WO2005006079A1 - Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage - Google Patents

Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage Download PDF

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WO2005006079A1 PCT/EP2003/007258 EP0307258W WO2005006079A1 WO 2005006079 A1 WO2005006079 A1 WO 2005006079A1 EP 0307258 W EP0307258 W EP 0307258W WO 2005006079 A1 WO2005006079 A1 WO 2005006079A1
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lighting device
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PCT/EP2003/007258
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Nils Dieckmann
Damian Fiolka
Markus Brotsack
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Carl Zeiss SMT GmbH
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    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
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    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70591Testing optical components

Definitions

  • the invention relates to a lighting device for a microlithographic projection exposure system, with a light source for generating projection light, with a rod homogenizer for generating a homogeneous intensity distribution of the projection light at an exit surface of the rod hoogenizer and with a transmission filter with which the illumination angle distribution of the projection light emerging from the rod homogenizer and which comprises exactly one filter element which is arranged in a pupil plane between the light source and the rod homogenizer so as to be rotatable about the optical axis.
  • the invention further relates to a microlithographic projection exposure system with such an illumination device.
  • a lighting device and a projection exposure system of this type are known from DE 100 43 315 Cl.
  • Microlithographic projection exposure systems such as those used in the manufacture of highly integrated electrical circuits, have an illumination unit. direction that is used to generate a projection light beam.
  • the projection light beam is directed onto a reticle which contains the structures to be imaged by the projection exposure system and which is arranged such that it can be moved in an object plane of a projection objective.
  • Projection objective maps the structures of the reticle onto a light-sensitive surface, which is located in an image plane of the projection objective and e.g. can be applied to a wafer.
  • the intensity distribution of the projection light should be constant in the object plane of the projection objective.
  • the reticle is then homogeneously illuminated so that all points on the reticle are exposed to projection light of the same intensity. As a rule, it is only then possible to image all points on the reticle with the same contrast on the light-sensitive surface.
  • the so-called illumination angle distribution also influences the contrast of the structures to be imaged.
  • the illumination angle distribution at a certain point results from the dependence of the intensity of the projection light on the beam direction.
  • the illumination angle distributions at two adjacent points differ despite the same intensities that can be measured there if the projection light strikes the two points from different directions.
  • the illumination angle distribution plays a major role in illumination devices of microlithographic projection exposure systems, among other things, because it is related to the partial spatial coherence and thereby influences the contrast of the image.
  • the illumination angle distribution is specifically adapted to the type of the structures to be imaged, in order to optimize their projection into the image plane of the projection lens.
  • attempts are made to achieve a constant or at least rotationally symmetrical illumination angle distribution in the object plane.
  • a projection can only be optimized in exceptional cases by specifically setting a rotationally asymmetrical illumination angle distribution;
  • non-rotationally symmetrical (i.e. rotationally asymmetrical) illumination angle distributions are undesirable, since they e.g. can lead to the fact that structures arranged in one direction on the reticle are imaged with a different contrast than structures of the same type, but running in the direction perpendicular thereto.
  • Rotationally asymmetrical illumination angle distributions in the illumination device can have a variety of causes that cannot be suppressed as far as desired. For this reason, attempts are being made to influence the illumination angle distribution in a targeted manner with the aid of additional measures.
  • a transmission filter with at least one filter element in the pupil plane between a light source and a rod homogenizer, by means of which the illumination angle distribution can be influenced.
  • the filter element is designed as a disc, on which several surfaces with different degrees of transmission are arranged segment-like and rotationally asymmetrical.
  • the transmission filter preferably comprises two such filter elements which can be rotated relative to one another about a common axis.
  • the distribution of the degrees of transmission over the filter surfaces is selected in such a way that the total transmission through both filter elements is constant over the entire filter surface with a certain relative position of the two filter elements to one another. In this position, the two filter elements do not influence the illumination angle distribution.
  • Such a neutral position is important because then without
  • Removal of the transmission filter can measure the illumination angle distribution caused by the other optical components.
  • each additional optical element that is introduced into the beam path of a projection exposure system leads to loss of light and, as a result, heating of the corresponding component, which may measures required.
  • a total of two additional optical elements, namely the two disk-shaped filter elements contribute to a reduction in the intensity of the projection light.
  • the object of the invention is to develop a lighting device of the type mentioned at the outset in such a way that the light losses caused by the transmission filter are reduced and a neutral position which does not influence the distribution of the lighting angle exists.
  • the rod homogenizer has a rectangular cross section and that the distribution of the transmittance over a filter surface of the filter element has a two-fold rotational symmetry and is defined such that the illumination angle distribution is in a first rotational position of the filter element projection light incident on the transmission filter after passing through the transmission filter and the rod homogenizer remains essentially unchanged, and that in a second rotational position of the filter element the illumination angle distribution of the projection light incident on the transmission filter is changed after passing through the transmission filter and the rod homogenizer.
  • the invention is based, inter alia, on the knowledge that rod homogenizers with rectangular and in particular with square rod cross-sections change the illumination angle distribution of the projection light as it passes through the rod homogenizer.
  • the rod homogenizer insofar as its effect on the illumination angle distribution is affected, can take over the function of one of the two filter elements which is required in the prior art in order to achieve a neutral filter effect together with the other filter element in a specific relative position, by means of the lighting angle distribution is not affected.
  • the only prerequisite is that the of the invention consisting only of a single 'filter element according to the transmission filter also as the cross section of the Stabhomogenisierers has with regard to the distribution of transmittance over the filter surface a two-fold rotational symmetry.
  • a two-fold rotational symmetry exists if a rotation of the transmission filter by an integral multiple of 180 ° leads to the same transmission curve.
  • a transmission filter designed in this way has the advantage that an asymmetrical illumination angle distribution with two-fold symmetry, ie, a so-called ellipticity, can be compensated for and thus traced back to a rotationally symmetrical illumination angle distribution. Conversely, if the properties of the reticle to be illuminated so require, a previously existing rotationally symmetrical illumination angle distribution can, if necessary, be converted into an elliptical one.
  • a transmission filter is particularly easy to manufacture, in which the entire filter surface of the filter element is divided into four quadrants arranged symmetrically with respect to the optical axis, of which two quadrants opposite each other with respect to the optical axis form a pair with the same azimuthal transmittance, the transmittances of the two pairs differ.
  • the one pair then preferably has a transmittance of essentially 100% and the other pair has a transmittance between 0% and 99%, preferably between 80% and 95%. It has been shown that values in these areas can compensate for the usually relatively weak asymmetries in the illumination angle distributions with at the same time low light losses.
  • the transmission filter is arranged such that it can be moved in the directions perpendicular to the optical axis, for which purpose a manipulator is preferably used.
  • a manipulator is preferably used.
  • Transmission filter is offset perpendicular to the optical axis.
  • the movability of the transmission filter in the plane perpendicular to the optical axis now enables ne to follow such an offset of the pupil and thus to prevent a change in the illumination angle distribution due to the tilting of the modules.
  • Figure 1 shows a projection exposure system with an illumination device according to the invention in a highly simplified, schematic representation
  • FIG. 2 shows a plan view of a transmission filter installed in the lighting device from FIG. 1;
  • Figure 3a shows the transmission filter of Figure 2 in a first rotational position
  • FIG. 3b shows the intensity distribution in the light beam cross section, which results behind the transmission filter in the first rotational position shown in FIG. 3a;
  • FIG. 4a shows a cross section through a rod homogenizer built into the lighting device
  • FIG. 4b shows an intensity distribution in the light beam cross section, which follows in the first rotational position of the transmission filter shown in FIG. 3a Passage through the rod homogenizer in a pupil plane results;
  • FIG. 5a shows the transmission filter from FIG. 2 in a second rotational position
  • FIG. 5b shows the intensity distribution resulting behind the transmission filter in the second rotational position shown in FIG. 5a;
  • FIG. 6a shows the cross section already shown in FIG. 4a through the rod homogenizer built into the lighting device
  • FIG. 6b shows an intensity distribution in the light beam cross section, which results in the second rotational position of the transmission filter shown in FIG. 5a after passing through the rod homogenizer in a pupil plane.
  • FIG. 1 shows a section through a total of 10 Pro exposure exposure system in a greatly simplified, not to scale.
  • the projection exposure system 10 has an illumination device 12 to be described in more detail, which comprises a plurality of modules and is used to generate a projection light bundle 14, which is only indicated at the output of the illumination device 12.
  • an illumination device 12 to be described in more detail, which comprises a plurality of modules and is used to generate a projection light bundle 14, which is only indicated at the output of the illumination device 12.
  • a reticle 18 is movably arranged in an object plane 20 of the projection objective 16.
  • the projection objective 16 is used to image structures contained on the reticle 18 and passed through by the projection light bundle 14 in a reduced size into an image plane 22 of the projection objective 16.
  • a photosensitive surface 26 applied to a wafer 24, which is e.g. can be a photoresist.
  • the lighting device 12 comprises a first module 28 with a zoom optic indicated by 30, a transmission filter 32 lying in a pupil plane 31 of the module 28 and to be described in more detail as well as a coupling optics 34. Passes through a deflection mirror 36 the projection light into a second module 38, which among other things contains a rod homogenizer 40 made of glass with a square cross-section, a further deflecting mirror 42 and an imaging optics 45 only indicated in FIG. 1.
  • the transmission filter 32 which is enlarged in FIG. 2 and shown in plan view, has a disk-shaped filter element 46 which is received in a holder 50 so as to be rotatable about a central axis 48.
  • the filter surface 52 of the filter element 46 that can be exposed to the projection light bundle 14 is arranged in four points symmetrically to the central axis 48
  • the quadrant pair 541, 543 has a transmittance of approximately 100%.
  • the other quadrant pair 542, 544 has a transmittance of 90%, which is indicated in the drawing by a slight blackening.
  • An electric motor 56 is provided for rotating the filter element 46 about the central axis 48, see FIG the lighting device 12 can be moved.
  • the rotatability of the filter element is indicated by an arrow 62 and the displaceability in the X and Y directions is indicated by arrows 64 and 66, respectively.
  • the lighting device 12 functions as follows:
  • the light beam generated by the light source 16 is expanded by the zoom optics 30 into a projection light bundle with a larger bundle cross section. It is now assumed that the projection light bundle has a rotationally symmetrical illumination angle distribution after passing through the zoom optics 30 and that the filter element 46 is in a first rotational position, as shown in FIG. 3a. In this rotary position the qua- dranten 541, 542, 543, 544 of the filter surface 52 of the filter element 46 aligned with the edges of the rod homogenizer 40, which is square in cross section, so that they run parallel to the lateral boundary surfaces thereof, provided that the deflection by the deflection mirror 36 is disregarded.
  • the intensity distribution in the light beam cross section shown in FIG. 3 b results directly behind the filter element 46, which corresponds to the course of the transmittance over the filter surface 52.
  • FIG. 4b shows a simplified representation of an intensity distribution in a pupil plane behind the rod homogenizer 40, which is characteristic of the illumination angle distribution in the position of the transmission filter 32 shown in FIG. 3a. This shows that the illumination angle distribution is not completely homogeneous due to the mentioned scrambling of the beam directions, but is rotationally symmetrical.
  • the exit surface 70 illuminated homogeneously and rotationally symmetrically with respect to the illumination angle distribution of the rod homogenizer 40 lies in a field plane of the illumination device 12 and is imaged on the reticle 18 by a subsequent imaging optics 45 via the deflection mirror 42. In this way, the reticle 18 is illuminated uniformly and with a rotationally symmetrical illumination angle distribution.
  • the second rotational position of the transmission filter 32 shown in FIG. 5a results from the first rotational position shown in FIG. 3a by rotation about the central axis 48 by 45 ° clockwise. If projection light with a rotationally symmetrical illumination angle distribution falls on the transmission filter 32 which is in this second rotational position, the intensity distribution shown in FIG. 5b results directly behind the transmission filter 32.
  • the scrambling of the beam directions in the subsequent rod homogenizer 40 now results in the rotational position of the transmission filter 32 in such a way that the illumination angle distribution at the exit surface 70 of the rod homogenizer 40 is no longer rotationally symmetrical.
  • the intensity distribution which can be measured in a pupil plane behind the rod homogenizer 40 is shown in FIG. 6b. From this it can be seen that the illumination angle distribution is now no longer rotationally symmetrical, but has a two-fold symmetry, as is also the case with the transmission filter 32.
  • a non-rotationally symmetrical overall effect on the illumination angle distribution also results for rotational positions of the transmission filter 32, which result from rotation through other angles with 0 ⁇ ⁇ 45 ° compared to the rotational position shown in FIG. 3a.
  • the light source 16 can be tilted somewhat in relation to the first module 28 to compensate for this misalignment. However, this leads to the pupil of the projection light beam being displaced in the plane 31 of the transmission filter 32 perpendicular to the optical axis. The projection light bundle then no longer passes through the filter element 46 centrally, but also with an offset, so that even in the rotational position of the filter element 46 shown in FIG. 3a, the illumination angle distribution in subsequent field planes would not be rotationally symmetrical.
  • the holder 50 is moved using the X-Y-
  • Manipulator 58 positioned so that the central axis 48 of the Filter element 46 is centered with respect to the pupil of the projection light bundle offset to the optical axis.
  • the projection light bundle passes through the filter element centrally, which ensures that, in the rotational position of the filter element 46 shown in FIG. 3a, the illumination angle distribution in subsequent field planes is rotationally symmetrical.

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

Eine Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage hat eine Lichtquelle (16), einen Stabhomogenisierer (40) mit rotationsasymmetrischem Querschnitt zur Erzeugung einer homogenen Intensitätsverteilung von Projektionslicht, und ein dazwischen angeordneten Transmissionsfilter (32). Mit letzterem lässt sich die Beleuchtungswinkelverteilung des aus dem Stabhomogenisierer (40) austretenden Projektionslichts (14) verändern. Das Transmissionsfilter (70) hat genau ein Filterelement (46), das in einer Pupillenebene (31) zwischen der Lichtquelle (16) und dem Stabhomogenisierer (40) um die optische Achse (60) drehbar angeordnet ist. Die Verteilung des Transmissionsgrades über eine Filterfläche (52) des Filterelements (46) ist so an die Geometrie des Stabhomogenisierers (40) angepasst, dass in einer ersten Drehstellung des Filterelements (46) die Beleuchtungswinkelverteilung durch das Transmissionsfilter (32) und den Stgbhomogenisierer (40) im wesentlichen unverändert bleibt. In einer zweiten Drehstellung des Filterelements (46) wird die Beleuchtungswinkelverteilung durch das Transmissionsfilter (32) und den Stabhomogenisierer (40) verändert. Dadurch ist eine Neutralstellung mit nur einem Filterelement möglich.

Description

BELEUCHTUHGSEIMRICHTOUG FÜR EIHE MIICROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUMGSANLA GE
Die Erfindung betrifft eine Beleuc tungseinrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, mit einer Lichtquelle zur Erzeugung von Projektionslicht, mit einem Stabhomogenisierer zur Erzeugung einer homogenen In- 5 tensitätsverteilung des Pro ektionslichts an einer Austrittsfläche des Stabho ogenisierers und mit einem Transmissionsfilter, mit dem sich die Beleuchtungswinkelverteilung des aus dem Stabhomogenisierer austretenden Pro- jektionslichts verändern läßt und das genau ein Filterele- 10 ment umfaßt, das in einer Pupillenebene zwischen der Lichtquelle und dem Stabhomogenisierer um die optische Achse drehbar angeordnet ist. Die Erfindung betrifft ferner eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einer solchen Beleuchtungseinrichtung.
15 Eine Beleuchtungseinrichtung sowie eine Projektionsbelichtungsanlage dieser Art sind aus der DE 100 43 315 Cl bekannt .
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlagen, wie sie etwa bei der Herstellung hochintegrierter elektrischer 20 Schaltkreise verwendet werden, weisen eine Beleuchtungsein- richtung auf, die der Erzeugung eines Projektionslichtbündels dient. Das Projektionslichtbündel wird auf ein Retikel gerichtet, das die von der Projektionsbelichtungsanlage abzubildenden Strukturen enthält und in einer Objektebene ei- nes Projektionsobjektivs verfahrbar angeordnet ist. Das
Projektionsobjektiv bildet die Strukturen des Retikels auf eine lichtempfindliche Oberfläche ab, die sich in einer Bildebene des Projektionsobjektivs befindet und z.B. auf einem Wafer aufgebracht sein kann.
Üblicherweise soll die Intensitätsverteilung des Projektionslichts in der Objektebene des Projektionsobjektivs konstant sein. Das Retikel ist dann homogen ausgeleuchtet, so daß alle Punkte auf dem Retikel Projektionslicht der gleichen Intensität ausgesetzt sind. In aller Regel ist es nur dann möglich, alle Punkte auf dem Retikel mit dem gleichen Kontrast auf der lichtempfindlichen Oberfläche abzubilden.
Neben der Intensitätsverteilung beeinflußt auch die sogenannte Beleuchtungswinkelverteilung den Kontrast der abzubildenden Strukturen. Die Beleuchtungswinkelverteilung an einem bestimmten Punkt ergibt sich aus der Abhängigkeit der Intensität des Projektionslichts von der Strahlrichtung. So unterscheiden sich beispielsweise die Beleuchtungswinkelverteilungen an zwei benachbarten Punkten trotz gleicher dort meßbarer Intensitäten, wenn das Projektionslicht auf die beiden Punkte aus unterschiedlichen Richtungen auftrifft. Die Beleuchtungswinkelverteilung spielt u.a. deswegen eine große Rolle bei Beleuchtungseinrichtungen mikrolithographischer Projektionsbelichtungsanlagen, weil sie mit der partiellen räumlichen Kohärenz zusammenhängt und dadurch den Kontrast der Abbildung beeinflußt.
Die Beleuchtungswinkelverteilung wird bei modernen Projektionsbelichtungsanlagen gezielt an die Art der abzubildenden Strukturen angepaßt, um deren Projektion in die Bildebene des Projektionsobjektivs zu optimieren. In den mei- sten Fällen wird versucht, in der Objektebene eine konstante oder zumindest rotationssymmetrische Beleuchtungswinkelverteilung zu erzielen. Nur ausnahmsweise kann eine Projektion optimiert werden, indem gezielt eine rotationsasymmetrische Beleuchtungswinkelverteilung eingestellt wird; im Regelfall jedoch sind nicht rotationssymmetrische (d.h. rotationsasymmetrische) Beleuchtungswinkelverteilungen unerwünscht, da sie z.B. dazu führen können, daß in einer Richtung auf dem Retikel angeordnete Strukturen mit einem anderen Kontrast abgebildet werden als gleichartige, jedoch in hierzu senkrechter Richtung verlaufende Strukturen.
Rotationsasymmetrische Beleuchtungswinkelverteilungen in der Beleuchtungseinrichtung können vielfältige Ursachen haben, die sich nicht beliebig weit unterdrücken lassen. Daher versucht man, die Beleuchtungswinkelverteilung mit Hil- fe zusätzlicher Maßnahmen gezielt zu beeinflussen. Hierzu ist aus der eingangs bereits benannten DE 100 43 315 Cl bekannt, in der Beleuchtungseinrichtung in einer Pupillenebene zwischen einer Lichtquelle und einem Stabhomogenisierer ein Transmissionsfilter mit mindestens einem Filter- element anzuordnen, durch das sich die Beleuchtungswinkelverteilung beeinflussen läßt. Das Filterelement ist als Scheibe ausgeführt, auf der mehrere Flächen mit unterschiedlichen Transmissionsgraden segmentartig und rotati- onsasymmetrisch angeordnet sind.
Vorzugsweise umfaßt bei dieser bekannten Beleuchtungseinrichtung das Transmissionsfilter zwei derartige Filterelemente, die um eine gemeinsame Achse zueinander verdrehbar sind. Die Verteilung der Transmissionsgrade über die Filterflächen ist bei den beiden Filterelementen so gewählt, daß bei einer bestimmten Relativstellung der beiden Filterelemente zueinander die Gesamttransmission durch beide Filterelemente über die gesamte Filterfläche hinweg konstant ist. In dieser Stellung beeinflussen die beiden Filterelemente die Beleuchtungswinkelverteilung nicht. Eine solche Neutralstellung ist deswegen wichtig, da sich dann ohne
Ausbau des Transmissionsfilters die durch die übrigen optischen Komponenten hervorgerufene Beleuchtungswinkelverteilung ausmessen läßt.
Jedes zusätzliche optische Element, das in den Strahlengang einer Projektionsbelichtungsanlage eingebracht wird, führt allerdings zu Lichtverlusten und damit einhergehend zu einer Erwärmung der entsprechenden Komponente, die ggf. Kühl- maßnahmen erforderlich macht. Bei dem vorstehend beschriebenen bekannten Transmissionsfilter tragen insgesamt zwei zusätzliche optische Elemente, nämlich die beiden scheibenförmigen Filterelemente, zu einer Verringerung der Intensi- tat des Projektionslichts bei.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Beleuchtungseinrichtung der eingangs genannten Art so weiterzubilden, daß die durch das Transmissionsfilter hervorgerufenen Lichtverluste verringert werden und dennoch eine die Beleuchtungswinkelver- teilung nicht beeinflussende Neutralstellung existiert.
Gelöst wird diese Aufgabe bei einer Beleuchtungseinrichtung der eingangs genannten Art dadurch, daß der Stabhomogenisierer einen rechteckigen Querschnitt hat, und daß die Verteilung des Transmissionsgrades über eine Filterfläche des Filterelements eine zweizählige Rotationssymmetrie hat und derart festgelegt ist, daß in einer ersten Drehstellung des Filterelements die Beleuchtungswinkelverteilung auf das Transmissionsfilter einfallenden Projektionslichts nach Durchgang durch das Transmissionsfilter und den Stabhomoge- nisierer im wesentlichen unverändert bleibt, und daß in einer zweiten Drehstellung des Filterelements die Beleuchtungswinkelverteilung des auf das Transmissionsfilter einfallenden Projektionslichts nach Durchgang durch das Transmissionsfilter und den Stabhomogenisierer verändert ist.
Die Erfindung beruht u.a. auf der Erkenntnis, daß Stabhomogenisierer mit rechteckigen und insbesondere mit quadratischen Stabquerschnitten die Beleuchtungswinkelverteilung des Projektionslichts bei dessen Durchtritt durch den Stabhomogenisierer verändern. Dadurch kann der Stabhomogenisierer, soweit dessen Wirkung auf die Beleuchtungs- Winkelverteilung betroffen ist, die Funktion eines der beiden Filterelemente übernehmen, das im Stand der Technik benötigt wird, um zusammen mit dem anderen Filterelement in einer bestimmten Relativstellung eine neutrale Filterwirkung zu erzielen, durch die die Beleuchtungswinkelvertei- lung nicht beeinflußt wird. Voraussetzung hierfür ist lediglich, daß das gemäß der Erfindung nur aus einem einzigen ' Filterelement bestehende Transmissionsfilter hinsichtlich der Verteilung des Transmissionsgrades über die Filterfläche ebenfalls wie der Querschnitt des Stabhomogenisierers eine zweizählige Rotationssymmetrie hat. Eine zweizählige RotationsSymmetrie liegt vor, wenn eine Drehung des Transmissionsfilters um ein ganzzahliges Vielfaches von 180° zum gleichen Transmissionsverlauf führt.
Ein derart ausgebildetes Transmissionsfilter hat den Vor- teil, daß sich eine asymmetrische Beleuchtungswinkelverteilung mit zweizähliger Symmetrie, d.h. eine sogenannte El- liptizität, kompensieren und dadurch wieder auf eine rotationssymmetrische Beleuchtungswinkelverteilung zurückführen läßt. Umgekehrt kann natürlich auch, falls die Eigenschaf- ten des zu beleuchtenden Retikels dies erfordern, bei Bedarf eine vorher vorhandene rotationssymmetrische Beleuchtungswinkelverteilung in eine elliptische umgewandelt werden. Besonders einfach herzustellen ist ein Transmissionsfilter, bei dem die gesamte Filterfläche des Filterelements in vier punktsymmetrisch zu der optischen Achse angeordnete Quadranten unterteilt ist, von denen jeweils zwei sich bezüg- lieh der optischen Achse gegenüberliegende Quadranten ein Paar mit gleichem azimutalen Transmissionsgrad bilden, wobei die Transmissionsgrade der beiden Paare sich unterscheiden. Vorzugsweise hat dann das eine Paar einen Transmissionsgrad von im wesentlichen 100% und das andere Paar einen Transmissionsgrad zwischen 0% und 99%, vorzugsweise zwischen 80% und 95%. Es hat sich gezeigt, daß sich mit Werten in diesen Bereichen die meist relativ schwachen Asymmetrien der Beleuchtungswinkelverteilungen bei gleichzeitig geringen Lichtverlusten kompensieren lassen.
Bei einer anderen bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung ist das Transmissionsfilter in den Richtungen senkrecht zur optischen Achse verfahrbar angeordnet, wofür vorzugsweise ein Manipulator verwendet wird. Eine solche Verfahrbarkeit des Transmissionsfilters ist deswegen vorteilhaft, weil die einzelnen Baugruppen der Beleuchtungseinrichtung häufig in größere Module integriert sind, die gelegentlich nicht exakt fluchten oder exakt in dem gewünschten Winkel stehen, sondern etwas zueinander verkippt sind. Bei der Justierung der optischen Kompensation dieser Fehlausrichtung ("Tilt") kann es dazu kommen, daß die Pupille in der Ebene des
Transmissionsfilters senkrecht zur optischen Achse versetzt wird. Die Verfahrbarkeit des Transmissionsfilters in der Ebene senkrecht zur optischen Achse ermöglicht es nun, ei- ne solchen Versatz der Pupille zu folgen und damit zu verhindern, daß es zu einer Veränderung der Beleuchtungswinkelverteilung infolge der Verkippung der Module kommt.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung eines Ausführungsbei- spiels anhand der Zeichnung. Darin zeigen:
Figur 1 eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer erfindungsgemäßen Beleuchtungsvorrichtung in stark vereinfachter, schematischer Darstellung;
Figur 2 eine Draufsicht auf ein in die Beleuchtungseinrichtung aus Figur 1 eingebautes Transmissionsfilter;
Figur 3a das Transmissionsfilter aus Figur 2 in einer ersten Drehstellung;
Figur 3b die sich hinter dem Transmissionsfilter in der in Figur 3a gezeigten ersten Drehstellung ergebende Intensitätsverteilung im Lichtstrahlquerschnitt;
Figur 4a einen Querschnitt durch einen in die Beleuchtungseinrichtung eingebauten Stabhomogenisierer;
Figur 4b eine Intensitätsverteilung im Lichtstrahlquerschnitt, die sich bei der in Figur 3a gezeigten ersten Drehstellung des Transmissionsfilters nach Durchgang durch den Stabhomogenisierer in einer Pupillenebene ergibt;
Figur 5a das Transmissionsfilter aus Figur 2 in einer zweiten Drehstellung;
Figur 5b die sich hinter dem Transmissionsfilter in der in Figur 5a gezeigten zweiten Drehstellung ergebende Intensitätsverteilung;
Figur 6a der in Figur 4a bereits gezeigte Querschnitt durch den einen in die Beleuchtungseinrichtung eingebauten Stabhomogenisierer;
Figur βb eine Intensitätsverteilung im Lichtstrahlquerschnitt, die sich bei der in Figur 5a gezeigten zweiten Drehstellung des Transmissionsfilters nach Durchgang durch den Stabhomogenisierer in einer Pupillenebene ergibt.
Figur 1 zeigt einen Schnitt durch eine insgesamt mit 10 bezeichnete Pro ektionsbelichtungsanlage in stark vereinfachter, nicht maßstäblicher Darstellung. Die Projektionsbelichtungsanlage 10 weist eine noch näher zu beschreibende Beleuchtungseinrichtung 12 auf, die mehrere Module umfaßt und der Erzeugung eines hier nur am Ausgang der Beleuchtungseinrichtung 12 angedeuteten Projektionslichtbündels 14 dient. Zwischen der Beleuchtungseinrichtung 12 und einem Projektionsobjektiv 16 der Projektionsbelichtungsanlage 10 ist ein Retikel 18 in einer Objektebene 20 des Projektionsobjektivs 16 verfahrbar angeordnet.
Das Projektionsobjektiv 16 dient dazu, auf dem Retikel 18 enthaltene und von dem Projektionslichtbündel 14 durchtre- tene Strukturen verkleinert in eine Bildebene 22 des Projektionsob ektivs 16 abzubilden. In der Bildebene 22 befindet sich eine auf einem Wafer 24 aufgebrachte lichtempfindliche Oberfläche 26, bei der es sich z.B. um einen Photolack handeln kann.
Die Beleuchtungseinrichtung 12 umfaßt neben einer als Laser ausgeführten Lichtquelle 16 ein erstes Modul 28 mit einer mit 30 angedeuteten Zoom-Optik, einem in einer Pupillenebene 31 des Moduls 28 liegenden und noch näher zu beschreibenden Transmissionsfilter 32 sowie einer Einkoppeloptik 34. Über einen Umlenkspiegel 36 gelangt das Projektionslicht in ein zweites Modul 38, das u.a. einen aus Glas bestehenden Stabhomogenisierer 40 mit quadratischem Querschnitt, einen weiteren Umlenkspiegel 42 und eine in Figur 1 lediglich angedeutete Abbildungsoptik 45 enthält.
Das in Figur 2 vergrößert und in Draufsicht dargestellte Transmissionsfilter 32 weist ein scheibenförmiges Filterelement 46 auf, das um eine Mittelachse 48 drehbar in einem Halter 50 aufgenommen ist. Die dem Projektionslichtbündel 14 aussetzbare Filterfläche 52 des Filterelements 46 ist in vier punktsymmetrisch zu der Mittelachse 48 angeordnete
Quadranten 541, 542, 543 und 544 unterteilt, von denen je- weils zwei sich bezüglich der optischen Achse 48 gegenüberliegende Quadranten 541, 543 bzw. 542, 544 ein Paar mit jeweils gleichem Transmissionsgrad bilden. Bei dem in Figur 2 dargestellten Ausführungsbeispiel hat das Quadrantenpaar 541, 543 einen Transmissionsgrad von annähernd 100%. Das andere Quadrantenpaar 542, 544 hat einen Transmissionsgrad von 90%, was in der Zeichnung durch eine leichte Schwärzung angedeutet ist.
Zum Drehen des Filterelements 46 um die Mittelachse 48 ist ein Elektromotor 56 vorgesehen, siehe Figur 1. Mit 58 angedeutet ist dort ferner ein X-Y-Manipulator, mit dem sich der Halter 50 zusammen mit dem Elektromotor 56 in einer Ebene senkrecht zu der optischen Achse 60 der Beleuchtungseinrichtung 12 verfahren läßt. In Figur 1 ist die Drehbar- keit des Filterelements mit einem Drehpfeil 62 und die Verfahrbarkeit in X- und Y-Richtung mit Pfeilen 64 bzw. 66 angedeutet.
Die Beleuchtungseinrichtung 12 funktioniert wie folgt:
Der von der Lichtquelle 16 erzeugte Lichtstrahl wird von der Zoom-Optik 30 zu einem Projektionslichtbündel mit größerem Bündelquerschnitt aufgeweitet. Es sei nun zunächst angenommen, daß das Projektionslichtbündel nach dem Durchtritt durch die Zoom-Optik 30 eine rotationssymmetrische Beleuchtungswinkelverteilung hat und sich das Filterelement 46 in einer ersten Drehstellung befindet, wie sie in Figur 3a dargestellt ist. In dieser Drehstellung sind die Qua- dranten 541, 542, 543, 544 der Filterfläche 52 des Filterelements 46 an den Kanten des im Querschnitt quadratischen Stabhomogenislerers 40 ausgerichtet, so daß sie parallel zu dessen seitlichen Begrenzungsflächen verlaufen, sofern man die Umlenkung durch den Umlenkspiegel 36 außer Betracht läßt. Wenn das Projektionslichtbündel nun durch die unterschiedlich transmissiven Quadranten 541, 542, 543, 544 der Filterfläche 52 tritt, ergibt sich unmittelbar hinter dem Filterelement 46 die in Figur 3b gezeigte Intensitätsver- teilung im Lichtstrahlquerschnitt, die dem Verlauf des Transmissionsgrades über die Filterfläche 52 entspricht.
Diese Veränderung der Intensitätsverteilung aufgrund des Transmissionsfilters 32 führt in nachfolgenden Feldebenen zu einer entsprechenden Änderung der Beleuchtungswinkelver- teilung, da das Transmissionfilter 32 mit dem Filterelement 46 in einer Pupillenebene 31 der Beleuchtungseinrichtung 12 angeordnet ist. Das Projektionslichtbündel gelangt dann nach Durchtritt durch die Einkoppeloptik 34 und Spiegelung an dem Umlenkspiegel 36 auf eine Eintrittsfläche 68 des Stabhomogenislerers 40, dessen quadratischer Querschnitt in Figur 4a gezeigt ist. In dem Stabhomogenisierer 40 wird das Projektionslichtbündel durch mehrfache Totalreflexion an den Grenzflächen des Stabes homogenisiert, so daß das Projektionslichtbündel eine über die Austrittsfläche 70 des Stabhomogenislerers 40 homogene Intensitätsverteilung aufweist. Der Stabhomogenisierer verändert jedoch aufgrund seiner vierzähligen Symmetrie die Beleuchtungswinkelverteilung des Projektionslichtbündels. Wie sich durch numerische Berechnungen zeigen läßt, kommt es dabei zu einer Art Verwürfe- lung der Strahlrichtungen, wodurch sich an der Austrittsfläche 70 des Stabhomogenislerers 40 zwar eine homogene Intensitätsverteilung, jedoch eine nichthomogene Beleuchtungswinkelverteilung ergibt. Figur 4b zeigt in vereinfachter Darstellung eine Intensitätsverteilung in einer Pupil- lenebene hinter dem Stabhomogenisierer 40, die charakteristisch für die Beleuchtungswinkelverteilung bei der in Figur 3a dargestellten Position des Transmissionsfilters 32 ist. Darin ist erkennbar, daß die Beleuchtungswinkelverteilung zwar aufgrund der angesprochenen Verwürfelung der Strahlrichtungen nicht vollständig homogen, aber rotations- symmetrisch ist.
Dies bedeutet, daß in der ersten, in Figur 3a gezeigten Drehstellung des Transmissionsfilters 32 das Gesamtsystem aus Transmissionsfilter 32 und Stabhomogenisierer 40 keinen Einfluß auf die Rotationssymmetrie der Beleuchtungswinkelverteilung hat. In dieser Drehstellung läßt sich somit die durch die übrigen optischen Komponenten hervorgerufene Beleuchtungswinkelverteilung ausmessen, ohne daß das Transmissionsfilter 32, das die Beleuchtungswinkelverteilung normalerweise beeinflußt, hierzu ausgebaut werden müßte.
Die homogen und hinsichtlich der Beleuchtungswinkelverteilung rotationssymmetrisch ausgeleuchtete Austrittsfläche 70 des Stabhomogenislerers 40 liegt in einer Feldebene der Be- leuchtungseinrichtung 12 und wird von einer nachfolgenden Abbildungsoptik 45 über den Umlenkspiegel 42 auf das Retikel 18 abgebildet. Auf diese Weise wird das Retikel 18 gleichmäßig und mit einer rotationssymmetrischen Beleuchtungswinkelverteilung beleuchtet .
Die in Figur 5a gezeigte zweite Drehstellung des Transmissionsfilters 32 geht aus der in Figur 3a gezeigten ersten Drehstellung durch Drehung um die Mittelachse 48 um 45° im Uhrzeigersinn hervor. Fällt Projektionslicht mit einer rotationssymmetrischen Beleuchtungswinkelverteilung auf das sich in dieser zweiten Drehstellung befindende Transmissionsfilter 32, so ergibt sich unmittelbar hinter dem Transmissionsfilter 32 die in Figur 5b gezeigte Intensitätsver- teilung.
Die in dem nachfolgenden Stabhomogenisierer 40 sich einstellende Verwürfelung der Strahlrichtungen führt bei dieser Drehstellung des Transmissionsfilters 32 nun allerdings dazu, daß die Beleuchtungswinkelverteilung an der Aus- trittsfläche 70 des Stabhomogenisierer 40 nicht mehr rotationssymmetrisch ist. Die in einer Pupillenebene hinter dem Stabhomogenisierer 40 meßbare Intensitätsverteilung ist in Figur 6b gezeigt. Aus dieser ist erkennbar, daß die Beleuchtungswinkelverteilung jetzt nicht mehr rotationssymme- trisch ist, sondern eine zweizählige Symmetrie aufweist, wie sie auch das Transmissionsfilter 32 hat. Eine nicht rotationssymmetrische Gesamtwirkung auf die Beleuchtungswinkelverteilung ergibt sich auch für Drehstellungen des Tranmissionsfilters 32, die sich durch Verdrehung um andere Winkel mit 0 < α < ±45° gegenüber der in Figur 3a gezeigten Drehstellung ergeben.
Diese Drehstellungen sind daher geeignet, eine gezielte zweizählige Symmetrie (Elliptizität) der Beleuchtungswinkelverteilung einzustellen, falls dies im Einzelfall erforderlich ist. Vor allem jedoch lassen sich damit auch Be- leuchtungswinkelverteilungen symmetrisieren, die ansonsten aufgrund der Wirkung anderer optischer Elemente in der Beleuchtungseinrichtung 12 asymmetrisch wären.
Falls das erste Modul 28 und das zweite Modul 38 nicht exakt in dem gewünschten Winkel zueinander stehen, so kann zur Kompensation dieser Fehlausrichtung die Lichtquelle 16 gegenüber dem ersten Modul 28 etwas verkippt werden. Dies führt allerdings dazu, daß die Pupille des Projektionslichtbündels in der Ebene 31 des Transmissionsfilters 32 senkrecht zur optischen Achse versetzt wird. Das Projekti- onslichtbündel durchsetzt dann das Filterelement 46 nicht mehr zentral, sondern ebenfalls mit einem Versatz, so daß auch bei der in Figur 3a gezeigten Drehstellung des Filterelements 46 die Beleuchtungswinkelverteilung in nachfolgenden Feldebenen nicht rotationssymmetrisch wäre.
Um dem abzuhelfen, wird der Halter 50 mit Hilfe des X-Y-
Manipulators 58 so positioniert, daß die Mittelachse 48 des Filterelements 46 gegenüber der zu der optischen Achse versetzten Pupille des Projektionslichtbündels zentriert wird. Bei optimaler Justage mit Hilfe des X-Y-Manipulators 58 durchsetzt das Projektionslichtbündel das Filterelement zentral, wodurch sichergestellt wird, daß bei der in Figur 3a gezeigten Drehstellung des Filterelements 46 die Beleuchtungswinkelverteilung in nachfolgenden Feldebenen rotationssymmetrisch ist.

Claims

Patentansprüche
1. Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage (10) , mit einer Licht- quelle (16) zur Erzeugung von Projektionslicht (14) , mit einem Stabhomogenisierer (40) zur Erzeugung einer homogenen Intensitätsverteilung des Projektionslichts (14) an einer Austrittsfläche (70) des Stabhomogenislerers (40) und mit einem Transmissionsfilter (32) , mit dem sich die Beleucht- ungswinkelverteilung des aus dem Stabhomogenisierer (40) austretenden Projektionslichts (14) verändern läßt und das genau ein Filterelement (46) umfaßt, das in einer Pupillenebene (31) zwischen der Lichtquelle (16) und dem Stabhomogenisierer (40) um die optische Achse (60) drehbar an- geordnet ist,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Stabhomogenisierer (40) einen rechteckigen Querschnitt hat, und daß die Verteilung des Transmissionsgrades über eine Filterfläche (52) des Filterelements (46) eine zweizählige Rotationssymmetrie hat und derart festgelegt ist, daß in einer ersten Drehstellung des Filterelements (46) die Beleuchtungswinkelverteilung auf das Transmissionsfil- ter einfallenden Projektionslichts (14) nach Durchgang durch das Transmissionsfilter (32) und den Stabhomogenisierer (40) im wesentlichen unverändert bleibt, und daß in einer zweiten Drehstellung des Filterelements (46) die Be- - 11
leuchtungswinkelverteilung des auf das Transmissionsfilter (32) einfallenden Projektionslichts (14) nach Durchgang durch das Transmissionsfilter (32) und den Stabhomogenisierer (40) verändert ist.
2. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die gesamte Filterfläche (52) des Filterelements (46) in vier punktsymmetrisch zu der optischen Achse (60) angeordnete Quadranten (541, 542, 543, 544) unterteilt ist, von denen jeweils zwei sich bezüglich der optischen Achse (60) gegenüberliegende Quadranten (541, 543; 542, 544) ein Paar mit gleichem azimutalen Transmissionsverlauf bilden, wobei die- azimutalen Transmissionsverläufe der beiden Paare (541, 543; 542, 544) sich unterscheiden.
3. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch einen stufenförmigen azimutalen Transmissionsverlauf des Filterelements (46) .
4. Beleuchtungseinrichtung nach den Ansprüchen 2 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß das eine Paar (541, 543) einen konstanten Transmissionsgrad von im wesentlichen 100% und das andere Paar (542, 544) einen konstanten Transmissionsgrad zwischen 0% und 99%, vorzugsweise zwischen 80% und 95%, hat.
5. Beleuchtungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Transmissi- onsfilter (32) in den Richtungen (X, Y) senkrecht zur optischen Achse (60) verfahrbar angeordnet ist.
6. Beleuchtungseinrichtung nach Anspruch 4, gekennzeichnet durch einen Manipulator (58) zum Verfahren des Transmissionsfilters (32) .
7. Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage mit einer Beleuchtungseinrichtung (12) nach einem der vorhergehenden Ansprüche .
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