WO2000030146A1 - Verfahren und anordnung zur belichtung eines substrates - Google Patents

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WO2000030146A1
WO2000030146A1 PCT/DE1999/003639 DE9903639W WO0030146A1 WO 2000030146 A1 WO2000030146 A1 WO 2000030146A1 DE 9903639 W DE9903639 W DE 9903639W WO 0030146 A1 WO0030146 A1 WO 0030146A1
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PCT/DE1999/003639
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Peter Hahmann
Dirk Beyer
Dorothee Krauhs
Thomas Elster
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Vistec Electron Beam GmbH
Vistec Lithography Ltd
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Vistec Electron Beam GmbH
Vistec Lithography Ltd
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    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
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    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • H—ELECTRICITY
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    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/004—Charge control of objects or beams

Definitions

  • the invention relates to a method for exposing a substrate provided with an n-layer resist system to a corpuscular radiation, an electrically conductive connection between a ground potential and the substrate and / or at least one of the
  • the invention further relates to an arrangement for performing this method.
  • the substrate is coated with a resist and this resist layer is exposed to corpuscular radiation, for example electron radiation, in order to impress the predetermined structure on the substrate.
  • corpuscular radiation for example electron radiation
  • the substrates are placed on the support surface of a table that can be moved in the coordinates X, Y and held there, while the table is shifted step by step in the direction of X and / or Y and thereby brought into predetermined exposure positions in succession, in which the corpuscular radiation the coordinate Z is directed at right angles to the resist layer.
  • the resist consists of an electrically non-conductive material that charges itself electrostatically during the irradiation.
  • the substrate can also become electrostatically charged.
  • Japanese Patent Specification 60-117720 describes an electron beam exposure method in which the electrical charge is derived from a sample provided with a nitride or oxide layer by a needle made from a very hard, initially electrically non-conductive material, such as diamond, sapphire or the like, made conductive by implantation of, for example, boron ions and then used to penetrate the layer until it comes into contact with the sample.
  • a needle made from a very hard, initially electrically non-conductive material, such as diamond, sapphire or the like, made conductive by implantation of, for example, boron ions and then used to penetrate the layer until it comes into contact with the sample.
  • This achieves the grounding of the sample via the needle connected to ground and the discharge of the charge that has accumulated in the sample during the exposure. Due to the hardness of the material, the needle has a long service life, although at
  • Puncturing the nitride or oxide layer must have relatively high forces acting on the needle.
  • the feed movement of the needle is limited by the sample material, that is, the sample forms the stop for the needle and prevents it from penetrating into the sample material beyond a desired extent.
  • this method or the arrangement shown here is only suitable for contacting a sample hidden under a layer by piercing this layer.
  • a substrate is provided as a sample, on which a resist system consisting of several layers is applied and each of the layers is to be contacted individually via a separate needle and connected to a ground potential, this procedure is unsuitable, since the needles always go through the entire layer structure are pressed to make contact with the substrate.
  • a further Japanese patent specification 3-263814 assumes that it is known, for example in the case of a mask circuit board which is provided with a chrome layer and a resist lying over the chrome layer, to pierce the resist layer with the tip of a contact pin, for an electrically conductive connection to produce the underlying chrome layer and to derive the unwanted electrons from the chrome layer via the pin to a ground potential.
  • this method is further developed in such a way that the contact pin is rotated about its longitudinal axis when it penetrates the resist layer and during contacting with the underlying chrome layer, in order to achieve reliable contact and at the same time increase the service life of the tip of the contact pin, because the Tip can now be rounded.
  • the contacting of each of several layers of a resist system cannot be carried out in this way.
  • Japanese patent specification 2-125416 shows an arrangement for producing an electrical contact between a cassette (ground potential) and a chrome layer which lies on a mask base plate under a resist.
  • a pin is pressed onto the surface of the (electrically non-conductive) resist layer by means of a leaf spring.
  • the tip of an electrode connected to a high-voltage source is pressed near this pin to the chromium layer through the resist and then a voltage potential of a few hundred to ten thousand volts is applied to the electrode, causing the resist to undergo an insulation breakdown the consequence of which is the pin resting on the resist, conductively connected to the chrome layer, and the discharge of charges via the pin and the leaf spring to the cassette.
  • This technical solution is also not suitable and is also not intended for contacting each of several layers of a resist system.
  • the object of the invention is to further develop a method of the type described above in such a way that, in the case of a substrate provided with a multilayer resist system, each of the layers ST to S n of the resist system and, if required, the substrate as well is even brought into an electrically conductive connection with a ground potential.
  • the object is achieved in that in one
  • the substrate and / or the layers ST to S n are electrically conductively connected to the ground potential via a number of m contact tips Ki to K m by the coated substrate and the contact tips K T to K m relative to one another be moved until the electrically conductive connection between the ground potential and the substrate and / or each individual layer ST to S n is established via at least one of the contact tips Ki to K m .
  • This method step which is not complex, advantageously ensures that an ohmic contact is established between each of the layers S T to S n or the substrate and the ground potential, via which the electrical charges generated during the exposure are effectively dissipated. This prevents undesired influencing of the radiation direction by electrical charges and thus creates an essential prerequisite for the accuracy of the exposure or for a further refinement of the structures.
  • the disadvantages of the prior art described above are thus eliminated.
  • a contact tip K- until contact with the layer Si a contact tip K 2 through the layer ST through to the contact with the layer S 2 , a contact tip K 3 through the layers S T and S 2 through to the contact with the layer S 3 etc. and finally a contact tip K m through the layers ST to S n through to the contact with the substrate .
  • the electrical charges from the layer ST are derived via the contact tip ST to the ground potential, as are the electrical charges from the layer S 2 via the contact tip K 2 , from the layer S 3 via the contact tip K 3 and from the substrate via the contact tip K m .
  • This procedure also has a further advantageous effect, which is that the contact tips K 2 to K m not only derive the charges from the layers S T to S m up to which they are advanced, but also also from the layers S. T to S m _ ⁇ that they have penetrated.
  • the contact tip K 2 not only derives the electrical charges from the layer S 2 , but also from the layer S T because of the ohmic contact produced during the puncturing.
  • the number of contact tips is equal to the number of layers.
  • the number of contact tips is greater than the number of layers. It is then possible to assign not only one but several contact tips to individual layers S to S n and / or the substrate and thus to increase the security of the discharge of the electrical charge from predetermined layers or the substrate.
  • the contacting of selected layers or of the substrate can be carried out with the aid of several contact tips, which are located at different positions on the periphery of the wafer or the mask This is particularly useful if the layers S T to S n are segmented into sections and the individual segments have no electrical connection to one another. For example, a contact tip can then be assigned to each segment of such a layer.
  • each one Assign a number of contact tips to layers S T to S n or the substrate depending on the specific conductivity of the layer material, which guarantees the rapid dissipation of charges that arise from all areas of this layer.
  • the manner of the feed movement is
  • Contact tips are provided relative to the coated substrate such that the material of the layer to be penetrated by a contact tip is either displaced or removed
  • Feed force on a straight path of movement preferably in the Z direction, is passed through this layer. Due to the wedge effect when the contact tip penetrates into the respective layer and as it advances further, the layer material is displaced sideways in the X, Y direction preferred
  • Embodiment of the invention provided that the advancement of the contact tips takes place essentially in the Z direction, but the advancing movement is superimposed by a component in the direction of the coordinate X and / or Y. With this sideways-moving component, a so-called “scratching effect" when the Contact peaks achieved, whereby the layer material is removed locally limited by means of the contact tips and thus an intimate contact with the exposed layer is achieved.
  • the invention further relates to a device for structuring a substrate, which is provided with a plurality of layers S to S n forming a resist system, in which corpuscular radiation is directed onto the resist system for the purpose of exposure and means for deriving the radiation during the exposure electrical charges forming a resist potential are provided in the resist system.
  • At least one number of contact tips corresponding to the number n of layers S T to S n is provided in such a device, of which one contact tip is assigned to one of the layers S to S n and each of the contact tips is connected to the ground potential via an electrical conductor. Furthermore, the coated substrate and the contact tips are arranged so as to be displaceable relative to one another in the direction of the corpuscular radiation.
  • the coated substrate is placed on a support plane which is displaceable in the direction of the corpuscular radiation up to a position Z T , while each of the contact tips is mechanically connected to a holder fixed to the frame via a separate spring element.
  • each contact tip is movable relative to the other contact tips and also relative to the holder fixed to the frame under the action of an associated force predetermined by the spring element.
  • This individual suspension of the contact tips according to the invention on separate spring elements makes it possible to assign a specific force to each contact tip by appropriately designing its spring element, with which this contact tip acts on the resist system when the substrate is brought into the ZT position.
  • the contact tip KT cannot penetrate the layer ST, but only touches the layer ST and the electrically conductive connection between the layer ST and the ground potential connected to the contact tip KT.
  • the geometry of a contact tip K 2 and the force F 2 are coordinated with one another and with respect to the thickness and the viscosity of the layer S SO so that when the substrate is brought into the position Z, the layer S from the contact tip K 2 is pierced and the contact tip K 2 sits on the layer S 2 so that the electrically conductive connection between the layer S 2 and the ground potential is made via the contact tip K 2 .
  • the method and the arrangement according to the invention can advantageously be used in connection with a substrate which is provided with a resist system composed of three layers S T to S 3 , the layer ST consisting of a polymer resist, for example the designation PMMA, the layer S 2 consist of silicon nitride and the layer S 3 in turn consist of PMMA.
  • the layer ST consisting of a polymer resist, for example the designation PMMA
  • the layer S 2 consist of silicon nitride
  • the layer S 3 in turn consist of PMMA.
  • a very advantageous embodiment of the device according to the invention consists in this context that four spring elements E T , E 2 ... E 4 designed as leaf springs are present, one end of which is firmly connected to the holder, while the other at the other assigned contact tip K T , K 2 ... K 4 is attached.
  • these leaf springs can be measured by different designs of the spring material, the spring cross-section and the spring length, the properties that produce spring forces FT, F 2 ... F 4 when the substrate is delivered to the position Z, which ensure that the contact tip K T the layer ST assigned to it, the contact tip K 2 the layer S 2 assigned to it, the contact tip K 3 the layer S 3 assigned to it and the contact tip K 4 reach the substrate.
  • the forces are to be set in a range from 0J Newton to 2 Newton and the tip radii of the contact tips are in the range from 20 ⁇ m to 100 ⁇ m, while the thicknesses of the layers are between 0.5 ⁇ m and 2 ⁇ m.
  • FIG. 1 shows a coated substrate before contacting
  • Fig. 2 shows the coated substrate in the contacted state
  • Fig. 3 is a plan view of the substrate and contact tips
  • Direction A from FIG. 3 5 shows the path of movement of a contact tip during the
  • Fig. 6 shows the example of the geometry of a contact tip in detail
  • the coated substrate 1 is for structuring purposes by means of a corpuscular radiation which is directed parallel to the coordinate Z in the direction 3 at the resist system 2, placed on the support level 4 of a table 5
  • the resist system 2 consists of the layers S to S 3 , with PMMA being provided as layer material for the layer ST PMMA, for the layer S 2 silicon and for the layer S 3
  • the substrate 1 is first positioned relative to an exposure optics, which is not shown in the drawing, by moving the table 5 with the substrate 1 in the coordinate Z out of a position Z 0 until a predetermined distance from the surface 6 of the resist system 2 for exposure optics is set. This distance is achieved, for example, with the position ZT (FIG. 2).
  • the table 5 with the substrate 1 can be shifted step by step in the direction of the coordinates X and / or Y into the individual viewing positions
  • the invention provides for each of the layers S to S 3 and the substrate 1 to be connected to a ground potential before the exposure begins, to which the charge carriers can flow off unhindered achieved by the feed movement of the table 5 i n the position Z is used to connect each of the layers ST to S 3 and the substrate 1 to the ground potential
  • four contact tips K T to K 4 are provided in the direction of the coordinate Z above the resist system 2 on a holder 7 fixed to the frame, one of which is arranged on one of the spring elements E to E 4 , which are designed as leaf springs.
  • the contact tip K 3 penetrates the layer ST and penetrates into the layer S 2.
  • the penetration depth depends on the layer S 2 from the increase in strength from, which results from the increasing spring preload or surface pressure in the course of the infeed.
  • the increasing surface pressure ensures, again depending on the consistency and of course also the thickness of the layers ST and S 2 , that the layer S 2 is also pierced and the contact surface 8 comes into contact with the material of the layer S 3 .
  • tip angle, tip radius R, spring element E 3 and the viscosity and thickness of the layers ST and S 2 are coordinated with one another with sufficient accuracy, this makes electrical contacting of the layer S 3 via the contact tip K 3 , the spring element E 3 and an electrically conductive connection 9 to the ground potential precisely when the position Z is reached.
  • This constellation is shown in Fig. 2. It can be seen here that the contact surface 8 of the contact tip K 3 has penetrated into the resist system 2 up to the layer S 3 . Not only is the electrically conductive connection made between the layer S 3 and the ground potential, but due to the contact of the contact surface 8 with the material of the layers ST and S 2 , these two layers are also connected to the ground potential. If the exposure process begins, electrical charges that are undesirable are diverted to the ground potential.
  • a top view with a view in direction 3 shows the contact tips K T to K 4 mechanically connected to the holder 7 via spring elements ET to E 4 .
  • the contact tips KT to K 4 are movable relative to one another, the direction of movement corresponding approximately to the perpendicular to the plane of the drawing.
  • each spring element E T to E 4 is firmly clamped on one side, the contact tips K T to K 4 move during the infeed of the table 5 on a circular arc 10, the radius of which is determined by the respective spring length.
  • the position of the respective contact points between the contact tips K T to K 4 and the coated substrate 1 changes in the direction of the coordinates X and Y.
  • FIG. 5a shows, for example, the position X T of the point of contact between the contact tip K 3 and the surface 6 shortly before touchdown. During the penetration in the further course of the delivery, however, the point of contact increasingly shifts to the position X 2 (see FIG. 5b)
  • This relative movement between the contact tip K 3 and the resist system 2 has the result that the contact tip K 3 does not penetrate the layers ST and S 2 in a straight line in accordance with the infeed movement, but rather, as it were, penetrates a "scratching effect" that ensures a safe Contact is essential.
  • the material of the layers ST and S 2 to be penetrated is not simply displaced, but removed, so that an ohmic contact is definitely established.
  • Layer material from the penetrated layers S T and S 2 is also pushed onto the contact surface 8. This applies analogously to the three remaining contact tips K 1? K 2 and K 4 too.
  • Resist system 2 then so low that the scratching effect does not occur and consequently no material removal, but only material displacement occurs.
  • Straight guidance of the contact tips KT to K 4 parallel to direction 3 is also conceivable, one or more of the spring elements being able to be designed as helical springs.

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Abstract

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Belichtung eines mit einem Resistsystem (2) versehenen Substrates (1), wobei eine leitende Verbindung zwischen einem Massepotential und dem Substrat (1) und/oder mindestens einer der Schichten S1 bis Sn des Resistsystems (2) hergestellt wird. Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf eine Anordnung zur Durchführung dieses Verfahrens. Erfindungsgemäss wird in einem einzigen Verfahrensschritt erreicht, dass durch Federelemente E1 bis E4 eine Kontaktspitze K1 bis zur Schicht S1, eine Kontaktspitze K2 durch die Schicht S1 hindurch bis zur Schicht S2, eine Kontaktspitze K3 durch die Schichten S1 und S2 hindurch bis zur Schicht S3 usw. vorgeschoben werden. Die elektrischen Aufladungen aus der Schicht S1 werden über die Kontaktspitze K1 zum Massepotential abgeleitet, ebenso die Aufladungen aus der Schicht S2 über die Kontaktspitze K2 usw. und/oder aus dem Substrat (1) über eine Kontaktspitze K4.

Description

Verfahren und Anordnung zur Belichtung eines Substrates
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Belichtung eines mit einem n- schichtigen Resistsystem versehenen Substrates mit einer Korpuskularstrahlung, wobei eine elektrisch leitende Verbindung zwischen einem Massepotential und dem Substrat und/oder mindestens einer der
Schichten S-i bis Sn des Resistsystems zur Ableitung elektrischer Aufladungen hergestellt wird. Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf eine Anordnung zur Durchführung dieses Verfahrens.
Es sind Verfahren und Anordnungen zur Strukturierung von Substraten, beispielsweise von Masken oder Wafern, bekannt, bei denen das Substrat mit einem Resist beschichtet ist und diese Resistschicht einer Korpuskularstrahlung, etwa einer Elektronenstrahlung, ausgesetzt wird, um dem Substrat die vorgegebene Struktur aufzuprägen. Zur Belichtung werden die Substrate auf die Auflagefläche eines in den Koordinaten X,Y verfahrbaren Tisches abgelegt und dort gehalten, während der Tisch Schritt für Schritt in Richtung X und/oder Y verschoben und dabei zeitlich nacheinander in vorgegebene Belichtungspositionen gebracht wird, in denen die Korpuskularstrahlung der Koordinate Z entsprechend rechtwinklig auf die Resistschicht gerichtet ist. Der Resist besteht aus einem elektrisch nichtleitenden Material, das sich während der Bestrahlung elektrostatisch auflädt. Ebenso kann sich das Substrat elektrostatisch aufladen. Dieser im allgemeinen als „Charging" bezeichnete Nebeneffekt kann insbesondere bei Materialdicken der Resistschicht von > 1 μm unbeabsichtigt zur Beeinflussung der Strahlungsrichtung der Korpuskularstrahlung und damit zu Belichtungs- bzw. zu Strukturfehlern führen, was dem Bestreben der Mikroelektronikindustrie zu immer feineren Strukturen entgegenwirkt. Um dem abzuhelfen, sind verschiedene Verfahren und Anordnungen zur Ableitung der elektrischen Ladungen aus der Resistschicht und/oder aus dem Substrat während der Belichtung entwickelt worden.
So beschreibt die Japanische Patentschrift 60-117720 ein Elektronenstrahl- Belichtungsverfahren, bei dem die elektrische Aufladung aus einer mit einer Nitrid- oder Oxid-Schicht versehenen Probe abgeleitet wird, indem eine Nadel aus einem sehr harten, zunächst elektrisch nichtleitenden Material, wie Diamant, Saphir oder dergleichen, durch Implantation von beispielsweise Bor- Ionen leitfähig gemacht und dann dazu genutzt wird, die Schicht bis zur Kontaktgabe mit der Probe zu durchstoßen. Damit wird die Erdung der Probe über die an Masse gelegte Nadel erzielt und die Ableitung der Ladung bewirkt, die sich während der Belichtung in der Probe angesammelt hat. Aufgrund der Materialhärte erreicht die Nadel eine hohe Standzeit, obwohl zum
Durchstoßen der Nitrid- oder Oxid-Schicht verhältnismäßig hohe Kräfte auf die Nadel wirken müssen.
Die Vorschubbewegung der Nadel wird dabei durch das Probematerial begrenzt, das heißt die Probe bildet den Anschlag für die Nadel und verhindert deren Vordringen in das Probematerial über ein gewünschtes Maß hinaus. Nachteiligerweise ist dieses Verfahren bzw. die hier dargestellte Anordnung nur zur Kontaktierung einer unter einer Schicht verborgenen Probe geeignet, indem diese Schicht durchstoßen wird. Ist jedoch als Probe ein Substrat vorgesehen, auf das ein Resistsystem aus mehreren Schichten aufgetragen ist und soll jede der Schichten über eine separate Nadel einzeln kontaktiert und mit einem Massepotential verbunden werden, ist diese Verfahrensweise ungeeignet, da die Nadeln stets durch den gesamten Schichtaufbau hindurch bis zur Kontaktgabe mit dem Substrat gedrückt werden. Eine weitere Japanische Patentschrift 3-263814 geht davon aus, daß es bekannt ist, beispielsweise bei einer Maskenplatine, die mit einer Chromschicht und einem über der Chromschicht liegenden Resist versehen ist, mit der Spitze eines Kontaktstiftes die Resistschicht zu durchstoßen, eine elektrisch leitende Verbindung zur darunterliegenden Chromschicht herzustellen und dabei die unerwünschten Elektronen aus der Chromschicht über den Stift an ein Massepotential abzuleiten. Dieses Verfahren wird laut Patentschrift dahingehend weiterentwickelt, daß der Kontaktstift beim Durchstoßen der Resistschicht und während der Kontaktierung mit der darunterliegenden Chromschicht in Drehung um seine Längsachse versetzt wird, um eine sichere Kontaktgabe und zugleich eine Erhöhung der Standzeit der Spitze des Kontaktstiftes zu erreichen, denn die Spitze kann nunmehr gerundet ausgeführt werden. Abgesehen von dem erhöhten gerätetechnischen Aufwand, der im Hinblick auf einen Rotationsantrieb für den Stift zu betreibenden ist, besteht auch hier der Nachteil, daß die Kontaktierung jeder einzelnen von mehreren Schichten eines Resistsystems auf diese Weise nicht vorgenommen werden kann.
In der Japanischen Patentschrift 2-125416 ist eine Anordnung zur Herstellung eines elektrischen Kontaktes zwischen einer Kassette (Massepotential) und einer Chromschicht, die auf einer Maskengrundplatte unter einem Resist liegt, dargestellt. Hierbei wird außerhalb des Gebietes, das auf der Maske der Strukturierung vorbehalten ist, ein Stift mittels einer Blattfeder auf die Oberfläche der (elektrisch nichtleitenden) Resistschicht gedrückt. Danach wird die Spitze einer Elektrode, die mit einer Hochspannungsquelle verbunden ist, in der Nähe dieses Stiftes bis auf die Chromschicht durch den Resist gedrückt und dann an die Elektrode ein Spannungspotential von einigen hundert bis zehntausend Volt gelegt, wodurch der Resist einen Isolationsdurchschlag erleidet, in dessen Folge der auf dem Resist aufliegende Stift leitend mit der Chromschicht verbunden ist und die Ableitung von Aufladungen über den Stift und die Blattfeder an die Kassette erfolgt. Zur Kontaktierung jeder einzelnen von mehreren Schichten eines Resistsystems ist auch diese technische Lösung nicht geeignet und auch nicht vorgesehen.
Von diesem Stand der Technik ausgehend liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der vorbeschriebenen Art dahingehend weiterzubilden, daß bei einem mit einem mehrschichtigen Resistsystem versehenen Substrat vor Beginn der Belichtung jede einzelne der Schichten ST bis Sn des Resistsystems und bei Bedarf auch das Substrat selbst in eine elektrisch leitende Verbindungen mit einem Massepotential gebracht wird. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß in einem
Verfahrensschritt vor Beginn der Belichtung das Substrat und/oder die Schichten ST bis Sn über eine Anzahl von m Kontaktspitzen K-i bis Km elektrisch leitend mit dem Massepotential in Verbindung gebracht werden, indem das beschichtete Substrat und die Kontaktspitzen KT bis Km relativ zueinander soweit verschoben werden, bis die elektrisch leitende Verbindung zwischen dem Massepotential und dem Substrat und/oder jeder einzelnen Schicht ST bis Sn über jeweils mindestens eine der Kontaktspitzen K-i bis Km hergestellt ist.
Mit diesem nicht aufwendigen Verfahrensschritt ist vorteilhaft sichergestellt, daß zwischen jeder einzelnen der Schichten ST bis Sn bzw. dem Substrat und dem Massepotential ein ohmscher Kontakt hergestellt ist, über den die während der Belichtung entstehenden elektrischen Aufladungen effektiv abgeleitet werden. Damit wird eine ungewollte Beeinflussung der Strahlungsrichtung durch elektrische Aufladungen verhindert und insofern eine wesentliche Voraussetzung für die Genauigkeit der Belichtung bzw. für eine weitere Verfeinerung der Strukturen geschaffen. Die weiter oben beschriebenen Nachteile des Standes der Technik sind damit beseitigt.
Erfindungsgemäß wird in einem einzigen Verfahrensschritt erreicht, daß beispielsweise eine Kontaktspitze K-, bis zur Kontaktgabe mit der Schicht S-i, eine Kontaktspitze K2 durch die Schicht ST hindurch bis zur Kontaktgabe mit der Schicht S2, eine Kontaktspitze K3 durch die Schichten ST und S2 hindurch bis zur Kontaktgabe mit der Schicht S3 usw. und schließlich eine Kontaktspitze Km durch die Schichten ST bis Sn hindurch bis zur Kontaktgabe mit dem Substrat vorgeschoben werden. Die elektrischen Aufladungen aus der Schicht ST werden über die Kontaktspitze ST zum Massepotential abgeleitet, ebenso die elektrischen Aufladungen aus der Schicht S2 über die Kontaktspitze K2, aus der Schicht S3 über die Kontaktspitze K3 und aus dem Substrat über die Kontaktspitze Km.
Diese Verfahrensweise hat zugleich einen weiteren vorteilhaften Effekt, der darin besteht, daß die Kontaktspitzen K2 bis Km nicht nur die Aufladungen aus den Schichten ST bis Sm ableiten, bis zu denen sie vorgeschoben sind, sondern zusätzlich auch noch aus den Schichten ST bis Sm_τ, die sie durchstoßen haben. So werden beispielsweise durch die Kontaktspitze K2 nicht nur die elektrischen Aufladungen aus der Schicht S2 abgeleitet, sondern wegen des beim Durchstoßen hergestellten ohmschen Kontaktes zusätzlich auch aus der Schicht ST . Analog trifft das für die Kontaktspitze K3 in Bezug auf die Schichten ST und S2 zu usw.
In einer Ausgestaltungsvariante der Erfindung kann vorgesehen sein, daß lediglich die Schichten ST bis Sn des Resistsytems auf die beschriebene Weise über jeweils eine Kontaktspitze KT bis Kn mit dem Massepotential in
Verbindung gebracht wird. In diesem Falle ist die Anzahl der Kontaktspitzen gleich der Anzahl der Schichten.
Alternativ hierzu ist es jedoch denkbar, daß die Anzahl der Kontaktspitzen größer ist als die Anzahl der Schichten. Dann ist es möglich, einzelnen der Schichten S bis Sn und/oder dem Substrat nicht nur eine, sondern mehrere Kontaktspitzen zuzuordnen und so die Sicherheit der Ableitung der elektrischen Aufladung aus vorgegebenen Schichten bzw. dem Substrat zu erhöhen. Dabei kann die Kontaktierung ausgewählter Schichten bzw. des Substrates mit Hilfe mehrerer Kontaktspitzen vorgenommen werden, die an unterschiedlichen Positionen der Peripherie des Wafers oder der Maske angeordnet sind Das ist besonders dann sinnvoll, wenn die Schichten ST bis Sn in Abschnitte segmentiert sind und die einzelnen Segmente keine elektrische Verbindung untereinander haben Beispielsweise kann dann jedem Segment einer solchen Schicht jeweils eine Kontaktspitze zugeordnet werden Außerdem ist es so möglich, jeder einzelnen Schicht ST bis Sn bzw dem Substrat in Abhängigkeit von der spezifischen Leitfähigkeit des Schichtmateπals eine Anzahl von Kontaktspitzen zuzuordnen, die mit Sicherheit die schnelle Ableitung entstehender Aufladungen aus allen Bereichen dieser Schicht gewährleistet Erfindungsgemaß ist die Art und Weise der Vorschubbewegung der
Kontaktspitzen relativ zu dem beschichteten Substrat so vorgesehen, daß das Material der jeweils von einer Kontaktspitze zu durchdringenden Schicht entweder verdrangt oder abgetragen wird
Die Verdrängung des Materials beim Durchstoßen einer Schicht wird dadurch erzielt, daß die Kontaktspitze unter Einwirkung einer vorgegebenen
Vorschubkraft auf einer geraden Bewegungsbahn, bevorzugt in Z-Richtung, durch diese Schicht hindurchgefuhrt wird Aufgrund der Keilwirkung beim Eindringen der Kontaktspitze in die jeweilige Schicht und bei ihrem weiteren Vordringen wird das Schichtmateπal seitwärts in Richtung X,Y verdrangt Alternativ hierzu aber ist in einer besonders bevorzugten
Ausgestaltungsvanante der Erfindung vorgesehen, daß der Vorschub der Kontaktspitzen zwar im wesentlichen in Z-Richtung erfolgt, jedoch die Vorschubbewegung durch eine Komponente in Richtung der Koordinate X und/oder Y überlagert ist Mit dieser seitwärts gerichteten Bewegungskomponente wird ein sogenannter „Kratzeffekt" beim Eindringen der Kontaktspitzen erzielt, wodurch die Schichtmateriahen mittels der Kontaktspitzen lokal begrenzt abgetragen werden und so eine innige Kontaktgabe zur freigelegten Schicht erreicht wird Die Erfindung bezieht sich weiterhin auf eine Vorrichtung zum Strukturieren eines Substrates, das mit mehreren, ein Resistsystem bildenden Schichten S bis Sn versehen ist, bei der eine Korpuskularstrahlung zum Zweck der Belichtung auf das Resistsystem gerichtet ist und Mittel zur Ableitung der sich während der Belichtung im Resistsystem ausbildenden elektrischen Aufladungen an ein Massepotential vorgesehen sind.
Erfindungsgemäß ist bei einer derartigen Vorrichtung mindestens eine der Anzahl n der Schichten ST bis Sn entsprechende Anzahl Kontaktspitzen vorgesehen, von denen jeweils eine Kontaktspitze einer der Schichten S bis Sn zugeordnet und jede der Kontaktspitzen über einen elektrischen Leiter mit dem Massepotential verbunden ist. Des Weiteren sind das beschichtete Substrat und die Kontaktspitzen in Richtung der Korpuskularstrahlung relativ zueinander verschieblich angeordnet.
In einer bevorzugten Ausgestaltungsvariante ist das beschichtete Substrat auf einer in Richtung der Korpuskularstrahlung bis zu einer Position ZT verschieblichen Auflageebene abgelegt, während jede der Kontaktspitzen über ein gesondertes Federelement mechanisch mit einer gestellfesten Halterung verbunden ist. Dabei ist jede Kontaktspitze unter Einwirkung einer ihr zugeordneten, durch das Federelement vorgegebenen Kraft relativ zu den übrigen Kontaktspitzen und auch relativ zur gestellfesten Halterung beweglich.
Diese erfindungsgemäße Einzelaufhängung der Kontaktspitzen an gesonderten Federelementen ermöglicht es, jeder Kontaktspitze durch entsprechende Auslegung ihres Federelementes eine spezifische Kraft beizumessen, mit der diese Kontaktspitze beim Zustellen des Substrates in die Position ZT auf das Resistsystem wirkt.
Außerdem ist erfindungsgemäß vorgesehen, die einzelnen Kontaktspitzen mit unterschiedlichen Geometrien in Bezug auf ihren Spitzenwinkel α und den Spitzenradius R auszubilden. Damit ist es nach bekannten Beziehungen zwischen Kraft und Fläche und unter Berücksichtigung der Dicke und Viskosität der Schichtmaterialien möglich, die Federelemente und die Spitzengeometrie einer Kontaktspitze so aufeinander bzw. auf die Schichtmaterialien abzustimmen, daß bei der Zustellung des Substrates in die Position ZT eine vorgegebene Eindringtiefe in das Resistsystem erreicht wird.
Beispielhaft sind Spitzenwinkel α und Spitzenradius R einer Kontaktspitze KT und die ihr mit Federelement ET zugeordnete Kraft FT aufeinander und in
Bezug auf die Dicke und die Viskosität einer Schicht S so abzustimmen, daß beim Verschieben der Auflageebene für das Substrat bis zur Position Z die Kontaktspitze KT die Schicht ST nicht durchstoßen kann, sondern lediglich auf die Schicht ST aufsetzt und die elektrisch leitende Verbindung zwischen der Schicht ST und dem mit der Kontaktspitze KT verbundenen Massepotential hergestellt ist.
Weiterhin ist beispielhaft vorgesehen, daß die Geometrie einer Kontaktspitze K2 und die Kraft F2 aufeinander und in Bezug auf die Dicke und die Viskosität der Schicht S SO abstimmt sind, daß beim Zustellen des Substrates in die Position Z die Schicht S von der Kontaktspitze K2 durchstoßen wird und die Kontaktspitze K2 auf der Schicht S2 so aufsitzt, daß die elektrisch leitende Verbindung zwischen der Schicht S2 und dem Massepotential über die Kontaktspitze K2 hergestellt ist. Analog hierzu sind die Geometrie der Kontaktspitze K3 und die Kraft F3 aufeinander und in Bezug auf die Dicke und Viskosität der Schichten ST und S2 so abgestimmt, daß beim Verschieben des Substrates bis zur Position ZT die Schichten ST und S2 von der Kontaktspitze K3 durchstoßen und die elektrisch leitende Verbindung zwischen der Schicht S3 und dem Massepotential über die Kontaktspitze K3 hergestellt ist.
Das gilt in derselben Weise für die weiteren Kontaktspitzen, wobei schließlich zumindest die Geometrie der Kontaktspitze Kn und die Kraft Fn aufeinander und in Bezug auf die Dicke und die Viskosität der Schichten ST bis Sn-1 so abgestimmt sind, daß beim Verschieben des Substrates bis zur Position ZT die Schichten ST bis Sn-τ von der Kontaktspitze Kn durchstoßen und die elektrisch leitende Verbindung zwischen der Schicht Sn und dem Massepotential über die Kontaktspitze Kn sichergestellt ist. Das erfindungsgemäße Verfahren und die erfindungsgemäße Anordnung sind vorteilhaft anwendbar im Zusammenhang mit einem Substrat, das mit einem Resistsystem aus drei Schichten ST bis S3 versehen ist, wobei die Schicht ST aus einem Polymer-Resist, beispielsweise der Bezeichnung PMMA, die Schicht S2 aus Siliziumnitrid und die Schicht S3 wiederum aus PMMA bestehen.
Eine sehr vorteilhafte Ausgestaltungsvariante der erfindungsgemäßen Vorrichtung besteht in diesem Zusammenhang darin, daß vier als Blattfedern ausgebildete Federelemente ET , E2 ... E4 vorhanden sind, von denen jeweils ein Ende fest mit der Halterung verbunden ist, während jeweils am andere Ende die zugeordnete Kontaktspitze KT , K2 ... K4 befestigt ist. Diesen Blattfedern können in Abhängigkeit von den Schichtmaterialien durch unterschiedliche Ausbildung des Federmaterials, des Federquerschnitts sowie der Federlänge die Eigenschaften zugemessen werden, die bei Zustellung des Substrates in die Position Z Federkräfte FT , F2 ... F4 erzeugen, die dafür sorgen, daß die Kontaktspitze KT die ihr zugeordnete Schicht ST , die Kontaktspitze K2 die ihr zugeordnete Schicht S2, die Kontaktspitze K3 die ihr zugeordnete Schicht S3 und die Kontaktspitze K4 das Substrat erreichen.
Die Kräfte sind dabei in einen Bereich von 0J Newton bis 2 Newton zu legen und die Spitzenradien der Kontaktspitzen im Bereich von 20 μm bis 100 μm auszuführen, während die Dicken der Schichten zwischen 0,5 μm und 2 μm betragen.
Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert werden. In den zugehörigen Zeichnungen zeigen: Fig. 1 ein beschichtetes Substrat vor der Kontaktierung
Fig. 2 das beschichtete Substrat im kontaktierten Zustand
Fig. 3 eine Draufsicht auf Substrat und Kontaktspitzen
Fig. 4 Substrat und Kontaktspitzen in einer Seitenansicht in
Richtung A aus Fig. 3 Fig 5 die Bewegungsbahn einer Kontaktspitze wahrend der
Kontaktierung
Fig 6 das Beispiel der Geometrie einer Kontakspitze im Detail
In Fig 1 ist ausschnittweise eine Vorrichtung zum Strukturieren eines Substrates 1 , das mit einem Resistsystem 2 versehen ist, dargestellt Das beschichtete Substrat 1 ist zum Zwecke der Strukturierung mittels einer Korpuskularstrahlung, die parallel zur Koordinate Z in Richtung 3 auf das Resistsystem 2 gerichtet ist, auf der Auflageebene 4 eines Tisches 5 abgelegt
Das Resistsystem 2 besteht aus den Schichten S bis S3, wobei als Schichtmateπal für die Schicht ST PMMA, für die Schicht S2 Siliziumnitπd und für die Schicht S3 wiederum PMMA vorgesehen sind
Vor Beginn der Belichtung wird zunächst das Substrat 1 relativ zu einer Belichtungsoptik, die zeichnerisch nicht dargestellt ist, positioniert, indem der Tisch 5 mit dem Substrat 1 in der Koordinate Z aus einer Position Z0 heraus verschoben wird, bis ein vorgegebener Abstand der Oberflache 6 des Resistsystems 2 zur Belichtungsoptik eingestellt ist Dieser Abstand sei beispielhaft mit der Position ZT erreicht (Fig 2) Nach dieser Verschiebung kann der Tisch 5 mit dem Substrat 1 in Richtung der Koordinaten X und/oder Y schrittweise in die einzelnen Behchtungspositionen verschoben werden Um nun Aufladungen zu verhindern, durch welche die Richtung der Behchtungsstrahlung unerwünscht beeinflußt werden konnte, ist erfindungsgemaß vorgesehen, noch vor Beginn der Belichtung jede der Schichten S bis S3 und das Substrat 1 mit einem Massepotential zu verbinden, an welches die Ladungsträger ungehindert abfließen können Diese Verbindung wird erzielt, indem die Zustellbewegung des Tisches 5 in die Position Z dazu genutzt wird, jede einzelne der Schichten ST bis S3 und das Substrat 1 an das Massepotential zu legen Hierzu sind in Richtung der Koordinate Z über dem Resistsystem 2 an einer gestellfesten Halterung 7 vier Kontaktspitzen KT bis K4 vorgesehen, von denen jeweils eine an einem der Federelemente E bis E4 angeordnet ist, die als Blattfedern ausgebildet sind Von den vier Kontaktspitzen KT bis K4 ist die am Federelement ET angeordnete Kontaktspitze K der Schicht S , die am Federelement E2 angeordnete Kontaktspitze K2 der Schicht S2, die am Federelement E3 angeordnete Kontaktspitze K3 der Schicht S3 und schließlich die am Federelement E4 angeordnete Kontaktspitze K dem Substrat 1 zugeordnet (Fig 3, 4) Der Übersichtlichkeit halber ist diese Anordnung in Fig 1 und Fig 2 lediglich anhand des Federelementes E3 und der Kontaktspitze K3 dargestellt Hier ist zu erkennen, daß das Federelement E3 mit einem Ende an einer Halterung 7 befestigt ist, wahrend sich am anderen Ende freischwingend die Kontaktspitze K3 befindet Die Halterung 7 ist fest mit einem Gerategestell 11 verbunden Wird nun der Tisch 5 in Richtung Z zugestellt, erreicht die Oberflache 6 die
Kontaktspitze K3, die dabei zunächst auf die Oberflache 6 aufsetzt, im Verlaufe der weiteren Zustellung aber vor der Oberflache 6 hergeschoben wird Dabei erhöht sich die Vorspannung des Federelementes E3 und damit auch die Flachenpressung zwischen den sich berührenden Flachenabschnitten der Kontaktflache 8 und der Oberflache 6 Wird nun im weiteren Verlauf der Zustellung die Flachenpressung hinreichend groß, fuhrt das zur Zerstörung der Oberflache 6, und die Kontaktspitze K3 dringt in die Schicht ST ein Dabei ist die Eindringtiefe abhangig von der Geometrie der Kontaktspitze K3, insbesondere von deren Spitzenwinkel α und dem Spitzenradius R (vgl Fig 6) sowie von den Eigenschaften des Federelementes E3 und der Viskosität der Schicht Si
Bei entsprechender Abstimmung von Spitzenwinkel α, Spitzenradius R und Federelement E3 in Bezug auf die Viskosität und Dicke der Schicht ST durchstoßt die Kontaktspitze K3 die Schicht ST und dringt in die Schicht S2 ein Auch hier hangt die Eindringtiefe in die Schicht S2 von der Zunahme der Kraft ab, die sich aus der steigenden Federvorspannung bzw. Flächenpressung im Verlaufe der Zustellung ergibt. Die sich erhöhende Flächenpressung sorgt, ebenfalls wieder in Abhängigkeit von der Konsistenz und natürlich auch der Dicke der Schichten ST und S2 dafür, daß auch die Schicht S2 durchstoßen wird und die Kontaktfläche 8 in Berührung mit dem Material der Schicht S3 tritt.
Sind Spitzenwinkel , Spitzenradius R, Federelement E3 und Viskosität und Dicke der Schichten ST und S2 hinreichend genau aufeinander abgestimmt, ist auf diese Weise eine elektrische Kontaktierung der Schicht S3 über die Kontaktspitze K3, das Federelement E3 und eine elektrisch leitende Verbindung 9 an das Massepotential genau dann hergestellt, wenn die Position Z erreicht ist.
Diese Konstellation ist in Fig. 2 dargestellt. Hier ist zu erkennen, daß die Kontaktfläche 8 der Kontaktspitze K3 bis zur Schicht S3 in das Resistsystem 2 eingedrungen ist. Dabei ist nicht nur die elektrisch leitende Verbindung zwischen der Schicht S3 und dem Massepotential hergestellt, sondern aufgrund der Berührung der Konkaktfläche 8 mit dem Material der Schichten ST und S2 sind auch diese beiden Schichten mit dem Massepotential verbunden. Setzt nun der Belichtungsprozess ein, so werden elektrische Aufladungen, die sich unerwünscht ausbilden, an das Massepotential abgeleitet.
In Fig. 3 sind in einer Draufsicht mit Blick in Richtung 3 die über Federelemente ET bis E4 mit der Halterung 7 mechanisch verbundenen Kontaktspitzen KT bis K4 zu erkennen. Dabei sind die Kontaktspitzen KT bis K4 relativ zueinander beweglich, wobei die Bewegungsrichtung etwa der Senkrechten auf die Zeichenebene entspricht.
Fig. 4 zeigt die Federelemente E bis E4 mit den Kontaktspitzen KT bis K4 in einer Ansicht in Richtung A aus Fig. 3. Hier ist zu erkennen, daß die Kontaktspitze KT der Schicht ST , die Kontaktspitze K2 der Schicht S2, die Kontaktspitze K3 der Schicht S3 und die Kontaktspitze K4 dem Substrat 1 zugeordnet ist. Mit dieser Zuordnung ist festgelegt, daß jeweils eine der Kontaktspitzen KT bis K3 die elektrische Kontaktierung einer der Schichten ST bis S3 und die Kontaktspitze K die elektrische Kontaktierung des Substrates 1 zu gewährleisten haben Diesbezüglich sind die Federelemente E bis E4 und die Geometrien der Kontaktspitzen KT bis K4 auf die Dicken und die Viskosität der Schichten ST bis S3 so abgestimmt, daß die wahrend der Zustellbewegung des Tisches 5 erzeugten Flachenpressungen ausreichen, jede der Kontaktspitzen KT bis K3 mιt der ihr jeweils zugeordneten Schicht S bis S3 und die Kontaktspitze K4 mit dem Substrat 1 in Kontakt treten zu lassen Damit ist vorteilhaft erreicht, daß ohne zusätzliche mechanische (in Form von Rotationsantrieben für die Stifte) und ohne elektrische Hilfsmittel (z B an das Resistsystem gelegte Hochspannung) allein mit der Zustellbewegung eine sichere elektrische Verbindung jeder der Schichten S bis S3 und des Substrates 1 mit dem Massepotential gewährleistet ist Fig 5 zeigt die Bewegungsbahn einer Kontaktspitze K3 wahrend der
Kontaktierung Da jedes Federelement ET bis E4 einseitig fest eingespannt ist, bewegen sich die Kontaktspitzen KT bis K4 wahrend der Zustellung des Tisches 5 auf einem Kreisbogen 10, dessen Radius durch die jeweilige Federlange bestimmt ist Da aber der Tisch 5 geradegefuhrt ist, verändert sich die Lage der jeweiligen Berührungspunkte zwischen den Kontaktspitzen KT bis K4 und dem beschichteten Substrat 1 in Richtung der Koordinaten X und Y
Hierzu zeigt Fig 5a) beispielsweise die Position XT des Berührungspunktes zwischen der Kontaktspitze K3 und der Oberflache 6 kurz vor dem Aufsetzen Wahrend des Eindringens im weiteren Verlauf der Zustellung jedoch verschiebt sich der Berührungspunkt zunehmend zur Position X2 hin (vgl Fig 5b)
Diese Relativbewegung zwischen der Kontaktspitze K3 und dem Resistsystem 2 hat zur Folge, daß die Kontaktspitze K3 nicht geradlinig der Zustellbewegung entsprechend die Schichten ST und S2 durchdringt, sondern sich beim Durchdringen sozusagen ein „Kratzeffekt" ergibt, der für eine sichere Kontaktgabe von wesentlicher Bedeutung ist. Hierdurch wird das Material der zu durchdringenden Schichten ST und S2 nicht schlechthin verdrängt, sondern abgetragen, so daß mit Sicherheit ein ohmscher Kontakt zustandekommt. Dabei schiebt sich auch Schichtmaterial aus den durchdrungenen Schichten ST und S2 auf die Kontaktfläche 8. Das trifft analog für die drei übrigen Kontaktspitzen K1 ? K2 und K4 zu.
In Fig. 6 ist die Geometrie der Kontaktspitze K3 dargestellt, die hier beispielhaft einen Spitzenradius R = 20 μm und einen Spitzenwinkel α = 30° aufweist. Damit ergibt sich unter Berücksichtigung des vorgenannten Materials der Schichten ST und S2 und Schichtdicken von 1 μm bei entsprechend ausgebildetem Federelement E3 eine Auflagekraft der Kontaktfläche 8 auf das Schichtmaterial in der Größenordnung zwischen 0J bis 2 Newton, die ausreichend ist, die Kontaktspitze K3 während der Zustellbewegung die Schichten ST und S2 hindurch bis zur Schicht S3 eindringen zu lassen. In alternativen Ausgestaltungsvarianten der Erfindung ist es selbstverständlich möglich, den Radius des Kreisbogens 10 so groß auszuführen, daß beim Durchstoßen der vorgelagerten Schichten ST und S2, um beim Beispiel der Kontaktspitze K3 zu bleiben, vorwiegend durch Materialverdrängung erfolgt. Bei hinreichend großer Federlänge des Federelementes E3 ist die Bewegungskomponente X beim Eindringen der Kontaktspitze K3 in das
Resistsystem 2 dann so gering, daß der Kratzeffekt ausbleibt und demzufolge kein Materialabtrag, sondern lediglich eine Materialverdrängung eintritt. Auch ist eine Geradführung der Kontaktspitzen KT bis K4 parallel zur Richtung 3 denkbar, wobei eines oder mehrere der Federelemente als Schraubenfedern ausgebildet sein können. Bezugszeichenliste
1 Substrat
Resistsystem
3 Richtung der Korpuskularstrahlung
Auflageebene
5 Tisch
6 Oberfläche des Resistsystems
7 Halterung
8 Kontaktfläche
9 Leiter
10 Kreisbogen
11 Gerätegestell
Si - -s3 Schichten
Ki - -K4 Kontaktspitzen
ET - -E4 Federelemente

Claims

Patentansprüche
1 ) Verfahren zur Belichtung eines mit einem n-schichtigen Resistsystem (2) versehenen Substrates (1 ) mit einer Korpuskularstrahlung, wobei eine elektrisch leitende Verbindung zwischen einem Massepotential und dem Substrat (1 ) und/oder mindestens einer der Schichten S bis Sn des
Resistsystems (2) zur Ableitung elektrischer Aufladungen hergestellt wird, dadurch gekennzeichnet, daß in einem Verfahrensschritt vor Beginn der Belichtung die Schichten S bis Sn über eine Anzahl von m Kontaktspitzen KT bis Km elektrisch leitend mit dem Massepotential in Verbindung gebracht werden, indem das beschichtete Substrat (1 ) und die
Kontaktspitzen KT bis Km relativ zueinander soweit verschoben werden, bis die elektrisch leitende Verbindung zwischen dem Massepotential und jeder einzelnen Schicht ST bis Sn über jeweils mindestens eine der Kontaktspitzen KT bis Km hergestellt ist. 2) Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß zudem eine elektrisch leitende Verbindung zwischen dem Massepotential und dem Substrat (1 ) über mindestens eine der Kontaktspitzen KT bis Km hergestellt ist.
3) Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß eine Kontaktspitze KT bis zur Kontaktgabe mit der Schicht ST , eine
Kontaktspitze K2 durch die Schicht ST hindurch bis zur Kontaktgabe mit der Schicht S2, eine Kontaktspitze K3 durch die Schichten ST und S2 hindurch bis zur Kontaktgabe mit der Schicht S3 usw. vorgeschoben werden. 4) Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Kontaktspitze KT bis zur Kontaktgabe mit der Schicht S eine Kontaktspitze K2 durch die Schicht ST hindurch bis zur Kontaktgabe mit der Schicht S2, eine Kontaktspitze K3 durch die Schichten ST und S2 hindurch bis zur Kontaktgabe mit der Schicht S3 usw und schließlich eine
Kontaktspitze Km durch die Schichten ST bis Sn hindurch bis zur Kontaktgabe mit dem Substrat (1 ) vorgeschoben werden
5) Verfahren nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß einzelne der Schichten ST bis Sn und/oder das Substrat (1 ) über weitere Kontaktspitzen K bis Km, deren Anzahl der
Differenz m-n entspricht, mit dem Massepotential in Verbindung gebracht werden
6) Verfahren nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorschubbewegung der Kontaktspitzen KT bis Km zumindest nahezu parallel zur Richtung (3) der Korpuskularstrahlung erfolgt, wobei das Material der jeweils zu durchdringenden Schichten ST bis Sn verdrangt wird, bis jede der Kontaktspitzen K bis Km die ihr zugeordnete Schicht ST bis Sn bzw das Substrat (1 ) erreicht hat
7) Verfahren nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorschubbewegungen der einzelnen
Kontaktspitzen KT bis Km Bewegungskomponenten in den Koordinaten X und/oder Y aufweisen, wodurch das Material der jeweils zu durchdringenden Schichten S bis Sn abgetragen wird, bis jede der Kontaktspitzen KT bis Km die ihr zugeordnete Schicht ST bis Sn bzw das Substrat (1 ) erreicht hat
8) Vorrichtung zum Strukturieren eines mit mehreren Schichten S bis Sn eines Resistsystems (2) versehenen Substrates (1 ), bei der eine Korpuskularstrahlung zum Zweck der Belichtung auf das Resistsystem (2) gerichtet ist und Mittel zur Ableitung der sich wahrend der Belichtung im Resistsystem (2) ausbildenden elektrischen Aufladungen an ein Massepotential vorgesehen sind, dadurch gekennzeichnet, daß jeder der Schichten ST bis Sn mindestens eine von m Kontaktspitzen KT bis Km zugeordnet ist, jede Kontaktspitze KT bis Km über eine elektrisch leitende Verbindung (9) mit dem Massepotential verbunden ist und das beschichtete Substrat (1 ) und die Kontaktspitzen KT bis Km in Richtung (3) der Korpuskularstrahlung relativ zueinander verschiebhch angeordnet sind
9) Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß dem Substrat (1 ) mindestens eine der Kontaktspitzen KT bis Km zugeordnet ist
10) Vorrichtung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß das beschichtete Substrat (1) auf einer in Richtung (3) der Korpuskularstrahlung bis zu einer Position ZT verschieblichen Auflageebene (4) angeordnet ist, wahrend die Kontaktspitzen KT bis Km gesondert über Federelemente ET bis Em mechanisch mit einer gestellfesten Halterung (7) verbunden sind, wobei jede der Kontaktspitzen KT bis Km unter Einwirkung einer ihr zugeordneten, durch Federelemente ET bis Em vorgegebenen Kraft FT bis Fm relativ zueinander und zur Halterung (7) beweglich sind 11) Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Geometrie der Kontaktspitze KT und die durch das Federelement ET vorgegebene Kraft FT aufeinander und in Bezug auf die Dicke und die Viskosität der Schicht ST SO abgestimmt sind, daß beim Verschieben des Substrates (1) bis zur Position ZT die elektrisch leitende Verbindung zwischen der Kontaktspitze KT und dem Massepotential hergestellt ist
12) Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 bis 1 1 , dadurch gekennzeichnet, daß die Geometrie der Kontaktspitze K2 und die Kraft F2 aufeinander und in Bezug auf die Dicke und die Viskosität der Schicht S so abgestimmt sind, daß beim Verschieben des Substrates (1 ) bis zur Position ZT die Schicht ST von der Kontaktspitze K2 durchstoßen und die elektrisch leitende Verbindung zwischen der Schicht S2 und dem Massepotential über die Kontaktspitze K2 hergestellt ist, die Geometrie der Kontaktspitze K3 und die Kraft F3 aufeinander und in Bezug auf die Dicke und die Viskosität der Schichten ST und S2 so abgestimmt sind, daß beim •
Verschieben des Substrates (1 ) bis zur Position ZT die Schichten ST und S2 von der Kontaktspitze K3 durchstoßen und die elektrisch leitende Verbindung zwischen der Schicht S3 und dem Massepotential über die Kontaktspitze K3 hergestellt ist usw. und die Geometrie der Kontaktspitze Kn und die Kraft Fn aufeinander und in Bezug auf die Dicke und die
Viskosität der Schichten S bis Sn-τ so abgestimmt sind, daß beim Verschieben des Substrates (1) bis zur Position ZT die Schichten ST bis Sn-τ von der Kontaktspitze Kn durchstoßen und die elektrisch leitende Verbindung zwischen der Schicht Sn und dem Massepotential über die Kontaktspitze Kn hergestellt ist.
13) Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Resistsystem (2) aus drei Schichten ST bis S3 gebildet ist, wobei die Schicht ST aus einem Polymer-Resist, die Schicht S2 aus Siliziumnitrid und die Schicht S3 wiederum aus dem Polymer- Resist bestehen.
14) Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß vier als Blattfedern ausgebildete Federelemente ET bis E vorgesehen sind, von denen jeweils ein Ende mit der Halterung (7) und das gegenüberliegende Ende mit der zugeordneten Kontaktspitze KT bis K4 verbunden ist. 15) Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Kräfte FT bis F4 der Federelemente E bis E4 im Bereich von 0J bis 2 Newton liegen, die Kontaktflächen (8) der Kontaktspitzen KT bis K4 mit Radien R im Bereich von 20 μm bis 100 μm versehen sind und die Dicken der Schichten ST bis S3 etwa 0,5 μm bis 2 μm betragen.
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