WO1997041632A1 - Electromagnetic actuator and its manufacture - Google Patents

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electromagnetic actuator
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Nippon Signal Co Ltd
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    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
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    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K33/00—Motors with reciprocating, oscillating or vibrating magnet, armature or coil system
    • H02K33/18—Motors with reciprocating, oscillating or vibrating magnet, armature or coil system with coil systems moving upon intermittent or reversed energisation thereof by interaction with a fixed field system, e.g. permanent magnets
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    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass

Definitions

  • the present invention relates to an electromagnetic actuator and a method for manufacturing the electromagnetic actuator, which are miniaturized by using semiconductor manufacturing technology, and more particularly to an electromagnetic actuator and an electromagnetic actuator for preventing disconnection of a drive coil for driving a movable plate.
  • a conventional electromagnetic actuator of this type will be described below using a planar galvanometer mirror as an example.
  • Galvanometer mirrors are used in laser scanners and the like that deflect and scan laser light. The principle is that when a current flows through a movable coil placed in a magnetic field, electromagnetic force is generated in relation to the current and magnetic flux. This generates a torque (torque) proportional to the current.
  • the moving coil rotates to an angle where the torque and the panel force are balanced, and the pointer is swung through the moving coil to detect the presence or absence of current and the magnitude of the current.
  • a reflecting mirror is provided on a shaft that rotates integrally with the movable coil.
  • a moving iron piece is used in place of a moving coil placed in a magnetic field, and a magnetic path is formed by two permanent magnets and a magnetic material provided with four magnetic poles around it. Is configured.
  • the reflecting mirror is swung through the movable iron piece.
  • scans polarized laser light for example, see Kyoritsu Shuppan Co., Ltd. “Practical Laser Technology”, P210-212, published on January 10, 1987, etc.
  • the present inventors have proposed the above-mentioned ultra-small and thin planar type galvano mirror.
  • This planar galvano mirror has a flat movable plate on a silicon substrate, and a movable plate that can swing vertically with respect to the silicon substrate at the center position of the movable plate.
  • the torsion bar that supports the shaft is integrally formed.
  • a plane coil for generating a magnetic field by energization is provided at the peripheral edge of the upper surface of the movable plate, and a total reflection mirror is provided at the center of the upper surface of the movable plate surrounded by the planar coil.
  • a pair of electrode terminals is provided on the side of the silicon substrate that supports the movable plate, and is electrically connected to the planar coil via the toy chamber portion.
  • a pair of permanent magnets is fixed around the movable plate so that a static magnetic field acts on a flat coil portion on the opposite side of the movable plate parallel to the axial direction of the torsional bar.
  • a pair of permanent magnets is arranged above and below each of the opposite sides of the movable portion, and a static magnetic field generated between the pair of permanent magnets crosses the drive coil in a predetermined direction.
  • a magnetic field is formed by a permanent magnet in a direction crossing the plane coil along the plane of the movable plate.
  • the current and magnetic flux density are applied to both ends of the movable plate in accordance with the current density and magnetic flux density of the planar coil in the direction according to the left-hand rule of framing of force
  • a magnetic force acts on the movable plate to rotate the movable plate.
  • the torsion bar is twisted to generate a spring reaction force, and the movable plate rotates to a position where the magnetic force and the panel reaction force are balanced. Since the rotation angle of the movable plate is proportional to the current flowing through the planar coil, the rotation angle of the movable plate can be controlled by controlling the current flowing through the planar coil.
  • the reflection direction of the laser beam incident on the total reflection mirror can be freely controlled, and the displacement angle of the total reflection mirror can be continuously and repeatedly operated. For example, scanning of laser light can be performed.
  • a frame-shaped outer movable plate which is pivotally supported on a silicon substrate via a first torsion bar, and a second torsion bar whose axial direction is orthogonal to the first torsion bar.
  • a two-axis galvanomirror with a flat inner movable plate supported by a movable plate and a total internal reflection mirror in the center of the upper surface of the inner movable plate.
  • the wiring for connecting the planar coil provided on the upper surface of the movable plate to the electrode terminal on the silicon substrate side supporting the movable plate is conventionally composed of one axis and two wires.
  • patterning is performed on the torsion bar.
  • the metal material of the planar coil may break due to metal fatigue due to the repeated torsional motion of the torsion bar when the movable plate is driven, and the galvanomirror may be damaged by the fatigue strength of the planar coil.
  • the problem is that the service life is determined.
  • An object of the present invention is to provide an electromagnetic actuator and a method of manufacturing the same without causing any trouble.
  • a movable plate and a torsion bar for pivotally supporting the movable plate with respect to the semiconductor substrate are integrally formed on the semiconductor substrate, and a drive coil provided on a peripheral portion of the movable plate.
  • at least a part of the torsion bar is formed to be conductive, and an external power supply and a drive coil are electrically connected through the conductive region.
  • the electric wiring of the metal having the polycrystalline structure is eliminated in the torsion bar part, the disconnection failure of the electric wiring due to the metal fatigue caused by the torsional motion of the torsion bar is eliminated. Since the semiconductor substrate used here has a single crystal structure, its life is semi-permanent if used within the elastic limit. Therefore, the life of the electromagnetic actuator can be extended.
  • the entire torsion chamber is preferably made conductive.
  • a reflecting mirror is provided at the center of the movable plate surrounded by the driving coil to form a galvanomirror, a very small and thin galvanomirror can be provided.
  • the movable plate includes a frame-shaped outer movable plate and a flat inner movable plate
  • the torsion bar includes a first torsion bar for supporting the outer movable plate on a semiconductor substrate and the first torsion bar.
  • a second torsion bar having an axial direction orthogonal to the torsion bar and supporting the inner movable plate inside the outer movable plate; a first drive coil provided on an upper surface of the outer movable plate;
  • a second drive coil is provided at a peripheral portion of the upper surface of the inner movable plate, and the second drive coil is provided at a central portion of the inner movable plate surrounded by the second drive coil.
  • the galvano mirror was constructed with a reflector.
  • a galvano mirror having a two-axis structure can be formed, and there is an advantage that deflection scanning of laser light or the like can be performed two-dimensionally.
  • the first and second tone chambers are divided into two parts which are close to each other and electrically insulated from each other and are made conductive.
  • a method for manufacturing an electromagnetic actuator comprising a step of forming a drive coil around the upper surface of a plate and a step of fixing a magnetic field generating means for applying a static magnetic field to the drive coil, only a portion where a tone ymber is formed is reduced.
  • a movable plate is formed by the anisotropic etching, and when forming a drive coil, both ends of the conductive region are simultaneously formed. Then, an electrode terminal portion for connecting the conductive region to the external power supply side and the drive coil side is formed.
  • any one of boron, aluminum, gallium and indium is used as the P-type impurity.
  • the portion where the torsion bar is formed has a high concentration of a P-type impurity such as boron, aluminum, gallium or indium, and diffuses the conductive region.
  • a P-type impurity such as boron, aluminum, gallium or indium
  • the etching speed is extremely low with a specific etchant. As a result, the torsion bar forming portion remains, and a torsion bar having a conductive region can be formed.
  • the volume resistivity of the conductive region of the torsion bar thus formed is
  • a planar ultra-small and thin galvano mirror can be formed.
  • FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of an electromagnetic factory according to the present invention.
  • FIG. 2, c 3 FIG is a configuration diagram of Toshi Yo members portion of the same first embodiment is an explanatory view of a manufacturing step of the same first embodiment.
  • FIG. 4 is a configuration diagram showing a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a configuration diagram of a torsion bar portion of the first embodiment of the same.
  • C FIG. 6 is a configuration diagram of a main part of a third embodiment of the present invention.
  • FIGS. 1 and 2 show the configuration of a first embodiment in which the present invention is applied to a one-axis galvanomirror as an electromagnetic actuator according to the present invention.
  • a galvanomirror 1 has upper and lower glass substrates 3 and 4 made of, for example, glass borate, as shown by arrows in the figure, respectively, on upper and lower surfaces of a silicon substrate 2. Anodically bonded to form a three-layer structure.
  • Each of the glass substrates 3 and 4 has a structure in which grooves 3 A and 4 A formed by, for example, ultrasonic processing are provided at the center, thereby forming the silicon substrate 2 on the silicon substrate 2 described later.
  • the movable space for the movable plate 5 is secured.
  • the silicon substrate 2 has the above-mentioned flat plate-shaped movable plate 5 and a movable plate 5 pivotally supported at a center position of the movable plate 5 so as to be vertically swingable with respect to the silicon substrate 2.
  • the conductive torsion bars 6, 6, which are a feature of the present invention, are integrally formed by anisotropic etching. The configuration of the torsion bars 6, 6 will be described later in detail with reference to FIG.
  • a copper thin film that generates a magnetic field when energized is The planar coil 7 and the electrode terminal 31 as the drive coil of the film are formed by using an electrode coil method or the like. At the center of the upper surface of the movable plate 5 surrounded by the plane coil 7, a total reflection mirror 8 as a reflecting mirror is formed by aluminum vapor deposition. A pair of electrode terminals electrically connected to the electrode terminals 31 of the planar coil 7 via the torsion bars 6 and 6 are provided on the upper side surfaces of the torsion bars 6 and 6 of the silicon substrate 2. 9 and 9 are formed by an electric coil method or the like.
  • Circular permanent magnets 10A, 10B and 11A, 11B are provided on the left and right sides of the upper and lower glass substrates 3 and 4 in the drawing.
  • the permanent magnets 10A and 10B forming a pair are provided so that, for example, the lower side has an N pole and the upper side has an S pole.
  • the permanent magnets 11A and 11B forming a pair have a lower S pole and an upper N pole. It is provided to be a pole.
  • the permanent magnets 10A, 10B and 11A, 11B correspond to static magnetic field generating means.
  • P-type impurities for example, boron are diffused at a high concentration, so that the entire tone bar 6 has conductivity.
  • an electrode terminal 9 for electrically connecting to an external power supply (not shown) is formed in a conductive region shown by a broken line in the figure. Is done.
  • an electrode terminal 31 for electrically connecting to the planar coil 7 on the movable plate 5 is provided in a conductive region shown by a broken line in the figure. Is formed.
  • the planar coil 7 is a conductive transistor. 6 is electrically connected to an external power supply to supply current.
  • the impurity concentration of boron is about 10 2 e / cm 3
  • the volume resistivity of the conductive region of the torsion bar 16 is about 10 3 ⁇ cm, and Since it is extremely low and has high conductivity compared to 2.3 ⁇ 10 5 which is the volume resistivity of the intrinsic semiconductor, it can sufficiently function as a current path. In this way, if the torsion bar 6 is made conductive and a current is supplied to the planar coil 7 via the tone yomb 6 itself, a metal wiring pattern of a polycrystalline structure is provided on the torsion bar 6.
  • the principle of operation of the galvanomirror according to the present embodiment is the same as that of the conventional art, and a description thereof will be omitted.
  • the upper and lower surfaces of the silicon substrate 101 are thermally oxidized to form an oxide film 102 (step a).
  • Step b the oxide film in the portion where the tone ymber is formed on the surface side is removed to form holes 103 for impurity diffusion (step b), and boron is diffused at a high concentration from the holes to form conductive regions 104. Yes (Step c).
  • Thermal oxidation is performed at 1100 ° C. for 1 hour to form an oxide film on the conductive region 104 (d step), and then a SiO 2 film is formed thereon by sputtering (e step).
  • a pattern of a through hole is formed on the back surface by photolithography, an oxide film in the portion of the through hole 105 is removed by etching (step f), and anisotropic etching is performed in the portion of the through hole 105.
  • the movable plate 5 parts Is formed the conductive region 104 is not etched by the P + etch stop action, and the conductive transistor 16 composed of the conductive region 104 is formed at the same time (step g).
  • Al (A1), gallium (Ga), indium (In), or the like is used instead of boron (B) as the P-type impurity, the P + etch stop effect can be obtained. Can be used.
  • phosphorus (P), arsenic (A s), antimony (S b), bismuth (B i ) Etc. can be used.
  • the contact hole 106 is formed by removing the oxide film at the electrode terminal formation portion (step h).
  • step i the planar coil 7 and the electrode terminals 9 and 31 are formed on the surface-side oxide film 102 by a conventionally known electrode coil method.
  • nickel is sputtered on the surface side of the silicon substrate 101 to form a nickel layer, and a copper layer is formed by electrolytic plating or spattering.
  • the portions corresponding to the planar coil and the electrode terminals are masked with a positive type resist, copper etching and nickel etching are sequentially performed, the resist is removed after etching, and copper electrolytic plating is performed.
  • the entire circumference of the nickel layer is covered with copper to form a copper layer corresponding to the plane coil and the electrode terminals.
  • a negative-type plating resist is applied to a portion excluding the copper layer, and then copper electroplating is performed to thicken the copper layer to form a planar coil and electrode terminals.
  • an insulating layer 107 made of, for example, photosensitive polyimide is formed to insulate the second-layer planar coil.
  • This insulating layer 107 is formed excluding the electrode terminal portion and the coil connection portion between the first layer and the second layer (step j).
  • a second-layer planar coil is again formed on the insulating layer 107 by the electric coil method (k step), and an insulating layer 107 of photosensitive polyimide or the like is formed thereon (1). Process).
  • the upper glass substrate 3 and the lower glass substrate 4 are connected to the upper and lower surfaces of the silicon substrate by anodic bonding, respectively, and permanent magnets are provided at predetermined positions of the upper and lower glass substrates 3 and 4. Attach.
  • FIGS. 4 and 5 show a configuration of a second embodiment in which the electromagnetic actuator of the present invention is applied to a galvano mirror having a two-axis structure.
  • the same elements as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals.
  • the two-axis galvanometer mirror 20 includes a movable plate 5 of the silicon substrate 2, a frame-shaped outer movable plate 5 A, and a flat inner movable plate 5 B.
  • the outer movable plate 5A is pivotally supported on the silicon substrate 2 by first torsion bars 6A, 6A.
  • the inner movable plate 5B is supported on the outer movable plate 5A by second torsion bars 6B, 6B formed orthogonal to the first torsion bars 6B, 6B. Is done.
  • an electrode terminal electrically connected to a pair of outer electrode terminals 9A, 9A on the silicon substrate 2 through one portion of the first torsion bar 6A.
  • Electrode terminal 41 electrically connected to the inner electrode terminals 9 B, 9 B on the substrate 2 and a planar coil 7 B as a second drive coil (in the figure, a single line is typically used except for the vicinity of the electrode terminals).
  • Is provided, and a total reflection mirror 8 is formed at the center.
  • it is connected to the planar coil 7B of the inner movable plate 5B via the second torsion bar 6B.
  • Electrode terminal 42 is formed at the coil wiring end of the outer movable plate 5 A part
  • the upper and lower glass substrates 3 and 4 each have a pair of two permanent magnets as a means for generating a static magnetic field of eight pairs each.
  • 10A to 13A and 10B to 13B are arranged as shown.
  • the permanent magnets 10A, 10B and 11A, 11B generate a magnetic field for driving the outer movable plate
  • the permanent magnets 12A, 12B and 13A, 13B generate a magnetic field for driving the inner movable plate. is there.
  • FIG. 5 shows the structure of the first and second torsion bars 6A and 6B of the second embodiment. Note that, since each of the tone members 6A and 6B have the same configuration, here, a toy joint for connecting the flat coil 7A on the outer movable plate 5A side to the electrode terminal 9A is used. The members are explained.
  • conductive regions 104 and 104 are formed at the portion of the tone chamber 6A by diffusion and two impurities being insulated from each other in parallel and spaced apart from each other.
  • each conductive region 104 should be approximately 50 m for the tone chamber 6 A having a width of approximately 300 ⁇ m, and the two conductive regions are formed by element isolation technology in semiconductor manufacturing technology. It is possible to insulate 104 and 104 from each other, and this can be realized without any problem.
  • the second torsion bar 6B for connecting the plane coil 7B on the inner movable plate 5B side to the coil wiring on the outer movable plate 5A has an electrode terminal 9A in FIG.
  • the electrode terminal 31 replaces the electrode terminal 41 instead of the electrode terminal 42
  • the plane coil 7A merely replaces the plane coil 7B.
  • a part may be configured. That is, the intermediate portion of the tone chamber 6A is penetrated and divided into two adjacent chambers 6a and 6b, and each of the chambers 6a and 6b is divided into two. In the same manner as in the first embodiment shown in FIG. 2, b is made into a conductive region by diffusing impurities into the whole.
  • the spring reaction force characteristic due to the torsion bar is different from the structure with one torsion bar force, and the relationship between the magnetic force and the spring reaction force is different from the case with one torsion bar. It has no effect on the operation as a mirror, has the same effect of preventing coil disconnection as in the first and second embodiments, and can extend the life and improve the reliability of the planar galvano mirror. .
  • a conductive region by impurity diffusion may be formed in a part of the transition bar 6 as shown in FIG. Absent.
  • the upper and lower glass substrates 3 and 4 are not necessarily required.
  • the present invention is applied to a planar galvano mirror as an electromagnetic actuator.
  • the present invention can also be applied to an electromagnetic actuator such as the above-mentioned planar electromagnetic relay and a photodetector. Needless to say.
  • the torsion bar portion is made conductive and the external power supply and the drive coil are electrically connected through the conductive region of the torsion bar, so that the torsion bar is twisted. Disconnection failure of the coil energizing wiring due to repetitive movement can be prevented, and the durability and reliability of the planar electromagnetic actuator can be improved.
  • the present invention can improve the durability of this type of ultra-small planar electromagnetic actuator and can improve the life and reliability of equipment to which this type of planar electromagnetic actuator is applied. The above availability is great.

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Description

明 糸田 書
電磁ァ ク チ ユ エ一 夕 及びそ の製造方法
〔技術分野〕
本発明は、 半導体製造技術を利用 して小型化を実現した電磁ァ ク チユエ一夕及びその製造方法に関し、 特に、 可動板を駆動するため の駆動コイルの断線防止を図った電磁ァクチユエ一夕の改良に関す
〔背景技術〕
従来、 半導体製造技術を利用 した超小型の電磁ァ クチユエ— タ と して、 本発明者により先に提案された、 例えばプレーナ型ガルバノ ミ ラー (特願平 5 — 3 2 0 5 2 4号及び特願平 6 — 9 8 2 4 号) 、 プレーナ型電磁リ レー (特願平 5 — 3 2 0 5 2 5号参照) 或いは、 光検出装置 (特願平 6 — 3 1 0 6 5 7号参照) 等がある。
従来のこの種の電磁ァクチユエ一夕について、 プレーナ型ガルバ ノ ミ ラーを例と して以下に説明する。
ガルバノ ミ ラーは、 レーザ光を偏向走査する レーザスキャナ等に 利用される もので、 その原理は、 磁界中に配置した可動コイルに電 流を流すと、 電流と磁束とに関連して電磁力が発生して電流に比例 した回転力 ( トルク) が生じる。 この トルク とパネ力とが平衡する 角度まで可動コイルが回動し、 この可動コイルを介して指針を振ら せて電流の有無や大小を検出するというガルバノ メ一夕の原理を利 用 したもので、 可動コイルと一体に回転する軸に、 前記指針の代わ りに反射鏡を設けて構成される。
従来の実用的なガルバノ ミ ラーと しては、 例えば、 磁界中に配置 する可動コイルの代わりに可動鉄片を用い、 その周囲に 2つの永久 磁石と 4 つの磁極を設けた磁性体とで磁路を構成する。 前記磁性体 に巻回した駆動コイルに流す電流の大小及び方向によって磁極間の 磁束を変化させるこ とによ り、 可動鉄片を介して反射鏡を揺動させ レーザ光を偏光走査するようにしたものがある (例えば、 共立出版 株式会社 「実用 レーザ技術」 , P 2 1 0〜 2 1 2 , 1 9 8 7年 1 2 月 1 0 日発行、 等参照) 。
しかし、 従来のガルバノ ミ ラーでは、 駆動コイルが機械巻き等で あるこ とから小型化するこ とが難し く 、 従って、 このガルバノ ミ ラ 一による レーザスキャニン グシステムや、 このシステムを用いる レ 一ザ応用機器の小型化は難しいという問題がある。
かかる問題を解消するため、 本発明者は、 前述した超小型で薄型 のプレーナ型ガルバノ ミ ラーを提案した。
かかるプレーナ型ガルバノ ミ ラ一について以下に説明する。
このプレーナ型ガルバノ ミ ラ一は、 シ リ コ ン基板に、 平板状の可 動板と、 該可動板の中心位置でシ リ コ ン基板に対して基板上下方向 に揺動可能に可動板を軸支する トーシ ヨ ンバーとを一体形成する。 前記可動板の上面周縁部には、 通電によ り磁界を発生する平面コィ ルを設け、 可動板の平面コイルで囲まれる上面中央部には全反射 ミ ラーを設ける。 可動板を支持するシ リ コ ン基板側には、 ト 一 シ ヨ ン バー部分を介して平面コイルと電気的に接続する一対の電極端子を 設ける。 そ して、 互いに対をなす永久磁石を、 ト ーシ ヨ ンバーの軸 方向と平行な可動板の対辺の平面コィル部分に静磁界が作用するよ う可動板周囲に固定する。 前述の先願例では、 可動部の対辺部分そ れぞれの上下に一対の永久磁石を配置し、 対をなす永久磁石間に発 生する静磁界が駆動コイルを所定方向に横切るように構成してある ( かかるプレーナ型ガルバノ ミ ラーの動作は次のようである。
可動板の両側では、 永久磁石によって可動板の平面に沿って平面 コイルを横切るような方向に磁界が形成されている。 この磁界中の 平面コイルに電流を流すと、 平面コイルの電流密度と磁束密度に応 じて可動板の両端に、 電流 · 磁束密度 ' 力のフ レ ミ ングの左手の法 則に従った方向に磁気力が作用 して可動板が回動する。 一方、 可動 板の回動により ト一シヨ ンバーが捩じられてバネ反力が発生し、 前 記磁気力とパネ反力が釣り合う位置まで可動板が回動する。 可動板 の回動角は平面コイルに流れる電流に比例するので、 平面コイルに 流す電流を制御すれば可動板の回動角を制御できる。
従って、 トーシ ヨ ンバーの軸に対して垂直な面内で、 全反射 ミ ラ —に入射する レーザ光の反射方向を自由に制御でき、 全反射 ミ ラー の変位角を連続的に反復動作させれば、 レーザ光のスキャニングか できる。
また、 シリ コ ン基板に第 1 の トーシヨ ンバーを介して軸支される 枠状の外側可動板と、 前記第 1 の トーシヨ ンバーと軸方向が直交す る第 2の トーシヨ ンバーを介して前記外側可動板に軸支される平板 状の内側可動板とを設け、 内側可動板上面中央に全反射ミ ラーを設 けた 2軸構造のガルバノ ミ ラ一もある。
この 2軸構造のものは、 外側可動板上面の平面コイルと内側可動 板上面の平面コイルの両方に電流を流せば、 外側可動板と内側可動 板が互いに直角方向に回動し、 全反射ミ ラーでレーザ光を偏向走査 すると 2次元的な走査が行える利点がある。
尚、 一方の平面コイルのみ電流を流した場合は、 1 軸構造と同様 の動き となる。
ところで、 この種のプレーナ型ガルバノ ミ ラーの場合、 従来では 可動板上面に設けた平面コイルを可動板を支持するシ リ コ ン基板側 の電極端子に接続するための配線は、 1 軸及び 2軸のいずれの場合 も、 トーショ ンバーの部分にパターニングするようにしている。 このため、 可動板駆動時の トーショ ンバーの捩じれ運動の繰り返 しによつて、 平面コイルの金属材料が金属疲労によつて断線する可 能性があり、 平面コイルの疲労強度によってガルバノ ミ ラーの寿命 が決ま ってしま う という問題がある。
本発明は上記の事情に鑑みなされたもので、 駆動コィルの断線故 障を生じるこ とのない電磁ァクチユエ一夕及びその製造方法を提供 するこ とを目的とする。
〔発明の開示〕
このため本発明では、 半導体基板に、 可動板と該可動板を前記半 導体基板に対して揺動可能に軸支する トーシ ヨ ンバーと一体形成し、 前記可動板の周縁部に設けた駆動コイルと、 該駆動コイルに静磁界 を与える磁界発生手段とを備え、 前記駆動コイルに電流を流すこ と によ り発生する磁気力によ り前記可動板を駆動する構成の電磁ァ ク チユエ一夕において、 前記 トーシ ヨ ンバーの少な く と も一部を導電 性に形成し、 この導電領域を介して外部電源と駆動コイルとを電気 的に接続する構成と した。
かかる構成によれば、 トーショ ンバ一部分に多結晶構造の金属の 電気配線がな く なるので、 トーショ ンバーの捩じれ運動に起因する 金属疲労による電気配線の断線故障がな く なる。 尚、 こ こで用いる 半導体基板は単結晶構造なので、 弾性限界の範囲内の使用であれば 寿命は半永久的である。 従って、 電磁ァクチユエ一夕の寿命を延ば すこ とができる。
また、 前記トーシ ヨ ンバー全体を導電性とするとよい。
また、 前記可動板の駆動コイルで囲まれる中央部に反射鏡を設け てガルバノ ミ ラーとすれば、 超小型で薄型のガルバノ ミ ラー提供す るこ とができる。
また、 前記可動板が、 枠状の外側可動板と平板状の内側可動板と からなり、 前記 トーシヨ ンバーが、 半導体基板に前記外側可動板を 軸支する第 1 の トーショ ンバーと該第 1 の トーショ ンバーと軸方向 が直交し前記外側可動板の内側に前記内側可動板を軸支する第 2の トーシ ョ ンバ一とからなり、 前記外可動板の上面に第 1 の駆動コィ ルを設け、 前記内側可動板の上面周縁部に第 2の駆動コイ ルを設け る と共に当該第 2の駆動コイルで囲まれた内側可動板中央部に前記 反射鏡を設けて構成したガルバノ ミ ラーと した。
かかる構成によれば、 2軸構造のガルバノ ミ ラ一を形成するこ と ができ、 レーザ光等の偏向走査を 2次元的に行える利点がある。
また、 前記第 1 及び第 2の トーン ヨ ンバ一は、 互いに近接し且つ 電気的に絶縁された全体を導電性と した 2本に分割構成するよう に するとよい。
また、 トーンヨ ンバー形成部分を除いて半導体基板の下面から上 面に向けて異方性エッチングによ り貫通させて半導体基板に揺動可 能に軸支される可動板を形成する工程と、 可動板上面周囲に駆動コ ィルを形成する工程と、 駆動コ イ ルに静磁界を与える磁界発生手段 を固定する工程を備えた電磁ァクチユエ一夕の製造方法において、 トーン ヨ ンバー形成部分の少な く と も一部に P型不純物を高濃度に 拡散して導電領域を形成した後、 前記異方性ェッチングにより可動 板を形成し、 駆動コイルを形成する際に、 同時に前記導電領域の両 端部に、 当該導電領域を外部電源側と駆動コィル側にそれぞれ接続 するための電極端子部を形成するようにした。
また、 前記 P型不純物と して、 硼素、 アルミ ニウム、 ガ リ ウム及 びィ ンジゥムのいずれか 1 つを使用するようにした。
このように、 トーシ ヨ ンバー形成部分の少な く と も一部に、 P型 不純物、 例えば硼素、 アル ミ ニウム、 ガリ ウム及びイ ンジウムのい ずれか 1 つを高濃度に拡散して導電領域を形成すると、 異方性エ ツ チングにより可動板を形成する際に、 トーシヨ ンバー形成部分の硼 素が高濃度に拡散された導電領域では、 特定のエッチング液でエ ツ チ ング速度が極端に遅く なり、 トーシ ヨ ンバー形成部分が残って導 電領域を有する ト一シ ョ ンバーが形成できる。
このように形成した トーショ ンバ一の導電領域の体積抵抗率は、
1 0 3 Q c m程度あり、 シ リ コ ン真性半導体の体積抵抗率 2. 3 x 1 0 5 Ω c mに比べて格段に抵抗率が低く 、 駆動コイ ルへの電流供給路と して十分使用するこ とができる。
また、 反射鏡を形成する工程を加えるこ とで、 プレーナ型の超小 型且つ薄型のガルバノ ミ ラーを形成するこ とができる。
〔図面の簡単な説明〕
第 1 図は、 本発明に係る電磁ァクチユエ一夕の第 1 実施例を示す 構成図である。
第 2図は、 同上第 1 実施例の トーシ ヨ ンバー部分の構成図である c 第 3図は、 同上第 1 実施例の製造工程の説明図である。
第 4図は、 本発明の第 2実施例を示す構成図である。
第 5図は、 同上第 1 実施例の ト一シヨ ンバー部分の構成図である c 第 6図は、 本発明の第 3実施例の要部構成図である。
〔発明を実施するための最良の形態〕
以下、 本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第 1 図及び第 2図に本発明に係る電磁ァクチユエ一夕 と して 1 軸 構造のガルバノ ミ ラーに適用 した第 1 実施例の構成を示す。
第 1 図において、 ガルバノ ミ ラー 1 は、 シ リ コ ン基板 2の上下面 に、 図中矢印で示すように、 それぞれ例えばホウゲイ酸ガラ ス等か らなる上側及び下側ガラス基板 3 , 4 を陽極接合して 3層構造と し ている。 前記各ガラス基板 3 , 4 は、 それぞれ中央部に例えば超音 波加工によって形成した溝 3 A , 4 Aを設けた構造と し、 これによ り、 シ リ コ ン基板 2に形成される後述の可動板 5 の揺動空間を確保 している。 前記シリ コ ン基板 2 には、 前述の平板状の可動板 5 と、 この可動板 5 の中心位置でシ リ コ ン基板 2 に対して基板上下方向に 揺動可能に可動板 5 を軸支する、 本発明の特徴である導電性を有す る ト一シ ョ ンバ一 6 , 6 とが異方性エッチングによって一体形成さ れる。 前記 トーシ ョ ンバ一 6, 6の構成については、 第 2図を参照 しながら後で詳述する。
前記可動板 5 の上面周縁部には、 通電によ り磁界を発生する銅薄 膜の駆動コイルとしての平面コイル 7及び電極端子 31が電铸コイル 法等を用いて形成されている。 可動板 5の平面コイル 7で囲まれる 上面中央部には、 反射鏡としての全反射ミ ラー 8がアル ミ ニウム蒸 着によ り形成されている。 シ リ コ ン基板 2の ト ー シ ヨ ンバー 6, 6 の側方上面には、 トーシヨ ンバ一 6 , 6の部分を介して平面コイル 7の電極端子 31と電気的に接続する一対の電極端子 9 , 9が電铸コ ィル法等で形成されている。
上側及び下側ガラス基板 3 , 4の図中左右側には、 前記 トーシ ョ ンバー 6 , 6の軸方向と平行な可動板 5の対辺の平面コィル 7部分 に静磁界を作用させる互いに対をなす円形状の永久磁石 10A, 10B と 11A, 11 Bが設けられている。 互いに対をなす永久磁石 10A, 10 Bは、 例えば下側が N極、 上側が S極となるよう設けられ、 互いに 対をなす永久磁石 11A, 11 Bは、 逆に下側が S極、 上側が N極とな るよう設けられる。 こ こで、 前記永久磁石 10A, 10Bと 11A, 11 B が静磁界発生手段に相当する。
次に、 本発明の特徴である前記トーシヨ ンバ一 6 , 6 について第 2図を参照して詳述する。 尚、 各 トーシヨ ンバ一 6 , 6部分は同様 の構成であるので、 ここでは、 一方の トーシヨ ンバー部分について 説明する。
本実施例の トーシヨ ンバー 6部分は、 P型不純物、 例えば硼素が 高濃度に拡散されて トーンヨ ンバー 6全体が導電性を有している。 そして、 この導電性の トーシヨ ンバー 6の半導体基板 2側端部付近 には、 図中破線で示す導電領域内に、 外部電源 (図示せず) に電気 的に接続するための電極端子 9が形成される。 また、 卜—シ ヨ ンバ 一 6の可動板 5側端部付近には、 図中破線で示す導電領域内に、 可 動板 5上の平面コイル 7に電気的に接続するための電極端子 31が形 成されている。
かかる構成において、 平面コイル 7は、 導電性の ト 一 シ ヨ ンバ— 6 を介して外部電源と電気的に接続されて電流が供給される。 そ し て、 例えば硼素の不純物濃度を約 102 e/ c m 3 とすれば、 前記 ト ー シ ョ ンバ一 6 の導電領域の体積抵抗率は約 10 3Ω c mであり、 シ リ コ ンの真性半導体の体積抵抗率である 2.3 X 105 に比べて極めて低 く 導電性が高いので、 十分に電流通路と して機能するこ とができる。 このように、 トーシヨ ンバー 6 を導電性にし、 トーン ヨ ンバー 6 自体を介して平面コイル 7 に電流を供給する構成とすれば、 ト一シ ヨ ンバー 6上に多結晶構造の金属配線パターンを設ける必要がな く なり、 トーシ ヨ ンバー 6 の捩じれ運動による金属配線の断線故障を な く すこ とができる。 そ して、 半導体基板は単結晶構造なので、 弾 性限界の範囲内の使用であれば寿命は半永久的である。 従って、 プ レーナ型ガルバノ ミ ラ一の寿命が延ばすこ とができ、 信頼性が向上 する。
尚、 本実施例のガルバノ ミ ラーの動作原理は、 従来と同様である ので、 こ こでは説明を省略する。
次に上記第 1 実施例のガルバノ ミ ラーの トーシ ョ ンバ一部分の製 造工程を、 第 2図を参照しながら説明する。
まず、 シ リ コ ン基板 101 の上下面を熱酸化して酸化膜 102 を形成 する ( a工程) 。
次に、 表面側の トーンヨ ンバー形成部分の酸化膜を除去して不純 物拡散用の穴 103 を形成し ( b工程) 、 この穴から不純物の硼素を 高濃度に拡散して導電領域 104 を形成する ( c工程) 。
1100°Cで 1 時間熱酸化して導電領域 104 上に酸化膜を形成し ( d 工程) 、 更にその上にスパッ タ リ ングによって S i 02 膜を形成す る ( e工程) 。
次に、 裏面側にホ ト リ ソ グラフにより貫通穴のパター ンを形成し 貫通穴 105 部分の酸化膜をエッチング除去した後 ( f 工程) 、 貫通 穴 105 部分に異方性エッチングを行う。 これにより、 可動板 5部分 が形成されると共に、 P + エッチス ト ップ作用によ り導電領域 104 はェッチングされず、 導電領域 104 からなる導電性の ト一シ ヨ ンバ 一 6 も同時に形成される (工程 g ) 。 尚、 P型不純物と して硼素 ( B ) の代わりに、 アル ミ ニウム ( A 1 ) 、 ガリ ウム ( G a ) 或いは イ ンジウム ( I n ) 等を用いても P + エッチス ト ップ作用を利用す るこ とができる。 また、 P + エッチス ト ップ作用を利用せずに形成 する場合は、 P型不純物と して、 リ ン ( P ) 、 砒素 (A s ) 、 ア ン チモン ( S b ) 、 ビスマス ( B i ) 等を使用するこ とができる。
次に、 電極端子形成部分の酸化膜を除去してコ ンタ ク トホール 106 を形成する ( h工程) 。
次に、 表面側の酸化膜 102 上に、 従来公知の電铸コイル法によつ て平面コイル 7及び電極端子 9 , 31を形成する (工程 i ) 。
電铸コイル法は、 シリ コ ン基板 101 の表面側にニッケルのスパッ 夕を行ってニッケル層を形成し、 電解めつき又はスパッ 夕によ り銅 層を形成する。 次にポジ型のレジス トで平面コイル及び電極端子に 相当する部分をマスク し、 銅エッチング、 ニッケルエッチングを順 次行い、 エッチング後、 レジス トを除去し、 更に、 銅電解めつ きを 行ってニッケル層の全周を銅で覆い平面コィル及び電極端子に相当 する銅層を形成する。 次に、 銅層を除いた部分にネガ型のメ ツキレ ジス トを塗布した後、 銅電解めつきを行って銅層を厚く して、 平面 コイル及び電極端子を形成する。
次に、 2層目の平面コイルと絶縁するため、 例えば感光性ポリ イ ミ ド等の絶縁層 107 を形成する。 この絶縁層 107 は、 電極端子部と 1 層目 と 2層目とのコイル接続部を除いて形成する ( j工程) 。 次に、 前記絶縁層 107 の上に、 再度電铸コイル法によって 2層目 の平面コイルを形成し ( k工程) 、 その上に感光性ポリ イ ミ ド等の 絶縁層 107 を形成する ( 1 工程) 。
その後は、 可動板 5の上面中央部にアル ミ ニウム蒸着によ り全反 射ミ ラー 8 を形成し、 シ リ コ ン基板の上下面に上側ガラス基板 3 と 下側ガラス基板 4 をそれぞれ陽極接合によって結合し、 上下のガラ ス基板 3, 4 の所定位置に永久磁石を取付ける。
次に、 2軸のガルバノ ミ ラーに適用 した本発明の第 2実施例につ いて説明する。
上記第 1 実施例の 1 軸のガルバノ ミ ラーの場合は、 トーシ ョ ンバ —部分に 1 本の配線があれば足りるが、 2軸のガルバノ ミ ラーでは、 ト 一 シ ヨ ンバ一部分に 2本の配線を必要とする。
第 4 図及び第 5図に本発明の電磁ァクチユエ一夕 と して 2軸構造 のガルバノ ミ ラーに適用 した第 2実施例の構成を示す。 尚、 第 1 実 施例と同一要素には同一符号を付してある。
第 4図において、 2軸のガルバノ ミ ラ一 2 0 では、 シ リ コ ン基板 2の可動板 5力 枠状の外側可動板 5 Aと平板状の内側可動板 5 B とで構成される。 外側可動板 5 Aは、 第 1 の トーシ ヨ ンバー 6 A , 6 Aでシ リ コ ン基板 2に軸支される。 内側可動板 5 Bは、 前記第 1 の ト ー シ ヨ ンバー 6 B , 6 B と互いに直交形成された第 2 の ト 一 シ ョ ンバ一 6 B , 6 Bで外側可動板 5 Aに軸支される。 外側可動板 5 A上面には、 第 1 の トーシ ヨ ンバー 6 Aの一方の部分を介してシ リ コ ン基板 2上の一対の外側電極端子 9 A , 9 Aに電気的に接続する 電極端子 31及び第 1 の駆動コイルと しての平面コイル 7 A (図では 電極端子近傍を除いて模式的に 1 本線で示す) が設けられている。 また、 内側可動板 5 B上面には、 第 2の トーシ ヨ ンバー 6 Bの一方 から外側可動板 5 A部分を通り、 第 1 の トー ン ヨ ンバー 6 Aの他方 側を介してシ リ コ ン基板 2上の内側電極端子 9 B , 9 Bに電気的に 接続する電極端子 41及び第 2の駆動コィルと しての平面コイル 7 B (図では電極端子近傍を除いて模式的に 1 本線で示す) が設けられ る と共に、 中央部に全反射 ミ ラー 8が形成される。 尚、 内側可動板 5 Bの平面コイル 7 Bに第 2の トーシ ョ ンバー 6 Bを介して接続す る外側可動板 5 A部分のコイル配線端部に、 電極端子 42が形成され る
また、 本実施例の 2軸構造の場合には、 上側及び下側ガラ ス基板 3 , 4 には、 2個づっ対となったそれぞれ 8個づつの静磁界発生手 段と しての永久磁石 10A〜13Aと 10B〜13Bが図示のよう に配置さ れる。 永久磁石 10A, 10B と 11A, 11 Bは、 外側可動板駆動用の磁 界を発生させる ものであり、 永久磁石 12A, 12B と 13A, 13Bは、 内側可動板駆動用の磁界を発生させる ものである。
第 5 図に第 2実施例の前記第 1 及び第 2の ト一シ ョ ンバ一 6 A, 6 B部分の構成を示し説明する。 尚、 各 トー ン ヨ ンバ一 6 A, 6 B 部分は同様の構成であるので、 こ こでは、 外側可動板 5 A側の平面 コイ ル 7 Aと電極端子 9 Aを接続する ト 一 シ ヨ ンバー部分について 説明する。
第 5図に示すように、 トーンヨ ンバ一 6 A部分に、 図の一点鎖線 で示すように、 間隔を設けて平行に互いに絶縁して 2つの不純物拡 散による導電領域 104 , 104 を形成する。
この場合、 約 300 〃 mの幅の トーンヨ ンバー 6 Aに対して、 各導 電領域 104 , 104 の幅は約 50 m程度あればよ く、 半導体製造技術 における素子間分離技術によって 2つの導電領域 104 , 104 を互い に絶縁するのは可能であり、 何ら支障はな く 実現できる。
かかる構成によ り、 第 1 実施例と同様に、 プレーナ型ガルバノ ミ ラ ーの寿命を延ばし信頼性を向上できる。
尚、 内側可動板 5 B側の平面コイル 7 Bを外側可動板 5 A上のコ ィル配線に接続する第 2の トーシヨ ンバー 6 B部分は、 第 5図にお いて、 電極端子 9 Aが電極端子 42に代わり、 電極端子 31が電極端子 41に代わり、 平面コイル 7 Aが平面コイル 7 Bに代わるだけである また、 第 6図に示す第 3実施例のように ト 一 シ ヨ ンバ—部分を構 成してもよい。 即ち、 トーン ヨ ンバ一 6 Aの中間部分を貫通させて、 互いに近接 した 2本の ト一シ ヨ ンバ一 6 a , 6 b に分割構成し、 各 卜ーシ ヨ ン バ ー 6 a , 6 bを、 第 2図に示す第 1 実施例と同様に、 全体に不純 物を拡散させて導電領域とする。
この場合は、 トーショ ンバ一力 1 本の構造とは ト一ショ ン ノく一に よるバネ反力特性が異なり、 磁気力とバネ反力との関係が 1 本の場 合と異なるが、 ガルバノ ミ ラ一と して動作させるのには何ら影響は な く 、 第 1 及び第 2実施例と同様にコイルの断線防止効果を有し、 プレーナ型ガルバノ ミ ラーの寿命を延ばし信頼性を向上できる。 尚、 1 軸のガルバノ ミ ラーの場合も、 第 5 図に示すように、 ト一 シ ョ ンバ ー 6の一部に不純物拡散による導電領域を形成するように してもよいこ とを言う までもない。 また、 各永久磁石を他の固定部 に取り付けるようにすれば、 上側及び下側のガラス基板 3 , 4 は必 ずしも必要ではない。
本実施例では、 電磁ァクチユ エ 一夕 と してプレーナ型ガルバノ ミ ラーに適用 した例を示したが、 前述したプレーナ型電磁リ レーや光 検出装置等の電磁ァ クチユエ一夕についても適用できるこ とは言う までもない。
以上のように本発明によれば、 トーシ ヨ ンバー部分を導電性と し て、 トーシヨ ンバーの導電領域を介して外部電源と駆動コイルとを 電気的に接続する構成と したので、 トーシヨ ンバーの捩じれ運動の 繰り返しによるコイル通電用配線の断線故障を防止でき、 プレーナ 型の電磁ァクチユエ一夕の耐久性及び信頼性を向上できる。
〔産業上の利用可能性〕
本発明は、 この種の超小型のプレ一ナ型電磁ァクチユエ一夕の耐 久性を向上でき、 この種のプレーナ型電磁ァクチユエ一夕を応用す る機器の寿命及び信頼性を向上でき、 産業上の利用可能性が大であ る。

Claims

請 求 の 範 囲
( 1 ) 半導体基板に、 可動板と該可動板を前記半導体基板に対して 揺動可能に軸支する トーシ ョ ンバーと一体形成し、 前記可動板の周 縁部に設けた駆動コイルと、 該駆動コイルに静磁界を与える磁界発 生手段とを備え、 前記駆動コイ ルに電流を流すこ とによ り発生する 磁気力により前記可動板を駆動する構成の電磁ァクチユエ—タにお いて、 前記 トーシ ヨ ンバーの少な く と も一部を導電性に形成し、 こ の導電領域を介して外部電源と駆動コイルとを電気的に接続する構 成と したこ とを特徴とする電磁ァクチユエ一夕。
( 2 ) 前記 トーシ ョ ンバ一全体を導電性と した請求項 1 記載の電磁 ァクチユエ一夕。
( 3 ) 前記可動板の駆動コイルで囲まれる中央部に反射鏡を設けて 構成されるガルバノ ミ ラーである請求項 1 記載の電磁ァクチユエ一 夕。
( 4 ) 前記可動板が、 枠状の外側可動板と平板状の内側可動板とか らなり、 前記 トー ン ヨ ンバーが、 半導体基板に前記外側可動板を軸 支する第 1 の 卜ー シ ョ ンバーと該第 1 の トーシ ョ ンバーと軸方向が 直交し前記外側可動板の内側に前記内側可動板を軸支する第 2の ト ー シ ョ ンバ一とからなり、 前記外可動板の上面に第 1 の駆動コ イ ル を設け、 前記内側可動板の上面周縁部に第 2の駆動コイルを設ける と共に当該第 2の駆動コイルで囲まれた内側可動板中央部に前記反 射鏡を設けて構成したガルバノ ミ ラ一である請求項 3記載の電磁ァ クチユエ一夕。
( 5 ) 前記第 1 及び第 2の トーシ ヨ ンバ一は、 互いに近接し且つ電 気的に絶縁された全体を導電性と した 2本に分割構成される請求項 4 記載の電磁ァクチユエ一夕。
( 6 ) トーシ ヨ ンバー形成部分を除いて半導体基板の下面から上面 に向けて異方性エッチングによ り貫通させて半導体基板に揺動可能 に軸支される可動板を形成する工程と、 可動板上面周囲に駆動コィ ルを形成する工程と、 駆動コイルに静磁界を与える磁界発生手段を 固定する工程を備えた電磁ァクチユエ一夕の製造方法において、 ト ーシ ョ ンバー形成部分の少な く と も一部に P型不純物を高濃度に拡 散して導電領域を形成した後、 前記異方性ェッチ ングによ り可動板 を形成し、 駆動コイルを形成する際に、 同時に前記導電領域の両端 部に、 当該導電領域を外部電源側と駆動コイル側にそれぞれ接続す るための電極端子部を形成するようにしたこ とを特徴とする電磁ァ クチユエ一夕の製造方法。
( 7 ) 前記 P型不純物が、 硼素、 アルミ ニウム、 ガリ ウム及びイ ン ジゥムのいずれか 1 つである請求項 6記載の電磁ァクチユエ一夕の 製造方法。
( 8 ) 駆動コイルで囲まれた可動板中央部に反射鏡を形成する工程 を備えてなる請求項 6記載の電磁ァクチユエ一夕の製造方法。
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