WO2007017015A2 - Schichtverbund und seine herstellung - Google Patents

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Definitions

  • Silicates are the salts of orthosilicic acid Si (OH) 4 and their condensation products. They are characterized not only by the fact that they form the most species-rich class of minerals, but also by the fact that they are technically of great importance. In addition to glass, porcelain, enamel, pottery, cement and water glass are technically important products made of Silkaten.
  • Silicates can be classified in terms of their structural composition in a)
  • Silicates with discrete anions such as the nesosilicates (island silicates, orthosilicates with the anion [SiO 4 ] 4 ), sorosilicates (group silicates, here the [SiO 4 ] tetrahedra are linked to a finite group), cyclosilicates (ring silicates, here are the [SiO 4 ] tetrahedra arranged in rings), b) inosilicates (chain silicates and band silicates, here the [SiO 4 ] tetrahedra are joined together to form chains, that is, to one-dimensionally unbounded structures, which are polymers of the anion [SiO 3 ] 2 "to be considered are), c) phyllosilicates (phyllosilicates and layered silicates, here the [SiO 4] tetrahedra are each linked to one another in a plane, so as to form layers of mesh and can be regarded as poly
  • Heat exchanger is difficult.
  • such a post-synthetic coating process has a variety of manufacturing steps.
  • most binders change the properties of the zeolites, since there is no unhindered access to the microporous internal structure of the zeolite particles for the molecules to be bound.
  • the layers may consist of periodic porous particles of a zeolite, wherein the particles have a particle diameter in the nanometer range and the layers themselves have a thickness of 30 to 1000 nm.
  • the described layers are applied to a silicon surface.
  • a method for producing a layer composite comprising a metallic carrier substrate and a silicate layer with the method steps a) providing the metallic carrier substrate, b) producing silicate crystals and / or silicate particles by means of solvothermal synthesis in at least one ionic liquid and c) coating at least a surface of the metallic carrier substrate with the silicate crystals and / or silicate particles produced under b).
  • a solvothermal synthesis is to be understood as meaning a synthesis analogous to a hydrotmal synthesis in a solvent other than water, the temperature and the pressures being adapted to the particular solvent.
  • a layer is to be understood as a continuous layer of substance which, except for any imperfections, is widespread.
  • an ionic liquid is to be understood as meaning a salt which is liquid at room temperature and which is composed of a complex inorganic cation or a nitrogen, oxygen, sulfur, phosphorus or other homologue containing heteroatom organic cation and inorganic or organic anions. Both cation and anion can be constructed by suitable derivatization to be spatially demanding and to extend the area of existence of the liquid.
  • these ionic liquids are characterized in that they are Salts are characterized by very low melting points.
  • ionic liquids have broad thermal fluid ranges, exhibit high thermal stability and are stable to hydrolysis. Due to their physicochemical properties as molten salts, ie because cations and anions without solvate shells are freely movable against each other, have ionic
  • Synthesis of silicates sets a 1000 times faster nucleation compared to the known hydrothermal synthesis.
  • an ionic liquid as a solvent in the synthesis of silicate crystals and / or silicate particles significantly shorter synthesis times are possible, which correspond to about half of the synthesis time in water.
  • the use of at least one ionic liquid as a solvent in comparison to the known hydrothermal synthesis in terms of safety technology complex apparatus construction is not needed. Due to the lower total pressures, a safety technology necessary for high pressures is not required. It has further been found to be a surprising effect that the synthesis of undesired species, as is the case in an aqueous environment or with water as a solvent, can be largely suppressed.
  • Another advantage of using the ionic liquids as a solvency in the solvothermal synthesis of silicates is that by the choice of anions and cations of the ionic liquids
  • Solution properties can be achieved in the hydrothermal synthesis only by the combination of water as solvent and dissolved Neutral molecules or electrolytes can be achieved.
  • the synthesis of the silicate crystals and / or silicate particles is carried out in a mixture of at least two different ionic liquids.
  • R2 and R3 may have the same or different meanings, and at least one R2 or R3 is an alkyl, alkene or aryl group, wherein R4, R5, R6.R7 and R8 may be identical or different hydrogen, an alkyl, alkene or aryl group with the proviso that at least one radical R4,
  • R5, R6, R7 or R8 is an alkyl, alkene or aryl group and that R4, R5, R6, R7 and R8 may have the same or different meanings.
  • R7 and R8 may have the same or different meanings, and wherein the alkyl group or alkene group is a linear, branched, saturated and / or unsaturated alkyl radical having a carbon chain length of from C-1 to C-30 and furthermore particularly preferably a methyl, ethyl, n-propyl, 1-methylethyl, n-butyl, 1-methylpropyl, 2- Methylpropyl, 1, 1-dimethylethyl, n-pentyl, 1-methylbutyl, 2-methylbutyl, 3-methylbutyl, 1-ethylpropyl, 2-ethylpropyl, 1, 1-dimethylpropyl, 1, 2 -Dimethylpropyl-,
  • the ionic liquid furthermore preferably used in a method according to the invention or the mixture of at least two ionic ones
  • Chloride (Cl “ ) or bromide (Br “ ) or pseudohalide, in particular azide (N 3 ' ), cyanide (CN “ ), cyanate (OCN ' ), fulminate (R 2 CNO “ with R alkyl or aryl) or thiocyanate (SCN “ ) and in particular any alkyl group R of the anions X m" or, if two alkyl groups R are provided, each alkyl group R of the anions X m ' equal to or different from each other is a linear, branched, saturated and / or unsaturated alkyl radical having a carbon chain length of C-1 to C-30 and furthermore particularly preferably denotes a methyl, ethyl, n-propyl, 1-methylethyl, n-butyl, 1-methylpropyl, 2-methylpropyl, 1, 1-dimethylethyl , n-pentyl, 1-methylbutyl, 2-methylbuty
  • R alkyl
  • Nonyl, n-decyl, n-undecyl or n-dodecyl and wherein X m " in particular an anion from the group tetrafluoroborate (BF 4 " ), alkyl borate in particular tetraalkyl borate (B (OR) 4 " with R alkyl) completely especially triethylhexylborate (C 2 H 6 O) 3 (C 6 H 12 O) B " ), phosphate (PO 4 3" ), halogeno-phosphate, especially hexafluorophosphate (PF 6 " ), organic
  • Methylbutyl 1-ethylpropyl, 2-ethylpropyl, 1, 1-dimethylpropyl, 1, 2-dimethylpropyl, 2,2-dimethylpropyl, n-hexyl, 2-ethylhexyl, n-heptyl, n-octyl, n-nonyl, n- Decyl, n-undecyl or n-dodecyl and wherein halide means chloride or bromide.
  • ionic liquids can be prepared as solvothermal solvent phases with certain properties, such as melting point and thermal stability.
  • the ionic liquid itself represents a Bronsted acid or its salt and thus serves as a proton / cation source or contains a Brönsted acid or its salts, which serve as a proton / cation source.
  • the ionic liquid or the mixture of at least two ionic liquids additionally comprises promoter ions, these being selected from the group
  • Phosphate (PO 4 3 " ), organic phosphates (RO-PO 3 “ ), nitrate (NO 3 “ ), sulfate (SO 4 2” ), organic sulfates (RO-SO 3 “ ), carboxylate (R-COO “ ) , Methanide ([HCR 8 R 9 ] “ or [CR 8 R 9 R 10 ] " with R 8 , R 9 , R 10 CN, NO or NO 2 , wherein R 8 , R 9 , R 10 are the same or different fluoride (F “ ), chloride (Cl “ ), bromide (Br “ ), azide (N 3 “ ), cyanide (CN “ ), cyanate (OCN ' ), fulminate (R 2 CNO “ ) or thiocyanate ( SCN ”) means. in particular, can be an alkyl group, the organic radicals R. This promoter ions can be used as additives of an ionic liquid in any form, be added that is independent
  • Silicate syntheses are carried out under relatively mild conditions, which lead to the targeted synthesis of silicates with defined structural units.
  • the synthesis can be carried out at temperatures below a certain value, in particular, the synthesis at a temperature below 250 0 C, in particular below 200 0 C and most preferably between 50 0 C and 150 0 C are performed.
  • the synthesis can be carried out in an anhydrous or in a controlled aqueous environment. In a particularly preferred method, the synthesis is carried out in a controlled aqueous environment, wherein the amount of water is more than twice the amount of stoichiometric amounts of water based on the amount necessary for the synthesis of the respective silicates.
  • the synthesis of the silicates is carried out at not more than 150 ° C. and in particular from 50 ° C. to 150 ° C., and very particularly in an autoclave at from 50 ° C. to 150 ° C.
  • the autoclave is a closed vessel which remains closed during the entire reaction time, so that the total pressure built up at the set temperature is maintained.
  • the solvothermal conditions are adjusted in a very simple manner.
  • the solvothermal synthesis is carried out in an autoclave system with forced circulation.
  • This forced circulation represents a laminar flow on the metallic one
  • the metallic carrier substrate is introduced in a first compartment, whereas in the at least second compartment a forced circulation takes place, whereby a laminar flow is generated on the surface of the metallic carrier substrate.
  • Concentration can be applied to the metallic surface and / or a very homogeneous nucleation on the metallic surface.
  • This homogeneous nucleation in the ionic liquid and / or on the metallic surface of the carrier substrate causes growth of homogeneous silicate layers on the metallic surface.
  • the internal liquids can continue to act as a stabilizing agent on the surface of the forming particles.
  • Anionic or cationic constituents can assume the role of stabilizers, which are added in the classical systems as molecular additives. In this way, solvothermal systems can be built that significantly extends the range of properties and applications of classical water-based systems.
  • the silicate layer is very homogeneous in terms of its layer thickness at each point of the composite layer and beyond very homogeneous with respect to the individual particles that make up the silicate layer. Due to the faster than in classical hydrothermal synthesis nucleation, the
  • Nucleation favored compared to particle or crystal growth This results from the proposed method particles or Crystals and layers that have a very narrow particle size distribution. This narrow size distribution in turn ensures a homogeneous silicate layer on the metallic carrier substrate. A cohesive silicate layer is achieved by growing newly formed germs on already existing microorganisms on the metallic carrier substrate.
  • a particularly homogeneous silicate layer has a layer thickness of at least 10 .mu.m, in particular 10 .mu.m and at most 200 .mu.m, and very particularly preferably at least 50 .mu.m and at most 150 .mu.m.
  • the silicate layer has particles or crystals which have a particle diameter of at most 200 nm, in particular 10 to 150 nm.
  • an aqueous solution or suspension comprises a first component which is a source of cations from the first or second main group of the Periodic Table and water. Furthermore, there is a second component which serves as a source for at least one network-forming element from the third, fourth or fifth main group of the periodic table.
  • the amount of water in the solution or suspension is chosen such that there is a maximum of double-stoichiometric amount corresponding to the silicate to be synthesized.

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtverbundes umfassend ein metallisches Trägersubstrat und eine Silikatschicht mit den Verfahrensschritten a) Bereitstellen des metallischen Trägersubstrates, b) Herstellen von Silikatkristallen und/ oder Silikatpartikeln mittels solvothermaler Synthese, wobei die solvothermale Synthese in mindestens einer ionischen Flüssigkeit durchgeführt wird und c) Beschichten mindestens einer Oberfläche des metallischen Trägersubstrates mit den unter b) hergestellten Silikatkristallen und/ oder Silikatpartikel.

Description

Schichtverbund und seine Herstellung
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtverbundes, umfassend eine metallische Trägerschicht und eine Silikatschicht sowie die Verwendung solcher Schichtverbunde in der
Wärmepumpentechnik.
Silikate sind die Salze der Orthokieselsäure Si(OH)4 und deren Kondensationsprodukte. Sie zeichnen sich nicht nur dadurch aus, dass sie die artenreichste Klasse der Mineralien bilden, sondern auch dadurch, dass sie technisch von großer Bedeutung sind. Neben Glas, Porzellan, Email, Tonwaren sind Zement und Wasserglas technisch wichtige, aus Silkaten bestehende Produkte.
Silikate können hinsichtlich ihres strukturellen Aufbaus eingeteilt werden in a)
Silikate mit diskreten Anionen, wie den Nesosilikate (Inselsilikate, Orthosilicate mit dem Anion [SiO4]4"), Sorosilicate (Gruppensilicate, hier sind die [SiO4]-Tetraeder zu einer endlichen Gruppe verknüpft), Cyclosilicate (Ringsilicate, hier sind die [SiO4]-Tetraeder zu Ringen angeordnet), b) Inosilicate (Kettensilicate u. Bandsilicate, hier sind die [SiO4]-Tetraeder zu Ketten zusammengelagert, das heißt zu eindimensional unbegrenzten Gebilden, die als Polymere des Anions [SiO3]2" anzusehen sind), c) Phyllosilicate (Blattsilicate und Schichtsilicate, hier sind die [SiO4]-Tetraeder jeweils in einer Ebene miteinander verkettet; sie bilden also Schichtengitter und können als Polymere des Anions [Si4Oio]4~ betrachtet werden) und d) Tectosilicate (Gerüstsilicate, hier setzt sich die Verkettung der
[SiO4]-Tetraeder in allen drei Raumrichtungen fort, so dass dreidimensionale Netzwerke gebildet werden). Zu den Tectosilikaten zählen insbesondere die Zeolithe und die Feldspäte, die zu den technisch wichtigsten Silikat Mineralien zu zählen sind.
Zeolithe sind Silikat-Mineralien und insbesondere Aluminosilikate mit einer chemisch komplexen Struktur, welche durch die Ausbildung poröser Tetraedernetzwerke charakterisiert ist. Nach der allgemeinen Definition der IZA (International Zeolithe Association) werden unter Zeolithe solche Mineralien verstanden, welche Tetraedernetzwerke mit einer Netzwerkdichte von mehr als 19 Tedraeder-Atomen pro 1000 A3 aufweisen. Zeolithe weisen eine Struktur mit inneren Hohlräumen auf, wobei diese Hohlräume moleklare Größendimensionen annehmen. Hieraus begründet sich die Eigenschaft von Zeolithen, Fremdatome oder Fremdmoleküle in ihre mikroporöse Struktur aufnehmen zu können, beispielsweise können Zeolithe große Mengen von Wasser speichern und bei Erhitzung wieder freigeben. Zeolith-Materialien in Kontakt mit einem Wärmetauscher sind daher besonders geeignet zum Aufbau eines Latent-
Wärmespeichers. Hierzu werden nach dem Stand der Technik entweder Schüttungen von Zeolith-Materialien oder Zeolithe verwendet, welche in offenporige Festkörper, etwa Metallschwämmen, die in thermischem Kontakt mit einem Wärmetauscher stehen, eingebracht sind. Für letzteres wird beispielsweise auf die DE 101 59 652 C2 verwiesen.
Für Anwendungen, bei denen den Zeolithen Wärme zugeführt wird beziehungsweise bei denen vom Zeolith-Material Wärme abgezogen werden soll, sind lose Zeolith-Schüttungen deshalb ungeeignet, weil ein hinreichender thermischer Kontakt zu angrenzenden Wärmetauscherstrukturen nur unzureichend bewerkstelligt werden kann. Außerdem muss insbesondere für Latentwärmespeicher das üblicherweise als Sorptiv bezeichnete Arbeitsmedium dem Zeolith als Sorbens-Material in effektiver Art und Weise zugeführt werden. Dies setzt makroskopische Kanalstrukturen im Sorbens-Material voraus. Aus diesem Grund wird für solche Anwendungszwecke das als Pulver synthetisierte
Zeolith zu größeren Einheiten in Form von Pellets mit Hilfe eines Binders verpresst. Nachteilig ist jedoch, dass durch die meisten Bindemittel die anwendungsrelevanten Eigenschaften der Zeolithe beeinflusst und meist nachteilig verändert werden. Außerdem kann bei der Verwendung von Pellets noch kein hinreichender thermischer Kontakt zu angrenzenden Wärmetauschern sichergestellt werden. Aus diesem Grund werden Systeme aus Wärmetauschern vorgeschlagen, auf die eine Zeolith-Schicht aufgebracht wird. Typisch für die bekannten Beschichtungsverfahren von Substraten mit Zeolithen ist ein vorangehender Syntheseschritt, bei dem zunächst das Zeolith-Material hergestellt wird. Dieses Zeolith-Material kann mechanisch nachbehandelt werden, etwa durch Zerkleinerungs- oder Mahlschritte, so dass ein pulverförmiges Zeolith entsteht. Nachfolgend wird das so vorsynthetisierte Zeolith-Material mit einem Binder vermischt und auf das Trägersubstrat aufgebracht.
Nachteilig an einer solchen Vorgehensweise ist jedoch, dass insbesondere bei komplexen, dreidimensionalen Wärmetauscherstrukturen das Aufbringen von gleichmäßig dicken Zeolith-Schichten auf der gesamten Oberfläche des
Wärmetauschers schwierig ist. Außerdem weist ein solches postsynthetisches Beschichtungsverfahren eine Vielzahl von Herstellungsschritten auf. Ferner verändern die meisten Binder die Eigenschaften der Zeolithe, da für die zubindenden Moleküle kein ungehinderter Zugang zur mikroporösen Innenstruktur der Zeolith-Partikel vorliegt.
In der Literatur sind eine Vielzahl an Vorschlägen zu Synthese von Silikaten gemacht worden. Vorrangig sind hier die Synthese nach einem Sol-Gel-Verfahren oder die Hydrothermalsynthese zu nennen. Dabei ist unter einer Hydothermalsynthese allgemein die Synthese von Mineralien und chemischen
Verbindungen durch Kristallisation aus hocherhitzten wässrigen Lösungen - hydrothermale Lösungen mit einer Temperatur von mehr als 100 0C und einem Druck von mehr als 1 bar - zu verstehen. Die Hydothermalsynthese wird meist in Druckgefäßen ausgeführt, da die angewendeten Temperaturen weit über dem Siedepunkt des Wassers, meist sogar über dessen kritische Temperatur
Tκ = 374 0C liegen. Im überkritischen Zustand löst Wasser manche normalerweise wasserunlöslichen Stoffe. Das verstärkte Lösevermögen resultiert dabei höchst wahrscheinlich aus der Kompression, die bei geringerem Abstand eine verstärkte Wechselwirkung mit dem gelösten Stoff bewirkt. Mit der Hydrothermalsynthese besteht damit grundsätzlich die Möglichkeit zur Herstellung von mesoskopischen anorganischen Kolloiden, Kristallen oder Pulvern in wässrigen Systemen. Diese Synthese führt großtechnisch in der Regel zu Partikel mit einem Partikeldurchmesser von einigen wenigen μm Durchmesser. Neben diesen schon seit längerer Zeit bekannten Verfahren ist in jüngerer Zeit auch ein Spin-coating-Verfahren zu Herstellung von Silikatschichten bekannt geworden. So wird mit der WO 02/ 032 589 A1 die Herstellung von porösen Schichten, poröse Schichten selbst und die Verwendung dieser Schichten in der
Mikroelektronik beschrieben. Die Schichten können aus periodischen porösen Partikeln aus einem Zeolith bestehen, wobei die Partikel einen Teilchendurchmesser im Nanometerbereich und die Schichten selbst eine Dicke von 30 bis 1000 nm aufweisen. Die beschriebenen Schichten werden dabei auf eine Siliziumoberfläche aufgebracht.
Ein Hauptproblem bei der Hydrothermalsynthese von Silikaten besteht in der Keimbildung, welche die Morphologie und die Größenverteilung der entstehenden Partikel bestimmt. Die Bildung der Keime und allgemein jeder Kristalle oder Partikel stellt dabei in einer thermodynamischen Betrachtungsweise eine
Phasenbildung dar und unterliegt somit auch deren Gesetzmäßigkeiten. Da Partikel aus einer Vielzahl von Teilchen gebildet werden, ist es aufgrund der Entropieabnahme sehr unwahrscheinlich, dass eine spontane Partikelbildung stattfindet. Somit erfordert eine Fällung bzw. Partikel-, Pulver- oder Kristallbildung immer eine Induktionsphase, in der primäre Keimkristalle gebildet werden. Findet in der Induktionsphase eine langsame Keimbildung statt, so hat dies zur Folge, dass in der Regel Partikel mit einer relativ breiten Größenverteilung und einer energetisch minimierten Partikeloberfläche gebildet werden. Erfolgt dagegen eine schnelle Keimbildung, so führt diese zu homogenem Wachstum, relativ kleiner Partikel und einer engen Größenverteilung.
Für die Abscheidung von dichten Silikatschichten auf einem metallischen Substrat in einer hyrothermalen Synthese sind die Prozesse der Keimbildung in Lösung und/oder auf dem Substrat, des Transportes der Keime auf die Oberfläche und deren möglichst homogenes, laterales Wachstum auf der Substratoberfläche, notwendige Bedingungen. Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht daher darin, ein Verfahren bereitzustellen, mit dem innerhalb einer kurzen Beschichtungszeit die Herstellung einer gleichmäßigen und homogenen Beschichtung eines metallischen Trägers mit Silikaten ermöglicht wird. Darüber hinaus ist es eine Aufgabe der Erfindung ein Verfahren bereitzustellen, in dem eine Beschichtung mittels Silikaten erfolgt, wobei diese Schicht einzelne Partikel umfasst, die ihrerseits eine sehr enge
Größenverteilung aufweisen. Zudem soll eine laterale homogene Abscheidung von Silikat-Dickschichten auf einem metallischen Substrat bereitgestellt werden, die in direkter weise durchgeführt werden kann. Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht darin, einen Schichtverbund bereitzustellen, der mittels einer kostengünstigen Methode hergestellt werden kann.
Gelöst werden diese Aufgaben durch ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtverbundes umfassend ein metallisches Trägersubstrat und eine Silikatschicht mit den Verfahrensschritten a) Bereitstellen des metallischen Trägersubstrates, b) Herstellen von Silikatkristallen und/ oder Silikatpartikel mittels solvothermaler Synthese in mindestens einer ionischen Flüssigkeit und c) Beschichten mindestens einer Oberfläche des metallischen Trägersubstrates mit den unter b) hergestellten Silikatkristallen und/ oder Silikatpartikel.
Dabei sind hier und im Folgenden unter einer solvothermalen Synthese eine zu einer hydothermale Synthese analogen Synthese in einem von Wasser verschiedenem Solvens zu verstehen, wobei die Temperatur und die Drücke dem jeweiligen Solvens angepasst werden. Unter einer Schicht ist im Kontext dieser Schrift eine durchgehende Substanzschicht zu verstehen, die bis auf eventuelle Fehlstellen flächendeckend ist. Des Weiteren ist unter einer ionischen Flüssigkeit ein Salz zu verstehen, das bei Raumtemperatur flüssig ist und, das aus einem komplexen anorganischen Kation oder einem Stickstoff, Sauerstoff, Schwefel, Phosphor oder anderen Homologen als Heteroatom enthaltenden organischen Kation und anorganischen oder organischen Anionen aufgebaut ist. Sowohl Kation als auch Anion können durch geeignete Derivatisierung so aufgebaut werden, dass sie räumlich anspruchsvoll sind und den Existenzbereich der Flüssigkeit erweitert. Diese ionischen Flüssigkeiten zeichnen sich gleichwohl, dass es sich um Salze handelt, durch sehr niedrige Schmelzpunkte aus. Darüber hinaus weisen ionische Flüssigkeiten breite thermische Flüssigkeitsbereiche auf, zeigen eine hohe thermische Stabilität und sind hydrolysestabil. Aufgrund ihrer physikochemischen Eigenschaften als geschmolzene Salze, d.h. weil Kationen und Anionen ohne Solvathüllen frei gegeneinander beweglich sind, haben ionische
Flüssigkeiten im thermischen Stabilitätsbereich in der Regel keinen Eigendampfdruck. Ob in seltenen Fällen lonenpaare oder gar einzelne Ionen durch thermische Anregung aus der Flüssigkeit in die Gasphase verdampft werden können, ist zur Zeit noch nicht zweifelsfrei geklärt. Eine Zusammenfassung zu der Art und den Eigenschaften der Ionische Flüssigkeiten sind in P. Wasserscheid, T. Welton „lonic Liquids in Synthesis" Wiley VCH 2003 gegeben.
Überraschender weise hat sich gezeigt, dass sich durch die Verwendung von mindestens einer ionischen Flüssigkeit als Solvens in der solvothermalen
Synthese von Silikaten eine im Vergleich zu der bekannten hydrothermalen Synthese 1000-fach schnellere Keimbildung einstellt. Damit sind bei der Verwendung einer ionischen Flüssigkeit als Solvens in der Synthese von Silikatkristallen und/ oder Silikatpartikel deutlich kürzere Synthesezeiten möglich, die etwa der Hälfte der Synthesezeit in Wasser entsprechen. Zudem wird durch die Verwendung von mindestens einer ionischen Flüssigkeit als Solvens eine im Vergleich zu der bekannten hydrothermalen Synthese hinsichtlich der Sicherheitstechnik aufwendiger Apparateaufbau nicht benötigt. Durch die niedrigeren Gesamtdrücke ist eine für hohe Drücke notwendige Sicherheitstechnik nicht erforderlich. Es hat sich weiterhin als überraschenden Effekt herausgestellt, dass die Synthese von unerwünschten Spezies, wie dies in einer wässrigen Umgebung oder mit Wasser als Solvens der Fall ist, weitgehend unterdrückt werden kann. Ein weiterer Vorteil bei der Verwendung der ionischen Flüssigkeiten als Solvenz in der solvothermalen Synthese von Silikaten besteht darin, das durch die Wahl der Anionen und der Kationen der ionischen Flüssigkeiten
Lösungseigenschaften erreicht werden, die in der hydrothermalen Synthese nur durch die Kombination von Wasser als Lösungsmittel und gelösten Neutralmolekülen oder Elektrolyten erreicht werden.
Gemäß einem zweiten bevorzugten Verfahren wird die Synthese der Silikatkristalle und/ oder Silikatpartikel in einem Gemisch aus mindestens zwei verschiedenen ionischen Flüssigkeiten durchgeführt.
Die in einem erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzte ionische Flüssigkeit oder das Gemisch aus mindestens zwei ionischen Flüssigkeiten umfasst dabei vorzugsweise mindestens ein Salz, aufweisend ein hydrophiles oder hydrophobes Anion X, insbesondere ein hydrophiles oder hydrophobes ein-, zwei- oder dreiwertiges Anion X m" mit m = 1 , 2 oder 3, und als Kation ein fünf- oder sechsgiiedriges, aromatisches, teilgesättigtes oder ungesättigtes, stickstoffhaltiges Heterocyclen-Kation, ein Ammonium-Kation oder ein Guanidinium-Kation. Insbesondere kann das Salz ein Pyrrolium-Salz [Formel (I), Imidazolium-Salz [Formel (II)], Imidazolidinium-Salz [Formel (III), Pyridinium-Salz [Formel (IV)],
Ammonium-Salz [Formel (V)] oder ein Guanidinium-Salz [Formel (Vl)] mit den nachfolgenden Strukturen sein:
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(III) (V)
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(IV) (VI) wobei X m' ein ein-, zwei- oder dreiwertiges Anion mit m = 1 , 2 oder 3 ist, wobei n die Anzahl der einwertigen Kationen in dem Salz bedeutet und den Wert n= 1 , 2 oder 3 aufweist und n der Wertigkeit des Anions entspricht, wobei R1 eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe sein kann, wobei R2 und R3 gleich oder unterschiedlich Wasserstoff, eine Alkyl-, Alken- oder
Aryl-Gruppe sein kann, mit der Maßgabe, dass R2 und R3 gleiche oder unterschiedliche Bedeutungen besitzen können, und mindestens ein Rest R2 oder R3 eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe ist, wobei R4, R5, R6.R7 und R8 gleich oder unterschiedlich Wasserstoff, eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe sein kann mit der Maßgabe, das mindestens ein Rest R4,
R5, R6, R7 oder R8 eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe ist und dass R4, R5, R6, R7 und R8 gleiche oder unterschiedliche Bedeutungen besitzen können.
Insbesondere umfasst die ionische Flüssigkeit oder das Gemisch aus mindestens zwei ionischen Flüssigkeiten dabei vorzugsweise mindestens ein Salz, aufweisend ein hydrophiles oder hydrophobes Anion X, insbesondere ein ein-, zwei- oder dreiwertiges Anion X m" mit m = 1 , 2 oder3 und als Kation ein fünf- oder sechsgliedriges, aromatisches, teilgesättigtes oder ungesättigtes, stickstoffhaltiges Heterocyclen-Kation, ein Ammonium-Kation oder ein Guanidinium-Kation gemäß einer der Formeln I bis VI wobei n die Anzahl der einwertigen Kationen in dem Salz bedeutet und den Wert n= 1 , 2 oder 3 aufweist und n der Wertigkeit des Anions entspricht, wobei R1 eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe sein kann, wobei R2 und R3 gleich oder unterschiedlich Wasserstoff, eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe sein kann, mit der Maßgabe, dass R2 und R3 gleiche oder unterschiedliche Bedeutungen besitzen können, und mindestens ein Rest R2 oder R3 eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe ist, wobei R4, R5, R6.R7 und R8 gleich oder unterschiedlich Wasserstoff, eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe sein kann mit der Maßgabe, das mindestens ein Rest R4, R5, R6, R7 oder R8 eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe ist und dass R4, R5, R6,
R7 und R8 gleiche oder unterschiedliche Bedeutungen besitzen können und wobei die Alkyl-Gruppe oder Alken-Gruppe ein linearer, verzweigter, gesättigter und/ oder ungesättigter Alkylrest mit einer Kohlenstoffkettenlänge von C-1 bis C- 30 bedeutet und weiterhin besonders bevorzugt ein Methyl-, Ethyl-, n-Propyl-, 1-Methylethyl-, n-Butyl-, 1-Methylpropyl-, 2-Methylpropyl-, 1 ,1-Dimethylethyl-, n-Pentyl-, 1 -Methylbutyl-, 2-Methylbutyl-, 3-Methylbutyl-, 1-Ethylpropyl-, 2-Ethylpropyl-, 1 ,1-Dimethylpropyl-, 1 ,2-Dimethylpropyl-,
2,2-Dimethylpropyl-, n-Hexyl-, 2-Ethylhexyl-, n-Heptyl-, n-Octyl-, n-Nonyl-, n-Decyl-, n-Undecyl- oder n-Dodecyl-Rest bedeutet.
Die in einem erfindungsgemäßen Verfahren weiterhin bevorzugt eingesetzte ionische Flüssigkeit oder das Gemisch aus mindestens zwei ionischen
Flüssigkeiten umfasst dabei mindestens ein Salz, aufweisend ein ein-, zwei oder dreiwertiges Anion X m" mit m = 1 , 2 oder 3, und als Kation ein fünf- oder sechsgliedriges, aromatisches, teilgesättigtes oder ungesättigtes, stickstoffhaltiges Heterocyclen-Kation, ein Ammonium-Kation oder ein Guanidinium Kation gemäß einer der Formeln I bis VI, wobei n die Anzahl der einwertigen Kationen in dem Salz bedeutet und den Wert n= 1 , 2 oder 3 aufweist und n der Wertigkeit des Anions entspricht, wobei R1 eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe sein kann, wobei R2 und R3 gleich oder unterschiedlich Wasserstoff, eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe sein kann, mit der Maßgabe, dass R2 und R3 gleiche oder unterschiedliche Bedeutungen besitzen können, und mindestens ein Rest R2 oder R3 eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe ist, wobei R4, R5, R6, R7 und R8 gleich oder unterschiedlich Wasserstoff, eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe sein kann mit der Maßgabe, das mindestens ein Rest R4, R5, R6, R7 oder R8 eine Alkyl-, Alken- oder Aryl-Gruppe ist und dass R4, R5, R6,
R7 und R8 gleiche oder unterschiedliche Bedeutungen besitzen können und wobei X m' ein Anion aus der Gruppe Tetrafluoroborat (BF4 "), Alkyl-Borat insbesondere Tetraalkylborat (B(OR)4 " mit R = Alkyl) ganz besosonders Triethylhexylborat (C2H6O)3(C6Hi2O)B "), Phosphat (PO4 3"), Halogeno-Phosphat insbesondere Hexafluorophosphat (PF6 "), organische Phosphate insbesondere
Alkylphosphate oder Arylphosphate (RO-PO3 " mit R = Alkyl oder Aryl), Nitrat (NO3 "), Sulfat (SO4 2"), organische Sulfate insbesondere Alkylsulfate oder Arylsulfate (ROSO3 ' mit R = Alkyl oder Aryl), organische Sulfonate insbesondere Alkylsulfonate oder Arylsulfonate (R-SO3 " mit R = Alkyl oder Aryl) ganz besonders Toluolsulfonyl (p-CH3(C6H4)-SO3 "), Carboxylat (R-COO" mit R =Alkyl), Methanid ([HCR8R9] - und [CR8R9R10] - mit R8, R9, R10 = CN, NO oder NO2, wobei R8, R9, R10 gleich oder unterschiedlich sein können), Halogen insbesondere Fluorid (F"),
Chlorid (Cl ") oder Bromid (Br") oder Pseudohalogenid insbesondere Azid (N3 '), Cyanid (CN "), Cyanat (OCN '), Fulminat (R2CNO " mit R = Alkyl oder Aryl) oder Thiocyanat (SCN ") bedeutet und wobei insbesondere jede Alkylgruppe R der Anionen Xm" oder, falls zwei Alkylgruppen R vorgesehen sind, jede Alkylgruppe R der Anionen Xm' gleich oder verschieden voneinander ein linearer, verzweigter, gesättigter und/ oder ungesättigter Alkylrest mit einer Kohlenstoffkettenlänge von C-1 bis C-30 bedeutet und weiterhin besonders bevorzugt ein Methyl-, Ethyl-, n-Propyl-, 1 -Methylethyl-, n-Butyl-, 1-Methylpropyl-, 2-Methylpropyl-, 1 ,1-Dimethylethyl-, n-Pentyl-, 1-Methylbutyl-, 2-Methylbutyl-, 3-Methylbutyl-, 1-Ethylpropyl-, 2-Ethylpropyl-, 1 ,1-Dimethylpropyl-, 1 ,2-Dimethylpropyl-,
2,2-Dimethylpropyl-, n-Hexyl-, 2-Ethylhexyl-, n-Heptyl-, n-Octyl-, n-Nonyl-, n-Decyl-, n-Undecyl- oder n-Dodecyl-Rest bedeutet.
Es ist weiterhin bevorzugt, dass die ionische Flüssigkeit 1 ,3-Dialkylimidazolium- Kationen und ein hydrophiles oder hydrophobes Anion X, insbesondere ein-, zwei- oder dreiwertige Anionen Xm~ mit m = 1 , 2 oder3 gemäß Formel Il umfasst,
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wobei n die Anzahl der einwertigen Kationen in dem Salz bedeutet und den Wert n= 1 , 2 oder 3 aufweist und n der Wertigkeit des Anions entspricht, wobei R2 und R3 unabhängig voneinander ein linearer, verzweigter, gesättigter und/ oder ungesättigter Alkylrest mit einer Kohlenstoffkettenlänge von C-1 bis C- 30 bedeutet und wobei X m' ein Anion aus der Gruppe Tetrafluoroborat (BF4 '), Alkyl-Borat (B(OR)4 " mit R = Alkyl), Phosphat (PO4 3"), Halogeno-Phosphat (PY6 "mit Y = Halogen), Alkyl- oder Arylphosphat (RO-PO3 " mit R = Alkyl oder Aryl), Nitrat (NO3 "), Sulfat (SO4 2"), Alkyl- oder Arylsulfate (RO-SO3 " mit R = Alkyl oder Aryl), Alkyl- oder Arylsulfonate (R-SO3 ' mit R = Alkyl oder Aryl), Carboxylat (R-COO " mit
R =Alkyl), Methanid ([HCR8R9] " und [CR8R9R10] " mit R8, R9, R10 = CN, NO oder NO2, wobei R8, R9, R10 gleich oder unterschiedlich sein können), Fluorid (F "), Chlorid (Cl "), Bromid (Br), Azid (N3 "), Cyanid (CN "), Cyanat (OCN "), Fulminat (R2CNO " mit R = Alkyl oder Aryl) oder Thiocyanat (SCN ") bedeutet und wobei jede Alkylgruppe R der Anionen X m" oder, falls zwei Alkylgruppen R vorgesehen sind, jede Alkylgruppe R der Anionen Xm" gleich oder verschieden voneinander, ein linearer, verzweigter, gesättigter und/ oder ungesättigter Alkylrest mit einer Kohlenstoffkettenlänge von C-1 bis C-30 bedeutet.
Insbesondere kann auch bevorzugt sein, dass die ionische Flüssigkeit oder das
Gemisch aus mindestens zwei ionischen Flüssigkeiten 1 ,3-Dialkylimidazolium- Kationen (Formel II, wobei R2, R3 unabhängig voneinander Alkyl bedeutet) und ein hydrophiles oder hydrophobes Anion X, insbesondere ein, zwei- oder dreiwertige Anionen Xm" mit m = 1 , 2 oder 3 umfasst, wobei Alkyl unabhängig voneinander ein linearer, verzweigter, gesättigter und/ oder ungesättigter Alkylrest mit einer Kohlenstoffkettenlänge von C-1 bis C- 30 bedeutet und insbesondere Methyl, Ethyl, n-Propyl, 1-Methylethyl, n-Butyl, 1- Methylpropyl, 2-Methylpropyl, 1 ,1-Dimethylethyl, n-Pentyl, 1-Methylbutyl, 2- Methylbutyl, 3-Methylbutyl, 1-Ethylpropyl, 2-Ethylpropyl, 1 ,1-Dimethylpropyl, 1 ,2- Dimethylpropyl, 2,2-Dimethylpropyl, n-Hexyl, 2-Ethylhexyl, n-Heptyl, n-Octyl, n-
Nonyl, n-Decyl, n-Undecyl oder n-Dodecyl bedeutet und wobei X m" insbesondere ein Anion aus der Gruppe Tetrafluoroborat (BF4 "), Alkyl-Borat insbesondere Tetraalkylborat (B(OR)4 " mit R = Alkyl) ganz besosonders Triethylhexylborat (C2H6O)3(C6H12O)B "), Phosphat (PO4 3"), Halogeno-Phosphat insbesondere Hexafluorophosphat (PF6 "), organische
Phosphate insbesondere Alkylphosphate oder Arylphosphate (RO-PO3 " mit R = Alkyl oder Aryl), Nitrat (NO3 '), Sulfat (SO4 2"), organische Sulfate insbesondere Alkylsulfate oder Arylsulfate (ROSO3 " mit R = Alkyl oder Aryl), organische Sulfonate insbesondere Alkylsulfonate oder Arylsulfonate (R-SO3 ' mit R = Alkyl oder Aryl) ganz besonders Toluolsulfonyl (p-CH3(C6H4)-SO3 '), Carboxylat (RCOO " mit R = Alkyl), Methanid ([HCR8R9] " und [CR8R9R10] " mit R8, R9, R10 = CN, NO oder NO2, wobei R8, R9, R10 gleich oder unterschiedlich sein können), Halogen insbesondere Fluorid (F "), Chlorid (Cl ") oder Bromid (Br") oder Pseudohalogenid insbesondere Azid (N3 "), Cyanid (CN "), Cyanat (OCN "), Fulminat (R2CNO " mit R = Alkyl oder Aryl) oder Thiocyanat (SCN ") bedeutet und wobei insbesondere jede Alkylgruppe R der Anionen X m" oder, falls zwei Alkylgruppen R vorgesehen sind, jede Alkylgruppe R der Anionen X m"gleich oder verschieden voneinander ein linearer, verzweigter, gesättigter und/ oder ungesättigter Alkylrest mit einer Kohlenstoffkettenlänge von C-1 bis C-30 bedeutet und weiterhin besonders bevorzugt ein Methyl-, Ethyl-, n-Propyl-, 1 -Methylethyl-, n-Butyl-, 1 -Methylpropyl-, 2-Methyipropyl-, 1 ,1-Dimethylethyl-, n-Pentyl-, 1-Methylbutyl-, 2-Methylbutyl-, 3-Methylbutyl-, 1-Ethylpropyl-, 2-Ethylpropyl-, 1 ,1-Dimethylpropyl-,
1 ,2-Dimethylpropyl-, 2,2-Dimethylpropyl-, n-Hexyl-, 2-Ethylhexyl-, n-Heptyl-, n-Octyl-, n-Nonyl-, n-Decyl-, n-Undecyl- oder n-Dodecyl-Rest bedeutet.
Gemäß einem ganz besonders bevorzugten Verfahren umfasst die ionische Flüssigkeit oder das Gemisch aus mindestens zwei ionischen Flüssigkeiten mindestens ein 1-Alkyl-3-methylimidazoliumhalogenid [Formel (II) wobei R3 = Methyl und R2 = Alkyl bedeutet], wobei Alkyl ein linearer oder verzweigter, gesättigter Kohlenwasserstoff mit einer Kohlenstoffkettenlänge von C-1 bis C-30 und insbesondere Methyl, Ethyl, n-Propyl, 1 -Methylethyl, n-Butyl, 1 -Methylpropyl, 2-Methylpropyl, 1 ,1-Dimethylethyl, n-Pentyl, 1-Methylbutyl, 2-Methylbutyl, 3-
Methylbutyl, 1-Ethylpropyl, 2-Ethylpropyl, 1 ,1-Dimethylpropyl, 1 ,2-Dimethylpropyl, 2,2-Dimethylpropyl, n-Hexyl, 2-Ethylhexyl, n-Heptyl, n-Octyl, n-Nonyl, n-Decyl, n-Undecyl oder n-Dodecyl bedeutet und wobei Halogenid Chlorid oder Bromid bedeutet.
Es gibt weitere Möglichkeiten von Anion-Kation-Kombinationen, die als ionische Flüssigkeit geeignet sein können. Insbesondere können durch systematische Kombination von Anionen und Kationen Salze ionische Flüssigkeiten als solvothermale Lösemittel-Phasen mit bestimmten Eigenschaften, wie zum Beispiel Schmelzpunkt und thermische Stabilität, hergestellt werden. In einer bevorzugten Variante der Erfindung stellt die ionische Flüssigkeit selbst eine Brönstedsäure bzw. deren Salz dar und dient somit als Protonen-/ Kationenquelle bzw. enthält eine Brönstedsäure bzw. deren Salze, die als Protonen/ Kationenquelle dienen.
Darüber hinaus kann weiter vorgesehen sein, das die ionische Flüssigkeit oder das Gemisch aus mindestens zwei ionischen Flüssigkeiten zusätzlich Promotorionen umfasst, wobei diese ausgewählt werden aus der Gruppe
Phosphat (PO4 3"), organische Phosphate (RO-PO3 "), Nitrat (NO3 "), Sulfat (SO4 2"), organische Sulfate (RO-SO3 "), Carboxylat (R-COO "), Methanid ([HCR8R9] " oder [CR8R9R10] " mit R8, R9, R10 = CN , NO oder NO2, wobei R8, R9, R10 gleich oder unterschiedlich sein können), Fluorid (F "), Chlorid (Cl "), Bromid (Br"), Azid (N3 "), Cyanid (CN "), Cyanat (OCN '), Fulminat (R2CNO ") oder Thiocyanat (SCN ") bedeutet. Insbesondere können die organischen Reste R ein Alkylrest sein. Diese Promotorionen können als Additive einer ionischen Flüssigkeit in jeder Form, d.h. unabhängig von einem zugehörigen Gegenion zugegeben werden.
In ionischen Flüssigkeiten können anorganische Synthesen und insbesondere
Silikatsynthesen unter relativ milden Bedingungen durchgeführt werden, die zur gezielten Synthese von Silikaten mit definierten Struktureinheiten führen. Einerseits kann die Synthese bei Temperaturen durchgeführt werden, die unterhalb einem bestimmten Wert liegt, insbesondere kann die Synthese bei einer Temperatur unterhalb von 250 0C, insbesondere unterhalb von 200 0C und ganz besonders bevorzugt zwischen 50 0C und 150 0C durchgeführt werden. Andererseits kann die Synthese in einer wasserfreien oder in kontrolliert wasserhaltigen Umgebung durchgeführt werden. In einem besonders bevorzugten Verfahren wird die Synthese in einem kontrolliert wasserhaltigen Umgebung durchgeführt, wobei die Menge an Wasser höchsten dem der doppelten Menge an stöchiometrischen Anteilen Wasser bezogen auf die für die Synthese der jeweiligen Silikate notwendige Menge beträgt. In einem solchen Reaktionsmedium werden Nebenreaktionen, die in einer hydrothermalen Synthese systembedingt ablaufen, fast vollständig unterdrückt, wodurch eine nahezu optimale Reaktionsbedingung für eine gezielte Synthese zur Verfügung gestellt wird. Demnach wird in einem bevorzugten erfindungsgemäßen Verfahren die Synthese der Silikate bei höchstens 150 0C und insbesondere 50 0C bis 150 0C und ganz besonders in einem Autoklaven bei 50 0C bis 150 0C durchgeführt. Insbesondere wird die Synthese der Silikate in einem Autoklaven bei 50 0C bis 150 0C und mit einer in Bezug auf das zu synthetisierende Silikat höchstens doppelt- stöchiometrischen Menge an Wasser durchgeführt. Bei dem Autoklaven handelt es sich um ein geschlossenes Gefäß, das während der gesamten Reaktionszeit verschlossen bleibt, so das der mit der eingestellten Temperatur aufgebaute Gesamtdruck aufrecht erhalten ist. Somit werden die solvothermalen Bedingungen in sehr einfacher Art und Weise eingestellt. Durch die Verwendung von ionischen Flüssigkeiten als Solvens und der kontrollierten Menge an Wasser kann auf die bei der hydrothermalen Synthese notwendigen Hochdruckautoklaven verzichtet werden.
Weiterhin kann vorgesehen sein, dass die solvothermale Synthese in einem Autoklavensystem mit Zwangsumwälzung durchgeführt wird. Diese Zwangsumwälzung stellt eine laminare Strömung auf der metallischen
Trägersubstratoberfläche bereit. Hierdurch wird die Oberfläche mit einer besonders gleichmäßigen Konzentration an synthetisierten Silikaten versorgt beziehungsweise durch die mit der laminaren Strömung eingestellte gleichmäßige Konzentration an gelösten Komponenten erfolgt ein sehr gleichmäßiges Wachstum an Silikaten auf der Metalloberfläche. Dies stellt einen wesentlichen
Unterschied zur klassischen Hydrothermalsynthese dar, bei der lediglich ein Stofftransport durch Konvektion im Schwerefeld sichergestellt ist, die allenthalben durch interne Rührvorrichtung unterstützt ist, die ihrerseits nicht zu einer laminaren Strömung auf der Substratoberfläche führt. Insbesondere steht damit ein Verfahren zur Verfügung, in dem die Verfahrenschritte b) und c) gleichzeitig ausgeführt werden können. In einem besonders bevorzugten Verfahren erfolgt die Synthese der Silikate nach Verfahrensschritt b) und die Beschichtung nach Verfahrensschritt c) in einem Mehrkammerautoklaven, so dass die Verfahrenschritte b) und c) gleichzeitig ausgeführt werden können. Dabei ist unter einem Mehrkammerautoklaven, ein solches Druckgefäß zu verstehen, das aus mindestens zwei Kompartimenten besteht, wobei jedes Kompartiment zu den übrigen Kompartimenten isotherm ist. In einem ersten Kompartiment wird dabei das metallische Trägersubstrat eingebracht, wogegen in dem mindestens zweiten Kompartiment eine Zwangsumwälzung erfolgt, wodurch eine laminare Strömung an der Oberfläche des metallischen Trägersubstrates erzeugt wird. Somit kann ein durch die ionische Flüssigkeit bedingte schnelle Keimbildung an jeder Stelle in der ionischen Flüssigkeit vollzogen werden und diese Keime in sehr gleichmäßiger
Konzentration auf die metallische Oberfläche aufgebracht werden und/ oder ein sehr homogene Keimbildung auf der metallischen Oberfläche erfolgen. Diese homogene Keimbildung in der ionischen Flüssigkeit und/ oder auf der metallischen Oberfläche des Trägersubstrates bewirkt ein Aufwachsen von homogenen Silikatschichten auf der metallischen Oberfläche.
Bei der Herstellung der Partikel, Kristalle oder den daraus bestehenden oder sich in-situ bildenden Schichten können die inischen Flüssigkeiten weiterhin als stabilisierendes Agens auf der Oberfläche der sich bildenden Teilchen wirken. Anionische oder kationische konstituierende Bestandteile können dabei die Rolle von Stabilisatoren übernehemen, die in der klassischen Systemen als molekulare Additive zugesetzt werden. Auf diese Weise können solvothermale Systeme aufgebaut werden, die das Eigenschafts- und Anwendungsspektrum klassischer wasserbasierter Systeme wesentlich erweitert.
Mit dem hier vorgeschlagen Verfahren kann ein Schichtverbund hergestellt werden, dessen Silikatschicht sehr homogen hinsichtlich seiner Schichtdicke an jeder Stelle des Schichtverbundes ist und darüber hinaus sehr homogen hinsichtlich der Einzelpartikel, aus denen die Silikatschicht besteht. Durch die im Vergleich zur klassischen Hydrothermalsynthese schnellere Keimbildung, wird die
Keimbildung im Vergleich zum Partikel- oder Kristallwachstum begünstigt. Damit resultieren aus dem vorgeschlagenen Verfahren Partikel beziehungsweise Kristalle und Schichten, die eine sehr enge Partikelgrößenverteilung aufweisen. Diese enge Größenverteilung wiederum gewährleistet eine in sich homogene Silikatschicht auf dem metallischen Trägersubstrat. Eine in sich zusammenhaltende Silikatschicht wird dabei dadurch erreicht, dass neu gebildete Keime auf bereits bestehende Keime auf dem metallischen Trägersubstrat aufwachsen.
Demnach kann in einem bevorzugten Verfahren eine insbesondere homogene Silikatschicht eine Schichtdicke von mindestens 10 μm, insbesondere 10 μm und höchstens 200 μm und ganz besonders bevorzugt mindestens 50 μm und höchstens 150 μm aufweisen. In einem weiterhin bevorzugten Verfahren weist die Silikatschicht Partikel oder Kristalle auf, die einen Partikeldurchmesser von höchstens 200 nm, insbesondere 10 bis 150 nm aufweisen.
Entsprechend den klassischen Synthese-Verfahren von Silikaten und insbesondere von Zeolithen werden die zur Ausbildung der Silikat-Struktur beziehungsweise Zeolith-Struktur notwendigen Ausgangsstoffe in eine wässrige Lösung oder Suspension gebracht. Eine solche wässrige Suspension umfasst eine erste Komponente, welche eine Quelle für Kationen aus der ersten oder zweiten Hauptgruppe des Periodensystems darstellt und Wasser. Femer liegt eine zweite Komponente vor, welche als Quelle für wenigstens ein netzbildendes Element aus der dritten, vierten oder fünften Hauptgruppe des Periodensystems dient. Die Wassermenge in der Lösung oder Suspension wird dabei derart gewählt, dass eine dem zu synthetisierenden Silikat entsprechende höchstens doppelt-stöchiometrische Menge vorliegt.
Insbesondere kann mit dem vorliegenden neuen Verfahren eine Synthese von Aluminiumsilikaten und insbesondere von Zeolithen der allgemeinen Formel (VII)
M2/ZO AI2O3 x SiO2 y H2O (VII)
durchgeführt werden, wobei M : ein oder mehr als ein Kation aus der Gruppe der Alkali- oder
Erdalkalielemente, Wasserstoff und/oder Ammonium, z : die Wertigkeit des Kations oder die Summe der Wertigkeiten der
Kationen, x : 1 ,8 bis 12 und y : 0 bis 8 bedeutet.
Die weiteren Synthesebedingungen zur Herstellung von dauerhaften Silikat- Schichten beziehungsweise Zeolith-Schichten auf den metallischen Trägersubstraten können im Rahmen des fachmännischen Ermessens entsprechend der klassischen Silikatsynthese gewählt werden. Als metallische Trägersubstrate sollen dabei insbesondere metallische Substrat aus Kupfer, Aluminium, Eisen oder Legierungen hiervon oder Edelstahl gewählt werden.
Mit der vorliegenden Erfindung wird weiterhin ein Schichtverbund hergestellt durch ein oben beschrieben Verfahren bereit gestellt. Dieser Schichtverbund kann insbesondere in einem Wärmetauscher verwendet werden. Demgemäß wird mit der vorliegenden Erfindung auch ein Wärmetauscher vorgeschlagen, der nach einem oben beschriebenen Verfahren hergestellt wurde. Diese Schichtverbunde zeichnen sich besonders durch eine effektive Energieübertragung in einem
Wärmetauscher aus.
Insbesondere wird mit der vorliegenden Erfindung auch ein Wärmetauscher vorgeschlagen, der ein metallisches Trägersubstrat und eine Silikatschicht umfasst, die ihrerseits Silikatpartikel oder Silikatkristalle umfasst, die eine
Teilchengröße von höchstens 200 nm, insbesondere höchstens 150 nm und ganz besonders bevorzugt eine Teilchengröße von 50 bis 150 nm aufweisen.
Nachfolgend wird das Verfahren anhand eines Ausführungsbeispiels näher erläutert.

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zur Herstellung eines Schichtverbundes umfassend ein metallisches Trägersubstrat und eine Silikatschicht mit den Verfahrensschritten a) Bereitstellen des metallischen Trägersubstrates, b) Herstellen von Silikatkristallen und/ oder Silikatpartikeln mittels solvothermaler Synthese und c) Beschichten mindestens einer Oberfläche des metallischen Trägersubstrates mit den unter b) hergestellten Silikatkristallen und/ oder
Silikatpartikel dadurch gekennzeichnet, dass die solvothermale Synthese in mindestens einer ionischen Flüssigkeit durchgeführt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass die Synthese in einem Gemisch aus mindestens zwei verschiedenen ionischen Flüssigkeiten durchgeführt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2 dadurch gekennzeichnet, dass die ionische Flüssigkeit 1 ,3-Dialkylimidazolium-Kationen und hydrophile oder hydrophobe Anionen X, insbesondere ein-, zwei- oder dreiwertige Anionen X m~ mit m= 1 , 2 oder 3 umfasst, wobei Alkyl unabhängig voneinander ein linearer, verzweigter, gesättigter und/ oder ungesättigter Alkylrest mit einer Kohlenstoffketten länge von C-1 bis C-30 bedeutet.
4. Verfahren nach mindestens einem der vorgenannten Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die ionische Flüssigkeit mindestens ein 1 -Alkyl-3- methylimidazoliumhalogenid umfasst, wobei Alkyl ein linearer oder verzweigter und/ oder gesättigter oder ungesättigter Kohlenwasserstoff mit einer Kohlenstoffkettenlänge von C-1 bis C-30 und wobei Halogenid Chlorid oder Bromid bedeutet.
5. Verfahren nach mindestens einem der vorgenannten Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die ionische Flüssigkeit weiterhin Promotorionen umfasst, die verschieden von den Anionen der ionischen Flüssigkeiten sind und diese Promotorionen ausgewählt werden aus der Gruppe Phosphat (PO4 3'), organische Phosphate (RO-PO3 "), Nitrat (NO3 '), Sulfat (SO4 2"), organische Sulfate (RO-SO3 "), Carboxylat (R-COO "), Methanid ([HCR8R9] " und [CR8R9R10] " mit R8, R9, R10 = CN , NO oder NO2, wobei R8, R9, R10 gleich oder unterschiedlich sein können), Fluorid (F "), Chlorid (Cl "), Bromid (Br"), Azid (N3 "), Cyanid (CN "), Cyanat (OCN "), Fulminat (R2CNO ") oder Thiocyanat (SCN ") bedeutet.
6. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2 dadurch gekennzeichnet, dass die Synthese der Silikatkristalle und/ oder Silikatpartikel bei höchstens 150 0C in einem Autoklaven durchgeführt wird, insbesondere in Gestalt einer Solvothermalsynthese in einem Autoklaven mit Zwangsumwälzung.
7. Verfahren nach mindestens einem der vorgenannten Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass der Verfahrensschritte b) Herstellen der Silikatkristalle und/ oder Silikatpartikel und der Verfahrensschritt c) Beschichten der Trägersubstanz gleichzeitig vorgenommen werden.
8. Verfahren nach mindestens einem der vorgenannten Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das metallische Substrat aus Kupfer, Aluminium, Eisen oder Legierungen hiervon oder Edelstahl besteht.
9. Verfahren nach mindestens einem der vorgenannten Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Silikatschicht aus einem Aluminium-Silikat vorzugsweise ein Zeolith der allgemeinen Formel
M2/ZO AI2O3 x SiO2 y H2O besteht, wobei M : ein oder mehr als ein Kation aus der
Gruppe der Alkali- oder Erdalkalielemente, Wasserstoff und/oder Ammonium, z : die Wertigkeit des Kations oder die Summe der Wertigkeiten der Kationen, x : 1 ,8 bis 12 und y : 0 bis 8 bedeutet.
10. Verfahren nach mindestens einem der vorgenannten Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Silikatschicht Silikatkristalle und/ oder Silikatpartikel umfasst, die einen Partikeldurchmesser von höchstens 200 nm und insbesondere 10 bis 150 nm aufweisen.
11. Verfahren nach mindestens einem der vorgenannten Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Silikatschicht eine Schichtdicke von mindestens 10 μm, insbesondere von mindestens 10 μm und höchstens 200 μm und ganz besonders bevorzugt mindestens 50 μm und höchstens 150 μm aufweist.
12. Schichtverbund hergestellt nach mindestens einem der vorgenannten Ansprüche.
13. Wärmetauscher umfassend einen Schichtverbund nach Anspruch 12.
14. Verwendung eines Schichtverbundes nach Anspruch 12 zur Energieübertragung in einem Wärmetauscher.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009011530A1 (de) * 2009-03-03 2010-09-09 Sortech Ag Verfahren zur Ausbildung einer Alumosilikat-Zeolith-Schicht auf einem metallischen Substrat, das beschichtete Substrat sowie dessen Verwendung
AU2015205332B2 (en) 2014-01-10 2018-08-23 Bry Air (Asia) Pvt. Ltd. Hybrid adsorber heat exchanging device and method of manufacture
DE102015122301B4 (de) * 2015-12-18 2020-08-13 Fahrenheit Gmbh Verfahren zur Ausbildung einer Alumosilikat-Zeolith-Schicht auf einem aluminiumhaltigen metallischen Substrat sowie Verwendung des danach erhaltenen Substrats
CN106011805A (zh) * 2016-06-30 2016-10-12 昆明理工大学 一种离子液体中Al2O3陶瓷表面化学镀镍的方法
DE102019134587B4 (de) * 2019-12-16 2023-01-12 Fahrenheit Gmbh Wärmeübertrager und Adsorptionsmaschine

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2016838C3 (de) * 1970-04-09 1983-03-24 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur Herstellung von granulierten, abriebfesten, bindemittelfreien Molekularsiebzeolithen
US5325916A (en) * 1989-07-28 1994-07-05 Uop Method of coating aluminum substrates with solid adsorbent
US5260243A (en) * 1989-07-28 1993-11-09 Uop Method of coating aluminum substrates with solid adsorbent
US6500490B1 (en) * 2000-03-23 2002-12-31 Honeywell International Inc. Hydrophilic zeolite coating
DE10052075A1 (de) * 2000-10-19 2002-05-02 Thomas Bein Poröse Schichten und ein Verfahren zu deren Herstellung mittels Spin-Coating
DE10159652C2 (de) * 2000-12-05 2003-07-24 Sortech Ag Verfahren zur Wärmeübertragung sowie Wärmeübertrager hierfür
DE10247578A1 (de) * 2002-10-13 2004-04-22 Solvent Innovation Gmbh Neuartige, funktionalisierte ionische Flüssigkeiten und Verfahren zu ihrer Herstellung
US20060018966A1 (en) * 2003-07-22 2006-01-26 Lin Victor S Antimicrobial mesoporous silica nanoparticles
CN1257839C (zh) * 2004-09-16 2006-05-31 华东师范大学 一种以离子液体为模板剂制备介孔分子筛的方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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