WO2006059517A1 - 光記録媒体用フィルタ、光記録媒体及びその製造方法、並びに光記録方法及び光再生方法 - Google Patents

光記録媒体用フィルタ、光記録媒体及びその製造方法、並びに光記録方法及び光再生方法 Download PDF

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Mitsuyoshi Ichihashi
Masatoshi Yumoto
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Fujifilm Corp
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Fujifilm Corp
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Definitions

  • OPTICAL RECORDING MEDIUM FILTER OPTICAL RECORDING MEDIUM
  • MANUFACTURING METHOD THEREOF OPTICAL RECORDING METHOD
  • the present invention uses an optical recording medium filter suitably used as a wavelength selective reflection film in a hologram type optical recording medium capable of recording an unprecedented high-density image, and the optical recording medium filter.
  • the present invention relates to an optical recording medium, a method of manufacturing the optical recording medium, and an optical recording method and an optical reproducing method using the optical recording medium.
  • An optical recording medium is one of recording media capable of writing a large amount of information such as high-density image data.
  • this optical recording medium for example, a rewritable optical recording medium such as a magneto-optical disk and a phase change type optical disk, and a write-once optical recording medium such as a CD-R, which are already in practical use, can be further used
  • the demand for large capacity is increasing.
  • all conventionally proposed optical recording media are two-dimensional recording, and there is a limit to increasing the recording capacity. Therefore, recently, a hologram type optical recording medium capable of recording information three-dimensionally has attracted attention.
  • the hologram-type optical recording medium generally includes information light provided with a two-dimensional intensity distribution, and the information light and reference light having a substantially constant intensity superposed inside a photosensitive recording layer. Information is recorded by generating a distribution of optical characteristics inside the recording layer using the interference pattern formed by them. On the other hand, when reading (reproducing) the written information, the recording layer is irradiated with only the reference light in the same arrangement as during recording, and the reproduction has an intensity distribution corresponding to the optical characteristic distribution formed inside the recording layer. Light is emitted from the recording layer as light. In this hologram type optical recording medium, the optical characteristic distribution is three-dimensionally formed in the recording layer, so that the area where information is written by one information light and the information is written by other information light.
  • a servo pit pattern 3 is provided on the surface of the lower substrate 1, and a reflective film 2 made of aluminum or the like is provided on the surface of the servo pit pattern.
  • a recording layer 4 on the reflective film and an upper substrate 5 on the recording layer see Patent Document 2.
  • the optical recording medium 20 having the configuration shown in FIG. 1 has a problem that the servo zone and the recording zone are separated in the plane, and the recording density is halved accordingly.
  • Patent Document 3 circularly polarized light is used as information light and reference light, a cholesteric liquid crystal layer or dichroic mirror as a filter layer is provided between the recording layer and the reflective film, and the recording layer and the servo layer are made thick. Overlapping in the direction. This technique doubles the recording density.
  • a single-layer cholesteric liquid crystal layer having a spiral structure having the same rotation direction as that of the circularly polarized light of information light is used as the filter layer, it is excellent in productivity and enables mass production of optical recording media at low cost.
  • the filter effect at 0 ° incidence is good.
  • this proposal when the incident angle changes, the selective reflection wavelength shifts.
  • the incident light When the incident light is tilted by 10 ° or more, the information light and the reference light pass through the filter layer and reach the reflection film and are reflected. Arise. This means that it cannot be used for the incident light of the lens optical system in a normal optical recording medium of ⁇ 10 ° or more that is narrowed by the lens.
  • a hologram capable of preventing the occurrence of noise by preventing irregular reflection from the reflection film of the optical recording medium by the information light and the reference light without causing a shift in the selective reflection wavelength even when the incident angle changes. It has not yet been realized to mass-produce optical recording media of the same type efficiently and at low cost, and it is desired to provide them promptly.
  • Patent Document 1 JP 2002-123949 A
  • Patent Document 2 JP-A-11 311936
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 2004-265472 Disclosure of the invention
  • the present invention prevents irregular reflection from the reflective film of the optical recording medium by information light and reference light, which does not cause a shift in the selective reflection wavelength even when the incident angle changes, and prevents the generation of noise.
  • Filter for optical recording medium hologram type optical recording medium capable of high density recording using optical filter for optical recording medium, and optical recording medium capable of producing optical recording medium efficiently and at low cost It is an object of the present invention to provide a manufacturing method, and an optical recording method and an optical reproducing method using the optical recording medium.
  • the filter for optical recording media of the present invention has a single cholesteric liquid crystal layer, and the cholesteric liquid crystal layer contains at least a nematic liquid crystal compound and a photoreactive chiral compound. It is a filter for recording media. According to the filter for an optical recording medium of the present invention, it has a single cholesteric liquid crystal layer and contains at least the nematic liquid crystal compound and the photoreactive chiral compound, so that the incident angle is changed. However, it is possible to eliminate the angle dependence of irradiation light reflection without causing a shift in the selective reflection wavelength.
  • the photoreactive chiral compound has a chiral moiety and a photoreactive group, and the chiral moiety force sosorbide compound, isomannide compound, and binaphthol compound.
  • An embodiment wherein the photoreactive group is at least one selected from
  • An embodiment that is a group that produces an isomerism to the trans force cis of a carbon-carbon double bond by light irradiation is preferred.
  • a photoreactive chiral compound having photosensitivity as the chiral compound and capable of greatly changing the helical pitch of liquid crystal by light is used.
  • the selective reflection wavelength band in the cholesteric liquid crystal layer is continuous
  • the selective reflection wavelength band in the cholesteric liquid crystal layer is lOOnm or more
  • the first wavelength In which the light of the first wavelength is reflected and the light of the second wavelength different from the light of the first wavelength is reflected the light of the first wavelength is 350 to 600 nm
  • the second wavelength of light is 600 to 900 nm, ⁇ to ⁇ / cos20 ° (where ⁇ is
  • 0 0 0 represents the wavelength of irradiated light), and the light reflectance is 40% or more, ⁇ to ⁇ / cos40
  • An aspect used as a selective reflection film of an optical recording medium that records information using lithography wherein the optical recording medium irradiates the optical recording medium with information light and reference light as a coaxial light beam, and the information light and the reference light
  • the optical recording medium irradiates the optical recording medium with information light and reference light as a coaxial light beam, and the information light and the reference light
  • a mode in which information is recorded by an interference pattern due to the interference with the sensor is preferable.
  • the optical recording medium of the present invention includes an upper substrate, a lower substrate, a recording layer for recording information on the lower substrate using holography, and a space between the lower substrate and the recording layer.
  • the filter layer has a single cholesteric liquid crystal layer, and the cholesteric liquid crystal layer contains at least a nematic liquid crystal compound and a photoreactive chiral compound.
  • the noise generated by the diffused light is superimposed on the reproduced image and is not detected on the CMOS sensor or the CCD, but the reproduced image can be detected at least to the extent that error correction is possible.
  • the noise component due to diffused light becomes a serious problem as the multiplicity of holograms increases.
  • the multiplicity increases, for example, when the multiplicity is 10 or more, the diffraction efficiency from one hologram becomes extremely small, and the presence of diffusion noise makes it very difficult to detect the reproduced image. . According to the present invention, such difficulty can be eliminated, and an unprecedented high-density image recording can be realized.
  • the photoreactive chiral compound has a chiral site and a photoreactive group, and the chiral site force S isosorbide compound, isomandody compound and pinnaphthol ich Preferred is an embodiment in which the compound force is at least one selected, and an embodiment in which the photoreactive group is a group that produces an isomerism to trans force cis of a carbon-carbon double bond by light irradiation.
  • the photoreactive chiral compound has photosensitivity as the chiral compound in the cholesteric liquid crystal layer of the filter layer and can greatly change the helical pitch of the liquid crystal by light. By adjusting the content of the photoreactive chiral compound and the UV irradiation time, a filter layer in which the helical pitch is continuously changed in the thickness direction of the liquid crystal layer can be obtained.
  • an aspect in which the selective reflection wavelength band in the cholesteric liquid crystal layer is continuous, an aspect in which the selective reflection wavelength band in the cholesteric liquid crystal layer is ⁇ m or more, and the filter layer are An embodiment of transmitting light of one wavelength and reflecting light of a second wavelength different from the light of the first wavelength, light of the first wavelength being 350 to 600 nm, and light of the second wavelength Is an aspect in which 600 to 900 nm, e ⁇ ⁇ / cos20 ° (where ⁇
  • 0 0 0 represents an irradiation light wavelength) and the light reflectance is 40% or more, ⁇ to ⁇ / cos4
  • the substrate has a servo pit pattern
  • an aspect in which the reflective film is a metal reflective film, and the like are preferable.
  • the optical recording medium of the present invention preferably has a first gap layer for smoothing the substrate surface between the filter layer and the reflective film. According to the optical recording medium of the present invention, by providing the first gap layer between the filter layer and the reflective film, the reflective film can be protected and the size of the hologram generated in the recording layer can be adjusted. it can.
  • the second gap layer can be provided to allow the information light and the reproduction light to be focused. If this area is filled with photopolymer, overexposure of monomer will occur due to overexposure, resulting in a decrease in multiple recording capability. Therefore, it is effective to provide a non-reactive and transparent second gap layer.
  • An optical recording medium manufacturing method of the present invention is a method of manufacturing the optical recording medium of the present invention
  • the filter layer forming step an optical recording medium filter is cut into an optical recording medium shape, and the cut filter is bonded to the lower substrate to form a filter layer.
  • the optical recording method of the present invention irradiates the optical recording medium of the present invention with information light and reference light as a coaxial beam, and records information by an interference pattern due to interference between the information light and the reference light. To record.
  • the optical recording medium of the present invention is used to irradiate information light and reference light as a coaxial light beam, and information is obtained by an interference pattern due to interference between the information light and the reference light.
  • unprecedented high-density recording can be realized.
  • optical reproducing method of the present invention information is reproduced by irradiating the interference pattern recorded on the recording layer by the optical recording method of the present invention with reference light.
  • optical reproducing method of the present invention it is possible to reproduce the high-density recorded information by efficiently and accurately reading the interference pattern recorded on the recording layer by the optical recording method of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the structure of a conventional optical recording medium.
  • FIG. 2 is a graph showing the reflection characteristics with respect to incident light from the front surface (0 °) of the filter for optical recording media of the present invention.
  • FIG. 3 is a graph showing reflection characteristics with respect to incident light from a 40 ° tilt direction in the filter layer for optical recording media of the present invention.
  • FIG. 4 is a graph showing a reflection characteristic with respect to incident light from the front surface (0 °) of another filter for optical recording media of the present invention.
  • FIG. 5 is a graph showing reflection characteristics with respect to incident light from a 20 ° inclination direction in another filter layer for optical recording media of the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic sectional view showing an example of an optical recording medium according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a schematic sectional view showing an example of an optical recording medium according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is an explanatory view showing an example of an optical system around an optical recording medium according to the present invention.
  • FIG. 9 is a block diagram showing an example of the entire configuration of an optical recording / reproducing apparatus equipped with the optical recording medium of the present invention.
  • the filter for optical recording media of the present invention has a single layer of cholesteric liquid crystal layer, and has a base material and, if necessary, other members.
  • the single-layer cholesteric liquid crystal layer contains at least a nematic liquid crystal compound and a photoreactive chiral compound, and contains a polymerizable monomer and, if necessary, other components.
  • the cholesteric liquid crystal layer in the optical recording medium filter uses a photoreactive chiral compound, and by continuously changing the helical pitch in the thickness direction of the liquid crystal layer, the vertical incidence is set to 0 ° ⁇ 20
  • the range is ° ⁇ ⁇ / cos20 ° (where ⁇ is the wavelength of the irradiated light
  • ⁇ 40 ° where the normal incidence is preferably 0 ° or more, with a light reflectivity of 0% or more, ⁇ / cos40 ° (where ⁇ represents the wavelength of the irradiated light) light
  • Particularly preferred is a reflectivity power of 0% or more.
  • ⁇ / cos20 ° especially ⁇ / cos40 ° (where ⁇ represents the wavelength of the irradiated light)
  • the angle dependency of irradiation light reflection can be canceled, and a lens optical system used in a normal optical recording medium can be employed.
  • a photoreactive chiral compound having photosensitivity as the chiral compound and capable of greatly changing the helical pitch of liquid crystal by light is used.
  • the content and UV irradiation time it is possible to obtain a filter for optical recording media in which the helical pitch is continuously changed in the thickness direction of the liquid crystal layer.
  • Figure 2 shows that the reflection characteristics for vertically incident light from the front (0 °) are 40% or more.
  • the incident light comes from an oblique direction, it gradually shifts to the short wavelength side, and within the liquid crystal layer 40 ° When tilted, it shows reflection characteristics as shown in Fig. 3.
  • FIG. 4 shows that the reflection characteristic power for normal incidence light from the front (0 °) is 0% or more.
  • it becomes incident light from an oblique direction it gradually shifts to the short wavelength side, and when tilted by 20 ° in the liquid crystal layer, it shows reflection characteristics as shown in FIG.
  • the range of 3 ⁇ is the force that is appropriate to the incident light at ⁇ 40 ° in the filter layer.
  • servo control can be performed without any problem if the servo light with an incident angle within ⁇ 20 ° is masked.
  • the spiral pitch of the cholesteric liquid crystal layer in the filter layer used is sufficiently large, it is easy to design all the incident angles within ⁇ 20 ° within the filter layer.
  • the optical recording medium filter of the present invention even when the incident wavelength is inclined by 0 ° to 20 ° (preferably 0 ° to 40 °), the reflectance is 40% or more. Since it can be ensured! /, It is possible to produce a filter for an optical recording medium that does not interfere with signal reading.
  • the cholesteric liquid crystal layer preferably has a circularly polarized light separation function.
  • the cholesteric liquid crystal layer having the function of separating circularly polarized light has a circularly polarized component in which the direction of rotation of the liquid crystal spiral (clockwise or counterclockwise) and the direction of circular polarization are aligned and the wavelength is the spiral pitch of the liquid crystal. It has a selective reflection characteristic that reflects only light. Using the selective reflection characteristics of this cholesteric liquid crystal layer, only circularly polarized light of a specific wavelength is transmitted and separated from natural light in a certain wavelength band, and the rest is reflected.
  • the cholesteric liquid crystal layer preferably transmits light of the first wavelength that transmits light of the first wavelength and reflects circularly polarized light of the second wavelength different from the light of the first wavelength. It is preferable that the light having the second wavelength is 600 to 900 nm.
  • the selective reflection wavelength bandwidth of the cholesteric liquid crystal layer is preferably 150 to 300 nm, more preferably lOOnm or more. If the selective reflection wavelength bandwidth is less than lOOnm, reflection suitability for incident light within ⁇ 20 ° may be insufficient.
  • the selective reflection wavelength band of the cholesteric liquid crystal layer is preferably continuous.
  • continuous means that the wavelength is up to ⁇ / cos20 ° (preferably ⁇ / cos
  • the reflectance power in this range is substantially 0% or more with a gap between 40 °).
  • the nematic liquid crystal compound is characterized in that its liquid crystal phase is fixed below the liquid crystal transition temperature, and its refractive index anisotropy ⁇ is from 0.10 to 0.40, a polymer liquid crystal compound And a polymerizable liquid crystal compound can be appropriately selected according to the purpose. While in the liquid crystal state at the time of melting, it can be used as a solid phase by, for example, aligning by using an alignment substrate that has been subjected to an alignment treatment such as rubbing, and then cooling and fixing as it is. .
  • the nematic liquid crystal compound can be appropriately selected according to the purpose without any particular limitation, and examples thereof include the following compounds.
  • n represents an integer of 1 to: LOOO.
  • LOOO an integer of 1 to: LOOO.
  • the nematic liquid crystal compound is preferably a nematic liquid crystal compound having a polymerizable group in the molecule from the viewpoint of ensuring sufficient curability, and UV polymerizable liquid crystal is preferable.
  • UV polymerizable liquid crystal for example, product name PALIOCOLOR LC242 manufactured by BASF; product name E7 manufactured by Merck; product name LC-Silicon CC 3767 manufactured by Wacker-Chem. ; Trade names L35, L42, L55, L59, L63, L79, L83, etc. manufactured by Takasago Inc.
  • the content of the nematic liquid crystal compound is preferably 30 to 99 mass%, more preferably 50 to 99 mass%, based on the total solid mass of the cholesteric liquid crystal layer. When the content is less than 30% by mass, the alignment of the nematic liquid crystal compound may be insufficient.
  • the photoreactive chiral compound means a chiral compound having photosensitivity and capable of greatly changing the helical pitch of liquid crystal by light.
  • the photoreactive chiral compound has a chiral moiety and a photoreactive group, and is selected from the chiral partial force sosorbide compound, isomandody compound and binaphthol compound. Preferably it is a seed.
  • the photoreactive group is preferably a group that generates an isomerism from trans to cis of a carbon-carbon double bond by light irradiation.
  • the isosorbide compound can be appropriately selected according to the purpose without any particular limitation.
  • the isomannide compound can be appropriately selected depending on the purpose without any particular limitation, and is exemplified in, for example, JP-A Nos. 2002-80478 and 2003-313188.
  • the binaphthol compound can be appropriately selected according to the purpose without any particular limitation.
  • photoreactive chiral agent examples include the following.
  • the content of the chiral rich compound is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 1 to 20% by mass with respect to the total solid mass of the cholesteric liquid crystal layer.
  • the content is less than 1% by mass, the helical pitch becomes too long, and may deviate from the selected wavelength that can be adopted as the system.
  • the content exceeds 30% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer becomes insufficient. Sometimes.
  • a polymerizable monomer can be used in combination for the purpose of improving the degree of curing such as film strength.
  • the twisting force of the liquid crystal due to light irradiation is changed (patterning) (for example, the selective reflection wavelength distribution).
  • the helical structure selective reflectivity
  • the strength of the cholesteric liquid crystal layer after fixing can be further improved.
  • the liquid crystal compound has a polymerizable group in the same molecule, it is not always necessary to add it.
  • the polymerizable monomer is not particularly limited and can be appropriately selected from known ones according to the purpose. Examples thereof include a monomer having an ethylenically unsaturated bond, and specifically, pentaerythritol. Examples thereof include polyfunctional monomers such as tetraatalylate and dipentaerythritol hexatalylate.
  • the monomer having an ethylenically unsaturated bond include the following compounds. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the addition amount of the polymerizable monomer is preferably 0 to 50 mass%, more preferably 1 to 20 mass%, based on the total solid mass of the cholesteric liquid crystal layer. When the added amount exceeds 50% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer may be inhibited.
  • the other components can be appropriately selected according to the purpose without any particular restriction, for example, photopolymerization initiator, sensitizer, binder resin, polymerization inhibitor, solvent, surfactant, thickening agent. Agents, dyes, pigments, ultraviolet absorbers, gelling agents, and the like.
  • the photopolymerization initiator may be appropriately selected from known ones that are not particularly limited, depending on the purpose.
  • the photopolymerization initiator a commercially available product can be used.
  • the commercially available product include trade names such as Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 784, Irgacure 814; manufactured by BASF, manufactured by Ciba Specialty Chemicals The name Lucillin TPO is listed.
  • the addition amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.120% by mass and more preferably 0.55% by mass with respect to the total solid mass of the cholesteric liquid crystal layer. If the addition amount is less than 0.1% by mass, it may take a long time because the curing efficiency at the time of light irradiation is low, and if it exceeds 20% by mass, the ultraviolet region force also causes light transmittance in the visible light region. May be inferior.
  • the binder resin can be appropriately selected from known ones that are not particularly limited, for example, polyvinyl alcohol; polystyrene compounds such as polystyrene and poly-methylstyrene; Cellulose resin such as chilled cellulose and acetylcellulose; acidic cellulose derivative having a carboxyl group in the side chain; Itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially ester-hymaleic acid copolymer; homopolymer of acrylic acid alkyl ester or homopolymer of alkyl methacrylic acid; other hydroxyl groups And the like. These may be used alone or in combination of two or more.
  • alkyl group in the homopolymer of the alkyl acrylate ester or the alkyl ester of the alkyl methacrylate include, for example, a methyl group, an ethyl group, a ⁇ -propyl group, a ⁇ -butyl group, an iso-butyl group, n Xyl group, cyclohexyl group, 2- Tilhexyl group, and the like.
  • Examples of the other polymer having a hydroxyl group include benzyl (meth) atrelate Z (homopolymer of methacrylic acid) acrylic acid copolymer, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid Z and other monomers. And multi-component copolymers.
  • the content of the Norder rosin is preferably 0 to 80% by mass, more preferably 0 to 50% by mass, based on the total solid mass of the cholesteric liquid crystal layer. When the content exceeds 80% by mass, the orientation of the cholesteric liquid crystal layer may be insufficient.
  • the polymerization inhibitor is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, benzoquinone, and derivatives thereof.
  • the addition amount of the polymerization inhibitor is preferably 0 to 10% by mass, more preferably 1 OOppm to 1% by mass, based on the solid content of the polymerizable monomer.
  • the solvent may be appropriately selected from known solvents without particular limitation according to the purpose.
  • 3-methoxypropionic acid methyl ester, 3-methoxypropionic acid ethyl ester, 3- Alkoxypropionic acid esters such as methoxypropionic acid propyl ester, 3-ethoxypropionic acid methyl ester, 3-ethoxypropionic acid ethyl ester, 3-ethoxypropionic acid propyl ester; 2-methoxypropionate acetate, 2-ethoxypropinore acetate, 3-esters of ⁇ Turkey alkoxy alcohol such as methoxy butyl Honoré acetate; methyl lactate esters such as lactic Echiru; main Chiruechiruketon, ketones such as cyclohexanone cyclohexanone, methylcyclohexane; I - Petit port Rataton, ⁇ —Methyl pylori Emissions, dimethyl sulfoxide,
  • the shape, structure, size and the like of the base material can be appropriately selected according to the purpose for which there is no particular limitation.
  • Examples of the shape include a flat plate shape and a sheet shape.
  • the size may be a single layer structure or a laminated structure, and the size may be appropriately selected according to the size of the filter for the optical recording medium. Can do.
  • any of inorganic materials and organic materials that are not particularly limited can be suitably used.
  • Examples of the inorganic material include glass, quartz, and silicon.
  • organic material examples include acetate-based resins such as triacetyl cellulose, polyester-based resins, polyethersulfone-based resins, polysulfone-based resins, polycarbonate-based resins, polyamide-based resins, and polyimide-based resins.
  • examples thereof include fats, polysalt-vinylidene-based resins, and polyacrylic resins. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the base material may be appropriately synthesized, or a commercially available product may be used.
  • the thickness of the base material is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, and is preferably 10 to 500 111, more preferably 50 to 300 111. If the thickness force of the substrate is less than 10 m, the adhesion may be lowered due to the stagnation of the substrate. On the other hand, if the distance exceeds 500 m, the focal positions of the information beam and the reference beam must be greatly shifted, and the optical system size increases.
  • a coating solution for a cholesteric liquid crystal layer prepared using the solvent is applied on the substrate, dried, and irradiated with, for example, ultraviolet rays.
  • a cholesteric liquid crystal layer can be formed.
  • the most suitable method for mass production is to prepare the substrate in the form of a roll and prepare a coating solution for the cholesteric liquid crystal layer on the substrate with bar coating, die coating, blade coating, curtains. It is preferable to use a long continuous coater such as a coat.
  • Examples of the coating method include spin coating, casting, roll coating, flow coating, printing, dip coating, casting film formation, bar coating, and gravure printing. Can be mentioned.
  • the conditions for the ultraviolet irradiation can be appropriately selected according to the purpose without any particular limitation.
  • the irradiation ultraviolet light is preferably 160 to 380 nm, more preferably 250 to 380 nm. Good.
  • As the irradiation time for example, 0.1 to 600 seconds is preferable, and 0.3 to 300 seconds is more preferable.
  • the helical pitch in the cholesteric liquid crystal layer can be continuously changed along the thickness direction of the liquid crystal layer.
  • an ultraviolet absorber may be added to the cholesteric liquid crystal layer.
  • the ultraviolet absorber can be appropriately selected according to the purpose without any particular limitation.
  • benzophenone ultraviolet absorber benzotriazole ultraviolet absorber
  • salicylic acid ultraviolet absorber cyanoacrylate ultraviolet absorber.
  • Preferred examples include collectors and oxalic acid-based ultraviolet absorbers. Specific examples of these ultraviolet absorbers include JP-A-47-10537, JP-A-58-111942, JP-A-58-212844, JP-A-59-19945, JP-A-59-46646, and JP-A-5.
  • the thickness of the cholesteric liquid crystal layer is preferably 2 to 7 / zm, for example, preferably 1 to: LO / zm.
  • the selective reflectance is not sufficient, and when it exceeds m, the uniform alignment of the liquid crystal layer may be disturbed.
  • the cholesteric liquid crystal layer is formed by applying a coating solution for a cholesteric liquid crystal layer on the base material, orienting, solidifying, processing into a disk shape together with the base material (for example, punching processing), and lower substrate Is preferably arranged. Further, when it is used for a filter layer of an optical recording medium, it can be provided directly on the lower substrate without using a base material. Specifically, (1) A method of applying directly to the lower substrate by means such as spin coating, (2) After forming a cholesteric liquid crystal layer on the substrate and laminating it on the lower substrate, only the base material And a method of attaching the obtained cholesteric liquid crystal layer to the lower substrate.
  • the optical recording medium filter of the present invention can be used in various fields, and can be suitably used for forming or manufacturing a holographic optical recording medium.
  • Optical recording medium and method for manufacturing the same, optical recording method and optical reproducing method It can be particularly preferably used.
  • the optical recording medium of the present invention comprises an upper substrate, a lower substrate, a recording layer on the lower substrate, and a filter layer between the lower substrate and the recording layer. It includes a film, a first gap layer, a second gap layer, and other layers as necessary.
  • the optical recording medium filter of the present invention is used.
  • the shape, structure, size, etc. of the substrate can be appropriately selected according to the purpose without any particular restrictions.
  • Examples of the shape include a disk shape, a card shape, and the like. It is necessary to select materials that can ensure the mechanical strength of the media.
  • it when light used for recording and reproduction is incident through the substrate, it must be sufficiently transparent in the wavelength region of the light used.
  • the substrate material glass, ceramics, resin, etc. are usually used, but resin is particularly preferred from the viewpoint of formability and cost.
  • the resin examples include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile styrene copolymer, polyethylene resin, polypropylene resin, silicone resin, fluorine resin, ABS resin. Fat, urethane slag, etc. are mentioned.
  • polycarbonate resin and acrylic resin are particularly preferable from the viewpoints of moldability, optical properties, and cost.
  • the substrate may be appropriately synthesized or a commercially available product may be used.
  • the substrate is provided with address servo areas as a plurality of positioning areas extending linearly in the radial direction at predetermined angular intervals, and a sector section between adjacent address servo areas becomes a data area.
  • address servo area information for performing focus servo and tracking servo by the sampled servo system and address information are recorded in advance by embossed pits (servo pits) (pre-format).
  • servo pits pre-format
  • the focus servo can be performed using the reflective surface of the reflective film.
  • a wobble pit can be used. If the optical recording medium has a card shape, the servo pit pattern may be omitted. Yes.
  • the thickness of the substrate can be appropriately selected according to the purpose for which there is no particular limitation, and is preferably 0.1 to 5 mm, more preferably 0.3 to 2 mm. If the thickness of the substrate is less than 0.1 mm, the distortion of the shape during storage of the disc may not be suppressed. If the thickness exceeds 5 mm, the overall weight of the disc increases and an excessive load is applied to the drive motor. There are times.
  • the recording layer can record information using holography, and a material whose optical characteristics such as an extinction coefficient and a refractive index change according to the intensity of the recording layer when irradiated with an electromagnetic wave having a predetermined wavelength is used. .
  • the material of the recording layer can be appropriately selected according to the purpose without any particular limitation.
  • a photopolymer that undergoes a polymerization reaction upon irradiation with light and becomes a polymer (2) photopolymer Photorefractive materials exhibiting a fractive effect (refractive index modulation is caused by light charge distribution due to light irradiation), (3) photochromic materials in which molecular isomerism is induced by light irradiation and refractive index is modulated, (4 ) Inorganic materials such as lithium niobate and barium titanate, and (5) chalcogen materials.
  • the photopolymer of (1) can be appropriately selected depending on the purpose without any particular limitation.
  • the photopolymer contains a monomer and a photoinitiator, and further, if necessary, a sensitizer. And other components such as oligomers.
  • Examples of the photopolymer include, for example, "Photopolymer Handbook” (Industry Research Council, 1 989), “Photopolymer Technology” (Nikkan Kogyo Shimbun, 1989), SPIE Proceedings Vol. 3010 p354-372 (1997) and SPIE Proceedings Vol. 3291 p89-103 (1998) can be used. Also, U.S. Pat. Pamphlet, pamphlet No. 97Z13183, pamphlet No. 2880342, pamphlet No. 2873126, pamphlet No. 2849021, pamphlet 3057082, pamphlet 3161230, column 2001-316416, column 2000-275859 Gazette, Can be used.
  • Examples of a method of changing the optical characteristics by irradiating the photopolymer with recording light include a method using diffusion of a low molecular component.
  • a component that diffuses in the opposite direction to the polymerization component may be added, or a compound having an acid cleavage structure may be added separately in addition to the polymer.
  • a structure capable of holding a liquid in the recording layer may be required.
  • the compound having the acid cleavage structure is added, the volume change may be suppressed by compensating for the expansion caused by the cleavage and the shrinkage caused by the polymerization of the monomer.
  • the monomer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose.
  • a radical polymerization type monomer having an unsaturated bond such as an acryl group or a methacryl group, an epoxy ring oxetane.
  • examples thereof include a cationic polymerization type monomer having an ether structure such as a ring.
  • These monomers may be monofunctional or polyfunctional.
  • you may utilize a photocrosslinking reaction.
  • radical polymerization type monomer examples include, for example, alitaroyl morpholine, phenoxy cetyl acrylate, isobutyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-ethyl hexyl acrylate, 1,6 hexanediol Diatalylate, Tripropylene glycol diatalylate, Neopentyl glycol PO-modified diatalylate, 1,9-nonanediol diatalylate, Hydroxypivalate neopentylglycol diatalylate, EO-modified bisphenol A diatalylate, Polyethylene glycol diatalylate , Pentaerythritol Triatalylate, Pentaerythritol Tetraatalylate, Pentaerythritol Hexaatalylate, EO Modified Glycerol Tritalylate, Trimethylolpropane Tri Atalylate,
  • Examples of the cationic polymerization type monomer include bisphenol A epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, glycerol triglycidyl ether, and 1,6 hexyl ether. Examples thereof include sanglycidyl ether, butyltrimethoxysilane, 4-butylphenoltrimethoxysilane, ⁇ -methacryloxypropyltriethoxysilane, and compounds represented by the following structural formulas ( ⁇ ) to ( ⁇ ).
  • These monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the photoinitiator include materials that cause radical polymerization, cationic polymerization, crosslinking reaction, and the like by light irradiation as long as they are sensitive to recording light.
  • photoinitiator examples include 2,2 ′ bis ( ⁇ -cross-mouthed file) —4,4 ′, 5,5 ′ tetraphenyl 1,1,1 biimidazole, 2,4,6 tris (Trichloromethyl) 1, 3, 5 —Triazine, 2, 4 Bis (trichloromethyl) 6— (p-methoxyphenol) 1, 3, 5, 5-triazine, diphenyl tetrafluoroborate, diphenyl Hexafluorophosphate, 4, 4'-di-tert-butyldiphenyl-fluoronium tetrafluoroborate, 4-jetylaminophenol-benzenediazo-umhexafluorophosphate, benzoin, 2-hydroxy-1-2-methyl 1— Phenylpropane-2-one, benzophenone, thixanthone, 2, 4, 6 trimethylbenzoyldiphenylsylphosphine oxide, triphenylbutyl borate tetraethyl
  • the photopolymer can be obtained by stirring and mixing the monomer, the photoinitiator, and, if necessary, other components and allowing them to react. If the obtained photopolymer has a sufficiently low viscosity, a recording layer can be formed by casting. On the other hand, in the case of a high-viscosity photopolymer that cannot be cast, a photopolymer is placed on the lower substrate using a dispenser, pressed onto the photopolymer so that the upper substrate is covered, and spread over the entire surface to form a recording layer. Can be formed.
  • the photorefractive material (2) is not particularly limited as long as it exhibits a photorefractive effect, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, a charge generating material and a charge transporting material And other components as necessary.
  • the charge generation material is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose.
  • examples thereof include phthalocyanine dye Z pigment such as metal phthalocyanine, metal-free phthalocyanine, or derivatives thereof; naphthalocyanine dye Z Azo dyes such as monoazo, disazo and trisazo Z pigments; perylene dyes Z pigments; indigo dyes Z pigments; quinacridone dyes Z pigments; polycyclic quinone dyes such as anthraquinones and anthanthrones Z pigments; cyanine -Based dyes Z pigments; TTF— electron-accepting and electron-donating substances typified by TCNQ; a charge-transfer complex that also has power; azulhenium salts; fullerenes typified by C and C
  • methanofullerene which is a derivative thereof. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the charge transport material is a material that transports holes or electrons, and may be a low molecular compound or a high molecular compound.
  • the charge transport material is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.
  • Nitrogen-containing cyclic compounds such as, or derivatives thereof; hydrazone compounds; triphenylamines; triphenylmethanes; butadienes; stilbenes; quinone compounds such as anthraquinone diphenoquinone, or derivatives thereof; C and C Fullerenes and derivatives thereof;
  • ⁇ - conjugated polymers or oligomers such as polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, and polyarine; ⁇ - conjugated polymers or oligomers such as polysilane and polygerman; polycyclic aromatic compounds such as anthracene, pyrene, phenanthrene, and coronene, etc. Is mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
  • a coating film is formed using a coating liquid obtained by dissolving or dispersing the photorefractive material in a solvent, and this coating film is formed.
  • the recording layer can be formed by removing the solvent from the recording medium.
  • the recording layer can also be formed by forming a coating film using the photorefractive material that has been fluidized by heating, and quenching the coating film.
  • the photochromic material (3) is not particularly limited as long as it is a material that causes a photochromic reaction, and can be appropriately selected according to the purpose.
  • an azobenzene compound a stilbene compound, an indigo compound Thioindigo compounds, spiropyran compounds, spiroxazine compounds, fluquid compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, cinnamic acid compounds, and the like.
  • an azobenzene derivative or stilbene derivative that undergoes a structural change by cis-trans isomerism upon irradiation with light
  • a spiropyran derivative or a spiroxazine derivative that undergoes a ring-opening or ring-closing structural change upon irradiation with light.
  • the chalcogen material (5) includes, for example, a chalcogenide glass containing a chalcogen element, and metal particles having a metal force that are dispersed in the chalcogenide glass and can diffuse into the chalcogenide glass by light irradiation. Materials, etc. included.
  • the chalcogenide glass is not particularly limited as long as it has a non-acidic amorphous material strength containing a chalcogen element such as S, Te or Se, and can dope metal particles.
  • Examples of the amorphous material containing the chalcogen element include Ge—S glass, As—S glass, As—Se glass, As—Se—Ce glass, and the like. S glass is preferred.
  • Ge-S glass is used as the chalcogenide glass, the composition ratio of Ge and S constituting the glass can be arbitrarily changed according to the wavelength of light to be irradiated.
  • Id glass is preferred.
  • the metal particles are not particularly limited as long as they have the property of being light-doped into chalcogenide glass by light irradiation, and can be appropriately selected according to the purpose.
  • Ag, Au, or Cu has a characteristic that it is more likely to cause light doping, and Ag is particularly preferable because it significantly causes light doping.
  • the content of the metal particles dispersed in the chalcogenide glass is preferably 0.1 to 2% by volume based on the total volume of the recording layer, and more preferably 0.1 to 1.0% by volume. in front If the content of the metal particles is less than 0.1% by volume, the change in transmittance due to light doping may be insufficient, and the recording accuracy may decrease. The light transmittance may be lowered, and it may be difficult to sufficiently generate light dope.
  • the recording layer can be formed according to a known method depending on the material.
  • a vapor deposition method, a wet film formation method, an MBE (molecular beam epitaxy) method, a cluster ion beam method, a molecular stacking method It can be suitably formed by an LB method, a printing method, a transfer method, or the like.
  • the vapor deposition method and the wet film forming method are preferable.
  • the vapor deposition method can be appropriately selected from known methods according to the purpose without any particular limitation, and examples thereof include vacuum vapor deposition, resistance heating vapor deposition, chemical vapor deposition, and physical vapor deposition. Can be mentioned.
  • Examples of the chemical vapor deposition method include a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, and a gas source CVD method.
  • the formation of the recording layer by the wet film formation method is preferably performed by using, for example, a solution (coating liquid) in which the recording layer material is dissolved or dispersed in a solvent (coating and drying). Can do.
  • a solution coating liquid
  • a solvent coating and drying
  • a known medium force can be appropriately selected according to the purpose without any particular limitation. For example, an ink jet method, a spin coat method, a kneader coat method, a bar coat method, a blade coat method, a cast Law, dipping method, curtain coating method, etc.
  • the thickness of the recording layer in particular limitation put out be appropriately selected depending on the Nag purposes, 1 ⁇ : LOOO / zm force preferably, 100 to 700 111 Ca ⁇ Yori preferably 1 ⁇ 0
  • the thickness of the recording layer is within the preferable numerical range, a sufficient SZN ratio can be obtained even when shift multiplexing of 10 to 300 is performed, and when the thickness is within the more preferable numerical range, this is remarkable. It is advantageous in some respects.
  • the reflective film is formed on the surface of the servo pit pattern of the substrate.
  • the material of the reflective film it is preferable to use a material having a high reflectance with respect to the recording light and the reference light.
  • the wavelength of light to be used is 400 to 780 nm, for example, Al, A1 alloy, Ag, Ag alloy, etc. are preferably used.
  • the wavelength of light used is 650 nm or more, Al, A1 alloy, Ag, Ag alloy, Au, Cu alloy, TiN, etc. It is preferable to use it.
  • an optical recording medium that reflects light and can be added or deleted such as a DVD (digital video disc)
  • DVD digital video disc
  • add and rewrite directory information such as information on which part has an error and how the replacement process was performed without affecting the hologram.
  • the formation of the reflective film can be appropriately selected depending on the purpose without any particular limitation, and various vapor phase growth methods such as vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, photo-CVD, ion A plating method, an electron beam evaporation method, or the like is used. Among these, the sputtering method is excellent in terms of mass productivity and film quality.
  • the thickness of the reflective film is preferably 50 nm or more, more preferably 1 OOnm or more so that sufficient reflectivity can be achieved.
  • the first gap layer is provided between the filter layer and the reflective film as needed, and is formed for the purpose of smoothing the lower substrate surface. It is also effective for adjusting the size of the hologram generated in the recording layer. That is, since it is necessary to form the recording reference light and the information light interference area in a certain size in the recording layer, it is effective to provide a gap between the recording layer and the servo pit pattern.
  • the first gap layer can be formed, for example, by applying a material such as an ultraviolet curable resin with an upper force of the servo pit pattern by spin coating or the like and curing it.
  • a material such as an ultraviolet curable resin with an upper force of the servo pit pattern by spin coating or the like and curing it.
  • the transparent substrate also functions as the first gap layer.
  • the thickness of the first gap layer can be appropriately selected according to the purpose without particular limitation, and is preferably 1 to 200 m.
  • Second gap layer
  • the second gap layer is provided between the recording layer and the filter layer as necessary.
  • the material of the second gap layer can be appropriately selected according to the purpose without any particular limitation, and examples thereof include triacetyl cellulose (TAC), polycarbonate (PC), and polyethylene.
  • the thickness of the second gap layer can be appropriately selected according to the purpose without particular limitation, and is preferably 1 to 200 m.
  • optical recording medium of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
  • FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the optical recording medium in the first embodiment of the present invention.
  • a servo pit pattern 3 is formed on a polycarbonate resin substrate or glass substrate 1, and the servo pit pattern 3 is coated with aluminum, gold, platinum, or the like.
  • a reflective film 2 is provided.
  • the force in which the servo pit pattern 3 is formed on the entire surface of the lower substrate 1 may be formed periodically as shown in FIG.
  • the height of the servo pit pattern 3 is normally 1750 A (175 nm), which is sufficiently smaller than the thickness of the substrate and other layers.
  • the first gap layer 8 is formed by applying a material such as ultraviolet curable resin on the reflective film 2 of the lower substrate 1 by spin coating or the like.
  • the first gap layer 8 is effective for protecting the reflective film 2 and adjusting the size of the hologram generated in the recording layer 4. That is, since it is necessary to form an interference area between the recording reference light and the information light to a certain size in the recording layer 4, it is effective to provide a gap between the recording layer 4 and the servo pit pattern 3.
  • a filter layer 6 is provided on the first gap layer 8, and an optical recording medium 21 is configured by sandwiching the recording layer 4 between the filter layer 6 and the upper substrate 5 (polycarbonate-resin substrate or glass substrate). .
  • the filter layer 6 transmits only red light and does not transmit light of other colors. Is. Therefore, since the information light and the recording and reproduction reference light are green or blue light, they do not pass through the filter layer 6 but become return light that does not reach the reflection film 2 and are emitted from the input / output surface A force. It's a little bit.
  • the filter layer 6 also has a single-layer cholesteric liquid crystal layer force in which the helical pitch continuously changes in the thickness direction of the liquid crystal layer.
  • the filter layer 6 having the cholesteric liquid crystal layer force may be directly formed on the first gap layer 8 by coating, or a film having a cholesteric liquid crystal layer formed on a substrate is punched into an optical recording medium shape! / You can arrange it in a hurry! / ⁇ .
  • a single cholesteric liquid crystal layer whose spiral pitch continuously changes in the thickness direction of the liquid crystal layer,
  • the reflectivity is 40% or more, and even if the incident angle changes, the selective reflection wavelength will not shift.
  • the optical recording medium 21 in the present embodiment may be disk-shaped or card-shaped. In the case of a card shape, there is no need for the servo pit pattern.
  • the lower substrate 1 is 0.6 mm
  • the first gap layer 8 is 100 m
  • the filter layer 6 is 2 to 3 ⁇ m
  • the recording layer 4 is 0.6 mm
  • the upper substrate 5 is The thickness is 0.6mm, and the total thickness is about 1.9mm.
  • light (red light) emitted from the servo laser is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13 and passes through the objective lens 12.
  • Servo light is irradiated onto the optical recording medium 21 by the objective lens 12 so as to be focused on the reflective film 2.
  • the dichroic mirror 13 transmits light of green and blue wavelengths and reflects almost 100% of light of red wavelengths.
  • the servo light incident from the light incident / exit surface A of the optical recording medium 21 passes through the upper substrate 5, the recording layer 4, the filter layer 6, and the first gap layer 8, is reflected by the reflective film 2, and is re-executed.
  • the first gap layer 8, the filter layer 6, the recording layer 4, and the upper substrate 5 are transmitted and the incident / exit surface A force is also emitted.
  • the returned return light passes through the objective lens 12, is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, and servo information is detected by a servo information detector (not shown).
  • the detected servo information is used for focus servo, tracking servo, slide servo, and so on.
  • the hologram material that composes the recording layer 4 should not be exposed to red light. Therefore, even if the servo light passes through the recording layer 4 or the servo light is reflected by the reflection film 2, the recording layer 4 is not affected.
  • the return light of the servo light reflected by the reflection film 2 is reflected almost 100% by the dichroic mirror 13, so that the servo light is detected by the CMOS sensor or CCD 14 for detecting the reproduced image. It will not be a noise with respect to the reproduction light.
  • the range of 3 ⁇ is the force that is appropriate to the incident light at ⁇ 40 ° in the filter layer.
  • servo control can be performed without any problem if the servo light with an incident angle within ⁇ 20 ° is masked.
  • the spiral pitch of the cholesteric liquid crystal layer in the filter layer used is sufficiently large, it is easy to design all the incident angles within ⁇ 20 ° within the filter layer.
  • the optical recording medium 21 is irradiated with information light and a recording reference light by the objective lens 11 so as to generate an interference pattern in the recording layer 4.
  • Information light and recording reference light are incident from the incident / exit surface ⁇ and interfere with each other in the recording layer 4 to generate an interference pattern there. Thereafter, the information light and the recording reference light pass through the recording layer 4 and are reflected between the force incident on the filter layer 6 and the bottom surface of the filter layer 6 to become return light.
  • the filter layer 6 is formed of a single cholesteric liquid crystal layer whose spiral pitch continuously changes in the thickness direction of the liquid crystal layer, and has a property of transmitting only red light.
  • the light leaking through the filter layer is suppressed to 20% or less of the incident light intensity, even if the leaked light reaches the bottom surface and becomes return light, it is reflected again by the filter layer and reproduced.
  • FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the optical recording medium in the second embodiment of the present invention. It is.
  • a servo pit pattern 3 is formed on a polycarbonate resin or glass substrate 1, and the surface of the servo pit pattern 3 is coated with aluminum, gold, platinum, or the like.
  • a reflective film 2 is provided.
  • the height of the servo pit pattern 3 is normally 1750 A (175 nm), which is the same as that of the first embodiment.
  • the difference in structure between the second embodiment and the first embodiment is that, in the optical recording medium 22 according to the second embodiment, the second gap layer 7 is interposed between the filter layer 6 and the recording layer 4. Is provided.
  • a filter layer 6 having a single cholesteric liquid crystal layer force in which the helical pitch continuously changes in the thickness direction of the liquid crystal layer is formed on the first gap layer 8 after forming the first gap layer 8.
  • the same one as in the first embodiment can be used.
  • the second gap layer 7 has a point where information light and reproduction light are focused.
  • this area is filled with photopolymer, excessive consumption of monomer occurs due to overexposure, resulting in a decrease in multiple recording capability. Therefore, it is effective to provide a non-reactive and transparent second gap layer.
  • the lower substrate 1 is 1. Omm, the first gap layer 8 is 100 m, the finer layer 6 is 3 to 5 ⁇ m, the second gap layer 7 is 70 ⁇ m,
  • the recording layer 4 has a thickness of 0.6 mm, and the upper J substrate 5 has a thickness of 0.4 mm.
  • the total thickness is about 2.2 mm.
  • the optical recording medium 22 having such a structure is irradiated with red servo light, green information light, and recording and reproduction reference light.
  • the servo light enters from the incident / exit surface A, passes through the recording layer 4, the second gap layer 7, the filter layer 6, and the first gap layer 8, and is reflected by the reflective film 2 to become return light.
  • the return light again passes through the first gap layer 8, the filter layer 6, the second gap layer 7, the recording layer 4, and the upper substrate 5 in this order, and is emitted from the incident / exit surface A.
  • the emitted return light is used for focus servo and tracking servo.
  • the recording layer 4 4 Since the hologram material constituting the recording layer 4 is not sensitive to red light, even if the servo light passes through the recording layer 4 or the servo light is irregularly reflected by the reflective film 2, the recording layer 4 4 is not affected. Green information light or the like enters from the incident / exit surface A, passes through the recording layer 4 and the second gap layer 7, and is reflected by the filter layer 6. And return light. The return light again passes through the second gap layer 7, the recording layer 4, and the upper substrate 5 in this order, and exits from the incident / exit surface A. Also during reproduction, not only the reproduction reference light but also the reproduction light generated by irradiating the reproduction reference light onto the recording layer 4 is emitted from the incident / exit surface A without reaching the reflection film 2.
  • the optical operation in the vicinity of the optical recording medium 22 (the objective lens 12, the filter layer 6, the CMOS sensor or the CCD 14 as the detector in FIG. 8) is the same as that in the first embodiment (FIG. 8). Omitted.
  • the method for producing an optical recording medium of the present invention includes at least a filter layer forming step, and further includes a reflective film forming step, a recording layer forming step, and other steps as necessary.
  • the filter layer forming step is a step of forming the filter layer by processing the optical recording medium filter of the present invention into an optical recording medium shape, and bonding the processed filter to the lower substrate.
  • the method for producing the filter for optical recording media of the present invention is as described above.
  • the shape of the optical recording medium can be appropriately selected according to the purpose without particular limitation, and examples thereof include a disk shape and a card shape.
  • the processing can be appropriately selected according to the purpose for which there is no particular limitation, and examples thereof include cutting force using a press cutter, punching processing using a punching cutter, and the like.
  • an adhesive for example, an adhesive, an adhesive, or the like is used to attach a filter to the substrate so that bubbles do not enter.
  • the adhesive can be appropriately selected according to the purpose for which there is no particular limitation, and examples thereof include various adhesives such as a UV curable type, an emulsion type, a one-component curable type, and a two-component curable type. Known adhesives can be used in any combination.
  • the pressure-sensitive adhesive can be appropriately selected depending on the purpose for which there is no particular restriction.
  • rubber pressure-sensitive adhesive acrylic pressure-sensitive adhesive, silicone pressure-sensitive adhesive, urethane pressure-sensitive adhesive, vinyl alkyl ether type Adhesive, polybulal alcohol based adhesive, polybulur pyrrolidone System adhesives, polyacrylamide adhesives, cellulose adhesives, and the like.
  • the coating thickness of the adhesive or the pressure-sensitive adhesive can be appropriately selected according to the purpose without any particular restriction. From the viewpoint of optical properties and thinning, in the case of an adhesive, 0.1 to 10; ⁇ ⁇ is Preferred 0.1 to 5 ⁇ m is more preferred. In the case of an adhesive, 1 to 50 ⁇ m is preferable.
  • the filter layer may be formed directly on the substrate.
  • Examples thereof include a method of forming a cholesteric liquid crystal layer by applying a cholesteric liquid crystal layer coating solution containing at least a nematic liquid crystal compound and a photoreactive chiral compound on a substrate.
  • the optical recording medium of the present invention is irradiated with information light and reference light as a coaxial beam, and information is recorded on the recording layer by an interference pattern due to interference between the information light and the reference light.
  • optical reproducing method of the present invention information is reproduced by irradiating the interference pattern recorded on the recording layer by the optical recording method of the present invention with reference light.
  • the information light provided with a two-dimensional intensity distribution and the information light and the reference light having a substantially constant intensity are photosensitive.
  • Information is recorded by superimposing the inside of the recording layer and generating a distribution of optical characteristics inside the recording layer using an interference pattern formed by them.
  • the recording layer is irradiated with only the reference light in the same arrangement as during recording, and an intensity distribution corresponding to the optical characteristic distribution formed inside the recording layer is obtained. It is emitted from the recording layer as reproduction light.
  • optical recording method and optical reproducing method of the present invention are carried out using the optical recording / reproducing apparatus of the present invention described below.
  • FIG. 9 is an overall configuration diagram of an optical recording / reproducing apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • the optical recording / reproducing apparatus includes an optical recording apparatus and an optical reproducing apparatus.
  • the optical recording / reproducing apparatus 100 controls a spindle 81 to which the optical recording medium 20 is attached, a spindle motor 82 for rotating the spindle 81, and the spindle motor 82 so as to keep the rotational speed of the optical recording medium 20 at a predetermined value.
  • Spindle servo circuit 83 that performs!
  • the optical recording / reproducing apparatus 100 records information by irradiating the optical recording medium 20 with the information light and the recording reference light, and irradiates the optical recording medium 20 with the reproduction reference light to replay the information.
  • the optical recording / reproducing apparatus 100 includes a detection circuit 85 for detecting a focus error signal FE, a tracking error signal TE, and a reproduction signal RF from the output signal of the pickup 31, and a focus error detected by the detection circuit 85. Based on the signal FE, the actuator in the pickup 31 is driven to move the objective lens (not shown) in the thickness direction of the optical recording medium 20 to perform focus servo, and the detection circuit 85 detects the focus servo circuit 86.
  • a tracking servo circuit 87 that drives the actuator in the pickup 31 based on the tracking error signal TE to move the objective lens in the radial direction of the optical recording medium 20 to perform tracking servo, and the tracking error signal TE and a control port to be described later -Pick up by controlling the drive unit 84 based on the Laka command
  • a slide servo circuit 88 for performing a slide servo for moving 31 in the radial direction of the optical recording medium 20.
  • the optical recording / reproducing apparatus 100 further decodes output data of a later-described CMOS or CCD array in the pickup 31 to reproduce or detect data recorded in the data area of the optical recording medium 20.
  • a signal processing circuit 89 that reproduces a basic clock and discriminates an address from the reproduction signal RF from the circuit 85, a controller 90 that controls the entire optical recording / reproducing apparatus 100, and various types of controllers 90
  • the controller 90 is provided with an operation unit 91 that gives the instruction of the above, and inputs the basic clock and address information output from the signal processing circuit 89, and also includes the pickup 31, the spindle servo circuit 83, the slide servo circuit 8 8 and the like. Is to control.
  • the controller 90 has a CPU (Central Processing Unit), a ROM (Read Only Memory), and a RAM (Random Access Memory), and the CPU executes a program stored in the ROM using the RAM as a work area. The function of the controller 90 is realized.
  • CPU Central Processing Unit
  • ROM Read Only Memory
  • RAM Random Access Memory
  • the optical recording / reproducing apparatus used in the optical recording method and the optical reproducing method of the present invention uses the optical recording medium of the present invention, the selective reflection wavelength shifts even when the incident angle changes. It can prevent irregular reflection from the reflection film of the optical recording medium by the information light and the reference light, and can prevent the generation of noise, and can realize high-density recording as before.
  • a film was prepared.
  • the base film was passed through a rubbing apparatus to rub the polybulal alcohol film surface to give liquid crystal alignment ability.
  • cholesteric liquid crystal layer coating solutions of Example 1 and Comparative Example 1 having the compositions shown in Table 1 below were prepared by a conventional method.
  • UV-polymerizable liquid crystal manufactured by BASF, PALIOCOLOR LC242
  • Photoreactive chiral agent optically active isosorbide derivative represented by the following formula
  • the cholesteric liquid crystal layer coating solution was applied onto the base film with a bar coater and dried, followed by orientation aging at 110 ° C. for 20 seconds. After that, light irradiation was performed for 1 minute with an ultra-high pressure mercury lamp through a bandpass filter having a light source center wavelength at 365 nm at 110 ° C. Subsequently, it was kept in the dark for 5 minutes while maintaining at 110 ° C. After that, the bandpass filter was removed, and the entire surface was further exposed with an irradiation energy of 500 miZcm 2 with an ultrahigh pressure mercury lamp similar to the above while blowing nitrogen gas, and polymerized and cured to form a 5 m thick cholesteric liquid crystal layer cured film. . In this way, filters for optical recording media of Example 1 and Comparative Example 1 were produced.
  • Each optical recording medium filter obtained! / was measured, and the light reflection characteristics were measured using a spectral reflection measuring device (manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd., L 5662 as a light source, Hamamatsu Photonics Co., Ltd. as a photo multi-channel analyzer. It was measured using PMA-11).
  • the optical recording medium filter of Example 1 can reflect 40% or more of 532 nm light, which is the selected wavelength, with respect to light within an incident angle of ⁇ 20 ° as shown in FIGS. It was.
  • the selective reflection wavelength bandwidth was as wide as 180 nm.
  • the optical recording medium filter of Comparative Example 1 was a narrow-band reflector having a selective reflection wavelength bandwidth of about 50 nm, resulting in a large shift in the selection wavelength from an incident angle of 40 °.
  • a general polycarbonate resin substrate used for DVD + RW having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm was used as the lower substrate.
  • a servo pit pattern is formed on the entire surface of the substrate, the track pitch is 0.74 m, the groove depth is 175 nm, and the groove width is 300 nm.
  • a reflective film was formed on the servo pit pattern surface of the lower substrate.
  • Aluminum (A1) was used as the reflective film material.
  • the A1 reflective film with a thickness of 200 ⁇ m was formed by DC magnetron sputtering.
  • the optical recording medium filter produced in Example 1 was punched into a predetermined disk size so that it could be placed on the substrate, and the base film surface was pasted with the servo pit pattern side.
  • the bonding was performed using an ultraviolet curable resin adhesive so that no air bubbles would enter!
  • the filter layer was formed as described above.
  • a photopolymer coating solution having the following composition was prepared.
  • FIG. 6 is a schematic sectional view showing a form similar to the present embodiment.
  • Example 2 the optical recording medium of Example 3 was produced in the same manner as Example 2 except that the second gap layer was provided between the reflective film and the filter layer.
  • the second gap layer a polycarbonate film having a thickness of 100 m was used and adhered with an ultraviolet curable resin.
  • FIG. 7 is a schematic sectional view showing a form similar to the present embodiment.
  • Example 2 the optical recording medium of Comparative Example 2 was produced in the same manner as Example 2 except that the optical recording medium filter of Comparative Example 1 was used instead of the optical recording medium filter of Example 1. did.
  • the filter for optical recording media of the present invention can prevent the occurrence of noise that does not cause a shift in the selective reflection wavelength even when the incident angle changes, and is a holographic type capable of recording unprecedented high-density images. It is suitably used as a wavelength selective reflection film in an optical recording medium.
  • the optical recording medium of the present invention is capable of preventing the occurrence of noise without causing a shift in the selective reflection wavelength even when the incident angle changes, and various holographic optical recording media capable of recording an unprecedented high-density image. Widely used.

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Abstract

　入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなく、情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能な光記録媒体用フィルタ、該光記録媒体用フィルタを用いた今までにない高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく低コストで製造できる光記録媒体の製造方法、並びに該光記録方法及び光再生方法を提供することを目的とする。このため、単層のコレステリック液晶層を有し、該コレステリック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する光記録媒体用フィルタ、及び該光記録媒体用フィルタを用いたホログラム型の光記録媒体を提供する。

Description

明 細 書
光記録媒体用フィルタ、光記録媒体及びその製造方法、並びに光記録 方法及び光再生方法
技術分野
[0001] 本発明は、今までにない高密度画像記録が可能なホログラム型の光記録媒体にお ける波長選択反射膜として好適に用いられる光記録媒体用フィルタ、該光記録媒体 用フィルタを用いた光記録媒体及び該光記録媒体の製造方法、並びに該光記録媒 体を用いた光記録方法及び光再生方法に関する。
背景技術
[0002] 高密度画像データ等の大容量の情報を書き込み可能な記録媒体の一つとして光 記録媒体が挙げられる。この光記録媒体としては、例えば、光磁気ディスク、相変化 型光ディスク等の書換型光記録媒体や CD— R等の追記型光記録媒体については 既に実用化されている力 光記録媒体の更なる大容量ィヒに対する要求は高まる一方 である。しかし、従来より提案されている光記録媒体は全て二次元記録であり、記録 容量の増大化には限界があった。そこで、近時、三次元的に情報を記録可能なホロ グラム型光記録媒体が注目されて 、る。
[0003] 前記ホログラム型光記録媒体は、一般に、二次元的な強度分布が与えられた情報 光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内部で重ね合わせ、 それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特性の分布を生じさせ ることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出す (再生する）際には 、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録層内部に形成された 光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録層から出射される。 このホログラム型光記録媒体では、記録層内に光学特性分布が三次元的に形成さ れるので、一の情報光により情報が書き込まれた領域と、他の情報光により情報が書 き込まれた領域とを部分的に重ね合わせること、即ち多重記録が可能である。デジタ ルボリュームホログラフィを利用した場合には、 1スポットの信号対雑音比（SZN比） は極めて高くなるので、重ね書きにより SZN比が多少低くなつても元の情報を忠実 に再現できる。その結果、多重記録回数が数百回までに及び、光記録媒体の記録容 量を著しく増大させることができる (特許文献 1参照)。
[0004] このようなホログラム型の光記録媒体としては、例えば、図 1に示すように、下側基板 1表面にサーボピットパターン 3を設け、このサーボピットパターン表面にアルミニウム 等からなる反射膜 2と、この反射膜上に記録層 4と、この記録層上に上側基板 5とを有 するものが提案されて 、る (特許文献 2参照)。
[0005] しかし、図 1に示す構成の光記録媒体 20では、サーボゾーンと記録ゾーンとが面内 で分かれており、その分、記録密度が半減してしまうという問題がある。
このため、特許文献 3では、情報光及び参照光として円偏光を用い、記録層と反射 膜との間に、フィルタ層としてのコレステリック液晶層又はダイクロイツクミラーを設け、 記録層とサーボ層を厚み方向に重ねている。この手法により記録密度は倍増する。 また、前記フィルタ層として情報光の円偏光と同じ旋回方向を螺旋構造に持つ単層 のコレステリック液晶層を用いると、生産性に優れ、光記録媒体を安価に大量生産す ることができ、垂直入射 0° におけるフィルタ効果は良好となる。しかし、この提案では 、入射角が変化すると選択反射波長にずれが生じ、入射光が 10° 以上傾くと情報 光及び参照光がフィルタ層を通過して反射膜まで到達して反射され、ノイズが生じる 。このことは、レンズで絞った ± 10° 以上の通常の光記録媒体におけるレンズ光学 系の入射光には使用できないことを意味する。
一方、前記ダイクロイツクミラーを用いて前記通常のレンズ光学系に対応できる膜を 設計すると 50層以上の多層蒸着が必要となり、極めて高コストな光記録媒体となって しまう。
[0006] したがって入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなぐ情報光及び 参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する ことが可能なホログラム型の光記録媒体を効率よく低コストに大量生産することは未 だ実現されておらず、その速やかな提供が望まれて 、るのが現状である。
[0007] 特許文献 1 :特開 2002— 123949号公報
特許文献 2 :特開平 11 311936号公報
特許文献 3：特開 2004 - 265472号公報 発明の開示
[0008] 本発明は、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることなぐ情報光及び 参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、ノイズの発生を防止する ことが可能な光記録媒体用フィルタ、該光記録媒体用フィルタを用いた今までにな 、 高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光記録媒体を効率よく低コスト で製造できる光記録媒体の製造方法、並びに該光記録媒体を用いた光記録方法及 び光再生方法を提供することを目的とする。
[0009] 本発明の光記録媒体用フィルタは、単層のコレステリック液晶層を有し、該コレステ リック液晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含 有することを特徴とする光記録媒体用フィルタである。本発明の光記録媒体用フィル タによれば、単層のコレステリック液晶層を有し、該コレステリック液晶層力 少なくとも ネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有するので、入射角が変 化しても選択反射波長にずれが生じることなぐ照射光反射の角度依存性を解消す ることがでさる。
[0010] 本発明の光記録媒体用フィルタにおいては、光反応型カイラル化合物が、キラル 部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位力 ソソルビドィ匕合物、イソマンニドィ匕合 物及びビナフトール化合物から選択される少なくとも 1種である態様、光反応性基が
、光照射により炭素 炭素二重結合のトランス力 シスへの異性ィ匕を生じる基である 態様などが好ましい。
本発明の光記録媒体用フィルタによれば、前記カイラルイヒ合物として感光性を有し 、光によって液晶の螺旋ピッチを大きく変化させることができる光反応型カイラルイ匕合 物を用い、該光反応型カイラル化合物の含有量や UV照射時間を調整することにより
、螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に連続的に変化した光記録媒体用フィルタが得ら れる。
[0011] 本発明の光記録媒体用フィルタにおいては、コレステリック液晶層における選択反 射波長帯域が連続的である態様、コレステリック液晶層における選択反射波長帯域 幅が lOOnm以上である態様、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異な る第二の波長の光を反射する態様、第一の波長の光が 350〜600nmであり、かつ 第二の波長の光が 600〜900nmである態様、 λ 〜λ /cos20° (ただし、 λ は
0 0 0 照射光波長を表す）における光反射率が 40%以上である態様、 λ 〜λ /cos40
0 0
° (ただし、 λ は照射光波長を表す）における光反射率が 40%以上である態様、ホ
0
ログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる態様 、光記録媒体が、情報光及び参照光を同軸光束として該光記録媒体に照射し、前記 情報光と前記参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録する態様、な どが好ましい。
[0012] 本発明の光記録媒体は、上側基板と、下側基板と、該下側基板上にホログラフィを 利用して情報を記録する記録層と、前記下側基板と該記録層との間にフィルタ層とを 有してなり、前記フィルタ層力 単層のコレステリック液晶層を有し、該コレステリック液 晶層が、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する 本発明の光記録媒体によれば、上記構成により、入射角が変化しても選択反射波 長にずれが生じることなぐ記録又は再生時に用いられる情報光及び参照光、さらに 再生光は、反射膜に到達しないので、反射面上での乱反射による拡散光が発生する ことを防ぐことができる。従って、この拡散光によって生じるノイズが再生像に重畳され て CMOSセンサ又は CCD上で検出されることもなぐ再生像が少なくともエラー訂正 可能な程度に検出することができるようになる。拡散光によるノイズ成分はホログラム の多重度が大きくなればなるほど大きな問題となる。つまり、多重度が大きくなればな るほど、例えば多重度が 10以上になると、 1つのホログラムからの回折効率が極めて 小さくなり、拡散ノイズがあると再生像の検出が非常に困難となるのである。本発明に よれば、このような困難性は除去することができ、今までにない高密度画像記録が実 現できる。
[0013] 本発明の光記録媒体においては、光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光 反応性基とを有し、該キラル部位力 Sイソソルビド化合物、イソマン-ドィ匕合物及びピナ フトールイヒ合物力 選択される少なくとも 1種である態様、光反応性基が、光照射によ り炭素 炭素二重結合のトランス力 シスへの異性ィ匕を生じる基である態様が好まし い。 本発明の光記録媒体によれば、前記フィルタ層のコレステリック液晶層における前 記カイラルイ匕合物として感光性を有し、光によって液晶の螺旋ピッチを大きく変化さ せることができる光反応型カイラル化合物を用い、該光反応型カイラル化合物の含有 量や UV照射時間を調整することにより、螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に連続的 に変化したフィルタ層が得られる。
[0014] 本発明の光記録媒体においては、コレステリック液晶層における選択反射波長帯 域が連続的である態様、コレステリック液晶層における選択反射波長帯域幅が ΙΟΟη m以上である態様、フィルタ層が、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異 なる第二の波長の光を反射する態様、第一の波長の光が 350〜600nmであり、 つ第二の波長の光が 600〜900nmである態様、え 〜 λ /cos20° (ただし、 λ
0 0 0 は照射光波長を表す）における光反射率が 40%以上である態様、 λ 〜λ /cos4
0 0
0° (ただし、 λ は照射光波長を表す）における光反射率が 40%以上である態様、
0
基板が、サーボピットパターンを有する態様、サーボピットパターン表面に反射膜を 有する態様、反射膜が、金属反射膜である態様、などが好ましい。
[0015] 本発明の光記録媒体においては、フィルタ層と反射膜との間に、基板表面を平滑 化するための第 1ギャップ層を有する態様が好ましい。本発明の光記録媒体によれ ば、フィルタ層と反射膜との間に第 1ギャップ層を設けることにより、反射膜を保護する と共に、記録層に生成されるホログラムの大きさを調整することができる。
本発明の光記録媒体においては、記録層とフィルタ層との間に、第 2ギャップ層を 有する態様が好ましい。本発明によれば、前記第 2ギャップ層を設けて、情報光及び 再生光がフォーカシングするポイントを存在させることができる。このエリアをフォトポリ マーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こり多重記録能が下が つてしまう。そこで、無反応で透明な第 2ギャップ層を設けることが有効となる。
[0016] 本発明の光記録媒体の製造方法は、本発明の前記光記録媒体を製造する方法で あって、
本発明の前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形状に加工し、該加工したフィ ルタを前記下側基板と貼り合わせてフィルタ層を形成するフィルタ層形成工程を含む 本発明の光記録媒体の製造方法によれば、前記フィルタ層形成工程では、光記録 媒体用フィルタを光記録媒体形状に切り出し、該切り出したフィルタを前記下側基板 と貼り合わせてフィルタ層を形成するので、従来に比べて効率よぐ低コストで光記録 媒体を大量生産することができる。
[0017] 本発明の光記録方法は、本発明の前記光記録媒体に対し情報光及び参照光を同 軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を 記録層に記録する。
本発明の光記録方法によれば、本発明の前記光記録媒体を用いて、情報光及び 参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによ つて情報を記録層に記録することにより、今までにない高密度記録を実現することが できる。
[0018] 本発明の光再生方法は、本発明の前記光記録方法により記録層に記録された干 渉パターンに参照光を照射して情報を再生する。
本発明の光再生方法によれば、本発明の前記光記録方法により記録層に記録さ れた干渉パターンを効率よぐ正確に読み取って高密度記録情報を再生することが できる。
図面の簡単な説明
[0019] [図 1]図 1は、従来の光記録媒体の構造の一例を示す概略断面図である。
[図 2]図 2は、本発明の光記録媒体用フィルタの正面 (0° )からの入射光に対する反 射特性を示すグラフである。
[図 3]図 3は、本発明の光記録媒体用フィルタ層内の 40° 傾斜方向からの入射光に 対する反射特性を示すグラフである。
[図 4]図 4は、本発明の別の光記録媒体用フィルタの正面 (0° )からの入射光に対す る反射特性を示すグラフである。
[図 5]図 5は、本発明の更に別の光記録媒体用フィルタ層内の 20° 傾斜方向からの 入射光に対する反射特性を示すグラフである。
[図 6]図 6は、本発明による第一の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断 面図である。 [図 7]図 7は、本発明による第二の実施形態に係る光記録媒体の一例を示す概略断 面図である。
[図 8]図 8は、本発明による光記録媒体周辺の光学系の一例を示す説明図である。
[図 9]図 9は、本発明の光記録媒体を搭載した光記録再生装置の全体構成の一例を 表すブロック図である。 発明を実施するための最良の形態
[0020] (光記録媒体用フィルタ）
本発明の光記録媒体用フィルタは、単層のコレステリック液晶層を有してなり、基材 、更に必要に応じてその他の部材を有してなる。
[0021] <単層のコレステリック液晶層 >
前記単層のコレステリック液晶層は、少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応 型カイラルイ匕合物を含有してなり、重合性モノマー、更に必要に応じてその他の成分 を含有してなる。
[0022] 前記光記録媒体用フィルタにおけるコレステリック液晶層は、光反応型カイラルイ匕 合物を用 、螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に連続的に変化させることにより、垂直 入射を 0° とし ± 20° の範囲であるえ 〜λ /cos20° (ただし、 λ は照射光波長
0 0 0
を表す）における光反射率力 0%以上であることが好ましぐ垂直入射を 0° とし ±4 0° の範囲であるえ 〜λ /cos40° (ただし、 λ は照射光波長を表す）における光
0 0 0
反射率力 0%以上であることが特に好まし 、。
前記え 〜λ /cos20° 、特にえ 〜λ /cos40° (ただし、 λ は照射光波長を表
0 0 0 0 0
す)の範囲における光反射率が 40%以上であれば、照射光反射の角度依存性を解 消でき、通常の光記録媒体に用いられているレンズ光学系を採用することができる。
[0023] 具体的には、前記カイラルイ匕合物として感光性を有し、光によって液晶の螺旋ピッ チを大きく変化させることができる光反応型カイラル化合物を用い、該光反応型カイ ラル化合物の含有量や UV照射時間を調整することにより、螺旋ピッチを液晶層の厚 み方向に連続的に変化した光記録媒体用フィルタが得られる。この図 2は正面 (0° ) からの垂直入射光に対する反射特性が 40%以上であることを示して ヽる。これに対 し、斜め方向からの入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、液晶層内で 40 ° 傾斜した時は図 3に示すような反射特性を示す。
同様に、該光反応型カイラル化合物の含有量や UV照射時間を調整することにより 、螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に連続的に変化させると、図 4に示すような反射特 性を有する光記録媒体用フィルタが得られる。この図 4は正面 (0° )からの垂直入射 光に対する反射特性力 0%以上であることを示している。これに対し、斜め方向から の入射光になると次第に短波長側にシフトしていき、液晶層内で 20° 傾斜した時は 図 5に示すような反射特性を示す。
なお、図 2に示した λ 〜1. 3 λ の反射域は、 λ = 532nmのとき 1. 3 λ =692η
0 0 0 0
mとなり、サーボ光が 655nmの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示す λ 〜1
0
. 3 λ の範囲はフィルタ層における ±40° 入射光への適性である力 実際にそうし
0
た大きな斜め光まで使用する場合は、入射角 ± 20° 以内のサーボ光をマスキングし て使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタ層におけるコレステ リック液晶層の螺旋ピッチを十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を ± 20° 以 内で全て設計することも容易であり、その場合は図 4に示す λ 〜1. 1 λ のコレステリ
0 0
ック液晶層でよいのでサーボ光透過には全く支障がなくなる。
したがって図 2〜図 5の結果から、本発明の光記録媒体用フィルタ内においては、 入射波長が 0° 〜20° (好ましくは 0° 〜40° )傾斜しても 40%以上の反射率が確 保できて!/ヽるので、信号読み取りには何ら支障のな ヽ光記録媒体用フィルタを作製 することができる。
前記コレステリック液晶層としては、円偏光分離機能を有するものが好ましい。前記 円偏光分離機能を有するコレステリック液晶層は、液晶の螺旋の回転方向（右回り又 は左回り）と円偏光方向とがー致し、波長が液晶の螺旋ピッチであるような円偏光成 分の光だけを反射する選択反射特性を有する。このコレステリック液晶層の選択反射 特性を利用して、一定の波長帯域の自然光から特定波長の円偏光のみを透過分離 し、その残りを反射する。
したがって、前記コレステリック液晶層は、第一の波長の光を透過し、該第一の波長 の光と異なる第二の波長の円偏光を反射することが好ましぐ第一の波長の光が 350 〜600nmであり、かつ第二の波長の光が 600〜900nmであることが好ましい。 [0025] 前記コレステリック液晶層の選択反射波長帯域幅は、 lOOnm以上が好ましぐ 150 〜300nmがより好ましい。前記選択反射波長帯域幅が lOOnm未満であると、 ± 20 ° 以内の入射光に対する反射適性が不十分となることがある。
また、前記コレステリック液晶層の選択反射波長帯域は連続的であることが好まし い。ここで、前記「連続的」とは、波長え 〜λ /cos20° (好ましくはえ 〜λ /cos
0 0 0 0
40° )の間にギャップがなぐ実質的にこの範囲の反射率力 0%以上であることを意 味する。
[0026] ーネマチック液晶化合物
前記ネマチック液晶化合物は、液晶転移温度以下ではその液晶相が固定ィ匕するこ とを特徴とし、その屈折率異方性 Δ ηが、 0. 10〜0. 40の液晶化合物、高分子液晶 化合物、及び重合性液晶化合物の中から目的に応じて適宜選択することができる。 溶融時の液晶状態にある間に、例えば、ラビング処理等の配向処理を施した配向基 板を用いる等により配向させ、そのまま冷却等して固定ィ匕させることにより固相として 使用することができる。
[0027] 前記ネマチック液晶化合物としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択する ことができ、例えば、下記の化合物などを挙げることができる。
[0028] [化 1]
Figure imgf000012_0001
Figure imgf000012_0002
2] き〔s〔〕003
Figure imgf000013_0001
Figure imgf000014_0001
Figure imgf000014_0002
Figure imgf000014_0003
[0031] 前記式中において、 nは 1〜： LOOOの整数を表す。なお、前記各例示化合物におい ては、その側鎖連結基を、以下の構造に変えたものも同様に好適なものとして挙げる ことができる。
[0032] [化 4]
Figure imgf000015_0001
Figure imgf000015_0002
上記の各例示化合物のうち、ネマチック液晶化合物としては、十分な硬化性を確保 する観点から、分子内に重合性基を有するネマチック液晶化合物が好ましぐこれら の中でも、 UV重合性液晶が好適である。該 UV重合性液晶としては、市販品を用い ることができ、例えば、 BASF社製の商品名 PALIOCOLOR LC242 ;Merck社製 の商品名 E 7； Wacker - Chem社製の商品名 LC— Silicon CC 3767；高砂香料 株式会社製の商品名 L35、 L42、 L55、 L59、 L63、 L79、 L83、など力挙げられる。 [0034] 前記ネマチック液晶化合物の含有量としては、前記コレステリック液晶層の全固形 分質量に対し 30〜99質量％が好ましぐ 50〜99質量％がより好ましい。前記含有 量が 30質量％未満であると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となることがある
[0035] 一光反応型カイラル化合物
前記光反応型カイラル化合物とは、感光性を有し、光によって液晶の螺旋ピッチを 大きく変化させることができるカイラルイ匕合物を意味する。
前記光反応型カイラル化合物は、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部 位力 ソソルビドィ匕合物、イソマン-ドィ匕合物及びビナフトールイ匕合物から選択される 少なくとも 1種であることが好ましい。
前記光反応性基としては、光照射により炭素 炭素二重結合のトランスからシスへ の異性ィ匕を生じる基が好まし 、。
[0036] 前記イソソルビド化合物としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択すること ができ、例えば、特開 2002— 80851号公報、特開 2002— 179681号公報、特開 2 002— 179682号公報、特開 2002— 338575号公報、特開 2002— 338668号公 報、特開 2003— 306490号公報、特開 2003— 306491号公報、特開 2003— 313 187号公報、特開 2003— 313292号公報、特開 2003— 313189号公報、などに 例示されている。
前記イソマンニド化合物としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択すること ができ、例えば、特開 2002— 80478号公報、特開 2003— 313188号公報、などに 例示されている。
前記ビナフトールイ匕合物としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択すること ができ、例えば、特開 2002— 302487号公報、特開 2002— 179670号公報、特開 2002— 179669号公報、など【こ ί列示されて ヽる。
[0037] 前記光反応型カイラル剤の具体例としては、以下のものが挙げられる。
[化 5]
Figure imgf000017_0001
Figure imgf000017_0002
Figure imgf000017_0003
Figure imgf000017_0004
[0038] [ィ匕 6]
Figure imgf000018_0001
Figure imgf000018_0002
7]
Figure imgf000019_0001
Figure imgf000019_0002
[0040] 前記カイラルイヒ合物の含有量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量 に対し 1〜30質量％が好ましぐ 1〜20質量％がより好ましい。前記含有量が 1質量 %未満であると、螺旋ピッチが長くなりすぎて、システムとして採用できる選択波長か ら外れることがあり、 30質量％を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分とな ることがある。
[0041] 一重合性モノマ
前記コレステリック液晶層には、例えば、膜強度等の硬化の程度を向上させる目的 で重合性モノマーを併用することができる。該重合性モノマーを併用すると、光照射 による液晶の捻れ力を変化 (パターンニング)させた後（例えば、選択反射波長の分 布を形成した後）、その螺旋構造 (選択反射性)を固定ィ匕し、固定ィ匕後のコレステリッ ク液晶層の強度をより向上させることができる。ただし、前記液晶化合物が同一分子 内に重合性基を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。
前記重合性モノマーとしては、特に制限はなぐ公知のものの中から目的に応じて 適宜選択することができ、例えば、エチレン性不飽和結合を持つモノマー等が挙げら れ、具体的には、ペンタエリスリトールテトラアタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ アタリレート等の多官能モノマーが挙げられる。
前記エチレン性不飽和結合を持つモノマーの具体例としては、以下に示す化合物 を挙げることができる。これらは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用しても よい。
[化 8]
Figure imgf000021_0001
0 O
CHi=CH (k)(C2H40》aC2H40 CH: =CH,
Figure imgf000021_0002
A： m*= 1 , a = 6 , b∞ 0
B： m=2 , a = 6 . b = 0
Figure imgf000021_0003
CHz=CHCOCH2CHCH20{CH2)sOCH2iHCH20CCH-CH
[0043] 前記重合性モノマーの添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量 に対し 0〜50質量％が好ましぐ 1〜20質量％がより好ましい。前記添加量が 50質 量％を超えると、コレステリック液晶層の配向を阻害することがある。
[0044] その他の成分
前記その他の成分としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することがで き、例えば、光重合開始剤、增感剤、バインダー榭脂、重合禁止剤、溶媒、界面活性 剤、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤、などが挙げられる。 [0045] 前記光重合開始剤としては、特に制限はなぐ公知のものの中から目的に応じて適 宜選択することができ、例えば、 p—メトキシフエ-ルー 2, 4—ビス（トリクロロメチル） —s—トリァジン、 2— (p—ブトキシスチリル）一 5—トリクロロメチル 1, 3, 4—ォキサジ ァゾール、 9—フエ二ルァクリジン、 9, 10—ジメチルベンズフエナジン、ベンゾフエノ ン Zミヒラーズケトン、へキサァリールビイミダゾール Zメルカプトべンズイミダゾール、 ベンジルジメチルケタール、チォキサントン Zァミン、などが挙げられる。これらは、 1 種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤としては、市販品を用いることができ、該市販品としては、例え ば、チバスペシャルティケミカルズ社製の商品名ィルガキュア 907、ィルガキュア 369 、ィルガキュア 784、ィルガキュア 814 ; BASF社製の商品名ルシリン TPO、などが挙 げられる。
[0046] 前記光重合開始剤の添加量としては、前記コレステリック液晶層の全固形分質量に 対し 0. 1 20質量％が好ましぐ 0. 5 5質量％がより好ましい。前記添加量が 0. 1 質量％未満であると、光照射時の硬化効率が低いため長時間を要することがあり、 2 0質量％を超えると、紫外線領域力も可視光領域での光透過率が劣ることがある。
[0047] 前記バインダー榭脂としては、特に制限はなぐ公知のものの中から目的に応じて 適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール;ポリスチレン、ポリ— —メ チルスチレン等のポリスチレン化合物；メチルセルロース、ェチルセルロース、ァセチ ルセルロース等のセルロース榭脂；側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース 誘導体；ポリビュルフォルマール、ポリビュルブチラール等のァセタール榭脂;メタタリ ル酸共重合体、アクリル酸共重合体、ィタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ イン酸共重合体、部分エステルィヒマレイン酸共重合体；アクリル酸アルキルエステル のホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステルのホモポリマー；その他の水酸基 を有するポリマー、などが挙げられる。これらは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以 上を併用してもよい。
前記アクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はメタアクリル酸アルキルエステ ルのホモポリマーにおけるアルキル基としては、例えば、メチル基、ェチル基、 η—プ 口ピル基、 η—ブチル基、 iso—ブチル基、 n キシル基、シクロへキシル基、 2—ェ チルへキシル基、などが挙げられる。
前記その他の水酸基を有するポリマーとしては、例えば、ベンジル (メタ)アタリレー ト Z (メタアクリル酸のホモポリマー）アクリル酸共重合体、ベンジル (メタ）アタリレート / (メタ)アクリル酸 Z他のモノマーの多元共重合体、などが挙げられる。
[0048] 前記ノ インダー榭脂の含有量としては、前記コレステリック液晶層の全固形質量に 対し 0〜80質量％が好ましぐ 0〜50質量％がより好ましい。前記含有量が 80質量 %を超えると、コレステリック液晶層の配向が不十分となることがある。
[0049] 前記重合禁止剤としては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができ 、例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フエノチアジン、ベンゾ キノン、又はこれらの誘導体、などが挙げられる。
前記重合禁止剤の添加量としては、前記重合性モノマーの固形分に対し 0〜 10質 量％が好ましく、 1 OOppm〜 1質量％がより好まし ヽ。
[0050] 前記溶媒としては、特に制限はなぐ公知のものの中から目的に応じて適宜選択す ることができ、例えば、 3—メトキシプロピオン酸メチルエステル、 3—メトキシプロピオ ン酸ェチルエステル、 3—メトキシプロピオン酸プロピルエステル、 3—エトキシプロピ オン酸メチルエステル、 3—エトキシプロピオン酸ェチルエステル、 3—エトキシプロピ オン酸プロピルエステル等のアルコキシプロピオン酸エステル類； 2—メトキシプロピ ノレアセテート、 2—エトキシプロピノレアセテート、 3—メトキシブチノレアセテート等のァ ルコキシアルコールのエステル類；乳酸メチル、乳酸ェチル等の乳酸エステル類;メ チルェチルケトン、シクロへキサノン、メチルシクロへキサノン等のケトン類； Ί—プチ 口ラタトン、 Ν—メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、クロ口ホルム、テトラヒドロフラ ン、などが挙げられる。これらは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用しても よい。
[0051] <基材>
前記基材としては、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなぐ 目的に 応じて適宜選択することができ、前記形状としては、例えば平板状、シート状などが 挙げられ、前記構造としては、単層構造であってもいし、積層構造であってもよぐ前 記大きさとしては、前記光記録媒体用フィルタの大きさ等に応じて適宜選択すること ができる。
[0052] 前記基材の材料としては、特に制限はなぐ無機材料及び有機材料のいずれをも 好適に用いることができる。
前記無機材料としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、などが挙げられる。
前記有機材料としては、例えば、トリァセチルセルロース等のアセテート系榭脂、ポ リエステル系榭脂、ポリエーテルスルホン系榭脂、ポリスルホン系榭脂、ポリカーボネ 一ト系榭脂、ポリアミド系榭脂、ポリイミド系榭脂、ポリオレフイン系榭脂、アクリル系榭 脂、ポリノルボルネン系榭脂、セルロース系榭脂、ポリアリレート系榭脂、ポリスチレン 系榭脂、ポリビニルアルコール系榭脂、ポリ塩ィ匕ビ二ル系榭脂、ポリ塩ィ匕ビ二リデン系 榭脂、ポリアクリル系榭脂、などが挙げられる。これらは、 1種単独で使用してもよいし 、 2種以上を併用してもよい。
[0053] 前記基材は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
前記基材の厚みとしては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができ 、 10〜500 111カ好ましく、 50〜300 111カょり好まし1ヽ。前記基材の厚み力 10 m未満であると、基板の橈みにより密着性が低下することがある。一方、 500 mを超 えると、情報光と参照光の焦点位置を大きくずらさなければならなくなり、光学系サイ ズが大きくなつてしまう。
[0054] 前記光記録媒体用フィルタの形成方法としては、例えば、前記溶媒を用いて調製し たコレステリック液晶層用塗布液を前記基材上に塗布し、乾燥させて、例えば紫外線 照射することにより、コレステリック液晶層を形成することができる。
最も量産適性のょ 、手法としては、前記基材をロール状に卷 、た形で準備してお き、該基材上にコレステリック液晶層用塗布液をバーコート、ダイコート、ブレードコー ト、カーテンコートのような長尺連続コーターにて塗布する形式が好ましい。
[0055] 前記塗布方法としては、例えば、スピンコート法、キャスト法、ロールコート法、フロ 一コート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷 法、などが挙げられる。
前記紫外線照射の条件としては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択すること ができ、例えば、照射紫外線は、 160〜380nmが好ましぐ 250〜380nmがより好 ましい。照射時間としては、例えば、 0. 1〜600秒が好ましぐ 0. 3〜300秒がより好 ましい。紫外線照射の条件を調整することによって前記コレステリック液晶層における 螺旋ピッチを液晶層の厚み方向に沿って連続的に変化させることができる。
[0056] 前記紫外線照射の条件を調整するために、前記コレステリック液晶層に紫外線吸 収剤を添加することもできる。該紫外線吸収剤としては、特に制限はなぐ目的に応じ て適宜選択することができ、例えば、ベンゾフエノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾ ール系紫外線吸収剤、サリチル酸系紫外線吸収剤、シァノアクリレート系紫外線吸 収剤、ォキザリックアシッドァ-リド系紫外線吸収剤などが好適に挙げられる。これら の紫外線吸収剤の具体例としては、特開昭 47— 10537号公報、同 58— 111942号 公報、同 58— 212844号公報、同 59— 19945号公報、同 59— 46646号公報、同 5 9— 109055号公報、同 63— 53544号公報、特公昭 36— 10466号公報、同 42— 2 6187号公報、同 48— 30492号公報、同 48— 31255号公報、同 48— 41572号公 報、同 48— 54965号公報、同 50— 10726号公報、米国特許第 2, 719, 086号明 細書、同第 3, 707, 375号明細書、同第 3, 754, 919号明細書、同第 4, 220, 71 1号明細書などに記載されている。
[0057] 前記コレステリック液晶層の厚みは、例えば、 1〜： LO /z mが好ましぐ 2〜7 /z mがよ り好ましい。前記厚みが: L m未満であると、選択反射率が十分でなくなり、 mを 超えると、液晶層の均一配向が乱れてしまうことがある。
[0058] 前記コレステリック液晶層は、前記基材上にコレステリック液晶層用塗布液を塗布し 、配向し、固化され、基材ごとディスク形状に加工 (例えば、打ち抜き加工)して、下側 基板上に配置されるのが好ましい。また、光記録媒体のフィルタ層に用いる場合には 、基材を介さず直接下側基板上に設けることもできる。具体的には、（1)下側基板に 直接スピンコート等の手段で塗布する方法、 (2)基板上にー且コレステリック液晶層 を形成した後、下側基板上にラミネートして基材のみを剥ぎ取り、得られたコレステリ ック液晶層を下側基板に貼り付ける方法、などが挙げられる。
[0059] 本発明の光記録媒体用フィルタは、各種分野において使用することができ、ホログ ラム型の光記録媒体の形成乃至製造に好適に使用することができ、以下の本発明の ホログラム型の光記録媒体及びその製造方法、並びに光記録方法及び光再生方法 に特に好適に使用することができる。
[0060] (光記録媒体）
本発明の光記録媒体は、上側基板と、下側基板と、該下側基板上に記録層と、前 記下側基板と前記記録層との間にフィルタ層とを有してなり、反射膜、第 1ギャップ層 、第 2ギャップ層、更に必要に応じてその他の層を有してなる。
前記フィルタ層としては、本発明の前記光記録媒体用フィルタが用いられる。
[0061] 一基板—
前記基板は、その形状、構造、大きさ等については、特に制限はなぐ 目的に応じ て適宜選択することができ、前記形状としては、例えば、ディスク形状、カード形状な どが挙げられ、光記録媒体の機械的強度を確保できる材料のものを選定する必要が ある。また、記録及び再生に用いる光が基板を通して入射する場合は、用いる光の 波長領域で十分に透明であることが必要である。
前記基板材料としては、通常、ガラス、セラミックス、榭脂、などが用いられるが、成 形性、コストの点から、榭脂が特に好適である。
前記榭脂としては、例えば、ポリカーボネート榭脂、アクリル榭脂、エポキシ榭脂、ポ リスチレン榭脂、アクリロニトリル スチレン共重合体、ポリエチレン榭脂、ポリプロピレ ン榭脂、シリコーン榭脂、フッ素榭脂、 ABS榭脂、ウレタン榭脂、などが挙げられる。 これらの中でも、成形性、光学特性、コストの点から、ポリカーボネート榭脂、アクリル 榭脂が特に好ましい。
前記基板は、適宜合成したものであってもよいし、市販品を使用してもよい。
[0062] 前記基板には、半径方向に線状に延びる複数の位置決め領域としてのアドレス サーボエリアが所定の角度間隔で設けられ、隣り合うアドレス サーボエリア間の扇 形の区間がデータエリアになっている。アドレス サーボエリアには、サンプルドサ一 ボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うための情報とアドレス 情報とが、予めエンボスピット（サーボピット）等によって記録されている（プリフォーマ ット)。なお、フォーカスサーボは、反射膜の反射面を用いて行うことができる。トラツキ ングサーボを行うための情報としては、例えば、ゥォブルピットを用いることができる。 なお、光記録媒体がカード形状の場合には、サーボピットパターンは無くても構わな い。
[0063] 前記基板の厚みとしては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ 、 0. l〜5mmが好ましぐ 0. 3〜2mmがより好ましい。前記基板の厚みが、 0. lmm 未満であると、ディスク保存時の形状の歪みを抑えられなくなることがあり、 5mmを超 えると、ディスク全体の重量が大きくなつてドライブモーターに過剰な負荷をかけるこ とがある。
[0064] 記録層
前記記録層は、ホログラフィを利用して情報が記録され得るものであり、所定の波長 の電磁波を照射すると、その強度に応じて吸光係数や屈折率などの光学特性が変 化する材料が用いられる。
[0065] 前記記録層の材料としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することがで き、例えば、（1)光照射で重合反応が起こり高分子化するフォトポリマー、（2)フォトリ フラクティブ効果 (光照射で空間電荷分布が生じて屈折率が変調する）を示すフォトリ フラクティブ材料、 (3)光照射で分子の異性ィ匕が起こり屈折率が変調するフォトクロミ ック材料、（4)ニオブ酸リチウム、チタン酸バリウム等の無機材料、（5)カルコゲン材 料、などが挙げられる。
[0066] 前記（1)のフォトポリマーとしては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択すること ができ、例えば、モノマー、及び光開始剤を含有してなり、更に必要に応じて増感剤 、オリゴマー等のその他の成分を含有してなる。
[0067] 前記フォトポリマーとしては、例えば、「フォトポリマーハンドブック」（工業調査会、 1 989年）、「フォトポリマーテクノロジー」（日刊工業新聞社、 1989年）、 SPIE予稿集 Vol. 3010 p354— 372 (1997)、及び SPIE予稿集 Vol. 3291 p89— 103 (19 98)に記載されているものを用いることができる。また、米国特許第 5,759,721号明 細書、同第 4,942,112号明細書、同第 4,959,284号明細書、同第 6,221, 536号明 細書、国際公開第 97Z44714号パンフレット、同第 97Z13183号パンフレット、同 第 99Z26112号パンフレット、同第 97Z13183号パンフレット、特許第 2880342 号公報、同第 2873126号公報、同第 2849021号公報、同第 3057082号公報、同 第 3161230号公報、欄 2001— 316416号公報、欄 2000— 275859号公報、 などに記載されているフォトポリマーを用いることができる。
[0068] 前記フォトポリマーに記録光を照射して光学特性を変化させる方法としては、低分 子成分の拡散を利用した方法などが挙げられる。また、重合時の体積変化を緩和す るため、重合成分とは逆方向へ拡散する成分を添加してもよぐ或いは、酸開裂構造 を有する化合物を重合体のほかに別途添加してもよい。なお、前記低分子成分を含 むフォトポリマーを用いて記録層を形成する場合には、記録層中に液体を保持可能 な構造を必要とすることがある。また、前記酸開裂構造を有する化合物を添加する場 合には、その開裂によって生じる膨張と、モノマーの重合によって生じる収縮とを補 償させることにより体積変化を抑制してもよい。
[0069] 前記モノマーとしては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができ、例 えば、アクリル基ゃメタクリル基のような不飽和結合を有するラジカル重合型のモノマ 一、エポキシ環ゃォキセタン環のようなエーテル構造を有するカチオン重合型系モノ マーなどが挙げられる。これらのモノマーは、単官能であっても多官能であっても構 わない。また、光架橋反応を利用したものであっても構わない。
[0070] 前記ラジカル重合型のモノマーとしては、例えば、アタリロイルモルホリン、フエノキ シェチルアタリレート、イソボル-ルアタリレート、 2—ヒドロキシプロピルアタリレート、 2 ェチルへキシルアタリレート、 1,6 へキサンジオールジアタリレート、トリプロピレン グリコールジアタリレート、ネオペンチルグリコール PO変性ジアタリレート、 1,9ーノナ ンジオールジアタリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアタリレート 、 EO変性ビスフエノール Aジアタリレート、ポリエチレングリコールジアタリレート、ペン タエリスリトールトリアタリレート、ペンタエリスリトールテトラアタリレート、ペンタエリスリト ールへキサアタリレート、 EO変性グリセロールトリアタリレート、トリメチロールプロパン トリアタリレート、 EO変性トリメチロールプロパントリアタリレート、 2—ナフト一 1—ォキ シェチルアタリレート、 2—力ルバゾィル—9—ィルェチルアタリレート、 （トリメチルシリ ルォキシ）ジメチルシリルプロピルアタリレート、ビュル 1 ナフトエート、 N ビニノレ カルバゾール、などが挙げられる。
前記カチオン重合型系モノマーとしては、例えば、ビスフエノール Aエポキシ榭脂、 フエノールノボラックエポキシ榭脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、 1,6 へキ サングリシジルエーテル、ビュルトリメトキシシラン、 4—ビュルフエ-ルトリメトキシシラ ン、 γ—メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、下記構造式 (Α)〜(Ε)で表される 化合物、などが挙げられる。
これらモノマーは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。
[化 9] 構造式 （Α )
Figure imgf000029_0001
Figure imgf000029_0002
Figure imgf000029_0003
Figure imgf000029_0004
構造式 （Ε )
Figure imgf000029_0005
前記光開始剤としては、記録光に感度を有するものであれば特に制限はなぐ光照 射によりラジカル重合、カチオン重合、架橋反応などを引き起こす材料などが挙げら れる。
前記光開始剤としては、例えば、 2,2' ビス（ο クロ口フエ-ル）—4,4' , 5, 5' テトラフエ-ル一 1, 1，一ビイミダゾール、 2, 4, 6 トリス（トリクロロメチル） 1, 3, 5 —トリァジン、 2, 4 ビス（トリクロロメチル） 6— (p—メトキシフエ-ルビ-ル）一 1, 3 , 5—トリアジン、ジフエ-ルョードニゥムテトラフルォロボレート、ジフエ-ルョード-ゥ ムへキサフルォロホスフェート、 4, 4'ージー tーブチルジフエ-ルョードニゥムテトラ フルォロボレート、 4ージェチルァミノフエ-ルベンゼンジァゾ -ゥムへキサフルォロホ スフェート、ベンゾイン、 2—ヒドロキシ一 2—メチル 1—フエ-ルプロパン一 2—オン 、ベンゾフエノン、チォキサントン、 2, 4, 6 トリメチルベンゾィルジフエニルァシルホ スフインォキシド、トリフエニルブチルボレートテトラェチルアンモニゥム、下記構造式 で表されるチタノセンィ匕合物、などが挙げられる。これらは、 1種単独で使用してもよ いし、 2種以上を併用してもよい。また、照射する光の波長に合わせて増感色素を併 用しても構わない。
[化 10]
Figure imgf000030_0001
前記フォトポリマーは、前記モノマー、前記光開始剤、更に必要に応じてその他の 成分を攪拌混合し、反応させること〖こよって得られる。得られたフォトポリマーが十分 低い粘度ならばキャスティングすることによって記録層を形成することができる。一方 、キャスティングできない高粘度フォトポリマーである場合には、ディスペンサーを用 いて下側基板にフォトポリマーを盛りつけ、このフォトポリマー上に上側基板で蓋をす るように押し付けて、全面に広げて記録層を形成することができる。 [0073] 前記（2)のフォトリフラクティブ材料としては、フォトリフラクティブ効果を示すもので あるならば特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電荷発 生材、及び電荷輸送材を含有してなり、更に必要に応じてその他の成分を含有して なる。
[0074] 前記電荷発生材としては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができ 、例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニン、又はそれらの誘導体等のフタ ロシアニン色素 Z顔料；ナフタロシアニン色素 Z顔料；モノァゾ、ジスァゾ、トリスァゾ 等のァゾ系色素 Z顔料；ペリレン系染料 Z顔料；インジゴ系染料 Z顔料；キナクリドン 系染料 Z顔料；アントラキノン、アントアントロン等の多環キノン系染料 Z顔料；シァニ ン系染料 Z顔料; TTF— TCNQで代表されるような電子受容性物質と電子供与性 物質と力もなる電荷移動錯体;ァズレニウム塩; C 及び C で代表されるフラーレン
60 70
並びにその誘導体であるメタノフラーレン、などが挙げられる。これらは、 1種単独で 使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。
[0075] 前記電荷輸送材は、ホール又はエレクトロンを輸送する材料であり、低分子化合物 であってもよぐ又は高分子化合物であってもよい。
前記電荷輸送材としては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができ 、例えば、インドール、カルバゾール、ォキサゾール、インォキサゾール、チアゾール 、イミダゾール、ピラゾール、ォキサアジアゾール、ピラゾリン、チアチアゾール、トリア ゾール等の含窒素環式化合物、又はその誘導体；ヒドラゾンィ匕合物；トリフエニルアミ ン類；トリフエ-ルメタン類；ブタジエン類;スチルベン類；アントラキノンジフエノキノン 等のキノンィ匕合物、又はその誘導体; C 及び C 等のフラーレン並びにその誘導体;
60 70
ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチォフェン、ポリア-リン等の π共役系高分子又は オリゴマー；ポリシラン、ポリゲルマン等の σ共役系高分子又はオリゴマー；アントラセ ン、ピレン、フエナントレン、コロネン等の多環芳香族化合物、などが挙げられる。これ らは、 1種単独で使用してもよいし、 2種以上を併用してもよい。
[0076] 前記フォトリフラクティブ材料を用いて記録層を形成方法としては、例えば、前記フ オトリフラクティブ材料を溶媒中に溶解乃至は分散させてなる塗布液を用いて塗膜を 形成し、この塗膜から溶媒を除去することにより記録層を形成することができる。また 、加熱して流動化させた前記フォトリフラクティブ材料を用いて塗膜を形成し、この塗 膜を急冷することにより記録層を形成することもできる。
[0077] 前記（3)のフォトクロミック材料は、フォトクロミック反応を起こす材料であれば特に制 限はなく、 目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ァゾベンゼンィ匕合物、スチ ルベン化合物、インジゴ化合物、チォインジゴ化合物、スピロピラン化合物、スピロォ キサジンィ匕合物、フルキド化合物、アントラセンィ匕合物、ヒドラゾンィ匕合物、桂皮酸ィ匕 合物、などが挙げられる。これらの中でも、光照射によりシス トランス異性ィ匕により構 造変化を起こすァゾベンゼン誘導体、スチルベン誘導体、光照射により開環ー閉環 の構造変化を起こすスピロピラン誘導体、スピロォキサジン誘導体が特に好まし 、。
[0078] 前記（5)のカルコゲン材料としては、例えば、カルコゲン元素を含むカルコゲナイド ガラスと、このカルコゲナイドガラス中に分散されており光の照射によりカルコゲナイド ガラス中に拡散可能な金属力 なる金属粒子とを含む材料、などが挙げられる。 前記カルコゲナイドガラスは、 S、 Te又は Seのカルコゲン元素を含む非酸ィ匕物系の 非晶質材料力も構成されるものであり、金属粒子の光ドープが可能なものであれば 特に限定されない。
前記カルコゲン元素を含む非晶質材料としては、例えば、 Ge— S系ガラス、 As— S 系ガラス、 As— Se系ガラス、 As— Se— Ce系ガラス等が挙げられ、これらの中では G e S系ガラスが好ま 、。前記カルコゲナイドガラスとして Ge— S系ガラスを用いる 場合には、ガラスを構成する Ge及び Sの組成比は照射する光の波長に応じて任意 に変化させることができる力 主として GeSで表される化学組成を有するカルコゲナ
2
イドガラスが好ましい。
前記金属粒子は、光の照射によりカルコゲナイドガラス中に光ドープされる特性を 有するものであれば特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択することができ、例えば 、 Al、 Au、 Cu、 Cr、 Ni、 Pt、 Sn、 In、 Pd、 Ti、 Fe、 Ta、 W、 Zn、 Ag等が挙げられる 。これらの中では、 Ag、 Au又は Cuが光ドープをより生じやすい特性を有しており、 A gは光ドープを顕著に生じるため特に好ま 、。
前記カルコゲナイドガラスに分散されて 、る金属粒子の含有量としては、前記記録 層の全体積基準で 0. 1〜2体積％が好ましぐ 0. 1〜1. 0体積％がより好ましい。前 記金属粒子の含有量が 0. 1体積％未満であると、光ドープによる透過率変化が不充 分となって記録の精度が低下することがあり、 2体積％を超えると、記録材料の光透 過率が低下して光ドープを充分に生じさせることが困難となることがある。
[0079] 前記記録層は、材料に応じて公知の方法に従って形成することができるが、例えば 、蒸着法、湿式成膜法、 MBE (分子線エピタキシー)法、クラスターイオンビーム法、 分子積層法、 LB法、印刷法、転写法、などにより好適に形成することができる。これ らの中でも、蒸着法、湿式成膜法が好ましい。
[0080] 前記蒸着法としては、特に制限はなぐ目的に応じて公知のものの中から適宜選択 することができるが、例えば、真空蒸着法、抵抗加熱蒸着、化学蒸着法、物理蒸着法 、などが挙げられる。該化学蒸着法としては、例えば、プラズマ CVD法、レーザ CVD 法、熱 CVD法、ガスソース CVD法、などが挙げられる。
[0081] 前記湿式成膜法による前記記録層の形成は、例えば、前記記録層材料を溶剤に 溶解乃至分散させた溶液 (塗布液)を用いる（塗布し乾燥する）ことにより、好適に行う ことができる。該湿式成膜法としては、特に制限はなぐ目的に応じて公知のものの 中力も適宜選択することができ、例えば、インクジェット法、スピンコート法、ニーダー コート法、バーコート法、ブレードコート法、キャスト法、ディップ法、カーテンコート法 などが挙げられる。
[0082] 前記記録層の厚みとしては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することがで さ、 1〜： LOOO /z m力好ましく、 100〜700 111カ^ょり好まし1ヽ0
前記記録層の厚みが、前記好ましい数値範囲であると、 10〜300多重のシフト多 重を行っても十分な SZN比を得ることができ、前記より好ましい数値範囲であるとそ れが顕著である点で有利である。
[0083] 一反射膜
前記反射膜は、前記基板のサーボピットパターン表面に形成される。
前記反射膜の材料としては、記録光や参照光に対して高 、反射率を有する材料を 用いることが好ましい。使用する光の波長が 400〜780nmである場合には、例えば 、 Al、 A1合金、 Ag、 Ag合金、などを使用することが好ましい。使用する光の波長が 6 50nm以上である場合には、 Al、 A1合金、 Ag、 Ag合金、 Au、 Cu合金、 TiN、などを 使用することが好ましい。
なお、前記反射膜として、光を反射すると共に、追記及び消去のいずれかが可能な 光記録媒体、例えば、 DVD (ディジタル ビデオ ディスク)などを用い、ホログラムを どのエリアまで記録したかとか、いつ書き換えたかとか、どの部分にエラーが存在し交 替処理をどのように行ったかなどのディレクトリ情報などをホログラムに影響を与えず に追記及び書き換えすることも可能となる。
[0084] 前記反射膜の形成は、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、各 種気相成長法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ CVD法、光 CVD 法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などが用いられる。これらの中でも、 スパッタリング法が、量産性、膜質等の点で優れている。
前記反射膜の厚みは、十分な反射率を実現し得るように、 50nm以上が好ましぐ 1 OOnm以上がより好ましい。
[0085] 第 1ギャップ層一
前記第 1ギャップ層は、必要に応じて前記フィルタ層と前記反射膜との間に設けら れ、下側基板表面を平滑化する目的で形成される。また、記録層内に生成されるホ ログラムの大きさを調整するのにも有効である。即ち、前記記録層は、記録用参照光 及び情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する必要があるので、前記記録層 とサーボピットパターンとの間にギャップを設けることが有効となる。
前記第 1ギャップ層は、例えば、サーボピットパターンの上力も紫外線硬化榭脂等 の材料をスピンコート等で塗布し、硬化させることにより形成することができる。また、 フィルタ層として透明基材の上に塗布形成したものを使用する場合には、該透明基 材が第 1ギャップ層としても働くことになる。
前記第 1ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択するこ とができ、 1〜 200 mが好ましい。
[0086] 第 2ギャップ層—
前記第 2ギャップ層は、必要に応じて記録層とフィルタ層との間に設けられる。 前記第 2ギャップ層の材料としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択するこ とができ、例えば、トリァセチルセルロース (TAC)、ポリカーボネート（PC)、ポリェチ レンテレフタラート（PET)、ポリスチレン（PS)、ポリスルホン（PSF)、ポリビュルアルコ ール（PVA)、ポリメタクリル酸メチル =ポリメチルメタタリレート（PMMA)等のような 透明榭脂フィルム、又は、 JSR社製商品名 ARTONフィルムや日本ゼオン社製商品 名ゼォノアのような、ノルボルネン系榭脂フィルム、などが挙げられる。これらの中でも 、等方性の高いものが好ましぐ TAC、 PC、商品名 ARTON、及び商品名ゼォノア が特に好ましい。
前記第 2ギャップ層の厚みとしては、特に制限はなぐ 目的に応じて適宜選択するこ とができ、 1〜 200 mが好ましい。
[0087] ここで、本発明の光記録媒体について、図面を参照して更に詳しく説明する。
<第一の実施形態 >
図 6は、本発明の第一の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図 である。この第一の実施形態に係る光記録媒体 21では、ポリカーボネート榭脂製基 板又はガラス基板 1にサーボピットパターン 3が形成され、該サーボピットパターン 3 上にアルミニウム、金、白金等でコーティングして反射膜 2が設けられている。なお、 図 6では下側基板 1全面にサーボピットパターン 3が形成されている力 図 1に示すよ うに周期的に形成されていてもよい。また、このサーボピットパターン 3の高さは、通常 1750A (175nm)であり、基板を始め他の層の厚みに比べて充分に小さいものであ る。
[0088] 第 1ギャップ層 8は、紫外線硬化榭脂等の材料を下側基板 1の反射膜 2上にスピン コート等により塗布して形成される。第 1ギャップ層 8は、反射膜 2を保護すると共に、 記録層 4内に生成されるホログラムの大きさを調整するためにも有効である。つまり、 記録層 4において記録用参照光と情報光の干渉領域をある程度の大きさに形成する 必要があるため、記録層 4とサーボピットパターン 3との間にギャップを設けると有効で ある。
第 1ギャップ層 8上にはフィルタ層 6が設けられ、該フィルタ層 6と上側基板 5 (ポリ力 ーボネート榭脂基板やガラス基板）によって記録層 4を挟むことによって光記録媒体 21が構成される。
[0089] 図 6において、フィルタ層 6は、赤色光のみを透過し、それ以外の色の光を通さない ものである。従って、情報光、記録及び再生用参照光は緑色又は青色の光であるの で、フィルタ層 6を透過せず、反射膜 2まで達することなぐ戻り光となり、入出射面 A 力ら出射すること〖こなる。
このフィルタ層 6は、螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した単層のコ レステリック液晶層力もなる。このコレステリック液晶層力もなるフィルタ層 6は、第 1ギ ヤップ層 8上に塗布によって直接形成してもよいし、基材上にコレステリック液晶層を 形成したフィルムを光記録媒体形状に打ち抜!/ヽて配置してもよ!/ヽ。螺旋ピッチが液晶 層の厚み方向に連続的に変化した単層のコレステリック液晶層によって、 λ 〜λ /
0 0 cos20° 、特にえ 〜 λ /cos40° (ただし、 λ は照射光波長を表す）における光
0 0 0
反射率が 40%以上となり、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることが なくなる。
[0090] 本実施形態における光記録媒体 21は、ディスク形状でもいいし、カード形状であつ てもよい。カード形状の場合にはサーボピットパターンは無くてもよい。また、この光記 録媒体 21では、下側基板 1は 0. 6mm、第 1ギャップ層 8は 100 m、フィルタ層 6は 2〜3 μ m、記録層 4は 0. 6mm、上側基板 5は 0. 6mmの厚みであって、合計厚み は約 1. 9mmとなっている。
[0091] 次に、図 8を参照して、光記録媒体 21周辺での光学的動作を説明する。まず、サ ーボ用レーザから出射した光 (赤色光）は、ダイクロイツクミラー 13でほぼ 100%反射 して、対物レンズ 12を通過する。対物レンズ 12によってサーボ用光は反射膜 2上で 焦点を結ぶように光記録媒体 21に対して照射される。つまり、ダイクロイツクミラー 13 は緑色や青色の波長の光を透過し、赤色の波長の光をほぼ 100%反射させるように なっている。光記録媒体 21の光の入出射面 Aから入射したサーボ用光は、上側基板 5、記録層 4、フィルタ層 6、及び第 1ギャップ層 8を通過し、反射膜 2で反射され、再 度、第 1ギャップ層 8、フィルタ層 6、記録層 4、及び上側基板 5を透過して入出射面 A 力も出射する。出射した戻り光は、対物レンズ 12を通過し、ダイクロイツクミラー 13で ほぼ 100%反射して、サーボ情報検出器 (不図示)でサーボ情報が検出される。検 出されたサーボ情報は、フォーカスサーボ、トラッキングサーボ、スライドサーボ等に 用いられる。記録層 4を構成するホログラム材料は、赤色の光では感光しないよう〖こ なっているので、サーボ用光が記録層 4を通過したり、サーボ用光が反射膜 2で乱反 射したとしても、記録層 4には影響を与えない。また、サーボ用光の反射膜 2による戻 り光は、ダイクロイツクミラー 13によってほぼ 100%反射するようになっているので、サ ーボ用光が再生像検出のための CMOSセンサ又は CCD14で検出されることはなく 、再生光に対してノイズとなることもない。
なお、図 2に示した λ 〜1. 3 λ の反射域は、 λ = 532nmのとき 1. 3 λ =692η
0 0 0 0
mとなり、サーボ光が 655nmの場合はサーボ光を反射してしまう。ここに示す λ 〜1
0
. 3 λ の範囲はフィルタ層における ±40° 入射光への適性である力 実際にそうし
0
た大きな斜め光まで使用する場合は、入射角 ± 20° 以内のサーボ光をマスキングし て使用すれば支障なくサーボ制御できる。また、使用するフィルタ層におけるコレステ リック液晶層の螺旋ピッチを十分大きくすれば、フィルタ層内での入射角を ± 20° 以 内で全て設計することも容易であり、その場合は図 4に示す λ 〜1. 1 λ のコレステリ
0 0
ック液晶層でよいのでサーボ光透過には全く支障がなくなる。
[0092] また、記録用 Ζ再生用レーザから生成された情報光及び記録用参照光は、偏光板 16を通過して線偏光となりハーフミラー 17を通過して 1Z4波長板 15を通った時点 で円偏光になる。ダイクロイツクミラー 13を透過し、対物レンズ 11によって情報光と記 録用参照光が記録層 4内で干渉パターンを生成するように光記録媒体 21に照射さ れる。情報光及び記録用参照光は入出射面 Αから入射し、記録層 4で干渉し合って 干渉パターンをそこに生成する。その後、情報光及び記録用参照光は記録層 4を通 過し、フィルタ層 6に入射する力 該フィルタ層 6の底面までの間に反射されて戻り光 となる。つまり、情報光と記録用参照光は反射膜 2までは到達しない。フィルタ層 6は 螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した単層のコレステリック液晶層か ら形成され、赤色光のみを透過する性質を有するからである。或いは、フィルタ層を 漏れて通過する光を入射光強度の 20%以下に抑えていれば、たとえその漏れ光が 底面に到達して戻り光となっても、再度フィルタ層で反射されるので再生光へ混じる 光強度は 20% X 20% =4%以下となり、実質的に問題とはならない。
[0093] <第二の実施形態 >
図 7は、本発明の第二の実施形態における光記録媒体の構成を示す概略断面図 である。この第二の実施形態に係る光記録媒体 22では、ポリカーボネート榭脂又は ガラス基板 1にサーボピットパターン 3が形成され、該サーボピットパターン 3表面にァ ルミ-ゥム、金、白金等でコーティングして反射膜 2が設けられている。また、このサー ボピットパターン 3の高さは、通常 1750 A (175nm)である点については、第一の実 施形態と同様である。
[0094] 第二の実施形態と第一の実施形態の構造の差異は、第二の実施形態に係る光記 録媒体 22では、フィルタ層 6と記録層 4との間に第 2ギャップ層 7が設けられているこ とである。
[0095] 螺旋ピッチが液晶層の厚み方向に連続的に変化した単層のコレステリック液晶層 力もなるフィルタ層 6は、第 1ギャップ層 8を形成した後、該第 1ギャップ層 8上に形成 され、前記第一実施形態と同様のものを用いることができる。
[0096] 第 2ギャップ層 7は、情報光及び再生光がフォーカシングするポイントが存在する。
このエリアをフォトポリマーで埋めていると過剰露光によるモノマーの過剰消費が起こ り多重記録能が下がってしまう。そこで、無反応で透明な第 2ギャップ層を設けること が有効となる。
[0097] また、光記録媒体 22では、下側基板 1は 1. Omm、第 1ギャップ層 8は 100 m、フ イノレタ層 6は 3〜5 μ m、第 2ギャップ層 7は 70 μ m、記録層 4は 0. 6mm、上佃 J基板 5 は 0. 4mmの厚みであって、合計厚みは約 2. 2mmとなっている。
[0098] 情報の記録又は再生を行う場合、このような構造を有する光記録媒体 22に対して、 赤色のサーボ用光及び緑色の情報光並びに記録及び再生用参照光が照射される。 サーボ用光は、入出射面 Aから入射し、記録層 4、第 2ギャップ層 7、フィルタ層 6、及 び第 1ギャップ層 8を通過して反射膜 2で反射して戻り光となる。この戻り光は、再度、 第 1ギャップ層 8、フィルタ層 6、第 2ギャップ層 7、記録層 4及び上側基板 5をこの順序 で通過して、入出射面 Aより出射する。出射した戻り光は、フォーカスサーボやトラッ キングサーボ等に用いられる。記録層 4を構成するホログラム材料は、赤色の光では 感光しないようになっているので、サーボ用光が記録層 4を通過したり、サーボ用光 が反射膜 2で乱反射したとしても、記録層 4には影響を与えない。緑色の情報光等は 、入出射面 Aから入射し、記録層 4、第 2ギャップ層 7を通過して、フィルタ層 6で反射 して戻り光となる。この戻り光は、再度、第 2ギャップ層 7、記録層 4及び上側基板 5を この順序で通過して、入出射面 Aより出射する。また、再生時についても再生用参照 光はもちろん、再生用参照光を記録層 4に照射することによって発生する再生光も反 射膜 2に到達せずに入出射面 Aから出射する。なお、光記録媒体 22周辺（図 8にお ける対物レンズ 12、フィルタ層 6、検出器たる CMOSセンサ又は CCD14)での光学 的動作は、第一の実施形態（図 8)と同様なので説明を省略する。
[0099] (光記録媒体の製造方法）
本発明の光記録媒体の製造方法は、フィルタ層形成工程を少なくとも含んでなり、 反射膜形成工程、記録層形成工程、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
[0100] フィルタ層形成工程
前記フィルタ層形成工程は、本発明の前記光記録媒体用フィルタを光記録媒体形 状に加工し、該加工したフィルタを前記下側基板に貼り合わせてフィルタ層を形成す る工程である。
ここで、本発明の前記光記録媒体用フィルタの製造方法については、上述した通り である。
前記光記録媒体の形状としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択すること ができ、ディスク形状、カード形状、などが挙げられる。
前記加工としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例えば 、プレスカッターによる切り出し力卩ェ、打ち抜きカッターによる打ち抜き加工、などが挙 げられる。
前記貼り合わせでは、例えば、接着剤、粘着剤、などを用いて気泡が入らないよう にフィルタを基板に貼り付ける。
前記接着剤としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例え ば、 UV硬化型、ェマルジヨン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤が挙げ られ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用することができる。
前記粘着剤としては、特に制限はなぐ目的に応じて適宜選択することができ、例え ば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビ- ルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビュルアルコール系粘着剤、ポリビュルピロリドン 系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤、などが挙げられる。 前記接着剤又は前記粘着剤の塗布厚みは、特に制限はなぐ目的に応じて適宜 選択することができ、光学特性や薄型化の観点から、接着剤の場合、 0. 1〜10 ;ζ ΐη が好ましぐ 0. 1〜5 μ mがより好ましい。また、粘着剤の場合、 1〜50 μ mが好ましく
、 2〜30 111カ^ょり好まし1ヽ。
[0101] なお、場合によっては、基板上に直接フィルタ層を形成することもできる。例えば、 基板上に少なくともネマチック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有する コレステリック液晶層用塗布液を塗布してコレステリック液晶層を形成する方法などが 挙げられる。
[0102] (光記録方法及び光再生方法）
本発明の光記録方法は、本発明の前記光記録媒体に情報光及び参照光を同軸 光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記 録層に記録する。
本発明の光再生方法は、本発明の前記光記録方法により記録層に記録された干 渉パターンに参照光を照射して情報を再生する。
[0103] 本発明の光記録方法及び光再生方法では、上述したように、二次元的な強度分布 が与えられた情報光と、該情報光と強度がほぼ一定な参照光とを感光性の記録層内 部で重ね合わせ、それらが形成する干渉パターンを利用して記録層内部に光学特 性の分布を生じさせることにより、情報を記録する。一方、書き込んだ情報を読み出 す (再生する）際には、記録時と同様の配置で参照光のみを記録層に照射し、記録 層内部に形成された光学特性分布に対応した強度分布を有する再生光として記録 層から出射される。
ここで、本発明の光記録方法及び光再生方法は、以下に説明する本発明の光記 録再生装置を用いて行われる。
[0104] 本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置について図 9 を参照して説明する。
図 9は、本発明の一実施形態に係る光記録再生装置の全体構成図である。なお、 光記録再生装置は、光記録装置と光再生装置を含んでなる。 この光記録再生装置 100は、光記録媒体 20が取り付けられるスピンドル 81と、この スピンドル 81を回転させるスピンドルモータ 82と、光記録媒体 20の回転数を所定の 値に保つようにスピンドルモータ 82を制御するスピンドルサーボ回路 83とを備えて!/ヽ る。
また、光記録再生装置 100は、光記録媒体 20に対して情報光と記録用参照光とを 照射して情報を記録すると共に、光記録媒体 20に対して再生用参照光を照射し、再 生光を検出して、光記録媒体 20に記録されている情報を再生するためのピックアツ プ 31と、このピックアップ 31を光記録媒体 20の半径方向に移動可能とする駆動装置 84とを備えている。
[0105] 光記録再生装置 100は、ピックアップ 31の出力信号よりフォーカスエラー信号 FE、 トラッキングエラー信号 TE、及び再生信号 RFを検出するための検出回路 85と、この 検出回路 85によって検出されるフォーカスエラー信号 FEに基づいて、ピックアップ 3 1内のァクチユエータを駆動して対物レンズ (不図示）を光記録媒体 20の厚み方向に 移動させてフォーカスサーボを行うフォーカスサーボ回路 86と、検出回路 85によって 検出されるトラッキングエラー信号 TEに基づいてピックアップ 31内のァクチユエータ を駆動して対物レンズを光記録媒体 20の半径方向に移動させてトラッキングサーボ を行うトラッキングサーボ回路 87と、トラッキングエラー信号 TE及び後述するコント口 ーラカもの指令に基づいて駆動装置 84を制御してピックアップ 31を光記録媒体 20 の半径方向に移動させるスライドサーボを行うスライドサーボ回路 88とを備えている。
[0106] 光記録再生装置 100は、更に、ピックアップ 31内の後述する CMOS又は CCDァレ ィの出力データをデコードして、光記録媒体 20のデータエリアに記録されたデータを 再生したり、検出回路 85からの再生信号 RFより基本クロックを再生したりアドレスを 判別したりする信号処理回路 89と、光記録再生装置 100の全体を制御するコント口 ーラ 90と、このコントローラ 90に対して種々の指示を与える操作部 91とを備えている コントローラ 90は、信号処理回路 89より出力される基本クロックやアドレス情報を入 力すると共に、ピックアップ 31、スピンドルサーボ回路 83、及びスライドサーボ回路 8 8等を制御するようになっている。スピンドルサーボ回路 83は、信号処理回路 89より 出力される基本クロックを入力するようになっている。コントローラ 90は、 CPU (中央 処理装置）、 ROM (リード オンリ メモリ）、及び RAM (ランダム アクセス メモリ）を 有し、 CPUが、 RAMを作業領域として、 ROMに格納されたプログラムを実行するこ とによって、コントローラ 90の機能を実現するようになっている。
[0107] 本発明の光記録方法及び光再生方法に使用される光記録再生装置は、本発明の 前記光記録媒体を用いているので、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生 じることなぐ情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱反射を防止し、 ノイズの発生を防止することができ、今までにな 、高密度記録を実現することができる
[0108] 本発明によると、従来における諸問題を解決でき、入射角が変化しても選択反射波 長にずれが生じることなぐ情報光及び参照光による光記録媒体の反射膜からの乱 反射を防止し、ノイズの発生を防止することが可能な光記録媒体用フィルタ、該光記 録媒体用フィルタを用いた高密度記録可能なホログラム型の光記録媒体及び該光 記録媒体を効率よく低コストで製造できる光記録媒体の製造方法、並びに該光記録 媒体を用いた光記録方法及び光再生方法を提供することができる。
[0109] 以下、本発明の実施例について説明する力 本発明はこれらの実施例に何ら限定 されるものではない。
[0110] (実施例 1及び比較例 1)
光記録媒体用フィルタの作製
まず、厚み 100 mのポリカーボネートフィルム（三菱瓦斯ィ匕学株式会社製、商品 名ユーピロン）上に、ポリビニルアルコール (株式会社クラレ製、商品名 MP203)を厚 み 1 μ mとなるように塗布したベースフィルムを用意した。このベースフィルムをラビン グ装置に通して、ポリビュルアルコール膜面をラビングし、液晶配向能を付与した。
[0111] 次に、下記表 1に示す組成の実施例 1及び比較例 1のコレステリック液晶層用塗布 液を常法により調製した。
[0112] [表 1] コレステリック液晶層用塗布液 成分 (質量部）
実施例 1 比較例 1
uv重合性液晶 94.74 94.74
カイラル斉 IJ ― 5.26
光反応型カイラル剤 6.50 ―
光重合開始剤 0.1 0 0.1 0
增感剤 0.02 0.02
溶剤 400 400
* UV重合性液晶： BASF社製、商品名 PALIOCOLOR LC242
*カイラル剤： BASF社製、商品名 PALIOCOLOR LC756
*光反応型カイラル剤：下記式で表される光学活性イソソルビド誘導体
[化 11]
Figure imgf000043_0001
*光重合開始剤：チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名ィルガキュア 369 *増感剤：ジェチルチオキサントン
*溶剤：メチルェチルケトン（MEK)
次に、前記ベースフィルム上に、前記コレステリック液晶層用塗布液をバーコ一ター で塗布し、乾燥させた後、 110°Cにて 20秒間配向熟成した。その後、 110°C下で 36 5nmに光源中心波長を持つバンドパスフィルタを介して、超高圧水銀灯により 1分間 光照射を行った。次いで、 110°Cに維持した状態で暗所に 5分間保持した。その後、 バンドパスフィルタを取り除き、窒素ガスを吹き付けながら上記と同様の超高圧水銀 灯により照射エネルギー 500miZcm2で更に全面を露光し、重合硬化させて、厚み 5 mのコレステリック液晶層硬化膜を形成した。 以上により、実施例 1及び比較例 1の光記録媒体用フィルタを作製した。
[0114] 得られた各光記録媒体用フィルタにつ!/ヽて、光反射特性を分光反射測定器 (光源 として浜松ホトニタス株式会社製、 L 5662、フォトマルチチャンネルアナライザーと して浜松ホトニタス株式会社製、 PMA- 11)を用いて測定した。
その結果、実施例 1の光記録媒体用フィルタは、図 4及び図 5に示すように入射角 度 ± 20° 以内の光に対して選択波長である 532nm光を 40%以上反射できることが 認められた。また、選択反射波長帯域幅は 180nmと広帯域であった。
これに対し、比較例 1の光記録媒体用フィルタは、選択反射波長帯域幅が約 50nm の狭帯域反射板となり、 40° の入射角度からは選択波長が大きくずれてしまう結果と なった。
[0115] (実施例 2)
一光記録媒体の作製
下側基板としては、直径 120mm、板厚 0. 6mmの DVD+RW用に用いられている 一般的なポリカーボネート榭脂製基板を使用した。この基板表面には、全面にわたつ てサーボピットパターンが形成されており、そのトラックピッチは 0. 74 mであり、溝 深さは 175nm、溝幅は 300nmである。
まず、下側基板のサーボピットパターン表面に反射膜を成膜した。反射膜材料には アルミニウム (A1)を用いた。成膜は DCマグネトロンスパッタリング法により厚み 200η mの A1反射膜を成膜した。
[0116] 次に、実施例 1で作製した光記録媒体用フィルタを前記基板に設置できるように所 定のディスクサイズに打ち抜き、ベースフィルム面をサーボピットパターン側にして貼 り付けた。貼り合わせには紫外線硬化性榭脂ゃ粘着剤を用いて気泡が入らな!/ヽよう にして行った。以上によりフィルタ層を形成した。
[0117] 次に、記録層材料としては、下記組成のフォトポリマー塗布液を調製した。
<フォトポリマー塗布液の組成 >
•ジ（ウレタンアタリレート）オリゴマー（Echo Resins社製、 ALU— 351) · · · 59質 量部
'イソボル-ルアタリレート' · · 30質量部 'ビュルべンゾエート' · · 10質量部
'重合開始剤（チバスペシャルティケミカルズ社製、ィルガキュア 784) · · · 1質量部
[0118] 得られたフォトポリマー塗布液を前記フィルタ層上にディスペンサーを用いて盛りつ け、このフォトポリマー上に、直径 12cm、厚み 0. 6mmのポリカーボネート榭脂製上 側基板を押し付けながらディスク端部と該上側基板を接着剤で貼り合せた。なお、デ イスク端部には、該フォトポリマー層が厚み 500 mとなるようにフランジ部が設けて あり、ここに、前記上側基板を接着することによってフォトポリマー層の厚みは決定さ れ、余分なフォトポリマーはあふれ出て、除去される。以上により、実施例 2の光記録 媒体を作製した。なお、図 6は、本実施例に類似の形態を示す概略断面図である。
[0119] (実施例 3)
一光記録媒体の作製
実施例 2において、反射膜とフィルタ層の間に第 2ギャップ層を設けた以外は、実施 例 2と同様にして、実施例 3の光記録媒体を作製した。なお、第 2ギャップ層としては 厚み 100 mのポリカーボネートフィルムを用い、紫外線硬化榭脂にて接着した。な お、図 7は、本実施例に類似の形態を示す概略断面図である。
[0120] (比較例 2)
一光記録媒体の作製
実施例 2において、実施例 1の光記録媒体用フィルタの代わりに比較例 1の光記録 媒体用フィルタを用いた以外は、実施例 2と同様にして、比較例 2の光記録媒体を作 製した。
[0121] <性能評価 >
次に、得られた実施例 2〜3及び比較例 2の各光記録媒体について、図 9に示すよ うな光記録再生装置に搭載して、実際に情報の記録を行い、多重記録可能回数を 測定した。結果を表 2に示す。
[0122] [表 2] 多重可能回数
実施例 2 5〜1 0
実施例 3 50~250
比較例 2 0~ 1 表 2の結果から、情報光及び再生光の強度を調整することで、多少のふれ幅は生じ るが単層のコレステリック液晶層の厚み方向に螺旋ピッチを連続的に変化させること により、ホログラム型の光記録媒体の最終目的である多重高密度記録が可能となるこ とが認められる。
産業上の利用可能性
本発明の光記録媒体用フィルタは、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生 じることなぐノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能なホログ ラム型の光記録媒体における波長選択反射膜として好適に用いられる。
本発明の光記録媒体は、入射角が変化しても選択反射波長にずれが生じることな ぐノイズの発生を防止でき、今までにない高密度画像記録が可能なホログラム型の 各種光記録媒体として幅広く用いられる。

Claims

請求の範囲
[I] 単層のコレステリック液晶層を有し、該コレステリック液晶層が、少なくともネマチック 液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有することを特徴とする光記録媒体 用フィルタ。
[2] 光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位が イソソルビド化合物、イソマン-ドィ匕合物及びビナフトールイ匕合物力 選択される少な くとも 1種である請求の範囲第 1項に記載の光記録媒体用フィルタ。
[3] 光反応性基が、光照射により炭素 炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を 生じる基である請求の範囲第 2項に記載の光記録媒体用フィルタ。
[4] コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が連続的である請求の範囲第 1項 力 第 3項のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
[5] コレステリック液晶層における選択反射波長帯域幅が lOOnm以上である請求の範 囲第 1項力 第 4項のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
[6] 第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の光を反射する 請求の範囲第 1項力 第 5項のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
[7] 第一の波長の光が 350〜600nmであり、かつ第二の波長の光が 600〜900nmで ある請求の範囲第 6項に記載の光記録媒体用フィルタ。
[8] え 〜 λ /cos20° (ただし、 λ は照射光波長を表す）における光反射率が 40%
0 0 0
以上である請求の範囲第 1項力 第 7項のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ
[9] え 〜 λ /cos40° (ただし、 λ は照射光波長を表す）における光反射率が 40%
0 0 0
以上である請求の範囲第 1項力 第 8項のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ
[10] ホログラフィを利用して情報を記録する光記録媒体の選択反射膜として用いられる 請求の範囲第 1項力 第 9項のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタ。
[II] 光記録媒体が、情報光及び参照光を同軸光束として該光記録媒体に照射し、前記 情報光と前記参照光との干渉による干渉パターンによって情報を記録する請求の範 囲第 10項に記載の光記録媒体用フィルタ。
[12] 上側基板と、下側基板と、該下側基板上にホログラフィを利用して情報を記録する 記録層と、前記下側基板と該記録層との間にフィルタ層とを有してなり、前記フィルタ 層力 単層のコレステリック液晶層を有し、該コレステリック液晶層力 少なくともネマ チック液晶化合物、及び光反応型カイラル化合物を含有することを特徴とする光記 録媒体。
[13] 光反応型カイラル化合物が、キラル部位と、光反応性基とを有し、該キラル部位が イソソルビド化合物、イソマン-ドィ匕合物及びビナフトールイ匕合物力 選択される少な くとも 1種である請求の範囲第 12項に記載の光記録媒体。
[14] 光反応性基が、光照射により炭素 炭素二重結合のトランスからシスへの異性化を 生じる基である請求の範囲第 13項に記載の光記録媒体。
[15] コレステリック液晶層における選択反射波長帯域が連続的である請求の範囲第 12 項から第 14項のいずれかに記載の光記録媒体。
[16] コレステリック液晶層における選択反射波長帯域幅が lOOnm以上である請求の範 囲第 12項から第 15項のいずれかに記載の光記録媒体。
[17] フィルタ層が、第一の波長の光を透過し、該第一の波長の光と異なる第二の波長の 光を反射する請求の範囲第 12項力 第 16項のいずれかに記載の光記録媒体。
[18] 第一の波長の光が 350〜600nmであり、かつ第二の波長の光が 600〜900nmで ある請求の範囲第 17項に記載の光記録媒体。
[19] え 〜 λ /cos20° (ただし、 λ は照射光波長を表す）における光反射率が 40%
0 0 0
以上である請求の範囲第 12項力 第 18項のいずれかに記載の光記録媒体。
[20] え 〜 λ /cos40° (ただし、 λ は照射光波長を表す）における光反射率が 40%
0 0 0
以上である請求の範囲第 12項力 第 19項のいずれかに記載の光記録媒体。
[21] 基板が、サーボピットパターンを有する請求の範囲第 12項力も第 20項のいずれか に記載の光記録媒体。
[22] サーボピットパターン表面に反射膜を有する請求の範囲第 21項に記載の光記録 媒体。
[23] 反射膜が、金属反射膜である請求の範囲第 22項に記載の光記録媒体。
[24] フィルタ層と反射膜との間に、基板表面を平滑ィ匕するための第 1ギャップ層を有す る請求の範囲第 22項から第 23項のいずれかに記載の光記録媒体。
[25] 記録層とフィルタ層との間に、第 2ギャップ層を有する請求の範囲第 12項力も第 24 項の 、ずれかに記載の光記録媒体。
[26] 上側基板と、下側基板と、該下側基板上にホログラフィを利用して情報を記録する 記録層と、前記下側基板と該記録層との間にフィルタ層とを有する光記録媒体の製 造方法であって、
請求の範囲第 1項力 第 11項のいずれかに記載の光記録媒体用フィルタを光記 録媒体形状に加工し、該加工したフィルタを前記下側基板と貼り合わせてフィルタ層 を形成するフィルタ層形成工程を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
[27] 請求の範囲第 12項力も第 25項のいずれかに記載の光記録媒体に対し情報光及 び参照光を同軸光束として照射し、該情報光と参照光との干渉による干渉パターン によって情報を記録層に記録することを特徴とする光記録方法。
[28] 請求の範囲第 27項に記載の光記録方法により記録層に記録された干渉パターン に参照光を照射して情報を再生することを特徴とする光再生方法。
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