WO2003058613A1 - Procede de fabrication d'une matrice de pressage pour support d'informations, matrice de pressage et disque original photosensible - Google Patents

Procede de fabrication d'une matrice de pressage pour support d'informations, matrice de pressage et disque original photosensible Download PDF

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pattern
convex pattern
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photoresist
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Hisaji Oyake
Hiroaki Takahata
Hitoshi Arai
Hajime Utsunomiya
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TDK Corp
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    • G—PHYSICS
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    • G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates

Definitions

  • stamper for manufacturing information medium, stamper and photoresist master
  • the present invention relates to a stamper used for manufacturing an information medium having a concavo-convex pattern such as a group or a prepit, a photoresist master for manufacturing the stamper, a method for manufacturing a stamper using the photoresist master, and information manufactured by the stamper.
  • a stamper used for manufacturing an information medium having a concavo-convex pattern such as a group or a prepit
  • a photoresist master for manufacturing the stamper
  • a method for manufacturing a stamper using the photoresist master and information manufactured by the stamper.
  • optical discs as information media, an optical recording disc that can be written on or rewritten, and a read-only disc on which information is recorded in advance.
  • a groove (guide groove) used for tracking or the like is formed on a disk substrate of the optical recording disk, and a recording layer containing a phase change material or an organic dye material is further laminated on the disk substrate.
  • the recording layer is irradiated with the laser beam, the recording layer undergoes a chemical or physical change to form a recording mark.
  • recording marks are formed in advance on a disk substrate of a read-only disk as a part of a concavo-convex pattern.
  • these recording marks are irradiated with a reading laser beam, the amount of light reflection fluctuates. By detecting this fluctuation, information can be read (reproduced).
  • a stamper in which a negative concavo-convex pattern (also a type of concavo-convex pattern) is formed in advance is used.
  • a method is generally used in which injection molding is performed using a mold in which the stamper is fixed in a cavity, and the negative pattern is transferred to the filled resin to produce a disk substrate.
  • a stamper having a concavo-convex pattern is usually constituted by a metal plate containing Ni or the like.
  • a photoresist master having a negative pattern of the concave and convex pattern of the stamper is prepared in advance, and a metal film is formed on the photoresist master by plating. Thereafter, the metal film is peeled from the photolithographic master, and a predetermined process such as surface cleaning is performed to obtain a stamper.
  • the manufacturing process of the photoresist master 1 will be described with reference to the conventional photoresist master 1 shown in FIG.
  • a photoresist layer 4 is formed on a glass substrate 2.
  • the photoresist layer 4 is exposed to light using a patterning beam such as a laser, and the latent image pattern is developed.
  • the photoresist master 1 having the uneven pattern 6 formed on the photoresist layer 4 is obtained.
  • a metal thin film 8 containing a Ni material or the like is formed on the surface of the uneven pattern 6 by electroless plating or the like. It is formed to impart conductivity to the photoresist master 1.
  • the metal thin film 8 is used as a base to conduct electricity to perform plating, thereby forming a metal film 10 containing Ni or the like.
  • the stamper 20 By peeling off the metal thin film 8 and the metal film 10 from the photoresist master 1, it is possible to obtain the stamper 20 on which the concavo-convex pattern 6 is transferred.
  • the minimum width of the latent image pattern formed on the photoresist layer 4 is limited by the spot diameter of the laser beam reaching the photoresist layer 4.
  • k is a constant determined by the aperture shape of the objective lens and the intensity distribution of the incident light beam.
  • the concavo-convex pattern transferred to the stamper is shallow or the shape of the concavo-convex pattern is rounded.
  • the sharpness is insufficient due to squatting (this is called “sagging” of the pattern).
  • This is generally considered to be due to a change in the thickness of the photoresist layer 4 during the exposure and development work (this is referred to as “film reduction”). It has been considered that this thickness variation is caused by the fact that the laser beam is reflected between the photoresist layer 4 and the glass substrate 2, and the reflected light exposes the photoresist layer 4 more than necessary. Disclosure of the invention
  • the present invention has been made in view of the above problems, and is directed to a method of manufacturing a photoresist master, capable of sharply forming a pattern having a width smaller than the spot diameter of a laser beam, a photoresist master, and a stamper manufactured using the same. It is intended to provide
  • the inventors of the present invention have conducted intensive studies on a method of manufacturing an information medium such as an optical recording medium and a magnetic disk (discrete medium), and have devised a method of forming a concavo-convex pattern on a stamper in a sharp manner. That is, the following objects can be achieved by the following inventions.
  • At least a light absorption layer and a photoresist layer are formed in this order on a substrate, and the photoresist layer is irradiated with light from a surface opposite to a surface in contact with the light absorption layer to form a latent image.
  • Forming a photoresist master by forming a concavo-convex pattern by developing the latent image; forming a metal thin film on the concavo-convex pattern in the photoresist master; and forming a metal thin film on the metal thin film. A film is formed, and the metal thin film and the metal film are peeled from the photoresist master.
  • Manufacturing a stamper for manufacturing an information medium comprising a step of applying Pd to the surface of the concave / convex pattern as a pretreatment before the step of forming the stamper and the step of forming the metal thin film on the photoresist layer.
  • a photoresist master wherein Pd is provided on the surface of the uneven pattern formed on the photoresist layer.
  • the amount Y of Pd applied to the mirror surface which is the area where the concavo-convex pattern is not formed, is 0.9X ⁇ Y ⁇ 1.IX.
  • At least a light absorbing layer and a photoresist layer are formed in this order on a substrate, and the photoresist layer is irradiated with light from a surface opposite to a surface in contact with the light absorbing layer to form a latent image.
  • Forming a concave / convex pattern by developing the latent image to produce a photoresist master; forming a metal thin film on the concave / convex pattern in the photoresist master; Forming a stamper by forming a metal film on the metal film and peeling the metal thin film and the metal film from the photoresist master; and forming the metal thin film on the photoresist layer as the pretreatment.
  • the final concavo-convex pattern is formed by transferring a concavo-convex pattern of a child board, and the concavo-convex pattern of the child board is transferred by using the stamper as a master board.
  • the stamper has a final concavo-convex pattern formed by transferring a concavo-convex pattern from a mother board formed by transferring a concavo-convex pattern using the stamper as a master board.
  • the final concavo-convex pattern is formed by transferring a concavo-convex pattern of a child board, and the concavo-convex pattern of the child board is transferred by using the stamper as a master board.
  • the present inventor has confirmed that a sharp uneven pattern can be formed on a stamper by using a light absorption layer and further adding Pd to a photoresist master. This is presumably because the compatibility of Pd in the light absorbing layer is very close to the compatibility of Pd in the photoresist layer, and such Pd itself is uniformly applied to the surface of the photoresist master. As a result, it is possible to accurately reproduce a concave / convex pattern that is sharply exposed due to the characteristics of the light absorbing layer on a metal thin film formed by electroless plating.
  • the information medium for example, the group of the optical recording medium and the information pits are also formed in a sharp manner, so that the recording and reproducing characteristics can be improved.
  • the information storage (recording) capacity of the information medium can be increased.
  • FIG. 1 is a sectional view showing a photoresist master according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 (A) is a cross-sectional view showing a state where a stamper is being manufactured using the same photoresist master.
  • FIG. 2 (B) is a cross-sectional view showing the manufactured stamper.
  • FIG. 3 (A) shows an uneven pattern formed on a stamper according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a diagram showing a state analyzed by AFM.
  • FIG. 3 (B) is a diagram showing a cross-sectional shape of the concavo-convex pattern based on the AFM analysis.
  • FIG. 4 (A) is a diagram showing a state in which a concavo-convex pattern formed on a stamper according to a comparative example of the present invention has been analyzed by AFM.
  • FIG. 4 (B) is a diagram showing a cross-sectional shape of the concavo-convex pattern based on the AFM analysis.
  • FIG. 5 is a sectional view showing a conventional photoresist master.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing a state where a stamper is manufactured using a conventional photoresist master.
  • FIG. 1 shows a photoresist master 100 according to an embodiment of the present invention.
  • the photoresist master 100 includes a glass substrate 102, a light absorbing layer 103 laminated on the glass substrate 102, and a photoresist layer 104 laminated on the light absorbing layer 103.
  • the photoresist layer 104 is exposed to a laser beam for patterning from the opposite side (the upper side in FIG. 1) of the light absorbing layer 103 to form a latent image of a concavo-convex pattern, and a part of the latent image is developed by developing the latent image.
  • the concave / convex pattern 106 is formed by the removal.
  • Reference numeral 107 in FIG. 1 denotes a non-concavo-convex area where no concavo-convex pattern is formed.
  • the concave / convex pattern 106 becomes the pattern surface 206 of the stamper 120.
  • a region where the concave / convex pattern is not formed becomes the mirror surface 207 of the stamper 120.
  • the patterning beam is absorbed by the light absorbing layer 103, whereby light reflection is suppressed, and fine irregularities can be sharply formed.
  • Pd (106 A) is provided on the surface of the concavo-convex pattern 106 in the photoresist master 100. Specifically, the catalyst (Pd—Sn compound) is adsorbed on the surface of the concavo-convex pattern 106, and Pd is deposited on the concavo-convex pattern 106 surface by removing only Sn from the catalyst using an accelerator. Let it. In FIG. 1, the applied state of Pd (106A) is schematically shown in the form of a film, but does not represent the actual applied state.
  • the amount of Pd provided in the uneven pattern region 106 and the non-irregular region 107 is different from the amount X of Pd deposited on the pattern surface 206 of the stamper 120 with respect to the mirror surface 207. It is preferable to set the precipitation amount Y of Pd so as to be in the range of 0.9X ⁇ Y ⁇ 1.1 1.
  • FIG. 2A shows a state in which a stamper 120 is formed on the photoresist master 100 described above.
  • a Ni thin film 108 is formed on the surface of the concavo-convex pattern 106 on which Pd is deposited by an electroless plating.
  • the reducing agent in the plating solution emits electrons when oxidized on the Pd surface having catalytic activity, the electrons reduce the Ni ions in the solution, and the thin film 108 becomes uneven. It is adapted to the pattern 106 effectively.
  • the Ni thin film 1 08 is formed.
  • the surface is energized using the Ni thin film 108 as a base, and the Ni film 110 is formed by electric plating.
  • the Ni thin film 108 and Nil! 110 are peeled from the photoresist master 100, a stamper 120 on which the concavo-convex pattern 106 is accurately transferred can be obtained as shown in FIG. 2 (B). .
  • the Pd (106A) is attached to the Ni thin film 108 side.
  • a pattern surface 206 is formed corresponding to the region of the uneven pattern 106, and a mirror surface 207 is formed corresponding to the non-irregular region 107.
  • the stamper 120 is placed in a mold, and an optical disc substrate having a final concave / convex pattern transferred with the concave / convex pattern as a negative pattern by injection molding or the like is manufactured.
  • a mother board may be created by an electrical process using the stamper 120 as a master board, and an optical disc may be manufactured using the mother board. .
  • a child board may be prepared by using the mother disc as an original disc, and an optical disc may be manufactured using the child disc. That is, the stamper 120 in the present invention is not limited to the case where the stamper 120 is actually used directly for the production of an optical disc, but is used indirectly for the production of an optical disc by creating a mother disc as a master disc. It may be something.
  • a clear latent image can be drawn by laminating the light absorbing layer 103, and a sharp uneven pattern 106 can be obtained.
  • Pd is preliminarily applied to the concavo-convex pattern 106 as a pretreatment for the electroless plating, it is possible to form an accurate Ni thin film 108 conforming to the shape of the concavo-convex pattern 106. I have.
  • the reason why the Ni thin film 108 can be accurately formed is that the compatibility between the light absorbing layer 103 exposed in the concave portions of the concave-convex pattern 106 and Pd is favorable. Is done.
  • the sharp concavo-convex pattern 106 can be transferred to the stamper 120 in a sharp state, and as a result, the concavo-convex pattern formed on the stamper 120 can be transferred. "Drip" is suppressed.
  • this stamper 120 an optical recording medium with high recording and reading (reproducing) accuracy can be obtained.
  • the synergistic effect of Pd addition and the light absorbing layer can be obtained.
  • the uneven pattern can be transferred to the stamper in a sharp state.
  • the present invention is not limited to this, and other metal plating may be used, or a metal thin film may be formed by a process other than plating. It is also applied when forming.
  • the Ni film 110 may be a metal film formed by means other than the electric plating.
  • stamper is generally applied to the manufacture of not only optical disks but also information media including, for example, magnetic disks (discrete media and the like).
  • a light absorbing layer was formed by spin coating.
  • SWK-T5D60 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
  • 4.4'-bis (getylamino) benzophenone as a light absorber was used as a coating solution.
  • This coating film was baked at 200 ° C. for 15 minutes to be cured, and the residual solvent was removed.
  • a light absorbing layer having a thickness of 140 nm was obtained.
  • a photoresist DVR100, manufactured by Zeon Corporation
  • Stamper No. 2 was produced in the same manner as in the production of stamper No. 1 except that it did not have a light absorbing layer.
  • the shape of the concavo-convex pattern formed on each stamper was confirmed using AFM (atomic force microscope).
  • the probe of AFM used the silicon nitride (SiN) needle.
  • the measurement was performed in the non-contact mode, and the change in the atomic force between the sample and the probe was imaged.
  • Fig. 3 (A) shows an AFM image of stamper No. 1
  • Fig. 3 (B) shows the same cross-sectional shape diagrammatically
  • Fig. 4 (A) shows an AFM image of stamper No2
  • Fig. 4 (B) shows the same cross-sectional view as a diagram.
  • areas where the density of the dots are high are the depressions in the concavo-convex pattern, and areas where the density of the dots is low or white are the concavities, which correspond to the projections and depressions of the concavo-convex pattern on the photoresist master. are doing.
  • the irregularities are formed at 0.32 (1 m pitch).
  • the pattern surface and the mirror surface of the stamper No. 1 and the stamper No. 2 were subjected to Pd amount analysis using ESCA (Electron Spectoroscopy for Chemikal Analysis). Table 1 shows the results.
  • the Pd amount on the pattern surface is a measured value over a plurality of irregularities because the spot diameter of the ESCA is a size in millimeters.
  • stamper No. 1 using the light absorbing layer, the same amount of Pd exists on both the pattern surface and the mirror surface.
  • stamper No. 2 the amount of Pd on the pattern surface is much smaller than that on the mirror surface. This is considered to be due to the fact that the glass surface, which is the bottom surface of the concave portion in the concave / convex pattern on the photoresist master side, is exposed in stamper No. 2.

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Description

明細書 情報媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ及びフォトレジスト原盤 技術分野
本発明は、グループやプリピットなどの凹凸パターンを有する情報媒体を 製造する際に用いるスタンパ、該スタンパ製造用のフォトレジスト原盤、前記 フォトレジスト原盤を用いるスタンパの製造方法及び前記スタンパにより製 造した情報媒体に関する。 背景技術
情報媒体の一種である光ディスクには、現在、追記又は書き換え等が可能 な光記録ディスクと、予め情報が記録されている再生専用ディスクの 2種類 が存在する。
光記録ディスクにおけるディスク基板にはトラッキング等に利用されるグル ーブ（案内溝）が形成されており、更にこのディスク基板上に相変化材料や 有機色素材料を含有する記録層が積層される。レーザビームを記録層に照 射すると、該記録層が化学変化や物理変化を起こして記録マークが形成さ れ,る。一方、再生専用ディスクのディスク基板上には、予め記録マーク（情報 ピット）が凹凸パターンの一部として形成されている。これらの記録マークに 読取用のレーザビームが照射されると光反射量が変動し、この変動を検出 することによって情報の読み取り（再生）が可能となっている。
グループや情報ピット等の凹凸パターンを有するディスク基板を製造する には、この凹凸のネガパターン（これも凹凸パターンの一種である）が予め 形成されているスタンパを用いる。例えば、キヤビティー内に上記スタンパが 固定された金型を用いて射出成型を行い、充填された樹脂に上記ネガバタ ーンを転写してディスク基板を製造する方法が一般的である。 凹凸パターンを有するスタンパは、通常、 Ni等を含む金属プレートによって 構成される。このスタンパを製造する工程として、先ず、上記スタンパの凹凸 パターンのネガパターンを有するフォトレジスト原盤を予め作成しておき、こ のフォトレジスト原盤上にメツキによって金属膜を形成する。その後、フオトレ ジスト原盤から前記金属膜を剥離し、表面洗浄等の所定の処理を行うことで スタンパを得る。
図 5に示される従来のフォトレジスト原盤 1を参照しながら、このフォトレジ スト原盤 1の製造工程について説明する。まず、ガラス基板 2上にフォトレジ スト層 4を形成する。次に、レーザ一等のパターンニング用ビームを用いてフ オトレジスト層 4を露光し、その潜像パターンを現像する。これによつて凹凸 パターン 6がフォトレジス卜層 4に形成されたフォトレジスト原盤 1が得られる。 このフォトレジス卜原盤 1を用いてメツキによってスタンパ 20を作成するに は、図 6に示されるように、先ず凹凸パターン 6の表面に N i材料等を含んだ 金属薄膜 8を無電解メツキなどによって形成し、フォトレジスト原盤 1に導電 性を付与する。
その後、この金属薄膜 8を下地として通電させてメツキを行い、 N i等を含ん だ金属膜 1 0を形成する。これらの金属薄膜 8及び金属膜 1 0をフォトレジス ト原盤 1から剥離すれば、凹凸パターン 6が転写されているスタンパ 20を得 ることが出来る。
近年、光記録媒体の大容量化に伴ってグルーブ等の凹凸パターンが微細 化し、その形状誤差が記録 '読み取り精度に大きな影響を及ぼすようになつ てきている。従って、シャープな凹凸パターンをディスク基板に形成すること が要求されるが、そのためには、基礎となるフォトレジスト層 4の凹凸パター ンを高精度（シャープ）に形成する必要がある。
フォトレジス卜層 4に形成される潜像パターンの最小幅は、該フォトレジスト 層 4に到達するレーザビームのスポット径によって制限される。スポット径 w は、レーザー波長を λ、照射光学系の対物レンズの開口数を ΝΑとしたとき、 w = k - λ Z NAで表される。なお、 kは対物レンズの開口形状及び入射光束 の強度分布によって決定される定数である。
ところで、スポット径の限界を論理的には超えない幅のパターンであっても、 フォトレジスト層 4が薄かったりすると、スタンパに転写される凹凸パターン が浅かったり、凹凸パターンの形状が丸みを帯びてしまつたり（これをパター ンの「ダレ」という）して、シャープさが不足することが知られている。これは、 一般的に露光■現像作業中にフォトレジスト層 4の厚さに変動が生じてしまう (これを Γ膜減り」という）ことが原因であると考えられている。この厚さ変動 は、フォトレジスト層 4とガラス基板 2の間でレーザビームが反射して、この 反射光によってフォトレジスト層 4が必要以上に露光されてしまうことが原因 と考えられていた。 発明の開示
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、レーザビームのスポット 径よりも小さい幅のパターンをシャープに形成可能としたフォトレジスト原盤 の製造方法、フォトレジスト原盤及びこれを用いて製造したスタンパを提供 することを目的としている。
本発明者は、光記録媒体、磁気ディスク（ディスクリート媒体）等の情報媒 体の製造方法等について鋭意研究を重ね、スタンパに凹凸パターンをシャ ープに形成する方法を発案した。即ち以下に示す発明によって、上記目的を 達成することが可能となっている。
( 1 )基板上に、少なくとも光吸収層及びフォトレジスト層を、この順で形成 し、該フォトレジスト層に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を 照射して潜像を形成し、この潜像を現像することにより凹凸パターンを形成 してフォトレジスト原盤を製造する工程と、前記フォトレジスト原盤における 前記凹凸パターン上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金属膜 を形成し、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジスト原盤から剥離して スタンパを形成する工程と、前記フォトレジスト層に前記金属薄膜を形成す る工程の前処理として、前記凹凸パターン表面に Pdを付与する工程を有す ることを特徴する情報媒体製造用スタンパの製造方法。
( 2 )上記（1 )において、前記 Pd付与工程における、前記凹凸パターンに より凹凸が形成されている領域であるパターン面に付与される Pdの量 Xに 対して、凹凸パターンが形成されていない領域であるミラー面に付与される Pdの量丫カ《、 0. 9X < Y < 1 . I Xとなるようにしたことを特徴とする情報媒 体製造用スタンパの製造方法。
( 3 )予め表面に凹凸パターンが形成される情報媒体製造用のスタンパで あって、基板上に、少なくとも光吸収層及びフォトレジスト層を、この順で形 成し、該フォトレジスト層に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光 を照射して潜像を形成し、この潜像を現像することにより凹凸パターンを形 成してフォトレジスト原盤を製造する工程と、前記フォトレジスト原盤におけ る前記凹凸パターン上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金属 膜を形成し、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジスト原盤から剥離し てスタンパを形成する工程と、前記フォトレジスト層に前記金属薄膜を形成 する工程の前処理として、前記凹凸パターン表面に Pdを付与する工程と、 を経て製造されたことを特徴とするスタンパ。
( 4 )基板と、該基板上に積層される光吸収層と、該光吸収層に接して積層 され且つ潜像の形成及びその現像によって凹凸パターンが形成可能とされ. るフォトレジスト層と、を有し、前記フォトレジスト層に形成される前記凹凸パ ターン表面に Pdが付与されていることを特徴とするフォトレジスト原盤。
( 5 )基板と、該基板上に積眉される光吸収層と、該光吸収層に接して積層 され且つ潜像の形成及びその現像によって凹凸パターンが形成可能とされ るフォトレジスト層と、を有し、前記フォトレジスト層に形成される前記凹凸パ ターン表面に Pdが付与されているフォトレジス卜原盤から製造される情報媒 体製造用のスタンパであって、前記凹凸パターンにより凹凸が形成されてい る領域であるパターン面に付与される Pdの量 Xに対して、凹凸パターンが形 成されていない領域であるミラー面に付与される Pdの量 Yが、 0. 9X < Y < 1 . I Xに設定されていることを特徴とするスタンパ。
( 6 )基板上に、少なくとも光吸収層及びフォトレジスト層を、この順で形成 し、該フォトレジスト層に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を 照射して潜像を形成し、この潜像を現像することにより凹凸バタ,ーンを形成 してフォトレジスト原盤を製造する工程と、前記フォトレジスト原盤における 前記凹凸パターン上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金属膜 を形成し、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジスト原盤から剥離して スタンパを形成する工程と、前記フォトレジスト層に前記金属薄膜を形成す る工程の前処理として、前記凹凸パターン表面に Pdを付与する工程と、を 経て製造されたスタンパにおける前記凹凸パターンをネガパターンとして、 最終凹凸パターンが形成されていることを特徴とする情報媒体。
( 7 )上記（6 )において、前記スタンパから直接凹凸パターンを転写して形 成された最終凹凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。
( 8 )上記（6 )において、前記スタンパをマスター盤として凹凸パターンを 転写して形成されたマザ一盤から、更に凹凸パターンを転写して形成された 最終凹凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。
( 9 )上記（6 )において、前記最終凹凸パターンはチャイルド盤の凹凸パター ンを転写して形成されたものであり、このチャイルド盤の凹凸パターンは、前 記スタンパをマスター盤として凹凸パターンを転写して形成されたマザ一盤 から、更に凹凸パターンを転写して形成されたものであることを特徴とする 情報媒体。
( 1 0 )基板と、該基板上に積層される光吸収層と、該光吸収層に接して積 層され且つ潜像の形成及びその現像によって凹凸パターンが形成可能とさ れるフォトレジスト層と、を有し、前記フォトレジスト層に形成される前記凹凸 パターン表面に Pdが付与されているフォトレジスト原盤から製造され、前記 凹凸パターンにより凹凸が形成されている領域であるパターン面に付与され る Pdの量 Xに対して、凹凸パターンが形成されていない領域であるミラー面 に付与される Pdの量 Yが、 0. 9X < Y < 1 . 1 Χに設定されているスタンパに おける前記凹凸パターンをネガパターンとして、最終凹凸パターンが形成さ れていることを特徴とする情報媒体。
( 1 1 )上記（1 0 )において、前記スタンパから直接凹凸パターンを転写して 形成された最終凹凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。
( 1 2 )上記（1 0 )において、前記スタンパをマスター盤として凹凸パターン を転写して形成されたマザ一盤から、更に、凹凸パターンを転写して形成さ れた最終凹凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。
( 1 3 )上記（1 0 )において、前記最終凹凸パターンはチャイルド盤の凹凸 パターンを転写して形成されたものであり、このチャイルド盤の凹凸パターン は、前記スタンパをマスター盤として凹凸パターンを転写して形成されたマ ザ一盤から、更に凹凸パターンを転写して形成されたものであることを特徴 とする情報媒体。
本発明者は、光吸収層を用い、更にフォトレジスト原盤に Pdを付与すること で、シャープな凹凸パターンをスタンパに形成することが可能になることを確 認した。これは、光吸収層における Pdの相性と、フォトレジスト層における P dの相性が極めて近く、このような Pd自体が、フォトレジスト原盤の表面に均 一に付与されるからであると思われる。この結果、光吸収層の特性によって シャープに露光された凹凸パターンを、無電解メツキによって形成される金 属薄膜に正確に再現することが可能となっている。
以上の結果、情報媒体、例えば光記録媒体のグループや情報ピット等もシ ヤープに形成されるので、記録'再生特性を向上させることが出来る。又、今 後益々進展する凹凸パターンの微細化にも対応可能となることから、情報媒 体の情報記憶（記録）容量を増大させることもできる。 図面の簡単な説明
第 1図は、本発明の実施の形態の例に係るフォトレジスト原盤を示す断面図 である。
第 2(A)図は.、同フォトレジスト原盤用いてスタンパを製造途中の状態を示 す断面図である。
第 2(B)図は、同製造されたスタンパを示す断面図である。
第 3(A)図は、本発明の実施例に係るスタンパに形成された凹凸パターンを
AFMによって解析した状態を示す図である。
第 3(B)図は、同 AFM解析に基づく凹凸パターンの断面形状を示す線図で ある。
第 4(A)図は、本発明の比較例に係るスタンパに形成された凹凸パターンを AFMによって解析した状態を示す図である。
第 4(B)図は、同 AFM解析に基づく凹凸パターンの断面形状を示す線図で あ 。
第 5図は、従来のフォトレジスト原盤を示す断面図である。
第 6図は、従来のフォトレジスト原盤を用いてスタンパを製造する状態を示す 断面図である。 発明を実施するための最良の形態
以下本発明の実施形態の例について図面を参照して詳細に説明する。 図 1に、本発明の実施形態の例に係るフォトレジスト原盤 100を示す。こ のフォトレジスト原盤 100は、ガラス基板 102と、このガラス基板 102上に 積層される光吸収層 103と、この光吸収層 103上に積層されるフォトレジス ト層 104と、を備える。前記フォトレジスト層 104は、光吸収層 103の反対 側（図 1において上側）からパターニング用レーザビームにより露光されるこ とによって凹凸パターンの潜像が形成され、この潜像の現像によって一部が 除去されて凹凸パターン 106が形成されている。なお、現像後は、凹凸バタ ーン 1 06の凹部の底面に光吸収層 1 03の一部が露出していることになる。 図 1の符号 1 07は凹凸パターンが形成されていない領域である非凹凸領域 を示す。
なお、後述のように、前記凹凸パターン 1 06はスタンパ 1 20のパターン面 206となる。又、凹凸パターンが形成されていない領域はスタンパ 1 20のミ ラー面 207となる。前記露光の際は、パターニング用ビームが光吸収層 1 0 3によって吸収されて光反射が抑制され、微細な凹凸をシャープに形成する ことが可能となっている。
このフォトレジスト原盤 1 00における凹凸パターン 1 06表面には Pd ( 1 06 A)が付与されている。具体的には、キヤタリス卜（Pd— S n化合物）を凹凸パ ターン 1 06の表面に吸着させると共に、ァクセラレータを用いてキヤタリスト から S nのみを除去することで凹凸パターン 1 06表面に Pdを析出させる。 なお、図 1では、 Pd ( 1 06A)の付与状態を膜状にして模式的に示している が現実の付与状態を表わすものではない。本実施形態の例では凹凸パター ン 1 06の領域と、非凹凸領域 1 07での Pdの付与量が、スタンパ 1 20のパ ターン面 206における Pdの析出量 Xに対して、ミラー面 207における Pdの 析出量 Yが、 0. 9X < Y < 1 . 1 Χの範囲内となるように設定することが好まし い。
図 2 (A)には、上記フォトレジスト原盤 1 00上にスタンパ 1 20を形成した状 態を示す。
この形成工程では、先ず、 P dが析出されている凹凸パターン 1 06表面に、 無電界メツキによって Ni薄膜 1 08を形成する。
この際、メツキ溶液中の還元剤が、触媒活性特性を有する Pd表面で酸化 されるときに電子を放出するので、その電子によって溶液中の N iイオンが還 元され、 Νί薄膜 1 08が凹凸パターン 1 06に効果的に馴染むようになつてい る。特に、本実施形態の例では凹凸パターン 1 06の凹部の底面にも十分な Pdが付与されているので、その凹凸パターン 1 06に忠実に沿って N i薄膜 1 08が形成される。
その後、 N i薄膜 1 08を下地として表面を通電させ、電気メツキによって N i 膜 1 1 0を形成する。 Ni薄膜 1 08と N i l!莫 1 1 0をフォトレジスト原盤 1 00から 剥離させると、図 2 ( B)のように凹凸パターン 1 06が正確に転写されたスタ ンパ 1 20を得ることが出来る。このとき、前記 Pd ( 1 06A)は、 N i薄膜 1 08 側に付着している。
前記スタンパ 1 20において、前記凹凸パターン 1 06の領域に対応してパ ターン面 206力《、又、非凹凸領域 1 07に対応してミラー面 207が、それぞ れ形成されている。
なお、特に図示しないが、例えば、上記スタンパ 1 20を金型に設置して射 出成型等によって前記凹凸パターンをネガパターンとして転写された最終凹 凸パターンを有する光ディスク基板を製造する。又このスタンパ 1 20を用い て光デイクス基板を製造する以外にも、該スタンパ 1 20をマスタ盤とした電 錶工程によってマザ一盤を作成し、このマザ一盤で光ディスクを製造しても 良い。
更に、このマザ一盤を原盤としてチャイルド盤を作成し、これで光ディスク を製造しても良い。即ち、本発明におけるスタンパ 1 20とは、実際に光ディ スクの製造に直接利用される場合に限られず、これをマスタ盤としてマザ一 盤などを作成することによって光ディスクの製造に間接的に用いるものであ つても構わない。
本実施形態の例のフォトレジスト層 1 04では、光吸収層 1 03を積層するこ とによって鮮明な潜像を描くことが可能となり、シャープな凹凸パターン 1 06 を得ることが出来る。それに加えて、無電界メツキの前処理として予め当該 凹凸パターン 1 06に Pdを付与しているので、凹凸パターン 1 06の形状に沿 つた正確な Ni薄膜 1 08を形成することが可能となっている。
なお、 Ni薄膜 1 08が正確に形成できるのは、凹凸パターン 1 06の凹部に 露出された光吸収層 1 03と Pdの相性が好いことが大きな要因であると推測 される。これらの光吸収層 1 03と Pd付与による相乗効果によって、シャープ な凹凸パターン 1 06をシャープな状態のままスタンパ 1 20に転写することが でき、結果として、スタンパ 1 20に形成される凹凸パターンの「ダレ」が抑制 される。このスタンパ 1 20を利用すれば、記録 '読み取り（再生）精度の高い 光記録媒体を得ることが出来る。
また、光吸収層が露出する前、すなわち、露光をフォトレジスト層の厚さ方 向途中で止める場合にも、 Pd付与と光吸収層による相乗効果は得られるの で、上記と同様にシャープな凹凸パターンをシャープな状態のままスタンパ に転写することができる。
更に、本実施形態では Niを用いたメツキ処理についてのみ説明したが、本 発明はそれに限定されるものではな 他の金属メツキを利用してもよく、あ るいはメツキ以外の処理によって金属薄膜を形成する場合にも適用される。 更に又、 N i膜 1 1 0は、電気メツキ以外の手段によって形成される金属膜で あってもよい。
又、上記スタンパは、光ディスクのみならず、例えば磁気ディスク（ディスク リート媒体等）を含む情報媒体の製造に一般的に適用されるものである。
【実施例】
(実施例：スタンパ N o. 1 )
研磨されたガラス基板上にカップリング剤層を形成した後、光吸収層をス ピンコート法により形成した。塗布液には 4. 4 ' —ビス（ジェチルァミノ）ベン ゾフエノンを光吸収剤として含有する SWK— T5 D 60(東京応化工業 (株))を 用いた。この塗膜を 200度で 1 5分間べ一キングして硬化すると共に残留溶 剤を除去し、厚さ 1 40n mの光吸収層とした。次いで、この光吸収層上に、フ オトレジスト（日本ゼオン（株）製 DVR 1 00)をスピンコートし、ベーキングによ リ残留溶剤を蒸発させて、厚さ 2 5 n mのフォトレジスト層とした。
その後、ソニー (株）製カッティングマシンを用い、トラックピッチ 320n m、 グループ幅 1 50n mのグループパターンの形成を目的として、 Krレーザ（波 長 = 351 nm)によってフォトレジスト層に対し露光を行い、更に現像を行うこ とで凹凸パターンを形成して、フォトレジスト原盤を得た。
このフォトレジスト原盤のフォトレジスト層表面を界面活性剤で活性化した 後に、無電界メツキの前処理として、キヤタリス KPd、 Snコロイド）を付与し た。次いでァクセラレータ（HBF4溶液）により Snを除去するとともに表面に P dを析出させ、無電界メツキの下準備が完了したフォトレジスト原盤を得た。 次いで、このフォトレジスト原盤を NiC12浴に浸潰し、無電界メツキにより Ni薄膜を形成した。この Ni薄膜を下地として電気メツキを行い、 Ni膜を形成 した。これらの Νί薄膜および Ni膜からなる積層体を原盤から剥離し、裏面研 磨、表面洗浄を行って、スタンパ No. 1を得た。
(比較例：スタンパ No. 2)
光吸収層を持たないという条件を除き、スタンパ No. 1作製の際と同様に してスタンパ No. 2を作製した。
(評価結果 1 )
各スタンパに形成された凹凸パターンについて、 AFM (原子間力顕微鏡）を 用いて形状を確認した。 AFMの探針は窒化シリコン（SiN)針を用いた。測 定はノンコンタクトモードにて行い、サンプルとプローブ間の原子間力の変化 を画像化した。
図 3 (A)にスタンパ No. 1の AFM像を、図 3 ( B )に同断面形状を線図によ リそれぞれ示す。又、図 4(A)にスタンパ No2の AFM像を、図 4(B)に同断 面状を線図によりそれぞれ示す。 AFM像において、描点の密度が高い領域 が凹凸パターンにおける凹部であり、描点の密度が低い、あるいは白抜きの 領域が凸部であり、フォトレジスト原盤における凹凸パターンの凸部及び凹 部にそれぞれ対応している。又、図 3 (B)、図 4(B)では、凹凸が 0. 32 (1 mピッチで形成されている。
図 3、図 4を比較すれば明らかなように、本発明を適用して製造されたスタ ンパ No. 1では、光吸収層の効果によりシャープなパターンが形成され、そ のパターンを忠実に転写したことがわかる。
(評価結果 2)
スタンパ No. 1およびスタンパ No. 2のパターン面、ミラー面の表面を ES CA(Electron Spectoroscopy for Chemikal Analysis )を用しゝ て Pd量分析を行った。結果を表 1に示す。なお、パターン面における Pd量 は、 ESCAのスポット径がミリメートル単位の大きさであるため、複数の凹凸 に渡る測定値となる。
【表 1】
Pd量分析結果
Figure imgf000014_0001
この表 1より、光吸収層を用いたスタンパ No. 1には、パターン面、ミラー 面の双方に Pdが同量存在することが分かる。一方で、スタンパ No. 2にお いてはパターン面の Pd量がミラー面と比較して非常に少ない。これはスタン パ No. 2では、フォトレジスト原盤側の凹凸パターンでの凹部底面であるガ ラス面が露出しているためであると考えられる。 産業上の利用の可能性
本発明では、フォトレジスト層に接した光吸収層によって、シャープな凹凸 パターンをフォトレジスト原盤に形成でき、更に、凹凸パターン表面に付与さ れる Pdによりこの凹凸パターンに忠実なスタンパを得ることが可能となった

Claims

請求の範囲
1 . 基板上に、少なくとも光吸収層及びフォトレジスト層を、この順で形成し、 該フォトレジスト層に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を照射 して潜像を形成し、この潜像を現像することにより凹凸パターンを形成してフ オトレジス卜原盤を製造する工程と、前記フォトレジスト原盤における前記凹 凸パターン上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金属膜を形成 し、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジスト原盤から剥離してスタン パを形成する工程と、前記フォトレジスト層に前記金属薄膜を形成する工程 の前処理として、前記凹凸パターン表面に Pdを付与する工程を有すること を特徴する情報媒体製造用スタンパの製造方法。
2. 請求項 1において、前記 Pd符与工程における、前記凹凸パターンにより
[a凸が形成されている領域であるパターン面に付与される Pdの量 Xに対し て、凹凸パターンが形成されていない領域であるミラー面に付与される P dの 量 Yが、 0. 9X < Y < 1 . I Xとなるようにしたことを特徴とする情報媒体製造 用スタンパの製造方法。
3. 予め表面に凹凸パターンが形成される情報媒体製造用のスタンパであつ て、基板上に、少なくとも光吸収層及びフォトレジスト層を、この順で形成し、 該フォトレジスト層に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を照射 して潜像を形成し、この潜像を現像することにより凹凸パターンを形成してフ オトレジス卜原盤を製造する工程と、前記フォトレジスト原盤における前記凹 凸パターン上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金属膜を形成 し、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジスト原盤から剥離してスタン パを形成する工程と、前記フォトレジスト屨に前記金属薄膜を形成する工程 の前処理として、前記凹凸パターン表面に Pdを付与する工程と、を経て製 造されたことを特徴とするスタンパ。
4. 基板と、該基板上に積層される光吸収層と、該光吸収層に接して積層さ れ且つ潜像の形成及びその現像によって凹凸パターンが形成可能とされる フォトレジスト層と、を有し、前記フォトレジスト層に形成される前記凹凸バタ ーン表面に Pdが付与されていることを特徴とするフォトレジスト原盤。
5. 基板と、該基板上に積層される光吸収層と、該光吸収層に接して積層さ れ且つ潜像の形成及びその現像によって凹凸パターンが形成可能とされる フォトレジスト層と、を有し、前記フォトレジスト層に形成される前記凹凸バタ ーン表面に Pdが付与されているフォトレジスト原盤から製造される情報媒体 製造用のスタンパであって、前記凹凸パターンにより凹凸が形成されている 領域であるパターン面に付与される Pdの量 Xに対して、凹凸パターンが形 成されていない領域であるミラー面に付与される Pdの量 Yが、 0. 9X < Y < 1 . I Xに設定されていることを特徴とするスタンパ。
6. 基板上に、少なくとも光吸収層及びフォトレジス卜層を、この順で形成し、 該フォトレジスト層に、前記光吸収層と接する面の反対の面側から光を照射 して潜像を形成し、この潜像を現像することにより凹凸パターンを形成してフ オトレジスト原盤を製造する工程と、前記フォトレジスト原盤における前記凹 凸パターン上に金属薄膜を形成する工程と、該金属薄膜上に金属膜を形成 し、前記金属薄膜及び金属膜を前記フォトレジスト原盤から剥離してスタン パを形成する工程と、前記フォトレジスト層に前記金属薄膜を形成する工程 の前処理として、前記凹凸パターン表面に Pdを付与する工程と、を経て製 造されたスタンパにおける前記凹凸パターンをネガパターンとして、最終凹 凸パターンが形成されていることを特徴とする情報媒体。
7. 請求項 6において、前記スタンパから直接凹凸パターンを転写して形成さ れた最終凹凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。
8. 請求項 6において、前記スタンパをマスター盤として凹凸パターンを転写 して形成されたマザ一盤から、更に、凹凸パターンを転写して形成された最 終凹凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。
9. 請求項 6において、前記最終凹凸パターンはチャイルド盤の凹凸パター ンを転写して形成されたものであり、このチャイルド盤の凹凸パターンは、前 記スタンパをマスター盤として凹凸パターンを転写して形成されたマザ一盤 から、更に凹凸パターンを転写して形成されたものであることを特徴とする 情報媒体。
1 0. 基板と、該基板上に積層される光吸収層と、該光吸収層に接して積層 され且つ潜像の形成及びその現像によって凹凸パターンが形成可能とされ るフォトレジス卜層と、を有し、前記フォトレジスト層に形成される前記凹凸パ ターン表面に Pdが付与されているフォトレジスト原盤から製造され、前記凹 凸パターンにより凹凸が形成されている領域であるパターン面に付与される Pdの量 Xに対して、凹凸パターンが形成されていない領域であるミラ一面に 付与される Pdの量 Yが、 0. 9X < Y < 1 . I Xに設定されているスタンパにお ける前記凹凸パターンをネガパターンとして、最終凹凸パターンが形成され ていることを特徴とする情報媒体。
1 1 . 請求項 1 0において、前記スタンパから直接凹凸パターンを転写して形 成された最終凹凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。
1 2. 請求項 1 0において、前記スタンパをマスター盤として凹凸パターンを 転写して形成されたマザ一盤から、更に、凹凸パターンを転写して形成され た最終凹凸パターンを有することを特徴とする情報媒体。
1 3. 請求項 1 0において、前記最終 ω凸パターンはチャイルド盤の凹凸バタ ーンを転写して形成されたものであり、このチャイルド盤の凹凸パターンは、 前記スタンパをマスター盤として凹凸パターンを転写して形成されたマザ一 盤から、更に凹凸パターンを転写して形成されたものであることを特徴とす る情報媒体。
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