WO1984003439A1 - Base de silice pour dentifrice et son procede de preparation - Google Patents

Base de silice pour dentifrice et son procede de preparation Download PDF

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Shozo Shinpo
Tetsuo Fushino
Akihiro Hachijo
Shozo Ohtsu
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    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values

Definitions

  • the present invention relates to a toothpaste base.
  • the present invention relates to a transparent toothpaste base having excellent unprecedented transparency and stability over time and having a desired abrasive power.
  • Transparent dentifrice enhances the image of clearing teeth from its clearness and refreshing sensation.
  • various products have been developed and marketed;
  • a dentifrice base may be used that has almost no cutting power that deviates from its intended purpose.
  • both refractive indices be close to each other; the latter is a physical property black; because its stability is poor
  • the transparency of the product is poor or changes over time, and it is not possible to obtain a stable transparent toothpaste as a product at present.
  • Japanese Patent Publication No. 491-11159 discloses a method in which an unsuitable commercially available amorphous ultrafine particulate acid having no abrasive properties is used as a dentifrice base in water or diluted aluminum.
  • the ability to provide the abrasiveness as a toothpaste base It is too expensive, it is easy to damage teeth, it is difficult to obtain a base with excellent transparency, the stability of the obtained base is easy to change, and it is inexpensive to manufacture and industrially. It is difficult to manufacture.
  • the shining force of the whiskers described in JP-A-51-12869 and JP-A-51-84341 is also intended to impart abrasiveness. It is hard to say that the stability of kneading with the transparent kneading ingredients of the toothpaste is sufficient.
  • the invention described in Japanese Patent Publication No. 48-149S5 discloses the physical properties of a microparticle with a refractive index of 1.40 to 1.47, a liquid absorption of 1.5 CC, and a particle size of about 0.
  • a force that discloses a transparent tooth containing a helical force that has: a helical force produced by the method disclosed herein is described below:
  • the specific surface area by the BET method is 150 the specific surface area by CTAB method Ri Ah at 8 2 9 / ni, if this was stored by kneading and wetting agents, Maredo even size rather increased to and save ⁇ , Senri stability deteriorates progressively.
  • the conventional well-known varnish has the following conditions that should be possessed as a dentifrice base: abrasiveness, stability over time, clarity as a transparent dentifrice base, in other words, turbidity.
  • the present inventors have made intensive studies on the abrasive base, transparency and stability over time with respect to the abrasive base having the above-mentioned drawbacks for many years, and as a result, surprisingly, To toothpaste ingredients 1 ⁇ 2
  • the varnish base of the present invention which will be described in detail below, is possessed, a transparent dentifrice having appropriate polishing power and transparency equivalent to that of water and excellent in stability over time can be obtained. I found that I could do it.
  • the term "transparency" means that two kinds of solutions having different refractive indices, for example, glycerin and water are mixed at various appropriate ratios as described later to prepare a dispersion medium having various refractive indices. And during a certain amount of each dispersion medium
  • the present invention has a specific surface area force of 5 to 60 rri / 9 (water-free) by the BET method, and a specific surface area force of 5 to 60 W / (anhydrous) by the CTAB method. has a difference force of specific surface W of the BET method and the CTAB method; 4 0 rrt / 9 (anhydrides) Ri der hereinafter refractive index power; 1.4 2-1 2.4 5 a is toothpaste for shea Li Related to force base.
  • the degassing of the sample was performed at a vacuum degree of Ix100mn140. Run for 60 minutes at C.
  • CTAB cetamide bromide / lemethylammonium
  • the suspension is spun down, and the supernatant ⁇ is taken in a 500-m triangular flask for titration, ion-exchanged water is 50 mi, and the cross hole is 25 m. £, Promono-Noble-Indicator was added, and dioctyl sodium sulphosuccinate solution, which had been previously standardized with CTAB standard solution. Perform titration with).
  • dispersion media having various refractive indices are prepared, and the sample 159 is dispersed in each dispersion medium 55. Degas and mix for 0 minutes.
  • the refractive index and cohesion of the mixture at 25 are measured, and a refractive index-turbidity curve is drawn.
  • the refractive index of the mixture when the impact is minimum is defined as the refractive index of the sample.
  • An Abbe refractometer is used for the refractive index measurement, and an integrating sphere meter is used for the turbidity measurement, and the degree is determined from the transmittance at one sample thickness.
  • polishing weight loss Using horizontal brushing-type polishing ⁇ , place 60% aqueous glycerin aqueous solution containing 25% fine powder on a shin plate with a smooth surface, and apply a load of 500 After polishing $ 800 with the removal of $ ⁇ , measure the weight loss of the plate, and this is defined as the polishing weight loss.
  • the anhydride refers to a crushed powder that has been dried for about 2 hours or more until the crushed fine powder after drying and crushing has a strength of about 105.
  • Alkali metal gates used in the present invention include sodium dium, potassium and lithium silicates.
  • Sodium carbonate is generally used because of its irrefutable cost.
  • a metal halide in the range of 2 to 4 can be used.
  • hydrochloric acid or sulfuric acid is used as an oxidizing agent for the alkali metal gay acid, and these acids are added.
  • a mineral salt of phenolic metal is preferable, for example, a mineral salt of sodium, potassium, etc. Trim, potassium chloride, sodium sulfate, sulfuric acid, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium nitrate, nitrous acid can and this exemplifying the like. Further, with respect to its amount, suitably used in the range of relation S i 0 2 with respect to the 1 0-6 0% by weight of the abrasive sheet re Chikaramotozai .
  • an alkali metal silicate solution is reacted with hydrochloric acid or sulfuric acid in the presence of a decomposing substance. It is preferable to preliminarily contain the aluminum alloy in a metal silicate solution in order to impart the abrasive property of the silicon substrate, but the electrolytic mass, reaction temperature, reaction time, etc. may be appropriately adjusted. The choice does not impede the addition and reaction of hydrochloric acid or sulfuric acid with the electrolyte.
  • the usual method of including an electrolyte substance in an alkali metal silicate solution in advance is as follows: an alkali metal silicate solution having a lysis degree and a composition ratio of each choi; The solution and the solution may be charged simultaneously or separately to an appropriate reaction vessel, or an anolyte metal ion solution prepared by mixing and dissolving an electrolytic solution in advance may be introduced into the reaction.
  • the reaction temperature is preferably set to 60 to 10 crc based on the organic relationship between the electrolytic mass, the rate of addition of the acid in the silica deposition step, etc. under some stirring. .
  • the gist of the method for producing a syrup base of the present invention is that the reaction system is
  • Shi Li force fold-out process in the present invention means a step of out-folding sheet re force A Le force Li metal Ke I salt solution in (S i 0 2) 9 5 % or more, usually this sheet It is preferable that the refining step is carried out within a time period of adding the hydrochloric acid or sulfuric acid within a range of 40 minutes to 4 hours, and the reaction is appropriately performed within the above range from the conditions of the electrolytic mass, the reaction temperature, and the like. It is possible to do this in 1 to 2 hours, which is usually more preferable for production.
  • the neutralization layer of the present invention is a reaction system in which most of the power has been output! ) H 1 0. 0 Power et al pH & 0 ⁇ ⁇ . Was hydrochloric or until the 5 is a step of adding sulfuric acid.
  • a base for tooth brushing that is not very abrasive, a force that does not become large for a long time; a neutralization layer that gives a considerable amount of abrasiveness
  • the filling factor is uncertain. S It is difficult to obtain a base having excellent transparency and little change over time.
  • the present inventors further studied methods for obtaining various transparent polishing bases for polishing with low abrasiveness without such disadvantages, and as a result, as described above, Process in less than 50 minutes
  • the ratio of the addition rate of chlorine ion or sulfuric acid ion in the neutralization step and the leaching step should be at least 5: 5, and aging should be at least 10 minutes or more. And that it is necessary. That is, by performing the neutralization step in a short time and aging at least 10 minutes or more, the physical properties of the above-mentioned silica base itself are remarkably improved, and the quality is stabilized. In addition, productivity can be improved.
  • the refractive index of the transparent toothpaste base (measured in a glycerin-water system) the shown) 1.. 4 2 1.
  • Ru can trigger uniform to 4 5.
  • the reaction system at the end of the reaction When ⁇ Q exceeds 8. Q, the turbidity increases, and the silica base itself becomes too high 7); I don't like it. After that, it is filtered and washed by a usual method, and the obtained silica base is separated from the liquid, dried and pulverized to obtain a product.
  • the varnish base obtained in this manner has a specific surface area of 5 to 60 ni / ⁇ (anhydrous) by the ⁇ method and a specific surface strength by the CTAB method of 5 to 6 0 ⁇ / 9 (anhydride); and has a refractive index of 1.42 to 1.45 in which the difference in specific surface area between the BET method and the CTAB method is 40 rri / 9 (anhydride) or less.
  • It is a base material that is excellent in transparency and has good stability over time, and has an arbitrary polishing property with a polishing loss in the range of 2 to 90 W.
  • a useful varnish as a base can be obtained.
  • the force described in one method for producing the transparent base for the transparent dentifrice of the present invention is 5 to r0 rrl / 9 (anhydrous) Having a specific surface area of 5 to 60 ni / 9 (anhydride) by the CTAB method, and having a specific surface area difference of 40 ⁇ / 9 (anhydrous) between the BET method and the CTAB method.
  • the silica of the present invention in order to adjust the polishing property, or as an index adjusting agent, it is used in an alkali metal gayate solution, hydrochloric acid or sulfuric acid, or sulfuric acid during the reaction process.
  • Aluminum, aluminum chloride, calcium chloride, magnesium chloride or their basic salts, sodium fluoride, potassium fluoride Of course, ammonium fluoride or the like may be added and used.
  • the resulting fine powder has a specific surface area of 17 1 rrt /? For the BET method and a specific surface area of 46 rri / 9 for the CTAB method; the difference in specific surface area between the BET method and the CTAB method is 25 rti / 9 is shown.
  • This resilient base is excellent in transparency; poor in abrasion. Even if it can be used as a thickener for polishing transparent®, it is suitable as an abrasive.
  • the mixture was repeatedly washed and washed with water, dried in a dryer kept at 110 ° C., and then pulverized.
  • the resulting fine powder has a BET specific surface area of 21.5 ni / 9 and a CTAB specific surface area. 8 ⁇ / 9, the differential force of the specific surface area between the BET method and the CTAB method; ⁇ 17 rri /?
  • This silica base is unsuitable for transparent dentifrices because of its low abrasiveness and relatively high viscosity, and its large change over time.
  • Reference example 5 This silica base is unsuitable for transparent dentifrices because of its low abrasiveness and relatively high viscosity, and its large change over time.
  • the reaction was added at a flow rate for 95 minutes to adjust the pH of the reaction system to 10.0.
  • the fine powder series obtained in this way has a BET specific surface area of 8 S
  • the differential force of the specific surface area is 65 rri / 9.
  • This resilient base has appropriate abrasive properties as an abrasive.
  • the fine powder obtained in this way has a BET specific surface area of 208
  • the difference in the specific surface area is 187 rri / 9.
  • This resin base has high abrasiveness but high turbidity and is transparent.
  • the reaction vessel used in Reference Example 1 was charged with sodium silicate (Na, 0 ⁇ 5 ⁇ 1S i 0 2 ) 7 solution 10 containing SiO, 100 , and NaC 17.5 ⁇ 9 ⁇ 9. holding the reaction temperature 8 5 ° C, was added 1 02 min 1 0% sulfuric acid at a flow rate of 3 6 Roh 3 ⁇ 4, the reaction system; and the PH 1 0.0.
  • the product was repeatedly dried and washed with water, dried in a dryer kept at 110 ° C, and pulverized.
  • Fine powder Li Ca obtained by it This, BET method specific surface area 5 9 rri / 9, CTAB method specific surface 3 ⁇ 4 1 6 ni /?, The difference in specific surface area BET method and CTAB method 4 5 ni / 9 is shown.
  • This silica base has an appropriate abrasiveness as a toothpaste abrasive, and has a relatively good transparency immediately after kneading; a large change with time and a transparency during storage There is a disadvantage of losing.
  • This product has appropriate abrasiveness as a toothpaste and relatively low impact immediately after kneading, but has a large change with time and is sufficiently satisfactory as a base for transparent dentifrice. It is not something you can do.
  • the reaction vessel used in Reference Example 1 was charged with an aqueous solution of sodium silicate (Na 20 ⁇ 3.1 S i 0 ') containing Si 0 2 1 1 1 9 / and aC ⁇ 15 $, and the reaction temperature was increased.
  • the reaction system pH was adjusted to 10.0 by adding 10% sulfuric acid at a flow rate of 549 / mn for 76 minutes.
  • the resulting fine powder has a specific surface area of 56 rrl / 9 by the BET method, a specific surface area of 22 rri / 9 by the CTAB method, and a difference of 14 rri / 9 between the BET method and the CTAB method. .
  • This varnish base has appropriate polishing properties, is excellent in transparency, has little change over time, and has excellent properties as a base for transparent dentifrice.
  • the refractive index indicates the refractive index immediately after kneading
  • the turbidity after 5 days indicates the refractive index immediately after kneading.
  • the syrup base of the present invention is used for a transparent toothpaste, it can be kneaded with a transparent kneading component.
  • a transparent line component it is necessary to provide an appropriate fluidity as a toothpaste.
  • Wetting agents include glycerin, sorbit- / re, polyethylene glycol, dextrin, and water. Examples thereof include propylene glycol and 7fa, and examples of the binder include carboxymethylcellulose and sodium alginate. be able to.
  • the resin base of the present invention exerts its effect most in the production of a transparent toothpaste having an arbitrary abrasiveness.
  • ordinary transparent toothpaste can be used by adding from toothpaste attached to teeth to toothpaste for children.
  • the resulting fine powder series shows a specific surface area of S1 rri / 9 by the BET method, a specific surface area of 15 rri / ⁇ by the CTAB method, and a differential force of 16 between the specific surface areas of the BET method and the CTAB method.
  • Brush loss 2 0.6 W
  • flattening rate ⁇ .4 S7 minimum flatness 0.26
  • reaction system was added for 9 S minutes to make ⁇ 100. Then added 1 0% sulfuric acid at a flow rate of 2 5.5 / m, the reaction system after one sixth of: stopping the addition of acid can and pH was Tsu Na to 6.7, followed by aging the or 5 0 min.
  • the resulting fine powder has a specific surface area of 52 ni / 9 for the BET method, 19 ni / 9 for the GTAB method, and a difference of 5 Snt /? Between the BET method and the GTAB method. Shows polishing loss, refractive index
  • the fine powder silica thus obtained has a specific surface area of 58 ni / 9 by the BET method, a specific surface area of 25 ni / 9 by the CTAB method, and a differential force of the specific surface W between the BET method and the CTAB method: 15 rri / 9 indicates, has abrasive loss 1 7. 8 W, refractive index 1.4 3 6, and a minimum of 0.1 6 transparent dentifrice base material for a suitable abrasive and transparency, and less characteristic change with time Having.
  • the fine powder series obtained in this way has a BET method specific surface area of 55 rri / 9, a CTAB method specific surface area of 42 ⁇ / 9, and a BET method and a CTAB method.
  • the product of the present invention has excellent properties especially as a base for transparent dentifrice, and that the product according to the present invention is particularly suitable for a varnish base having extremely high abrasiveness. If you want a transparent dentifrice with even better transparency and long-term storage stability, among various wetting agents, Solbit-Nore and E.
  • humectants and water selected from the group such as Rieti Glico-Luca achieves its purpose.
  • aqueous glycerin solution containing the cerium base SD% obtained in Example 1 , a sonorebit-nore water solution, and a polyethylene glycol are described.
  • Table 2 shows the long-term changes over time in the refractive index and turbidity measured with a 400-mL aqueous solution.
  • the transparent dentifrice comprising the silica base of the present invention, a wetting agent selected from the group consisting of sodium and polyethylene, and a water-based dentifrice and water is disclosed in US Pat. It can be seen that they are particularly excellent in transparency and long-term storage stability.
  • Table 5 shows the refractive index and turbidity of currently available transparent dentifrices.
  • the transparent dentifrice using the syrup base of the present invention is much more excellent in transparency than the commercially available transparent dentifrice.

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Description

明 細 書 歯磨用 シ リ 力基剤及びその製法 技 術 分 野
本発明は歯磨用 シ リ 力基剤に関する。 殊に、 従来にない優れ た透明性と その経時安定性に富み、 且つ所望する研磨力を有す る透明歯磨用 シ リ 力基剤に関する。
背 景 技 術
透明歯磨はその透明度から く る清涼感から歯をきれいにする と い う イ メ ー ジを高め、 近年、 種々 の製品が開発され、 市販さ れている力；、 この透明歯磨に用いられる シ リ 力基剤は、 透明感 を附与するため歯磨基剤と して本来の 目的を逸脱した斫磨力の ほと んどないものを使用 した り 、 一方透明歯磨の透明性は、 歯 磨の透明練成分と シ リ 力基剤とを練 り合せた時、 両方の屈折率 が近似している こ とが必要である力；、 後者の物性のバ ラ ッ キゃ その安定性が悪い為に、 製品の透明性が悪かっ た り 、 経時的に 変化 し、 商品と して安定した透明歯磨を得る こ とができないの が現状である。
と こ ろで、 透明歯磨用 シ リ 力基剤と して適切な研磨力を有す る シ リ カ基剤の製法はかな り 多 く 提案されている。 例えば、 特 公昭 4 9一 1 1 1 5 9号公報記載の方法は、 歯磨基剤と して研磨性 のない不適切な市販の非晶質超微粒子ケ ィ 酸を水あるいは稀薄 なア ル 力 リ 金属無機塩水溶液の湿潤状態で 5 0 0〜 1 D 0 0て に焼 成し、 粉砕する方法に関する ものである。 この方法によれば、 確かに歯磨用基剤と してその研磨性を附与できる力；、 研磨力が 応々にして高きに過ぎ、 歯を傷つけやすく 、 透明性に優れた基 剤は得難く 、 得られた基剤の安定性も変化し易いも のであ り 、 且つ製造上、 工業的に安価に製造する こ とは困難である。
更にまた、 特開昭 5 1 - 1 2 8 6 9 号及び特開昭 5 1 -〗 3 0 8 4 1 号公報記載の筅明の シ リ 力 も研磨性附与を目的とするものであ る力;、 歯磨の透明練成分との練り 安定性も充分とは言難い。 特 公昭 4 8 - 1 4 9 S 5 号公報記載の発明は、 屈折率 1.4 0〜 1.4 7、 吸 液量 1.5 CC 下、 粒子径約 0. D 1〜0, 5 ミ ク 口 ンの 物性を有する シ リ 力 を含有した透明歯耮を開示する ものである力；、 こ こ に開 示された方法によ り 製造した シ リ 力 の後述する： B E T法によ る 比表面積は 1 5 0 C T A B法による比表面積は 8 2 9/ni で あ り 、 これを湿潤剤と混練して保存した場合、 稀度が保存曰 と と もに大き く 増大し、 線り 安定性が次第に悪化する。
尚、 本発明者らの一人は、 特公昭 4 9 - 8 6 4 0号公報及び特公 昭 5 2 - 1 5 0 7 8 号公報に於て、 弗素イ オ ンを介在させるこ とに よ り 、 シ リ カ の屈折率を調整する方法を提案したが、 透明歯磨 用基 iftと し透明性に若干問題があ り 、 経時安定性も谩れたもの ではな Ώ、つす：。
このよ う に従来の公知の シ リ 力は、 歯磨基剤と して具有すベ き条件である研磨性、 経時安定性、 透明歯磨基剤と しての ¾明 感、 換云すれば濁度のいずれかに於て欠点を有し、 満足すべき も のは存在しなかっ た。
本発明者らは、 上記欠点を有する シ リ 力基剤についてその研 磨性、 透明性と経時安定性に関して長年にわた り綿密な計画の も と に鋭意研究を重ねた結果、 驚く べきこ と に歯磨練成分に ½ 下に詳述する本発明の シ リ 力基剤を舍有させた場合、 適度の研 磨力と水と 同程度の透明性を有し、 且つ経時安定性に優れた透 明歯磨を得る こ とができ る こ と をつき と めた。
本発明において透明性とは.、 後述の如 く 屈折率の異なる二種 の溶液、 例えばグ リ セ リ ン と水と を種々適当な割合で混合し、 種々の屈折率を有する分散媒を調整し、 各分散媒の一定量中に
—定量の シ リ カ基剤を混合分散させ、 必要に応じて脱気し、 各 々 の屈折率と濁度を測定し、 こ の両方をパ ラ メ - タ - とする曲 線を描き、 その曲線の最小濁度をも っ て表わすが、 この透明性 に関与する要因について本発明者らはあらゆる角度から細部に わた っ て鋭意研究を行な っ た結果、 シ リ 力基剤自体が有する細 孔が大き く 関与する こ と をつき と め、 本発明を完成したも ので あ 。
発 明 の 開 示
即ち、 本発明は B E T 法によ る比表面積力； 5 〜 6 0 rri/9 ( 無 水物 ） であ っ て、 且つ C T A B 法によ る比表面積力； 5 〜 60 W/ ( 無水物 ） を有し、 B E T 法と C T A B 法の比表面 Wの差力; 40 rrt/9 ( 無水物 ） 以下であ り 、 屈折率力； 1.4 2〜1·4 5である歯磨用 シ リ 力基剤に関する。
そこで先ず、 本発明を更に詳細に説明するに当 り 、 本発明に 用いる用語、 Β 'Ε Τ 法に よ る比表面積、 C T A B法によ る比表 面積、 屈折率及び研磨減量について説明する。
1 ) B E T法によ る比表面積測定法
液体窒素を冷却剤に用い、 - 1 9 6て における窒素ガ ス吸着 量から分子断面積を 1 0.2 A と して B E T 法によ り無水物 グ ラ ム当 り の表面積を算出する。
試料の脱ガスは真空度 I X 1 0 mn 1 4 0。Cで 6 0分間行 な う 。
) C T A B 法による比表面積測定法
試料表面に臭化セ チ /レ メ チルア ン モ ニ ゥ ム （ C T A B ) を 水溶液中で飽和吸着させ、 その吸着量から分子断面積を A と して無水物グ ラ ム当 り の表面積を算出する。
水分既知の試料 1 51 を 5 0 0^容共拴付三角フ ラ ス コに秤取 し、 D.5 5 %の C T A B 溶液 1 0 0 7¾2を加え、 0 NaOH 溶液 で: ρΗ 9.0 に調整した後、 マ グネ テ ッ ク ス タ ー ラ ーで 2時間挽 拌する。
その懸濁液を遠心沈降させ、 上澄液 〗 を 滴定用と して 5 0 0 m容三角フ ラ ス コ に取り 、 イ オ ン交換水 5 0 mi 、 ク ロ 口 ホ ル ム 2 5 m£、 プロ モ フ ヱ ノ - ノレ ブル - 指示薬を加え、 予め C T A B標準溶液で標定されたス ル フ ォ コ ハ ク酸ジ ォ ク チ ルナ ト リ ゥ ム溶液 （ ェ - ロ ゾ /レ 0 T ) で滴定を行な う 。
ク ロ ロ ホ ル ム麿が無色にな り 、 水層が嘗かに藤色がかつ た 時点を終点と してヱ - 口 ゾル 0 T溶液の滴定量 V, OT を求める c 次いで吸着操作前の C T A B溶液の 〗 0 j?lf を同様の操作で 滴定を行ない、 ェ - 口 ゾノレ 0 T溶液の滴定量 ^ j ^を求める。
無水物グ ラ ム当 り の表面稹 （ S 9 ) を次式によ り算出す る
5.7 8 X ( Vx - V ) X a
S =
X 但し、 X ： 試料の無水物渙算量 （ ） a ： ェ -ロゾ A溶液 1 m に相当する C T A B量（w) s ) 屈 折 率
グ リ セ リ ン と水を適当量混合し、 種々 の屈折率をもつ分散 媒を調整し、 各分散媒 5 5 中に試料 1 5 9 を分散させ、 真 空攪拌 i 潰機を用いて 1 0 分間 脱泡混合させる。
こ の混合物の 2 5 における屈折率と 凝度を測定し、 屈折 率 - 濁度曲線をえがき、 衝度が最少と なる時の混合物の屈折 率を試料の屈折率とする。
屈折率測定には、 ア ッ ベの屈折計を用い、 濁度測定には、 積分球式^度計を用い、 試料厚み 1 観の と きの透過度から 度を求める。
) 硏 磨 减 量
水平住復ブ ラ ッ シ ング式研磨^を使用 し、 微粉末シ リ 力 25 %を含む 6 0 % グ リ セ リ ン水溶液を表面平滑な しんち ゆ う 板 上に載せ、 荷重 5 0 0 $^ をカゝけて 1 8 0 0 0回研磨した後、 しん ち ゆ う 板の減量を測定し、 これを研磨減量とする。
尚、 本発明に於て無水物とは乾燥紛砕後の微粉末 シ リ 力 を 1 0 5てでほぼ怛量になる まで大略 2 時間以上乾 ' した シ リ 力 を言 う 。
本発明の歯磨用 シ リ 力基剤の製法について詳細に説明する。 本発明に用レ、られる ア ル 力 リ 金属ゲ イ 酸塩と しては、 ナ ト 'J ゥ ム 、 力 リ ゥ ム及び リ チ ウ ム の ケ ィ 酸塩を挙げる こ と力；で き る力；、 比駁的安価な点からケ ィ 酸ナ ト リ ゥ ムが一般的であ る。 そのモ ル比、 艮 [3ち Si ° x20 t 但し、 Xはア カ リ 金属を 示す ） は、 2 ~ 4 の範囲のァ ノレ力 リ 金属ゲ イ 酸塩を用いる こ とができる。 また本発明においてア ル 力 リ 金属ゲ イ酸氇の酸 性化剤と して塩酸または硫酸を用いるが、 これらの酸を添加 する際のア ル力 リ 金属ゲイ 酸塩溶液の S i Oz 濃度に 関しては、 5 〜 1 5 重量 ％程度また酸濃度も 5 〜 1 5 重量％程度が製造 上好ま し く 、 原料濃度は他の条件を適宜選択する こ とによ り この範囲内で目的とする本発明の シ リ カ基剤の物性を附与す る こ とができる。
次いで、 本発明に使用する電解質物質と しては、 ァノレ カ リ 金属の鉱酸塩が好ま し く 、 例えばナ ト リ ゥ ム 、 力 " ゥ ム等の 鉱酸塩であ り 、 氇化ナ ト リ ウ ム 、 塩化カ リ ウ ム 、 硫酸ナ ト リ ゥ ム 、 硫酸力 ひ ゥ ム 、 炭酸ナ ト リ ウ ム 、 炭酸カ リ ウ ム 、 硝酸 ナ ト リ ゥ ム 、 硝 ¾力 リ ゥ ム等を例示する こ とができる。 又、 その使用量に関しては、 シ リ 力基剤の研磨性との関係から S i 02 に対して 1 0 〜 6 0 重量％の 範囲内で適宜用いられる。
と ころで本発明は、 先ず ¾解質物質の存在下でア ル力 リ 金 属ケ ィ酸塩溶液と塩酸または硫酸とを反応させる ものである が、 その実施 II様と して電解質^質を予めア ル力 リ 金属ゲイ 酸塩溶液に舍有させる こ とが、 シ リ 力基剤の研磨性を附与す る こ とから好ま しいが、 電解質量、 反応温度、 反応時間等を 適宜選択する こ とによ り 、 塩酸又は硫酸に電解笪を添加し、 反応させる こ とをさまたげる ものではない。 電解質物質を予 めア ル力 リ 金属ゲイ 酸塩溶液に含有させる通常の , 様と して は、 先す各崔の渙度と組成比を有するア ル カ リ 金属ケィ酸塩 溶液と電解質物質溶液と を同時にも し くは別個に適当な反応 槽に仕込んでも よいし、 予め電解貧を混合溶解せしめたァノレ 力 ' I 金属ゲ イ 酸塩溶液を反応 に導入しても よい。 尚、 導入 に際し所望する シ リ 力基剤の研磨性との兼ね合いから、 充分 なる攪拌下のも と で電解質量、 シ リ カ折出工程での酸の添加 速度等との有機的な関連のも とで反応温度は、 6 0〜 1 0 crcで 行 う のが好ま しい。
さて、 本発明の シ リ 力基剤の製法の骨子は、 反応系 を
1 0. 0 と する までの シ " 力折出工程と反応終了時； H を 8. 0〜 6. 5 と する中和工程の二工程からな り 、 且つ中和工程と シ 1】 力折出工程の塩素ィ ォ ンまたは硫酸ィ ォ ンの添加速度比が少 な く と も 5 ： 5 であ り 、 且つ中和工程を 5 D 分以内で行い、 少な く と も 1 0 分以上熟成する こ と にある。
本発明でい う シ リ 力折出工程とは、 ア ル力 リ 金属ケ ィ 酸塩 溶液中の シ リ 力 （ S i 02 ) を 9 5 %以上 折出させる工程をいい、 通常この シ リ 力折出工程は塩酸または硫酸の添加時間を 4 0 分〜 4 時間の範囲内で行な う のが好ま し く 、 電解質量、 反応 温度等 との条件から上記範 l¾内で適宜反応させる こ とができ、 通常工業的には 1 〜 2 時間で行 う のが生産上よ り 望ま しい。
と ころで、 本発明の中和ェ裎は、 シ '） 力 の大部分が折出し 終っ た反応系 ！) H 1 0. 0 力 ら pH & 0 ~ ό. 5 になる までの塩酸ま たは硫酸を添加する工程である。 研磨性のそれ程 く ない歯 磨用 シ リ 力基剤を製造する場合、 大きな間 ^とはならない力；、 かな り 髙ぃ^磨性を^与したい場合、 中和ェ ¾： ^間かけ た り 、 また熟成時間が短かすぎる と その埋由は定か ない力 S 透明性に優れ、 経時変化の少ない シ リ 力基剤が得難く なる。
そこで本発 者らは、 このよ う な欠点のない低斫磨性から 高研磨性の多様な透明鹵磨用 シ リ 力基剤を得る方法につき更 に検討を加えた結果、 上述の如き中和工程を 5 0 分以内で行 ない、 且つ中和工程と シ リ 力折出工程の塩素イ オ ンまたは硫 酸イ オ ン の添加速度比が少な く と も 5 ： 5 で行ない、 少な く と も 1 0 分以上熟成する こ とが必要である こ と を見い出した。 即ち、 中和工程を短時間で行なわしめ、 少な く と も 1 0 分 ¾上熟成する こ とによ り 、 前述の シ リ 力基剤自体の物性は著 しく 改善され、 品質は安定化し、 加えて生産性の向上を図る こ とができる。
と ころで . 中和工程で反応系 を 8. 0〜 <5. 5 に するこ とに よ り 、 透明歯磨用 シ リ 力基剤の屈折率 （ グ リ セ リ ン ー水系で 測定した値を示す ） を 1. 4 2〜 1. 4 5に均一化させるこ とができ る。 反応系 力； 6. 5 を 下廻る と 屈折率のノく ラ ツ キ よ り 、 透明歯磨用 シ リ 力基剤を得る こ とができない。
また、 反応終了時の反応系： ρΗが 8. Q を 上廻る と 濁度が高 く な り 、 しかも シ リ カ基剤自体の ΡΗ 7); 高く な り すぎて、 歯 磨用基剤と して好ま し く ない。 その後は、 通常の方法によ り 萨過、 水洗を行ない、 得られたシ リ カ基剤を液から分離し、 乾燥、 粉砕して製品とする。
このよ う に して得られたシ リ 力基剤は、 Β Ε Τ法による比 表面積が 5 〜 6 0 ni/ ^ ( 無水 ¾ ) 且つ C T A B法によ る比表 面 ¾力； 5 〜 6 0 ηί/9 ( 無水物 ） を有し、 且つ； B E T法と C T A B法の比表面積の差が 4 0 rri/9 ( 無水物 ） 以下を示す屈折 率 1. 4 2〜1· 4 5 を有するものであり、 透明性に優れ、 且つ経時 安定性の良好な基剤であ り 、 研磨減量が 2 〜 9 0 W の 範囲内 にある任意の研磨性をもつ殊に、 透明歯磨用 シ リ 力基剤と し て有用な シ リ 力を得る こ とができる。 以上、 本発明の透明の透明歯磨用 シ リ 力基剤の一製法につ いて記載した力；、 別の製法にて B E T法によ る比表面積が 5 〜 ό 0 rrl/9 ( 無水物 ） 、 且つ、 C T A B法に よ る比表面績カ； 5〜 6 0 ni/9 ( 無水物 ） を有し、 且つ、 ； B E T法と C T A B 法の比表面積の差が 4 0 ηί/9 ( 無水物 ） 以下を示す シ リ 力基 剤が得られる と しても、 その基剤が透明性並びに経時安定性 に優れたも のである こ と 明白である。
更にまた本発明の シ リ 力 を製造するに際しては、 研磨性を 調整するために、 あるいは屈折率調整剤と してア ル 力 リ 金属 ゲイ酸塩溶液あるいは塩酸または硫酸等にあるいは反応過程 時に硫酸ア ル ミ ニ ウ ム 、 塩化ア ル ミ ニ ウ ム 、 塩化カ ル シ ウ ム、 塩化マ グ ネ シ ウ ムあるいはこれらの塩基性塩、 弗化ナ ト リ ゥ ム 、 弗化カ リ ウ ム 、 弗化ア ン モ ニ ゥ ム等を添加し使用し う る こ とは勿論である。
そこで本発明の歯磨用 シ リ 力基剤の特微を明瞭にするため、 参考例との関係に於て示せば次の如 く である。
参考例 1.
1 5 0 MI の タ - ビ ン翼を有する攪拌機を設けた 2 0 ^容 の邪魔板付き反応容器に Si02 1 1 0 を含有するケ ィ 酸ナ ト リ ゥ ム （ Na20. 5.2 Si02 ) 水溶液 1 0 を入れ反応温度を 7 5 に保持し、 1 1 %硫酸を 5 7 9/^ の流速で 6 5 分間添加し、 反応系 pH を 1 0.0 と した。 次いで 1 1 %硫酸を 9 6 ？ mの流 速で添加し、 1 2 分後に反応系 ； pH力； 7.8 と な っ たと き 酸 の 添加を止め、 そのま ま 20 分間 熟成した。
過、 水洗を繰 り 返し 〗 1 0 °cに保っ た乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
こ う して得られた微粉末シ リ 力は、 B E T法比表面積 1 71 rrt/?、 C T A B法比表面積 1 46 rri/9、 ； B E T法と C T A B法 の比表面積の差が 25 rti/9 を示す。
この シ リ 力基剤は、 透明性に優れている力；、 研磨性に乏し く 、 透明 ®磨用の増粘剤と して使用出来ても研磨剤と しては 个適でめ る。
参考例 2.
参考例 1 で使用 した反応容器に Si02 9 0 ？/^、 aC^ 1 1 を舍有するケィ 駿ナ ト リ ウ ム （ Na20 · 5· 1 SiO, ) 水溶液 1 0 を入れ、 反応温度 6 5 °C に保持 し 9 % ¾酸を 176 9/m の流速で 2 1 分間添加し、 反応系 pHを 1 0.0 と した。 次いで ？ %硫酸を 5 2 9/mの 流速で添加し、 4 6 分後に反応系 が 5.8 に な っ たと き酸の添加を止め、 そのまま 1 5 分間熟成し た。
^過、 水洗を猱り 返し、 1 1 0てに保っ た乾燥機中で乾.燥後 微粉砕した。
こ う して得られた微粉末シ リ 力は B E T法比表面積 2 1 5 ni/9、 C T A B法比表面積 ？ 8 ηΐ/9、 ； B E T法と C T A B法 の比表面積の差力； 〗 1 7 rri/? を示す。
この シ リ カ基剤は、 研磨性が低く ¾度も比較的高く 、 且つ、 経時変化が大きいこ とから透明歯磨用と して不適切である。 参考例 5.
参考例 1 で使用した反応容器に SO: 1 0 09/^、 NaC 25？ を含有するケィ 酸ナ ト リ ゥ ム （ Na:0 ' 2.7 Si02 ) 7j 溶液 10 を入れ、 反応温度 8 0 て に保持し、 1 0 %硫酸を 4 6 9/m% の
流速で 9 5 分間 添加し、 反応系 pH を 1 0.0 と した。
次いで 1 0 % 硫酸を 9 2 9/wi の流速で添加し、 1 7 分後に
反応系 ： PHが 6.2 にな っ たと き、 酸の添加を止めただちに ^過
を行な っ た。
水洗、 過を繰 り 返し、 1 1 CTCに保っ た乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
こ う して得られた微粉末 シ リ 力は、 B E T 法比表面積 8 S
rri/9、 C T A B法比表面積 1 8 ni/9、 B E T法と C T A B法
の比表面積の差力； 6 5 rri/9 を示す。
この シ リ 力基剤は、 研磨剤と して適切な研磨性を有してい
る力；、 衝度が高く 経時変化も大であ り 、 透明歯磨用基剤と し
て不適である。
参考例 4
参考例 〗 で使用した反応容器に Si02 9 5 Z 、 NaC δ 5
9/^を含有するケ ィ酸ナ ト リ ゥ ム （ Na20 · 5.1 Si 02 )水溶液 10
を入れ、 反応温度 9 5 に保持し、 1 0 %硫酸を 5 6 9/m
の流速で添加し、 8 9 分後に反応系； H力； 5.2にな つ たと き酸
の添加を止め、 そのま ま 1 5 分間熟成した。
t戸過 、 水洗を繰 り 返し 1 1 0てに保っ た乾燥機中で乾燥後、
微粉砕した。
こ う して得られた微粉末 シ リ 力は、 B E T法比表面積 208
ni/9、 C T A B 法比表面積 2 〗 nl/ 9、 B E T法と C T A B法
の比表面積の差が 1 8 7 rri/9 を示す。
この シ リ 力基剤は高い研磨性を有するが濁度が高く 、 透明
O PI
VIPO AJ 歯磨用基剤と して不適切である。
参考例 5.
参考例 1 で使用した反応容器に SiO, 1 0 0 、 NaC 1 7.5· 9 ί9 を含有するケィ 酸ナ ト リ ゥ ム （ Na, 0 · 5· 1 S i 02 ) 7 溶液 10 を入れ、 反応温度 8 5 °Cに保持し、 1 0 %硫酸を 3 6 ノ ¾ の 流速で 1 02 分間 添加し、 反応系； PH 1 0.0 と した。
次いで 1 0 %硫酸を 2 69/mn の流速で添加し、 5 2 分後に反 応系： PH力； 6.5 に な っ たと き 酸の添加を止め、 そのまま S O 分間熟成した。
戸過、 水洗を り 返し、 1 1 0てに保った乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
こ う して得られた微粉末シ リ カは、 B E T法比表面積 5 9 rri/9、 C T A B法比表面 ¾ 1 6 ni/? 、 B E T法と C T A B法 の比表面積の差が 4 5 ni/9 を示す。
こ の シ リ カ基剤は、 歯磨用研磨剤と して適切な研磨性を有 し、 7 練直後の透明性も比較的良好である力；、 経時変化が大 き く 保存中に透明性を喪失する欠点がある。
参考例 6.
ァ メ リ 力合衆国の某会社が製造し、 市阪している透明歯磨 用 シ リ カ を入手し、 その物性を測定した結果、 B E T法比表 面積 8 7 »^ ? 、 C T A B法比表面積 42 ？ 、 B E T法と C T A B法の比表面積の差は 4 5 ni/ 9 を示す。
この製品は、 歯磨用硏磨剤と しては適切な研磨性を有し、 混練直後の衝度も比較的低いが、 経時変化が大き く 、 透明歯 磨用の基剤と して十分満足出来る も のではない。 本髡明例
参考例 1 で使用した反応容器に Si02 1 1 09/ 、 aC^15$ を含有するゲ イ酸ナ ト リ ゥ ム （ Na20 · 3.1 S i 0' )水溶液 1 0 を入れ、 反応温度 90てに保持し、 1 0 %硫酸を 549/mn の 流速で 76 分間添加し、 反応系 pHを 10.0 と した。
次いで 1 0 %硫酸を 979 n の 流速で添加し、 1 4 分後に 反応系 pH力； 7.2 に な っ たと き 酸の添加を止め、 そのま 20 分間熟成した。
护過、 水洗を繰 り 返 し、 1 1 0 に保っ た乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
こ う し て得られた微粉末シ リ 力は、 B E T 法比表面積 56 rrl/9、 C T A B 法比表面積 22 rri / 9、 B E T法と C T A B法 の比表面積の差が 1 4 rri/9を示す。
こ の シ リ 力基剤は、 適切な研磨性を有し、 透明性に優れ、 且つ経時変化が少な く 、 透明歯磨用の基剤と して優れた特性 を有する。
以上の諸物性及びその他の物性をま とめて示せは、 次の通 り である。
■、·■.、.： ··*· u 第 1 表
Figure imgf000016_0001
注） 屈折率は混練直後の屈折率を示し、 5 日後の濁度は混練直後 の屈折率に於ける; :度を示す。 以上、 参考例 1 〜 6 及び本発明例を掲げて説明したこ とか ら も明確なよ う に、 B E T法によ る比表面積、 G T A B法に よ る比表面積及び B E T 法と C T A B法の比表面積の差の三 条件が透明歯磨用 シ リ カ基剤の物性、 即ち、 その透明性、 研 磨性及び歯磨にした場合の《 時安定性に重要な因子である こ と を示したも のであ り 、 上記三条件の う ち、 どの因子が欠落 しても歯磨用 シ リ 力基剤、 殊に透明歯磨用 シ リ カ基剤と して 望ま し く ない。 本発明のシ リ 力基剤を透明練齒磨に用いる場合、 透明練成 分と混練せしめられるが、 透明線成分と しては、 練歯磨と し ての適度の流動性を附与するために湿滴剤や粘結剤が用いら
OMPI れる。
湿潤剤と してはグ リ セ リ ン 、 ソ ル ビ ト - /レ、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ - ノレ 、 デキ ス ト リ ン 、 フ。ロ ピレ ング リ コ - ル、 7 fa等 を例示でき、 又、 粘結剤と しては、 カ ルボ キ シ メ チ ルセ ル口 - ス 、 ア ル ギ ン酸ナ ト リ ゥ ム 等を挙げる こ とができる。
これら湿潤剤や粘結剤の配合割合や、 他の成分と して洗浄 剤、 香料、 甘味料、 酵素、 その他各種の薬効物の添加につい ては、 当業者なら容易に配合、 調合できる こ と明白である。
本発明の シ リ 力基剤は、 これまでの説明から明らかなよ う に、 任意の研磨性を有する透明練歯磨の製造に於て最もその 効果を発揮する ものである。
一般の透明歯磨 も ちろんのこ と 、 歯牙に付着したャニ琅 り 用から、 子供用の歯磨まで添加し、 使用 し う る こ と は勿論
*ίめ る 。
以下に本発明の実施例を挙げ、 更に説明する力；、 本発明は これら実施例に限定される もので ない。
尚、 実施例中％は特にこ とわらない り 重量％を示す。 実施例 1.
5 5 0 籠 の タ - ビ ン翼を有する視拌機を設けた 2 0 0 容 の邪魔板付き反応槽に Si 02 〗 0 0 9/ 、 NaC-e 2 0 9/^ を舍 有するケ ィ 酸ナ ト リ ウ ム （ Na20 · δ.1 SiO: ) 水溶液 1 0 5 を 投入し、 反応温度 8 7 に保持し、 1 0 %硫酸を 0.3 8 /ま の流速で 1 0 2 分間 添加し、 反応系 pHを 1 0.0 と した。 次レ、 で 1 0 %硫酸を 0.8 S ,νϋη の流速で添加し、 1 6 分後に反応 系 ： Η 力； 7.1 に な っ た と き 酸の添加を止め、 そのま 1 5 分 間熟成した。
萨過、 水洗を繰 り返し、 1 1 0て に保った乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
こ う して得られた微粉末シ リ 力は、 B E T法比表面積 S 1 rri/9、 C T A B法比表面積 1 5 rri/φ、 B E T 法と C T A B法 の比表面積の差力 1 6 を示し、 硏磨減量 2 0.6 W、 屁折率 ί.4 S 7、 最低潟度 0.26で適切な研磨力と透明歯磨用基剤と し て経時安定性の少ない優れた特性を有する。
実施例 2.
8 5 0 丽 の タ - ピ ン翼を有する ¾拌機を設けた 5 Wの邪 魔板付き反応槽に Si02 9 5 ？/^、 NaC^ 1 0 9 / を 含有する ケィ 酸ナ ト リ ゥ ム C Naz0 · 5.2 Si02 )水溶液 S 0 7 0 を投入し、 反応温度 9 5。C に保持し、 1 0 %硫酸を 1 1.2 Z の流速で
9 S 分間 添加し、 反応系： ρΗを 1 0 0 と した。 次いで 1 0 %硫 酸を 2 5.5 ?/m の流速で添加し、 1 6 分後に反応系： pHが 6.7 にな ったと き酸の添加を止め、 そのま 5 0 分間熟成した。
萨過、 水洗を繰 り 返し、 1 1 0 °Cに侏った乾燥璣中で乾燥後、 蝉粉砕した。 .
こ う して得られた微粉末シ リ 力は、 B E T法比表面積 5 2 ni/9 、 G T A B法比表面積 1 9 ni/9 、 B E T法と G T A B法 の比表面積の差が 5 S nt/? を示し、 研磨減量 、 屈折率
1.4 4 1 、 最低蘅度 0.0 8 で 適切な研磨性を示し、 且つ優れた 透明性と経時変化の少ない特性を有する ものである。
実施例 5.
1 5 0 の タ - ビ ン翼を有する攪拌機を設けた 2 0 ^容 の邪磨板付き反応容器に Si 02 1 1 0 / 、 a2 S 04 5 5 Z を含有するケィ 酸ナ ト リ ゥ ム （ Na20 * 2.8 Si02 ) 水溶液 1 0 を入れ、 反応温度 7 5 に保持し、 1 1 %硫酸を 6 5 9/mnの 流速で 0 4 分間添加し、 反.応系 ！ )H を 〗 0.0 と した。
次いで 1 1 %硫酸を 1 2 5 Λ の流速で添加し、 1 1 分後 に反応系 PH力； 7. ό に な っ た と き 酸の添加を止め、 そのま ^ 1 5 分間 熟成した。
i戸過、 水洗を繰 り 返し、 1 1 0 °cに保 っ た乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
こ う して得られた微粉末シ リ カは、 B E T 法比表面積 5 8 ni/9、 C T A B法比表面積 2 5 ni/9 、 B E T 法と C T A B法 の比表面 Wの差力； 1 5 rri/9 を示し、 研磨減量 1 7.8 W、屈折率 1.4 3 6 , 最低 度 0.1 6 で 透明歯磨用基剤と して適切な研磨 性と透明性を有し、 且つ、 経時変化の少ない特性を有する。 実施例 4.
実施例 5 で使用 した反応容器に S i 02 1 0 0 9/ 、 KC^ 1 5 ノ を含有する ゲ イ 酸力 リ ゥ ム （Κ20 · 5.0 Si02 ) 7_R溶液 1 0 を入れ、 反応温度 . 8 0 に 保持し、 8 %塩酸を 7 8 9/ の流 速で 4 6 分聞添加し、 反応系 ： H を 1 0.0 と した。 次いで 8 % 塩酸を 1 5 5 m の 流速で添加し、 9 分後に反応系 ： Hが 0.8 にな っ たと き' の添加を止め、 そのま ^ 2 0 分間熟成した。
护過、 水洗を繰り 返し、 1 1 0 に侏っ た乾燥機中で乾燥後、 微粉砕した。
こ う して得られた微粉末シ リ 力 は、 B E T 法比表面積 5 5 rri/9 、 C T A B 法比表面積 4 2 ηΐ/9、 ： B E T 法と C T A B 法
ΟΜΡΙ
7 、：" の比表面積の差が 1 1 ri/9 を示し、 研磨減量 6. 8 W、 屈折率 1. 4 4 2 、 最低衝度 0. 0 4 で 透明歯磨用基剤と してほどよい研 磨性と優れた透明性を示し、 且つ経時安定性の良好な特性を 有する。
以上の実施例からも本発明品が、 殊に透明歯磨用の基剤と して優れた特性を有しているこ とが判るカ 、 かな り高い硏磨 性を有する シ リ 力基剤において透明性と長期間の保存安定性 の更に優れた透明歯磨を所望する場合には、 種々の湿潤剤の 中でも 、 ソ ル ビ ト - ノレ 、 ホ。 リ エチ レ ングリ コ - ルカ》ら選択さ れた湿潤剤及び水を使用する こ とによ り 、 その目的を達成出 来る。
以下、 更に詳し く 説明するために実施例 1 で得られたシ リ 力基剤 S D % を含有する グ リ セ リ ン水溶液、 ソ ノレ ビ ト - ノレ水 溶液、 ポ リ エ チ レ ング リ コ - ル 4 0 0水溶液で 測定した屈折率 と濁度の長期間の経時変化を第 2 表に掲げる。 第 2表
Figure imgf000020_0001
5 0 °C において 1 0 0 日間保存後の濁度 第 2表に 示す通り 、 湿潤剤がグ リ セ リ ン水溶液の場合
1¾ 期間の保存中に透明性を僅かに喪失する欠点を有する力；、 ソ ル ビ ト - ル水溶液、 ポ リ エ チ レ ン グ リ コ - 4 0 0 水溶液の 場合、 長期間の保存においても透明性が全 く 変化しない。
こ のこ と力 >ら、 本発明の シ リ カ基剤と ソ /レ ビ ト - /レ、 ポ リ エ チ レ ンダ リ コ - ルから選択された湿潤剤及び水からなる透 明歯磨は、 透明性と 長期間の保存安定性に特に優れている こ とが判る。
参照例 1.
現在市販されている透明歯磨についてその屈折率と濁度を 示せば、 第 5 表の通 り である。 第 5 表
Figure imgf000021_0001
如上の説明及び上表から明らかな通 り 、 本発明 シ リ 力基剤 を使用 した透明歯磨は、 市販透明歯磨に比べて、 その透明度 に於て、 格段に優れている こ とが判る。

Claims

請 求 の 範 囲
1. B E T法による比表面積が 5〜6 0 ( 無水物 ） 、 C T A B法による比表面積が 5 〜 6 0 ηί/9 ( 無水物 ） であ り 、 且つ、 Β Ε Τ法による比表面積と C T A B法による比表面積の差が 4 0 ( 無水物 ） 以下である屈折率 1.42〜1.4 5を有する歯 磨用 シ リ 力基剤。
2. ア ル力 リ金属ゲ イ酸塩溶液を電解質物質の存在下で塩酸ま たは硫酸と反応させる工程が反応系 を 1 0.Q とするまでの シ リ 力析出工程と反応系！ )Ηを 8.0〜 5 とする 中和工程と力 > らな り 、 中和工程と シ リ 力析出工程の塩素イ オ ンまたは硫酸 イ オ ン の添加速度比が少な く と も 5 ： 5 であ り 、 且つ中和ェ 程を 5 0 分以内で行ない、 少な く と も 1 0 分以上熟成する こ とを特徴とする歯磨用 シ リ 力基剤の製造方法：.
5. 電解質物質を予めア 力 リ 金属ゲイ酸塩溶液に含ませてな る特許請求の範囲第 2 項記載の方法。
ア ル カ リ 金属ゲイ酸塩溶液の si0 i20 モ ル比 （ 但し Xはァ ルカ リ 金属 ） が 2 〜 4 である特許請求の範囲第 2 項記載の方 iS o
5. 塩酸または硫 ¾添加前のア ル 力 リ 金属ゲ イ酸氇溶液の SiOz 濃度が 5 〜 1 5 重量％である特許請求の範囲第 2 項記載の方 法
6. 電解質物質がア ル力 リ 金属の鉱酸塩である特許請求の範囲 第 2 項記載の方法。
7. 電解質物質の量が Si02に対して 1 0〜6 0重量％でぁる特許 2 1 請求の範囲第 2 項記載の方法。
8. ·塩酸または硫酸濃度が 5 〜 1 5 重量％である特許請求の範 囲第 2 項記載の方法。
9. シ リ 力析出工程における反応温度力； 6 0〜 1 0 0 で ある特 許請求の範囲第 2 項記載の方法。 0. シ リ 力析出工程における塩酸または硫酸の添加時間力； 4 0 分〜 4 時間である特許請求の範囲第 2 項記載の方法。
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