WO2002067254A1 - Optical information medium manufacturing method and optical information medium - Google Patents

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Tomoki Ushida
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Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing an optical information medium such as a read-only optical disk and an optical recording disk, and an optical information medium.
  • optical recording media such as read-only optical discs and optical recording discs have to record or store a huge amount of information such as moving picture information.
  • R & D for recording density has been actively conducted.
  • One of them is to reduce the recording / reproducing wavelength and increase the numerical aperture (NA) of the objective lens of the recording / reproducing optical system, as seen in DVD (Digital Versatile Disk), for example. It has been proposed to reduce the laser beam spot diameter during reproduction. Compared with DVDs and CDs, by changing the recording / playback wavelength from 780 nm to 65 O nm and changing the NA from 0.45 to 0.6, the recording capacity (6 to 8 times) .7 GBZ surface).
  • NA numerical aperture
  • the tilt margin is the tolerance of the tilt of the optical recording medium with respect to the optical system, and is determined by NA. Assuming that the recording / reproducing wavelength is, and the thickness of the transparent substrate on which the recording / reproducing light is incident is d, the tilt margin is
  • the thickness d of the substrate may be reduced.
  • the tilt margin is secured by making the thickness of the substrate about half (about 0.6 mm) the thickness of the CD substrate (about 1.2 mm).
  • This structure uses a normal-thick substrate as a supporting substrate for maintaining rigidity, forms pits and recording layers on its surface, and then forms a thin substrate on top of which is a light-transmitting layer with a thickness of about 0.1 sq.m.
  • the recording / reproducing light is made incident through the light transmitting layer.
  • the substrate can be made much thinner than before, and high recording density can be achieved by increasing NA.
  • a medium having such a structure is described in, for example, JP-A-10-320859 and JP-A-11-120613.
  • an objective lens having a large numerical aperture NA for example, having a NA of about 0.85 can be used.
  • a spin coating method As a method for forming the light transmitting layer having a thickness of about 0.1 mm, for example, a spin coating method can be mentioned.
  • a resin layer is formed by supplying a resin to the surface of a disk substrate fixed to a rotary table, rotating the disk substrate, and spreading the resin by centrifugal force.
  • This resin does not need to be heated for curing, and it is general to use an active energy ray-curable resin such as an ultraviolet-curable resin having a high curing speed.
  • the resin When the resin is spread by the centrifugal force as described above, the resin tends to be biased on the outer peripheral portion of the disk substrate, and as a result, the resin layer is likely to be raised.
  • the force is usually After the rotation of the disk substrate is stopped, the substrate is cured by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays, so that after the rotation is stopped, the resin rises due to surface tension near the outer peripheral edge of the disk substrate, and the resin easily returns to the inner peripheral side. As a result, a rather wide raised portion is formed near the outer periphery of the disk substrate.
  • the area where such ridges exist cannot be used as a recording area, and especially the outer periphery of the disk substrate has a large area per unit length in the radial direction, which greatly affects the recording capacity of the medium. . Therefore, it is necessary to prevent the formation of the protruding portion and the force for reducing the width of the protruding portion near the outer peripheral portion of the disk substrate.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-186355 a proposal has been made to remove a raised portion formed on the outer peripheral edge of the light transmitting layer by a trimming process using a diamond grindstone.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-186356 proposes a method of removing a raised portion formed on an outer peripheral edge of a light transmitting layer by a cutting process or a press cutting process.
  • a method of removing a raised portion formed on an outer peripheral edge of a light transmitting layer by a cutting process or a press cutting process is troublesome, and may cause burrs and adhesion of dust to adversely affect the characteristics of the optical disk.
  • an ultraviolet curable resin is applied to a rotating substrate, and then the outer peripheral portion is raised by irradiating ultraviolet rays with the substrate rotating at a lower speed. It has been proposed to form a light transmitting layer having a small diameter.
  • a UV curable resin is dropped on a stationary substrate, a glass plate is placed on the resin. Then, it has been proposed to rotate the substrate to stretch the resin, and further, irradiate ultraviolet rays while rotating to reduce the protrusion of the light transmitting layer.
  • the publication also proposes that the substrate is cut in advance so that the cross section of the outer peripheral portion of the substrate becomes wedge-shaped, so that the protrusion of the outer peripheral portion of the light transmitting layer is reduced.
  • the same publication discloses that before applying an ultraviolet-curing resin, only the outer peripheral portion of the substrate is irradiated with short-wavelength ultraviolet rays to improve the wettability of the resin. Proposals have also been made to reduce the protrusion at the outer periphery of the layer.
  • the same publication states that after the ultraviolet curable resin is stretched by rotating the substrate, the substrate is rotated at a higher speed so that the excess resin gathered at the outermost peripheral edge of the substrate is shaken off, and then ultraviolet light is irradiated.
  • the resin be cured to reduce the protrusion on the outer periphery of the light transmitting layer.
  • the same publication discloses that after the ultraviolet curable resin is stretched by rotating the substrate, only the inner peripheral portion of the substrate is irradiated with ultraviolet light to cure the resin in that region, and then the substrate is rotated at a higher speed. It has been proposed that excess resin collected at the outermost edge of the substrate is shaken off, and then the resin is cured by irradiating ultraviolet rays to reduce the protrusion on the outer peripheral portion of the light transmitting layer.
  • the publication discloses that a light-transmitting layer is formed after the diameter of an object to be coated is enlarged by inserting a substrate into a ring-shaped member, and then the ring-shaped member is formed on the light-transmitting layer formed thereon. It has been proposed to obtain a smooth light-transmitting layer by removing it together with the ridge. Further, in the publication, a substrate having a diameter larger than usual is used, and after forming a light transmitting layer having a raised portion on the outer peripheral portion, the substrate outer peripheral portion is cut together with the raised portion to obtain a smooth light transmission. Proposals have also been made to gain layers.
  • the publication states that after the ultraviolet curable resin is stretched, excess resin on the outer periphery of the substrate is wiped off with a cloth or the like, suctioned with a vacuum pump, blown off with a nitrogen blow, and then irradiated with ultraviolet light. It has also been proposed to reduce the protrusion on the outer periphery of the light transmitting layer by hardening the resin by using a resin.
  • the signal recording area becomes narrower and the following problems also occur.
  • the raised part is thick, the shrinkage due to hardening is large. Therefore, in the outer peripheral portion of the disk, the warpage becomes larger, and the surface runout becomes larger.
  • the light transmitting layer When the light transmitting layer is cured, the medium is warped, and the amount of the warp increases as the medium is closer to the outer peripheral edge.
  • the resin layer when the conventional spin coating method is used, the resin layer gradually becomes thicker from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion of the disk. If the resin layer is thick, the tilt magazine becomes smaller as described above. Therefore, there is a problem that the tilt margin becomes small in the outer peripheral portion where the tilt is large.
  • An object of the present invention is to provide an optical information medium having an information recording area on a surface of a supporting substrate, a light transmitting layer on the information recording area, and a recording or reproducing laser beam being irradiated through the light transmitting layer.
  • a prominence at the outer peripheral portion of the light transmitting layer is suppressed by using a simple method.
  • a method of manufacturing an optical information medium used to receive light comprising:
  • a coating liquid containing an active energy ray-curable resin was supplied to the support substrate provided with the information recording area, and the support substrate was rotated to form a resin layer by spreading the coating liquid on the support substrate. Thereafter, a method for producing an optical information medium in which the resin layer is cured by irradiating active energy rays while lowering the rotation speed of the support base.
  • the distance to the bottom of the recess measured in the thickness direction of the light transmitting layer is defined as, and the bottom of the recess measured in the thickness direction of the light transmitting layer.
  • an annular information recording area and a resin-containing annular light transmitting layer are arranged in this order.
  • An optical information medium in which the thickness of the light transmitting layer does not increase at least on the information recording area from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion.
  • the coating liquid containing the active energy ray-curable resin is supplied to rotate the support base, thereby spreading the coating liquid on the support base to form a resin layer, and then rotating the support base. Irradiation with active energy rays is performed at a reduced speed.
  • the present invention is different from the conventional one in that the force s is the same as that of the conventional spin coating method until the application liquid is spread to form the resin layer, and the resin layer is cured when the supporting substrate is decelerated. As a result, a region protruding from the resin layer surface on the inner peripheral side of the outer peripheral portion of the resin layer does not exist. Therefore, warpage and surface runout do not increase in the outer peripheral portion of the medium.
  • the resin supplied to the center of the supporting substrate or in the vicinity thereof is spread by centrifugal force generated by rotation of the supporting substrate. Therefore, during the spreading, the supporting base is rotated at a relatively high speed.
  • the active energy beam is irradiated while the rotation speed of the supporting base is kept the same as that at the time of spreading, the bulge on the outer peripheral part is reduced, but the resin that has started to harden moves on the supporting base. Unevenness occurs in the cured resin layer. The unevenness deteriorates electrical characteristics such as jitter.
  • the active energy ray is irradiated while shaking off the resin, the icicle-shaped resin hardens in a state of extending radially from the outer peripheral edge of the support base.
  • the active energy ray is irradiated in the process of lowering the rotation of the supporting base. Therefore, the resin that has started to cure does not move, and the resin layer existing on the information recording area does not have unevenness that affects recording and reproduction.
  • an icicle-shaped resin extending outward from the outer peripheral edge of the support base is not formed.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-210-324 describes a method of applying an ultraviolet-curable resin on a rotating substrate and then irradiating ultraviolet rays with the substrate rotating at a lower speed. Have been.
  • This method is similar to the present invention in that it cures the resin at a lower rotational speed than during spreading.
  • the number of revolutions is controlled stepwise during spreading and during curing. That is, according to the publication, when the rotation speed at the time of spreading is about 100 O rpm or less, ultraviolet rays are irradiated at a rotation speed of about 40 to 50% of the rotation speed, and the rotation speed at the time of spreading is reduced.
  • the active energy ray is irradiated while gradually lowering the rotation of the support base, the centrifugal force acting on the resin layer is smoothly reduced. Therefore, the resin layer is not cured in a state where the resin layer is uneven.
  • the light transmitting layer 1 can have a uniform thickness at least on the information recording area of the information recording layer 104, and FIG. As shown, at least on the information recording area, the thickness of the light transmitting layer 1 at the outer peripheral portion can be smaller than that at the inner peripheral portion. Therefore, the chinoret margin does not decrease in the outer peripheral portion of the medium.
  • a surface made of a resin having a high hardness is formed on the inner layer 1 i made of the resin layer formed and cured by the above-described procedure.
  • the layer 1 s may be laminated, and the laminated body may be used as the light transmitting layer 1.
  • the thickness of the surface layer 1 s is greater at the outer peripheral portion than at the inner peripheral portion.
  • the light transmitting layer 1 composed of the inner layer 1 i and the surface layer 1 s is made to be substantially uniform at least on the information recording area. Thickness.
  • the wavefront aberration correction is optimized for a light transmitting layer having a specific thickness. Therefore, on the information recording area! As a result, if the difference between the maximum thickness and the minimum thickness of the light transmitting layer is large, the wavefront aberration becomes larger than the allowable range. Therefore, the above difference is preferably 8 ⁇ or less.
  • the active energy ray is irradiated such that the outer peripheral edge of the active energy ray irradiation range substantially coincides with the outer peripheral edge of the support base.
  • the active energy rays are irradiated to a range exceeding the outer peripheral edge of the support base.
  • excess resin is shaken off beyond the outer peripheral edge of the support base.
  • the resin that has been shaken off is also cured, and the resin that has been shaken off may be cured in a state of extending in an ice column shape from the outer peripheral edge of the support base. . Therefore, it is necessary to remove the icicle-shaped resin in order to commercialize the product, which increases the number of processes.
  • the active energy ray is selectively irradiated so that the outer peripheral edge of the irradiation range substantially coincides with the outer peripheral edge of the supporting substrate, the resin that has been shaken off is cured in a state of extending in an ice column shape from the outer peripheral edge of the substrate.
  • the resin layer is cured by irradiating active energy rays while decelerating the rotation of the supporting base, so that the resin moves on the information recording area during curing. I will not do it.
  • the resin easily flows toward the outer peripheral edge of the support base.
  • the resin is hardly cured in the outer peripheral portion, so that the flow is particularly likely to occur. Therefore, depending on the rotation speed control pattern of the supporting base during curing and the energy distribution of the active energy on the resin layer surface, the outermost periphery of the light transmitting layer 1 surface has the profile shown in Fig. 11. May have.
  • the surface of the light transmitting layer 1 has a profile that falls relatively sharply from a position outside the outer peripheral edge of the information recording area to the outer peripheral edge of the light transmitting layer 1, and the depression 11 is present.
  • the resin that has not been shaken back returns due to surface tension a slight bulge is generated further on the outer peripheral side than the dent 11, and a minute ridge 12 shown in the figure is formed.
  • the resin layer is cured before the rotation of the support base is stopped, the height of the protrusion due to the return of the resin is smaller than that of the conventional spin coating method in which the resin layer is cured after the rotation is stopped. Lower.
  • the position of the top of the minute protrusion 12 can be set at the same height as or below the surface of the light transmitting layer 1 on the inner peripheral side (on the information recording area) of the minute protrusion 12. Therefore, it does not collide with the optical pickup of the micro-protrusion medium drive device.
  • the information recording area is a part of the information recording layer 104, and the outer peripheral edge of the information recording area is located on the inner side (left side in the figure) of the outer peripheral edge of the information recording layer 104. is there.
  • the radius of the information recording layer 104 is r ⁇
  • the radius of the information recording area is r 2 .
  • the radius of the light transmitting layer 1 is larger than the radius of the supporting substrate 120, and the light transmitting layer 1 protrudes from the supporting substrate 120.
  • Layer 1 half The diameter may be smaller than the radius of the support substrate 120.
  • the warpage and the runout in the outer peripheral portion are smaller than those in the case where the conventional ridge is present, and the warp and the runout are smaller than in the case where the conventional ridge is removed by grinding or the like. Become.
  • the position of the top of the minute protrusion 12 is the light transmitting layer 1 on the inner side (on the information recording area) of the minute protrusion 12. It may be above the surface. Even if the micro-protrusions 12 are formed in such a manner by controlling the conditions for forming the light-transmitting layer, the size of the micro-protrusions 12 themselves does not increase as long as the present invention is applied. It does not grow.
  • the surface layer 1 s is formed of an active energy ray-curable resin having a relatively high hardness. It consists of. Resins with high hardness often have problems with optical properties such as birefringence, and generally have a large effect on the mechanical accuracy of the medium. In order to reduce such optical and mechanical effects, the thickness of the surface layer 1 s may be reduced to several micrometers.
  • the thin surface layer 1 s is formed by the spin coating method, it is necessary to lower the viscosity of the coating solution, so that a coating film is generally formed using a solvent-dilutable resin. However, many of the solvents contained in the solvent-dilutable resin invade the support substrate 120 made of a resin such as polycarbonate. for that reason, The solvent-dilutable resin that can be used is limited, which is not preferable in terms of design flexibility.
  • the present invention when the present invention is applied when the inner layer 1 i is formed by the spin coating method, the depression 11 and the minute protrusion 12 are formed near the outer peripheral edge of the inner layer 1 i.
  • the coated solvent-dilutable resin flows along the surface profile of the inner layer 1 i.
  • it flies obliquely upward from the micro ridge 12. That is, the micro ridges 12 function as jumping platforms for the solvent-diluted resin to be shaken off.
  • the solvent-diluted resin that has been shaken off does not adhere to the side surface of the support base 120, erosion of the support base 120 can be avoided.
  • the surface layer 1 s Since the surface layer 1 s is thin, the surface profile at the outermost peripheral portion of the inner layer 1 i is preserved even after the formation of the surface layer 1 s. Therefore, even in the light-transmitting layer having the two-layer structure, the surface profile of the light-transmitting layer once falls from the position outside the information recording area to the outer periphery of the light-transmitting layer, and then rises.
  • the present invention may be applied to the formation of the surface layer 1 s. However, the surface layer 1 s is thin.
  • a solvent-dilutable resin is often used as described above. When the solvent evaporates, the viscosity becomes extremely high, so that the resin does not easily return due to surface tension. Therefore, it is not necessary to apply the present invention when forming the surface layer 1 s.
  • At the time of forming the resin layer on the support substrate at the time of forming the resin layer on the support substrate, at least a part of the coating solution protruding from the outer peripheral edge of the support substrate is scraped off, and then the active energy is irradiated.
  • This shaving is preferably performed, for example, as shown in FIG. 4B.
  • the coating liquid is spread on the disk substrate 100 including the supporting substrate, and after the excess coating liquid is shaken off from the disk substrate 100, the outer peripheral side surface of the disk substrate 100 is scraped off. Approach the outer periphery of the disk substrate 100 With the distance maintained, the rotation of the disk substrate 100 is continued.
  • the amount of the coating liquid protruding from the outer peripheral edge of the disk substrate 100 is made uniform over the entire circumference of the disk substrate 100. Therefore, the dimensions of the depression 11 and the minute protrusion 12 formed on the outer peripheral edge of the disk substrate 100 can be made uniform over the entire area in the circumferential direction.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the light transmitting layer.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the light transmitting layer.
  • FIG. 3A and FIG. 3B are cross-sectional views illustrating the steps of manufacturing the light transmitting layer.
  • FIG. 4A and FIG. 4B are cross-sectional views illustrating the steps of manufacturing the light transmitting layer.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the light transmitting layer.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the light transmitting layer.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the light transmitting layer.
  • 8A to 8D are cross-sectional views showing an example of the configuration of the closing means.
  • FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing a configuration example of the optical information medium.
  • FIG. 10A, FIG. 10B and FIG. 10C are cross-sectional views of the optical information medium of the present invention.
  • FIG. 11 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the outer peripheral edge of the optical information medium of the present invention.
  • FIG. 12 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the outer peripheral edge of the optical information medium of the present invention.
  • FIG. 9 shows a partial cross-sectional view of a configuration example of the optical information medium of the present invention.
  • This optical information medium is a recording medium, has a recording layer as an information recording layer 104 on a support base 120, and has a light transmitting layer 1 on the information recording layer 104.
  • Laser light for recording or reproduction enters through the light transmitting layer 1.
  • the light transmitting layer is hardened by active energy rays Contains a modified resin.
  • active energy rays Contains a modified resin.
  • an ultraviolet curable resin is used as the active energy ray-curable resin.
  • the present invention is applicable regardless of the type of the information recording layer. That is, for example, the present invention can be applied to a phase change recording medium, a pit formation type recording medium, and a magneto-optical recording medium. Normally, a dielectric layer or a reflective layer is provided on at least one side of the recording layer for the purpose of protecting the recording layer or providing an optical effect, but is not shown in FIG. Further, the present invention is not limited to the recordable type as shown in the figure, but is also applicable to a read-only type. In that case, the reflective layer covering the pit array formed integrally with the support base 120 constitutes the information recording layer. The entire information recording layer is not used for information recording. In a disk-shaped medium, an annular information recording layer is formed, and the annular area excluding the innermost and outermost portions is used as an information recording area.
  • the disk substrate 100 is placed on the turntable 2.
  • This disk substrate 100 is a support base provided with an information recording layer, and has a center hole 101.
  • the disc substrate 100 is fixed with the center hole 101 inserted into the annular projection 21 of the rotary table 2 so that the information recording layer is on the upper side.
  • the closing means 3 includes a disk portion 31 for closing the center hole 101, a support shaft 32 integrated at the center thereof, and a disk portion 3 1 on the side facing the center hole 101. And a protruding portion 33 integrally formed with the protruding portion.
  • the closing means 3 is fixed to the rotary table 2, and the positioning between the disk substrate 100 and the closing means 3 can be performed.
  • the method of fixing the disk substrate 100 and the closing means 3 to the rotary tape holder 2 is not particularly limited.
  • the closing means 3 is It may be the one that fits in 2.
  • a coating liquid 5 composed of a resin or a lubricating solution is discharged from the nozzle 4, and the coating liquid 5 is supplied to the outer peripheral surface of the support shaft 32.
  • the rotating tape 2 is rotated at a relatively low speed, preferably at a speed of 20 to 100 rpm, so that the coating liquid is uniformly spread on the disc portion 31.
  • the coating liquid 5 is spread by rotating the turntable 2 at a relatively high speed.
  • the resin layer 51 is formed on the disk substrate 100.
  • the conditions for spreading the coating solution are not particularly limited. It is known that the thickness of a coating film is theoretically proportional to the square root of the viscosity of the coating solution when the same conditions other than the viscosity of the coating solution are used in the spin coating method. On the other hand, the higher the number of rotations and the longer the rotation time, the thinner the coating film becomes. Therefore, the number of rotations and the rotation time during spin coating may be appropriately determined according to the thickness of the resin layer 51 to be formed and the viscosity of the coating solution.
  • the viscosity of the coating liquid is 100 to; L 0, 0 0 0 cP, and the number of rotations.
  • the rotation speed is preferably selected from the range of 500 to 6,000 rpm, and the rotation time is preferably selected from the range of 2 to 10 seconds.
  • a scraping means 200 As shown in FIG. 4B as described above. If the scraping means 200 is brought close to the outer peripheral side of the disk substrate 100 from the start of the spreading, the coating liquid that has hit the scraping means 200 and rebounded onto the disk substrate 100 surface. This may cause the surface property of the resin layer 51 to deteriorate. Therefore, it is preferable that the scraping means 200 approach the outer peripheral side surface of the disk substrate after the excess coating liquid is shaken off from above the disk substrate 100. It is preferable that at least a portion of the scraping means 200 to be brought close to the outer peripheral side surface of the disk substrate 100 has a thin plate shape like a knife blade.
  • the distance between the scraping means 200 and the outer peripheral side surface of the disk substrate 100 when scraping the coating liquid is as long as possible as long as the rotation of the disk substrate 100 is not hindered by the contact with the scraping means 200. It is preferably small, and both may be substantially in contact with each other.
  • the constituent material of the scraping means 200 is not particularly limited, and may be any of metal, resin, ceramics, and the like, and may be a composite material using two or more of these.
  • the resin layer 51 is irradiated with ultraviolet rays as shown in FIG. 5 while gradually reducing the rotation speed of the disk substrate 100, as shown in FIG. To cure.
  • the scraping means 200 is used as shown in FIG. 4B, since a part of the shaved coating liquid adheres to the scraping means 200, ultraviolet rays are irradiated there. Then it hardens. Therefore, it is preferable to remove the scraping means 200 from the outer peripheral side surface of the support base 100 before the ultraviolet irradiation.
  • the time (deceleration time) from when the rotation of the disk substrate 100 starts to decrease until it stops rotating is preferably 0.1 to 3.0 seconds, more preferably 0.1 to 2.0 seconds. is there. If the deceleration time is too short, the effect of the viscosity of the resin increases, and as a result, the resin to be shaken off at the outer peripheral portion of the resin layer cannot be shaken off, so that the curing is easily completed in a state where the protrusion is present at the outer peripheral portion. On the other hand, if the deceleration time is too long, the resin being cured flows due to centrifugal force, and the curing is completed with the resin layer being uneven.
  • the ultraviolet irradiation be started from the start of the i-th speed until 30% of the deceleration time has elapsed, and should be continued at least until 80% of the deceleration time has elapsed. If the start of irradiation is delayed, the resin layer tends to rise on the outer peripheral side. Also, if the start of irradiation is delayed, the resin does not cure to a relatively low rotation range, and as a result, the centrifugal force is weakened in a state where the resin is not cured, so that the depression formed near the outer peripheral edge of the resin layer 11 is likely to be shallow, and the micro ridges 12 are likely to be large.
  • the timing of stopping the ultraviolet irradiation is too early, the curing is likely to be completed in a state where the curing is insufficient and the resin layer is uneven.
  • the ultraviolet irradiation may be continued until and after the rotation is stopped, but if the irradiation is continued for a long time, the resin that has been shaken off from the surface of the disk substrate 100 and dropped or scattered around may be removed. They harden and are difficult to remove. Therefore, it is preferable to stop irradiation after the resin layer has hardened to the extent that it does not flow! ,.
  • the reduction profile of the rotation speed of the disk substrate 100 is not particularly limited, as long as the rotation speed reduction amount (deceleration rate) per unit time is constant or changes smoothly from the initial stage to the stoppage. . That is, the deceleration rate may be constant, may be gradually reduced or gradually increased, but is usually set to gradually increase.
  • the resin scattered outward from the outer edge of the disk substrate 100 due to centrifugal force is cured in a state where the resin extends radially in an ice column shape. May be.
  • the outer peripheral edge of the irradiation area is inside the outer peripheral edge of the disc substrate 100 and is present on the information recording area of the disc substrate 100, the boundary between the cured area and the uncured area becomes the information recording area. Will exist within. The boundaries are optically inhomogeneous and adversely affect recording and playback.
  • the outer peripheral edge of the irradiation area substantially coincides with the outer peripheral edge of the disk substrate 100 (the outer peripheral edge of the support base), and the outer peripheral edge of the irradiation area is radially away from the outer peripheral edge of the information recording area. More preferably, it exists in a region sandwiched between a position outside by 0.3 mm and the outer peripheral edge of the disk substrate 100.
  • the position of the outer peripheral edge of the information recording area is usually within 0.5 to 2 ram in the radial direction from the outer peripheral edge of the disk substrate 100.
  • the closing means 3 exists on the inner peripheral portion of the disk substrate 1 • 0.
  • the closing means 3 is demounted after the curing.
  • the resin layer 51 is unfavorably formed with pallets on the inner peripheral edge thereof or scattered burrs. Therefore, as shown in FIG. 5, it is preferable to irradiate ultraviolet rays except for the vicinity of the closing means 3 and then remove the closing means 3, and then to cure the entire resin layer 51 in a complete curing step described later. Thereby, the generation of the burrs can be prevented, and the light transmitting layer can be made uniform in the inner peripheral portion.
  • the closing means 3 may be removed before the first ultraviolet irradiation. In this case, the thickness of the light transmitting layer is likely to be non-uniform in the inner peripheral portion, but generation of burrs can be prevented.
  • the plane dimension of the disk substrate 100 should be set between the ultraviolet light source and the disk substrate 100. It is preferable to arrange a mask having a corresponding opening and irradiate the ultraviolet rays. Further, a method of irradiating ultraviolet rays by a projection exposure machine capable of precise pattern irradiation is also preferable. In addition, other than a projection exposure machine, an ultraviolet irradiation apparatus of a type that can selectively irradiate a specific area can be preferably used.
  • Examples of such an apparatus include a spot UV irradiation apparatus and multilite manufactured by Shio Denki Co., Ltd.
  • the spot UV irradiator it is possible to adjust the shape of the irradiation area by attaching a lens to the end of the optical fiber cutout, excluding the outer periphery and the inner periphery of the disk substrate 100.
  • Area can be selectively irradiated. That is, if the irradiation area is rectangular and the irradiation is performed while rotating the disk substrate, the disk substrate surface can be irradiated in a ring shape.
  • the above-mentioned multi-write the above-mentioned mask is preferably used together.
  • the active energy ray to be irradiated has a relatively low energy density on the surface of the resin layer near the outer periphery. Since the curing speed is slow in the region where the energy density is low, the resin flows further outward in the vicinity of the outer periphery even after the curing in the vicinity of the inner periphery of the resin layer is almost completed. As a result, as mentioned above, Outside the information recording area, the surface of the light transmission layer relatively sharply drops, and a depression 11 is formed.
  • the ratio of the energy density at the outer periphery to the energy density at the inner periphery may be determined experimentally as a preferable value.
  • the above-described projection exposure apparatus is an irradiation unit having a substantially uniform energy distribution in the irradiation plane.
  • the spot UV irradiation apparatus and the multilight described above are irradiation means whose energy density decreases from the center toward the periphery in the irradiation surface.
  • the thickness of the light transmitting layer can be made substantially uniform from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion, and the outer peripheral portion is formed to be thinner than the inner peripheral portion.
  • the thickness distribution of the light transmitting layer from the inner peripheral portion to the outer peripheral portion can be changed by controlling spin coating conditions and curing conditions of the resin layer. For example, if it is desired to form a light-transmitting layer at the outer periphery thinner than the inner periphery, during spin coating, as shown in FIG. It is preferable to make it conical above. The higher the cone-shaped pool made of the coating liquid 5, that is, the steeper the slope of the conical side surface, the higher the reduction rate of the resin layer thickness in the radial direction.
  • the thickness distribution profile of the resin layer can also be controlled by controlling the number of rotations of the support base and the time to stop (deceleration time) during resin spreading. Specifically, if the rotational speed during resin spreading is relatively high and the deceleration time is relatively long, the rate of decrease in the thickness of the resin layer in the radial direction will increase.
  • a coating solution having a higher viscosity may be used.
  • the closing means 3 is removed from the disk substrate 100, and the disk substrate 100 is also removed from the turntable 2.
  • the resin layer 51 is cured by irradiating ultraviolet rays while the disk substrate 100 is placed on the rotating table 2 as a curing stage, to form the light transmitting layer 1.
  • ultraviolet light is applied to a region including at least the entire surface of the disk substrate 100 as shown in the figure.
  • the disk substrate 100 When irradiating ultraviolet rays in the complete curing step, the disk substrate 100 may be rotating or stationary. However, in order to uniformly cure the resin layer, it is preferable to irradiate ultraviolet rays while rotating the disk substrate 100.
  • the rotation speed at this time is preferably 5 O rpm or more, but does not need to exceed 10% of the rotation speed during resin spreading.
  • the complete curing step is provided, the resin layer is not completely cured, so if the number of rotations in the complete curing step is too high, the resin at the outer periphery may flow due to centrifugal force. Therefore, it is preferable that the number of rotations in the complete curing step does not exceed the number of rotations during resin spreading.
  • the closing means 3 is useful for controlling the thickness distribution profile of the light transmitting layer, but has other advantages as described below. Since the disc substrate has a center hole that is used for loading the drive, resin cannot be supplied to the center of rotation (the center of the disc substrate), and it is annularly equidistant from the center of rotation. Will be supplied. However, the farther the resin supply position is from the rotation center, the thicker the outer peripheral portion of the light transmitting layer is likely to be.
  • the center hole of the disc substrate is If the resin is supplied in the vicinity of the center of the closing means, that is, in the vicinity of the center of rotation, the thickness unevenness in the radial direction of the light transmitting layer can be reduced by closing with a closing means such as a member, a disk portion, a closing plate, and a cap. Can be.
  • a closing means such as a member, a disk portion, a closing plate, and a cap.
  • Such blocking means are described in, for example, JP-A-10-320850, JP-A-10-249264, JP-A-10-289489, JP-A-11-195250, and JP-A-11-195251. ing.
  • the main effect according to the present invention is realized even when the closing means is not used.
  • a closing means since it is easy to control the thickness distribution profile of the light transmitting layer, it is preferable to use a closing means.
  • the closing means used in the present invention any means may be used as long as it has at least a disk portion for closing the center hole of the disk substrate.
  • the closing means described in each of the above-mentioned publications can be used.
  • the closing means 3 in order to form the pool of the coating liquid 5 on the disc portion 31 in a relatively steep conical shape, it is preferable to use the closing means 3 having the support shaft 32. .
  • the closing means 3 having the support shaft 32 also has the advantages described below. That is, since the support shaft 32 can be gripped, the closing means 3 can be easily handled, and in particular, it is easy to remove the closing means 3 after spin coating. Therefore, when the closing means is separated from the disk substrate, disturbance is less likely to occur on the inner peripheral edge of the resin layer.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-195251 describes a closing means in which a hollow cylindrical support or a support composed of a plurality of rods is integrated with a cap.
  • the closure means shown in FIG. 1 has the advantages described below.
  • the closing means 3 shown in FIG. 1 has a truncated-cone-shaped disc portion 31 and a column-shaped support shaft 32.
  • the same effect can be achieved with the closing means.
  • the closing means shown in FIG. 8A has a disc portion 31 having a truncated cone shape and a support shaft 32 having a truncated cone shape.
  • this closing means When this closing means is used, the application start position of the application liquid can be made closer to the center of the disc portion 31, so that the application start position can be made closer to the rotation center.
  • a decrease in the mechanical strength of the support shaft 32 can be suppressed.
  • the support shaft 32 is gripped by a chuck or the like, it is difficult to drop, which is advantageous when attaching / detaching the closing means and transporting. It is not necessary that the entire support shaft 32 has an inverted truncated cone shape. That is, at least a part of the support shaft 32 must have a truncated cone shape whose diameter gradually decreases toward the disk portion 31, and the diameter of the support shaft must be large in a region closer to the disk portion. Just do it.
  • the closing means shown in FIG. 8B differs from FIG. 8A in the cross-sectional shape of the disk portion 31.
  • the thickness of the disk portion 31 gradually decreases toward the outer peripheral portion.
  • the shape of the upper edge where the coating liquid spreads may be linear as shown in FIG. It may be curved as shown.
  • the outer periphery of the disk portion 31 may be a vertical surface.
  • the thickness t at the outer periphery of the disk portion 31 is preferably 0.4 thigh or less. If the thickness t is too large, it becomes difficult to apply the resin layer evenly.
  • the thickness of the disk portion 31 may be uniform as shown in FIG. 8D.
  • the minimum diameter of the support shaft 32 in the vicinity of the disc portion 31 is preferably less than 4 bandages, more preferably 2 ram or less. If the diameter of the support shaft 32 in the vicinity of the disk portion 31 is too large, the application start position will be away from the center of the disk portion 31 and the thickness unevenness of the resin layer 51 in the radial direction will increase. Would. However, if the diameter of the support shaft 32 in the vicinity of the disc portion 31 is too small, the mechanical strength of the support shaft 32 becomes insufficient. Therefore, the minimum diameter is preferably 0.5 or more, more preferably 0.7 thighs or more.
  • the length of the support shaft 32 is not particularly limited, and may be appropriately determined in consideration of ease of supply of the coating liquid to the outer peripheral surface thereof, ease of handling when gripping, and the like. However, it is preferably 5 to 10 O ram, more preferably 10 to 30 O mm. If the support shaft 32 is too short, it becomes difficult to supply the coating solution to the outer peripheral surface, and it is also difficult to hold the coating solution. On the other hand, if the support shaft 32 is too long, handling becomes troublesome.
  • the diameter of the disc portion 31 may be larger than the diameter of the center hole 101 of the disc substrate and smaller than the inner diameter of the annular information recording area of the disc substrate. However, the diameter of the disc portion 31 may be smaller than the diameter of the disc portion 31 because the coating solution 5 may go around the lower surface of the disc portion 31 and contaminate the peripheral surface of the center hole 101 (the inner peripheral surface of the disc substrate). It is preferably larger than the diameter of the hole 101 by 4 mm or more, particularly preferably 8 ram or more. In addition, when the disk portion 31 is removed, the shape of the resin layer 51 in the vicinity thereof is likely to be disturbed. Therefore, the diameter of the disk portion 31 is at least three times smaller than the inner diameter of the information recording area. In particular, it is preferably smaller than 5 mm.
  • the specific dimensions vary depending on the diameter of the center hole and the inner diameter of the information recording area, Normally, when the present invention is applied to an optical disk having a diameter of about 60 to 130 thighs, the diameter of the disc portion 31 is set to 20 to 4 Oram, particularly to a range of 25 to 38 mm. Is preferred.
  • the constituent material of the closing means is not particularly limited, and may be any of metal, resin, ceramics, and the like, and may be a composite material using two or more of these. Further, the disc portion 31 and the support shaft 32 may be made of different materials. However, since the mechanical strength, durability and dimensional accuracy are good, it is preferable that the closing means is made of metal. As the metal, for example, a stainless alloy, aluminum, or aluminum alloy is preferable.
  • the surface of the closing means 3, especially the entire surface of the disc portion 31, has a lower surface tension than the coating liquid. If the surface of the closing means 3 is not easily wetted by the coating liquid, it becomes easy to wash the coating liquid adhered to the surface of the closing means.
  • the surface tension can be controlled by appropriately selecting the constituent material of the closing means, but it is preferable to perform a water-repellent / oil-repellent treatment such as Teflon processing on a region where the surface tension is desired to be reduced.
  • the support base 120 is provided to maintain the rigidity of the medium.
  • the thickness of the supporting substrate 120 is usually from 0.2 to 1.2 s, preferably from 0.4 to 1.2 s, and may be transparent or opaque.
  • the support base 120 may be made of resin as in a normal optical recording medium, but may be made of glass.
  • a group (guide groove) 121 normally provided in an optical recording medium is formed by transferring a ridge provided on a support base 120 to each layer formed thereon. it can.
  • Group 1G is an area existing on the near side when viewed from the recording / reproducing light incident side, and an area existing between adjacent groups is called a land.
  • the light transmitting layer 1 has a light transmitting property for transmitting laser light.
  • the thickness of the light transmitting layer is preferably selected from the range of 30 to 300 ⁇ . The effect of the present invention is particularly remarkable when such a thin light transmitting layer is provided.
  • the light transmission layer is If the thickness is too small, the optical effect of dust adhering to the surface of the light transmitting layer will increase. On the other hand, if the light transmitting layer is too thick, it is difficult to achieve a high recording density by increasing the NA.
  • the light transmitting layer 1 may have a structure in which the inner layer 1i and the surface layer 1s are stacked.
  • the inner layer 1i preferably has a small shrinkage upon curing and a small birefringence.
  • the surface layer 1s preferably has good scratch resistance.
  • the thickness of the surface layer 1 s is preferably 0.1 to 1 O / zm, more preferably 0.3 to 5 ⁇ . If the surface layer is too thin, the protective effect will be insufficient. On the other hand, if the surface layer is too thick, it becomes difficult to reduce the warpage and birefringence of the light transmitting layer.
  • dents 11 and minute ridges 12 as shown in FIG. 11 may be formed, and these are intentionally formed by controlling the conditions at the time of curing the resin layer. It is also possible.
  • the distance to the bottom of the depression 11 measured in the thickness direction of the light transmission layer 1 is preferably 1 to 60 zm with reference to the position immediately before the surface of the light transmission layer 1 suddenly drops near the outer peripheral edge. If the distance is too small or too large, it becomes difficult for the minute ridges 12 to function as the above-mentioned jump platform when forming the surface layer.
  • the height of the minute protrusion 12, that is, the distance D 2 from the bottom of the light transmitting layer 1 to the top of the minute protrusion 12 measured in the thickness direction of the light transmitting layer 1 is preferably 3 to 50 ⁇ , Preferably it is 5 to 40 ⁇ . If the distance D 2 is too small, when the surface layer is formed, fine colliculus 1 2 becomes difficult to function as a jumping described above. On the other hand, if the distance D 2 is too large, the volume of the minute protrusion 12 becomes large, so that it becomes difficult to significantly reduce the warpage and surface runout in the outer peripheral portion of the medium.
  • both the distance and the distance D 2 it can be easily kept within the preferred range.
  • the distance D 2 is set within the above preferable range, and D i ⁇ D 2 It is preferable that
  • a functional film having functions such as lubricity, water repellency, and oil repellency may be provided on the light transmitting layer.
  • a read-only optical disk sample was manufactured in the following procedure.
  • Disc-shaped support substrate with pits to hold information ⁇ Polycarbonate, outer diameter 12 Omm, inner diameter (diameter of center hole) 15 ⁇ , thickness 1.2 ⁇ , A1 force,
  • the reflective layer was formed by a sputtering method.
  • an ultraviolet curable resin (viscosity at 250 ° C .: 450 O cP) was supplied to the support base at a radius of 18 ° while rotating the rotary table at 6 O rpm.
  • the resin was spread on the reflective layer surface by rotating the table at 200 O rpm for 7.5 seconds to form a resin layer.
  • the thin plate-shaped scraping means 200 was brought close to the outer peripheral side surface of the supporting base as shown in FIG. 4B, and the protruding resin was removed. Shaved for 1 second.
  • the scraping means 200 was moved away from the outer peripheral side surface of the support base, and the rotation table was started to decelerate.
  • UV spot cure BHG-250 type manufactured by Mejiro Precision Co., Ltd. was used as the UV irradiation means, the UV irradiation range was adjusted to a diameter of 12 O mm, and the entire surface of the supporting substrate was irradiated with UV rays.
  • This ultraviolet irradiation means can adjust the shape of the irradiation area similarly to the spot UV irradiation apparatus described above, and is an irradiation means whose energy density decreases from the center to the periphery in the irradiation surface. .
  • the resin layer was completely cured by irradiating the entire surface of the support base with ultraviolet rays while the support base was stationary, and a light transmitting layer was obtained, thereby obtaining an optical disc sample.
  • the work from spin coating to curing was performed in a clean room at 25 ° C. The same was applied to the following Examples and Comparative Examples.
  • An optical disc sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the closing means was used and the rotary table was rotated at 200 O rpm for 8 seconds when spreading the resin.
  • the closing means used is made of a stainless steel alloy and has the shape shown in Fig. 1.
  • the disk part 31 has a diameter of 38 mm
  • the support shaft 32 has a diameter of 11 ⁇ 1, and a length of 2 O mm. It is.
  • the closing means and its vicinity were excluded from the irradiation range. Then, after the irradiation, the closing means was removed from the support substrate, and ultraviolet light was irradiated while the support substrate was kept stationary to cure the uncured area.
  • An optical disk sample was produced in the same manner as in Example 2 except that the resin pool formed on the disk portion of the closing means was made conical.
  • an optical disc sample was produced in the same manner as in Example 1 except that the rotation of the support base was stopped, and ultraviolet irradiation was performed by the following ultraviolet irradiation means.
  • the resin was not scraped off by the scraping means 200.
  • UVH-252C 4 kW manufactured by Shio Electric Co., Ltd.
  • the ultraviolet irradiation range was adjusted to a diameter of 20 O mm, and the ultraviolet irradiation was set so that the ultraviolet rays were irradiated beyond the outer peripheral edge of the holding substrate.
  • the above-mentioned uniform auxiliary mirror is for making the light intensity in the irradiation area uniform by irregularly reflecting light.
  • An optical disk sample was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the same closing means as in Example 2 was used, irradiation of ultraviolet light was performed after the rotation of the support base was stopped, and then the closing means was removed.
  • An optical disk sample was prepared in the same manner as in Example 3 except that the support base was irradiated with ultraviolet light after the rotation was stopped, and then the closing means was removed. However, the same ultraviolet irradiation means as in Comparative Example 1 was used.
  • an optical disk sample was produced in the same manner as in Example 2 except that the support substrate was irradiated with ultraviolet rays for 2 seconds while keeping the rotation speed at 200 O rpm. However, the same ultraviolet II irradiation means as in Comparative Example 1 was used.
  • the thickness of the light transmitting layer in the region with a radius of 25 to 60 was measured with a laser focus displacement meter.
  • Table 1 shows the results.
  • the information recording area has a radius of 23 to 58 mm.
  • the amount of warpage and the amount of runout of each sample were measured using a mechanical accuracy measuring device LM1200 manufactured by Ono Sokki Co., Ltd. Measurements were made at 5 mm intervals in the radial direction within a radius of 23 to 58 mra.
  • Table 2 shows the maximum values of the amount of warpage and surface runout for each sample.
  • the distance and D 2 shown in FIG. 11 of each sample manufactured by applying the present invention were measured by Surfcom 605A, a contour shape measuring device manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. As a result, is in the range of 3 0 to 5 0 in, D 2 had a 1 0-3 0 within range. In addition, D 1 > D 2 was satisfied.
  • Example 1 Example 2 Example 3
  • Example 4 Comparative example 1 Comparative example 2 Comparative example 3 Comparative example 4 Comparative example 5
  • Warp amount O m 76.3 93.8 96.7 95.1 88.6 100.7 121.9 98.2 108.5
  • Example 1 clearly shows the effect of the present invention. That is, when Example 1 and Comparative Example 1 are compared, it is understood that the swelling of the light transmitting layer in the outer peripheral portion is significantly suppressed in Example 1. Further, in Example 2 in which the closing means was used in spreading the coating liquid, the light transmitting layer had a uniform thickness on the information recording area. Further, in the third and fourth embodiments in which the resin reservoir formed on the disk portion of the closing means has a conical shape, the light transmitting layer is thinner at the outer peripheral portion than at the inner peripheral portion. In Comparative Example 4, since the resin was irradiated with ultraviolet rays while being rotated at a high speed, the resin extended from the outer peripheral edge of the sample into an icicle shape and was cured.
  • Table 2 also shows that the present invention can significantly reduce the amount of surface runout. Industrial applicability

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Description

明細書 光情報媒体の製造方法および光情報媒体 技術分野
本発明は、 再生専用光ディスク、 光記録ディスク等の光情報媒体を製造する方 法と、 光情報媒体とに関する。 背景技術
近年、 再生専用光ディスクや光記録ディスク等の光記録媒体では、 動画情報等 の膨大な情報を記録ないし保存するため、 記録密度向上による媒体の高容量化が 求められ、 これに応えるために、 高記録密度ィ匕のための研究開発が盛んに行われ てきた。 '
その中のひとつとして、 例えば D V D (Digital Versatile Disk) にみられる ように、 記録 ·再生波長を短くし、 かつ、 記録 ·再生光学系の対物レンズの開口 数 （NA) を大きくして、 記録 ·再生時のレーザービームスポット径を小さくす ることが提案されている。 D V Dを C Dと比較すると、 記録'再生波長を 7 8 0 nmから 6 5 O nmに変更し、 NAを 0 . 4 5から0 . 6に変更することにより、 6 〜 8倍の記録容量 （4 . 7 GBZ面） を達成している。
し力 し、 このように高 NA化すると、 チルトマージンが小さくなつてしまう。 . チルトマージンは、 光学系に対する光記録媒体の傾きの許容度であり、 N Aによ つて決定される。 記録 ·再生波長を； 、 記録 ·再生光が入射する透明基体の厚さ を dとすると、 チルトマージンは
X / ( d - N A3)
に比例する。 また、 光記録媒体がレーザービームに対して傾くと、 すなわちチル トが発生すると、 波面収差 （コマ収差） が発生する。 基体の屈折率を n、 傾き角 を 0とすると、 波面収差係数は
(1/2) - d - {n2 · sin0 - cos Θ } · N A3/ (n2— sin20 ) 一 5/2 で表される。 これら各式から、 チルトマージンを大きくし、 かつコマ収差の発生 を抑えるためには、 基体の厚さ dを小さくすればよいことがわかる。 実際、 DV Dでは、 基体の厚さを CD基体の厚さ （1. 2 mm程度） の約半分 （0. 6 mm程 度） とすることにより、 チルトマージンを確保している。
ところで、 より高品位の動画像を長時間記録するために、 基体をさらに薄くで きる構造が提案されている。 この構造は、 通常の厚さの基体を剛性維持のための 支持基体として用い、 その表面にピットや記録層を形成し、 その上に薄型の基体 として厚さ 0. 1讓程度の光透過層を設け、 この光透過層を通して記録 ·再生光 を入射させるものである。 この構造では、 従来に比べ基体を著しく薄くできるた め、 高 N A化による高記録密度達成が可能である。 このような構造をもつ媒体は、 例えば特開平 10— 320859号公報および特開平 1 1— 12061 3号公報 に記載されている。
厚さ 0. 1 ram程度の光透過層を設けることにより、 開口数 NAの大きい、 例え ば N Aが 0. 85程度の対物レンズが使用可能となる。
厚さ 0. 1 mm程度の光透過層の形成方法としては、 例えばスピンコート法が 挙げられる。 スピンコート法を用いる場合、 回転テーブルに固定したディスク基 板の表面に樹脂を供給し、 ディスク基板を回転させて遠心力により樹脂を展延す ることにより、 樹脂層を形成する。 この樹脂には、 硬化のために加熱する必要が なく、 また、 硬化速度が速い紫外線硬化型樹脂等の活性エネルギー線硬化型樹脂 を用いることが一般的である。
し力 し、 このように遠心力により樹脂を展延させると、 ディスク基板の外周部 に樹脂が偏りやすく、 その結果、 樹脂層に隆起が生じやすい。 し力も、 通常、 デ イスク基板の回転を停止した後、 紫外線等の活性エネルギー線を照射して硬化す るため、 回転停止後にディスク基板外周縁付近において表面張力に り樹脂が盛 り上がって内周側に戻りやすい。 そのため、 ディスク基板外周縁付近に、 かなり 幅広の隆起部が形成されてしまう。 このような隆起部が存在する領域は記録領域 としての使用が不可能であり、 特にディスク基板外周部は、 半径方向における単 位長さ当たりの面積が大きいため、 媒体の記録容量に大きく影響する。 そのため、 ディスク基板外周部付近において隆起部の幅を減少させる力、 隆起部の形成を防 ぐ必要がある。
特開平 1 1— 7 3 6 9 1号公報では、 基板上に光硬化樹脂を塗布して樹脂層を 形成した後、 基板の最外周部に生じた隆起部をマスクで被覆した状態として硬化 光を照射することにより、 被覆領域を除いて樹脂層を硬化する。 次いで、 未硬ィ匕 樹脂のうち盛り上がっている樹脂だけを除去することにより未硬化領域を平坦に した後、 再び硬化光を照射して、 全域が平坦な硬化樹脂層を形成する提案がなさ れている。 し力 し、 この方法では、 2回の硬化とマスクの着脱と樹脂の除去とが 必要であり極めて煩雑なので、 工業的な実施は困難である。
特開平 1 1一 8 6 3 5 5号公報では、 光透過層の外周縁に形成される隆起部を、 ダイヤモンド砥石を用いるトリミング処理によって除去する提案がなされている。 また、 特開平 1 1一 8 6 3 5 6号公報では、 光透過層の外周縁に形成された隆起 部を切削処理やプレス切断処理によって除去する方法が提案されている。 しかし、 このような方法は手間がかかるほか、 バリの発生や塵埃の付着などが発生して、 光ディスクの特性に悪影響を与えるおそれがある。
特開平 1 1一 2 0 3 7 2 4号公報では、 回転する基板上に紫外線硬化型樹脂を 塗布した後、 基板の回転数をより低くした状態で紫外線を照射することにより、 外周部の隆起の小さい光透過層を形成する提案がなされている。 また、 同公報で は、 静止した基板上に紫外線硬化型樹脂を滴下した後、 榭脂上にガラス板を载置 し、 次いで基板を回転させて樹脂を延伸し、 さらに、 回転させながら紫外線を照 射することにより、 光透過層の隆起を小さくする提案もなされている。 また、 同 公報には、 基板外周部の断面が楔状となるようにあらかじめ基板を切り欠いてお くことにより、 光透過層外周部の隆.起を小さくする提案もなされている。 また、 同公報には、 紫外線硬化型樹脂を塗布する前に、 基板外周部だけに短波長紫外線 を照射することにより樹脂の濡れ性を向上させ、 その後、 樹脂を塗布することに より、 光透過層外周部の隆起を小さくする提案もなされている。 また、 同公報に は、 基板回転により紫外線硬化型樹脂を延伸した後、 基板をより高速で回転させ ることにより、 基板の最外周端に集まった余分な樹脂を振り切り、 次いで、 紫外 線を照射して樹脂を硬化することにより、 光透過層外周部の隆起を小さくする提 案もなされている。 また、 同公報には、 基板回転により紫外線硬化型樹脂を延伸 した後、 基板内周部だけに紫外線を照射してその領域の樹脂を硬化し、 次いで、 基板をより高速で回転させることにより、 基板の最外周端に集まった余分な樹脂 を振り切り、 次いで、 紫外線を照射して樹脂を硬化することにより、 光透過層外 周部の隆起を小さくする提案もなされている。 また、 同公報には、 基板をリング 状部材に填め込むことにより塗布対象物の直径を拡大した後、 光透過層を形成し、 次いで、 リング状部材をその上に形成された光透過層の隆起部と共に取り外すこ とにより、 平滑な光透過層を得る提案もなされている。 また、 同公報には、 通常 よりも直径の大きな基板を用い、 外周部に隆起部の存在する光透過層を形成した 後、 基板外周部を前記隆起部と共に切断することにより、 平滑な光透過層を得る 提案もなされている。 また、 同公報には、 紫外線硬化型樹脂を延伸した後、 基板 外周部の余分な樹脂を布などで拭き取ったり、 真空ポンプで吸引したり、 窒素ブ ローによって吹き飛ばしたりした後、 紫外線を照射して樹脂を硬化することによ り、 光透過層外周部の隆起を小さくする提案もなされている。
し力 し、 上記特開平 1 1一 2 0 3 7 2 4号公報に記載された方法のほとんどは、 工程数の増加を招いたり、 製造装置の制御が複雑となったりし、 生産性の低下を 招くことがある。 発明の開示
ディスク基板外周部付近において樹脂層に隆起部が形成されると、 信号記録領 域が狭くなることのほか、 以下に挙げる問題も生じる。
隆起部は厚いため、 硬化による収縮が大きい。 そのため、 ディスクの外周部に おいて、 反りがより大きくなり、 面振れがより大きくなつてしまう。
光透過層を硬化する際に媒体には反りが発生し、 反り量は媒体外周縁に近いほ ど大きくなる。 一方、 従来のスピンコート法を用いると、 ディスクの内周部から 外周部にかけて樹脂層が徐々に厚くなる。 樹脂層が厚いと、 上記したようにチル トマ一ジンが小さくなつてしまう。 したがって、 チルトが大きい外周部において チルトマ一ジンが小さくなるという問題がある。
また、 媒体駆動装置の光ピックァップが媒体の外周縁付近に移動したときに、 光ピックァップが上記隆起部に衝突するおそれがある。
本発明の目的は、 支持基体表面に情報記録領域を有し、 この情報記録領域上に 光透過層を有し、 この光透過層を通して記録または再生用のレーザー光が照射さ れる光情報媒体を製造する際に、 簡易な方法を用いて光透過層の外周部における 隆起を抑えることである。
このような目的は、 下記 （1 ) 〜 （8 ) の本発明により達成される。
( 1 ) 中心孔を有するディスク状の支持基体上に、 環状の情報記録領域と、 樹脂を含有する環状の光透過層とをこの順で有し、 光透過層を通して記録または 再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体を製造する方法 であって、
前記光透過層を形成するに際し、 情報記録領域を設けた支持基体上に、 活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する 塗布液を供給して支持基体を回転させることにより、 塗布液を支持基体上に展延 して樹脂層を形成した後、 支持基体の回転速度を低下させながら活性エネルギー 線を照射することにより、 前記樹脂層を硬化させる光情報媒体の製造方法。
( 2 ) 前記樹脂層表面における前記活性エネルギー線のエネルギー密度が、 外周部付近において相対的に低い上記 （1 ) の光情報媒体の製造方法。
( 3 ) 前記活 1~生エネルギー線の照射範囲の外周縁が前記支持基体の外周縁と ほぼ一致するように前記活性エネルギー線を照射する上記 ( 1 ) または （2 ) の 光情報媒体の製造方法。
( 4 ) 前記樹脂層形成時に、 支持基体の外周縁からはみ出した前記塗布液の 少なくとも一部を削ぎ取り、 その後、 活性エネルギー線を照射する上記 （1 ) 〜 ( 3 ) のいずれかの光情報媒体の製造方法。
( 5 ) 中心孔を有するディスク状の支持基体上に、 環状の情報記録領域と、 樹脂を含有する環状の光透過層とをこの順で有し、 光透過層を通して記録または 再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、 光透過層の表面が、 情報記録領域の外周縁より外側の位置から光透過層の外周 縁にかけて、 落ち込んで窪みとなった後、 隆起して微小隆起を形成している光情 報媒体。
( 6 ) 光透過層表面が落ち込む直前の位置を基準として、 光透過層の厚さ方 向に測った前記窪み底部までの距離を とし、 光透過層の厚さ方向に測った前 記窪み底部から前記微小隆起頂部までの距離を D2としたとき、 である上記 （5 ) の光情報媒体。
( 7 ) 中心孔を有するディスク状の支持基体上に、 環状の情報記録領域と、 樹脂を含有する環状の光透過層とをこの順で有し、 光透過層を通して記録または 再生のためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、 光透過層が、 活性エネルギー線硬化型樹脂を含有し、 かつ、 スピンコート法に より形成されたものであり、
少なくとも情報記録領域上において、 光透過層の厚さが内周部から外周部にか けて増大することがない光情報媒体。
( 8 ) 少なくとも情報記録領域上において、 光透過層の厚さが内周部よりも 外周部で薄い上記 ( 7 ) の光情報媒体。
本発明では、 活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する塗布液を供給して支持基 体を回転させることにより、 塗布液を支持基体上に展延して樹脂層を形成した後、 支持基体の回転速度を低下させながら活性エネルギー線を照射する。 本発明は、 塗布液を展延させて樹脂層を形成するまでは従来のスピンコート法と同様である 力 s、 支持基体の減速時に樹脂層を硬化させる点が従来と異なる。 これにより、 榭 脂層外周部に、 それより内周側における樹脂層表面に対し突出した領域が存在し なくなる。 そのため、 媒体の外周部において、 反りおよび面振れが大きくなるこ とがない。
スピンコート法では、 支持基体の中央またはその近傍に供給された樹脂を、 支 持基体回転により発生する遠心力によって展延する。 したがって、 展延の際には 支持基体を比較的高速で回転させる。 し力 し、 支持基体の回転数を展延時と同じ に保ったまま活性エネルギー線を照射すると、 外周部の隆起は小さくなるが、 硬 化し始めた樹脂が支持基体上で移動してしまうため、 硬化後の樹脂層にむらが発 生してしまう。 このむらにより、 ジッタ等の電気特性が悪化してしまう。 また、 この場合、 樹脂を振り切りながら活性エネルギー線を照射することになるため、 支持基体の外周縁から氷柱状の樹脂が放射方向に延びた状態で硬化してしまう。 そのため外観不良となり、 氷柱状樹脂の除去処理が必要となる。 これに対し本発 明では、 展延後、 支持基体の回転を落とす過程で活性エネルギー線を照射する。 そのため、 硬化しはじめた樹脂が移動することはなく、 情報記録領域上に存在す る樹脂層に、 記録再生に影響を与えるむらが発生することはない。 また、 そのた め、 支持基体外周縁から外側に向かって延びる氷柱状の樹脂が形成されることも ない。
前記特開平 1 1一 2 0 3 7 2 4号公報には、 回転する基板上に紫外線硬化型樹 脂を塗布した後、 基板の回転数をより低くした状態で紫外線を照射する方法が記 載されている。 この方法は、 展延時よりも低い回転数において樹脂を硬化する点 で本発明に類似する。 し力 し、 同公報では、 展延時と硬化時とで回転数を段階的 に制御している。 すなわち、 同公報には、 展延時の回転数が約 1 0 0 O rpm以下 の場合、 その回転数の 4 0〜 5 0 %程度の回転数において紫外線を照射し、 展延 時の回転数が 1 0 0 O rpm以上の場合、 その回転数の 3 0〜6 0 %程度の回転数 において紫外線を照射することが好ましい旨が記載されている。 同公報の実施例 では、 展延時の回転数を 8 1 O rpmとし、 紫外線照射時の回転数を 4 0 O rpmとし た場合に、 光透過層の外周部における隆起部の幅が約 3謹となっている。 また、 展延時の回転数を 1 2 0 O rpmとし、 紫外線照射時の回転数を 5 0 O rpmとした場 合には、 隆起部の幅が約 2腕となっている。 同公報記載の方法のように、 展延時 と硬ィ匕時とで回転数を段階的に制御した場合、 同公報の実施例から明らかなよう に、 隆起部をなくすことは不可能である。 また、 回転数を段階的に制御する場合、 樹脂層に働く遠心力が段階的に変化するため、 樹脂層にむらが生じた状態で硬化 してしまう。
これに対し本発明では、 支持基体の回転を徐々に落としながら活性エネルギー 線を照射するため、 樹脂層に働く遠心力が滑らかに減少する。 そのため、 樹脂層 にむらが生じた状態で硬化することはない。
本発明では、 図 1 0 Aに示すように、 少なくとも情報記録層 1 0 4の情報記録 領域上において、 光透過層 1を均一な厚さとすることができ、 また、 図 1 0 Bに 示すように、 少なくとも情報記録領域上において、 外周部における光透過層 1の 厚さを内周部より薄くすることもできる。 そのため、 媒体外周部においてチノレト マージンが減少することはない。 ところで、 光透過層の耐擦傷性を高くするため に、 図 1 0 Cに示すように、 上記手順によって形成および硬化された樹脂層から なる内部層 1 i上に、 硬度の高い樹脂からなる表面層 1 sを積層し、 これらの積 層体を光透過層 1とすることもある。 この表面層 1 sをスピンコート法により形 成すると、 表面層 1 sの厚さは、 外周部のほうが内周部より厚くなる。 このとき、 上記内部層 1 iの厚さが内周部より外周部で薄ければ、 内部層 1 iと表面層 1 s とからなる光透過層 1を、 少なくとも情報記録領域上においてほぼ均一な厚さと することができる。 ただし、 記録再生用レーザー光の照射光学系は、 特定の厚さ の光透過層に対して波面収差補正が最適化されている。 そのため、 情報記録領域 上にお！、て光透過層の最大厚さと最小厚さとの差が大きレヽと、 波面収差が許容範 囲を超えて大きくなつてしまう。 そのため、 上記差は 8 μ ιη以下であることが好 ましい。
本発明の好ましい態様では、 活性エネルギー線の照射範囲の外周縁が支持基体 の外周縁とほぼ一致するように活性エネルギー線を照射する。 通常用いられる活 性エネルギー線照射装置を用い、 支持基体を回転させながら照射すると、 支持基 体の外周縁を超える範囲まで活性エネルギー線が照射される。 一方、 支持基体の 回転に伴い、 余分な樹脂が支持基体外周縁を超えて振り切られていく。 そのため、 通常の活性エネルギー線照射装置を用いた場合、 振り切られた樹脂も硬化してし まレ、、 振り切られた樹脂が支持基体外周縁から氷柱状に伸びた状態で硬化される ことがある。 したがって、 製品化するためにはこの氷柱状の樹脂を除去する必要 があり、 工程数が増えてしまう。 これに対し、 照射範囲の外周縁が支持基体の外 周縁とほぼ一致するように選択的に活性エネルギー線を照射すれば、 振り切られ た樹脂が基板外周縁から氷柱状に伸びた状態で硬化することがない。 本発明では、 スピンコート法によって樹脂を展延した後、 支持基体の回転を減 速させながら活性エネルギー線を照射して樹脂層を硬化するので、 硬化時に、 情 報記録領域上において樹脂が移動することはない。 ただし、 回転によって生じる 遠心力が最も大きくなる支持基体の最外周部、 すなわち情報記録領域の外縁より 外周側では、 樹脂が支持基体の外周縁に向かって流動しやすい。 活性エネルギー 線のエネルギー密度が支持基体の外周部において低くなる照射手段を用いた場合、 外周部における樹脂の硬化が進みにくいため、 流動は特に生じやすくなる。 その ため、 硬化時の支持基体の回転数制御パターンや、 樹脂層表面における活性エネ ルギ一線のエネルギー分布に依存して、 光透過層 1表面の最外周部は、 図 1 1に 示されるプロファイルをもつことがある。
図 1 1において、 光透過層 1の表面は、 情報記録領域の外周縁より外側の位置 から光透過層 1の外周縁にかけて、 比較的急激に落ち込むプロファイルをもち、 窪み 1 1が存在する。 また、 振り切られなかった樹脂が表面張力により戻るため、 窪み 1 1よりさらに外周側においてわずかに盛り上がりが生じ、 図示する微小隆 起 1 2が形成されている。 ただし、 本発明では、 支持基体の回転が停止する前に 樹脂層を硬化してしまうため、 回転停止後に樹脂層を硬化させる従来のスピンコ ート法に比べ、 樹脂の戻りによる隆起の高さは低くなる。 したがって、 微小隆起 1 2の頂部の位置を、 微小隆起 1 2より内周側 （情報記録領域上） における光透 過層 1表面と同じ高さまたはこれより下側にできる。 したがって、 この微小隆起 1 2力 媒体駆動装置の光ピックァップに衝突することはない。 なお、 図 1 1に おいて、 情報記録領域は情報記録層 1 0 4の一部であり、 情報記録領域の外周縁 は情報記録層 1 0 4の外周縁よりも内側 （図中左側） にある。 図 1 1において、 情報記録層 1 0 4の半径は r 丄であり、 情報記録領域の半径は r 2である。 なお、 図 1 1では、 光透過層 1の半径が支持基体 1 2 0の半径より大きく、 光透過層 1 が支持基体 1 2 0からはみ出しているが、 図 1 2に示すように、 光透過層 1の半 径が支持基体 1 2 0の半径より小さくてもよい。
上記窪み 1 1および微小隆起 1 2が形成されることにより、 以下に説明する効 果が得られる。
従来のスピンコート法において形成される最外周部の隆起は厚いため、 硬化時 の収縮が大きい。 その結果、 媒体の外周部において、 反りおょぴ面振れが大きく なってしまう。 これに対し本発明では、 最外周部において、 光透過層表面が比較 的急激に落ち込んでおり、 また、 それより外側に形成される隆起は微小である。 そのため本発明では、 従来の隆起が存在する場合に比べ、 外周部における反りお よび面振れが小さいのはもちろん、 従来の隆起を研削などにより除去した場合に 比べても、 反りおよび面振れが小さくなる。
なお、 光ピックアップが媒体の最外周に位置することがないシステムでは、 微 小隆起 1 2の頂部の位置が、 微小隆起 1 2より内周側 （情報記録領域上） におけ る光透過層 1表面より上側であってもよい。 光透過層の形成条件を制御して微小 隆起 1 2をそのように形成した場合でも、 本発明を適用する限り微小隆起 1 2自 体の寸法は大きくならないので、 反りおよび面振れに与える影響が大きくなるこ とはない。
図 1 0 Cに示すように、 光透過層 1を内部層 1 iと表面層 1 sとからなる 2層 構造とする場合、 表面層 1 sは、 硬度の比較的高い活性エネルギー線硬化型樹脂 から構成する。 硬度の高い樹脂は、 複屈折等の光学的性質に問題があることが多 く、 また、 媒体の機械精度に与える影響が一般に大きい。 このような光学的およ ぴ機械的な影響を軽減するためには、 表面層 1 sの厚さを数マイクロメートル程 度と薄くすればよい。 薄い表面層 1 sをスピンコート法により形成する場合、 塗 布液の粘度を低くする必要があるため、 溶剤希釈型樹脂を使って塗膜を形成する ことが一般的である。 しかし、 溶剤希釈型樹脂に含まれる溶剤には、 ポリカーボ ネート等の樹脂からなる支持基体 1 2 0を侵してしまうものが多い。 そのため、 使用できる溶剤希釈型樹脂が限定されてしまい、 設計の自由度の点で好ましくな い。
一方、 内部層 1 iをスピンコート法により形成する際に本発明を適用した場合、 内部層 1 iの外周縁付近に窪み 1 1および微小隆起 1 2が形成される。 このよう な表面プロファイルをもつ内部層 1 i上に表面層 1 sを形成するために、 スピン コートを行うと、 コートされた溶剤希釈型樹脂は、 内部層 1 iの表面プロフアイ ルにそって流動して振り切られ、 最終的に微小隆起 1 2から斜め上方に飛翔する。 すなわち、 微小隆起 1 2は、 振り切られる溶剤希釈型樹脂のジャンプ台として機 能する。 その結果、 振り切られた溶剤希釈型樹脂が支持基体 1 2 0側面に付着す ることがないため、 支持基体 1 2 0の浸食が避けられる。
表面層 1 sは薄いため、 表面層 1 s形成後も、 内部層 1 iの最外周部における 表面プロファイルは保存される。 したがって、 2層構造の光透過層においても、 光透過層の表面プロファイルは、 情報記録領域より外側の位置から光透過層の外 周縁にかけて、 いったん落ち込んだ後、 隆起するものとなる。 なお、 表面層 1 s の形成に際しても、 本発明を適用してもよい。 ただし、 表面層 1 sは薄い。 また、 表面層 1 sの形成には、 上述したように溶剤希釈型樹脂が用いられることが多く、 溶剤希釈型の樹脂は、 ？容剤が蒸発すると粘度が著しく高くなるため、 表面張力に よる樹脂の戻りが生じにくい。 したがって、 表面層 1 s形成の際に、 本発明を適 用する必要はない。
本発明の好ましい態様では、 支持基体上に樹脂層を形成する際に、 支持基体の 外周縁からはみ出した塗布液の少なくとも一部を削ぎ取り、 その後、 活性エネル ギ一線を照射する。 この削ぎ取りは、 例えば図 4 Bに示すように行うことが好ま しい。 まず、 支持基体を含むディスク基板 1 0 0上に塗布液を展延し、 余分な塗 布液がディスク基板 1 0 0上から振り切られた後に、 ディスク基板 1 0 0の外周 側面に削ぎ取り手段 2 0 0を接近させ、 ディスク基板 1 0 0の外周側面と微小な 距離を保った状態で、 ディスク基板 1 0 0の回転を続ける。 これにより、 デイス ク基板 1 0 0外周縁からはみ出した塗布液の量が、 ディスク基板 1 0 0の周方向 全体にわたって均一化される。 そのため、 ディスク基板 1 0 0外周縁に形成され る窪み 1 1および微小隆起 1 2の寸法を、 周方向全域にわたって均一にすること ができる。 図面の簡単な説明
図 1は、 光透過層の製造工程を説明する断面図である。
図 2は、 光透過層の製造工程を説明する断面図である。
図 3 Aおよび図 3 Bは、 光透過層の製造工程を説明する断面図である。
図 4 Aおよび図 4 Bは、 光透過層の製造工程を説明する断面図である。
図 5は、 光透過層の製造工程を説明する断面図である。
図 6は、 光透過層の製造工程を説明する断面図である。
図 7は、 光透過層の製造工程を説明する断面図である。
図 8 A〜図 8 Dは、 閉塞手段の構成例を示す断面図である。
図 9は、 光情報媒体の構成例を示す部分断面図である。
図 1 0 A、 図 1 0 Bおよび図 1 0 Cは、 本発明の光情報媒体の断面図である。 図 1 1は、 本発明の光情報媒体の外周縁付近を拡大して示す断面図である。 図 1 2は、 本発明の光情報媒体の外周縁付近を拡大して示す断面図である。 発明を実施するための最良の形態
本発明の光情報媒体の構成例について、 図 9に部分断面図を示す。 この光情報 媒体は記録媒体であり、 支持基体 1 2 0上に、 情報記録層 1 0 4として記録層を 有し、 この情報記録層 1 0 4上に光透過層 1を有する。 記録または再生のための レーザー光は、 光透過層 1を通して入射する。 光透過層は、 活性エネルギー線硬 化型樹脂を含有する。 本発明では、 活性エネルギー線硬化型樹脂として紫外線硬 化型樹脂を用いることが好ましく、 以下では活性エネルギー線硬化型樹月旨として 紫外泉硬化型樹脂を用いた場合について説明する。
本発明は、 情報記録層の種類によらず適用できる。 すなわち、 例えば、 相変化 型記録媒体であっても、 ピット形成タイプの記録媒体であっても、 光磁気記録媒 体であっても適用できる。 なお、 通常は、 記録層の少なくとも一方の側に、 記録 層の保護や光学的効果を目的として誘電体層や反射層が設けられるが、 図 9では 図示を省略してある。 また、 本発明は、 図示するような記録可能タイプに限らず、 再生専用タイプにも適用可能である。 その場合、 支持基体 1 2 0と一体的に形成 されるピット列を被覆する反射層が、 情報記録層を構成することになる。 情報記 録層は、 その全面が情報記録に利用されるわけではない。 ディスク状媒体では、 環状の情報記録層を形成し、 その最内周部および最外周部を除く環状領域を情報 記録領域として利用する。
次に、 本発明における光透過層の形成方法を説明する。
まず、 図 1およぴ図 2に示すように、 回転テーブル 2上にディスク基板 1 0 0 を載置する。 このディスク基板 1 0 0は、 情報記録層を設けた支持基体であり、 中心孔 1 0 1を有する。 ディスク基板 1 0 0は、 情報記録層が上側となるように、 中心孔 1 0 1が回転テープル 2の環状の突起 2 1に填め込まれて固定される。 な お、 これらの図は断面図であるが、 断面に現れる端面だけを表示し、 奥行き方向 の図示は省略してある。 これ以降の断面図においても同様である。
次いで、 閉塞手段 3により中心孔 1 0 1を塞ぐ。 この閉塞手段 3は、 中心孔 1 0 1を塞ぐための円板部 3 1と、 その中央に一体化された支持軸 3 2と、 中心孔 1 0 1に対向する側において円板部 3 1に一体ィ匕された凸部 3 3とを有する。 凸 部 3 3を、 突起 2 1の内周部に嵌合することにより、 閉塞手段 3は回転テーブル 2に固定されると共に、 ディスク基板 1 0 0と閉塞手段 3との位置決めを行うこ とができる。 ただし、 ディスク基板 1 0 0および閉塞手段 3の回転テープノレ 2へ の固定方法は特に限定されず、 例えば、 ディスク基板 1 0 0と閉塞手段 3とが嵌 合した状態で、 閉塞手段 3を回転テーブル 2に嵌合させるものであってもよレ、。 次に、 図 3 Aに示すように、 樹脂または樹月旨溶液からなる塗布液 5をノズル 4 から吐出し、 支持軸 3 2の外周面に塗布液 5を供給する。 このとき、 回転テープ ル 2を比較的低速、 好ましくは 2 0〜 1 0 0 rpmで回転させ、 円板部 3 1上に一 様に塗布液が行き渡るようにする。
次いで、 図 4 Aに示すように、 回転テーブル 2を比較的高速で回転させること により塗布液 5を展延する。 これにより、 ディスク基板 1 0 0上に樹脂層 5 1が 形成される。 塗布液の展延条件は特に限定されない。 スピンコート法において塗 布液の粘度以外の条件を同一とした場合、 理論的には、 塗膜の厚さは塗布液の粘 度の平方根に比例することが知られている。 一方、 回転数が大きいほど、 また、 回転時間が長いほど塗膜は薄くなる。 したがって、 スピンコート時の回転数およ び回転時間は、 形成する樹脂層 5 1の厚さおよび塗布液の粘度に応じて適宜決定 すればよい。 例えば、 後述するように厚さ 3 0〜 3 0 0 μ ηι程度の光透過層を形 成する場合には、 塗布液の粘度は 1 0 0〜； L 0 0 , 0 0 0 cP、 回転数は 5 0 0〜 6 , 0 0 0 rpm, 回転時間は 2〜 1 0秒間の範囲からそれぞれ選択することが好 ましい。
塗布液 5の展延の際には、 前述したように、 図 4 Bに示すような削ぎ取り手段 2 0 0を用いることが好ましい。 削ぎ取り手段 2 0 0を、 展延開始時からデイス ク基板 1 0 0の外周側面に接近させておくと、 削ぎ取り手段 2 0 0に当たって跳 ね返った塗布液がディスク基板 1 0 0表面に戻り、 これにより樹脂層 5 1の表面 性を悪化させるおそれがある。 そのため、 削ぎ取り手段 2 0 0は、 余分な塗布液 がディスク基板 1 0 0上から振り切られた後に、 ディスク基板の外周側面に接近 させることが好ましい。 削ぎ取り手段 2 0 0は、 少なくともディスク基板 1 0 0外周側面に接近させる 部位が、 ナイフの刃のように薄板状であることが好ましい。 塗布液を削ぎ取る際 の削ぎ取り手段 2 0 0とディスク基板 1 0 0外周側面との距離は、 削ぎ取り手段 2 0 0との接触によってディスク基板 1 0 0の回転が阻害されない限り、 できる だけ小さいことが好ましく、 両者が実質的に接触していてもよい。 削ぎ取り手段 2 0 0の構成材料は特に限定されず、 金属、 樹脂、 セラミックス等のいずれであ つてもよく、 これらの 2種以上を用いた複合材料であってもよい。
一定の回転数で樹脂を展延して樹脂層を形成した後、 ディスク基板 1 0 0の回 転数を徐々に低下させながら、 図 5に示すように紫外線を照射して樹脂層 5 1を 硬化する。 なお、 図 4 Bに示すように削ぎ取り手段 2 0 0を用いた場合、 削ぎ取 り手段 2 0 0には削ぎ取った塗布液の一部が付着しているため、 そこに紫外線が 照射されると硬化してしまう。 そのため、 紫外線照射前に、 支持基体 1 0 0外周 側面から削ぎ取り手段 2 0 0を遠ざけることが好ましい。
ディスク基板 1 0 0の回転が低下し始めてから回転が停止するまでの時間 （減 速時間） は、 好ましくは 0 . 1〜3 . 0秒間、 より好ましくは 0 . 1〜2 . 0秒 間である。 減速時間が短すぎると、 樹脂の粘性の影響が大きくなる結果、 樹脂層 の外周部において振り切られるべき樹脂が振り切られなくなるので、 外周部に隆 起が存在する状態で硬化が完了しやすい。 一方、 減速時間が長すぎると、 硬化中 の樹脂が遠心力によつて流動する結果、 樹脂層にむらが生じた状態で硬化が完了 しゃすい。
紫外線照射は、 ¾i速開始時から減速時間の 3 0 %が経過するまでの間に開始し、 かつ、 減速時間の 8 0 %が経過するまで少なくとも続けることが好ましい。 照射 開始が遅れると、 樹脂層が外周側において盛り上がりやすくなる。 また、 照射開 始が遅れると、 比較的低い回転域まで樹脂が硬化せず、 その結果、 硬化しない状 態で遠心力が弱くなつてしまうので、 樹脂層の外周縁付近に形成される前記窪み 1 1が浅くなりやすく、 また、 前記微小隆起 1 2が大きくなりやすい。 紫外線照 射を停止するタイミングが早すぎると、 硬化が不十分となるカ 樹脂層にむらが 生じた状態で硬化が完了しやすい。 なお、 回転が停止するまで、 また、 停止後も 紫外線照射を続けてもよいが、 照射を長時間続けると、 ディスク基板 1 0 0表面 力 ら振り切られて周囲に落下ないし飛散している樹脂が硬化してしまい、 それら の除去が困難となる。 したがって、 流動しない程度まで樹脂層が硬化した後は、 照射を停止することが好まし！、。
ディスク基板 1 0 0の回転数の低下プロファイルは特に限定されず、 初期から 停止までの間において、 単位時間当たりの回転数低下量 （減速率） がー定または 滑らかに変化するものであればよい。 すなわち、 減速率は一定であってもよく、 漸減または漸増してもよいが、 通常、 漸増するように設定する。
紫外線照射領域の外周縁がディスク基板 1 0 0の外周縁より外側にあると、 遠 心力によってディスク基板 1 0 0外周縁から外側に飛散した樹脂が、 半径方向に 氷柱状に伸びた状態で硬化することがある。 一方、 照射領域の外周縁がディスク 基板 1 0 0の外周縁より内側にあり、 かつ、 ディスク基板 1 0 0の情報記録領域 上に存在すると、 硬化領域と未硬化領域との境界が情報記録領域内に存在するこ とになる。 前記境界は光学的に不均質であるため、 記録および再生に悪影響を与 える。 したがって、 照射領域の外周縁は、 ディスク基板 1 0 0の外周縁 （支持基 体の外周縁） とほぼ一致することが好ましく、 照射領域の外周縁が、 情報記録領 域の外周縁から半径方向に 0 . 3 mm外側の位置と、 ディスク基板 1 0 0の外周縁 とに挟まれた領域内に存在することが、 より好ましい。 なお、 情報記録領域の外 周縁の位置は、 通常、 ディスク基板 1 0 0外周縁より半径方向に 0 . 5〜2 ram内 側とされる。
図 5では、 ディスク基板 1◦ 0の内周部に閉塞手段 3が存在する。 この閉塞手 段 3が存在する状態で樹脂層 5 1全体を硬化すると、 硬化後に閉塞手段 3をディ スク基板 1 0 0から取り外す際に樹脂層 5 1の内周縁にパリが生じたり、 バリの 破片が飛び散ったりするため、 好ましくない。 したがって、 図 5に示すように、 閉塞手段 3付近を除いて紫外線を照射し、 次いで閉塞手段 3を除去した後、 後述 する完全硬化工程において樹脂層 5 1の全体を硬化することが好ましい。 これに より、 上記バリの発生を防ぐことができ、 また、 内周部においても光透過層を均 一な厚さとすることができる。 ただし、 必要に応じ、 最初の紫外線照射の前に閉 塞手段 3を除去してもよい。 この場合、 光透過層の厚さが内周部において不均一 になりやすいが、 バリの発生は防止できる。
照射領域の外周縁がディスク基板 1 0 0の外周縁とほぼ一致するように紫外線 を照射するためには、 紫外線源とディスク基板 1 0 0との間に、 ディスク基板 1 0 0の平面寸法に対応する開口をもつマスクを配置して紫外線を照射することが 好ましい。 また、 精密なパターン照射が可能な投影露光機によって紫外線を照射 する方法も好ましい。 また、 投影露光機以外であっても、 特定の領域を選択的に 照射できるタイプの紫外線照射装置であれば、 好ましく使用できる。 このような 装置としては、 例えばいずれもゥシォ電気 （株） 製のスポット UV照射装置やマ ルチライトが挙げられる。 スポット UV照射装置では、 光ファイバュ-ットの先 端にレンズを取り付けて、 照射領域の形状を調整することが可能であるため、 デ イスク基板 1 0 0の外周縁付近および内周縁付近を除いた領域を選択的に照射で きる。 すなわち、 照射領域を長方形とし、 ディスク基板を回転させながら照射す れば、 ディスク基板表面を環状に照射することができる。 なお、 上記マルチライ トを用いる場合、 好ましくは上記マスクを併用する。
照射する活性エネルギー線は、 樹脂層表面におけるエネルギー密度が外周部付 近において相対的に低いものであることが好ましい。 エネルギー密度が低い領域 では硬化速度が遅くなるため、 樹脂層の内周部付近の硬化がほぼ完了した後も外 周部付近では榭脂がさらに外側に流れることになる。 その結果、 前述したように、 情報記録領域より外側において、 光透過層表面が比較的急激に落ち込んで窪み 1 1が形成されることになる。 なお、 内周部におけるエネルギー密度に対する外周 部におけるエネルギー密度の比は、 実験的に好ましい値を決定すればよい。 なお、 上記した投影露光機は、 照射面内におけるエネルギー分布がほぼ均一な 照射手段である。 一方、 上記したスポット U V照射装置やマルチライトは、 照射 面内において、 中央から周辺に向かってエネルギー密度が低下する照射手段であ る。
本発明では、 情報記録領域上において、 光透過層の厚さを内周部から外周部ま でほぼ均一にすることができ、 また、 外周部のほうが内周部より薄くなるように 形成することもできる。 内周部から外周部にかけての光透過層の厚さ分布は、 ス ピンコート条件およぴ樹脂層の硬化条件を制御することによって変更できる。 例えば、 外周部のほうが内周部よりも薄い光透過層を形成したい場合には、 ス ピンコートの際に、 図 3 Bに示すように、 供給された塗布液 5の溜まりが円板部 3 1上で円錐状となるようにすることが好ましい。 塗布液 5からなる円錐状の溜 まりが高くなるほど、 すなわち、 円錐側面の勾配がきつくなるほど、 半径方向に おける樹脂層の厚さの減少率が高くなる。 円板部 3 1上に塗布液 5を供給する際 に、 高さ方向におけるノズル 4の位置を制御したり、 ディスク基板 1 0 0の回耘 数 （円板部 3 1の回転数） を制御したりすることにより、 前記円錐状の溜まりの 高さを変更することが可能である。 具体的には、 塗布液供給時の回転数が遅いほ ど、 また、 ノズル 4の位置が高いほど、 円錐状の溜まりの高さは増大する。 また、 樹脂展延時の支持基体の回転数および停止までの時間 （減速時間） を制 御することによつても、 樹脂層の厚さ分布プロファイルの制御が可能である。 具 体的には、 樹脂展延時の回転数を比較的高くし、 減速時間を比較的長くすれば、 半径方向における樹脂層の厚さの減少率が高くなる。 なお、 樹脂層の厚さを変え ずに展延時の回転数を高くしたい場合、 より高粘度の塗布液を用いればよい。 前述したように、 ディスク基板 1 0 0表面から振り切られて周囲に落下ないし 飛散している樹脂が硬化することを防ぐため、 本発明では紫外線照射時間を比較 的短くすることが好ましい。 そのため、 樹脂層は、 流動はしないが完全には硬化 されていないことがある。 したがって、 その場合には、 樹脂層を完全に硬化する ために、 以下に説明する完全硬化工程を設けることが好ましい。
まず、 図 6に示すように閉塞手段 3をディスク基板 1 0 0から取り外し、 また、 ディスク基板 1 0 0も回転テーブル 2から取り外す。 次いで、 図 7に示すように、 硬化用ステージとしての回転テーブル 2上にディスク基板 1 0 0を載置した状態 で紫外線を照射して樹脂層 5 1を硬化し、 光透過層 1とする。 完全硬化工程にお いて、 紫外線は、 図示するように少なくともディスク基板 1 0 0の全面を含む領 域に照射する。
完全硬化工程において紫外線を照射する際には、 ディスク基板 1 0 0は回転し ていても静止していてもよい。 ただし、 樹脂層を均一に硬化するためには、 ディ スク基板 1 0 0を回転させながら紫外線を照射することが好ましい。 このときの 回転数は、 好ましくは 5 O rpm以上であるが、 樹脂展延時の回転数の 1 0 %を超 える必要はない。 完全硬化工程を設ける場合には樹脂層が完全には硬化していな いので、 完全硬化工程における回転数が高すぎると、 遠心力によって外周部の樹 脂が流動することがある。 そのため、 完全硬化工程における回転数は、 樹脂展延 時の回転数を超えないことが好ましい。
前述したように閉塞手段 3は、 光透過層の厚さ分布プロファイルの制御を行う ために有用であるが、 このほかにも以下に説明する利点がある。 ディスク基板に は、 駆動装置に装填する際に利用する中心孔が形成されているため、 樹脂を回転 中心 （ディスク基板の中央） に供給することはできず、 回転中心から等距離に環 状に供給することになる。 しかし、 樹脂供給位置が回転中心から離れるほど、 光 透過層の外周部が厚くなりやすい。 これに対し、 ディスク基板の中心孔を、 板状 部材、 円板部、 閉塞板、 キャップ等の閉塞手段により塞ぎ、 この閉塞手段の中央 付近、 すなわち回転中心付近に樹脂を供給すれば、 光透過層の半径方向での厚さ むらを低減することができる。 このような閉塞手段は、 例えば特開平 10— 32 0850号公報、 同 10— 249264号公報、 同 10— 289489号公報、 同 1 1— 195250号公報、 同 1 1一 1 95251号公報に記載されている。 本発明による主要な効果は、 閉塞手段を用いない場合でも実現する。 ただし、 光透過層の厚さ分布プロフアイルの制御が容易となることから、 閉塞手段を用レ、 ることが好ましい。 本発明で用いる閉塞手段としては、 ディスク基板の中心孔を 塞ぐための円板部を少なくとも有するものであればよく、 例えば前記した各公報 に記載された閉塞手段を用いることができる。 ただし、 図 3 Bに示すように、 円 板部 31上の塗布液 5の溜まりを、 比較的勾配のきつい円錐状に形成するために は、 支持軸 32を有する閉塞手段 3を用いることが好ましい。
また、 支持軸 32を有する閉塞手段 3には、 以下に説明する利点もある。 すな わち、 支持軸 32を把持できるため、 閉塞手段 3の取り扱いが容易となり、 特に、 スピンコート後に閉塞手段 3を取り外すことが容易となる。 したがって、 閉塞手 段をディスク基板から離間する際に樹脂層の内周縁に乱れが発生しにくい。
なお、 前記特開平 1 1一 195251号公報には、 中空筒状の支持体または複 数の棒状体からなる支持体をキャップと一体ィヒした閉塞手段が記載されているが、 これに比べ、 図 1に示す閉塞手段には以下に説明する利点がある。
前記特開平 1 1一 195251号公報では、 支持体の壁または棒状体により樹 脂が堰き止められてしまうため、 塗膜にむらが生じやすい。 これに対し図 1に示 す閉塞手段では、 支持軸の外周面に塗布液を供給してスピンコートを行うため、 塗膜にむらが生じにくい。 また、 図 1に示す閉塞手段では、 樹脂が付着するのは 支持軸の外周面であるため、 前記特開平 1 1— 195251号公報に比べ閉塞手 段の洗浄が容易である。 また、 前記特開平 1 1一 1 95251号公報では、 中空 筒状の支持体の内部に粘度の比較的高い塗布液を供給するので、 塗布液の流動性 を確保するために支持体の外径を小さくすることができない。 そのため、 塗布開 始位置が回転中心から比較的遠くなつてしまう。 その結果、 本発明による塗膜厚 さの制御を行わない場合には、 外周部において塗膜の厚さ増大率が高くなり、 本 発明を適用した場合でも、 塗膜の厚さ分布制御がやや困難となる。 これに対し図 1に示す閉塞手段では、 同公報に比べ支持軸の外径を著しく小さくできるので、 塗布開台位置を回転中心に近づけることができる。
このような効果は、 円板部と支持軸とを有する閉塞手段であれば実現するため、 そのほかの構成は特に限定されない。 図 1に示す閉塞手段 3は、 円錐台状の円板 部 3 1と、 円柱状の支持軸 3 2とを有するものであるが、 このほか、 例えば図 8 A〜図 8 Dにそれぞれ示す構成の閉塞手段でも、 同様な効果は実現する。
図 8 Aに示す閉塞手段は、 円錐台状の円板部 3 1と、 逆円錐台状の支持軸 3 2 とを有する。 この閉塞手段を用いると、 塗布液の塗布開始位置を円板部 3 1の中 央により近づけることができるので、 塗布開始位置を回転中心により近づけるこ とができる。 しかも、 支持軸 3 2の全体を細くする場合と異なり、 支持軸 3 2の 機械的強度の低下を抑えることができる。 また、 支持軸 3 2をチャック等により 把持する場合に、 落下しにくくなるので、 閉塞手段の着脱および搬送の際に有利 である。 なお、 支持軸 3 2の全体が逆円錐台状である必要はない。 すなわち、 支 持軸 3 2の少なくとも一部が円板部 3 1に向かって直径が漸減する円錐台状であ つて、 かつ、 それより円板部に近い領域において支持軸の直径が大きくならなけ ればよい。
図 8 Bに示す閉塞手段は、 円板部 3 1の断面形状が図 8 Aとは異なる。 円板部 3 1上に塗布液をむらなく展延するためには、 外周部に向かって円板部 3 1の厚 さが漸減することが好ましい。 その場合、 円板部 3 1の断面において、 塗布液が 展延される上縁の形状は、 図 8 Aに示すように直線状であってもよく、 図 8 Bに 示すように曲線状であってもよい。 また、 図 8 Cに示すように、 円板部 3 1の外 周が垂直面であってもよい。 ただし、 図 8 Cにおいて円板部 3 1の外周における 厚さ tは、 好ましくは 0 . 4腿以下である。 厚さ tが大きすぎると、 樹脂層をむ らなく塗布することが難しくなる。 なお、 図 8 Dに示すように円板部 3 1の厚さ を均一としてもよい。
支持軸 3 2を設けた閉塞手段において、 円板部 3 1近傍における支持軸 3 2の 最小直径は、 好ましくは 4匪未満、 より好ましくは 2 ram以下である。 円板部 3 1 近傍における支持軸 3 2の直径が大きすぎると、 塗布開始位置が円板部 3 1の中 央から離れることになり、 樹脂層 5 1の半径方向における厚さむらが大きくなつ てしまう。 ただし、 円板部 3 1近傍における支持軸 3 2の直径が小さすぎると、 支持軸 3 2の機械的強度が不十分となるので、 上記最小直径は好ましくは 0 . 5 謹以上、 より好ましくは 0 . 7腿以上である。 支持軸 3 2の長さは特に限定され ず、 その外周面への塗布液の供給が容易となるように、 また、 把持する際の取り 扱いの容易さなどを考慮して適宜決定すればよいが、 好ましくは 5 〜 1 0 O ram、 より好ましくは 1 0 〜 3 O mmとする。 支持軸 3 2が短すぎると、 外周面への塗布 液の供給がしにくくなり、 また、 把持もしにくくなる。 一方、 支持軸 3 2が長す ぎると、 取り扱いが面倒になる。
円板部 3 1の直径は、 ディスク基板の中心孔 1 0 1の直径よりも大きく、 かつ、 ディスク基板が有する環状の情報記録領域の内径よりも小さければよい。 ただし、 塗布液 5が円板部 3 1の下面に回り込んで中心孔 1 0 1の周面 （ディスク基板の 内周面） を汚染することがあるので、 円板部 3 1の直径は中心孔 1 0 1の直径よ りも 4 mm以上、 特に 8 ram以上大きいことが好ましい。 また、 円板部 3 1を取り外 す際に、 その近傍の樹脂層 5 1の形状に乱れが生じやすいので、 円板部 3 1の直 径は情報記録領域の内径よりも 3讓以上、 特に 5 mm以上小さいことが好ましい。 具体的な寸法は、 中心孔の直径および情報記録領域の内径によっても異なるが、 通常、 直径 6 0 〜 1 3 0腿程度の光ディスクに本発明を適用する場合には、 円板 部 3 1の直径は 2 0 〜 4 O ram、 特に 2 5 〜 3 8■の範囲内とすることが好ましい。 閉塞手段の構成材料は特に限定されず、 金属、 樹脂、 セラミックス等のいずれ であってもよく、 これらの 2種以上を用いた複合材料であってもよい。 また、 円 板部 3 1と支持軸 3 2とを相異なる材料から構成してもよい。 ただし、 機械的強 度、 耐久性、 寸法精度が良好であることから、 閉塞手段は金属から構成すること が好ましい。 金属としては、 例えばステンレス合金、 アルミニウム、 アルミユウ ム合金が好ましい。
閉塞手段 3の表面、 特に円板部 3 1の全表面は、 塗布液よりも表面張力が低い ことが好ましレ、。 閉塞手段 3の表面が塗布液に対し濡れにくければ、 閉塞手段の 表面に付着した塗布液の洗浄が容易となる。 表面張力の制御は、 閉塞手段の構成 材料を適宜選択することによつても可能であるが、 表面張力を低くしたい領域に テフロン加工等の撥水 ·撥油処理を施すことが好ましい。
次に、 本発明が適用される媒体各部の具体的構成を説明する。
支持基体 1 2 0は、 媒体の剛性を維持するために設けられる。 支持基体 1 2 0 の厚さは、 通常、 0 . 2〜： 1 . 2讓、 好ましくは 0 . 4〜 1 . 2讓とすればよく、 透明であっても不透明であってもよい。 支持基体 1 2 0は、 通常の光記録媒体と 同様に樹脂から構成すればよいが、 ガラスから構成してもよい。 光記録媒体にお いて通常設けられるグループ （案内溝） 1 2 1は、 図示するように、 支持基体 1 2 0に設けた凸条を、 その上に形成される各層に転写することにより、 形成でき る。 グループ 1 Gは、 記録再生光入射側から見て手前側に存在する領域であり、 隣り合うグループ間に存在する領域はランドと呼ばれる。
光透過層 1は、 レーザー光を透過するために透光性を有する。 光透過層の厚さ は、 3 0〜 3 0 0 μ πιの範囲から選択することが好ましい。 本発明の効果は、 こ のように薄い光透過層を設けた場合に特に顕著である。 なお、 光透過層がこれよ り薄いと、 光透過層表面に付着した塵埃による光学的な影響が大きくなる。 一方、 光透過層が厚すぎると、 高 NA化による高記録密度達成が難しくなる。
前述したように、 光透過層 1は、 内部層 1 iと表面層 1 sとを積層した構造で あってもよい。 内部層 1 iは、 硬化時の収縮が少なく、 また、 複屈折が小さいこ とが好ましい。 表面層 1 sは、 耐擦傷性が良好であることが好ましい。 表面層 1 sの厚さは、 好ましくは 0 . 1〜1 O /z m、 より好ましくは 0 . 3〜5 μ πιである。 表面層が薄すぎると、 保護効果が不十分となる。 一方、 表面層が厚すぎると、 光 透過層の反りゃ複屈折を小さくすることが困難となる。
前述したように本発明では、 図 1 1に示すような窪み 1 1および微小隆起 1 2 が形成されることがあり、 樹脂層硬化時の条件を制御することにより、 これらを 意図的に形成することも可能である。
外周縁付近において光透過層 1表面が急激に落ち込む直前の位置を基準として、 光透過層 1の厚さ方向に測った窪み 1 1底部までの距離 は、 好ましくは 1〜 6 0 z mである。 距離 が小さすぎても大きすぎても、 表面層形成の際に、 微小 隆起 1 2が前述したジャンプ台として機能することが困難となる。
また、 微小隆起 1 2の高さ、 すなわち光透過層 1の厚さ方向に測った窪み 1 1 底部から微小隆起 1 2頂部までの距離 D2、 は、 好ましくは 3〜5 0 μ ηι、 より好 ましくは 5〜4 0 μ πιである。 距離 D2が小さすぎる場合、 表面層形成の際に、 微 小隆起 1 2が前述したジャンプ台として機能することが困難となる。 一方、 距離 D2が大きすぎる場合、 微小隆起 1 2の体積が大きくなるので、 媒体の外周部に おいて、 反りおよび面振れを著しく小さくすることが困難となる。
本発明によって光透過層を形成すれば、 距離 および距離 D2の両者を、 上記 好ましい範囲内に収めることが容易にできる。 光ピックァップが媒体外周縁付近 に位置することがあるシステムでは、 距離 D2を上記好ましい範囲内とし、 かつ、 D i≥D2 とすることが好ましい。
なお、 光透過層上に、 潤滑性、 撥水性、 撥油性などの機能をもつ機能性膜を設 けてもよい。
実施例
実施例 1
以下の手順で、 再生専用光ディスクサンプルを作製した。
情報を保持するピットを形成したディスク状支持基体 {ポリカーボネート製、 外径 1 2 O mm、 内径 （中心孔の直径） 1 5匪、 厚さ 1 . 2讓} の表面に、 A 1力、 らなる反射層をスパッタ法により形成した。
次に、 回転テーブルを 6 O rpmで回転させながら、 支持基体の半径 1 8讓の位 置に紫外線硬化型樹脂 （2 5 °Cにおける粘度 4 5 0 O cP) を供給し、 次いで、 回 転テーブルを 2 0 0 O rpmで 7 . 5秒間回転させることにより前記反射層表面に 樹脂を展延して樹脂層を形成した。 なお、 樹脂の展延がほぼ完了した 6 . 5秒経 過の時点で、 図 4 Bに示すように薄板状の削ぎ取り手段 2 0 0を支持基体の外周 側面に接近させ、 はみ出した樹脂を 1秒間削ぎ取った。 次いで、 削ぎ取り手段 2 0 0を支持基体の外周側面から遠ざけると共に回転テーブルの減速を開始し、 減 速開始時から 0 . 3秒後に紫外線を 1 . 5秒間照射した。 減速開始から停止まで の時間 （減速時間） は 2秒間とした。 紫外線照射手段には、 目白プレシジョン (株） 製 UV Spot Cure BHG- 250タイプを用い、 紫外線照射範囲は直径 1 2 O mmに 調整し、 支持基体の全面に紫外線を照射した。 なお、 この紫外線照射手段は、 前 記したスポット UV照射装置と同様に照射領域の形状調整が可能であり、 また、 照射面内において、 中央から周辺に向かってエネルギー密度が低下する照射手段 である。
次いで、 支持基体を静止させた状態で支持基体の全面に紫外線を照射すること により樹脂層を完全に硬化して光透過層とし、 光ディスクサンプノレを得た。 なお、 スピンコートから硬化までの作業は、 2 5 °Cのクリーンルーム中で行つ た。 これは、 以下の実施例おょぴ比較例においても同様とした。
実施例 2
閉塞手段を用い、 また、 樹脂を展延する際に回転テーブルを 2 0 0 O rpmで 8 秒間回転させたほかは実施例 1と同様にして、 光ディスクサンプルを作製した。 用いた閉塞手段は、 ステンレス合金から構成され、 図 1に示す形状を有するもの であり、 円板部 3 1は直径 3 8 mm、 支持軸 3 2は直径1 1∞1、 長さ 2 O mmである。 なお、 支持基体の内周部に直径 4 O mmのマスクを設けることにより、 閉塞手段お ょぴその近傍を照射範囲から除外した。 そして、 照射後に閉塞手段を支持基体か ら取り外し、 支持基体を静止させた状態で紫外線を照射して、 未硬化領域を硬化 した。
実施例 3
閉塞手段の円板部上に形成する樹脂溜まりを円錐状としたほかは実施例 2と同 様にして、 光ディスクサンプルを作製した。
実施例 4
ゥシォ電気 （株） 製のスポット U V照射装置 2 5 0 Wタイプを用い、 その光フ アイバュニット先端に、 照射範囲が 1 2醒 X 4 0腿となるレンズを取り付け、 デ イスクの半径 2 0〜 6 0廳の範囲に紫外線が照射されるように設定した。 そのほ かは実施例 3と同様にして光ディスクサンプルを作製した。
比較例 1
樹脂層を形成した後、 支持基体の回転を停止させた状態で、 下記紫外線照射手 段により紫外線を照射したほかは実施例 1と同様にして、 光ディスクサンプルを 作製した。 なお、 この比較例では、 削ぎ取り手段 2 0 0による樹脂の削ぎ取りは 実施しなかった。
紫外線照射手段としては、 ゥシォ電気 （株） 製の UVH— 0 2 5 2 C ( 4 kW) に均一補助ミラーを装着したものを用い、 紫外線照射範囲を直径 2 0 O mmに調整 して、 ま持基体の外周縁を超えて紫外線が照射されるように設定した。 なお、 上 記均一補助ミラーは、 光を乱反射させることで照射領域内の光強度を均一にする ためのものである。
比較例 2
実施例 2と同じ閉塞手段を用い、 支持基体の回転停止後に紫外線を照射し、 次 いで閉塞手段を取り外したほかは比較例 1と同様にして、 光ディスクサンプルを 作製した。
比較例 3
支持基体の回転停止後に紫外線を照射し、 次いで閉塞手段を取り外したほかは 実施例 3と同様にして、 光ディスクサンプルを作製した。 ただし、 紫外線照射手 段には比較例 1と同じものを用いた。
比較例 4
樹脂展延後、 支持基体の回転数を 2 0 0 O rpmに保ったまま紫外線を 2秒間照 射したほかは実施例 2と同様にして、 光ディスクサンプルを作製した。 ただし、 紫外 II照射手段には比較例 1と同じものを用いた。
比較例 5
樹脂展延後、 支持基体の回転数を 1 2 0 O rpmまで落とし、 そこで回転数を固 定して紫外線を 2秒間照射し、 次いで回転を停止させたほかは実施例 2と同様に して、 光ディスクサンプルを作製した。 ただし、 紫外線照射手段には比較例 1と 同じものを用いた。
評価
上記実施例および比較例で作製した各サンプルについて、 半径 2 5〜6 0匪の 領域における光透過層の厚さをレーザーフォーカス変位計により測定した。 結果 を表 1に示す。 なお、 情報記録領域は、 半径 2 3〜 5 8 mmの範囲である。 また、 小野測器社製の機械精度測定器 LM 1 2 0 0を用い、 各サンプルの反り 量および面振れ量の測定を行った。 測定は、 半径 2 3〜5 8 mraの範囲内において 半径方向に 5 mm間隔で行った。 各サンプルについて、 反り量および面振れ量の最 大値をそれぞれ表 2に示す。
なお、 本発明を適用して作製した各サンプルについて、 図 1 1に示す距離 および D2を東京精密 （株） 製の輪郭形状測定器サーフコム 6 0 5 Aにより測定 した。 その結果、 は 3 0〜5 0 inの範囲内にあり、 D2は 1 0〜3 0 の範 囲内にあった。 また、 D 1> D2であった。
Figure imgf000032_0001
表 2
実施例 1 実施例 2 実施例 3 実施例 4 比較例 1 比較例 2 比較例 3 比較例 4 比較例 5 反り量 O m) 76.3 93.8 96.7 95.1 88.6 100.7 121.9 98.2 108.5
¾俄れ重 (μ ιη) 60.8 80.6 82.3 78.5 120.4 143.8 133.7 88.6 103.7
表 1から、 本発明の効果が明らかである。 すなわち、 実施例 1と比較例 1とを 比較すると、 外周部における光透過層の盛り上がりが実施例 1において顕著に抑 制されていることがわかる。 また、 塗布液展延に際し前記閉塞手段を用いた実施 例 2では、 情報記録領域上において光透過層が均一な厚さとなっている。 また、 前記閉塞手段の円板部上に形成する樹脂溜まりを円錐状とした実施例 3および実 施例 4では、 光透過層が内周部よりも外周部で薄くなつている。 なお、 比較例 4 では、 高速回転させながら紫外線を照射したため、 サンプルの外周縁から樹脂が 氷柱状に延びて硬化していた。
また、 表 2から、 本発明により面振れ量を著しく低減できることがわかる。 産業上の利用の可能性
本発明では、 光情報媒体の外周部における反りおよび面振れを抑制できる。

Claims

請求の範囲
1 . 中心孔を有するディスク状の支持基体上に、 環状の情報記録領域と、 樹脂を 含有する環状の光透過層とをこの順で有し、 光透過層を通して記録または再生の ためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体を製造する方法であつ て、
前記光透過層を形成するに際し、
情報記録領域を設けた支持基体上に、 活性エネルギー線硬化型樹脂を含有する 塗布液を供給して支持基体を回転させることにより、 塗布液を支持基体上に展延 して樹脂層を形成した後、 支持基体の回転速度を低下させながら活性エネルギー 線を照射することにより、 前記樹脂層を硬化させる光情報媒体の製造方法。
2 . 前記樹脂層表面における前記活性エネルギー線のエネルギー密度が、 外周部 付近において相対的に低い請求の範囲第 1項の光情報媒体の製造方法。
3 . 前記活性エネルギー線の照射範囲の外周縁が前記支持基体の外周縁とほぼ一 致するように前記活性エネルギー線を照射する請求の範囲第 1項または第 2項の 光情報媒体の製造方法。
4 . 前記榭脂層形成時に、 支持基体の外周縁からはみ出した前記塗布液の少なく とも一部を削ぎ取り、 その後、 活性エネルギー線を照射する請求の範囲第 1項〜 第 3項のいずれかの光情報媒体の製造方法。
5 . 中心孔を有するディスク状の支持基体上に、 環状の情報記録領域と、 樹脂を 含有する環状の光透過層とをこの順で有し、 光透過層を通して記録または再生の ためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、
光透過層の表面が、 情報記録領域の外周縁より外側の位置から光透過層の外周 縁にかけて、 落ち込んで窪みとなった後、 隆起して微小隆起を形成している光情 報媒体。
6 . 光透過層表面が落ち込む直前の位置を基準として、 光透過層の厚さ方向に測 つた前記窪み底部までの距離を 1^とし、 光透過層の厚さ方向に測った前記窪み 底部から前記微小隆起頂部までの距離を D2としたとき、
Ό > Ό2
である請求の範囲第 5項の光情報媒体。
7 . 中心孔を有するディスク状の支持基体上に、 環状の情報記録領域と、 樹脂を 含有する環状の光透過層とをこの順で有し、 光透過層を通して記録または再生の ためのレーザー光が入射するように使用される光情報媒体であって、
光透過層が、 活性エネルギー線硬化型樹脂を含有し、 かつ、 スピンコート法に より形成されたものであり、
少なくとも情報記録領域上において、 光透過層の厚さが内周部から外周部にか けて増大することがない光情報媒体。
8 . 少なくとも情報記録領域上において、 光透過層の厚さが内周部よりも外周部 で薄い請求の範囲第 7項の光情報媒体。
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