WO2000040402A1 - Layered product - Google Patents

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WO2000040402A1
WO2000040402A1 PCT/JP1999/007344 JP9907344W WO0040402A1 WO 2000040402 A1 WO2000040402 A1 WO 2000040402A1 JP 9907344 W JP9907344 W JP 9907344W WO 0040402 A1 WO0040402 A1 WO 0040402A1
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Yuko Tachibana
Hisashi Ohsaki
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Asahi Glass Co Ltd
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    • Y10T428/2651 mil or less

Definitions

  • the present invention relates to a laminate having a titanium oxide layer and a method for producing the same.
  • a laminate in which a metal layer is laminated on a transparent substrate such as glass (hereinafter, referred to as a “metal-containing laminate”) is used for the purpose of suppressing radiation of heat rays and reducing the load of cooling and heating. Widely used for windowpanes of automobiles and automobiles.
  • the metal-containing laminate is also used as a shielding material for suppressing leakage of electromagnetic waves radiated from various devices such as plasma displays.
  • the metal-containing laminate When the metal-containing laminate is applied to window glass or the like, it is required to reduce the emission of heat rays and to have a high visible light transmittance, and at the same time, to have a low visible light reflectance and a favorable reflection color tone.
  • the metal-containing laminate when used as an electromagnetic wave shielding material, it is required to have not only high conductivity, but also high visible light transmittance and low visible light reflectance as much as possible, and more preferable reflection color tone.
  • c low in order to obtain a high visible light transmittance, c low is known that laminate film formed by laminating alternately a dielectric layer and a metal layer are preferred hot wire Only emissivity (ie high conductivity) can be obtained by thickening the metal layer. This causes a decrease in visible light transmittance and an increase in visible light reflectance. In addition, since the wavelength band in which a low reflectance is obtained in the visible light region is narrowed, a preferable reflection color tone is impaired.
  • the wavelength width at which a low reflectance is obtained in the visible light region is broadened compared to the case where a material having a lower refractive index than titanium oxide is used. And a more favorable reflection color tone can be obtained.
  • the visible light transmittance was reduced due to this force, and the reduction rate of the visible light transmittance was increased as the number of layers increased.
  • An object of the present invention is to improve the transmittance in the visible region of a laminate using titanium oxide.
  • Another object of the present invention is to improve the scratch resistance of a laminate using titanium oxide. Disclosure of the invention
  • the present invention provides a laminate in which a titanium oxide layer, a metal layer, a titanium oxide layer, and a force are alternately laminated in this order on a substrate, and 2 n + l (n is a positive integer) layers, Provided is a laminate in which an intermediate layer having a refractive index of less than 2.4 at a wavelength of 550 nm is interposed in at least one of the layers between the oxide layer and the metal layer.
  • the present invention provides a method for producing a laminate in which a titanium oxide layer, a metal layer, and a titanium oxide layer are alternately laminated on a base in an order of 2 n + 1 (n is a positive integer).
  • a method for producing a laminate having a step of interposing an intermediate layer having a refractive index of less than 2.4 at a wavelength of 550 nm in at least one layer between a titanium oxide layer and a metal layer.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the layer structure of the laminate manufactured in Examples 1 to 5, 18 to 19, 63 to 68, and 81 to 89.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating a layer configuration of the laminate manufactured in Comparative Example 1.
  • FIG. 3 shows Examples 6 to 12, 20 to 21, 69 to 72, 90 to 100, 122 to 1
  • FIG. 26 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of a laminate manufactured in 26, and 127 to 1331.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the layer structure of the laminate manufactured in Examples 13 to 17 and 73 to 80.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the layer configuration of the laminates manufactured in Comparative Examples 2 and 3.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the layer configuration of the laminates manufactured in Comparative Examples 4 and 5.
  • FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the thickness of the intermediate layer and the visible light transmittance of the laminates manufactured in Examples 1 to 17.
  • FIG. 8 is a diagram showing the visible spectral characteristics of the laminates manufactured in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1.
  • FIG. 9 is a diagram showing visible spectral characteristics of the laminates manufactured in Examples 6 and 8 and Comparative Example 1.
  • FIG. 10 is a diagram showing the visible spectral characteristics of the laminates manufactured in Examples 13 to 15 and Comparative Example 1.
  • FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing the layer structure of the laminate manufactured in Examples 22 to 23 and 101 to 102 of the present invention.
  • FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing the layer configuration of the laminate manufactured in Comparative Example 6.
  • FIG. 13 is a schematic cross-sectional view showing the layer structure of the laminate manufactured in Examples 24 to 25 and 103 to 104.
  • FIG. 14 is a schematic cross-sectional view showing the layer structure of the laminate manufactured in Examples 26 to 27 and 105 to 106.
  • FIG. 15 is a schematic cross-sectional view showing the layer configuration of the laminate manufactured in Examples 28 to 29 and 107 to 108.
  • FIG. 16 is a schematic cross-sectional view showing the layer structure of the laminate manufactured in Examples 30 to 31 and 109 to 110.
  • FIG. 17 is a schematic cross-sectional view showing a layer configuration of the laminate manufactured in Examples 32 to 33 and 11 to 11.
  • FIG. 18 is a schematic cross-sectional view showing the layer configuration of the laminate manufactured in Examples 34 to 35 and 113 to 114.
  • FIG. 19 shows the layer structure of the laminate manufactured in Examples 36 to 37 and 115 to 116.
  • FIG. 20 is a schematic cross-sectional view showing the layer configuration of the laminate manufactured in Examples 3840 and 117-121.
  • FIG. 21 is a diagram showing the visible spectral characteristics of the laminates manufactured in Example 380 and Comparative Example 6.
  • FIG. 22 is a schematic cross-sectional view illustrating a layer configuration of the laminated body manufactured in Example 41
  • FIG. 23 is a schematic cross-sectional view illustrating a layer configuration of the laminated body manufactured in Example 43. is there.
  • FIG. 24 is a schematic cross-sectional view illustrating the layer configuration of the laminate manufactured in Comparative Example 7.
  • FIG. 25 is a schematic cross-sectional view illustrating the layer configuration of the laminate manufactured in Example 44.
  • FIG. 26 is a schematic cross-sectional view showing the layer configuration of the laminate manufactured in Example 45.
  • FIG. 27 is a schematic cross-sectional view illustrating a layer configuration of the laminate manufactured in Examples 46 to 47.
  • FIG. 28 illustrates a layer configuration of the laminate manufactured in Examples 48 to 54.
  • FIG. 29 is a schematic cross-sectional view ( FIG. 29 is a schematic cross-sectional view illustrating a layer configuration of a laminate manufactured in Comparative Example 9).
  • FIG. 30 is a diagram showing the relationship between the visible light transmittance and the sheet resistance of the laminates manufactured in Examples 48 to 50 and Comparative Examples 9 to 11.
  • FIG. 31 is a diagram showing the relationship between the visible light reflectance and the sheet resistance of the laminates manufactured in Examples 48 to 50 and Comparative Examples 9 to 11.
  • FIG. 32 is a schematic cross-sectional view showing a layer structure of the laminate manufactured in Examples 55 to 57
  • FIG. 33 is a cross-sectional view of the laminate manufactured in Examples 55 to 57 and Comparative Examples 12 to 14
  • FIG. 7 is a view showing a relationship between a visible light transmittance and a sheet resistance value in a laminated body.
  • FIG. 34 is a diagram showing the relationship between the visible light reflectance and the sheet resistance of the laminates manufactured in Examples 55 to 57 and Comparative Examples 12 to 14. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • the metal layer and the titanium oxide layer are alternately laminated in a pair on the first titanium oxide layer on the substrate side. Only one pair of the metal layer and the titanium oxide layer may be stacked, or a plurality of pairs may be stacked.
  • the laminate of the present invention may have a layer configuration in which a metal layer and a titanium oxide layer are each laminated only one layer on the first layer, or on the first layer, It may have a layer configuration in which a plurality of layers are alternately stacked in the order of a metal layer and a titanium oxide layer.
  • the substrate is not particularly limited.
  • window glass made of soda lime glass, netted glass, frosted glass, etc.
  • window glass for vehicles such as automobiles, 3) PET, etc.
  • Plastic films made of acrylic resin, etc., 5) glass, plastic films and plastic plates used for displays.
  • a transparent substrate is preferable.
  • Each titanium oxide layer in the laminate of the present invention is preferably a layer having a refractive index at a wavelength of 550 nm of 2.4 or more, and may be composed of only a titanium oxide (titania), A small amount of other elemental components other than titanium may be included. Examples of the other element components include Nb, Cr, Zr, and the like.
  • the thickness of the first layer on the substrate side and the thickness of the titanium oxide layer farthest from the substrate are preferably from 20 to 60 nm, particularly from 25 to 4 nm. 5 nm is preferred.
  • the thickness of the titanium oxide layer other than the first layer and the titanium oxide layer farthest from the substrate is preferably 40 to 120 nm, particularly preferably 50 to 90 nm, and visible. From the viewpoint of reducing the light reflectivity and broadening the wavelength band in which a low reflectivity can be obtained.
  • the first layer and the titanium oxide layer farthest from the substrate are thinner than the other titanium oxide layers. (Especially a thickness of about 1/2).
  • the plurality of titanium oxide layers may have the same composition as each other or may have different compositions.
  • the metal layer has at least one selected from silver, copper and gold. It is preferable that the layer contains a kind of metal. Silver, copper, gold or alloys containing these as main components may be used.
  • alloys containing silver, copper or gold as main components include: 1) a silver Pd alloy containing Pd at 5.0 atomic% or less (preferably in the range of 0.1 to 3 atomic ° / 0 ) 2) silver containing at Au a 5.0 atomic% or less (preferably 0.1 to 3 atomic% range) - gold alloy, or 3) (1 and ⁇ :? each 0.5 to 3 atomic 0 / Examples include silver Pd—Cu alloys that are included in the range of 0. Note that the above content ratio is a ratio to the total amount with silver, and will be used in the same meaning hereinafter.
  • each metal layer may be a layer having the same composition or a layer having a different composition.
  • the thickness of the metal layer is preferably from 8 to 30 nm. From the viewpoint of reducing the visible light reflectance and broadening the wavelength band in which a low reflectance can be obtained, the thickness of the metal layer closest to the base and the thickness of the metal layer furthest from the base are the same as those of the other metal layers. It is preferably 0.5 to 1.0 times.
  • the total thickness is preferably 120 nm or less.
  • the number of metal layers is two when the target of the resistance value of the obtained laminate is 2.
  • the target of the resistance value is 1.5 ⁇ / b
  • the target of the resistance value is 0.5
  • a plurality of intermediate layers may be provided, or may be provided above and below the metal layer with the metal layer interposed therebetween. In particular, it is preferable because all the metal layers are sandwiched between the two intermediate layers and have the highest visible light transmittance.
  • a configuration in which an intermediate layer force s is provided above the metal layer is preferable in terms of excellent scratch resistance.
  • the abrasion resistance is lower than when an intermediate layer is provided above the metal layer closest to the base.
  • the intermediate layer may be made of any material as long as the refractive index at a wavelength of 550 nm is less than 2.4. In particular, a material made of a material having a refractive index of 1.6 to 2.39 is preferable.
  • the intermediate layer is preferably a layer made of at least one selected from oxides, nitrides, oxynitrides, carbides and borides. Specific examples of the material constituting the intermediate layer include silicon nitride (refractive index: 2.0), niobium oxide (refractive index: 2.35), zinc oxide (refractive index: 2.0), and oxide. Tin (refractive index: 2.0).
  • the intermediate layer is not intended to improve the visible light transmittance by the optical interference effect, and the intermediate layer is effective even if the thickness is smaller than the thickness causing the optical interference effect.
  • the intermediate layer suppresses the generation of surface plasmons at the interface between the metal layer and the titanium oxide layer, thereby suppressing the loss of visible light in the laminate caused by light absorption by surface plasmons.
  • the upper limit of the thickness of the intermediate layer is 30 nm, especially 10 nm. nm, preferably 5 nm.
  • the upper limit of the thickness of the intermediate layer is preferably 20 nm, particularly preferably 15 nm.
  • the lower limit of the thickness of the intermediate layer is preferably 0.1 nm, particularly preferably 0.5 nm.
  • the total thickness is preferably 40 nm or less.
  • the laminate of the present invention has high conductivity, it has electromagnetic wave shielding performance. Further, since it has a high reflectance in the near-infrared region, it also has near-infrared shielding performance.
  • the transmittance at a wavelength of 900 nm is preferably 15% or less.
  • the laminate of the present invention has a sheet resistance of 0.5 to 3.5 ⁇ and a visible light transmittance of 4
  • the visible light reflectance is 0% or more and 10% or less.
  • the laminate of the present invention preferably has an emissivity of 0.08 or less.
  • Electromagnetic waves radiated from an electromagnetic wave source such as a plasma display using the laminate of the present invention It is also preferable to use it for the purpose of suppressing the leakage of water.
  • the laminate of the present invention preferably has an electromagnetic wave shielding factor at 30 ° z of 10 db or more, particularly preferably 15 db or more, and further preferably 17 db or more. If the sheet resistance value is the same, the electromagnetic shielding factor will be almost the same.
  • the laminate of the present invention when used for an application that emphasizes low reflection performance, it is preferable to laminate a resin film having further low reflection performance on the laminate, and to reduce the visible light reflectance to 3% or less. be able to.
  • the laminate of the present invention When the laminate of the present invention is used for applications that emphasize near-infrared shielding performance, it is preferable to further laminate a resin film having near-infrared shielding performance, and to reduce the transmittance at a wavelength of 900 nm by 5%. % Or less.
  • the resin film is bonded 1) on the multilayer film of the laminate of the present invention, and Z or 2) on the substrate surface opposite to the substrate surface on which the laminate of the present invention is formed.
  • the resin film having low reflection performance examples include a resin film formed of urethane, PET, or the like, on which an antireflection layer is formed.
  • the resin film has low reflection performance and also has scattering prevention performance.
  • the antireflection layer 1) a non-crystal properties of the fluoropolymer (e.g., Asahi Glass Co. site top) made of a low refractive index layer. 2) Low consisting S i 0 2, M g F 2 etc. Refractive index layers, 3) multilayer films in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately stacked, 4) porous silica films, and the like.
  • Examples of the resin film having near-infrared shielding performance include those obtained by mixing a near-infrared absorbing agent into a resin film made of urethane, PET, or the like. Further, a near-infrared absorbing agent may be mixed into the adhesive layer used for bonding.
  • the titanium oxide layer is formed by, for example, a method of forming by a direct current sputtering method using a reducing target of titanium oxide, a reactive sputtering method, an ion plating method, and a vapor deposition method. It can be formed according to the CVD method.
  • the method of forming by a DC sputtering method using a reducing target of titanium oxide can prevent oxidation of the metal layer when forming the titanium oxide layer on the metal layer, and has a high speed and a large area. This is advantageous in that it can be formed uniformly.
  • the reducing target of titanium oxide is a target that is deficient in oxygen relative to the stoichiometric composition of titanium oxide. Specifically, it is preferable to use one having a composition represented by the formula of TiO x (1 ⁇ x ⁇ 2). Titanium oxide reducing targets can be prepared, for example, by using titania powder or a mixture of titania powder and titanium powder as a raw material described in International Publication It can be manufactured by the joining method or the thermal spraying method.
  • 0. 1 is preferred to use an inert gas containing 1 0 vol 0/0 of an oxidizing gas.
  • the use of an inert gas containing an oxidizing gas having a concentration in this range as a sputtering gas is effective in suppressing the oxidation of the metal layer when forming the titanium oxide layer, and has a low emissivity and high conductivity. This is effective in that a laminated body having the following can be manufactured. Especially 0.1 to 5 volumes. It is preferable to use an inert gas containing an oxidizing gas of / 0 .
  • oxygen gas can be generally used, but nitric oxide, nitrogen dioxide, carbon monoxide, carbon dioxide, ozone and the like can also be used.
  • the metal layer can be formed according to various methods such as a sputtering method, a CVD method, and a vapor deposition method.
  • a sputtering method a sputtering method
  • CVD method a vapor deposition method
  • the formation of the intermediate layer can be performed according to a method appropriately selected according to the composition of the layer to be formed.
  • a method such as a sputtering method, a CVD method, and an evaporation method.
  • a direct current sputtering method is preferable.
  • the laminate of the present invention includes a heat-shielding article (for example, a heat-shielding window glass), an optical filter (for example, a near-infrared shielding filter installed on the front of the PDP), and an electromagnetic wave-shielding article (for example, an electromagnetic wave shielding plate installed on the front of the PDP).
  • a heat-shielding article for example, a heat-shielding window glass
  • an optical filter for example, a near-infrared shielding filter installed on the front of the PDP
  • an electromagnetic wave-shielding article for example, an electromagnetic wave shielding plate installed on the front of the PDP.
  • the spectral transmittance and the spectral reflectance at a wavelength of three hundred forty to seven hundred eighty nm was measured, in conformity with JISR 3 1 06, against the CIE standard illuminant D 65 as defined in JISZ 8720, visible by the spectral luminous efficiency of CIE light adaptation
  • the hemispherical emissivity and the hemispherical value are measured using a SCALING DEGITAL VOLTMETER (commonly known as an emissomiter) manufactured by Devices & Services. The correction coefficient between and was determined in advance.
  • the emisomitter values of the samples obtained in the examples and comparative examples were measured, and the hemispherical emissivity was determined by multiplying the emisomitter value by the correction coefficient.
  • the pencil scratch value was measured under a load of 1 kg according to JIS K 5400, and the measured value was used as an index of scratch resistance.
  • a metal layer made of silver containing 1 atomic% of Pd (hereinafter simply referred to as “Ag Pd layer) (14 nm thick).
  • the content of palladium in the target is the ratio to the total amount with silver, and will be used in the same meaning hereinafter.
  • Si area: 432 mm X 127 mm
  • Example X the laminate obtained in Example X is referred to as “laminate A-X”.
  • titania layer 2 have A g _ 1 at% P d layer 3 have S i N x interlayer 4 2 and titania Tier 5! Are laminated.
  • 1 is a source one da-lime glass, 2, titania layer, 3, 3 2, 3 3, 3 4, A g -! Lat% P d layer, have 4 12, 4 21, 4 22, 4 31, 4 32, 4, 4 42, an intermediate layer, 5 had 5 2, 5 3, 5 4, titania layer, 6, a top coat layer, 7 is a bottom coat layer, 8, resin Film.
  • Table 1 shows the visible light transmittance, visible light reflectance, sheet resistance, and emissivity of the laminate A-1.
  • Example 2 As shown in FIG. 2 in the same manner as in Example 1 except that the SiN x intermediate layer 4 12 was not formed, a 33-nm-thick titania layer 2 j and a thickness 14 were formed on soda-lime glass 1.
  • the laminate obtained in Comparative Example Y is referred to as “laminate BY”.
  • Table 1 shows the visible light transmittance, the visible light reflectance, the sheet resistance, and the emissivity of the obtained laminated body II-1.
  • Laminates A-2 to A-17 and Laminates B-2 to B-5 were produced.
  • the laminates A—2 to A—5 were successively formed on a soda lime glass 1 in the order of a titania layer 2 Ag—1 at% Pd layer 3 S i N x intermediate layer 4 j and titania layer 5 have a laminated structure.
  • the laminates A-6 to A-12 (Examples 6 to 12) On Mugarasu 1, sequentially, titania layer 2,, S i N x intermediate layer 4, A g - with 1 at% P d layer 3, and a titania layer 5] force s stacked configuration.
  • the laminates A—13 to A—17 were sequentially formed on a soda lime glass 1 by a titania layer 2 or a SiN x intermediate layer 4. ! , Ag—1 at% Pd layer 3, a S i N x intermediate layer 4 i 2, and a titania layer 5, which are stacked.
  • the laminates ⁇ -2 and ⁇ -3 (Comparative Examples 2 and 3) were successively provided with a titania layer 2 ⁇ Ag—lat% Pd layer 3 ⁇ titania on soda lime glass 1. It has a configuration in which a layer 5, and a top coat layer 6 made of SiN x are laminated. As shown in FIG.
  • the laminates B—4 and B_5 (Comparative Examples 4 and 5) were sequentially coated on a soda-lime glass 1 with a bottom coat layer 7 composed of SiN x and a titania layer 2A. g-1 at% Pd layer 3 and titania layer 5 are laminated.
  • the top coat layer consisting of S i N x it has displaced the bottom coat layer consisting of S i N x was also formed by the same forming method as S i x interlayer.
  • FIG. 8 shows the visible spectral characteristics of the laminates A-1 and A-2 together with the visible spectral characteristics of the laminate B-1.
  • FIG. 9 shows the visible spectral characteristics of the laminates A-6 and A-8 together with the visible spectral characteristics of the laminate B-1.
  • FIG. 10 shows the visible spectral characteristics of the laminates A-13, A-14 and A-15, together with the visible spectral characteristics of the laminate B-1.
  • the top and bottom of the Ag—1 at% Pd layer The laminate having the configuration including the S i N x intermediate layer exhibited higher visible light transmittance than the laminate having the configuration including the intermediate layer only above or below the Ag-1 at% Pd layer.
  • the visible light transmittance is about 3% higher than that of the laminate B-1 having no intermediate layer.
  • the thickness of the Six intermediate layer is effective at 0.5 nm, and the effect does not depend on the film thickness.
  • the bottom coat of SiN x before forming the first titania layer and the top coat of SiN x of the uppermost layer have almost no effect of improving the transmittance.
  • the resulting laminates A-18 to 21 were evaluated for scratch resistance. Also, the laminates obtained in Examples 12, 4, 5, 8, 11, and 12, and Comparative Example 1 were measured in the same manner. Table 3 shows the results.
  • the index of scratch resistance was obtained for a laminate having a layer configuration in which a SiN x intermediate layer having a thickness of 0.5 nm or more was formed on the Ag-1at% Pd layer. It can be seen that the pencil scratch value is improved. In addition, even in a laminate having a layer structure in which a SiN x intermediate layer having a thickness of l nm or more is formed under the Ag—1 at% Pd layer, a pencil scratch, which is an indicator of scratch resistance, is used. It can be seen that the value improves.
  • a laminate having a layer configuration in which an intermediate layer is formed on the Ag-lat% Pd layer has a greater effect of improving the pencil bow I grip value, and is obtained by increasing the thickness of the intermediate layer. It can be seen that the pencil draw value is further improved.
  • Example 2 In the same manner as in Example 1, on the soda lime glass 1, a 33 nm-thick titanium layer 2), a 1 nm-thick SiN x intermediate layer 4! After laminating a 1411: 11 8-2—1 t% Pd layer 3, and a 66-nm-thick titania layer 5, a thickness of 1411111-8-1 at% P d layer 3 2, and a thickness of 3 3 nm titania layer 5 2 are laminated to produce a laminate A- 2 2 of the configuration shown in FIG 1.
  • Table 4 (part 1) shows the visible light transmittance, the visible light reflectance, the sheet resistance, and the emissivity of the obtained laminate A-22.
  • Table 4 shows the visible light transmittance, the visible light reflectance, the sheet resistance, and the emissivity of the obtained laminate B-6.
  • the laminate A-23 (Example 23) is shown in FIG. 11, the laminates A-24 and A-25 (Examples 24 and 25) are shown in FIG. 13, and the laminates A-26 and A-27 is shown in Fig. 14, Laminate A-28 and A-29 are shown in Fig. 15, Laminate A- 30 and A-31 are shown in Fig. 16, Laminate A- 32 And A-33 in Figure 17; Laminates A-34 and A-35 in Figure 18; Laminates A-36 and A-37 in Figure 19; Laminates A-38 To A-40 have the configurations shown in FIG.
  • FIG. 21 shows the visible spectral characteristics of the laminates A-38, A-39 and A-40, together with the visible spectral characteristics of the laminate B-6.
  • the sheet resistance was measured before laminating the low-reflection resin film. The same applies to the following.
  • the laminated body with the SiN x intermediate layer above and below each of the two Ag—1 at% Pd layers shows the highest visible light transmittance
  • the comparative example 6 has the SiN x intermediate layer It shows about 6% higher visible light transmittance than the non-laminated laminate.
  • the film thickness of the S i N x intermediate layer is effective in 1 nm, the effect does not depend on the film thickness.
  • the transmittance of light at a wavelength of 900 nm and the electromagnetic wave shielding factor at a frequency of 3 OMHz were measured, and were 14.5% and 15 dB, respectively. From these results, it is clear that the laminate A-38 has good near-infrared shielding performance and electromagnetic wave shielding performance. It turns out that it has a function.
  • Target made of silver containing 1 atomic 0/0 palladium (area 4 3 2 mmX 1 2 7 mm ) A g- 1 at% P d layer formed using a 1 atom 0/0 palladium Using a target made of silver containing 1 atomic% of copper (area: 432 mm x 127 mm), using argon gas as sputter gas and supplying 0.3 kW of power, Examples 38, 39, and 89 except for changing to a metal layer made of silver containing 1 at% 1!
  • Laminates A—38a, A—39a, and A—40a were produced in the same manner as in Example 40.
  • the obtained laminate was evaluated in the same manner as laminate A-38. The results are shown in Table 4 (part 3).
  • the obtained laminate was evaluated in the same manner as in the laminate A-38. Table 4 shows the results.
  • the laminate using the Ag-1at% Au layer In the laminate using the Ag-1at% Au layer, the same good result as the laminate using the Ag-1at% Pd layer can be obtained.
  • the laminate using the Ag-1 at% Au layer has a larger thickness than the laminate using the Ag-1 at% Pd layer. Can obtain a high visible light transmittance of about 2%, and at the same time, a sheet resistance of about 10% lower when the thickness of the metal layer is the same.
  • a low-refractive-index antireflection layer made of an amorphous fluoropolymer (Cytop, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) is formed on one side of a polyurethane soft resin film (thickness: 200 m), and the other side is formed.
  • a resin film having a low reflection performance with an acryl-based adhesive layer formed thereon (hereinafter referred to as a “low-reflection resin film”) was prepared.
  • the visible light transmittance, the visible light reflectance, the transmittance of light having a wavelength of 900 nm, and the sheet resistance were measured in the same manner as in Example 38. Table 5 shows the results.
  • Example 4 A near-infrared absorbing agent (SIR 159, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was added to the acrylic adhesive in an amount of 5% by weight based on the acrylic adhesive in the acryl adhesive layer of the low-reflection resin film used in Example 1.
  • a resin film with near-infrared shielding as well as performance hereinafter referred to as “low-reflection near-infrared shielding resin film”.
  • Example 41 the surface of the soda lime glass on the titania layer 52 of the laminate A-38 obtained in Example 38 and on the side opposite to the side on which the laminated film was laminated. Then, a low-reflection near-infrared shielding resin film was bonded to each of them to produce a laminate A-42.
  • the obtained laminate A-42 was measured in the same manner as in Example 38. The results are shown in Table 5.From the results shown in Table 5, 74% or more was obtained by laminating the low-reflection resin film. It can be seen that the visible light reflectance can be suppressed to less than 2% while the visible light transmittance of the laminated body can be suppressed to less than 2%, and further excellent low reflection performance can be obtained.
  • the transmittance of light at a wavelength of 900 nm can be suppressed to 5% or less without deteriorating good optical characteristics in the visible light region. It can be seen that a better near-infrared shielding performance than that of the laminate A-38 was obtained.
  • Table 6 shows the results of evaluation of the scratch resistance of the laminates A-24, 25, 28, 29, 32, and 33 and the laminate B-6.
  • each layer laminate structure shown in Table 7 A- 4 3 c obtained laminate was produced A- 4 3 visible light transmittance, visible light reflectance, the sheet Table 7 shows the resistance values.
  • a laminate B-7 having the layer configuration shown in FIG. 24 and each layer having the configuration shown in Table 7 was produced in the same manner as in Example 43 except that no intermediate layer was provided.
  • Table 7 shows the visible light transmittance, the visible light reflectance, and the sheet resistance of the obtained laminate B-7.
  • Example 43 In the same manner as in Example 43, a laminate A-44 having the layer configuration shown in FIG. 25 (Example 44) and FIG. 26 (Example 45) and each layer having the configuration shown in Table 7 And 45 were manufactured ( measurement results of the visible light transmittance, the visible light reflectance, and the sheet resistance of the obtained laminates A—44 and 45 together with the results of Example 43) are shown in Table 7. Shown in
  • the intermediate layer is interposed between the SiN layers and the (2n + 1) layer is a seven-layer laminate.
  • Laminate A-46 was manufactured by laminating low-reflective resin film 8.
  • Table 8 shows the visible light transmittance, the visible light reflectance, the sheet resistance, and the transmittance of light having a wavelength of 900 nm of the obtained laminate A-46.
  • a laminate A-47 was manufactured by laminating a low-reflection near-infrared shielding resin film, respectively.
  • the obtained laminate A-47 was measured in the same manner as in Example 46.
  • Table 8 shows the results. As shown in Table 8, by laminating the low-reflection resin film, the visible light reflectance can be suppressed to less than 2% while obtaining the visible light transmittance of 67% or more. It can be seen that even better low reflection performance can be obtained.
  • Table 9 shows the visible light transmittance, the visible light reflectance, and the sheet resistance of the obtained laminate A-48.
  • a laminate B-9 having the layer configuration shown in FIG. 29 and each layer having the configuration shown in Table 9 was produced in the same manner as in Example 48.
  • Table 9 shows the visible light transmittance, the visible light reflectance, and the sheet resistance of the obtained laminate B-9.
  • titania layer except for changing the thickness of the S i x interlayer or A g- 1 at% P d layer in the same manner as in Example 4 8, laminates A- 4 9 ⁇ A — The 54 was manufactured. Also, as shown in Table 9, laminated bodies B-10 to B-11 were produced in the same manner as in Comparative Example 9 except that the thickness of the titania layer or the Ag-1 at% Pd layer was changed. Table 9 shows the visible light transmittance, the visible light reflectance and the sheet resistance of the obtained laminates A-49 to A-54 and laminates B-10 to B-11.
  • the thickness of the S i N x intermediate layer is 1 nm, and the effect is independent of the thickness of the S i N x intermediate layer.
  • the laminate has a low sheet resistance of 0.5 to 0.9 ⁇ / s, a visible light transmittance of 40% or more and a visible light reflectance of 10% or less.
  • an intermediate layer of SiN x is provided above and below the layer of Ag—1 at% Pd, and the (2 n + l) layer has nine layers. It can be seen that a laminate is preferable.
  • the electromagnetic wave shielding ratio was over 17 db (about 20 db or more).
  • a titania layer 5 4 on the laminate A- 48 obtained in Example 48, the surface of the source one da-lime glass on the side opposite to the stacked laminated film side, respectively low reaction Laminate A-55 was produced by laminating the sprayable resin film 8.
  • Table 10 shows the visible light transmittance and the visible light reflectance of the obtained laminate A-55.
  • the laminated body B of Comparative Examples 9 to 11 the titania layer 5 of 9 to 11 Laminates B-12 to 14 were produced by laminating low-reflection resin films, respectively.
  • Table 10 shows the visible light transmittance, the visible light reflectance, and the sheet resistance of the obtained laminates A-55 to A-57 and laminates B-12 to B-14. The sheet resistance was measured before laminating the low-reflection resin film.
  • FIG. 33 The relationship between the visible light transmittance and the sheet resistance for Examples 55 to 57 and Comparative Examples 12 to 14 is shown in FIG. 33, and the relationship between the visible light reflectance and the sheet resistance is shown in FIG. From the results shown in Fig. 33 and Fig. 34, it has a low sheet resistance value of 0.5 to 0.9 ⁇ , a visible light transmittance of 40% or more and a visible light reflectance of 3% or less.
  • an intermediate layer of SiN x was provided, and an Ag—1 at% Pd layer and a titanium oxide layer were alternately formed. It can be seen that a layer configuration in which a low-reflection resin film is laminated on the titanium layer 54 and the soda lime glass substrate after laminating four layers each is preferred.
  • each titania layer, T 1 Target have use (area 4 3 2 mmX 1 2 7mm) , the input power and 4 kW, using argon gas containing 50 vol 0/0 of the oxygen gas as a sputtering gas Laminates A-58 to A-62 were produced in the same manner as in Examples 13 to 17 except that the thickness of the SiN x intermediate layer was 1.0 to 3.0 nm. .
  • the titania layer was formed using a ⁇ i target (area: 432 mm x 127 mm), input power of 4 kW, and argon gas containing 50% by volume of oxygen gas as sputtering gas.
  • a laminate B-15 was produced in the same manner as in Comparative Example 1.
  • Example 5 For the laminates A-58 to 62 and B-15 to 16 obtained in Examples 8 to 62 and Comparative Examples 15 to 16, the visible light transmittance and the visible light reflection were measured. Rate, sheet resistance and emissivity were measured. The results of Examples 58 to 62 are shown in Table 11, and the results of Comparative Examples 15 and 16 are shown in Table 12.
  • the metal of the Ag-1 ato / o Pd layer was oxidized in the process of forming the titania layer, so that the resistance and the emissivity increased, and the conductivity was increased. And low radioactivity could not be obtained.
  • the laminate B-16 obtained in Comparative Example 16 has a structure in which a titania layer is laminated on an Ag-1at% Pd layer via a Ti layer.
  • a titania layer is laminated on an Ag-1at% Pd layer via a Ti layer.
  • the finally obtained laminate B-16 has substantially the same layer configuration as the laminate B-1 without the intermediate layer obtained in Comparative Example 1.
  • Laminate A-63 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the formation of the intermediate layer was changed as described below.
  • 7 wt% intermediate A layer hereinafter simply referred to as “GZO intermediate layer”) (refractive index: 2.0, thickness: 0.5 nm) was formed.
  • the obtained laminate A-63 was placed on soda lime glass 1 in order, and the titania layer 2! , Ag- 1 at% P d layer 3 has a GZ_ ⁇ intermediate layer 4 12 and Chita two ⁇ layer 5] force stacked configuration.
  • Table 13 shows the thickness of each layer.
  • laminates A-64 to A-80 were produced in the same manner as in Example 63, except that the thickness or position of the GZ0 intermediate layer was changed.
  • the case where the intermediate layer is disposed above and below the Ag-1 at% Pd layer shows the highest visible light transmittance, and the intermediate layer of Comparative Example 1 is not inserted. 3% higher visible light transmittance than The effect is seen when the thickness of the GZ0 intermediate layer is 0.5 nm, and the effect does not depend on the film thickness.
  • Example 22 In the same manner as in Example 22 except that the intermediate layer was changed to a GZO intermediate layer, a 33 nm titania layer, a 1 nm GZO intermediate layer, and a 14 nm Ag—lat% P d were formed on soda lime glass. layer, titania layer of 66 nm, 1 4 nm of a g- 1 at% P d layer, sequentially forming a titania layer of 33 n m, laminate structure having Ag- 1 at% P d layer two layers A-101 was manufactured.
  • laminates A-102 to A-121 were produced in the same manner as in Example 101 except that the thickness of the GZO intermediate layer or the position where the intermediate layer was formed was changed. Visible light transmittance, visible light reflectance, sheet resistance, and emissivity of the obtained laminates A-101-1 to A-1211 were measured. The results are shown in Table 15.
  • GZ0 intermediate layers are formed above and below both the first and second Ag-1 at% Pd layers.
  • the configuration in which the layers are arranged shows the highest visible light transmittance, and the visible light transmittance is about 7% higher than that of Comparative Example 6 where the intermediate layer is not inserted.
  • the thickness of the GZO intermediate layer is effective at 0.5 nm and does not depend on the thickness.
  • the obtained laminate A-122 is composed of a soda-lime glass 1, a titania layer, an intermediate layer composed of NbO x (hereinafter referred to as “NbO x intermediate layer”), and Ag-1at. / 0 Pd layer and a titania layer are laminated.
  • Example 1 23 to 126 As shown in Table 1 6, to produce a Nb O x intermediate except that the thickness in the range of 1 to 4 nm in the same manner as in Example 1 22 stack of layers A- 1 23 ⁇ A- 1 26.
  • Laminate having Nb_ ⁇ x interlayer below the A g- 1 at% P d layer exhibits about 5% high visible light transmittance 1. compared to have Comparative Example 1, such an intermediate layer.
  • the thickness of the Nb O x intermediate layer is found effective in 0. 5 nm, the effect does not depend on the film thickness.
  • Intermediate layer to obtain a S n 0 was changed to 2 comprises a layer in the same manner as in Example 6 laminate A- 1 27 including Injiumu below.
  • Target consisting of S n 0 2 a includes 1 0 wt 0/0 Injiumu (area: 432 mmX 1 27 mm) using the argon gas as a sputtering gas, input power and lk W - containing 10% by weight of indium S intermediate layer of N_ ⁇ 2 (hereinafter, referred to as "I tO interlayer") (refractive index: 2. 0, l nm thickness) were formed.
  • I tO interlayer indium S intermediate layer of N_ ⁇ 2
  • laminated bodies A-128 to A-131 were manufactured in the same manner as in Example 127, except that the thickness of the ITO intermediate layer was changed in the range of 1.5 to 4 nm. did.
  • the laminated body having the ITO intermediate layer under the Ag-1 at% Pd layer shows about 1.5% higher visible light transmittance than the laminated body without the intermediate layer of Comparative Example 1. .
  • the effect is seen at a thickness of 1 nm for the I T0 intermediate layer, and the effect does not depend on the film thickness.
  • permeability in the visible light region was improved is obtained.
  • Titania 57 54 54 57 57 57 57 57 54 54

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Description

明 細 書
積層体およびその製造方法
技術分野
本発明は、 チタン酸化物層を有する積層体およびその製造方法に関する。 背景技術
ガラス等の透明基体上に、 金属層を積層した積層体 (以下、 「含金属積層体」 と いう) は、 熱線の放射を抑制して冷暖房の負荷を軽減する等の目的のため、 建築物 や自動車等の窓ガラスなどに広く利用されている。 また、 含金属積層体は、 プラズ マディスプレイ等の各種装置から放射される電磁波の漏洩を抑制するシールド材と しても利用されている。
含金属積層体が窓ガラス等に適用される場合、 熱線の放射を少なくするとともに、 高い可視光透過率が要求され、 同時に、 低い可視光反射率と好ましい反射色調が要 求される。
また、 含金属積層体を電磁波シールド材として利用する場合、 高い導電性ととも に、 可能な限り高い可視光透過率と低い可視光反射率、 さらに好ましい反射色調が 要求される。
含金属積層体において、 低い可視光反射率と好ましい反射色調を得るためには、 可視光領域において、 低反射率を示す波長帯域が広いことが要求される。
また、 低放射性と導電性を有するとともに、 高い可視光透過率を得るためには、 誘電体層と金属層を交互に積層した膜構成の積層体が好適であることが公知である c 低い熱線放射率 (すなわち高い導電性) だけならば、 金属層を厚くすることによ り得ることができる。 し力 し、 可視光透過率の減少、 可視光反射率の増加を招く。 また、 可視光領域において低反射率が得られる波長帯域が狭くなるため、 好ましい 反射色調を損なうことになる。
誘電体層として、 チタン酸化物等の屈折率の高い材料を用いた場合、 チタン酸化 物より屈折率の低い材料を用いた場合に比べて、 金属層を厚くすることにより生じ る現象 (上記の反射色調を損なうという好ましくない現象) を改善できることが一 般に知られている。 さらに、 積層数を増加させた場合も同様に、 金属層を厚くすることにより生じる 現象を改善できることが一般に知られている。
実際に誘電体層としてチタン酸化物層を用いて積層体を構成すると、 チタン酸化 物より屈折率の低い材料を用いた場合に比べて可視光領域において低反射率が得ら れる波長幅を拡げることができ、 より好ましい反射色調を得ることができる。 しか しな力 ら、 可視光透過率が減少し、 さらに積層数の増加とともに、 可視光透過率の 減少率が大きくなるという問題があつた。
また、 誘電体層として、 チタン酸化物層を用いて構成した積層体は、 耐擦傷性が 低いという問題があった。
本発明は、 チタン酸化物を用いた積層体について、 可視領域における透過率を改 善することを目的とする。
また、 本発明は、 チタン酸化物を用いた積層体について、 耐擦傷性を改善するこ とを目的とする。 発明の開示
本発明は、 基体上に、 チタン酸化物層と、 金属層と、 チタン酸化物層と力^ この 順に交互に 2 n+ l (nは正の整数) 層積層された積層体であって、 チタン酸化物 層と金属層との層間の少なくとも 1つに波長 5 50 nmでの屈折率が 2. 4未満の 中間層が介設されている積層体を提供する。
また、 本発明は、 基体上に、 チタン酸化物層と、 金属層と、 チタン酸化物層とを. この順に交互に 2 n+ l (nは正の整数) 層積層した積層体の製造方法であって、 チタン酸化物層と金属層との層間の少なく とも 1つに波長 5 50 n mでの屈折率が 2. 4未満の中間層を介設する工程を有する積層体の製造方法を提供する。 図面の簡単な説明
図 1は、 実施例 1〜5、 1 8〜 1 9、 63〜 68および 8 1〜 8 9で製造した積 層体の層構成を示す模式断面図である。
図 2は、 比較例 1で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
図 3は、 実施例 6〜 1 2、 20〜2 1、 6 9〜72、 9 0〜 1 00、 1 22〜 1 2 6、 および 1 2 7〜 1 3 1で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。 図 4は、 実施例 1 3〜 1 7および 73〜 80で製造した積層体の層構成を示す模 式断面図である。
図 5は、 比較例 2〜 3で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。 図 6は、 比較例 4〜 5で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。 図 7は、 実施例 1〜 1 7で製造した積層体の中間層の厚さと可視光透過率の関係 を示す図である。
図 8は、 実施例 1〜 2および比較例 1で製造した積層体の可視分光特性を示す図 である。
図 9は、 実施例 6、 8および比較例 1で製造した積層体の可視分光特性を示す図 である。
図 1 0は、 実施例 1 3〜 1 5、 および比較例 1で製造した積層体の可視分光特性 を示す図である。
図 1 1は、 本発明の実施例 2 2〜23、 1 0 1〜 1 0 2で製造した積層体の層構 成を示す模式断面図である。
図 1 2は、 比較例 6で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
図 1 3は、 実施例 24〜 2 5、 および 1 0 3〜 1 04で製造した積層体の層構成 を示す模式断面図である。
図 1 4は、 実施例 2 6〜 2 7および 1 0 5〜 1 06で製造した積層体の層構成を 示す模式断面図である。
図 1 5は、 実施例 28〜 2 9および 1 0 7〜 1 08で製造した積層体の層構成を 示す模式断面図である。
図 1 6は、 実施例 3 0〜3 1および 1 0 9〜 1 1 0で製造した積層体の層構成を 示す模式断面図である。
図 1 7は、 実施例 32〜 3 3および 1 1 1〜 1 1 2で製造した積層体の層構成を 示す模式断面図である。
図 1 8は、 実施例 34〜 3 5および 1 1 3〜 1 1 4で製造した積層体の層構成を 示す模式断面図である。
図 1 9は、 実施例 36〜3 7ぉょび1 1 5〜 1 1 6で製造した積層体の層構成を 示す模式断面図である。
図 2 0は、 実施例 3 8 4 0および 1 1 7〜 1 2 1で製造した積層体の層構成を 示す模式断面図である。
図 2 1は、 実施例 3 8 4 0および比較例 6で製造した積層体の可視分光特性を 示す図である。
図 2 2は、 実施例 4 1 4 2で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である, 図 2 3は、 実施例 4 3で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
図 2 4は、 比較例 7で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
図 2 5は、 実施例 4 4で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
図 2 6は、 実施例 4 5で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
図 2 7は、 実施例 4 6〜 4 7で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である, 図 2 8は、 実施例 4 8〜 5 4で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である ( 図 2 9は、 比較例 9で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である。
図 3 0は、 実施例 4 8〜 5 0および比較例 9〜 1 1で製造した積層体の可視光透 過率とシート抵抗値の関係を示す図である。
図 3 1は、 実施例 4 8〜 5 0および比較例 9〜 1 1で製造した積層体の可視光反 射率とシート抵抗値の関係を示す図である。
図 3 2は、 実施例 5 5〜 5 7で製造した積層体の層構成を示す模式断面図である ( 図 3 3は、 実施例 5 5〜 5 7および比較例 1 2〜 1 4で製造した積層体における 可視光透過率とシート抵抗値の関係を示す図である。
図 3 4は、 実施例 5 5〜 5 7および比較例 1 2〜 1 4で製造した積層体における 可視光反射率とシート抵抗値の関係を示す図である。 発明を実施するための最良の形態
チタン酸化物層と金属層を交互に積層する構成において、 積層数を増やすと、 可 視光領域において低反射率が得られる波長幅が拡大する。 しかし、 積層数の増加に 伴い、 光学干渉効果から期待される以上に、 透過率が低下する傾向が顕著になるこ とが確認された。 本発明者らは、 この現象を鋭意研究した結果、 透過率の減少が、 チタン酸化物層と金属層との界面において生じていることを見出した。 この現象は、 金属層の内部、 特にチタン酸化物層との界面近傍において、 光照射により励起され る表面プラズモンによる光吸収であると推定され、 チタン酸化物より屈折率が低い 層を中間層として介設することで、 表面プラズモンの生成を抑制し、 透過率の減少 を低減できると考えられる。
本発明の積層体において、 基体側の第 1層のチタン酸化物層上に、 金属層および チタン酸化物層は、 交互に一対で積層される。 金属層とチタン酸化物層は、 1対の みが積層されていてもよいし、 複数対が積層されていてもよい。 例えば、 本発明の 積層体は、 第 1層の上に、 金属層と、 チタン酸化物層とが、 それぞれ 1層のみ積層 された層構成を有するものでもよいし、 第 1層の上に、 金属層とチタン酸化物層の 順で交互に複数層が積層された層構成を有するものでもよい。
本発明の積層体において、 基体は、 特に制限されず、 例えば、 1 ) ソーダライム ガラス、 網入りガラス、 フロス トガラス等からなる窓用ガラス、 2 ) 自動車等の車 両用窓ガラス、 3 ) P E T等のプラスチックフィルム、 4 ) アクリル樹脂等からな るプラスチック板、 5 ) ディスプレイ用に用いられるガラス、 プラスチックフィル ムおよびプラスチック板などが挙げられる。 特に透明基体が好ましい。
本発明の積層体における各チタン酸化物層は、 波長 5 5 0 n mでの屈折率が 2 . 4以上の層であることが好ましく、 チタンの酸化物 (チタニア) のみからなるもの でもよいし、 チタン以外の他の元素成分を少量含んでいてもよい。 他の元素成分と しては、 例えば、 N b、 C r、 Z r等が挙げられる。
基体側の第 1層、 および基体から最も遠い位置にあるチタン酸化物層の厚さ (幾 何学的膜厚、 以下も同様) は、 2 0〜 6 0 n mが好ましく、 特に 2 5〜 4 5 n mが 好ましい。 第 1層、 および基体から最も遠い位置にあるチタン酸化物層以外のチタ ン酸化物層の厚さは 4 0〜 1 2 0 n mが好ましく、 特に 5 0〜 9 0 n mが好ましい, また、 可視光反射率を低減し、 また低反射率が得られる波長帯域を拡げる観点から. 第 1層および基体から最も遠い位置にあるチタン酸化物層は、 他のチタン酸化物層 より薄い膜厚である (特に 1 / 2程度の厚さ) であることが好ましい。
本発明の積層体において、 複数あるチタン酸化物層は、 互いに同じ組成を有する ものでもよいし、 異なる組成を有するものでもよい。
本発明の積層体において、 金属層は、 銀、 銅および金から選ばれる少なくとも 1 種の金属を含有する層であることが好ましい。 銀、 銅、 金またはこれらを主成分と する合金でもよい。
銀、 銅または金を主成分とする合金の具体例として、 1 ) P dを 5. 0原子%以 下 (好ましくは 0. 1〜3原子°/0の範囲) で含む銀 P d合金、 2) Auを 5. 0 原子%以下 (好ましくは 0. 1〜3原子%の範囲) で含む銀—金合金、 または、 3 ) ? (1及び〇 :を各々 0. 5〜 3原子0 /0の範囲で含む銀 P d— C u合金などが挙 げられる。 なお、 前記した含有割合は銀との総量に対する割合であり、 以降も同様 の意で用いる。
本発明の積層体が複数の金属層を有する場合、 各金属層は、 同じ組成からなる層 であってもょレ、し、 異なる組成からなる層であってもよい。
金属層の厚さは、 8〜3 0 nmが好ましい。 可視光反射率を低減し、 かつ低反射 率が得られる波長帯域を拡げる観点から、 基体に最も近い金属層および基体から最 も遠い金属層の厚さは、 それ以外の金属層の厚さの 0. 5〜 1. 0倍であることが 好ましい。
また、 本発明の積層体が金属層を複数層有する場合には、 その厚さ (複数の金属 層の厚さ) の合計は 1 20 nm以下であることが好ましい。
可視光反射率を低減し、 かつ低反射率が得られる波長帯域を拡げる観点からは、 金属層の層数は、 得られる積層体の抵抗値の目標を 2. とした場合、 2層 であることが好ましく、 抵抗値の目標が 1. 5 Ω/ロである場合は 3層であること が好ましく、 抵抗値の目標が 0. 5 である場合は 4層であることが好ましレ 。 本発明の積層体において、 中間層は、 複数層介設されていてもよく、 金属層を挟 んで該金属層の上下に配設されていてもよい。 特に、 全ての金属層が 2つの中間層 で挟持された構成力 Ϊ、 最も高い可視光透過率を有することから好ましい。
さらに、 本発明の積層体において、 金属層の上部に中間層力 s介設された構成は耐 擦傷性に優れる点で、 好ましい。 複数層の金属層を有する積層体において、 基体か ら最も遠い金属層の上部に中間層を介設した場合、 基体に最も近い金属層の上部に 中間層を積層した場合に比べ耐擦傷性を向上する効果が大きい。 また、 耐擦傷性の 観点からは、 ホウ素、 アルミニウムおよびケィ素からなる群から選ばれる 1種以上 の窒化物からなる中間層が好ましい。 ホウ素、 アルミニウム、 ケィ素の窒化物、 特 に窒化ケィ素 (特に S i Nx、 x= 1. 30〜 1. 3 6) からなる中間層が好まし レ 。
中間層は、 波長 5 50 nmでの屈折率が 2. 4未満のものであればいずれの素材 からなるものでもよい。 特に、 屈折率が 1. 6〜 2. 3 9の素材からなるものが好 ましい。 中間層としては、 酸化物、 窒化物、 酸窒化物、 炭化物およびホウ化物から 選ばれる少なくとも 1種からなる層が好ましい。 中間層を構成する素材の具体例と して、 窒化ケィ素 (屈折率: 2. 0) 、 酸化ニオブ (屈折率: 2. 3 5) 、 酸化亜 鉛 (屈折率: 2. 0) 、 酸化スズ (屈折率: 2. 0) 等が挙げられる。
本発明の積層体において、 中間層は、 光学干渉作用によって可視光透過率の向上 を図るものではなく、 その厚さは、 光学干渉作用を生じる厚さより小でも効果があ る。 中間層は、 金属層とチタン酸化物層の界面に生じる表面プラズモンの生成を抑 制することにより、 表面ブラズモンによる光吸収によつて生じる積層体内での可視 光の損失を抑制するものである。
また、 同時に、 可視光反射率を低く し、 かつ低反射率が得られる波長帯域を拡げ る観点から、 中間層の厚さの上限 (幾何学的膜厚) は、 3 0 nm、 特に 1 0 nm、 さらには 5 nmが好ましい。
耐擦傷性の観点からは、 中間層の厚さの上限は 20 nm、 特に 1 5 n mが好まし い
中間層の厚さの下限は 0. l nm、 特に 0. 5 nmが好ましい。
中間層を複数層有する場合、 その厚さ (複数の中間層の厚さ) の合計は 40 nm 以下が好ましい。
中間層の層数に対する可視光透過率の向上効果は、 ほぼ加算則が成立する。
本発明の積層体は、 高い導電性を有することから、 電磁波遮蔽性能を有する。 ま た、 近赤外領域において高い反射率を有することから、 近赤外遮蔽性能をも有する, 例えば、 波長 900 nmでの透過率は 1 5 %以下が好ましい。
本発明の積層体は、 シート抵抗値が 0. 5〜3. 5 Ωノロ、 可視光透過率が 4
0 %以上、 かつ可視光反射率が 1 0 %以下であることが好ましい。
また、 本発明の積層体は、 放射率が 0. 08以下であることが好ましい。
本発明の積層体をプラズマディスプレイ等の電磁波発生源から放射される電磁波 の漏洩を抑制する目的で使用することも好ましい。
本発明の積層体は、 3 0 ΜΉ zにおける電磁波遮蔽率が 1 0 d b以上、 特に 1 5 d b以上、 さらには 1 7 d b以上であることが好ましい。 シート抵抗値が同じであ れば電磁遮蔽率はほぼ同じとなる。
また、 本発明の積層体を低反射性能を重視する用途に用いるときは、 積層体にさ らに低反射性能を有する樹脂フィルムを積層することが好ましく、 可視光反射率を 3 %以下とすることができる。
また、 本発明の積層体を近赤外遮蔽性能を重視する用途に用いるときは、 さらに 近赤外遮蔽性能を有する樹脂フイルムを積層することが好ましく、 波長 9 0 0 n m での透過率を 5 %以下とすることができる。
樹脂フィルムは、 1 ) 本発明の積層体の多層膜の上に、 および Zまたは 2 ) 本発 明の積層体が形成されている基体面とは反対側の基体面に貼り合わせる。
低反射性能を有する樹脂フィルムとしては、 ウレタン、 P E T等からなる樹脂 フィルムに反射防止層を形成したものが挙げられる。 該樹脂フィルムは、 低反射性 能を有するとともに、 飛散防止性能も備えている。 反射防止層としては、 1 ) 非結 晶性の含フッ素重合体 (例えば、 旭硝子社製のサイ ト トップ) からなる低屈折率層. 2 ) S i 0 2 、 M g F 2 等からなる低屈折率層、 3 ) 低屈折率層と高屈折率層とを 交互に重ねた多層膜、 4 ) ポーラスシリカ膜など力 s挙げられる。
近赤外遮蔽性能を有する樹脂フィルムとしては、 ウレタン、 P E T等からなる樹 脂フィルム内に近赤外吸収剤を混入させたものが挙げられる。 また、 貼り合わせ時 に用いる接着層に近赤外吸収剤を混入させてもよい。
本発明の積層体の製造において、 チタン酸化物層の形成は例えば、 チタン酸化物 の還元性のターゲッ トを用いて直流スパッタリング法により形成する方法、 反応性 スパッタリング法、 イオンプレーティング法、 蒸着法、 C V D法等にしたがって形 成することができる。 これらの中でも、 チタン酸化物の還元性のターゲッ トを用い て直流スパッタリング法により形成する方法は、 チタン酸化物層を金属層上に形成 する際の金属層の酸化を防止でき、 高速かつ大面積に均一に形成できる点で有利で ある。 金属層の酸化を防止できる結果、 得られる積層体の可視光透過率は向上し、 放射率は低減する。 チタン酸化物の還元性のターゲッ トは、 チタン酸化物の化学量論組成に対し酸素 が欠乏しているターゲッ トである。 具体的には、 T i O x ( 1 < x < 2 ) の式で表 される組成を有するものを用いるのが好ましい。 チタン酸化物の還元性のターゲッ トは、 例えば、 国際公開 WO 9 7 / 0 8 3 5 9号公報に記載された、 チタニア粉末 またはチタニア粉末とチタン粉末の混合物を原材料とし、 高圧圧縮法、 焼結法もし くは溶射法により製造できる。
還元性タ一ゲッ トを用いる場合には、 スパッタガスとして、 0 . 1〜 1 0体積0 /0 の酸化性ガスを含む不活性ガスを用いるのが好ましい。 この範囲の濃度の酸化性ガ スを含む不活性ガスをスパッタガスとして用いることにより、 チタン酸化物層を形 成する際の金属層の酸化の抑制に有効であり、 低い放射率と高い導電性を有する積 層体を製造できる点で有効である。 特に 0 . 1 〜 5体積。 /0の酸化性ガスを含む不活 性ガスを用いるのが好ましい。
酸化性ガスとしては、 酸素ガスが一般的に用いることができるが、 一酸化窒素、 二酸化窒素、 一酸化炭素、 二酸化炭素、 オゾン等を用いることもできる。
金属層の形成は、 スパッタリング法、 C V D法、 蒸着法等の各種の方法にした がって行うことができる。 特に、 成膜速度が速く、 かつ大面積に均一な厚さで均一 な質の層を形成することができる点から、 直流スパッタリング法によって形成する のが好ましい。
中間層の形成は、 形成する層の組成に応じて適宜選択した方法にしたがつて行う ことができる。 例えば、 スパッタリング法、 C V D法、 蒸着法等の方法によつて行 うことができる。 特に直流スパッタリング法が好ましい。
本発明の積層体は、 遮熱性物品 (例えば遮熱性窓ガラス) 、 光学フィルタ (例え ば P D P前面に設置する近赤外遮蔽フィルタ) 、 電磁波遮蔽物品 (例えば P D P前 面に設置する電磁波遮蔽板) 、 低反射性物品 (例えば低反射性窓ガラス、 低反射性 ディスプレイ) 、 熱線反射板、 透明電極に用い得る。
実施例
以下、 本発明の実施例および比較例を挙げ、 本発明についてより具体的に説明す る。 また、 以下の実施例および比較例において、 可視光透過率および放射率の測定、 ならびに耐擦傷性の評価は、 下記の方法にしたがって行った。 可視光透過率および可視光反射率の測定
波長 340〜780 nmにおける分光透過率および分光反射率を測定し、 J I S R 3 1 06に準拠して、 J I S Z 8720に規定される C I E標準の光 D65に 対する、 C I E明順応の比視感度による可視光透過率および可視光反射率を求めた < 放射率の測定
J I S R 3 1 06に準拠して、 予め半球放射率が求められている標準サンプル について Devices & Services社製の SCALING DEGITAL VOLTMETER (通称ェミソミ タ) を用いてエミソミタ値を測定し、 半球放射率とエミソミタ値との間の補正係数 を予め求めた。
実施例および比較例で得られた試料についてエミソミタ値を測定し、 このエミソ ミタ値に前記補正係数を掛けることにより、 半球放射率を求めた。
耐擦傷性の評価
J I S K 5400に準拠して、 荷重 1 k gで鉛筆引つかき値を測定し、 耐擦傷 性の指標とした。
(実施例 1 )
T i〇 x (x = 1. 94) からなるターゲッ ト (面積: 432讓 X 1 27 ram) を 用い、 投入電力を 4 k wとし、 2体積%の酸素を含むァルゴンガスをスパッタガス として、 ソーダライムガラスの表面上に、 厚さ 33 n mのチタニア層 (屈折率: 2 . 45) を形成した。 なお、 前記の酸素の含有割合はスパッタガス全体に対する割 合であり、 以降も同様の意で用いる。
このチタニア層上に、 1原子%のパラジウムを含む銀からなるターゲッ ト (面積
: 432 mmX 1 27 mm) を用い、 アルゴンガスをスパッタガスとして、 0. 3 kwの電力を投入して、 P dを 1原子%含む銀からなる金属層 (以下、 単に 「Ag 一 1 a t %P d層」 という) (厚さ 14 nm) を形成した。 なお、 ターゲッ ト中の パラジウムの含有割合は銀との総量に対する割合であり、 以降も同様の意で用いる さらに、 Ag— 1 a t%P d層の上に、 S i (面積: 432 mmX 1 27mm) をターゲッ トとし、 30体積0 /0の窒素を含むアルゴンガスをスパッタガスとして、 投入電力を 1 kWとし、 窒化ケィ素 (S i Nx 、 x= 1. 34) からなる中間層 ( WO Ofl/40402 PCT/JP99/07344
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以下、 「S i Nx 中間層」 という) (屈折率: 1. 95、 厚さ 0. 5 nm) を形成 した。 次に、 この中間層の上に、 前記と同様にして、 厚さ 33 nmのチタニア層を 形成して、 積層体 A— 1を得た。 なお、 以下、 実施例 Xで得られた積層体を 「積層 体 A— X」 と呼ぶこととする。
得られた積層体 A— 1は、 図 1に示すとおり、 ソーダライムガラス 1上に、 順次、 チタニア層 2い A g _ 1 a t % P d層 3い S i N x中間層 4 2およびチタニア層 5!が積層された構成を有する。
なお、 図中、 1は、 ソ一ダライムガラス、 2 !は、 チタニア層、 3 , 32, 33, 34は、 Ag— l a t%P d層、 い 412, 421, 422, 431, 432, 4 , 442は、 中間層、 5い 52, 53, 54は、 チタニア層、 6は、 トップコート層、 7は、 ボトムコート層、 8は、 樹脂フィルムである。
積層体 A— 1の可視光透過率、 可視光反射率、 シ一ト抵抗値および放射率を表 1 に示す。
(比較例 1 )
S i Nx 中間層 412を形成しない以外は、 実施例 1と同様にして、 図 2に示すと おり、 ソーダライムガラス 1上に、 厚さ 33 nmのチタニア層 2 j、 厚さ 1 4 nm の A g— 1 a t %P d層 3い および厚さ 33 nmのチタニア層 5】を有する構成の 積層体 B— 1を得た。 なお、 以下、 比較例 Yで得られた積層体を 「積層体 B— Y」 と呼ぶこととする。
得られた積層体 Β— 1の可視光透過率、 可視光反射率、 シ一ト抵抗値および放射 率を表 1に示す。
(実施例 2〜 1 7、 比較例 2〜 5 )
表 1および 2に示すとおり、 S i Nx 中間層の厚さを 0. 5〜5 nmの範囲で変 え、 また、 中間層を形成する位置を変えて、 実施例 1と同様にして、 積層体 A— 2 〜A— 1 7、 および積層体 B— 2〜; B— 5を製造した。
積層体 A— 2〜A— 5 (実施例 2〜5) は、 図 1に示すとおり、 ソ一ダライムガ ラス 1上に、 順次、 チタニア層 2い A g— 1 a t %P d層 3い S i Nx中間層 4 j およびチタニア層 5 力積層された構成を有する。
積層体 A— 6〜A— 1 2 (実施例 6〜1 2) は、 図 3に示すとおり、 ソ一ダライ ムガラス 1上に、 順次、 チタニア層 2 , 、 S i N x中間層 4 , 、 A g - 1 a t % P d層 3 , 、 およびチタニア層 5】 力 s積層された構成を有する。
積層体 A— 1 3〜 A— 1 7 (実施例 1 3〜 1 7 ) は、 図 4に示すとおり、 ソ一ダ ライムガラス 1上に、 順次、 チタニア層 2い S i N x中間層 4! 、 A g— 1 a t % P d層 3い S i Nx中間層 4 i 2およびチタニア層 5 , が積層された構成を有する。 積層体 Β— 2および Β— 3 (比較例 2および 3 ) は、 図 5に示すとおり、 ソ一ダ ライムガラス 1上に、 順次、 チタニア層 2ぃ A g— l a t %P d層 3ぃ チタニア 層 5 ,、 および S i N x からなるトップコート層 6が積層された構成を有する。 積層体 B— 4および B_ 5 (比較例 4および 5) は、 図 6に示すとおり、 ソ一ダ ライムガラス 1上に、 順次、 S i Nx からなるボトムコート層 7、 チタニア層 2ぃ A g- 1 a t %P d層 3い およびチタニア層 5 が積層された構成を有する。
なお、 S i Nx からなるトップコート層、 S i Nx からなるボトムコート層のい ずれも、 S i x 中間層と同様の形成方法で形成した。
得られた積層体 A— 2〜A— 1 7、 および積層体 B— 2〜B— 5について、 それ ぞれ可視光透過率、 可視光反射率、 シート抵抗値および放射率の測定を行った。 結 果を表 1および 2に示す。
また、 積層体 A— 1〜A— 1 7における S i Nx 中間層の厚さと可視光透過率の 関係を図 7に示す。 図 7において、 A g— 1 a t 6P d層 3 iの上に S i Nx中間層 412を有する積層体 A— 1〜A— 5については拳、 Ag— 1 a t %P d層 3】 の下 に S i Nx 中間層 4 を有する積層体 A— 6〜A— 1 2については画、 ならびに A g— 1 a t 6P d層 3! の上下に S i Nx 中間層 4 Hおよび 412を有する積層体 A- 1 3〜A— 1 7については▲で示す。
さらに、 積層体 A— 1および A— 2の可視分光特性を、 積層体 B— 1の可視分光 特性とともに、 図 8に示す。
さらにまた、 積層体 A— 6および A— 8の可視分光特性を、 積層体 B— 1の可視 分光特性とともに、 図 9に示す。
また、 積層体 A— 1 3、 A— 1 4および A— 1 5の可視分光特性を、 積層体 B— 1の可視分光特性とともに、 図 1 0に示す。
表 1および図 7に示す結果から明らかなように、 Ag— 1 a t %P d層の上下に S i Nx 中間層を有する構成の積層体は、 A g— 1 a t %P d層の上または下のみ に中間層を有する構成の積層体よりも、 高い可視光透過率を示し、 比較例 1の中間 層を有しない構成の積層体 B— 1に比べて 3 %程度高い可視光透過率を示す。 S i x 中間層の膜厚は 0. 5 nmで効果があり、 その効果は膜厚に依存しない。 1層 目のチタニア層を成膜する前の S i Nxのボトムコート、 および最上層の S i Nxの トップコートは、 透過率を向上させる効果が殆どない。
(実施例 1 8〜 2 1 )
表 3に示すとおり、 S i Nx 中間層の厚さまたは位置を変えた以外は実施例 1 と 同様にして積層体 A— 1 8〜A— 2 1を製造した。
得られた積層体 A— 1 8〜2 1について、 耐擦傷性を評価した。 また、 実施例 1 2、 4、 5、 8、 1 1および 1 2、 ならびに比較例 1で得られた積層体も同様に測 定した。 結果を表 3に示す。
表 3に示す結果から、 A g— 1 a t %P d層の上に、 0. 5 nm以上の厚さの S i Nx 中間層を形成した層構成の積層体において、 耐擦傷性の指標である鉛筆引つ かき値が向上することがわかる。 また、 A g— 1 a t %P d層の下に、 l nm以上 の厚さの S i Nx 中間層を形成した層構成の積層体においても、 耐擦傷性の指標で ある鉛筆引つかき値が向上することがわかる。 さらに、 A g— l a t %P d層の上 に中間層を形成した層構成の積層体の方が、 鉛筆弓 Iつかき値を向上させる効果が大 きく、 中間層の厚さを増すことにより鉛筆引つかき値がさらに向上することがわか る。
(実施例 22 )
実施例 1 と同様にして、 ソ一ダライムガラス 1上に、 順次、 厚さ 3 3 nmのチタ ユア層 2 ) 、 厚さ 1 nmの S i Nx 中間層 4!い 厚さ 1 411:11の八2— 1 t % P d層 3 , 、 および厚さ 6 6 nmのチタニア層 5 , を積層した後、 さらに、 厚さ 1 4 11111の八 — 1 a t %P d層 32 、 および厚さ 3 3 nmのチタニア層 52 を積層し て、 図 1 1に示す構成の積層体 A— 2 2を製造した。
得られた積層体 A— 22の可視光透過率、 可視光反射率、 シート抵抗値および放 射率を表 4 (その 1) に示す。
(比較例 6 ) 中間層 4 ! Jを形成しない以外は、 実施例 2 2と同様にして、 図 1 2に示す構成の 積層体 B— 6を製造した。
得られた積層体 B— 6の可視光透過率、 可視光反射率、 シート抵抗値および放射 率を表 4に示す。
(実施例 2 3〜 40 )
表 4 (その 1および 2) に示すとおり、 S i Nx 中間層の厚さまたは位置を変更 した以外は実施例 22と同様にして積層体 A— 23〜 A— 4 0を製造した。
積層体 A - 2 3 (実施例 2 3) は図 1 1に、 積層体 A— 24および A— 2 5 (実 施例 24および 2 5 ) は図 1 3に、 積層体 A— 2 6および A— 2 7は図 1 4に、 積 層体 A— 28および A— 2 9は図 1 5に、 積層体 A— 3 0および A— 3 1は図 1 6 に、 積層体 A— 3 2および A— 3 3は図 1 7に、 積層体 A— 34および A— 3 5は 図 1 8に、 積層体 A— 3 6および A— 3 7は図 1 9に、 積層体 A— 3 8〜A—40 は図 20に、 それぞれ示す構成を有する。
積層体 A— 2 3〜 A— 40について、 それぞれ可視光透過率、 可視光反射率、 シ—ト抵抗値および放射率の測定を行った。 積層体 B— 6の結果とともに、 表 4 (その 1および 2) に示す。
また、 積層体 A— 3 8、 A— 3 9および A— 40の可視分光特性を、 積層体 B― 6の可視分光特性とともに、 図 2 1に示す。 なお、 シート抵抗値は低反射性樹脂 フィルムを貼合する前に測定した。 以下も同様である。
2つの Ag— 1 a t %P d層のそれぞれの上下に S i Nx 中間層を介設した積層 体が最も高い可視光透過率を示し、 比較例 6の S i Nx 中間層を介設しない積層体 に比べて 6%程度高い可視光透過率を示す。 S i Nx 中間層の膜厚は 1 nmで効果 があり、 その効果は膜厚に依存しない。
2. 5 Ω/ロのシート抵抗値を有し、 かつ 74 %以上の可視光透過率を有する積 層体を得るためには、 Ag— 1 a t %P d層の上下に S i Nx 中間層を介設し、 か つ (2 n+ l) 層が 5層の積層体とすることが好ましい。 .
また、 積層体 A— 38について、 波長 9 00 nmの光の透過率、 および周波数 3 OMH zの電磁波遮蔽率を測定したところ、 それぞれ 1 4. 5 %、 1 5 d Bであつ た。 この結果から、 積層体 A— 3 8は、 良好な近赤外遮蔽性能および電磁波遮蔽性 能を有することがわかる。
(実施例 38 a、 3 9 a、 40 a)
1原子0 /0のパラジウムを含む銀からなるターゲッ ト (面積: 4 3 2 mmX 1 2 7 mm) を用いて形成する A g— 1 a t %P d層を、 1原子0 /0のパラジウムと 1原子 %の銅を含む銀からなるターゲッ ト (面積: 43 2 mmX 1 2 7mm) を用い、 ァ ルゴンガスをスパッタガスとして 0. 3 kwの電力を投入して、 ? 1とじ 1!を各々 1原子%含む銀からなる金属層 (以下単に 「Ag— 1 a t %P d— l a t %C u層 」 とレ う) に変更した以外は、 実施例 38、 3 9、 40とそれぞれ同様にして、 積 層体 A— 3 8 a、 A— 3 9 a、 A— 4 0 aを製造した。 得られた積層体について積 層体 A— 3 8と同様に評価した。 結果を表 4 (その 3) に示す。
(比較例 6 a )
中間層を形成しない以外は、 実施例 38 aの積層体 A— 3 8 aと同様にして製造 し、 得られた積層体について積層体 A_ 3 8と同様に評価した。 結果を表 4 (その
3) に示す。
A g - 1 a t % P d - 1 a t %C u層を用いた積層体では、 A g— 1 a t %P d 層を用いた積層体と同様の良好な結果が得られる。
また、 2種の金属 (?(1と〇 11) を銀に含有させることにより、 相乗効果により 1種の金属を含有させた場合に比べ耐湿性が向上することが確認された。
(実施例 3 8 b、 3 9 b、 40 b)
1原子%のパラジウムを含む銀からなるターゲッ ト (面積: 4 3 2 mmX 1 2 7 mm) を用いて形成する A g— 1 a t %P d層を、 1原子%の金を含む銀からなる ターゲッ ト (面積: 43 2 mmX 1 2 7 mm) を用い、 アルゴンガスをスパッタガ スとして 0. 3 kwの電力を投入して、 Auを 1原子%含む銀からなる金属層 (以 下単に 「Ag— 1 a t %Au層」 という) に変更した以外は、 実施例 38、 3 9、 0とそれぞれ同様にして、 積層体 A— 3 8 b、 A— 3 9 b、 A— 40 bを製造し た。 得られた積層体について積層体 A— 3 8と同様に評価した。 結果を表 4 (その
4) に示す。
(比較例 6 b )
中間層を形成しない以外は、 実施例 38 bの積層体 A— 38 bと同様にして製造 し、 得られた積層体について積層体 A— 3 8と同様に評価した。 結果を表 4 (その 4 ) に示す。
A g— 1 a t % A u層を用いた積層体では、 A g— 1 a t % P d層を用いた積層 体と同様の良好な結果が得られる。 また、 A g— 1 a t % A u層を用いた積層体で は、 A g— 1 a t % P d層を用いた積層体に比べ、 A g— 1 a t % A u層を用いた 積層体は 2 %程度高い可視光透過率を得ることができると同時に、 金属層の膜厚が 同程度である場合に 1 0 %程度低いシート抵抗値を得ることができる。
(実施例 4 1 )
ポリウレタン系軟質樹脂フイルム (厚さ : 2 0 0 m ) の片面に非結晶性の含 フッ素重合体 (旭硝子社製、 サイ トップ) からなる低屈折率の反射防止層を形成し, もう一方の片面にァクリル系粘着層を形成した、 低反射性能を有する樹脂フイルム (以下、 「低反射性樹脂フィルム」 ) を用意した。
次に、 図 2 2に示すように、 実施例 3 8で得られた積層体 A— 3 8のチタニア層 5 2 の上と、 積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、 そ れぞれ低反射性樹脂フィルム 8を貼合わせて、 積層体 A— 4 1を製造した。
得られた積層体 A— 4 1について、 実施例 3 8と同様に、 可視光透過率、 可視光 反射率、 波長 9 0 0 n mの光の透過率およびシート抵抗値を測定した。 結果を表 5 に示す。
(実施例 4 )
実施例 4 1で用いた低反射性樹脂フィルムのアタリル系粘着層内に近赤外線吸収 剤 (三井化学社製、 S I R 1 5 9 ) をアクリル系粘着剤に対して 5重量%添加し、 低反射性能と同時に近赤外遮蔽性能を付与した樹脂フィルム (以下、 「低反射近赤 外遮蔽樹脂フィルム」 という) を用意した。
次に、 実施例 4 1と同様に、 実施例 3 8で得られた積層体 A— 3 8のチタニア層 5 2の上と、 積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、 それ ぞれ低反射近赤外遮蔽樹脂フィルムを貼合わせて、 積層体 A— 4 2を製造した。 得 られた積層体 A— 4 2について、 実施例 3 8と同様に測定した。 結果を表 5に示す 表 5に示す結果から、 低反射性樹脂フィルムを貼合することにより、 7 4 %以上 の可視光透過率を得ながら、 可視光反射率を 2 %未満に抑えることができ、 積層体 八— 3 8ょり、 さらに良好な低反射性能が得られることがわかる。 また、 低反射近 赤外遮蔽樹脂フィルムを貼合することにより、 可視光領域における良好な光学特性 をほとんど損なわずに、 波長 9 0 0 nmの光の透過率を 5 %以下の抑えることがで き、 積層体 A— 3 8よりさらに良好な近赤外遮蔽性能が得られることがわかる。 また、 積層体 A— 2 4、 2 5、 2 8、 2 9、 3 2および 3 3と、 積層体 B— 6に ついて耐擦傷性の評価を行った結果を表 6に示す。
表 6に示す結果から、 複数層の A g— 1 a t %P d層を有する積層体において、 最上層の A g— 1 a t %P d層の上部に中間層を介設した場合、 下層の A g— 1 a t %P d層の上部に中間層を積層した場合に比べて耐擦傷性を向上する効果が大き いことがわかる。 また、 複数の A g— 1 a t %P d層の各層の上部に中間層を介設 することが好ましい。
(実施例 4 3 )
図 2 3に示す層構成を有し、 各層が表 7に示す構成の積層体 A— 4 3を製造した c 得られた積層体 A— 4 3の可視光透過率、 可視光反射率、 シート抵抗値を表 7に 示す。
(比較例 7 )
中間層を介設しない以外は実施例 4 3と同様にして、 図 2 4に示す層構成を有し、 各層が表 7に示す構成の積層体 B— 7を製造した。
得られた積層体 B— 7の可視光透過率、 可視光反射率、 シート抵抗値を表 7に示 す。
(実施例 4 4、 4 5)
実施例 4 3と同様にして、 図 2 5 (実施例 4 4) および図 2 6 (実施例 4 5) に 示す層構成を有し、 各層が表 7に示す構成の積層体 A - 4 4および 4 5を製造した ( 得られた積層体 A— 4 4および 4 5の可視光透過率、 可視光反射率、 およびシ一 ト抵抗値の測定結果を、 実施例 4 3の結果とともに表 7に示す。
表 7に示す結果から、 1. 5 のシート抵抗値を有するとともに、 6 7%以 上の可視光透過率を有する積層体を得るためには、 A g— 1 a t %P d層の上下に S i N 中間層を介設し、 かつ (2 n+ 1 ) 層が 7層の積層体とすること力好まし いことがわかる。
また、 積層体 A— 4 5について、 波長 9 0 0 n mの光の透過率および周波数 3 0 M H zにおける電磁波遮蔽率を測定したところ、 2 . 4 %および 1 7 d Bであり、 良好な近赤外遮蔽性能および電磁波遮蔽性能を有することがわかった。
(実施例 4 6 )
図 2 7に示すように、 実施例 4 5で得られた積層体 A— 4 5のチタニア層 5 3の 上と、 積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、 それぞれ低 反射性樹脂フィルム 8を貼合わせて積層体 A— 4 6を製造した。
得られた積層体 A— 4 6の可視光透過率、 可視光反射率、 シート抵抗値、 および 波長 9 0 0 n mの光の透過率を表 8に示す。
(実施例 4 7 )
実施例 4 6と同様にして、 実施例 4 5で得られた積層体 A— 4 5のチタニア層 5 3の上と、 積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、 それぞ れ低反射近赤外遮蔽樹脂フィルムを貼合わせて積層体 A— 4 7を製造した。 得られ た積層体 A— 4 7について実施例 4 6と同様に測定した。 結果を表 8に示す。 表 8に示すとおり、 低反射性樹脂フィルムを貼合することにより、 6 7 %以上の 可視光透過率を得ながら可視光反射率を 2 %未満に抑えることができ、 積層体 A— 4 5よりさらに良好な低反射性能が得られることがわかる。 また、 低反射近赤外遮 蔽樹脂フィルムを貼合することにより、 可視光領域における良好な光学特性をほと んど損なわずに、 積層体 A— 4 5よりさらに良好な近赤外遮蔽性能が得られること がわかる。
(実施例 4 8 )
図 2 8に示す層構成を有し、 各層が表 9に示す構成を有する積層体 A— 4 8を製 造した。
得られた積層体 A— 4 8の可視光透過率、 可視光反射率、 シート抵抗値を表 9に 示す。
(比較例 9 )
中間層を介設しない以外は、 実施例 4 8と同様にして、 図 2 9に示す層構成を有 し、 各層が表 9に示す構成を有する積層体 B— 9を製造した。 得られた積層体 B— 9の可視光透過率、 可視光反射率、 シート抵抗値を表 9に示 す。
(実施例 49〜 54、 比較例 1 0〜 1 1 )
表 9に示すとおり、 チタニア層、 S i x 中間層または A g— 1 a t %P d層の 厚さを変更した以外は、 実施例 4 8と同様にして、 積層体 A— 4 9〜A— 54を製 造した。 また、 表 9に示すとおり、 チタニア層または A g— 1 a t %P d層の厚さ を変更した以外は、 比較例 9と同様にして、 積層体 B— 1 0〜B— 1 1を製造した < 得られた積層体 A— 4 9〜 A— 54および積層体 B— 1 0〜 B— 1 1の可視光透 過率、 可視光反射率およびシート抵抗値を表 9に示す。
S i Nx 中間層を A g— 1 a t % P d層の上下に介設した構成の積層体は高い可 視光透過率を示し、 比較例 9〜 1 1の中間層を有しない積層体に比べて 1 5%程度 高い透過率を示す。 また S i Nx 中間層の膜厚は 1 nmで効果があり、 その効果は S i Nx 中間層の膜厚に依存しない。
実施例 48〜 50および比較例 9〜 1 1について、 可視光透過率とシート抵抗値 の関係を図 30に、 可視光反射率とシート抵抗値の関係を図 3 1に示す。
図 3 0および 3 1に示す結果から、 0. 5〜0. 9 ΩΖ口の低いシート抵抗値を 有するとともに、 40 %以上の可視光透過率と 1 0 %以下の可視光反射率を有する 積層体を得るためには、 実施例 48〜 50のように、 A g— 1 a t %P d層の上下 に S i Nx 中間層を介設し、 かつ (2 n+ l) 層が 9層の積層体とすることが好ま しいことがわかる。 なお、 電磁波遮蔽率は、 いずれも 1 7 d bを超える値 (約 20 d bまたはそれ以上) であった。
(実施例 5 5 )
図 32に示すように、 実施例 48で得られた積層体 A— 48のチタニア層 54上 と、 積層膜を積層した側とは反対側のソ一ダライムガラスの表面に、 それぞれ低反 射性樹脂フィルム 8を貼合わせて積層体 A— 5 5を製造した。
得られた積層体 A— 5 5の可視光透過率、 可視光反射率を表 1 0に示す。
(実施例 56、 5 7)
実施例 5 5と同様にして、 実施例 4 9または 50で得られた積層体 A— 49、 5 0のチタニア層 54 上と、 積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの 表面に、 それぞれ低反射性樹脂フイルム 8を貼合わせて積層体 A— 5 6および 5 7 を製造した。
(比較例 1 2〜; I 4 )
実施例 5 5と同様にして、 比較例 9〜 1 1の積層体 B— 9〜 1 1のチタニア層 5 , 上と、 積層膜を積層した側とは反対側のソーダライムガラスの表面に、 それぞれ 低反射性樹脂フイルムを貼合わせて積層体 B— 1 2〜 1 4を製造した。
得られた積層体 A - 5 5〜A— 5 7および積層体 B— 1 2〜 B— 1 4の可視光透 過率、 可視光反射率およびシート抵抗値を表 1 0に示す。 なお、 シート抵抗値は低 反射性樹脂フィルムを貼合する前に測定した。
実施例 5 5〜 5 7および比較例 1 2〜 1 4 について可視光透過率とシート抵抗値 の関係を図 3 3に、 可視光反射率とシート抵抗値の関係を図 34に示す。 図 3 3お よび図 34に示す結果から、 0. 5〜0. 9 ΩΖ口の低いシート抵抗値を有すると ともに、 40 %以上の可視光透過率と 3 %以下の可視光反射率を有する積層体を得 るためには、 実施例 5 5〜 5 7のように、 S i Nx 中間層を介設し、 かつ A g— 1 a t %P d層とチタン酸化物層とを、 交互にそれぞれ 4層ずつ積層した後、 チタ二 ァ層 5 4 上とソーダライムガラス基体上に低反射性樹脂フィルムを貼合した層構 成が好ましいことがわかる。
(実施例 58〜 6 2 )
各チタニア層の形成を、 T 1 ターゲッ ト (面積: 4 3 2 mmX 1 2 7mm) を用 い、 投入電力を 4 kWとし、 50体積0 /0の酸素ガスを含むアルゴンガスをスパッタ ガスとして用いて行い、 S i Nx中間層の厚さを 1. 0〜3. O nmとした以外は実 施例 1 3〜 1 7と同様にして積層体 A— 58〜A— 6 2を製造した。
(比較例 1 5 )
チタニア層の形成を、 τ i ターゲッ ト (面積: 43 2 mmX 1 2 7mm) を用い、 投入電力を 4 kWとし、 50体積%の酸素ガスを含むアルゴンガスをスパッタガス として用いて行った以外は比較例 1と同様にして積層体 B— 1 5を製造した。
(比較例 1 6 )
A g- 1 a t %P d層を形成した後、 T i ターゲッ ト (面積: 43 2 mmX 1 2 7mm) を用レ 、 投入電力を l kWとし、 アルゴンガスをスパックガスとして用い て、 1 . 5 n mの T i層を形成した以外は比較例 1 5と同様にして積層体 B— 1 6 を製造した。
実施例 5 8〜 6 2および比較例 1 5〜 1 6で得られた積層体 A— 5 8〜 6 2およ び積層体 B— 1 5〜 1 6について、 可視光透過率、 可視光反射率、 シ—ト抵抗値お よび放射率を測定した。 実施例 5 8〜 6 2の結果を表 1 1に、 ならびに比較例 1 5 および比較例 1 6の結果を表 1 2に示す。
T i タ一ゲッ トを用レ 、 通常の反応性スパッタリングでチタニア層を形成する場 合、 酸化性ガスを多く含んだスパッタガスを用いて成膜する必要がある。 この場合、 酸化性ガスと電子との衝突により酸素負イオンが多く形成されるカ ?、 その生成確率 は、 数十 e Vの運動エネルギーを持つ電子と衝突した場合、 2 0から 3 0 %にも達 する。 このようにして多く生成された酸素負イオンは、 負に印可されたターゲッ ト 付近の電界により基板方向に加速される。 加速された酸素負ィォンは基板付近で 1 0 0から 2 0 0 e V程度の運動エネルギーを持ち、 チタニア層の下層の A - 1 a t % P d層内に、 平均で 1 . 5 n m程度の深さまで打ち込まれ、 金属を酸化させる c この酸化により、 シート抵抗値と放射率は増加し、 導電性積層体 (低放射性積層 体) 力得にく くなる。
比較例 1 5で得られた積層体 B— 1 5は、 チタニア層を形成する過程で A g— 1 a t o/o P d層の金属が酸化されたため、 抵抗値と放射率が増加し、 導電性と低放射 性を得られなかった。
比較例 1 6で得られた積層体 B— 1 6は、 A g— 1 a t % P d層の上に T i層を 介してチタニア層を積層した構成のものである。 チタニア層を形成する過程で、 酸 素負イオンが打ち込まれることにより生じる、 チタニア層の下の A g— 1 a t % P d層の酸化を、 T i層を設けることにより防止したものである。
T i層の厚さが 1 . 5 n m程度である場合、 チタニア層の形成後の T i層はほぼ 全て酸化されチタニア層となる。 したがって、 最終的に得られた積層体 B— 1 6は 比較例 1で得られた中間層がない積層体 B— 1とほぼ同じ層構成を有する。
表 1 1および 1 2に示す結果から、 T i タ一ゲッ トを用いた通常の反応性スパッ タリング法で形成されたチタニア層を有する積層体においても、 適当な厚さ (2 n m以上) の S i N x 中間層を A g— 1 a t % P d層とチタニア層の間に介設するこ とにより、 比較例 1 6で得られた中間層がほぼ存在しない積層体 B— 1 6と比べて 高い可視光透過率が得られることがわかる。
(実施例 63 )
中間層の形成を下記のように変更した以外は実施例 1 と同様にして積層体 A— 6 3を得た。
すなわち、 A g— 1 a t %P d層の上に、 G a 203を G a203Z (G a 203 + Z n O) で 5. 7重量0 /0含む Z n 0からなるターゲッ ト (面積: 43 2 mmX 1 2 7 腿) を用い、 アルゴンガスをスパッタガスとして、 投入電力を l k Wとし、 G a 2 03を 5. 7重量%含む Z n 0からなる中間層 (以下、 単に 「GZO中間層」 とレ う) (屈折率: 2. 0、 厚さ 0. 5 nm) を形成した。
得られた積層体 A— 63は、 図 1に示すとおり、 ソーダライムガラス 1上に、 順 次、 チタニア層 2! 、 Ag— 1 a t %P d層 3】 、 GZ〇中間層 412およびチタ二 ァ層 5】 力積層された構成を有する。 各層の厚さは表 1 3に示すとおりである。 (実施例 64〜 80 )
表 1 3に示すとおり、 G Z 0中間層の厚さまたは位置を変更した以外は実施例 6 3と同様にして積層体 A— 64〜A— 80を製造した。
これらの積層体について、 可視光透過率、 可視光反射率、 シート抵抗値および放 射率を測定した。 結果を表 1 3に示す。
G Z 0中間層を有する積層体においては、 A g— 1 a t %P d層の上下に中間層 を配置したものが最も高い可視光透過率を示し、 比較例 1の中間層を挿入しない場 合に比べて 3 %程度高い可視光透過率を示す。 G Z 0中間層の膜厚は 0. 5 n mで 効果が見られ、 その効果は膜厚に依存しない。
(実施例 8 1〜 1 00 )
表 1 4に示すとおり、 GZO中間層の厚さと位置を変更した以外は実施例 6 3と 同様にして積層体 A— 8 1〜 A— 1 00を製造し、 耐擦傷性を評価した。 比較例 1 の結果とともに結果を表 1 4に示す。
表 1 4に示す結果から、 A g— 1 a t %P d層の上または下に、 1 nm以上の厚 さの G Z 0中間層を形成した層構成の積層体において、 耐擦傷性の指標である鉛筆 引つかき値が向上することがわかる。 また、 A g— 1 a t 96P d層の上に中間層を 形成した層構成の積層体の方が、 鉛筆引つかき値を向上させる効果が大きく、 中間 層の厚さを増すことにより鉛筆弓 Iつかき値がさらに向上することがわかる。
(実施例 1 0 1 )
中間層を G Z 0中間層に変更した以外は実施例 22と同様にして、 ソ一ダライム ガラス上に、 33 nmのチタニア層、 l nmの GZO中間層、 1 4 nmのAg— l a t %P d層、 66 nmのチタニア層、 1 4 n mの A g— 1 a t % P d層、 33 n mのチタニア層を順に成膜し、 Ag— 1 a t %P d層を 2層有する構成の積層体 A - 1 0 1を製造した。
(実施例 1 02〜 1 2 1 )
表 1 5に示すとおり、 GZO中間層の厚さまたは中間層を形成する位置を変更し た以外は実施例 1 01と同様にして積層体 A— 102〜A— 1 2 1を製造した。 得られた積層体 A— 10 1〜A— 1 2 1について、 可視光透過率、 可視光反射率、 シート抵抗値および放射率を測定した。 結果を表 1 5に示す。
GZO中間層を有し、 A g— 1 a t %P d層を 2層有する積層体においては、 1 層目および 2層目の両方の A g— 1 a t %P d層の上下に G Z 0中間層を配置した 構成が最も高い可視光透過率を示し、 比較例 6の中間層を挿入しない場合に比べ 7%程度高い可視光透過率を示す。 GZO中間層の膜厚は 0. 5 nmで効果があり、 膜厚に依存しない。
(実施例 1 22)
中間層を下記の Nb〇x からなる層に変更した以外は実施例 6と同様にして積層 体 A— 1 22を得た。
すなわち、 NbOx (x = 2. 49) からなるターゲッ ト (面積: 432 mm X 1 27 mm) を用い、 10体積0 /0の酸素を含むアルゴンガスをスパッタガスとして、 投入電力を 1 kWとし、 Nb Ox (x = 2. 5) からなる中間層 (屈折率: 2. 3 5、 厚さ : 0. 5 nm) を形成した。
得られた積層体 A— 122は、 ソーダライムガラス 1上に、 順次、 チタニア層、 Nb Ox からなる中間層 (以下、 「Nb Ox 中間層」 という) 、 Ag— 1 a t。/0P d層、 およぴチタニア層が積層された構成を有する。
(実施例 1 23〜 126 ) 表 1 6に示すとおり、 Nb Ox 中間層の厚さを 1〜4 nmの範囲で変更した以外 は実施例 1 22と同様にして積層体 A— 1 23〜A— 1 26を製造した。
得られた積層体 A— 1 22〜A— 126の可視光透過率、 可視光反射率、 シート 抵抗値および放射率を測定した。 結果を表 1 6に示す。
A g- 1 a t %P d層の下に Nb〇x中間層を有する積層体は、 中間層を有しな い比較例 1に比べて 1. 5%程度高い可視光透過率を示す。 また、 Nb Ox中間層 の膜厚は 0. 5 nmで効果が見られ、 その効果は膜厚に依存しない。
(実施例 1 27)
中間層を下記のィンジゥムを含む S n 02からなる層に変更した以外は実施例 6 と同様にして積層体 A— 1 27を得た。
ィンジゥムを 1 0重量0 /0含む S n 02からなるターゲッ ト (面積: 432 mmX 1 27 mm) を用い、 アルゴンガスをスパッタガスとして、 投入電力を l k Wとし- インジウムを 10重量%含む S n〇2からなる中間層 (以下、 「I TO中間層」 と いう) (屈折率: 2. 0、 厚さ l nm) を形成した。
(実施例 1 28〜 1 31 )
表 1 7に示すとおり、 I TO中間層の厚さを 1. 5〜4 nmの範囲で変更した以 外は実施例 127と同様にして積層体 A— 1 28〜A— 1 3 1を製造した。
積層体 A— 1 27〜A_ 1 3 1について、 可視光透過率、 可視光反射率、 シート 抵抗値および放射率を測定した。 結果を表 1 7に示す。
A g - 1 a t %P d層の下に I TO中間層を有する積層体においては、 比較例 1 の中間層を介設しない積層体に比べて 1. 5 %程度高い可視光透過率を示す。 I T 0中間層の膜厚は 1 nmで効果が見られ、 その効果は膜厚に依存しない。
産業上の利用の可能性
本発明によれば、 可視光領域における透過率が改善された、 チタン酸化物を用い た積層体が得られる。
また、 本発明によれば、 耐擦傷性が改善された、 チタン酸ィヒ物を用いた積層体が 1ザられ 。 表 1 (層の厚さの単位:讓)
Figure imgf000027_0001
表 (層の厚さの単位: nm)
Figure imgf000028_0001
表 3 (層の厚さの単位: nm) 実 施 例 騰 'I
1 2 4 5 18 19 8 11 12 20 21 1
5.チタユア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33
4.SiN2 0.5 1 3 5 8 10
3. Ag- lat%Pd層 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14
2.SiN2 1 3 5 8 10
1.チタニア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 ひっかき値 3H 4H 6H 6H 7H 7H H H H H H B 積逦本 A— 1 A - 2 A-4 A— 5 A— 18 A— 19 A— 8 A— 11 A— 12 A -20 A— 21 B— 1
表 4 (その 1) (層の厚さの単位:蘭) 腳 実 施 例
a u. 乙乙 OA 26 27 ?« ?q Qn
11. トップコート(SiN, ) 一 一 一 ― ― ― 一 一 ―
10. チタニア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33
9 S i ,中「曰 11 1 5
8. Ag— iat%Pd層 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14
7. S i Nx 中嶋 1 5 1 5 a
ひ, キター "~ァ > 66 66 66 66 66
5. S i Nx 中「日, 1 5
4. Ag— lat%Pd層 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14
1
0. 1 I x ΦΓ曰曾 1 0 1 J
2. チタユア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33
1. ボ卜厶コート(SiNx )
^i (%) 68 69.4 69.3 69.6 70.2 70.1 70.3 70.3 70.4 71.4 71.8
Figure imgf000030_0001
(%) 6.2 6.2 6.1 6.1 6.2 6.2 6.3 6.2 63 6.2 6.3 シート抵抗値(Ω /口) 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 腿率 0.04 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03
表 4 (その 2) (層の厚さの単位:議) 失 施 例
32 33 34 35 36 37 38 39 40
11. 卜ッフ。コート(Sil ) 一 ― 一 ―
10. チタニア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33
9 S ί N 層 1 5 1 5 1 3 5 fi f Δ σ— 1 a t%P H 14 14 14 14 \A \A 14 14 14
7. S iNx層 1 5 1 3 5
6. チタニア層 66 66 66 66 66 66 66 66 66
1 1
0. l I , I 1 [ 丄 1 11 0
4. Ag- 1 a t%Pd層 14 14 14 14 14 14 14 14 14
3. S i Nx層 1 5 1 3 5
2. チタユア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33
1. ボトムコート(SiN, )
可樹 率 (%) 71.2 71.4 71.0 71.3 71.5 72.5 74.3 74.3 74.5
^ w {%) 6.2 6.2 6.1 6.3 6.3 6.3 6.3 6.4 6.5 シー卜嫌値(Ω /口) 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 腿率 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03 0.03
表 4 (その 3) (層の厚さの単位:
Figure imgf000032_0001
表 4 (その 4) (層の厚さの単位:腿)
Figure imgf000033_0001
表 5
Figure imgf000034_0001
Figure imgf000035_0001
~
n
CO END
n
Γ CO
圆 J 6:
CO
X O
CD
εε
pfZL0/66dT/lDd ZO 画 O 表 7 (層の厚さの単位:議)
Figure imgf000036_0001
表 8
Figure imgf000037_0001
表 9 (層の厚さの単位: nm) 宇 s 比 較 例
48 49 50 51 52 53 54 9 10 11
17. チタユア層 30 30 30 30 30 30 30 30 30
16. S i Nx 中嶋 1 1 1 2 3 4 5
15. Ag— i a t%Pd層 20 18 17 20 20 20 20 20 18 17
14. S i Nx中 f¾m 1 1 1 2 3 4 5
13. チタユア層 57 57 57 57 57 57 57 57 57 57
1 . S i x 中 , 1 1 1 I 3 4 5
*
11. A g - 1 a t%Pd層 26 23 19 2b 2b fa 26 23 19
, 1
10. S l Nx 中! ¾H 1 1 1 I 3 4 b
9 チタユア層 54 54 54 54 54 54 o4 54 54 54
8. S i x中 Γ日 1 1 1 2 3 4 5
7. Ag i a t0 Pd層 26 24 19 26 26 26 26 26 24 19
6. S i Nx中「日, 1 1 1 2 3 4 5
5. チタニア層 57 54 54 57 57 57 57 57 54 54
4. S i Nx 中 l¾H 1 1 1 2 3 4 5
3. Ag— l a t%Pd層 20 17 17 20 20 20 20 20 17 17
2. S i Nx中! ¾H 1 1 1 2 3 4 5
1. チタニア層 30 30 30 30 30 30 30 30 30 30
Figure imgf000038_0001
(%) 43.8 49.5 55.6 43.8 43.6 44.0 44 28.4 34 39.4
-^wm (%) 7.8 7.2 7 7.8 7.9 8.0 8.1 6.8 6.7 6.5 シート抵抗値 (Ω/Π) 0.5 0.7 0.9 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.7 0.9
表 10
Figure imgf000039_0001
表 1 1 (層の厚さの単位: nm)
Figure imgf000040_0001
表 12 (層の厚さの単位: nm)
Figure imgf000041_0001
表 13 (その 1 ) (層の厚さの単位:蘭) 実 施 例
63 64 65 66 67 68 69 70 71 72
5. チタニア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33
Π
. U A UH-1!日雷 U. J s 1 1 15 2
3. Ag-1 a t%Pd層 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14
2 G7〇中 1 0.5 1 1.5 2
1. チタニア層 33 31 31 30 33 33 33 33 33 33
83.1 83.0 83.2 83.3 83.2 83.2 83.2 83.1 83.1 83.2 可膨關率 {%) 4.8 4.8 4.9 4.9 4.9 4.9 4.8 4.8 4.9 4.9 シ一ト概亢値(Ω /口) 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 4.9 5.0 5.0 5.0 5.0 鹏棒 0.06 0.04 0.05 0.05 0.05 0.05 0.05 0.06 0.05 0.06
表 i 3 (その 2 ) (層の厚さの単位:讓) 施 例
搬例 1
73 74 75 76 77 78 79 80
5 . チタニア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33
Λ '1 . Π 7 Πι:Ι:ιΙ¾1Ι^ 0 5 1 1.5 2 2.5 3 4 5
3. A g - 1 a t%P d層 14 14 14 14 14 14 14 14 14
0.5 1 1.5 2 2.5 3 4 5
1 . チタニア層 33 31 31 30 33 33 33 33 33
^ (%) 84.7 84.7 84.8 84.7 84.8 84.9 85.0 84.8 81.4
^iw w (%) 4.9 4.8 4.9 5.0 4.9 4.9 5.0 5.0 5.0 シート撤 Jt値 (Ώ/D) 5.0 5.0 5.0 5.0 4.9 4.9 4.9 4.8 5.0 腿率 0.06 0.05 0.05 0.05 0.06 0.06 0.05 0.05 0.06
表 14 (その 1 ) (層の厚さの単位:醒) 施 例
64 66 68 81 82 83 84 85 86 87 88 89
5. チタユア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33
4. GZO中 | 1 1 2 3 4 5 6 8 10 12.5 15 17.5 20
3. Ag - 1 a t%Pd層 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14
2. GZCWsl
1. チタニア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 輝ひっかき値 II H H H 4H 4H 4H 5H 511 6H 6H 6H
A - 64 A - 66 A-68 A - 81 A-82 A - 83 A-84 A-85 A - 86 A-87 A - 88 A- 89
表 I 4 (その 2) (層の厚さの単位:謹)
施 例 J:國
70 72 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 1
5. チタ二了層 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33
4. GZ WBH
3. Ag— i at%Pd層 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14
2. GZC^H 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13
1. チタニア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 ί ^ひっかき値 HB HB HB HB HB HB HB HB HB HB HB HB HB B filMf本 A - 70 A-72 A-90 A-91 A-92 A - 93 A-94 A-95 A - 96 A - 97 A-98 A - 99 A - 100 B-1
表 15 (その 1 ) (層の厚さの単位:画) 実 施 例
101 1 ΙΠ9 103 104 105 106 107 108 109 110 111
Q チ夕ニ了層 t≤J 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33
8. 0∑〇中曰1 1 3 1
7. Ag—lat-%Pc^ 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14
6. GZCWl 1 3 1 3
5. チ夕ニァ層 66 66 66 66 66 66 66 66 66 66 66
4. 〇∑〇中|¾1 1 3 1
3 A R— 1 a t%Pd層 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14 14
2. GZCWi 1 3 1 3
1. チタニア層 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33 33
Figure imgf000046_0001
(%) 69.3 69.4 69.7 70.0 69.4 69.6 69.5 69.5 71.0 71.3 72 可 ' 率 (°/o) 6.2 6.2 6.2 6.2 6.2 6.3 6.2 6.3 6.2 6.2 6.2 シ一卜概値 (Ω/D) 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 漏率 0.04 0.05 0.03 0.04 0.04 0.04 0.03 0.04 0.04 0.04 0.03
Figure imgf000047_0001
表 15 (その 2) (層の厚さの単位: 匪)
Figure imgf000047_0002
16 (層の厚さの単位: nm) 施 例
搬例 1
122 123 124 125 126
5. チタニア層 33 33 33 33 33 33 4. NbO,中日,
3. Ag- 1 a t%Pd層 14 14 14 14 14 14 2. NbO,中 f¾, 0.5 1 2 3 4
1. チタニア層 33 33 33 33 33 33
^ ^ (%) 82.8 82.7 83.2 82.9 82.9 8し 4 可 msiす率 (%) 4.9 4.9 4.9 5.0 5.0 5.0 シート f®t値 (Ω/D) 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 5.0 腿率 0.06 0.06 0.06 0.05 0.05 0.06
表 1 7 (層の厚さの単位: nm)
Figure imgf000049_0001

Claims

請 求 の 範 囲
1. 基体上に、 チタン酸化物層と、 金属層と、 チタン酸化物層と力 この順に交互 に 2 n + 1 (nは正の整数) 層積層された積層体であつて、 チタン酸化物層と金属 層との層間の少なくとも 1つに波長 5 50 nmでの屈折率が 2. 4未満の中間層が 介設されている積層体。
2. 各チタン酸化物層の波長 5 50 nmでの屈折率が 2. 4以上である請求項 1に 記載の積層体。
3. 中間層力 \ 酸化物、 窒化物、 酸窒化物、 炭化物およびホウ化物から選ばれる少 なくとも 1種からなる層である請求項 1または 2に記載の積層体。
4. 中間層の厚さが、 0. 1〜 30 nmである請求項 1〜 3のいずれかに記載の積 層体。
5. 金属層が、 銀、 銅および金から選ばれる少なくとも 1種の金属を含有する層で ある請求項 1〜 4のいずれかに記載の積層体。
6. シート抵抗値が 0. 5〜3. 5 Ωノロ、 可視光透過率が 40 %以上、 かつ可視 光反射率が 1 0 %以下である請求項 1〜 5のいずれかに記載の積層体。
7. 前記積層体に低反射性能を有する樹脂フィルムをさらに積層してなる請求項 1 〜 6に記載の積層体。
8. 前記積層体に近赤外遮蔽性能を有する樹脂フイルムをさらに積層してなる請求 項 1〜 7に記載の積層体。
9. 可視光反射率が 3 %以下である請求項 5〜 8のいずれかに記載の積層体。
1 0. 基体上に、 チタン酸化物層と、 金属層と、 チタン酸化物層とを、 この順に交 互に 2 n+ l (nは正の整数) 層積層した積層体の製造方法であって、 チタン酸化 物層と金属層との層間の少なくとも 1つに波長 5 50 nmでの屈折率が 2. 4未満 の中間層を介設する工程を有する積層体の製造方法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7771850B2 (en) * 2003-08-25 2010-08-10 Asahi Glass Company, Limited Electromagnetic wave shielding laminate and display device employing it
US7972713B2 (en) * 2003-11-28 2011-07-05 Saint-Gobain Glass France Transparent substrate which can be used alternatively or cumulatively for thermal control, electromagnetic armour and heated glazing
USRE43817E1 (en) 2004-07-12 2012-11-20 Cardinal Cg Company Low-maintenance coatings
DE10196704B3 (de) * 2000-09-29 2013-03-14 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Transparentes geschichtetes Erzeugnis mit einem Auftrag mit geringem Emissionsvermögen
US9663984B2 (en) 2005-10-11 2017-05-30 Cardinal Cg Company High infrared reflection coatings, thin film coating deposition methods and associated technologies
US9738967B2 (en) 2006-07-12 2017-08-22 Cardinal Cg Company Sputtering apparatus including target mounting and control
US10604442B2 (en) 2016-11-17 2020-03-31 Cardinal Cg Company Static-dissipative coating technology

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1539378A2 (en) * 2002-09-19 2005-06-15 Optimax Technology Corp. Antiglare and antireflection coatings of surface active nanoparticles
KR20050084671A (ko) * 2002-11-05 2005-08-26 엔.브이. 베카에르트 에스.에이. 적외선 반사층 구조
FR2869324B1 (fr) * 2004-04-21 2007-08-10 Saint Gobain Procede de depot sous vide
JP2006186309A (ja) 2004-11-30 2006-07-13 Asahi Glass Co Ltd 導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板
EP1860930A4 (en) * 2005-02-25 2009-12-23 Asahi Glass Co Ltd ELECTROMAGNETIC SHIELDING LAMINATE AND DISPLAY THEREOF
US7572511B2 (en) 2005-10-11 2009-08-11 Cardinal Cg Company High infrared reflection coatings
US7339728B2 (en) 2005-10-11 2008-03-04 Cardinal Cg Company Low-emissivity coatings having high visible transmission and low solar heat gain coefficient
WO2007049478A1 (ja) * 2005-10-26 2007-05-03 Central Glass Company, Limited 近赤外線反射基板およびその基板を用いた近赤外線反射合わせガラス、近赤外線反射複層ガラス
EP2013150B1 (en) 2006-04-11 2018-02-28 Cardinal CG Company Photocatalytic coatings having improved low-maintenance properties
US7892662B2 (en) 2006-04-27 2011-02-22 Guardian Industries Corp. Window with anti-bacterial and/or anti-fungal feature and method of making same
US7846492B2 (en) * 2006-04-27 2010-12-07 Guardian Industries Corp. Photocatalytic window and method of making same
JP5023556B2 (ja) * 2006-05-31 2012-09-12 旭硝子株式会社 導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板
US7820309B2 (en) 2007-09-14 2010-10-26 Cardinal Cg Company Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings
CN101971350B (zh) * 2008-04-15 2012-10-10 株式会社爱发科 薄膜晶体管、薄膜晶体管的制造方法
JPWO2010055832A1 (ja) * 2008-11-11 2012-04-12 旭硝子株式会社 導電性積層体及びプラズマディスプレイ用保護板
JP4858650B2 (ja) * 2010-03-02 2012-01-18 ソニー株式会社 光学体、窓材、建具および日射遮蔽装置
US8574728B2 (en) 2011-03-15 2013-11-05 Kennametal Inc. Aluminum oxynitride coated article and method of making the same
US10040719B2 (en) * 2012-01-17 2018-08-07 Cardinal Cg Company Low solar transmittance coatings
US9138864B2 (en) 2013-01-25 2015-09-22 Kennametal Inc. Green colored refractory coatings for cutting tools
US9017809B2 (en) 2013-01-25 2015-04-28 Kennametal Inc. Coatings for cutting tools
US9427808B2 (en) 2013-08-30 2016-08-30 Kennametal Inc. Refractory coatings for cutting tools
TWI700518B (zh) * 2014-06-18 2020-08-01 美商唯亞威方案公司 金屬介電光學濾光器、感測器裝置及製造方法
KR101991047B1 (ko) * 2015-06-30 2019-06-19 주식회사 엘지화학 전도성 적층체, 이의 제조방법, 이를 포함하는 투명 전극 및 전자소자
CN108455698B (zh) * 2017-02-22 2020-12-25 南方科技大学 光催化组件及其制备方法
US10556823B2 (en) 2017-06-20 2020-02-11 Apple Inc. Interior coatings for glass structures in electronic devices
KR101922550B1 (ko) * 2017-06-27 2018-11-27 주식회사 엘지화학 장식 부재 및 이의 제조방법
US11192334B2 (en) * 2017-06-27 2021-12-07 Lg Chem, Ltd. Decorative member and method for preparing same
US11345631B2 (en) * 2017-09-08 2022-05-31 Lg Hausys, Ltd. Functional building material for door and window
US10611679B2 (en) 2017-10-26 2020-04-07 Guardian Glass, LLC Coated article including noble metal and polymeric hydrogenated diamond like carbon composite material having antibacterial and photocatalytic properties, and/or methods of making the same
SE543408C2 (en) 2018-10-22 2021-01-05 Mimsi Mat Ab Glazing and method of its production
JP7773370B2 (ja) * 2020-04-06 2025-11-19 東レ株式会社 金属化フィルムおよびその製造方法
WO2021214111A1 (en) * 2020-04-21 2021-10-28 Mimsi Materials Ab Segmented planar sputtering target and methods for using the same
WO2021214109A1 (en) * 2020-04-21 2021-10-28 Mimsi Materials Ab Solar control glazing and method of its production
WO2021214107A1 (en) 2020-04-21 2021-10-28 Mimsi Materials Ab Solar control glazing and method of its production
WO2021214110A1 (en) * 2020-04-21 2021-10-28 Mimsi Materials Ab Low-emissivity glazing and method of its production

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54127990A (en) * 1978-03-29 1979-10-04 Teijin Ltd Laminate
JPS5511803A (en) * 1978-07-11 1980-01-28 Teijin Ltd Stratified piece and making method thereof
JPH01128829A (ja) * 1987-11-16 1989-05-22 Nippon Sheet Glass Co Ltd 反射防止膜付着透明板
JPH01249330A (ja) * 1988-03-30 1989-10-04 Nippon Sheet Glass Co Ltd 金属膜を含む反射防止膜付着透明体
JPH03178430A (ja) * 1989-03-07 1991-08-02 Asahi Glass Co Ltd 赤外反射物品
JPH0743524A (ja) * 1993-07-27 1995-02-14 Central Glass Co Ltd 紫外線熱線遮断ウィンドウ
JPH07138048A (ja) * 1993-10-26 1995-05-30 Nissan Motor Co Ltd 紫外線熱線遮断ガラス
JPH07199812A (ja) * 1993-12-28 1995-08-04 Toppan Printing Co Ltd 積層体

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3962488A (en) * 1974-08-09 1976-06-08 Ppg Industries, Inc. Electrically conductive coating
US4721349A (en) 1974-08-16 1988-01-26 Massachusetts Institute Of Technology Transparent heat-mirror
DE3027256A1 (de) * 1980-07-18 1982-02-18 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Mehrschichtsystem fuer waermeschutzanwendungen und verfahren zu seiner herstellung
US4379040A (en) 1981-01-29 1983-04-05 Ppg Industries, Inc. Method of and apparatus for control of reactive sputtering deposition
US4565719A (en) * 1982-10-08 1986-01-21 Optical Coating Laboratory, Inc. Energy control window film systems and methods for manufacturing the same
US4786783A (en) * 1987-08-11 1988-11-22 Monsanto Company Electrically heatable laminated window
GB8900166D0 (en) 1989-01-05 1989-03-01 Glaverbel Glass coating
JPH02225346A (ja) * 1989-02-27 1990-09-07 Central Glass Co Ltd 熱線反射ガラス
IT1240796B (it) * 1990-03-12 1993-12-17 Siv Soc Italiana Vetro Vetro per autoveicoli, atto ad essere usato come schermo solare e come combinatore di immagini.
JP3603315B2 (ja) * 1993-02-19 2004-12-22 日本製紙株式会社 近赤外線吸収剤およびそれを含有した熱線遮蔽材
FR2710333B1 (fr) * 1993-09-23 1995-11-10 Saint Gobain Vitrage Int Substrat transparent muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire et/ou infra-rouge.
US5691044A (en) * 1994-12-13 1997-11-25 Asahi Glass Company, Ltd. Light absorptive antireflector
FR2734811B1 (fr) 1995-06-01 1997-07-04 Saint Gobain Vitrage Substrats transparents revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire
US5719705A (en) 1995-06-07 1998-02-17 Sola International, Inc. Anti-static anti-reflection coating
DE69737785T2 (de) * 1996-04-18 2008-02-07 Kanebo Trinity Holdings, Ltd. Nahen infrarotstrahlen absorbierender film und damit ausgerüstete mehrschichtige verbrundplatte
JP3063618B2 (ja) 1996-05-14 2000-07-12 凸版印刷株式会社 表示装置用電極基板
TW415922B (en) 1996-06-11 2000-12-21 Asahi Glass Co Ltd Light absorptive anti-reflector and method for manufacturing the same
FR2755962B1 (fr) * 1996-11-21 1998-12-24 Saint Gobain Vitrage Vitrage comprenant un substrat muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique
DE69715567T3 (de) * 1996-11-26 2016-08-04 Saint-Gobain Glass France S.A. Verwendung einer Verbundglasscheibe zur Dämmung von durch Festkörper geleiteten Schwingungen in einem Fahrzeug
FR2757151B1 (fr) * 1996-12-12 1999-01-08 Saint Gobain Vitrage Vitrage comprenant un substrat muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique
JPH10278159A (ja) 1997-04-08 1998-10-20 Mitsui Chem Inc 透明導電性薄膜積層体の製造方法
JPH1164603A (ja) 1997-08-18 1999-03-05 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止膜と反射防止膜付き基材、および該反射防止膜付き基材を用いたプラズマディスプレイパネル前面板
JP4066101B2 (ja) 1997-10-17 2008-03-26 旭硝子株式会社 低放射率積層体の製造方法
JPH11340678A (ja) 1998-05-22 1999-12-10 Teijin Ltd 電磁波シールド用積層体

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54127990A (en) * 1978-03-29 1979-10-04 Teijin Ltd Laminate
JPS5511803A (en) * 1978-07-11 1980-01-28 Teijin Ltd Stratified piece and making method thereof
JPH01128829A (ja) * 1987-11-16 1989-05-22 Nippon Sheet Glass Co Ltd 反射防止膜付着透明板
JPH01249330A (ja) * 1988-03-30 1989-10-04 Nippon Sheet Glass Co Ltd 金属膜を含む反射防止膜付着透明体
JPH03178430A (ja) * 1989-03-07 1991-08-02 Asahi Glass Co Ltd 赤外反射物品
JPH0743524A (ja) * 1993-07-27 1995-02-14 Central Glass Co Ltd 紫外線熱線遮断ウィンドウ
JPH07138048A (ja) * 1993-10-26 1995-05-30 Nissan Motor Co Ltd 紫外線熱線遮断ガラス
JPH07199812A (ja) * 1993-12-28 1995-08-04 Toppan Printing Co Ltd 積層体

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1155816A4 *

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10196704B3 (de) * 2000-09-29 2013-03-14 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Transparentes geschichtetes Erzeugnis mit einem Auftrag mit geringem Emissionsvermögen
US7771850B2 (en) * 2003-08-25 2010-08-10 Asahi Glass Company, Limited Electromagnetic wave shielding laminate and display device employing it
US8440329B2 (en) 2003-11-28 2013-05-14 Saint-Gobain Glass France Transparent substrate which can be used alternatively or cumulatively, for thermal control, for electromagnetic armour and for heated glazing
US7972713B2 (en) * 2003-11-28 2011-07-05 Saint-Gobain Glass France Transparent substrate which can be used alternatively or cumulatively for thermal control, electromagnetic armour and heated glazing
US20110236663A1 (en) * 2003-11-28 2011-09-29 Saint-Gobain Glass France Transparent substrate which can be used alternatively or cumulatively, for thermal control, for electromagnetic armour and for heated glazing
USRE43817E1 (en) 2004-07-12 2012-11-20 Cardinal Cg Company Low-maintenance coatings
USRE44155E1 (en) 2004-07-12 2013-04-16 Cardinal Cg Company Low-maintenance coatings
US9663984B2 (en) 2005-10-11 2017-05-30 Cardinal Cg Company High infrared reflection coatings, thin film coating deposition methods and associated technologies
US10442728B2 (en) 2005-10-11 2019-10-15 Cardinal Cg Company High infrared reflection coatings, thin film coating deposition methods and associated technologies
US11028011B2 (en) 2005-10-11 2021-06-08 Cardinal Cg Company High infrared reflection coatings, thin film coating deposition methods and associated technologies
US9738967B2 (en) 2006-07-12 2017-08-22 Cardinal Cg Company Sputtering apparatus including target mounting and control
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