下設計而有效。第1，如圖9B 般以產生偏移的方式進行設計，第二將金屬細線設計得短，重要的是使第一電極12與第二電極42不重疊。

其次，一面參照圖10一面對使用了上述導電片1的觸控面板100進行說明。觸控面板100具有感測器本體102及未繪示的控制電路(包含積體電路(Integrated Circuit)等)。感測器本體102具有導電片1、及積層於其上的保護層106。導電片1及保護層106配置於例如液晶顯示器等顯示裝置108的顯示面板110 上。

其次，對導電片1的製造方法進行說明。

在製造導電片1的情況下，例如亦可在透明的透明絕緣層30的第1主面上將具有包含感光性鹵化銀鹽的乳劑層的感光材料曝光，並實施顯影處理，藉此在曝光部及未曝光部分別形成金屬銀部(金屬細線)及光透過性部(開口區域)，從而形成第一電極層10。另外，亦可進而對金屬銀部實施物理顯影及/或鍍覆處理，藉此使導電性金屬承載於金屬銀部。

或者，亦可對形成在透明的透明絕緣層30的第1主面上的銅箔上的光阻膜進行曝光、顯影處理而形成抗蝕劑圖案，對自抗蝕劑圖案露出的銅箔進行蝕刻，藉此形成第一電極層10。

或者，亦可將包含金屬微粒子的漿料印刷至透明的透明絕緣層30的第1主面上，對漿料進行金屬鍍覆，藉此形成第一電極層10。

亦可藉由網版印刷版或凹版印刷版，在透明的透明絕緣層30的第1主面上印刷形成第一電極層10。或者，亦可藉由噴墨而在透明的透明絕緣層30的第1主面上形成第一電極層10。

關於第二電極層40，可利用與第一電極層10同樣的製造方法，在透明絕緣層30的第2主面上形成第二電極層40。

亦可使用鍍覆預處理材料在透明的透明絕緣層30上形成感光性被鍍覆層，進行曝光、顯影處理後實施鍍覆處理，藉此在曝光部及未曝光部分別形成金屬部及光透過性部，從而形成第一電極層10及第二電極層40。另外，亦可進而藉由對金屬部實施物理顯影及/或鍍覆處理而使導電性金屬承載於金屬部。另外，更具體的內容已揭示於日本專利特開2003-213437、日本專利特開2006-64923、日本專利特開2006-58797、日本專利特開2006-135271等。

如圖2所示，當在透明絕緣層30的第1主面形成第一電極層10，在透明絕緣層30的第2主面形成第二電極層40的時，若依據通常的製法而採用如下的方法：首先將第1主面曝光，然後，將第2主面曝光，則存在無法獲得具有所需的圖案的第一電極層10及第二電極層40的情況。

因此，可較佳地採用以下所示的製造方法。

亦即，對形成於透明絕緣層30的兩面的感光性鹵化銀乳劑層進行總括曝光，在透明絕緣層30的一主面形成第一電極層10，在透明絕緣層30的另一主面形成第二電極層40。

對該製造方法的具體例進行說明。

首先，製作長條的感光材料。感光材料包括：透明絕緣層30，形成於透明絕緣層30的第1主面的感光性鹵化銀乳劑層(以下稱作第1感光層)，形成於透明絕緣層30的另一主面的感光性鹵化銀乳劑層(以下稱作第2感光層)。

其次，將感光材料曝光。該曝光處理中，進行第1曝光處理與第2曝光處理(兩面同時曝光)，上述第1曝光處理對第1感光層朝向透明絕緣層30照射光，沿著第1曝光圖案曝光第1感光層；上述第2曝光處理對第2感光層朝向透明絕緣層30照射光，沿著第2曝光圖案曝光第2感光層。

例如，一面沿一方向運送長條的感光材料，一面將第1 光(平行光)經由第1光罩而照射至第1感光層，並且將第2光(平行光)經由第2光罩而照射至第2感光層。利用中途的第1準直透鏡，將自第1光源出射的光轉換為平行光，藉此獲得第1光，利用中途的第2準直透鏡，將自第2光源出射的光轉換為平行光，藉此獲得第2光。

於上述說明中，表示使用有2個光源(第1光源及第2 光源)的情況，但亦可經由光學系統對自1個光源出射的光進行分割，將分割所得的光作為第1光及第2光而照射至第1感光層及第2感光層。

其次，對曝光後的感光材料進行顯影處理，藉此製作觸控面板用的導電片1。觸控面板用的導電片1包括：透明絕緣層30，沿著第1曝光圖案而形成於透明絕緣層30的第1主面的第一電極層10，以及沿著第2曝光圖案而形成於透明絕緣層30的另一主面的第二電極層40。另外，第1感光層及第2感光層的曝光時間及顯影時間根據第1光源及第2光源的種類或顯影液的種類等而發生各種變化，因此，無法同樣地決定較佳的數值範圍，將上述曝光時間及顯影時間調整為使顯影率達到100%的曝光時間及顯影時間。

而且，本實施形態的製造方法中，第1曝光處理是將第 1光罩例如密接地配置於第1感光層上，自與該第1光罩相向配置的第1光源朝向第1光罩照射第1光，藉此將第1感光層曝光。第1光罩包含：由透明的鈉玻璃形成的玻璃基板，及形成於該玻璃基板上的遮罩圖案(第1曝光圖案)。因此，藉由該第1曝光處理，對第1感光層中的如下部分進行曝光，該部分沿著形成於第1光罩的第1曝光圖案。亦可在第1感光層與第1光罩之間設置2μm~10μm左右的間隙。

同樣地，第2曝光處理是將第2光罩例如密接配置於第2感光層上，自與該第2光罩相向配置的第2光源朝向第2光罩照射第2光，藉此將第2感光層曝光。第2光罩與第1光罩同樣地包含：由透明的鈉玻璃形成的玻璃基板，及形成於該玻璃基板上的遮罩圖案(第2曝光圖案)。因此，藉由該第2曝光處理來對第2感光層中的如下部分進行曝光，該部分沿著形成於第2光罩的第2曝光圖案。該情況下，亦可在第2感光層與第2光罩之間設置2μm~10μm左右的間隙。

對於第1曝光處理及第2曝光處理而言，可使來自第1光源的第1光的出射時序與來自第2光源的第2光的出射時序同時，亦可使上述兩個出射時序不同。若同時，則可利用一次的曝光處理同時將第1感光層及第2感光層曝光，從而可使處理時間短縮。然而，在第1感光層及第2感光層均未經分光增感(photosensitization)的情況下，若自兩側對感光材料進行曝光，則自單側進行的曝光會對另一側(背側)的圖像形成產生影響。

亦即，到達第1感光層的來自第1光源的第1光藉由第 1感光層中的鹵化銀粒子而散射，作為散射光而透過透明絕緣層30，該散射光的一部分到達第2感光層為止。如此，第2感光層與透明絕緣層30的邊界部分在大範圍內被曝光，從而形成潛像(latent image)。因此，第2感光層中，利用來自第2光源的第2光進行曝光，且利用來自第1光源的第1光進行曝光，在利用其後的顯影處理形成觸控面板用導電片1的情況下，除了藉由第2曝光圖案而形成導電圖案(第二電極層40)以外，亦會在導電圖案之間藉由來自第1光源的第1光而形成薄的導電層，從而無法獲得所希望的圖案(沿著第2曝光圖案的圖案)。此對於第1感光層而言亦相同。

為了避免上述問題，進行積極研究的結果為，確認到：將第1感光層及第2感光層的厚度設定於特定的範圍，或規定第1感光層及第2感光層的塗佈銀量，藉此鹵化銀本身吸收光，可限制光向背面透過。可將第1感光層及第2感光層的厚度設定為1μm以上、4μm以下。上限值較佳為2.5μm。而且，將第1感光層及第2感光層的塗佈銀量規定為5g/m²~20g/m²。

對於上述兩面密接的曝光方式而言，因附著在片材表面的灰塵等而成為由曝光阻礙引起的圖像缺陷的問題。作為防止灰塵附著的方法，已知將導電性物質塗佈於片材的方法，但金屬氧化物等於處理後亦會殘存，且會損害最終製品的透明性，而且，導電性高分子在保存性等方面存在問題。因此，進行積極研究的結果已知：藉由其中黏合劑的量已減少的鹵化銀來獲得抗靜電所需的導電性，且規定第1感光層及第2感光層的銀/黏合劑的體積比。亦即，第1感光層及第2感光層的銀/黏合劑體積比為1/1以上，較佳為2/1以上。

如上述般，對第1感光層及第2感光層的厚度、塗佈銀量、銀/黏合劑的體積比進行設定、規定，藉此到達第1感光層的來自第1光源的第1光不會到達第2感光層為止。同樣地，到達第2感光層的來自第2光源的第2光不會到達第1感光層為止。結果，在利用其後的顯影處理形成導電片1的情況下，在透明絕緣層30的第1主面僅形成由第1曝光圖案形成的第一電極層10，在透明絕緣層30的第2主面僅形成由第2曝光圖案形成的第二電極層40，從而可獲得所需的圖案。

如此，在使用上述兩面總括曝光的製造方法中，可獲得同時實現導電性與兩面曝光的適應性的第1感光層及第2感光層。而且，可利用對1個透明絕緣層30進行的曝光處理，在透明絕緣層30的兩面任意地形成相同圖案或不同圖案，藉此，可容易地形成觸控面板的電極，並且可實現觸控面板的薄型化(低背化)。

其次，本實施形態的導電片1中，以作為尤佳的形態的使用鹵化銀照相感光材料的方法為中心進行敘述。

根據感光材料與顯影處理的形態，本實施形態的導電片1的製造方法包含如下3個形態。

(1)形態是對不包含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料進行化學顯影或熱顯影而使金屬銀部形成於該感光材料上。

(2)形態是對鹵化銀乳劑層中包含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料進行溶解物理顯影而使金屬銀部形成於該感光材料上。

(3)形態是將不包含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料與具有包含物理顯影核的非感光性層的顯像片予以重合來進行擴散轉印顯影，使金屬銀部形成於非感光性顯像片(non-photosensitive image receiving sheet)上。

上述(1)的形態為一體型黑白顯影類型，在感光材料上形成光透過性導電膜等透光性導電性膜。所獲得的顯影銀為化學顯影銀或熱顯影銀，且為高比表面的長絲(filament)，就該點而言，在後續的鍍覆或物理顯影過程中，該顯影銀的活性高。

對於上述(2)的形態而言，曝光部中，物理顯影核近緣的鹵化銀粒子溶解而沈積於顯影核上，藉此在感光材料上形成光透過性導電性膜等透光性導電性膜。此亦為一體型黑白顯影類型。顯影作用為對物理顯影核上的析出，因而活性高，但顯影銀為比表面小的球形。

對於上述(3)的形態而言，未曝光部中鹵化銀粒子溶解且擴散並沈積於顯像片材上的顯影核上，藉此在顯像片材上形成光透過性導電性膜等透光性導電性膜。上述(3)的形態為所謂的分離類型，且為將顯像片材自感光材料剝離而使用的形態。

對於任一個形態而言，均可選擇負型顯影處理及反轉顯影處理中的任一種顯影(在為擴散轉印方式的情況下，將直接正型(autopositive)感光材料用作感光材料，藉此可進行負型顯影處理)。

此處，以下對本實施形態的導電片1的構成進行詳細說明。

[透明絕緣層30]

作為透明絕緣層30，可列舉塑膠膜(plastic film)、塑膠板(plastic plate)、以及玻璃板(glass plate)等。作為上述塑膠膜以及塑膠板的原料，例如可使用聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate，PET)、聚萘二甲酸乙二酯(Polyethylene Naphthalate，PEN)等聚酯類；聚乙烯(Polyethylene，PE)、聚丙烯(Polypropylene，PP)、聚苯乙烯、乙烯醋酸乙烯酯(Ethylene Vinyl Acetate，EVA)/環烯烴聚合物(Cycloolefin Polymer，COP)/環烯烴共聚合物(Cycloolefin Copolymer，COC)等聚烯烴類；以及乙烯系樹脂；此外可使用聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)、聚醯胺、聚醯亞胺、丙烯酸樹脂、以及三醋酸纖維素(Triacetyl Cellulose，TAC)等。自光透過性或加工性等的觀點而言，尤佳為聚對苯二甲酸乙二酯(PET)。

[銀鹽乳劑層]

成為導電片1的第一電極層10及第二電極層40的銀鹽乳劑層，除了含有銀鹽及黏合劑之外，亦含有溶劑或染料等添加劑。

作為本實施形態中所使用的銀鹽，可列舉鹵化銀等無機銀鹽及醋酸銀等有機銀鹽。本實施形態中，較佳為使用作為光感測器的特性優異的鹵化銀。

銀鹽乳劑層的塗佈銀量(銀鹽的塗佈量)換算為銀，較佳為1g/m²~30g/m²，更佳為1g/m²~25g/m²，進而較佳為5g/m²~20g/m²。藉由將該塗佈銀量設為上述範圍，在形成觸控面板用導電片1的情況下，可獲得所需的表面電阻率。

作為本實施形態中所使用的黏合劑，例如可列舉：明膠 (gelatin)、聚乙烯醇(Polyvinyl Alcohol，PVA)、聚乙烯吡咯烷酮(Polyvinyl Pyrrolidone，PVP)、澱粉等多糖類、纖維素及其衍生物、聚氧化乙烯、聚乙烯胺、聚葡萄胺糖(chitosan)、聚離胺酸(polylysine)、聚丙烯酸、聚海藻酸(polyalginic acid)、聚透明質酸(polyhyaluronic acid)、以及羧基纖維素等。根據官能基的離子性，上述黏合劑具有中性、陰離子性、陽離子性的性質。

銀鹽乳劑層中所含有的黏合劑的含量未作特別限定，可在能夠發揮分散性與密接性的範圍內適當決定。以銀/黏合劑體積比計，銀鹽乳劑層中的黏合劑的含量較佳為1/4以上，更佳為1/2以上。銀/黏合劑體積比較佳為100/1以下，更佳為50/1以下，進而較佳為10/1以下，尤佳為6/1以下。而且，銀/黏合劑體積比進而較佳為1/1~4/1。最佳為1/1~3/1。藉由將銀鹽乳劑層中的銀/黏合劑體積比設為該範圍，即便在已對塗佈銀量進行調整的情況下，亦可抑制電阻值的不均，從而可獲得具有均勻的表面電阻率的觸控面板用導電片。另外，銀/黏合劑體積比可藉由如下而求出：將原料的鹵化銀量/黏合劑量(重量比)轉換為銀量/黏合劑量(重量比)，進而將銀量/黏合劑量(重量比)轉換為銀量/黏合劑量(體積比)。

<溶劑>

用於形成銀鹽乳劑層的溶劑並無特別限定，例如可列舉：水，有機溶劑(例如，甲醇等醇類、丙酮等酮類、甲醯胺等醯胺類、二甲基亞碸等亞碸類、醋酸乙酯等酯類、及醚類等)，離子性液體，及該些溶劑的混合溶劑。

用於本實施形態的銀鹽乳劑層的溶劑的含量相對於銀鹽乳劑層中所含的銀鹽、黏合劑等的合計的質量，處於30質量%~90質量%的範圍，較佳為處於50質量%~80質量%的範圍。

<其他添加劑>

關於本實施形態中所使用的各種添加劑，並無特別限制，可較佳地使用公知的的添加劑。

[其他層的構成]

亦可在銀鹽乳劑層上設置未繪示的保護層。於本實施形態中，「保護層」是指包含如明膠或高分子聚合物之類的黏合劑的層，為了表現出防止擦傷或改良力學特性的效果，該保護層形成於具有感光性的銀鹽乳劑層上。上述保護層的厚度較佳為0.5μm以下。保護層的塗佈方法及形成方法並無特別限定，可適當選擇公知的塗佈方法及形成方法。而且，亦可在比銀鹽乳劑層靠下方處，設置例如底塗層。

其次，對導電片1的製作方法的各步驟進行說明。

[曝光]

於本實施形態中，包括藉由印刷方式來形成第一電極層10及第二電極層40的情況，但除了印刷方式以外，亦藉由曝光與顯影等來形成第一電極層10及第二電極層40。亦即，對具有設置於透明絕緣層30上的含銀鹽層的感光材料或塗佈有光微影法用光聚合物的感光材料進行曝光。可使用電磁波來進行曝光。作為電磁波，例如可列舉：可見光線、紫外線等光、以及X射線等放射線等。進而，曝光中可利用具有波長分佈的光源，亦可使用特定波長的光源。

關於曝光方法，較佳為經由玻璃遮罩而實施的方法或利用雷射描繪的圖案曝光方式。

[顯影處理]

於本實施形態中，對乳劑層進行曝光後，進而進行顯影處理。顯影處理可使用銀鹽照相膠片或照相紙、印刷製版用膠片、光罩用乳膠遮罩等中所使用的通常的顯影處理的技術。

本實施形態中的顯影處理可包含定影處理，該定影處理是為了將未曝光部分的銀鹽予以除去而實現穩定化所進行的處理。本發明中的定影處理可使用銀鹽照相膠片或照相紙、印刷製版用膠片、光罩用乳膠遮罩等中所使用的定影處理的技術。

較佳為對實施了顯影、定影處理的感光材料實施硬膜處理、水洗處理或穩定化處理。

較佳為如下的含有率，即，顯影處理後的曝光部中所含的金屬銀的質量相對於曝光前的曝光部中所含的銀的質量為50質量%以上，進而較佳為80質量%以上。若曝光部中所含的銀的質量相對於曝光前的曝光部中所含的銀的質量為50質量%以上，則可獲得高導電性，因此較佳。

本實施形態中的顯影處理後的灰階並無特別限定，但較佳為超過4.0。若顯影處理後的灰階超過4.0，則可保持光透過性部的透光性高，且可提高導電性金屬部的導電性。作為使灰階為4.0以上的方法，例如可列舉上述銠離子、銥離子的摻雜。

經由以上的步驟而獲得導電片，但所獲得的導電片的表面電阻率較佳為40Ω/sq.~80Ω/sq.以下。

藉由將表面電阻率調整至上述範圍，既便在面積為10 cm×10cm以上的大型觸控面板中，亦可進行位置檢測。而且，亦可對顯影處理後的導電片進而進行砑光(calender)處理，且可藉由砑光處理來調整為所需的表面電阻率。

(顯影處理後的硬膜處理)

較佳為在對銀鹽乳劑層進行顯影處理後，將該銀鹽乳劑層浸漬於硬膜劑來進行硬膜處理。作為硬膜劑，例如可列舉：戊二醛、己二醛、2,3-二羥基-1,4-二噁烷等二醛類以及硼酸、鉻礬(chrome alum)/鉀礬(potassium alum)等無機系化合物等日本專利特開平2-141279號公報中所記載的硬膜劑。

[物理顯影及鍍覆處理]

本實施形態中，為了使藉由上述曝光及顯影處理而形成的金屬銀部的導電性提高，亦可進行用以使上述金屬銀部承載導電性金屬粒子的物理顯影及/或鍍覆處理。於本發明中，可僅利用物理顯影或鍍覆處理中的任一個處理來使導電性金屬粒子承載於金屬性銀部，亦可將物理顯影與鍍覆處理加以組合而使導電性金屬粒子承載於金屬銀部。另外，將對金屬銀部實施物理顯影及/或鍍覆處理而成的部分包含在內而一併稱作「導電性金屬部」。

[氧化處理]

本實施形態中，較佳為對顯影處理後的金屬銀部、以及藉由物理顯影及/或鍍覆處理而形成的導電性金屬部實施氧化處理。藉由進行氧化處理，例如，於金屬稍微沈積於光透過性部的情況下，可將該金屬予以除去，而使光透過性部的透過性大致為100%。

[光透過性部]

本實施形態中的「光透過性部」是指導電片1中的除了第一電極層10及第二電極層40以外的具有透光性的部分。對於光透過性部的透過率而言，如上述般，透明絕緣層30的除了有助於光吸收及反射的作用之外的380nm~780nm的波長區域中的透過率的最小值所示的透過率為90%以上，較佳為95%以上，進而較佳為97%以上，進而更佳為98%以上，最佳為99%以上。

[導電片1]

本實施形態的導電片1中的透明絕緣層30的膜厚較佳為5μm ~350μm，進而較佳為30μm~150μm。若為5μm~350μm的範圍則可獲得所需的可見光的透過率，且亦易於處理。

可根據塗佈於透明絕緣層30上的含銀鹽層用塗料的塗佈厚度，來適當決定設置於透明絕緣層30上的金屬銀部的厚度。金屬銀部的厚度可選自0.001mm~0.2mm，但較佳為30μm以下，更佳為20μm以下，進而較佳為0.01μm~9μm，最佳為0.05μm~5μm。而且，金屬銀部較佳為圖案狀。金屬銀部可為1層，亦可為2層以上的疊層構成。在金屬銀部為圖案狀且為2層以上的疊層構成的情況下，可賦予不同的感色性使得能夠在不同的波長下感光。藉此，若改變曝光波長進行曝光，則可在各層中形成不同的圖案。

對於觸控面板的用途而言，導電性金屬部的厚度越薄則顯示面板的視野角越廣，因而較佳，就提高視認性的方面而言，亦要求薄膜化。根據此種觀點，包含承載於導電性金屬部的導電性金屬的層的厚度理想的是小於9μm，小於5μm，小於3μm且為0.1μm以上。

本實施形態中，可藉由對上述含銀鹽層的塗佈厚度進行控制來形成所需的厚度的金屬銀部，進而可藉由物理顯影及/或鍍覆處理自如地控制包含導電性金屬粒子的層的厚度，因而即便為具有小於5μm、較佳為具有小於3μm的厚度的導電片1，亦可容易地形成。

另外，本實施形態的導電片的製造方法中，不一定必須進行鍍覆等步驟。原因在於：在本實施形態的導電片1的製造方法中，可藉由對銀鹽乳劑層的塗佈銀量、銀/黏合劑體積比進行調整，來獲得所需的表面電阻率。

本發明的導電片及觸控面板並不限定於上述實施形態，當然可不脫離本發明的主旨而採用各種構成。而且，可適當地與日本專利特開2011-113149、日本專利特開2011-129501、日本專利特開2011-129112、日本專利特開2011-134311、日本專利特開2011-175628等中揭示的技術加以組合而使用。

[實施例]

以下，列舉本發明的實施例對本發明進行更具體地說明。另外，只要不脫離本發明的主旨，可適當地對以下的實施例所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等進行變更。因此，本發明的範圍不應由以下所示的具體例來限定性地解釋。

<導電圖案的形成>

(鹵化銀感光材料)

調製如下乳劑，該乳劑於水媒體中，相對於150g的銀(Ag)而包含10.0g的明膠，且含有球相當徑(sphere-equivalent diameter)平均值為0.1μm的碘溴氯化銀粒子(I=0.2莫耳%，Br=40莫耳%)。

而且，該乳劑中添加K₃Rh₂Br₉及K₂IrCl₆，使得濃度達到10^-7(莫耳/莫耳銀)，將Rh離子與Ir離子摻雜至溴化銀粒子。該乳劑中添加Na₂PdCl₄，進而使用氯金酸與硫代硫酸鈉來進行金硫增感後，以使銀的塗佈量達到10g/m²的方式，將該乳劑與明膠硬膜劑一併塗佈至基體30(此處均為聚對苯二甲酸乙二酯(PET))上。此時，Ag/明膠體積比設為2/1。

在寬度為30cm的PET支持體以寬度25cm進行20m 的塗佈，以保留24cm的塗佈的中央部的方式來將兩端分別截去3cm，獲得捲狀的鹵化銀感光材料。

(曝光)

關於曝光的圖案，準備變更格子數、開口率、線寬等的多個圖案的光罩，經由該些光罩，使用以高壓水銀燈作為光源的平行光來進行曝光。

(顯影處理)

．1L顯影液的配方

．1L定影液的配方

硫代硫酸銨液(75%) 300ml

使用富士軟片公司製造的自動顯影機FG-710PTS，於如下的處理條件下，對完成曝光的感光材料使用上述處理劑進行處理，即，於35℃進行30秒的顯影，於34℃進行23秒的定影，進行20秒(流水：5L/min)的水洗流水處理。

<試驗1~試驗12>

使用多個光罩，改變格子群的大小(M×N)、開口率、表面電阻率、金屬細線的佔有率、電極寬度、格子一邊的長度的條件，而製作試驗1~試驗12的導電片。關於試驗1~試驗12，進行視認性的評估。視認性的評估藉由目視進行判斷，將幾乎無法目視到格子群的情況設為A，將雖只有一點點但仍能夠目視到格子群的情況設為B，將能夠清楚目視格子群的情況設為C。表1表示試驗1~試驗12的條件與評估結果。

根據表1，滿足M+N≦9的試驗1~試驗10在視認性方面獲得B以上的評估。試驗1~試驗10中，尤其在格子的1邊的長度為500μm以下的情況下，為A的評估。另一方面，M+N>9的試驗11、試驗12中，即便格子的1邊的長度為500μm，亦為C的評估。

1‧‧‧導電片

12‧‧‧第一電極

26‧‧‧第一格子

42‧‧‧第二電極

56‧‧‧第二格子

X‧‧‧第一方向

Y‧‧‧第二方向

Claims

一種導電片，依序積層著：第一電極層，具有多個第一電極，上述多個第一電極沿第一方向延伸且在與上述第一方向交叉的第二方向上排列；透明絕緣層；以及第二電極層，具有多個第二電極，上述多個第二電極沿上述第二方向延伸且在上述第一方向上排列，上述第一電極具有在寬度方向上擴展的分支電極，且上述第一電極包含由金屬細線構成的多個第一格子，上述多個第一格子包含M×N格子群，上述第二電極具有在寬度方向上擴展的分支電極，且上述第二電極包含由金屬細線構成的多個第二格子，上述多個第二格子包含M×N格子群，上述第一電極層與上述第二電極層中，將上述多個第一格子與上述多個第二格子以不相互重疊的方式，且自上面觀察時，上述多個第一格子與上述多個第二格子於整個面連續地進行配置，M、N為整數且M+N≦9。
如申請專利範圍第1項所述的導電片，其中上述第一電極具有98%~99.5%的開口率、40Ω/sq.~80Ω/sq.的表面電阻率，上述第二電極具有98%~99.8%的開口率、40Ω/sq.~80Ω/sq.的表面電阻率。
如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電片，其中上述第一電極層與上述第二電極層中，將上述多個第一格子與上述多個第二格子以不相互重疊的方式，且自上述上面觀察時，上述多個第一格子與上述多個第二格子分別為4個以下而鄰接配置。
如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的導電片，其中構成上述第一格子及上述第二格子的各上述金屬細線於每單位面積中所佔的比例為0.2%~2%。
如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的導電片，其中上述第一格子及上述第二格子分別具有長度為200μm~1000μm的一邊。
如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述的導電片，其中上述第一電極及上述第二電極具有4mm~12mm的寬度。
如申請專利範圍第5項或第6項所述的導電片，其中上述第一格子及上述第二格子分別具有長度為240μm~500μm的一邊，上述第一電極及上述第二電極具有5mm~7mm的寬度。
如申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述的導電片，其中上述M、N均為4以下。
一種觸控面板，包括如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述的導電片。