WO1999063557A1

WO1999063557A1 - Printed annular coil and method of manufacture thereof

Info

Publication number: WO1999063557A1
Application number: PCT/JP1999/002815
Authority: WO
Inventors: Kunitoshi Yamamoto
Original assignee: Nissha Printing Co Ltd
Current assignee: Nissha Printing Co Ltd
Priority date: 1998-05-29
Filing date: 1999-05-28
Publication date: 1999-12-09
Anticipated expiration: 2000-11-29
Also published as: US6686824B1; EP1001439A1; EP1001439A4

Description

明細書環状プリントコイルとその製造方法技術分野

本発明は、環状プリントコイルの製造方法とその製造方法により製造された環状プリントコイルに関するものである。本発明に係る環状プリントコイルの製造方法は、複数の環状プリントコイルを同時に製造するのに適したものであり、その製造方法の過程で使用されるプリントコイルシートは複数の環状プリントコイルを有する印刷配線板としても用いられ得るものである。本発明により得られる環状プリントコイルは、インダクタンス素子、アンテナ、ソレノィドコイル、モータ一コイル等として利用される。背景技術

従来のプリントコイルの製造方法を図 8に基いて説明する。

図 8に示すように、絶縁基板 1 0に細長の直線状の貫通スリット 1 1を少なくとも 2つ所定間隔を隔てて対向して形成し、絶縁基板 1 0の表面、裏面、及び貫通スリット 1 1の内面に金属層を形成し、上記絶縁基板 1 0の表面及び裏面の金属層を、複数のコイル素線を構成する部分 1 6を除いて除去し、さらに上記絶縁基板 1 0を貫通スリット 1 1に沿って切断線 A， B， C， Dで切断し、その切断面に上記絶縁基板 1 0の表面及び裏面のコィル素線を構成する部分の金属層同士を個別的に接続する接続用金属層を除いて貫通スリット内面の金属層を除去することにより、上記絶縁基板 1 0の表面及び裏面の金属層をスパイラル状に連結することにより、コイルを製造するようにしたものが知られている（特開昭 5 9— 1 0 3 3 2 1号公報）。

しかしながら、上記方法では、絶縁基板の表面、裏面、および貫通スリット内面に、複数のコイル素線を構成する金属層を形成したのち、上記絶縁基板を貫通スリットに沿って切断し、その後、さらに、上記絶縁基板の表面及び裏面の金属層をスパイラル状に連結するように形成しているため、製造工程が多くなり、煩雑なものとなっていた。

したがって、本発明の目的は、上記の問題点を解決することにあって、手間を要することなく極めて簡単に環状プリントコイルを製造することができる環状プリントコイルの製造方法及びその製造方法により製造された環状プリントコイルを提供することにある。発明の開示

本発明は、上記目的を達成するため、以下のように構成している。

本発明の第 1態様によれば、絶縁板に設けられた複数の環状穴とこれらの環状穴に囲まれた複数の中心穴とによって囲まれた複数の環状部により構成される環状出島の各々の上記環状部を軸として、その表裏両面及び内外側面に導体膜を同時にかつ螺旋状に形成して、複数の環状プリントコイルを同時に製造する環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 2態様によれば、上記導体膜を形成する前に、上記絶縁板に、上記複数の環状穴とこれらの環状穴に囲まれた上記複数の中心穴とを設ける第 1 態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 3態様によれば、記導体膜を形成するとき、上記導体膜として残すべき部分以外の部分にメツキレジスト層を形成してパターン化した後に、メツキを施して、上記導体膜として残すべき部分に上記導体膜を形成するようにした第 1又は 2態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。本発明の第 4態様によれば、記導体膜を形成するとき、上記環状出島のその表裏両面及び内外側面に大略全面的に上記導体膜を形成した後、大略全面的に形成された上記導体膜のうちの不要な部分をレーザービーム等の照射により削除して、必要な部分にのみ上記導体膜を形成するようにした第 1又は 2態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 5態様によれば、記導体膜を形成するとき、上記環状出島のその表裏両面及び内外側面に大略全面的に上記導体膜を形成した後、上記導体膜として残すべき部分にエッチングレジスト層を形成してパターン化し後、大略全面的に形成された上記導体膜のうちの不要な部分をエッチング除去することにより、必要な部分にのみ上記導体膜を形成するようにした第 1又は 2態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 6態様によれば、上記絶縁板の表面と裏面に銅箔を張った銅張積層板を用意し、

上記絶縁板を貫通する上記中心穴を開け、上記環状出島の上記環状部の幅が所定幅となるようにかつ上記絶縁板の残りの部分との連結部を残して上記環状穴を形成することにより、上記複数の環状出島を形成し、

上記各環状出島の上記環状部の表裏両面及び内外側面に大略全面的に銅メッキを形成し、

上記環状出島の上記環状部を軸として上記螺旋状の上記導体膜に合致するェツチングレジストを形成し、

次に、上記大略全面的に形成された導体膜の上記エッチングレジストが形成されていない部分である不要部分をエッチングにより除去し、

その後、上記エッチングレジストを上記絶縁板から剥離して、上記導体膜を得るようにした第 1， 2， 5のいずれかの態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 7態様によれば、さらに、上記連結部に上記螺旋状導体膜の始め部分と終わり部分の端子を同一面上にェツチングにて形成し、

更に、上記コイルの端子部分の銅箔部分以外をソルダーレジストにて被覆して絶縁処理を行った後、上記連結部を切断して、上記複数の環状プリントコィルを得るようにした第 1〜 6のいずれかの態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 8態様によれば、上記中心穴が円形であり、上記環状出島の上記環状部の外周が上記中心穴と同心円形状である第 1〜 7のいずれかの態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 9態様によれば、上記中心穴が多角形であり、上記環状出島の上記環状部の外周が上記中心穴と相似形の多角形である第 1〜 8のいずれかの態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 1 0態様によれば、上記導体膜の幅が、等幅である第 1〜9のいずれかの態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 1 1態様によれば、上記導体膜の幅が、不等幅である第 1〜1 0 のいずれかの態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 1 2態様によれば、上記各環状出島を上記絶縁板から切断することにより、上記複数の上記環状プリントコイルを得る第 1〜 1 1のいずれかの態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 1 3態様によれば、第 1〜1 2のいずれかの態様に記載の環状プリントコイルの製造方法により製造された環状プリントコイルを提供する。本発明の第 1 4態様によれば、上記メツキレジスト層をパターン化する場合、上記メツキレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光硬化型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜を形成する表面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部とが光を透過せず他の部分は透過する第 9マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜を形成する裏面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部とが光を透過せず他の部分は透過する第 1 0マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを硬化させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記硬化した部分以外の未硬化部分を除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜が形成される部分以外の部分に上記メツキレジスト層を形成するようにした第 3態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。本発明の第 1 5態様によれば、上記メツキレジスト層をパターン化する場合、上記メツキレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光分解型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜を形成する表面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜を形成する側部パタ一ン形成部とが光を透過し他の部分は遮蔽する第 1 1マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜を形成する裏面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部とが光を透過し他の部分は遮蔽する第 1 2 マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを光分解させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記光分解した部分のみを除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜が形成される部分以外の部分に上記メツキレジスト層を形成するようにした第 3態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 1 6態様によれば、上記メツキレジスト層をパターン化する場合、上記メツキレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光硬化型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか一方を形成する表面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部とが光を透過せず他の部分は透過する第 1 3マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか他方を形成する裏面パターン形成部と上記環状穴又は中心穴に重ね合わせられる部分とが光を透過せず他の部分は透過する第 1 4マスクを上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを硬化させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記硬化した部分以外の未硬化部分を除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜が形成される部分以外の部分に上記メツキレジスト層を形成するようにした第 3態様に記載の環状プリントコィルの製造方法を提供する。

本発明の第 1 7態様によれば、上記メツキレジスト層をパターン化する場合、上記メツキレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光分解型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか一方を形成する表面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部とが光を透過し他の部分は遮蔽する第 1 5マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか他方を形成するパターン形成部のみが光を透過し他の部分は遮蔽する第 1 6マスクを上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを光分解させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記光分解した部分のみを除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜が形成される部分以外の部分に上記メッキレジスト層を形成するようにした第 3態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 1 8態様によれば、上記エッチングレジスト層をパターン化する場合、上記エッチングレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光硬化型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜を形成する表面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部とが光を透過し他の部分は透過しない第 1マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環 7 状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜を形成する裏面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部とが光を透過し他の部分は透過しない第 2マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを硬化させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記硬化した部分以外の未硬化部分を除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜が形成される部分に上記エッチングレジスト層を形成するようにした第 5態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 1 9態様によれば、上記エッチングレジスト層をパターン化する場合、上記エッチングレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光分解型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜を形成する表面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パタ一ン形成部とが光を遮蔽し他の部分は透過する第 3マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜を形成する裏面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部とが光を遮蔽し他の部分は透過する第 4マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを光分解させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記光分解した部分のみを除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜が形成される部分に上記エッチングレジスト層を形成するようにした第 5態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。本発明の第 2 0態様によれば、上記エッチングレジスト層をパターン化する場合、上記エッチングレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光硬化型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか一方を形成する表面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部とが光を透過し他の部分は透過しない第 5マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環状部の一方の面に重ねで露光するとともに、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか他方を形成する裏面パターン形成部のみが光を透過し他の部分は透過しない第 6マスクを上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを硬化させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記硬化した部分以外の未硬化部分を除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜が形成される部分に上記エッチングレジスト層を形成するようにした第

5態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。

本発明の第 2 1態様によれば、上記エッチングレジスト層をパターン化する場合、上記エッチングレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光分解型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか一方を形成する表面パターン形成部と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部とが光を遮蔽し他の部分は透過する第 7マスク及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シートを上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか他方を形成するリードパターン形成部と貫通穴に重ね合わせられる部分とが光を遮蔽し他の部分は透過する第 8マスクを上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを光分解させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記光分解した部分のみを除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜が形成される部分に上記エッチングレジスト層を形成するようにした第 5態様に記載の環状プリントコイルの製造方法を提供する。図面の簡単な説明

本発明のこれらと他の目的と特徴は、添付された図面についての好ましい実施形態に関連した次の記述から明らかになる。この図面においては、

図 1は、本発明における第 1実施形態の環状プリントコイルの製造方法において使用するプリントコイルシートを示す部分斜視図であり、

図 2は、本発明における第 1実施形態の環状プリントコイルとその製造方法において使用するプリントコイルシートを示す部分斜視図であり、

図 3は、図 1に示すプリントコイルシートから切り出した環状プリントコィルの斜視図であり、

図 4は、図 2に示すプリントコイルシートから切り出した環状プリントコィルの斜視図であり、

図 5は、本発明における他の実施形態の環状プリントコイルとその製造方法により製造される環状プリントコイルの斜視図であり、

図 6は、本発明におけるさらに他の実施形態の環状プリントコイルとその製造方法により製造される環状プリントコイルの斜視図であり、

図 7は、上記導体膜が螺旋状に形成されている状態を説明するための説明図、図 8は、従来のプリントコィルの製造方法を示す説明図であり、

図 9は、本発明の他の実施形態に係る環状プリントコイルに係る上記環状穴又は中心穴の側壁面の上記外側面又は内側面の導体膜の感光性レジスト膜の一部を露光する方法を示す説明図であり、

図 1 0は、本発明の他の実施形態の変形例に係る環状プリントコイルに係る上記環状穴又は中心穴の側壁面の上記外側面又は内側面の導体膜の感光性レジスト膜の一部を露光する方法を示す説明図であり、図 1 1は、本発明の他の実施形態の別の変形例に係る環状プリントコイルに係る上記環状穴又は中心穴の側壁面の上記外側面又は内側面の導体膜の感光性レジスト膜の一部を露光する方法を示す説明図であり、

図 1 2は、本発明の他の実施形態の別の変形例に係る環状プリントコイルに係る上記環状穴又は中心穴の側壁面の上記外側面又は内側面の導体膜の感光性レジスト膜の一部を露光する方法を示す説明図であり、

図 1 3は、上記感光性レジスト膜の一部を露光する方法を示す断面図であり、図 1 4は、上記感光性レジスト膜の一部を露光する方法を示す断面図であり、図 1 5は、上記感光性レジスト膜の一部を露光する方法を示す断面図であり、図 1 6は、上記感光性レジスト膜の一部を露光する方法を示す断面図であり、図 1 7は、上記感光性レジスト膜の一部を露光する方法を示す断面図であり、図 1 8は、上記感光性レジスト膜の一部を露光する方法を示す断面図である。発明を実施するための最良の形態

本発明の記述を続ける前に、添付図面において同じ部品については同じ参照符号を付している。

以下、図面を参照して本発明における第 1実施形態を詳細に説明する。

以下、本発明の実施形態に係る環状プリントコイルとその製造方法及びその製造方法により製造される環状プリントコイルについて図面を参照しながら詳細に説明する。

図 1及び図 2は、それぞれ、本発明の第 1実施形態及び第 2実施形態に係る環状プリントコイルの製造方法において使用するプリントコイルシート 7 0を示す部分斜視図である。図 3及び図 4は、それぞれ、図 1及び図 2に示す第 1 実施形態及び第 2実施形態の環状プリントコイルの製造方法において使用するプリントコイルシ一ト 7 0から切断した環状プリントコイル Pの斜視図である。図中、 1は絶縁板、 2は上記絶縁板 1に貫通形成された大略 C字状の環状穴、 3は上記絶縁板 1に貫通形成された円形（図 1 ) 又は六角形（図 2 ) の中心穴、 4は環状穴 2と中心穴 3とにより形成された環状出島、 5は環状出島 4の環状部、 6は環状部 5の表裏両面及び内外側面にわたって螺旋状に形成された導体膜、 7は環状出島 4の環状部 5と環状出島 4以外の部分とを連結する連結部、 8は連結部 7の近傍の環状部 5に形成された導体膜 6の両端子、 Pは環状プリントコイルを示す。上記第 1実施形態及ぴ第 2実施形態とは、環状穴 2、中心穴 3、環状部 5の形状が異なるだけであり、基本的な構造は同一であるため、併せて説明する。

図 1及び図 2の上記第 1実施形態及び第 2実施形態の環状プリントコイルの製造方法は、絶縁板 1に、複数の環状穴 2と、これらの環状穴 2に囲まれた複数の中心穴 3とが貫通して設けられることによって、各環状穴 2と当該環状穴 2の内側に所定間隔をあけて配置された各中心穴 3とによって囲まれた部分より各環状出島 4が形成されて、プリントコイルシート 7 0が構成されている。そして、このプリントコイルシ一ト 7 0の各環状出島 4の環状部 5を軸としてその表裏両面及び内外側面に導体膜 6が図 7に示すように螺旋状に連続的に形成されることによって、複数の環状プリントコイル Pが同時に形成されている。すなわち、図 7において、環状部 5の表面の導体膜 6 aは、環状部 5の外側面の導体膜 6 b、環状部 5の裏面の導体膜 6 c、環状部 5の内側面の導体膜 6 d の順に連続的に連結されるように形成され、環状部 5の内側面の導体膜 6 dは環状部 5の表面の先の導体膜 6 aに隣接する導体膜 6 aに連結されるようになつている。この結果、環状部 5に導体膜 6が螺旋状に形成されるようになっている。

上記絶縁板 1としては、たとえば、紙基材フエノ一ル樹脂、紙基材エポキシ樹脂、合成繊維布基材エポキシ樹脂、ガラス布 '紙複合基材エポキシ樹脂、ガラス布 ·ガラス不織布複合基材エポキシ樹脂、ガラス布基材エポキシ樹脂、ガラス布基材テフロン樹脂などの積層板、又は、ポリエーテルイミド樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ベンゾシクロブテン樹脂、テフロン樹脂などの樹脂、又は、窒化アルミニウム、炭化珪素、アルミナなどのセラミックなど、表裏両面及び全側面に絶縁性を有するものを用いることができる。なお、上記絶縁板 1の形態は、板状、シート状、又はフィルム状のいずれでもよい。

上記環状出島 4の各々は、 1つの環状穴 2と、この環状穴 2に囲まれた 1つの中心穴 3との間に挟まれた環状部分である環状部 5と、該環状部 5とプリントコイルシート 7 0の他の部分 7 1とを連結する連結部 7とより構成されている。図 1の上記第 1実施形態のプリントコイルシート 7 0の各環状出島 4としては、中心穴 3が円形であり、外周の輪郭が上記中心穴 3の円形と同心円形状となっている（図 1参照）。また、図 2の上記第 2実施形態のプリントコイルシ一—ト 7 0の各環状出島 4としては、中心穴 3が多角形例えば六角形であり、環状出島 4の外周の輪郭が上記中心穴 3の多角形と相似形の多角形例えば六角形となっている（図 2参照）。

また、環状出島 4の別の一例としては、図 6に示すように、中心穴 4 3が円形であり、環状出島 4の環状部 4 5の外周の輪郭が上記中心穴 4 3を多角形とすることができる。

また、環状出島 4のさらに別の例としては、図 5に示すように、中心穴 5 3 が多角形例えば六角形であり、環状出島 4の環状部 5 5の外周の輪郭が円形とすることができる。

また、環状出島 4のさらに別の例としては、中心穴 3が楕円形であり、環状出島 4の外周が上記中心穴と相似形の楕円形とすることもできる。

上記環状穴 2及び上記中心穴 3並びにこれらによって形成される環状出島 4 の大きさ及び形状は、特に制限はなく、用途に応じて適宜選定すればよい。環状出島 4の形状としては、略 C字形状や、 D字形状等がある。

上記環状穴 2及び上記中心穴 3を形成する方法としては、プレス加工法、ルータ加工法、レーザー加工法、又は、 N Cドリノレ加工法などがある。

上記導体膜 6は、各種方法により形成することができる。その一例としては、環状出島 4の表裏両面及び内外側面において、導体膜 6として残すべき部分以外の部分にメツキレジスト層を形成した後に、メツキを施して、導体膜 6として残すべき部分に導体膜 6を形成する方法がある。また、別の一例としては、環状出島 4の表裏両面及び内外側面に導体膜を大略全面的に形成した後、大略全面的に形成された導体膜のうちの不要な部分をレーザービーム等の照射により削除して、必要な部分にのみ導体膜 6を形成したり、あるいは、大略全面的に形成された導体膜のうちの導体膜 6として残すべき部分にエッチングレジスト層を形成した後、大略全面的に形成された導体膜のうちの不要な部分をエツチング除去して、必要な部分にのみ導体膜 6を形成したりすることにより導体膜 6を形成する方法がある。導体膜 6を形成する箇所は、環状出島 4の全周でもよいし一部でもよい。

次に、上記導体膜 6をパターン化する方法について、図 9〜図 1 8を用いながら、詳細に説明する。なお、以下の説明でも、代表例として第 1，第 2実施形態において使用した参照符号を使用する。また、図を簡略化するため、図によっては、第 1実施形態又は第 2実施形態のいずれか一方しか図示していない力図示されていない、いずれか他方の実施形態にも同様に適用できることはいうまでもない。

ここでは、具体的には 4種類の方法について説明する。

まず、第 1の方法としては、図 1 3，図 1 5に示すように、感光性レジスト膜で覆われた絶縁基板 3 8 (完成後は、上記絶縁基板 1となる。）に対して、図 1 3，図 1 5の順に又はその逆の順に、片面ずつ露光を行う方法であり、光制御シート 3 4は絶縁基板 3 8の一方の面のみに使用する。なお、マスク 3 3 と光制御シート 3 4の位置関係が絶縁基板 3 8に対して図 1 3の位置関係と逆さでもよいという変形例を図 1 4に示す。

第 2の方法としては、図 1 3，図 1 6に示すように、感光性レジスト膜で覆われた絶縁基板 3 8に対して、図 1 3，図 1 6の順に又はその逆の順に、片面ずつ露光を行う方法であり、光制御シート 3 4は絶縁基板 3 8の両方の面に使用する。

第 3の方法としては、図 1 7に示すように、感光性レジスト膜で覆われた絶縁基板 3 8に対して、両面同時に露光を行う方法であり、光制御シート 3 4は一方の面のみに使用する。

第 4の方法としては、図 1 8に示すように、感光性レジスト膜で覆われた絶縁基板 3 8に対して、両面同時に露光を行う方法であり、光制御シート 3 4は両方の面に使用する。

より詳しくは、上記第 1の方法においては、上記エッチングレジスト層及ぴメツキレジスト層をそれぞれ形成するための感光性レジスト膜 3 2の露光は次のように行う。

まず、マスク 3 3及び光制御シート 3 4を上記絶縁基板 3 8の一方の面、例えば図 1 1の上面、に重ねた後、図 1 3に示すように、光制御シート 3 4及びマスク 3 3の光透過部 3 5を透過して、感光性レジスト膜 3 2に、上から下向きに露光する。このマスク 3 3及び以下に述べる各マスク 3 3は、ガラス又はァクリル系のフィルムシートなどから構成することができる。

次いで、別のマスク 3 3を絶縁基板 3 8の他方の面、例えば図 1 1の下面、に重ねた後、図 1 5に示すように、マスク 3 3の光透過部 3 5を透過して、感光性レジスト膜 3 2に、下から上向きに露光する。

その後、上記感光性レジスト膜 3 2を現像して、マスク 3 3のパターンに対応したパターンを有するエッチングレジスト層又はメツキレジスト層を形成する。

この上記第 1の方法の場合、感光性レジスト膜 3 2として光硬化型の材料を用いてエッチングレジストを形成するときには、図 1 1に示すように、二枚のマスク 3 3のうちの絶縁基板 1の表面側に配置される表面側マスク 3 3 (図 1 1では上側のマスク 3 3 ) では、環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 (図 7の 6 aに相当する部分）に対応してパターン形成された表面パターン形成部 3 3 aと、環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 aに接続される環状部 5の外側面の導体膜 6 (図 7の 6 bに相当する部分）又は内側面の導体膜 6 (図 7の 6 dに相当する部分）に対応してパターン形成されかつ上記表面パターン形成部 3 3 aに連結された側部パターン形成部 3 3 bとが、それぞれ、上記光透過部 3 5として透明に形成され、その他の部分は光遮蔽部として不透明に形成される。よって、表面パターン形成部 3 3 aと側部パターン形成部 3 3 bに相当する部分が光透過部 3 5であるため、光が透過して、感光性レジスト膜 3 2の、表面パターン形成部 3 3 aと側部パターン形成部 3 3 bに対応する部分が露光されて硬化する一方、他の部分は光が透過せず露光されないため硬化しない。一方、絶縁基板 1の裏面側に配置される裏面側マスク 3 3 (図 1 1では下側のマスク 3 3 ) では、環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6 (図 7の 6 cに相当する部分）に対応してパターン形成された裏面パターン形成部 3 3 cのみが上記光透過部 3 5として、透明に形成され、その他の部分は光遮蔽部として不透明に形成される。よって、裏面パターン形成部 3 3 cに相当する部分が光透過部 3 5であるため、光が透過して、感光性レジスト膜 3 2の、裏面パターン形成部 3 3 cと側部パターン形成部 3 3 dに対応する部分が露光されて硬化する一方、他の部分は光が透過せず露光されないため硬化しない。この結果、露光後の現像工程においては、硬化していない部分は現像液で除去される一方、硬化している部分は現像液では除去されずに残り、環状部 5を軸としてその表裏両面及び内外側面の導体膜 6 a , 6 c , 6 b， 6 dに対応する部分にエッチングレジスト層が形成される。なお、図 1 1における各マスク 3 3上の点線 3 3 eは、環状穴 2又は中心穴 3に重ね合わされる位置を示している。また、詳しくは後述するが、光制御シート 3 4は、入射した光を散乱又は屈折させたのち入射側とは反対側より出射させて、環状穴 2又は中心穴 3内の環状部 5の外側部又は内側部の導体膜 6 b又は 6 dを形成したい側壁面の感光性レジスト膜 3 2に照射するものである。

また、上記第 1の方法において感光性レジスト膜 3 2として光分解型の材料を用いてエッチングレジストを形成するときには、図 1 2に示すように、二枚のマスク 3 3のうちの絶縁基板 1の表面側に配置される表面側マスク 3 3 (図 1 2では上側のマスク 3 3 ) では、環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 a に対応してパターン形成された表面パターン遮蔽部 3 3 f と、上記環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 aに接続される環状部 5の外側面の導体膜 6又は内側面の導体膜 6に対応してバタ一ン形成されかつ上記表面パタ一ン遮蔽部 3 3 f に連結された側部パターン遮蔽部 3 3 gとが、それぞれ、上記光遮蔽部 1 3 5として、不透明に形成され、その他の部分は光透過部 3 5として透明に形成される。よって、表面パターン遮蔽部 3 3 f と側部パターン遮蔽部 3 3 gに相当する部分が光遮蔽部 1 3 5であるため、光が透過せず、感光性レジスト膜 3 2の、表面パターン遮蔽部 3 3 f と側部パターン遮蔽部 3 3 gに対応する部分が露光されず分解しない一方、他の部分は光が透過して露光されて分解する。一方、絶縁基板 1の裏面側に配置される裏面側マスク 3 3 (図 1 ²では下側のマスク 3 3 ) では、環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6に対応してパターン形成された裏面パターン遮蔽部 3 3 hと、環状穴 2又は中心穴 3に重ね合わせられる部分 3 3 eとが、それぞれ、上記光遮蔽部 1 3 5として、不透明に形成され、その他の部分は光透過部 3 5として透明に形成される。よって、裏面パターン遮蔽部 3 3 hと環状穴 2又は中心穴 3に重ね合わせられる部分 3 3 e に相当する部分が光遮蔽部 1 3 5であるため、光が透過せず、感光性レジスト膜 3 2の、裏面パターン遮蔽部 3 3 hに対応する部分が露光されず分解しないで、かつ、感光性レジスト膜 3 2の環状穴 2又は中心穴の内の環状部 5の外側部又は内側部の導体膜 6 b又は 6 dに対応する壁面が露光されずに上記側部パターン遮蔽部 3 3 gに対応する部分が分解されない一方、他の部分は光が透過して露光されて分解する。この結果、露光後の現像工程においては、分解している部分は現像液で除去される一方、分解していない部分は現像液では除去されずに残り、環状部 5を軸としてその表裏両面及び内外側面の導体膜 6 a， 6 c , 6 b， 6 dに対応する部分にエッチングレジスト層が形成される。なお、図 1 2における各マスク 3 3上の点線 3 3 eは、環状穴 2又は中心穴 3に重ね合わされる位置を示している。

次に、上記第 2の方法は、上記第 1の方法において、別のマスク 3 3を絶縁基板 3 8の他方の面に重ねるとき、図 1 6に示すように光制御シート 3 4も重ねて、光制御シート 3 4及びマスク 3 3の光透過部 3 5を透過して、感光性レジスト膜 3 2に、下から上向きに露光することと下側のマスクパターンが異なること以外は、全く同一である（図 9及び図 1 0参照。）。

ここで、感光性レジスト膜 3 2が光硬化性の場合、絶縁基板 1の裏面側に配置される裏面側マスク 3 3 (図 9では下側のマスク 3 3 ) では、環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6に対応してパターン形成された裏面パターン形成部 3 3 cと、上記環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6に接続される上記接続部 7に対応してパターン形成されかつ上記裏面パターン形成部 3 3 cに連結された側部パターン形成部 3 3 dとが、それぞれ、上記光透過部 3 5として、透明に形成され、その他の部分は光遮蔽部として不透明に形成される。よって、裏面パターン形成部 3 3 cと側部パターン形成部 3 3 dに相当する部分が光透過部 3 5であるため、光が透過して、感光性レジスト膜 3 2の、裏面パターン形成部 3 3 cと側部パターン形成部 3 3 dに対応する部分が露光されて硬化する一方、他の部分は光が透過せず露光されないため硬化しない。また、感光性レジスト膜 3 2が光分解性の場合、絶縁基板 1の裏面側に配置される裏面側マスク 3 3 (図 1 0では下側のマスク 3 3 ) では、環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6に対応してパターン形成された裏面パターン形成部 3 3 cと、上記環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6に接続される上記接続部 7に対応してパターン形成されかつ上記裏面パターン形成部 3 3 cに連結された側部パターン形成部 3 3 dとが、それぞれ、上記光遮蔽部 1 3 5として、不透明に形成され、その他の部分は光透過部として透明に形成される。よって、裏面パターン形成部 3 3 cと側部パターン形成部 3 3 dに相当する部分が光遮蔽部であるため、光が透過せず、環状部 5を軸としてその表裏両面及び内外側面に形成された感光性レジスト膜 3 2の、裏面パターン形成部 3 3 cと側部パターン形成部 3 3 dに対応する部分以外が露光されて分する一方、裏面パターン形成部 3

3 cと側部パターン形成部 3 3 dに対応する部分は光が露光されないため分解しない。

次に、上記第 3の方法は、上記第 1の方法における図 1 3の工程と図 1 5の工程とを図 1 7に示すように同時に行うものである。また、上記第 4の方法は、上記第 2の方法における図 1 3の工程と図 1 6の工程とを図 1 8に示すように同時に行うものである。

なお、上記第 1〜第 4の方法の図 9〜図 1 2中では感光性レジスト膜 3 2で覆われた絶縁基板 3 8が示されているが、エッチングレジスト層を形成する場 PC JP

18 合には、当然ながら、感光性レジスト膜 3 2と絶縁基板 3 8との間には金属層が存在する。また、上記第 1〜4の方法においてメツキレジスト層を形成する場合、環状部 5を軸としてその表裏両面及び内外側面の導体膜 6 a， 6 C , 6 b , 6 d以外の部分が露光工程及び現像工程によってレジスト層が形成されるように置き換えてマスクを設定する。

上記第 1〜第 4の方法において、上記光制御シート 3 4は、光源からの平行光 3 6を散乱光又は屈折光 3 7に変え、その一部を環状穴 2又は中心穴 3内の環状部 5の外側部又は内側部の導体膜 6 b又は 6 dの側壁面に向かわせるように制御するものである（図 1 3参照）。光制御シート 3 4としては、例えば拡散シートのように表面に微細回凸を設けたり、あるいは内部に微粒子や気泡を含有させたりしたシートゃ、プリズムシートのように表面にプリズム状の突起を設けたシートを使用することができる。光制御シート 3 4がなければ、マスク 3 3の光透過部 3 5を透過した光はほとんど環状穴 2と中心穴 3の側壁面を照射せず、環状穴 2又は中心穴 3内の側壁面に環状部 5の外側部又は内側部の導体膜 6 b又は 6 dのパターン化されたエッチングレジスト層又はメツキレジスト層を形成することはできない。つまり、光制御シート 3 4とマスク 3 3とを用いて露光することによって、環状部 5を軸としてその表裏両面及び内外側面の導体膜 6 a， 6 c , 6 b， 6 dとに同時にエッチングレジスト層又はメッキレジスト層を形成することができ、工程の省略化が図れるのである。

ここで、光制御シート 3 4として、プリズムシートを用いた場合と、拡散シートを用いた場合とを比較検討する。プリズムシート（2方向性屈折シート）は、その形状から 2方向への光の向かう量は拡散シートよりも多くなる。逆に言えば、拡散シートの場合、 2方向以外への方向へも光が向かうため、その分だけ 2方向へ向かう量がプリズムシートより少なくなり、露光が甘くなる。よつて、拡散シートよりもプリズムシートを用いた方が、光が進む方向の端面、言い換えれば、基板シートの環状穴 2又は中心穴 3の側壁面に外側部の導体膜又は内側部の導体膜を形成しようとする場合には、比較的シャープな画像を形成することができて好ましい。なお、マスク 3 3と光制御シート 3 4の重ねる順番は、光制御シ一ト 3 4が下になつてもよい（図 1 4参照）。露光のために使用する光は、太陽光、水銀灯、キセノンランプ、アーク灯、あるいはアルゴンレーザー等を光源する光などを用いる。なお、基板 3 8の一方の面への露光と他方の面への露光とは、同時に行なってもよいし、片面づっ順番に行なってもよい。また、図 1 3及び図

1 4はエッチングレジスト層を形成する場合の例を示しているが、メツキレジスト層の場合は導体膜 6が省略される。

一方、上記現像工程では、感光性レジスト膜 3 2が光硬化型の場合、炭酸ソーダなどを現像液として使用することにより、感光性レジスト膜 3 2の未硬化部分を選択的に除去することにより行なわれる。また、感光性レジスト膜 3 2 が光分解型の場合、メタケイ酸ソーダなどを現像液として使用することにより、感光性レジスト膜 3 2の光分解されている部分を選択的に除去することにより行なわれる。

また、環状穴 2と中心穴 3内の環状部 5の外側面の導体膜 6又は内側面の導体膜 6のパターンを形成する方法としては、上記のエッチングレジスト層又はメツキレジスト層を用いる方法が最も好ましいが、レーザーその他の物理的手段で導体膜 6を削り取ることもできる。

また、環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 a、又は、環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6 aの一部にソルダーレジストにて絶縁処理を施してもよレ、。ソルダーレジストの材料としては、エポキシ樹脂、ワニス、若しくは、ェナメルなどがある。ソルダーレジストの形成方法としては、スクリーン印刷、ロールコーター、カーテンコーター、スプレ一、若しくは、静電塗布などの方法がある。

また、環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 a、又は、環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6の一部又は全部に表面処理を施してもよい。表面処理としては、ハンダレべラー、金メッキ、ハンダメツキ、ニッケルメツキ、銀メッキ、若しくは、パラジウムメツキなどの方法がある。これらの表面処理により形成する表面処理層は、適宜、組み合わせて複数層にしてもよいし、単層でもよい。例外として、金メッキ層単層だけでは無理であり、通常、金メッキ層はニッケルメツキ層の上に積層させる。また、表面処理のメツキ層は、環状穴 2 と中心穴 3の内側に導体膜を形成する場合には、無電解メツキが適用できる。なお、上記マスク 3 3において、表面パターン形成部 3 3 aは環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 aに対応してパターン形成され、側部パターン形成部 3 3 bは上記環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 aに接続される環状部 5の外側面の導体膜 6又は内側面の導体膜 6に対応してパターン形成されかつ上記表面パターン形成部 3 3 aに連結され、裏面パターン形成部 3 3 cは環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6に対応してパターン形成され、側部パターン形成部 3 3 dは上記環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6に接続される上記環状部 5の外側面の導体膜 6又は内側面の導体膜 6に対応してパターン形成されかつ上記裏面パターン形成部 3 3 cに連結されるものであるが、これに限られるものではない。すなわち、基板 3 8に対する二枚のマスク 3 3の配置位置関係を逆にすることにより、表面パターン形成部 3 3 aは環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6に対応してパターン形成され、側部パターン形成部 3 3 bは上記環状部 5を軸としてその裏面の導体膜⁶に接続される環状部⁵の外側面の導体膜 6又は内側面の導体膜 6に対応してパターン形成されかつ上記表面パターン形成部 3 3 aに連結され、裏面パターン形成部 3 3 cは環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 aに対応してパターン形成され、側部パターン形成部 3 3 dは上記環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 aに接続される上記環状部 5の外側面の導体膜 6又は内側面の導体膜 6に対応してパターン形成されかつ上記裏面パターン形成部 3 3 cに連結されるようにしてもよい。

同様に、表面パターン遮蔽部 3 3 Πま環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 aに対応してパターン形成され、側部パターン遮蔽部 3 3 gは上記環状部 5 を軸としてその表面の導体膜 6 aに接続される環状部 5の外側面の導体膜 6又は内側面の導体膜 6に対応してパターン形成されかつ上記表面パタ一ン遮蔽部 3 3 f に連結され、裏面パターン遮蔽部 3 3 hは環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6に対応してパターン形成されているが、これに限られるものではない。すなわち、基板 3 8に対する二枚のマスク 3 3の配置位置関係を逆にすることにより、表面パターン遮蔽部 3 3 f は環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6に対応してパターン形成され、側部パターン遮蔽部 3 3 gは上記環状部 5 を軸としてその裏面の導体膜 6に接続される接続部 7に対応してパターン形成されかつ上記表面パターン遮蔽部 3 3 f に連結され、裏面パターン遮蔽部 3 3 hは環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 aに対応してパターン形成されているようにしてもよい。レーザーなどの物理的手段で削る場合を除き、露光による—上記これらの方法は、環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 a、環状部 5の外側面の導体膜 6又は内側面の導体膜 6、環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6を連続した工程で、又は同時に露光し、一回の現像工程で環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 a、環状部 5の外側面の導体膜 6又は内側面の導体膜 6、環状部 5を軸としてその裏面の導体膜⁶のエッチングレジスト、メッキレジストを形成することができ、従って環状部 5を軸としてその表裏両面及び内外側面に、環状部 5を軸としてその表面の導体膜 6 a、環状部 5の外側面の導体膜 6又は内側面の導体膜 6、環状部 5を軸としてその裏面の導体膜 6がエッチング又は、メツキにより同時に効率的に安価に形成できる。

上記導体膜 6を構成する材料としては、導電性を有するものであれば何でもよく、例えば銅、ニッケル、又は、金などの金属を挙げることができる。上記導体膜 6の幅は、特に制限されることはないが、通常は 0 . 0 5 mm〜 1 mm程度で十分である。また、上記導体膜 6の幅が全体にわたって等幅である場合は勿論、不等幅であってもよい。例えば、導体膜 6の幅を巻き方向に漸増する構成とした場合、周波数の帯域幅を広くすることができる。

上記導体膜 6の厚みも、特に制限されることはないが、通常は 3 μ ιη〜⁵ 0 // mで十分である。

上記導体膜 6の巻数つまりコイルの卷数は、プリントコイルの用途に応じて選定される。

なお、導体膜 6の一部又は全部に表面処理を施してもよい。この場合の表面処理方法としては、ハンダラべラー、金メッキ、ハンダメツキ、又は、ニッケルメツキなどがある。

また、上記環状プリントコイル Pの両端子 8となる部分以外の導体膜 6をソルダ一レジストにて絶縁処理を施してもよい。ソルダーレジストの材料としては、エポキシ樹脂、ワニス、又は、エナメルなどがある。ソルダーレジストの形成方法としては、スクリーン印刷法、ロールコ一ター法、カーテンコ一ター法、スプレー法、又は、静電塗布法などがある。

本発明の上記第 1及び第 2実施形態に係る環状プリントコイルの製造方法においては、上記プリントコイルシート 7 0の各環状出島 4を連結部 7において絶縁板 1から切断するだけで各環状プリントコイノレ Pを得ることができる。環状プリントコイル Pを得るための切断箇所は特に限定されることはなく、連結部 7とプリントコイノレシ一ト 7 0の他の部分 7 1との境界部分で切断することにより連結部 7が環状プリントコイル P側についてきても（図 3参照）、連結部 7と環状部 5との境界部分で切断することにより連結部 7がプリントコイルシート 7 0の他の部分 7 1側に残存してもよい（図 4参照）。

上記プリントコイルシ一ト 7 0から上記個々の環状プリントコイノレ Pを得るための環状プリントコイル Pの切断方法としては、打ち抜きプレス加工法、ル一ター加工法、レーザーカット加工法、 Vカット法、又は、断裁加工法等がある。

このように、本発明の上記第 1及び第 2実施形態の環状プリントコィルの製造方法においては、環状プリントコイル Pが形成されたプリントコイルシート

7 0を、そのまま環状プリントコイル Pを有するプリント配線板として利用してもよいし、また、連結部 7で切断した環状プリントコイル Pに他の回路を形成して、環状プリントコイル Pを有するプリント配線板として利用してもよい。本発明に係る環状プリントコイルの製造方法は、次の効果が奏される。

すなわち、本発明に係る環状プリントコイルの製造方法は、絶縁板に設けられた複数の環状穴とこれらの環状穴に囲まれた複数の中心穴とによって囲まれた複数の環状部により構成される環状出島の各々の上記環状部を軸として、その表裏両面及び内外側面に導体膜を同時にかつ螺旋状に形成して、複数の環状プリントコイルを同時に製造するようにしている。よって、上記絶縁板に複数の環状プリントコイルが形成されたプリントコイルシートにおいて、各環状出島を絶縁板から切断することにより、個々の複数の環状プリントコイルを簡単に得ることができ、手間を要することなく極めて簡単に環状プリントコイルを得ることができる。

また、従来の製造方法では、図 8に示すように、貫通スリット 1 1が直線状であるため、絶縁基板 1 0を貫通スリット 1 1及び切断線 A， B， C， Dに沿つで切断して、いわゆるチップ状にしてから、各チップの側面に接続用金属層を形成することが簡単にできるようになつている。これは、各チップの切断された側面はフラットであるため、接続用金属層を簡単に形成することができるためである。しかしながら、このような方法において環状プリントコイルを製造しょうとした場合には、絶縁基板 1 0から環状のチップを切断したのち、各チップの側面に接続用金属層を形成しょうとすると、環状のチップの内外側面が凹曲面ゃ凸曲面又は傾斜角度の異なる複数の平面の組み合わせにより構成されているため、例えば、導体膜を印刷で形成する場合、チップ状となった絶縁基板を一個一個印刷機の版面に向かい合うように、色々な角度に回転しながら導体膜を形成しなければならず、かなりの手間がかかることになる。また、チップ状となったものは、小さいものであるため、取り扱いがしにくい。また、既に形成されている導体膜と綺麗に連結させることができず、位置ズレを起こして形成されてしまうこともあり、所望の抵抗値が得られないものになることがある。

これに対して、本発明では、上記したような凹曲面ゃ凸曲面又は傾斜角度の異なる複数の平面の組み合わせにより構成されている環状部をチップ状に切断する前に、上記環状部の表面、裏面、内外側面の全ての面に、コイルとして必要な導体膜を形成するため、上記したような困難を全て解消することができる。

(実施例）

厚さ 0 . 2 mmの絶縁板 1 (松下電工社製ガラス布基材エポキシ樹脂）の表面と裏面に厚み 1 8 μ mの銅箔を張つた縦 3 4 0 mm、横^{2 5 5} mmの銅張積層板を用意し、ルータ一加工によってこの板を貫通する内径 5 mmの中心穴 3 を開け、環状出島 4の環状部 5の幅が 6 mmとなるように、上記中心穴 3と同心円となる幅 1 mmの環状穴 2を形成した。連結部 7の幅は 2 mmとした。上記一枚の絶縁板 1に環状出島 4を縦 2 2個、横 1 6個、ピッチ 1 5 mmで^{2 8} 4個作製し、各環状出島 4の上記環状部の表裏両面及び内外側面に大略全面的に 1 8 / m厚の銅メツキを形成し、各環状出島 4の環状部 5を軸として、導体膜 6の幅 0 . 2 mm、上記環状部 5の内周側面でのピッチ 0 . 4 5 mmで導体膜 6に合致するエッチングレジストを形成し、次に、大略全面的に形成された導体膜のェツチングレジストが形成されていない部分である不要部分を塩化第 2 鉄でエッチングにより除去し、その後、エッチングレジストを剥離して、導体膜 6を得た。また、連結部 7に上記コイルの始め部分と終わり部分の端子を同一面上に直径 0 . 5 mmでエッチングにて形成した。更に上記コイルの端子部分の銅箔部分以外をソルダ一レジストにて被覆した後、上記連結部をプレスにて切断し、 2 9 4個の環状プリントコイルを得た。

本発明は、添付図面を参照しながら好ましい実施形態に関連して充分に記載されているが、この技術の熟練した人々にとつては種々の変形や修正は明白である。そのような変形や修正は、添付した請求の範囲による本発明の範囲から外れない限りにおいて、その中に含まれると理解されるべきである。

Claims

請求の範囲

1 . 絶縁板（1 ) に設けられた複数の環状穴（2 ) とこれらの環状穴に囲まれた複数の中心穴（3 ) とによって囲まれた複数の環状部（5 ) により構成される環状出島（4 ) の各々の上記環状部を軸として、その表裏両面及び内外側面に導体膜（6 ) を同時にかつ螺旋状に形成して、複数の環状プリントコィル（P ) を同時に製造する環状プリントコイルの製造方法。

2 . 上記導体膜を形成する前に、上記絶縁板 ( 1 ) に、上記複数の環状穴（2 ) とこれらの環状穴に囲まれた上記複数の中心穴（3 ) とを設ける請求項 1に記載の環状プリントコイルの製造方法。

3 . 上記導体膜を形成するとき、上記導体膜として残すべき部分以外の部分にメツキレジスト層を形成してパターン化した後に、メツキを施して、上記導体膜として残すべき部分に上記導体膜を形成するようにした請求項 1又は 2 に記載の環状プリントコィルの製造方法。

4 . 上記導体膜を形成するとき、上記環状出島のその表裏両面及び内外側面に大略全面的に上記導体膜を形成した後、大略全面的に形成された上記導体膜のうちの不要な部分をレーザービーム等の照射により削除して、必要な部分にのみ上記導体膜を形成するようにした請求項 1又は 2に記載の環状プリントコイルの製造方法。

5 . 上記導体膜を形成するとき、上記環状出島のその表裏両面及び内外側面に大略全面的に上記導体膜を形成した後、上記導体膜として残すべき部分にエッチングレジスト層を形成してパターン化し後、大略全面的に形成された上記導体膜のうちの不要な部分をェツチング除去することにより、必要な部分にのみ上記導体膜を形成するようにした請求項 1又は 2に記載の環状プリントコィルの製造方法。

6 . 上記絶縁板の表面と裏面に銅箔を張つた銅張積層板を用意し、上記絶縁板を貫通する上記中心穴を開け、上記環状出島の上記環状部の幅が所定幅となるようにかつ上記絶縁板の残りの部分との連結部を残して上記環状穴を形成することにより、上記複数の環状出島を形成し、

その後、上記エッチングレジストを上記絶縁板から剥離して、上記導体膜を得るようにした請求項 1， 2， 5のいずれかに記載の環状プリントコイルの製造方法。

7 . さらに、上記連結部に上記螺旋状導体膜の始め部分と終わり部分の端子を同一面上にエッチングにて形成し、

更に、上記コイルの端子部分の銅箔部分以外をソルダーレジストにて被覆して絶縁処理を行った後、上記連結部を切断して、上記複数の環状プリントコィルを得るようにした請求項 1〜 6のいずれかに記載の環状プリントコィルの製造方法。

8 . 上記中心穴が円形であり、上記環状出島の上記環状部の外周が上記中心穴と同心円形状である請求項 1〜 7のいずれかに記載の環状プリントコィルの製造方法。

9 . 上記中心穴が多角形であり、上記環状出島の上記環状部の外周が上記中心穴と相似形の多角形である請求項 1〜8のいずれかに記載の環状プリントコイルの製造方法。

1 0 . 上記導体膜の幅が、等幅である請求項 1〜 9のいずれかに記載の環状プリントコィルの製造方法。

1 1 . 上記導体膜の幅が、不等幅である請求項 1〜 1 0のいずれかに記載の環状プリントコィルの製造方法。

1 2 . 上記各環状出島を上記絶縁板から切断することにより、上記複数の上記環状プリントコイルを得る請求項 1〜1 1のいずれかに記載の環状プリントコイルの製造方法。

1 3 . 請求項 1〜1 2のいずれかに記載の環状プリントコイルの製造方法により製造された環状プリントコイル。

1 4 . 上記メツキレジスト層をパターン化する場合、上記メツキレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光硬化型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜 ( 6 a ) を形成する表面パターン形成部（3 3 a ) と上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部（3 3 b ) とが光を透過せず他の部分は透過する第 9マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シ一ト（3 4 ) を上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜を形成する裏面パターン形成部（3 3 c ) と上記環状部を軸としてその外側面及ぴ内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部 ( 3 3 d ) とが光を透過せず他の部分は透過する第 1 0マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シート

( 3 4 ) を上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを硬化させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記硬化した部分以外の未硬化部分を除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜が形成される部分以外の部分に上記メツキレジスト層を形成するようにした請求項 3に記載の環状プリントコィルの製造方法。

1 5 . 上記メツキレジスト層をパターン化する場合、上記メツキレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光分解型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜を形成する表面パターン形成部（3 3 a ) と上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部（3 3 b ) とが光を透過し他の部分は遮蔽する第 1 1マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シート（3 4 ) を上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜を形成する裏面パターン形成部（3 3 c ) と上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部（3 3 d ) とが光を透過し他の部分は遮蔽する第 1 2マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シート（3 4 ) を上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを光分解させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記光分解した部分のみを除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜が形成される部分以外の部分に上記メツキレジスト層を形成するようにした請求項 3に記載の環状プリントコィルの製造方法。

1 6 . 上記メツキレジスト層をパターン化する場合、上記メツキレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光硬化型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか一方を形成する表面パターン形成部（3 3 a ) と上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部（3 3 b ) とが光を透過せず他の部分は透過する第 1 3マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シート（3 4 ) を上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか他方を形成する裏面バターン形成部（3 3 c ) と上記環状穴又は中心穴に重ね合わせられる部分（3 3 e ) とが光を透過せず他の部分は透過する第 1 4マスク（3 3 ) を上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを硬化させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記硬化した部分以外の未硬化部分を除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面及び内側面の導体膜が形成される部分以外の部分に上記メツキレジスト層を形成するようにした請求項 3に記載の環状プリントコイルの製造方法。

1 7 . 上記メツキレジスト層をパターン化する場合、上記メツキレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光分解型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか一方を形成する表面パターン形成部（3 3 a ) と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部（3 3 b ) とが光を透過し他の部分は遮蔽する第 1 5マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シート（3 4 ) を上記環状部の一方に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか他方を形成するパターン形成部（3 3 c ) のみが光を透過し他の部分は遮蔽する第 1 6マスク（3 3 ) を上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを光分解させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記光分解した部分のみを除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜が形成される部分以外の部分に上記メツキレジスト層を形成するようにした請求項 3に記載の環状プリントコイルの製造方法。

1 8 . 上記エッチングレジスト層をパターン化する場合、上記エツチングレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光硬化型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜を形成する表面パターン形成部（3 3 a ) と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部（3 3 b ) とが光を透過し他の部分は透過しない第 1マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シート（3 4 ) を上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜を形成する裏面パターン形成部（3 3 c ) と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部

( 3 3 d ) とが光を透過し他の部分は透過しない第 2マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シート ( 3 4 ) を上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを硬化させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記硬化した部分以外の未硬化部分を除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜が形成される部分に上記エツチングレジスト層を形成するようにした請求項 5に記載の環状プリントコイルの製造方法。

1 9 . 上記エッチングレジスト層をパターン化する場合、上記エツチングレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光分解型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜を形成する表面パターン形成部（3 3 a ) と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部（3 3 b ) とが光を遮蔽し他の部分は透過する第 3マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シート ( 3 4 ) を上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜を形成する裏面パターン形成部（3 3 c ) と上記環状部を軸としてその外側面又は內側面の導体膜を形成する側部パターン形成部

( 3 3 d ) とが光を遮蔽し他の部分は透過する第 4マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シート（3 4 ) を上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを光分解させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記光分解した部分のみを除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜が形成される部分に上記ェツチングレジスト層を形成するようにした請求項 5に記載の環状プリントコィルの製造方法。

2 0 . 上記エッチングレジスト層をパターン化する場合、上記エツチングレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光硬化型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか一方を形成する表面パターン形成部（3 3 a ) と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部（3 3 b ) とが光を透過し他の部分は透過しない第 5マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シート（3 4 ) を上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか他方を形成する裏面パターン形成部（3 3 c ) のみが光を透過し他の部分は透過しない第 6マスク（3 3 ) を上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを硬化させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記硬化した部分以外の未硬化部分を除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜が形成される部分に上記エッチングレジスト層を形成するようにした請求項 5に記載の環状プリントコイルの製造方法。

2 1 . 上記エッチングレジスト層をパターン化する場合、上記エツチングレジスト層を構成する感光性レジスト膜が光分解型のものであり、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか一方を形成する表面パターン形成部（3 3 a ) と上記環状部を軸としてその外側面又は内側面の導体膜を形成する側部パターン形成部（3 3 b ) とが光を遮蔽し他の部分は透過する第 7マスク（3 3 ) 及び入射した光を散乱又は屈折させて入射側とは反対側より出射させる光制御シート（3 4 ) を上記環状部の一方の面に重ねて露光するとともに、上記環状部を軸としてその表面の導体膜と上記環状部を軸としてその裏面の導体膜のいずれか他方を形成するリードパターン形成部（3 3 c ) と貫通穴（3 ) に重ね合わせられる部分（3 3 e ) とが光を遮蔽し他の部分は透過する第 8マスク（3 3 ) を上記環状部の他方の面に重ねて露光して、上記感光性レジスト膜のうち露光された部分のみを光分解させた後、上記感光性レジスト膜を現像して上記光分解した部分のみを除去することにより、上記環状部を軸としてその表面の導体膜、上記環状部を軸としてその裏面の導体膜、及び上記環状部を軸としてその外側面又は內側面の導体膜が形成される部分に上記エッチングレジスト層を形成するようにした求項 5に記載の環状プリントコィルの製造方法。