WO2004002674A1 - スズ−銀系無鉛はんだ - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to a lead-free tin-silver solder. Background art
  • the present invention aims to improve the initial joint strength at the joint interface between Sn-3.5Ag or Sn-3.5Ag-xIn and the electroless plating and to suppress the decrease in joint strength after heat treatment.
  • An object of the present invention is to provide a tin-silver-based lead-free solder that can be used. Disclosure of the invention
  • the present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, by adding a small amount of zinc to the tin-silver-based solder composition, the joint strength with electroless Ni-P plating and the interface layer The present inventors have found that there is an effect on the change, and have completed the present invention.
  • the first invention based on this finding is based on a tin-silver based lead-free solder characterized by adding zinc (Zn) to a lead-free tin-silver based solder.
  • a second invention is the tin-silver-based lead-free solder according to the first invention, wherein indium (In) is further added.
  • a third invention is the tin-silver-based lead-free solder according to the first invention, wherein the addition amount of zinc 3 (Zn) is 0.3 to 1.0% by weight, and the balance is tin and silver. It is in.
  • the addition amount of indium (In) is less than 10% by weight, and the addition amount of zinc (Zn) is 0.1 to 1.0% by weight.
  • the tin-silver-based solder is characterized in that the part is tin and silver.
  • a fifth aspect of the present invention resides in a joint structure wherein the objects to be joined are joined with the tin-silver-based lead-free solder according to any one of the first to fourth aspects.
  • a sixth invention is the joint structure according to the fifth invention, wherein an electroless plating layer is provided on a surface of the object to be joined.
  • a seventh invention is the joint structure according to the sixth invention, wherein the electroless plating layer is Ni—P plating.
  • FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a test piece used in an example of a tin-silver-based lead-free solder according to the present invention.
  • FIG. 2 is a graph showing the time-dependent change in the thickness of the Ni—Sn-based reaction layer due to the heat treatment of the test piece using the solder having the composition A1.
  • FIG. 3 is a graph showing the time-dependent change in the thickness of the Ni—Sn-based reaction layer due to the heat treatment of the test piece using the solder having the composition B1.
  • FIG. 4 is a graph showing the time-dependent change in the thickness of the Ni_Sn-based reaction layer due to the heat treatment of the test piece using the solder having the composition C5.
  • FIG. 5 is a graph showing the time-dependent change in the thickness of the P-enriched layer due to the heat treatment of the test piece using the solder having the composition A1.
  • FIG. 6 is a graph showing the time-dependent change in the thickness of the P-enriched layer due to the heat treatment of the test piece using the solder having the composition B1.
  • FIG. 7 is a graph showing the time-dependent change in the thickness of the P-enriched layer due to the heat treatment of the test piece using the solder having the composition C5.
  • FIG. 8 is a graph showing the time-dependent changes in the thickness of the Ni—Sn based reaction layer due to the heat treatment of the test pieces using the solders of the compositions Al, D2, D4, and D6.
  • Fig. 9 is a graph showing the time-dependent changes in the thickness of the P-enriched layer due to the heat treatment of the test pieces using the solders of the compositions Al, D2, D4 and D6.
  • FIG. 10 is a graph showing the time-dependent change in the thickness of the Ni—Sn-based reaction layer due to the heat treatment of the test piece using the solder having the composition D6 and El to E5.
  • FIG. 11 is a graph showing the change over time in the thickness of the P-enriched layer due to the heat treatment of the test piece using the solder having the composition D6 and E1 to E5.
  • FIG. 12 is a graph showing the relationship between the amount of zinc added and the wettability in the Sn—Ag—In—Zn solder.
  • Fig. 13 is a SEM photograph of the interface layer of the test piece after heat treatment, (a) using the solder of composition D6, and (b) using the solder of composition E5.
  • the tin-silver lead-free solder according to the present invention is a solder made of tin (Sn) -silver (Ag) containing no lead, to which zinc (Zn) is added.
  • the tin-silver-based lead-free solder is one in which silver (Ag) is mixed at 3 to 3.5% by weight, and the balance is tin (Sn).
  • the solder containing 3.5% by weight of silver (Ag) mixed with tin (Sn) is referred to as Sn-3.5 Ag.
  • the addition amount of zinc (Zn) is preferably 0.3 to 1.0% by weight, and more preferably 0.7 to 1.0% by weight. If the amount of zinc (Zn) is less than 0.3% by weight, the effect of improving the initial joint strength is small, and if the amount of zinc (Zn) exceeds 1.0% by weight, the initial joint This is because not only is the effect of improving the strength small, but also the effect of suppressing the decrease in joint strength after heat treatment. Further, in the tin-silver-based lead-free solder according to the present invention, it is preferable that indium (In) is further added.
  • the addition amount of indium (In) be less than 10% by weight and the addition amount of zinc (Zn) be 0.1 to 1.0% by weight. This is because if the addition amount of indium (In) is 10% by weight or more, it is not preferable in terms of cost and solderability, and if the addition amount of zinc (Zn) is less than 0.1% by weight. This is because the joint strength is greatly reduced, and when the amount of zinc (Zn) added exceeds 1.0% by weight, the wettability is reduced.
  • the joining strength of the joining structure is improved.
  • the type of the electroless plating layer is not particularly limited.
  • Ni—P plating is extremely effective.
  • a copper plate 1 la (10 X 30 X lmm) is coated with an electroless Ni—10 P plating layer 11 b (thickness: about 5 m).
  • a bonded object 11 was prepared.
  • two flake-shaped solders 12 (2 X 2 X 0.1 mm) are interposed between the two pieces 11 to be joined by a hot plate.
  • a test piece 10 was prepared for each of the solders 12 having the above-described compositions Al, B1, C1 to C7, D1 to D7, and E1 to E5 by heating (250 ⁇ 40 s) and joining.
  • the bonding interface was observed with a scanning electron microscope (SEM) and an energy dispersive X-ray analyzer (EDX), and the temporal change in the thickness of the interface layer due to the heat treatment was examined. Average value measured by sampling points).
  • SEM scanning electron microscope
  • EDX energy dispersive X-ray analyzer
  • Tables 2 and 3 below show the measurement results of the joint strength of the test piece 10 using the solders 12 having the above compositions A to C. Note that the heat treatment was performed for 1000 hours at each of 10 ⁇ 125 ° C and 150 ° C. ⁇ Table 2>
  • test pieces 1 using solders 12 of composition B 1 (with copper addition) and compositions C2 to C5 (with zinc addition of 0.3 to 1.0% by weight) In the case of No. 0, a test piece using a solder of composition A1 Compared with, the initial joint strength was improved.
  • test piece 10 using the solder 12 having the composition C2 to C5 (the amount of zinc added is 0.3 to 1.0% by weight) was used. Compared to test piece 10, the effect of suppressing a decrease in joint strength after heat treatment was observed. In particular, test piece 10 using solder 12 of composition C 5 (with zinc content of 1.0% by weight) In, the decrease in joint strength after heat treatment could be significantly suppressed. However, in the test piece 10 using the solder 12 having the composition B 1 (with copper addition), it was not possible to suppress a decrease in joint strength after the heat treatment.
  • the solder 12 with the composition C2 to C5 improves the initial joint strength at the joint interface with the electroless Ni-10P plating. In addition, it is possible to suppress the decrease in the joint strength after the heat treatment. In particular, it is clear that the solder 12 having the composition C5 (having a zinc content of 1.0% by weight) has a remarkable effect. Was.
  • the time-dependent change in the thickness of the interfacial layer due to the heat treatment of the test piece 10 using the solder 12 having the composition C 5 (having a zinc content of 1.0% by weight) is as follows: ), C5 (with zinc content of 1.0% by weight) solder 12 Heat treatment as compared with the change with time of the thickness of the interface layer due to the Kenhen 10, clearly smaller c Therefore, the growth of the interface layer is suppressed by the addition of zinc, thereby a decrease in the joint strength after heat treatment It is considered suppressed.
  • Table 4 shows the measurement results of the joint strengths of the test pieces 10 using the solders 12 having the compositions D1 to D7 (containing indium). For comparison, the measurement results of the joint strength of the test piece 10 using the solder 12 having the composition A1 (without addition) are also shown.
  • the heat treatment was performed at a temperature of 100 ° C. for 1000 hours.
  • the solders 12 having the composition A1 were used.
  • the initial joint strength was lower than that of test piece 10.
  • the test piece using the solder 12 having the composition D3 to D7 the content of indium is 5% by weight or more
  • the test piece using the solder 12 having the composition A1 was used.
  • the joint strength after heat treatment decreased.
  • the joint strength after the heat treatment was reduced by 55%.
  • Composition D2, D4, D6 (4%, 6%, 8%
  • the temporal change in the thickness of the interfacial layer due to the heat treatment of the test piece 10 using the solder 12 having the composition D 2 (the amount of indium added is 4% by weight) is as follows. This is almost the same as the time-dependent change in the thickness of the interface layer due to the heat treatment of the test piece 10 using the solder 12 having the composition A 1 (without addition).
  • the time-dependent change in the thickness of the interfacial layer due to the heat treatment of the test piece 10 using the solders 12 of the compositions D 4 and D 6 (the amount of indium added was 6% by weight and 8% by weight)
  • the thickness of the interfacial layer due to the heat treatment of the test piece 10 using the solder 12 of A 1 (without addition) was larger than the change with time.
  • the interface layer is considered to grow at a diffusion-controlled rate because its thickness increases linearly.
  • the time-dependent change in the thickness of the interfacial layer due to the heat treatment of the test piece 10 using the solder 12 having the composition E1 to E5 to which zinc is added is obtained by the test piece using the solder 12 having the composition D6 without zinc addition.
  • the thickness was clearly smaller than the time-dependent change in the thickness of the interface layer due to the heat treatment of No. 10.
  • the time-dependent change in the thickness of the interfacial layer due to the heat treatment of the test piece 10 using the solder 12 having the composition E3 to E5 (containing 0.5 to 1.0% by weight of zinc) is represented by the composition D6 (zinc Specimen using solder (without addition)
  • the thickness of the interface layer was very small as compared with the change with time of the thickness of the interface layer due to the heat treatment of No. 10. This result was similar to the addition amount at which the effect of suppressing the decrease in joint strength was observed. From this, it is considered that the addition of zinc suppresses the growth of the interfacial layer, thereby suppressing a decrease in joint strength after heat treatment. Therefore, it can be said that it is extremely important to suppress the growth of the interface layer in order to suppress a decrease in joint strength.
  • FIG. 12 shows the relationship between the amount of zinc added and the wettability. As is evident from FIG. 12, it is recognized that the wettability is reduced by the addition of zinc. Therefore, in consideration of the wettability, the amount of zinc is preferably set to 0.7% by weight or less.
  • FIG. 13 (a) shows an SEM photograph of the interfacial layer after heat treatment (100 ⁇ 1,000 hours) of the test piece 10 using the solder 12 having the composition D6. 1.0% by weight) After heat treatment of test piece 10 using solder 12
  • FIG. 13 (b) shows an SEM photograph of the interface layer (at 100 ° C. for 1000 hours). As can be seen from FIG. 13, it is clear that the addition of zinc can suppress the growth of the interfacial layer, and it can be seen that a decrease in joint strength can be suppressed.
  • the growth of the interface layer can be suppressed, the initial joint strength can be improved, and the joint strength after heat treatment can be reduced. Can be suppressed.
  • the initial joint strength can be improved and the decrease in joint strength after heat treatment can be suppressed.

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Abstract

無電解めっきとの接合界面における初期の継手強度の向上及び熱処理後の継手強度の低下抑制を図ることができるスズ−銀系無鉛はんだを提供するため、鉛を含まないスズ−銀系からなるはんだにおいて、亜鉛(Zn)を添加した。

Description

明 細 書 スズー銀系無鉛はんだ 技術分野
本発明は、 鉛を含まないスズ—銀系からなるはんだに関する。 背景技術
近年、 電子デバイスは、 各種電気機器の小型化や高機能化に対応するため、 狭 ピッチ化が進んでおり、 電子実装やパッケージング技術において、 選択的に析出 できると共に均一な被膜を形成できる無電解 N i一 Pめっきが適用されている。 他方、 近年の地球環境問題から、 構成元素として鉛を含まない (鉛フリー化) はんだが急速に進んでおり、 諸特性を考慮すると、 Sn— Ag系はんだが最も実 用化に近いと考えられている (例えば、 特開平 10— 328880号公報、 特開 2001 -71174号公報、 特開 2001— 150181号公報等参照) 。 近年、 BGA (Ball Grid Array)に二元素の S n— 3. 5Agはんだが使用さ れ始めている。 この Sn— 3. 5Agはんだは、 無電解 N i—Pめっきとの界面 において、 初期の継手強度が低いだけでなく、 熱処理後に継手強度が低下すると いう問題がある。
また、 Sn— 3. 5Agはんだは、 融点が高いため、 熱の影響による部品の破 損を生じることが近年の実装評価において判明していることから、 融点を有効に 下げる元素である I nを添加することが検討されている。 この I nは、 添加して もはんだ自体の機械的性質をほとんど変化させることがないことから、 近年注目 されている。
しかしながら、 S n— 3. 5 A gはんだは、 I nの添加量が増えると、 無電解 N i— Pめっきとの接合界面において、 初期の継手強度が低下してしまい、 特に、 I nの添加量が 5%以上となると、 熱処理後の継手強度の低下が非常に大きいと いう問題がある。
そこで、 本発明は、 Sn— 3. 5Agや Sn— 3. 5Ag— x I nと無電解め つきとの接合界面における初期の継手強度の向上及び熱処理後の継手強度の低下 抑制を図ることができるスズー銀系無鉛はんだを提供することを目的とする。 発明の開示
本発明者らは、 前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、 スズー銀系 はんだ組成に亜鉛を少量添加することで、 無電解 N i—Pめっきとの継手強度及 び界面層の変化について効果があることを知見し、 本発明を完成させた。
かかる知見に基づく第 1の発明は、 鉛を含まないスズー銀系からなるはんだに おいて、 亜鉛 (Zn) が添加されていることを特徴とするスズ—銀系無鉛はんだ にあ Oo
第 2の発明は、 第 1の発明において、 インジウム (I n) がさらに添加されて いることを特徴とするスズ—銀系無鉛はんだにある。
第 3の発明は、 第 1の発明において、 亜鉛3 (Zn) の添加量が 0. 3〜1. 0 重量%であり、 残部がスズと銀であることを特徴とするスズー銀系無鉛はんだに ある。
第 4の発明は、 第 2の発明において、 インジウム (I n) の添加量が 10重量 %未満であると共に、 亜鉛 (Zn) の添加量が 0. 1〜1. 0重量%であり、 残 部がスズと銀であることを特徴とするスズ—銀系無鉛はんだにある。
第 5の発明は、 第 1から第 4の発明のいずれかのスズー銀系無鉛はんだで被接 合体同士が接合されていることを特徴とする接合構造にある。
第 6の発明は、 第 5の発明において、 前記被接合体の表面に無電解めつき層が 設けられていることを特徴とする接合構造にある。
第 7の発明は、 第 6の発明において、 前記無電解めつき層が N i—Pめっきで あることを特徴とする接合構造にある。 図面の簡単な説明
第 1図は、 本発明によるスズ—銀系無鉛はんだの実施例で使用した試験片の概 略構成図である。
第 2図は、 組成 A 1のはんだを使用した試験片の熱処理による N i— Sn系反 応層の厚さの経時変化を表すグラフである。
第 3図は、 組成 B 1のはんだを使用した試験片の熱処理による N i— Sn系反 応層の厚さの経時変化を表すグラフである。
第 4図は、 組成 C 5のはんだを使用した試験片の熱処理による N i _Sn系反 応層の厚さの経時変化を表すグラフである。
第 5図は、 組成 A 1のはんだを使用した試験片の熱処理による P濃縮層の厚さ の経時変化を表すグラフである。
第 6図は、 組成 B 1のはんだを使用した試験片の熱処理による P濃縮層の厚さ の経時変化を表すグラフである。
第 7図は、 組成 C 5のはんだを使用した試験片の熱処理による P濃縮層の厚さ の経時変化を表すグラフである。
第 8図は、 組成 Al, D2, D4, D 6のはんだを使用した試験片の熱処理に よる N i一 Sn系反応層の厚さの経時変化を表すグラフである。
第 9図は、 組成 Al, D2, D4, D 6のはんだを使用した試験片の熱処理に よる P濃縮層の厚さの経時変化を表すグラフである。
第 10図は、 組成 D6, E l〜E 5のはんだを使用した試験片の熱処理による N i— S n系反応層の厚さの経時変化を表すグラフである。
第 11図は、 組成 D6, E 1〜E 5のはんだを使用した試験片の熱処理による P濃縮層の厚さの経時変化を表すグラフである。
第 12図は、 S n— Ag— I n— Znはんだにおける亜鉛の添加量とぬれ性と の関係を表すグラフである。
第 13図は、 試験片の熱処理後の界面層の SEM写真であり、 (a) が組成 D 6のはんだを使用したもの、 (b) が組成 E 5のはんだを使用したものである。 発明を実施するための最良の形態
本発明に係るスズー銀系無鉛はんだの実施の形態を以下に説明するが、 本発 明は以下の実施の形態に限定されるものではない。
本発明に係るスズー銀系無鉛はんだは、 鉛を含まないスズ (Sn) —銀 (Ag ) 系からなるはんだにおいて、 亜鉛 (Zn) が添加されているものである。 なお、 スズー銀系無鉛はんだとは、 銀 (Ag) を 3〜3. 5重量%配合し、 残 部をスズ (Sn) としたものをいう。 なお、 スズ (Sn) に銀 (Ag) 3. 5重 量%を配合するはんだを Sn— 3.5 Agと記す。
ここで、 亜鉛 (Zn) の添加量を 0. 3〜1. 0重量%とすると好ましく、 特 に、 0. 7〜1. 0重量%であるとさらに好ましい。 なぜなら、 亜鉛 (Zn) の 添加量が 0. 3重量%未満であると、 初期の継手強度の向上効果が小さく、 亜鉛 (Zn) の添加量が 1. 0重量%を超えると、 初期の継手強度の向上効果が小さ いだけでなく、 熱処理後の継手強度の低下抑制効果も小さくなるからである。 また、 本発明に係るスズー銀系無鉛はんだにおいて、 インジウム (In) がさ らに添加されていると好ましい。
このとき、 インジウム (I n) の添加量を 10重量%未満とし、 亜鉛 (Zn) の添加量を 0. 1〜1. 0重量%とすると好ましい。 なぜなら、 インジウム (I n) の添加量が 10重量%以上となると、 コスト面及びはんだ付性の面から好ま しくなく、 また、 亜鉛 (Zn) の添加量が 0. 1重量%未満であると、 継手強度 の低下が大きくなり、 亜鉛 (Zn) の添加量が 1. 0重量%を超えると、 ぬれ性 が低下してしまうからである。
このような本発明に係るスズー銀系無鉛はんだを用いて被接合体同士を接合す ると、 接合構造の接合強度が向上するものとなる。
特に、 被接合体に無電解めつき層を設けた場合では、 従来に比べて継手強度の 低下を大幅に抑制することができる。
ここで、 上記無電解めつき層は、 その種類を特に限定されることはないが、 特 に、 N i — Pめっきであると極めて有効である。 実施例
本発明に係るスズ—銀系無鉛はんだの効果を確認するため、 以下のような試験 を行った。
[はんだの作製]
下記の表 1に示す割合で配合して 3 0 0 °Cで溶融後に金型に注湯して室温まで 冷却することにより铸造してスズー銀系無鉛はんだをそれぞれ作製した。
<表 1>
組成 Λ rr し 1 Τ -n
U1 丄 n ム 7 n丄 1 n
A 1 —
B 1 T
3. 5 0. 5 ― — 残
C 1 3. 5 ― ― 0. 1
2 3. 5 ― 0. 3
3 3. 5 ― 一 0. ΰ
4 3. 5 ― 0. 7
5 o 「 1 八
3. 5 ― 1 - 0
6 r>
3. 5 一 1. 3
7 3. 5 ― 一 1 · 5
D 1 3. 5 一 3 ―
2 3. 5 ― 4 ―
3 3. 5 ― 5 一 残
4 3. 5 ― 6 ―
5 3. 5 ― 7 ― 残
6 3. 5 ― 8 ―
7 3. 5 ― 1 0 ―
E 1 3. 5 ― 8 0. 1
2 o c Q
. 0 o
3 3. 5 8 0. 5
4 3. 5 8 0. 7
5 3. 5 8 1. 0 [被接合体の作製]
第 1図 (a) に示すように、 銅製の板 1 l a (10 X 30 X lmm) に無電解 の N i— 10 Pのめつき層 11 b (厚さ:約 5 m程度) を施すことにより被接 合体 1 1を作製した。
[試験片の作製]
第 1図 (b) に示すように、 二枚の上記被接合体 1 1の間に、 薄片状の前記は んだ 1 2 (2 X 2 X0. lmm) を二つ介在させてホットプレートで加熱して (2 50 X40 s) 接合することにより、 試験片 10を前記組成 Al, B l, C 1 〜C7, D 1〜D7, E 1〜E5の前記はんだ 12ごとにそれぞれ作製した。
[試験方法]
各前記試験片 10の熱処理前及び熱処理後の継手強度をィンストロン型試験機 によりそれぞれ測定した (測定条件:温度 =室温、 クロスへッド速度 = 10mm /m i n、 n = 5 ) 。
また、 走査型電子顕微鏡 (SEM) 及びエネルギー分散型 X線分析装置 (ED X) により接合界面を観察し、 熱処理による界面層の厚さの経時変化を調べた (SEMの観察写真において任意の 10点をサンプリングして測定した平均値) 。
[試験結果]
(1) 組成 A〜C
i) 継手強度
上記組成 A〜Cのはんだ 12を使用した試験片 10の継手強度の測定結果を下 記の表 2、 3に示す。 なお、 熱処理は、 10 Ο λ 125°C、 150°Cの各温度 でそれぞれ 1000時間行つた。 <表 2>
Figure imgf000010_0001
上記表 2, 3からわかるように、 組成 B 1 (銅添加のもの) や組成 C2〜C5 (亜鉛添加量が 0. 3〜1. 0重量%のもの) のはんだ 12を使用した試験片 1 0においては、 組成 A1 (添加のないもの) のはんだ 12を使用した試験片 10 に比べて、 初期の継手強度が向上した。
また、 組成 C2〜C5 (亜鉛添加量が 0. 3〜1. 0重量%のもの) のはんだ 12を使用した試験片 10においては、 組成 A1 (添加のないもの) のはんだ 1 2を使用した試験片 10に比べて、 熱処理後の継手強度の低下を抑制する効果が みられ、 特に、 組成 C 5 (亜鉛添加量が 1. 0重量%のもの) のはんだ 12を使 用した試験片 10においては、 熱処理後の継手強度の低下を大幅に抑制すること ができた。 しかしながら、 組成 B 1 (銅添加のもの) のはんだ 12を使用した試 験片 10においては、 熱処理後の継手強度の低下を抑制することができなかった。 以上のことから、 組成 C2〜C5 (亜鉛添加量が 0. 3〜1. 0重量%のもの ) のはんだ 12は、 無電解 N i - 10 Pめっきとの接合界面における初期の継手 強度の向上及び熱処理後の継手強度の低下抑制を図ることができ、 特に、 組成 C 5 (亜鉛添加量が 1. 0重量%のもの) のはんだ 12は、 その効果を顕著に奏す ることが明らかとなった。
ii) 界面層の厚さの変化
一般に、 S n— Ag系はんだと無電解 N i— Pめっきとの間には、 N i— Sn 系反応層と P—濃縮層との二種の界面層が形成されて、 熱処理に伴ってこれら層 が次第に成長していくことにより、 継手強度が徐々に低下していくと考えられる。 そこで、 組成 A1 (添加のないもの) 、 B 1 (銅添加のもの) 、 C5 (亜鉛添加 量が 1. 0重量%のもの) のはんだ 12を使用した試験片 10の熱処理 (100 °C、 125°C、 150 の各温度) による上記界面層の厚さの経時変化を調べた。 その結果を第 2〜 7図に示す。 なお、 第 2〜 7図において、 横軸は、 熱処理時間 の平方根を表し、 縦軸は、 上記層の厚さを表す。
これら第 2〜7図からわかるように、 前記界面層は、 その厚さが直線的に増え ていることから、 拡散律速で成長すると考えられる。
ここで、 組成 C 5 (亜鉛添加量が 1. 0重量%のもの) のはんだ 12を使用し た試験片 10の熱処理による上記界面層の厚さの経時変化は、 組成 B 1 (銅添加 のもの) 、 C5 (亜鉛添加量が 1. 0重量%のもの) のはんだ 12を使用した試 験片 10の熱処理による上記界面層の厚さの経時変化に比べて、 明らかに小さい c このことから、 亜鉛の添加によって上記界面層の成長が抑制され、 これにより 熱処理後の継手強度の低下が抑制されていると考えられる。
(2) 組成 D
i) 継手強度
前記組成 D 1〜D7 (インジウム添加のもの) のはんだ 12を使用した試験片 10の継手強度の測定結果を下記の表 4に示す。 比較のため、 組成 A1 (添加な しのもの) のはんだ 12を使用した試験片 10の継手強度の測定結果も併記する。 なお、 熱処理は、 100°Cの温度で 1000時間行った。
<表 4>
Figure imgf000012_0001
表 4からわかるように、 組成 D4〜D7 (インジウム添加量が 6重量%以上の もの) のはんだ 12を使用した試験片 10においては、 組成 A1 (添加のないも の) のはんだ 12を使用した試験片 10に比べて、 初期の継手強度が低下してし まった。 また、 組成 D3〜D7 (インジウム添加量が 5重量%以上のもの) のは んだ 12を使用した試験片 10においては、 組成 A1 (添加のないもの) のはん だ 12を使用した試験片 10に比べて、 熱処理後の継手強度が低下してしまった。 特に、 組成 D6 (インジウム添加量が 8重量%のもの) のはんだ 12を使用した 試験片 10においては、 熱処理後の継手強度が 55%も低下してしまった。
ii) 界面層の厚さの変化
組成 D2, D4, D6 (インジウム添加量が 4重量%、 6重量%、 8重量%の
0 もの) のはんだ 1 2を使用した試験片 1 0の熱処理 (1 0 0 ) による前記界面 層の厚さの経時変化を調べた。 その結果を第 8 , 9図に示す。 比較のため、 組成 A 1 (添加なしのもの) のはんだ 1 2を使用した試験片 1 0の熱処理 (1 0 0で ) による前記界面層の厚さの経時変化も併記する。
第 8 , 9図からわかるように、 組成 D 2 (インジウム添加量が 4重量%のもの ) のはんだ 1 2を使用した試験片 1 0の熱処理による前記界面層の厚さの経時変 化は、 組成 A 1 (添加のないもの) のはんだ 1 2を使用した試験片 1 0の熱処理 による前記界面層の厚さの経時変化と略同等である。 しかしながら、 組成 D 4及 び D 6 (インジウム添加量が 6重量%及び 8重量%のもの) のはんだ 1 2を使用 した試験片 1 0の熱処理による前記界面層の厚さの経時変化は、 組成 A 1 (添加 のないもの) のはんだ 1 2を使用した試験片 1 0の熱処理による前記界面層の厚 さの経時変化に比べて大きくなつていた。
このことから、 インジウムの添加量が所定値を越えると、 上記界面層の成長が 促進されてしまい、 これにより熱処理後の継手強度が低下してしまうと考えられ る。
( 3 ) 組成 E
i ) 継手強度
継手強度の低下が最も大きかった前記組成 D 6 (インジウム添加量が 8重量% のもの) に対して亜鉛を添加した組成 E 1〜E 5のはんだ 1 2を使用した試験片 1 0の継手強度の測定結果を下記の表 5に示す。 比較のため、 上記組成 D 6 (ィ ンジゥム添加量が 8重量%のもの) のはんだ 1 2を使用した試験片 1 0の継手強 度の測定結果も併記する。 なお、 熱処理は、 1 0 0 °Cの温度で 1 0 0 0時間行つ た。 <表 5〉
Figure imgf000014_0001
表 5からわかるように、 亜鉛を添加した組成 E 1〜E 5のはんだ 12を使用し たすベての試験片 10においては、 亜鉛添加のない組成 D 6のはんだ 12を使用 した試験片 10に比べて、 初期及び熱処理後の継手強度の低下を抑制することが でき、 特に、 組成 E3〜E5 (亜鉛添加量が 0. 5〜1. 0重量%のもの) のは んだ 12を使用した試験片 10においては、 継手強度の低下抑制効果が非常に大 きいことが判明した。
ii) 界面層の厚さの変化
組成 E 1〜E5 (亜鉛添加のもの) のはんだ 12を使用した試験片 10の熱処 理 (100で) による前記界面層の厚さの経時変化を調べた。 その結果を第 10, 11図に示す。 比較のため、 組成 D6 (亜鉛添加なしのもの) のはんだ 12を使 用した試験片 10の熱処理 (100で) による前記界面層の厚さの経時変化も併 記する。
第 10, 11図からわかるように、 前記界面層は、 その厚さが直線的に増えて いることから、 拡散律速で成長すると考えられる。
ここで、 亜鉛を添加した組成 E 1〜E5のはんだ 12を使用した試験片 10の 熱処理による前記界面層の厚さの経時変化は、 亜鉛添加のない組成 D 6のはんだ 12を使用した試験片 10の熱処理による前記界面層の厚さの経時変化と比べて、 明らかに小さかった。 特に、 組成 E3〜E5 (亜鉛添加量が 0. 5〜1. 0重量 %のもの) のはんだ 12を使用した試験片 10の熱処理による前記界面層の厚さ の経時変化は、 組成 D6 (亜鉛添加のないもの) のはんだ 12を使用した試験片
2 10の熱処理による前記界面層の厚さの経時変化に比べて、 非常に小さくなつて いた。 この結果は継手強度の低下抑制効果が認められた添加量と同様であった。 このことから、 亜鉛の添加によって前記界面層の成長が抑制され、 これにより 熱処理後の継手強度の低下が抑制されていると考えられる。 よって、 継手強度の 低下を抑制するには、 前記界面層の成長を抑制することが極めて重要であるとい える。
また、 亜鉛の添加量とぬれ性との関係を第 12図に示す。 第 12図から明らか なように、 亜鉛の添加によりぬれ性が低下することが認められることから、 ぬれ 性を考慮すると、 亜鉛の添加量を 0. 7重量%以下とすることが好ましい。
また、 組成 D 6のはんだ 12を使用した試験片 10の熱処理後 ( 100 X 1 000時間) の前記界面層の SEM写真を第 13図 (a) に示し、 組成 E 5 (亜 鉛添加量が 1. 0重量%のもの) のはんだ 12を使用した試験片 10の熱処理後
(100°CX 1000時間) の前記界面層の SEM写真を第 13図 (b) に示す。 第 13図からわかるように、 亜鉛を添加すると、 前記界面層の成長を抑制できる ことが明らかであり、 継手強度の低下を抑制できることがわかる。
[まとめ]
以上の実施例から、 Sn_Ag系はんだと無電解 N i一 Pめっきとの継手強度 及び界面層の変化を調べた結果をまとめると、 以下のことがいえる。
(1) Sn— 3.5 Agに亜鉛を 0. 3〜1. 0重量%添加することにより、 初 期の継手強度の向上及び熱処理による継手強度の低下抑制が可能であり、 特に、 亜鉛を 0. 7〜1. 0重量%添加すると、 その効果が著しく大きくなる。 また、 界面層も亜鉛添加によつて成長が抑制された。
(2) Sn— 3.5Ag— X I nの継手強度は、 初期において、 インジウムの添 加量が 8重量%以上となると低下し、 熱処理後において、 インジウムの添加量が 5重量%以上となると低下し、 8重量%のときに最大の低下を生じた。 継手強度 の低下を引き起こした試験片においては、 前記界面層の成長が大きい傾向にあつ た。 (3) Sn— 3.5Ag— 8 I nに亜鉛を添加すると、 初期の継手強度が向上し た。 亜鉛添加なしで熱処理すると、 熱処理後の継手強度が約 55%低下したが、 亜鉛を添加すると、 熱処理後の継手強度の低下を抑制することができた。 このと き、 亜鉛を 0. 1重量%添加しても継手強度の低下を抑制することができるが、 0. 5重量%以上添加すれば、 より大きな効果を得ることができる。
(4) Sn— 3.5Ag— 8 I nは、 熱処理すると、 前記界面層が大きく成長す るものの、 亜鉛を 0. 5重量%以上添加すると、 前記界面層の成長を抑制するこ とができる。 産業上の利用の可能性
本発明のスズ—銀系無鉛はんだによれば、 亜鉛 (Zn) が添加されているので、 界面層の成長を抑制することができ、 初期の継手強度の向上および熱処理後の継 手強度の低下の抑制を図ることができる。
特に、 めっきが施された被接合体同士を本発明のはんだにより接合すれば、 初 期の継手強度を向上させることができると共に、 熱処理後の継手強度の低下を抑 制することができる。
4

Claims

請求の範囲
1. 鉛を含まないスズ—銀系からなるはんだにおいて、
亜鉛 (Zn) が添加されている
ことを特徴とするスズ—銀系無鉛はんだ。
2. 請求の範囲 1において、
インジウム (I n) がさらに添加されている
ことを特徴とするスズ—銀系無鉛はんだ。
3. 請求の範囲 1において、
亜鉛 (Zn) の添加量が 0. 3〜1. 0重量%であり、
残部がスズ及び銀である
ことを特徴とするスズ—銀系無鉛はんだ。
4. 請求の範囲 2において、
インジウム (I n) の添加量が 10重量%未満であると共に、
亜鉛 (Zn) の添加量が 0. 1〜1. 0重量%であり、
残部がスズ及び銀である
ことを特徴とするスズー銀系無鉛はんだ。
5. 請求の範囲 1から請求の範囲 4のいずれかのスズー銀系無鉛はんだで被接 合体同士が接合されている
ことを特徴とする接合構造。
6. 請求の範囲 5において、
前記被接合体の表面に無電解めつき層が設けられている ことを特徴とする接合構造。 . 請求の範囲 6において、
前記無電解めつき層が N i—Pめっきである ことを特徴とする接合構造。
6
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