WO2005114663A1

WO2005114663A1 - 光記録媒体製造用シート

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Publication number: WO2005114663A1
Application number: PCT/JP2005/005132
Authority: WO
Inventors: Shin Kubota; Sou Miyata; Hideaki Yoshimura
Original assignee: Lintec Corp; Sony Disc Technology Inc
Current assignee: Sony Music Solutions Inc; Lintec Corp
Priority date: 2004-05-21
Filing date: 2005-03-22
Publication date: 2005-12-01
Anticipated expiration: 2006-11-21
Also published as: EP1752980A4; US20080053618A1; CN101006502A; KR20070053661A; TW200601326A; JP2005332522A; EP1752980A1

Abstract

　スタンパーＳの凹凸が転写され得るエネルギー線硬化性のスタンパー受容層１１と、剥離シート１２，１２’とからなる光ディスク製造用シート１であって、反射層３に対するスタンパー受容層１１の硬化後の接着力は、スタンパーＳに対するスタンパー受容層１１の硬化後の接着力よりも大きく、両接着力の差は５０ｍＮ／２５ｍｍ以上である。かかる光記録媒体製造用シート１によれば、硬化したスタンパー受容層１１とスタンパーＳとを分離するときに、スタンパー受容層１１と反射層３とが剥離しない。

Description

明細書

光記録媒体製造用シート

技術分野

[0001] 本発明は、光記録媒体製造用シートに関するものであり、特に、スタンパーの凹凸パターンが転写され、ピットまたはグノレーブ/ランドが構成されるスタンパー受容層を備えた光記録媒体製造用シートに関するものである。

背景技術

[0002] 近年、加圧により変形し易く光硬化性を有する転写シートを使用して光ディスクを製造する方法が提案されている（特許文献 1)。この光ディスク製造方法では、最初に、表面に記録ピットとしての凹凸を有する基板の該凹凸表面の反射層上に転写シートを積層し、記録ピットとしての凹凸を有するスタンパーを転写シートの表面に押圧する。次いで、その状態で紫外線を照射して転写シートを硬化させてからスタンパーを除去し、転写シートの表面に記録ピット等の凹凸を設ける。そして、その凹凸上に反射層（半透過反射層）を設け、さらにその上に接着剤層を介して有機ポリマーフィルムを貼付する。

特許文献 1：特開 2003 - 272244号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0003] 上記光硬化性の転写シートは、紫外線の照射により硬化して接着力が低下するため、硬化した転写シートからスタンパーを分離することが可能となる力同時に反射層に対する接着力も低下するため、スタンパーを分離するときに、硬化した転写シート力 Sスタンパーに引っ張られ、転写シートが反射層から剥がれてしまうことがあった。

[0004] 本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、硬化したスタンパー受容層とスタンパーとを分離するときに、スタンパー受容層と当該スタンパー受容層に隣接する層とが剥離しないような光記録媒体製造用シートを提供することを目的とする。課題を解決するための手段

[0005] 上記目的を達成するために、本発明は、スタンパーの凹凸が転写され得るエネルギ一線硬化性のスタンパー受容層を備えた光記録媒体製造用シートであって、スタンパー圧着時に前記スタンパー受容層が隣接する層に対する前記スタンパー受容層の硬化後の接着力は、スタンパーに対する前記スタンパー受容層の硬化後の接着力よりも大きぐ両接着力の差は 50mNZ25mm以上であることを特徴とする光記録媒体製造用シートを提供する (発明 1)。

[0006] 本明細書における「光記録媒体」とは、光学的に情報を記録'再生することのできる媒体をいい、主として再生専用型、追記型または書換え型のディスク状の媒体 (例えば、 CD、 CD-ROM, CD-R, CD-RW, DVD、 DVD-ROM, DVD-R, DVD_ RW、 DVD-RAM, LD、 Blu-ray Disc, M〇等；レ、わゆる光ディスク（光磁気ディスクを含む））が該当する力必ずしもこれらに限定されるものではない。

[0007] 「スタンパー圧着時にスタンパー受容層が隣接する層」（以下「スタンパー受容層隣接層」という場合がある。）とは、スタンパー受容層においてスタンパーが圧着される面とは反対側の面に隣接する層であって、通常は反射層が該当するが、必ずしもこれに限定されるものではなレ、。なお、反射層は、単層膜であってもよいし多層膜であつてもよレ、。また、「接着力」は、接着面のいずれ力 1点における接着力をレ、うのではなぐ接着面全体における接着力の平均値をいうものとする。

[0008] 上記発明（発明 1)によれば、硬化後のスタンパー受容層のスタンパー受容層隣接層に対する接着力力スタンパーに対する接着力よりも 50mN/25mm以上大きいため、硬化したスタンパー受容層とスタンパーとを分離するときに、スタンパー受容層とスタンパー受容層隣接層とが剥離してしまうことが防止される。

[0009] 上記発明（発明 1)においては、スタンパーに対する前記スタンパー受容層の硬化後の接着力が、スタンパー圧着時に前記スタンパー受容層が積層された積層体におけるいずれの層間接着力よりも小さいことが好ましい (発明 2)。

[0010] 上記発明（発明 2)によれば、積層体におけるスタンパー受容層と反対側の層に外力を与えることによりスタンパー受容層とスタンパーとを分離したとしても、スタンパー受容層とスタンパー受容層隣接層との間だけでなぐ積層体の層間で剥離が生じることが防止される。

[0011] 上記発明（発明 1 , 2)において、スタンパー圧着時に前記スタンパー受容層が隣接する層が銀または銀合金からなる場合には、銀または銀合金に対する前記スタンパ一受容層の硬化後の接着力は 200mN/25mm以上であることが好ましい（発明 3)

[0012] また、上記発明（発明 1一 3)において、スタンパーがニッケルからなる場合には、二ッケルに対する前記スタンパー受容層の硬化後の接着力は 150mN/25mm以下であることが好ましレ、（発明 4)。ここで、「ニッケルからなるスタンパー」とは、ニッケノレの含有量が 70重量％以上の金属からなる転写面（凹凸面）を有するスタンパーを意味するものとする。

[0013] 上記発明（発明 1一 4)において、前記スタンパー受容層は、側鎖にエネルギー線硬化性基およびカルボキシル基を有するアクリル酸エステル共重合体を構成成分とすることが好ましい（発明 5)。このようなアクリル酸エステル共重合体は、スタンパー受容層として好ましレ、性質を有しており、スタンパーの凹凸パターンを精密に転写することが可能であるとともに、硬化後にスタンパーから剥離してもスタンパーへの付着物がほとんどなレ、。また、力かるアクリル酸エステル共重合体は、側鎖にカルボキシル基を有することにより、ニッケノレに対する接着力よりも銀または銀合金に対する接着力を大きく向上させることができる。

[0014] 上記発明（発明 5)においては、前記アクリル酸エステル共重合体中に存在する力ルポキシル基の量がモノマー換算で 5— 30mol%であることが好ましい（発明 6)。このようなアクリル酸エステル共重合体は、ニッケルに対する接着力よりも銀または銀合金に対する接着力を著しく向上させることができる。

発明の効果

[0015] 本発明の光記録媒体製造用シートによれば、硬化したスタンパー受容層とスタンパ一とを分離するときに、スタンパー受容層と当該スタンパー受容層に隣接する層とが剥離することを防止することができ、したがって、光記録媒体の製造歩留りを向上させること力 Sできる。

図面の簡単な説明

[0016] [図 1]本発明の一実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図である。

[図 2]同実施形態に係る光ディスク製造用シートを使用した光ディスク製造方法の一例を示す断面図である。

符号の説明

[0017] 1…光ディスク製造用シート (光記録媒体製造用シート）

11…スタンパー受容層

12, 12'…剥離シート

2…光ディスク基板

3…反射層

3'…半透過反射層

4…接着剤

5…カバーシート

発明を実施するための最良の形態

[0018] 以下、本発明の実施形態について説明する。

図 1は本発明の一実施形態に係る光ディスク製造用シートの断面図であり、図 2 (a) 一 (f)は同実施形態に係る光ディスク製造用シートを用いた光ディスクの製造方法の一例を示す断面図である。

[0019] 図 1に示すように、本実施形態に係る光ディスク製造用シート 1は、スタンパー受容層 11と、スタンパー受容層 11の一方の面に積層された剥離シート 12と、スタンパー受容層 11の他方の面に積層された剥離シート 12'とからなる。ただし、剥離シート 12

, 12'は、光ディスク製造用シート 1の使用時に剥離されるものである。

[0020] スタンパー受容層 11は、スタンパーに形成されている凹凸パターンが転写され、ピットまたはグノレーブ/ランドが構成される層であり、エネルギー線硬化性を有する。

[0021] 後述する光ディスク Dの反射層 3に対するスタンパー受容層 11の硬化後の接着力は、スタンパー Sに対するスタンパー受容層 11の硬化後の接着力よりも大きいことが必要であり、両接着力の差は 50mN/25mm以上、好ましくは 100mN/25mm以上である。

[0022] このように両接着力に差があることにより、硬化したスタンパー受容層 11とスタンパ一 Sとを分離するときに、スタンパー受容層 11がスタンパー Sに引っ張られてスタンパ一受容層 11と反射層 3とが剥離してしまうことが防止される。 [0023] また、スタンパー受容層 11のスタンパー Sに対する硬化後の接着力は、スタンパー受容層 11が積層された積層体におけるいずれの層間接着力よりも小さいことが好ましい。これにより、積層体におけるスタンパー受容層 11と反対側の層（後述の例では光ディスク基板 2)に外力を与えて積層体とスタンパー Sとを分離した場合であっても、スタンパー受容層 11と反射層 3との間だけでなぐ積層体の層間で剥離が生じることが防止される。

[0024] なお、反射層 3は、単層膜であってもよいし、例えば反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜等からなる多層膜であってもよい。また、積層体は、後述の例のように、光ディスク基板 2と反射層 3とからなるものであってもよいし、光ディスク基板 2上に、反射層 3と凹凸パターンが転写されたスタンパー受容層 11とからなる記録層が 2層以上積層され、最上部の凹凸パターンが転写されたスタンパー受容層 11上に反射層 3が形成されたものであってもよい。したがって、上記層間接着力には、光ディスク基板 2と反射層 3との間の接着力だけでなぐ多層膜としての反射層 3内における反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜等の各層間 (膜間）の接着力、上記記録層相互間の接着力、ならびに上記記録層内における反射層 3と凹凸パターンが転写されたスタンパー受容層 11との間の接着力も含まれる。

[0025] ここで、反射層 3が銀または銀合金からなる場合には、スタンパー受容層 11の銀または銀合金に対する硬化後の接着力は 200mN/25mm以上、特に 300mN/25 mm以上であることが好ましい。銀合金としては、 Ag_Pd— Cu、 Ag_Nd— Cu等が挙げられる。

[0026] また、スタンパーがニッケルからなる場合には、スタンパー受容層 11のニッケルに対する硬化後の接着力は 150mN/25mm以下、特に 140mN/25mm以下であることが好ましい。

[0027] 一方、スタンパー受容層 11の硬化前の貯蔵弾性率は 1 X 10³— 1 X 10⁶Paであるのが好ましぐ 1 X 10⁴ 5 X 10⁵Paであるのが特に好ましレ、。ここで、「硬化前の貯蔵弾性率」の測定温度は、スタンパーと光ディスク製造用シート 1とを重ね合わせる（圧着する）作業環境と同じ温度であるものとする。すなわち、スタンパーと光ディスク製造用シート 1とを室温で重ね合わせる場合、貯蔵弾性率は、室温下で測定したものであり、スタンパーと光ディスク製造用シート 1とを加熱下で重ね合わせる場合、貯蔵弾性率は、加熱温度と同じ温度で測定したものである。

[0028] スタンパー受容層 11の硬化前の貯蔵弾性率が上記のような範囲にあると、スタンパ一をスタンパー受容層 11に圧着するだけで、スタンパーに形成されている凹凸バターンカ Sスタンパー受容層 11に精密に転写され、光ディスクの製造が極めて簡単になる。

[0029] また、スタンパー受容層 11の硬化後の貯蔵弾性率は、 1 X 10⁷Pa以上であるのが好ましぐ特に、 1 X 10⁸— 1 X lO^Paであるのが好ましい。ここで、「硬化後の貯蔵弾性率」の測定温度は、光ディスクの保管環境と同じ温度、すなわち室温であるものとする。

[0030] スタンパー受容層 11の硬化後の貯蔵弾性率が上記のような範囲にあると、スタンパ一受容層 11に転写されたピットゃグノレーブ/ランドが硬化によって確実に固定され、スタンパーとスタンパー受容層 11とを分離する際に、ピットゃグノレーブ/ランドが破壊されたり、変形したりするおそれがなくなる。

[0031] スタンパー受容層 11を構成する材料としては、エネルギー線硬化性を有するポリマ一成分を主成分とするものが好ましいが、その他に、エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分とエネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマーとの混合物を主成分とするものであってもよい。

[0032] スタンパー受容層 11が、エネルギー線硬化性を有するポリマー成分を主成分とする場合について、以下説明する。

[0033] スタンパー受容層 11を構成するエネルギー線硬化性を有するポリマー成分は、側鎖にエネルギー線硬化性基およびカルボキシノレ基を有するアクリル酸エステル共重合体であるのが好ましい。また、このアクリル酸エステル共重合体は、官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体 (al)と、その官能基に結合する置換基を有する不飽和基含有化合物（a2)とを反応させて得られる、側鎖にエネルギー線硬化性基およびカルボキシル基を有する重量平均分子量（Mw) 10万以上のエネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体 (A)であるのが好ましレ、。

[0034] 上記エネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体 (A)におけるエネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率は、 0. 1一 50mol%であるのが好ましぐ特に 3— 30m ol%であるのが好ましレ、。エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率が 0. lmol%未満であると、所望のエネルギー線硬化性が得られず、エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率が 50mol%を超えると、スタンパー受容層 1 1の硬化時の体積収縮率が大きくなるおそれがある。

[0035] なお、エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率は、次の式によって算出される。

エネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率 = (エネルギー線硬化性基のモル数 z アクリル系共重合体を構成するモノマーの総モル数） X 100

[0036] アクリル系共重合体（al)は、官能基含有モノマーから導かれる構成単位と、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位とからなる。ここで、本明細書における（メタ）アクリル酸エステルモノマーとは、アクリル酸エステルモノマーおよび zまたはメタクリル酸エステルモノマーを意味するものとする。

[0037] アクリル系共重合体（al)が有する官能基含有モノマーは、重合性の二重結合と、カルボキシル基、ヒドロキシノレ基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基とを分子内に有するモノマーであり、好ましくはカルボキシル基含有不飽和化合物が用いられる。

[0038] カルボキシル基含有不飽和化合物の具体的な例としては、アクリル酸、メタクリル酸、ィタコン酸等が挙げられ、これらは単独でまたは 2種以上を組み合わせて用いられる。

[0039] アクリル系共重合体（al)を構成する（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、シクロアルキル (メタ）アタリレート、ベンジル (メタ）アタリレート、アルキル基の炭素数が 1 一 18であるアルキル (メタ）アタリレートが用いられる。これらの中でも、特に好ましくはアルキル基の炭素数が 1一 18であるアルキル (メタ）アタリレート、例えばメチル (メタ）アタリレート、ェチル (メタ）アタリレート、プロピル (メタ）アタリレート、 n_ブチル (メタ）ァタリレート、 2_ェチルへキシル (メタ）アタリレート等が用いられる。

[0040] アクリル系共重合体（al)は、上記官能基含有モノマーから導かれる構成単位を通常 3— 100重量％、好ましくは 5— 40重量％、特に好ましくは 10 30重量％の割合で含有し、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位を通常 0— 97重量％、好ましくは 60— 95重量％、特に好ましくは 70— 90重量％の割合で含有してなる。

[0041] アクリル系共重合体（al)は、上記のような官能基含有モノマーと、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体とを常法で共重合することにより得られる力これらモノマーの他にも少量 (例えば 10重量％以下、好ましくは 5重量％以下）の割合で、ジメチノレアクリノレアミド、蟻酸ビュル、酢酸ビュル、スチレン等が共重合されてもよい

[0042] 上記アクリル系共重合体（al)と反応させる不飽和基含有化合物（a2)が有する置換基は、アクリル系共重合体（al)が有する官能基含有モノマー単位の官能基の種類に応じて、適宜選択することができる。例えば、官能基がカルボキシル基の場合、置換基としてはイソシアナ一ト基、アジリジニル基、エポキシ基またはォキサゾリン基が好ましい。このような置換基は、不飽和基含有化合物（a2) l分子毎に一つずつ含まれている。

[0043] また不飽和基含有化合物（a2)には、エネルギー線重合性の炭素 -炭素二重結合力 1分子毎に 1一 5個、好ましくは 1一 2個含まれている。このような不飽和基含有化合物（a2)の具体例としては、例えば、 2—メタクリロイルォキシェチルイソシアナート、メタ一イソプロぺニルー , —ジメチルベンジルイソシアナート、メタクリロイルイソシァナート、ァリルイソシアナ一ト；ジイソシアナ一トイヒ合物またはポリイソシアナ一トイ匕合物と、ヒドロキシェチル (メタ）アタリレートとの反応により得られるアタリロイルモノイソシアナ一トイヒ合物；ジイソシアナ一トイヒ合物またはポリイソシアナ一トイ匕合物と、ポリオ一ル化合物と、ヒドロキシェチル (メタ）アタリレートとの反応により得られるアタリロイルモノイソシアナ一トイ匕合物；グリシジル (メタ）アタリレート；（メタ）アクリル酸、 2_ (1_アジリジニル）ェチル（メタ）アタリレート、 2_ビュル— 2—ォキサゾリン、 2_イソプロぺニル _2 ーォキサゾリン等が挙げられる。

[0044] 不飽和基含有化合物（a2)は、上記アクリル系共重合体（al)の官能基含有モノマ一 100当量当たり、通常 10 100当量、好ましくは 20 95当量、特に好ましくは 25 一 90当量の割合で用レ、られる。

[0045] アクリル系共重合体（al)と不飽和基含有化合物（a2)との反応においては、官能基と置換基との組合せに応じて、反応の温度、圧力、溶媒、時間、触媒の有無、触媒の種類を適宜選択することができる。これにより、アクリル系共重合体（al)中の側鎖に存在する官能基と、不飽和基含有化合物（a2)中の置換基とが反応し、不飽和基がアクリル系共重合体（al)中の側鎖に導入され、エネルギー線硬化型アクリル酸ェステル共重合体 (A)が得られる。この反応における官能基と置換基との反応率は、通常 70%以上、好ましくは 80%以上である力未反応のカルボキシル基がエネルギ一線硬化型アクリル酸エステル共重合体 (A)中に残留する必要がある。

[0046] エネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体 (A)中に存在（残留）するカルボキシル基の量は、モノマー換算で、好ましくは 5 30mol%であり、さらに好ましくは 1 0— 25mol%である。なお、アクリル系共重合体（al)の官能基含有モノマーが含有するカルボキシノレ基と不飽和基含有化合物（a2)とが反応する場合、

(カルボキシル基含有モノマーのモル数） _ (不飽和基含有化合物のモル数）に基づいて計算した値がカルボキシノレ基の存在量となる。

[0047] 上記のようにエネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体 (A)中にカルボキシル基が存在すると、反射層 3に対するスタンパー受容層 11の硬化後の接着力は著しく高くなる。特に、銀または銀合金からなる反射層 3に対するスタンパー受容層 11の硬化後の接着力は 200mN/25mm以上になり得る。一方、ニッケルからなるスタンパー Sに対するスタンパー受容層 11の硬化後の接着力は 150mN/25mm以下になり得る。

[0048] エネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体 (A)の重量平均分子量 (Mw)は、 10万以上であるのが好ましぐ特に 15万一 150万であるのが好ましぐさらに 20万一 100万であるのが好ましい。

[0049] ここで、エネルギー線として紫外線を用いる場合には、上記エネルギー線硬化型ァクリル酸エステル共重合体 (A)に光重合開始剤（B)を添加することにより、重合硬化時間および光線照射量を少なくすることができる。

[0050] このような光重合開始剤（B)としては、具体的には、ベンゾフヱノン、ァセトフヱノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインェチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、 2, 4—ジェチルチオキサンソン、 1ーヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、ベンジルジフエ二ルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、ァゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジァセチル、 j3—クロールアンスラキノン、（2， 4, 6_トリメチルベンジルジフエ二ノレ）フォスフインオキサイド、 2_ベンゾチアゾーノレ _N， N—ジェチルジチォカルバメート、オリゴ { 2 —ヒドロキシ _2_メチル _1_[4_ (1_プロぺニル）フエニル]プロパノン }などが挙げられる。光重合開始剤 (B)は、エネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体 (A) 1 00重量部に対して 0. 1 10重量部、特には 0. 5— 5重量部の範囲の量で用いられることが好ましい。

[0051] 上記スタンパー受容層 11においては、エネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体 (A)および光重合開始剤（B)に、適宜他の成分を配合してもよい。他の成分としては、例えば、エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分またはオリゴマー成分 (C)、エネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマー成分 (D)、架橋剤（ E)、その他の添加剤（F)が挙げられる。

[0052] エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分またはオリゴマー成分（C)としては、例えば、ポリアクリル酸エステル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリオレフイン等が挙げられ、重量平均分子量（Mw)が 3, 000— 250万のポリマーまたはオリゴマーが好ましい。

[0053] エネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマー成分 (D)としては、例えば、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アタリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ァタリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ（メタ）アタリレート、 1， 4_ブタンジオールジ (メタ）アタリレート、 1， 6—へキサンジオールジ（メタ）アタリレート、ポリエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、ポリエステルオリゴ（メタ）アタリレート、ポリウレタンオリゴ（メタ）アタリレート等が挙げられる。

[0054] 架橋剤（E)としては、エネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体 (A)等が有する官能基との反応性を有する多官能性化合物を用いることができる。このような多官能性化合物の例としては、イソシアナ一トイヒ合物、エポキシ化合物、ァミン化合物、メラミンィ匕合物、アジリジン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド化合物、ォキサゾリン化合物、金属アルコキシド化合物、金属キレート化合物、金属塩、アンモニゥム塩、反応性フエノール樹脂等を挙げることができる。

[0055] その他の添加剤（F)としては、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、充填剤、酸化防止剤、粘着付与剤、顔料、染料、カップリング剤等が挙げられる。

[0056] これらの他の成分をスタンパー受容層 11に配合することにより、硬化前における凹凸パターンの転写の容易性、硬化後の強度、保存安定性などを改善することができる場合がある。

[0057] 次に、スタンパー受容層 11が、エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分とエネルギ一線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマーとの混合物を主成分とする場合について、以下説明する。

[0058] このようなスタンパー受容層 11に用いられるポリマー成分としては、例えば、前述したアクリル系共重合体（al)と同様の成分が使用できる。また、エネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマーとしては、前述の成分 (D)と同じものが選択される。ポリマー成分とエネルギー線硬化性の多官能モノマーまたはオリゴマーとの配合比は、ポリマー成分 100重量部に対して、多官能モノマーまたはオリゴマー 10— 150 重量部であるのが好ましぐ特に 25— 100重量部であるのが好ましい。

[0059] 上記のように他の成分をスタンパー受容層 11に配合する場合、その配合量としては、例えば、エネルギー線硬化型アクリル酸エステル共重合体 (A) 100重量部に対して、他の成分の合計で 0— 50重量部であることが好ましぐ特に 0— 20重量部であることが好ましい。

[0060] 以上の材料から構成されるスタンパー受容層 11の厚みは、球面収差の減少およびフォーカスエラー信号の層間干渉を防ぐ目的で決定される力通常は 10 50 x m 程度であり、好ましくは 20— 30 z m程度である。

[0061] 上記のようなスタンパー受容層 11に積層される剥離シート 12， 12'としては、従来公知のものを使用することができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリプロピレンなどの樹脂フィルムをシリコーン系剥離剤等で剥離処理したものを使用することができる。 [0062] 剥離シート 12は、スタンパー受容層 11に平滑性を付与するために、剥離処理した側 (スタンパー受容層 11と接触する側）の表面粗さ（Ra)が 0· 1 μ m以下であるのが好ましレ、。また、录隹シート 12, 12'の厚さは、通常 10— 200 μ ΐη程度であり、好ましくは 20 100 μ m程度である。

[0063] なお、通常は、先に剥離する剥離シート（本実施形態では剥離シート 12' )を軽剥離タイプのものとし、後に剥離する剥離シート（本実施形態では剥離シート 12)を重剥離タイプのものとするのが好ましい。

[0064] 本実施形態に係る光ディスク製造用シート 1を製造するには、まず、スタンパー受容層 11を構成する材料と、所望によりさらに溶媒とを含有する塗布剤を調製する。そして、その塗布剤を剥離シート 12ほたは剥離シート 12' )の剥離処理面上に塗布してスタンパー受容層 11を形成した後、形成したスタンパー受容層 11の表面にもう 1枚の剥離シート 12'ほたは剥離シート 12)の剥離処理面を重ね合わせて、当該剥離シートをスタンパー受容層 11に積層する。塗布剤の塗工には、例えば、キスロールコーター、リバースローノレコーター、ナイフコーター、ローノレナイフコーター、ダイコーター等の塗工機を使用することができる。

[0065] 次に、上記光ディスク製造用シート 1を使用した光ディスク（片面 2層式)の製造方法の一例について説明する。

[0066] 最初に、図 2 (a)に示すように、ピットまたはグループ/ランドによる凹凸パターンを有する光ディスク基板 2を製造する。この光ディスク基板 2は、通常、ポリカーボネート力なり、射出成形等の成形法によって成形することができる。

[0067] 上記光ディスク基板 2の凹凸パターン上には、図 2 (b)に示すように、スパッタリング等の手段により反射層 3を形成する。反射層 3は、単層膜であってもよいし、例えば反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜等からなる多層膜であってもよいが、本実施形態では、銀合金、特に Ag— Nd— Cuからなる反射層 3を形成するものとする。

[0068] 次いで、光ディスク製造用シート 1の一方の剥離シート 12'を剥離除去してスタンパ一受容層 11を露出させ、図 2 (c)に示すように、スタンパー受容層 11を光ディスク基板 2上の反射層 3表面に圧着する。そして、スタンパー受容層 11から他方の剥離シート 12を剥離除去し、露出したスタンパー受容層 11に対して、図 2 (d)に示すようにスタンパー sを圧着し、スタンパー受容層 11にスタンパー Sの凹凸パターンを転写する。スタンパー受容層 11の室温における貯蔵弾性率が 1 X 10³— 1 X 10⁶Paである場合には、スタンパー Sの圧着は室温で行うことができる。

[0069] なお、図 2 (d)では、スタンパー Sをスタンパー受容層 11の上側力、ら当該スタンパー受容層 11に圧着してレ、る力 S、スタンパー Sの転写面を上向きにしてスタンパー Sを固定し、光ディスク製造用シート 1のスタンパー受容層 11をスタンパー Sの上側から当該スタンパー Sに圧着してもよレ、。

[0070] スタンパー Sは、通常、ニッケルまたはニッケル合金等の金属材料やノルボルネン樹脂等の透明樹脂材料から構成されるが、本実施形態では、ニッケルからなるスタンパー Sを使用するものとする。なお、図 2 (d)に示すスタンパー Sの形状は板状であるが、これに限定されるものではなぐロール状であってもよい。

[0071] この状態で、エネルギー線照射装置を使用して、光ディスク基板 2側からスタンパー受容層 11に対してエネルギー線を照射し、スタンパー受容層 11を硬化させる。

[0072] エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられる。エネルギー線の照射量は、エネルギー線の種類によって異なるが、例えば紫外線の場合には、光量で

100— 500mJん m²程度が好ましぐ電子線の場合には、 10— lOOOkrad程度が好ましい。

[0073] スタンパー受容層 11が硬化したら、スタンパー Sとスタンパー受容層 11とを分離する。ここで、反射層 3に対するスタンパー受容層 11の硬化後の接着力は、スタンパー Sに対するスタンパー受容層 11の硬化後の接着力よりも大きぐ両接着力の差は 50 mN/25mm以上であるため、スタンパー Sとスタンパー受容層 11とを分離するときに、スタンパー受容層 11と反射層 3とが剥離してしまうことが防止される。

[0074] 本実施形態では、反射層 3は銀合金からなり、スタンパー Sはニッケルからなるため、反射層 3に対するスタンパー受容層 11の硬化後の接着力が 200mNZ25mm以上、ニッケルに対するスタンパー受容層 11の硬化後の接着力が 150mN/25mm 以下であれば、上記のように両接着力の差は 50mN/25mm以上となり得る。

[0075] なお、スタンパー Sに対するスタンパー受容層 11の硬化後の接着力力光ディスク基板 2と反射層 3との層間接着力よりも小さい場合には、例えば、スタンパー Sの転写面を上向きにしてスタンパー Sを固定し、光ディスク基板 2を機械的に突き上げることにより、スタンパー受容層 11とスタンパー Sとを分離することができ、このようにしてスタンパ一受容層 11とスタンパー Sを分離しても、光ディスク基板 2と反射層 3との間で剥離が生じることが防止される。

[0076] 上記のようにしてスタンパー受容層 11にスタンパー Sの凹凸パターンが転写'固定され、ピットまたはグノレーブ Zランドが形成されたら、次に、図 2 (e)に示すように、スタンパー受容層 11の凹凸パターン上に、スパッタリング等の手段により半透過反射層 3 'を形成する。この半透過反射層 3 'は、単層膜であってもよいし、例えば半透過反射膜、誘電体膜、相変化膜および誘電体膜等からなる多層膜であってもよい。

[0077] ここで、スタンパー受容層 11を構成する材料にカルボキシノレ基が存在すると、スタンパー受容層 11と半透過反射層 3，との接着力が高くなり、得られる光ディスクの強度、耐久性等が向上する。

[0078] そして、図 2 (f)に示すように、上記半透過反射層 3'に接着剤 4を介して力パーシート 5を積層し、光ディスク Dとする。このカバーシート 5は、光ディスクの受光面やラベル面など、光ディスク Dの一部を構成するものであり、例えば、ポリカーボネート、ポリメチルメタタリレート、ポリスチレン等の樹脂かならなるシート（フィルム）が用いられる。接着剤 4としては、例えば、アクリル系紫外線硬化型接着剤等を用いることができる。

[0079] 以上の光ディスク製造方法では、上記光ディスク製造用シート 1を使用して片面 2層式の光ディスクを製造したが、これ限定されることなぐ例えば、上記光ディスク製造用シート 1を使用して片面 1層式の光ディスクを製造することもできる。

[0080] 以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであつて、本発明を限定するために記載されたものではなレ、。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。

[0081] 例えば、光ディスク製造用シート 1における剥離シート 12または剥離シート 12 'はなくてもよい。

実施例

[0082] 以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。

[0083] 〔実施例 1〕

n—ブチルアタリレート 80重量部とアクリル酸 20重量部とを酢酸ェチル /メチルェチルケトン混合溶媒 (重量比 50 : 50)中で反応させて、官能基にカルボキシル基を有するアクリル酸エステル共重合体溶液（固形分濃度 40重量％)を得た。さらに、このァクリル酸エステル共重合体溶液に、当該共重合体中のアクリル酸 100当量に対し 30当量になるように 2—メタクリロイルォキシェチルイソシアナートを添カ卩し、窒素雰囲気下、 40°Cで 48時間反応させて、側鎖にエネルギー線硬化性基およびカルボキシル基を有する重量平均分子量 (Mw) 85万のエネルギー線硬化型共重合体 Aを得た。このエネルギー線硬化型共重合体 Aにおけるエネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率は 7. 5mol%であり、エネルギー線硬化型共重合体 A中に存在するカルボキシル基の量は、モノマー換算で 20. 2mol%相当であった。

[0084] 得られたエネルギー線硬化型共重合体溶液 Aの固形分 100重量部に対して、光重合開始剤であるオリゴ { 2—ヒドロキシー 2—メチルー 1_[4_ (1一プロぺニル）フエニル ]プロパノン } (lamberti spa社製， ESACURE KIP 150) 6. 0重量部と、エネルギ一線硬化性の多官能モノマーおよびオリゴマーからなる組成物（日本化薬社製， KA YARAD NKR-001) 100重量部と、ポリイソシアナート化合物からなる架橋剤（東洋インキ製造社製，オリバイン BHS— 8515) 2. 8重量部とを溶解させて、固形分濃度を 42重量％に調整し、スタンパー受容層用の塗布剤（1)とした。

[0085] 一方、ポリエチレンテレフタレート（PET)フィルム（厚さ： 50 /i m)の片面に重剥離型のシリコーン樹脂で離型処理した重剥離型剥離シート（リンテック社製， SP— PET5 0C,剥離処理面の表面粗さ： Ra = 0. 016 x m)、および PETフィルム（厚さ： 38 z m )の片面に軽剥離型のシリコーン樹脂で離型処理した軽剥離型剥離シート（リンテツク社製， SP—PET38GS,剥離処理面の表面粗さ： Ra = 0. 023 μ m)の 2種類の录 lj 離シートを用意した。

[0086] 上記塗布剤（1)を、ナイフコーターによって重剥離型剥離シートの離型処理面に塗布して 90°Cで 1分間乾燥させ、厚さ 25 x mのスタンパー受容層を形成し、そのスタンパー受容層の表面に軽剥離型剥離シートの離型処理面側を貼り合わせ、光ディスク製造用シートとした。

[0087] 〔実施例 2〕

実施例 1で得られたエネルギー線硬化型共重合体溶液 Aの固形分 100重量部に対して、光重合開始剤であるオリゴ { 2—ヒドロキシー 2—メチルー 1一 [4一（1—プロぺニル )フエニル]プロパノン } (lamberti spa社製， ESACURE KIP 150) 6. 0重量部と、エネルギー線硬化性の 2官能性モノマー（ジメチロールトリシクロデカンジアタリレート )を含む組成物（共栄社ィ匕学社製,ライトアタリレート DCP— A) 100重量部と、ポリイソシアナ一トイ匕合物からなる架橋剤（東洋インキ製造社製，オリバイン BHS—8515) 2. 8重量部とを溶解させて、固形分濃度を 42重量％に調整し、スタンパー受容層用の塗布剤（2)とした。

[0088] 得られたスタンパー受容層用の塗布剤（2)を使用して、実施例 1と同様にして光デイスク製造用シートを作製した。

[0089] 〔実施例 3〕

n-ブチルアタリレート 80重量部とメチルメタタリレート 10重量部とアクリル酸 10重量部とを酢酸ェチル /メチルェチルケトン混合溶媒（重量比 50 : 50)中で反応させて、官能基にカルボキシル基を有するアクリル酸エステル共重合体溶液（固形分濃度 40 重量％)を得た。さらに、このアクリル酸エステル共重合体溶液に、当該共重合体中のアクリル酸 100当量に対し 30当量になるように 2-メタクリロイルォキシェチルイソシアナートを添加し、窒素雰囲気下、 40°Cで 48時間反応させて、側鎖にエネルギー線硬化性基およびカルボキシル基を有する重量平均分子量（Mw) 80万のエネルギー線硬化型共重合体 Bを得た。このエネルギー線硬化型共重合体 Bにおけるエネルギ一線硬化性基の平均側鎖導入率は 3. 74mol%であり、エネルギー線硬化型共重合体 B中に存在するカルボキシル基の量は、モノマー換算で 10. lmol%相当であつた。

[0090] 得られたエネルギー線硬化型共重合体溶液 Bの固形分 100重量部に対して、光重合開始剤であるオリゴ { 2—ヒドロキシ _2_メチル _1_[4_ (1—プロぺニル）フエニル]プロパノン } (lamberti spa社製， ESACURE KIP 150) 6. 0重量部と、エネルギー線硬化性の多官能モノマーおよびオリゴマーからなる組成物（日本化薬社製， KAYAR AD NKR-001) 100重量部と、ポリイソシアナ一トイ匕合物からなる架橋剤（東洋インキ製造社製，オリバイン BHS-8515) 2. 8重量部とを溶解させて、固形分濃度を 42 重量％に調整し、スタンパー受容層用の塗布剤（3)とした。

[0091] 得られたスタンパー受容層用の塗布剤（3)を使用して、実施例 1と同様にして光デイスク製造用シートを作製した。

[0092] 〔比較例 1〕

n_ブチルアタリレート 80重量部と 2—ヒドロキシェチルアタリレート 20重量部とを酢酸ェチル /メチルェチルケトン混合溶媒 (重量比 50 : 50)中で反応させて、官能基にヒドロキシル基を有するアクリル酸エステル共重合体溶液（固形分濃度 40重量％)を得た。さらに、このアクリル酸エステル共重合体溶液に、当該共重合体中のヒドロキシノレ基 100当量に対し 48当量になるように 2—メタクリロイルォキシェチルイソシアナートを添加し、窒素雰囲気下、 40°Cで 48時間反応させて、側鎖にエネルギー線硬化性基およびヒドロキシル基を有する重量平均分子量（Mw) 80万のエネルギー線硬化型共重合体 Cを得た。このエネルギー線硬化型共重合体 Cにおけるエネルギー線硬化性基の平均側鎖導入率は 7. 85mol%であった。

[0093] 得られたエネルギー線硬化型共重合体溶液 Cの固形分 100重量部に対して、光重合開始剤であるオリゴ { 2—ヒドロキシー 2—メチルー 1_[4_ (1一プロぺニル）フエニル]プロパノン } (lamberti spa社製， ESACURE KIP 150) 6. 0重量部と、エネルギー線硬化性の多官能モノマーおよびオリゴマーからなる組成物（日本化薬社製， KAYAR AD NKR-001) 100重量部と、ポリイソシアナ一トイ匕合物からなる架橋剤（東洋インキ製造社製，オリバイン BHS-8515) 2. 8重量部とを溶解させて、固形分濃度を 35 重量％に調整し、スタンパー受容層用の塗布剤（4)とした。

[0094] 得られたスタンパー受容層用の塗布剤 (4)を使用して、実施例 1と同様にして光デイスク製造用シートを作製した。

[0095] 〔比較例 2〕

2_ェチルへキシルアタリレート 85重量部と 2—ヒドロキシェチルアタリレート 15重量部とを酢酸ェチル /メチルェチルケトン混合溶媒 (重量比 50 : 50)中で反応させて、官能基にヒドロキシノレ基を有するアクリル酸エステル共重合体溶液（固形分濃度 40 重量％)を得た。さらに、このアクリル酸エステル共重合体溶液に、当該共重合体中のヒドロキシル基 100当量に対し 48当量になるように 2—メタクリロイルォキシェチルイソシアナートを添加し、窒素雰囲気下、 40°Cで 48時間反応させて、側鎖にエネルギ一線硬化性基およびヒドロキシノレ基を有する重量平均分子量 (Mw) 72万のエネノレギ一線硬化型共重合体 Dを得た。このエネルギー線硬化型共重合体 Dにおけるエネルギ一線硬化性基の平均側鎖導入率は 5. 9mol。/。であった。

[0096] 得られたエネルギー線硬化型共重合体溶液 Dの固形分 100重量部に対して、光重合開始剤であるオリゴ { 2—ヒドロキシ _2_メチル _1_[4_ (1_プロぺニル)フエニル ]プロパノン } (lamberti spa社製， ESACURE KIP 150) 6. 0重量部と、エネルギ一線硬化性の多官能モノマーおよびオリゴマーからなる組成物（日本化薬社製， KA YARAD NKR-001) 100重量部と、ポリイソシアナ一トイ匕合物からなる架橋剤（東洋インキ製造社製，オリバイン BHS_8515) 2. 8重量部とを溶解させて、固形分濃度を 42重量％に調整し、スタンパー受容層用の塗布剤（5)とした。

[0097] 得られたスタンパー受容層用の塗布剤（5)を使用して、実施例 1と同様にして光デイスク製造用シートを作製した。

[0098] 〔試験例〕

実施例および比較例で製造した光ディスク製造用シートを、打抜き加工によりあら力じめ光ディスク基板と同様の形状にカットした後、軽剥離型剥離シートを剥離し、露出したスタンパー受容層に、銀合金反射層付基板 (ソニー ·ディスクテクノロジ一社製 )またはニッケル力なる BD (Blu-ray Disc)用スタンパー（ソニ一'ディスクテクノロジ一社製）を重ね合わせ、幅 45mm、重さ 2kgのゴムロールを 1往復させ、両者を圧着した。

[0099] 次いで、得られた積層体に対し、重剥離型剥離シート側から紫外線を照射し (リンテック株式会社製，装置名： Adwill RAD— 2000mZ8を使用。照射条件：照度 31 OmWん m²，光量 300mJん m²)、スタンパー受容層を硬化させた。

[0100] 硬化したスタンパー受容層から重剥離型剥離シートを剥離し、その代わりに、厚さ 2 5 μ mのポリエチレンテレフタレートからなる基材と厚さ 20 μ mの粘着剤層（粘着剤：リンテック社製， PAT1)とからなる 25mm幅の粘着テープをスタンパー受容層に貼り付けた。そして、 JIS Z0237に準じて、硬化したスタンパー受容層と銀合金反射層との接着力、および硬化したスタンパー受容層とニッケル製スタンパーとの接着力（18 0° ピール強度）を測定した。結果を表 1に示す。

[表 1]

[0102] 表 1から明ら力、なように、実施例で製造した光ディスク製造用シートにおいては、硬化したスタンパー受容層と銀合金反射層との接着力は硬化したスタンパー受容層とニッケノレ製スタンパーとの接着力よりもはるかに大きかったのに対し、比較例で製造した光ディスク製造用シートにおいては、硬化したスタンパー受容層と銀合金反射層との接着力は硬化したスタンパー受容層とニッケル製スタンパーとの接着力よりも若干大きかったに過ぎず、両接着力の差は 50mNZ25mm未満であった。

[0103] 〔製造例〕

実施例および比較例で製造した光ディスク製造用シートを、打抜き加工によりあら力、じめ光ディスク基板と同様の形状にカットした後、軽剥離型剥離シートを剥離し、露出したスタンパー受容層を、銀合金反射層付基板 (ソニー ·ディスクテクノロジ一社製 )に積層し、 29Nの圧力で圧着した。

[0104] 続いて重剥離型剥離シートをスタンパー受容層から剥離し、露出したスタンパー受容層に対してニッケルからなる BD (Blu-ray Disc)用スタンパー（ソニ一'ディスクテクノロジ一社製）を載せて 29Nの圧力で圧着し、スタンパーの凹凸パターンをスタンパー受容層に転写した。 [0105] 次に、光ディスク基板側から紫外線を照射し (リンテック社製，装置名： Adwill RA D— 2000m/8を使用。照射条件：照度 310mWん m²,光量 300mJん m²)、スタンパ一受容層を硬化させ、上記凹凸パターンを固定した後、スタンパーとスタンパー受容層とを分離した。このとき、実施例に係るスタンパー受容層においては、スタンパーはスタンパー受容層力スムーズに分離され、スタンパー受容層と銀合金反射層とが剥離することはな力、つた力比較例に係るスタンパー受容層においては、スタンパーはスタンパー受容層力スムーズに分離されず、スタンパー受容層と銀合金反射層とが剥離する部分があった。

[0106] 実施例に係るスタンパー受容層の表面には、スパッタリングにより厚さ 12nmの銀合金 (Ag— Nd— Cu)からなる半透過反射層を形成した。この半透過反射層上に、アタリル系紫外線硬化型接着剤を厚さが 8 μ mとなるようにスピンコーティング法により塗布し、さらにポリカーボネート樹脂からなるカバーシート（帝人株式会社製，商品名：ピュァエース C 110-67,厚さ： 67 / m)を積層し貼合した。そして、紫外線を照射 (フュージョン社製，装置名： LH—6を使用。照射条件：照度 500111\¥ん111²,光量 500mJん m²) してアクリル系紫外線硬化型接着剤を硬化させ、光ディスクを得た。

産業上の利用可能性

[0107] 本発明の光記録媒体製造用シートは、硬化したスタンパー受容層とスタンパーとを分離するときに、スタンパー受容層と当該スタンパー受容層に隣接する層とが剥離することを防止することができるため、歩留り良く光記録媒体を製造するのに有用である

Claims

請求の範囲

[1] スタンパーの凹凸が転写され得るエネルギー線硬化性のスタンパー受容層を備えた光記録媒体製造用シートであって、

スタンパー圧着時に前記スタンパー受容層が隣接する層に対する前記スタンパー受容層の硬化後の接着力は、スタンパーに対する前記スタンパー受容層の硬化後の接着力よりも大きぐ両接着力の差は 50mN/25mm以上であることを特徴とする光記録媒体製造用シート。

[2] スタンパーに対する前記スタンパー受容層の硬化後の接着力が、スタンパー圧着時に前記スタンパー受容層が積層された積層体におけるいずれの層間接着力よりも小さいことを特徴とする請求項 1に記載の光記録媒体製造用シート。

[3] スタンパー圧着時に前記スタンパー受容層が隣接する層が銀または銀合金からなり、銀または銀合金に対する前記スタンパー受容層の硬化後の接着力が 200mN/

25mm以上であることを特徴とする請求項 1または 2に記載の光記録媒体製造用シート。

[4] スタンパーがニッケルからなり、ニッケノレに対する前記スタンパー受容層の硬化後の接着力力 Sl 50mN/25mm以下であることを特徴とする請求項 1一 3のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。

[5] 前記スタンパー受容層は、側鎖にエネルギー線硬化性基およびカルボキシノレ基を有するアクリル酸エステル共重合体を構成成分とすることを特徴とする請求項 1一 4 のいずれかに記載の光記録媒体製造用シート。

[6] 前記アクリル酸エステル共重合体中に存在するカルボキシル基の量がモノマー換算で 5— 30mol%であることを特徴とする請求項 5に記載の光記録媒体製造用シー卜。