Beschreibung
Thyristor mit integriertem dU/dt-Schutz
1. Einleitung
Ein Thyristor zündet bereits vor dem Erreichen der statischen Kippspannung UB0, wenn die zeitliche Änderung dU/dt der zwi¬ schen seinen Anschlüssen angelegten Spannung U einen für den jeweiligen Thyristor spezifischen Maximalwert übersteigt.
Ausgelöst wird diese unter Umständen zur Zerstörung des Thy¬ ristors führende Fehlzündung durch den Aufbau der Raumla¬ dungszone am p-Basis/n-Basis-Übergang und dem daraus resul¬ tierenden, den Sperrstrom verstärkenden Verschiebungsstrom Id = Cd dU/dt (Cd: spannungsabhängige Raumladungskapazität des pn-Übergangs) . Mit Hilfe von Kathoden-Emitterkurzschlüssen läßt sich die dU/dt-Festigkeit eines Thyristors erheblich verbessern, da ein Großteil des kapazitiven Verschie¬ bungsstroms Id im Halbleiterkörper nicht mehr über den katho- denseitigen pn-Übergang, sondern von der Basis direkt zur Ka¬ thode fließt. Der kritische Wert der Spannungssteilheit ent¬ sprechend aufgebauter Thyristoren beträgt typischerweise meh¬ rere 1000 V/μs.
2. Stand der Technik
Leistungsthyristoren müssen mit Emitterkurzschlüssen versehen werden, um den Anforderungen hinsichtlich der dU/dt- Belastbarkeit zu genügen. Emitterkurzschlüsse leiten aller- dings einen Teil des Gatestroms direkt zur Kathode ab, was sich nachteilig auf die Zündempfindlichkeit des Thyristors auswirkt. Zur Lösung dieses Problems wird unter anderem vor¬ geschlagen, die Struktur des Gates zu optimieren, die vom ka¬ pazitiven Strom Id hervorgerufene Potentialänderung der ka- thodenseitigen Basis zu kompensieren und die optische Zün¬ dempfindlichkeit des Thyristors durch mehrere hintereinander
geschaltete "Amplifying Gate" -Stufen zu erhöhen (s. bei¬ spielsweise [1] und [2] ) .
3. Ziele und Vorteile der Erfindung
Die Erfindung hat einen insbesondere lichtzündbaren und BOD- geschützten Thyristor mit integriertem dU/dt-Schutz zum Ge¬ genstand. Der Thyristor soll derart aufgebaut sein, daß er im Falle einer zu großen dU/dt-Belastung in Kipprichtung nicht unkontrolliert im Bereich der Kathodenfläche oder des Randab¬ schlusses zündet . Ein Thyristor mit den in Patentanspruch 1 angegebenen Merkmalen besitzt diese Eigenschaft. Die abhängi¬ gen Ansprüche betreffen vorteilhafte Ausgestaltungen und Wei¬ terbildungen des Thyristors.
Unabhängig von der Art der Zündung (elektrische oder optische Ansteuerung, dU/dt-Triggerung) wird das Zündverhalten eines Thyristors in entscheidender Weise vom Schichtwiderstand der kathodenseitigen Basis beeinflußt. Die Erfindung nutzt diese Eigenschaft, um den durch eine zu große dU/dt-Belastung her¬ vorgerufenen Zündvorgang gezielt in den Zentralbereich des Thyristors zu verlagern. Da das von der Zündung betroffene Volumen immer innerhalb des durch den ersten Hilfsthyristor begrenzten Bereichs liegt, kann sich das Plasma, wie bei ei- ner gesteuerten Zündung, großflächig und gleichförmig in ra¬ dialer Richtung ausbreiten, ohne daß die Stromdichte kriti¬ sche Werte erreicht.
4. Zeichnung
Die Erfindung wird im folgenden anhand der Zeichnung erläu¬ tert. Es zeigen Figur 1 die Zündstruktur eines BOD-geschützten lichtzündbaren
Thyristors im Querschnitt; Figur 2 die BOD-Struktur des Thyristors im Querschnitt;
Figur 3 den Halbleiterkörper des Thyristors nach Ausführung einzelner Schritte des Verfahrens zur Herstellung ei-
ner ringförmigen Zone erhöhten Widerstandes in der kathodenseitigen Basis.
5. Beschreibung eines Ausführungsbeispiels
Der in Figur 1 im Querschnitt dargestellte, mit einer BOD (breakover-diode) -Struktur ausgestattete lichtzündbare Thyri¬ stor besitzt einen rotationssymmetrischen Aufbau bezüglich der senkrecht auf den beiden Hauptflächen 2/3 des Halbleiter- körpers 1 stehenden Achse 4. Während die obere Hauptfläche 2 des scheibenförmigen Halbleiterkörpers 1 die randseitig ver¬ laufende, mit sogenannten Emitterkurzschlüssen versehene Ka¬ thodenmetallisierung 5 trägt, ist seine rückseitige Hauptflä¬ che 3 vollständig mit einer als Anode dienenden Metallisie- rung 6 beschichtet. Der aus Silizium bestehende Halbleiter¬ körper 1 weist mehrere unterschiedlich dotierte, jeweils durch Raumladungszonen voneinander getrennte Bereiche 7 -10 auf. Diese Bereiche unterschiedlicher Leitfähigkeit bilden den n+-dotierten kathodenseitigen Emitter 7, die p-dotierte Basis 8, die nur schwach elektronenleitende anodenseitige Ba¬ sis 9 sowie den von der Anodenmetallisierung 6 kontaktierten p+-Emitter 10 des Thyristors.
Die mit AG (Amplifying Gate) bezeichneten, radial innerhalb der Kathodenmetallisierung 5 angeordneten Hilfsthyristoren dienen als Treiberstufen für den Hauptthyristor. Sie weisen jeweils einen in der kathodenseitigen Basis 8 eingebetteten, n+-dotierten Hilfsemitter 11/11' und eine sowohl den Hilfse¬ mitter 11/11' als auch die Basis 8 kontaktierende Metallisie- rung 12/12' auf. Die sich über den n+-dotierten Bereich
11/11' erstreckende Metallisierung 12/12' hat die Funktion eines Kurzschlußemitters, der ein unerwünschtes Zünden des jeweiligen Hilfsthyristors bei großen Spannungssteilheiten dU/dt wirkungsvoll unterdrückt.
In einer die inneren drei Hilfsthyristoren (1.-3. AG) ring¬ förmig umschließenden Zone 13 der kathodenseitigen Basis 8
ist die Dotierstoffkonzentration gegenüber den lateral an¬ grenzenden Bereichen verringert . Diese Ringzone 13 wirkt als Widerstand R, der den in der Basis 8 radial nach außen flie¬ ßenden Zündstrom auf einen vorgegebenen Maximalwert begrenzt und so die Belastung der Struktur während des Einschaltvor¬ gangs vermindert (s. beispielsweise [2] oder [3]) . Am Metall¬ ring 14 können die vom angrenzenden Hilfsemitter 11 ' in die kathodenseitige Basis 8 injizierten Elektronen rekombinieren, so daß der Widerstand R beim Durchschalten des Thyristors keiner Modulation unterliegt.
Die im Zentrum des Thyristors vorhandene, in [4] näher be¬ schriebene und in Figur 2 vergrößert dargestellte BOD- Struktur dient dem Überspannungsschutz. Ihre lateralen Abmes- sungen sind mit O± = 350 μm und Da = 550 μm so bemessen, daß die DurchbruchsSpannung bei Zimmertemperatur T = 23°C etwa UB0D « 7,7 kV beträgt.
Um einen durch eine zu große dU/dt-Belastung hervorgerufenen Zündvorgang gezielt in den Zentralbereich des Thyristors zu verlagern, besitzt die kathodenseitige Basis 8 in einer un¬ terhalb des n+-dotierten Bereichs 11 des ersten Hilfsthyri¬ stors LAG liegenden Ringzone 15 einen erhöhten Widerstand. Da die Breite L und der durch die Dotierstoffkonzentration gegebene Schichtwiderstand RD der Ringzone 15 sowohl die zur Zündung des ersten Hilfsthyristors erforderliche minimale Strahlungsintensität als auch dessen dU/dt-Belastbarkeit ent¬ scheidend beeinflußt, läßt sich durch eine geeignete Dimen¬ sionierung dieser Parameter sicherstellen, daß die zentral gelegene Thyristorstruktur die größte dU/dt-Empfindlichkeit des Systems aufweist und sie demzufolge bei Überschreitung eines kritischen Wertes der Spannungssteilheit zuerst zündet. Der Schichtwiderstand RD der etwa 200 - 600 μm breiten Ring¬ zone 15 beträgt typischerweise RD « 2000 - 4000 ΩD. Er ist damit um einen Faktor 10-20 größer als der Schichtwiderstand des angrenzenden Basisbereichs (RD (p+) « 200 - 400 Ωπ) .
Ausgangspunkt des Verfahrens zur Herstellung der Ringzone 15 erhöhten Widerstandes in der kathodenseitigen Basis 8 ist die in Figur 3a dargestellte Siliziumscheibe (n-leitend) , welche zwei aluminiumdotierte und damit p-leitende Bereiche 17/17' aufweist. Sie wird beidseitig im Vakuum mit einer nur etwa 5 μm tief reichenden, aber vergleichsweise hochdotierten Al- Belegung 18/18' versehen. Dieser etwa 2 Stunden dauernde Pro¬ zeß findet bei einer Temperatur T = 1060°C statt. Anschlie¬ ßend entfernt man die obere AI-Belegung 18 im Bereich der späteren Widerstandszone, wobei eine photolithographisch strukturierte Maske die Lage und Breite des herausgeätzten Grabens 19 definiert. Das Eintreiben der noch verbleibenden AI-Belegungen 18/18' in die darunterliegenden Schichten 17, 17' erfolgt bei einer Temperatur T = 1240°C. Während dieses etwa 20 Stunden in Anspruch nehmenden Vorgangs bildet sich unterhalb des Grabens 19 eine ringförmige Zone 20 verminder¬ ter Dotierstoffkonzentration. In Abweichung dieses Verfahrens ist es selbstverständlich auch möglich, die Ringzone 20 er¬ höhten Widerstandes durch eine maskierte Borimplantation zu erzeugen.
6. Ausgestaltungen und Weiterbildungen
Die Erfindung beschränkt sich selbstverständlich nicht auf das oben beschriebene Ausführungsbeispiel . So ist es ohne weiteres möglich, den vorgeschlagenen dU/dt-Schutz auch in einem mit einer konventionellen Gateelektrode ausgestatteten oder einem keine BOD-Struktur aufweisenden Thyristor vorzuse¬ hen bzw. die Zone erhöhten Widerstandes unterhalb eines ande- ren zentral gelegenen Hilfsthyristors zu erzeugen.
7. Literatur
[1] Paul D. Taylor: "Thyristor Design and Realization";
John Wiley & Sons (1987) , S. 133-141 [2] IEEE Transactions on Electron Devices, Vol. ED-30, No. 7,
July 1983, S. 816-824 [3] US-A-5,204,273 [4] EP-0 572 826 AI