WO2007129607A1 - 無線lanに用いる電磁波吸収板 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to an electromagnetic wave absorbing plate for use in a transparent wireless LAN mainly used for an opening of an outer wall of a building or an indoor partition.
- wireless information transmission means examples include mobile phones, PDAs (personal digital assistants), wireless LANs, broadcast waves, automobile radars, ETC in-vehicle devices, and various electronic devices.
- electromagnetic waves generated by the power of equipment used for wireless information transmission enter the building through the opening of the building and cause electromagnetic noise from other electronic devices. Therefore, an electromagnetic wave absorbing plate having transparency that can effectively absorb electromagnetic waves is desired.
- a wireless LAN local information communication network
- an indoor LA is an indoor LA.
- Patent Document 1 discloses an electromagnetic wave absorbing plate having such a multilayer glass configuration.
- a ⁇ ⁇ 4 type electromagnetic wave absorber in which an absorbing material that absorbs incoming electromagnetic waves and a reflective material that reflects incoming electromagnetic waves are spaced apart by an interval corresponding to 1Z4 of the wavelength of the electromagnetic waves to be absorbed. ing.
- the thickness of the absorber requires a wavelength of 1Z4. Therefore, when the center frequency of the wireless LAN is 2.45 GHz, it is about 31 mm. Thickness is required. Therefore, if this absorber is too thick to be attached to a partition, a building window, a wall, etc., there is a drawback.
- Patent Document 2 in order to reduce the thickness of the ⁇ 4 type electromagnetic wave absorber, it is formed in a stripe shape or a lattice shape between the absorber and the reflective material of the ⁇ / 4 type electromagnetic wave absorber. Proposals have been made to increase the effective dielectric constant between the absorbing material and the reflecting material and to reduce the thickness by arranging the conductive film.
- Patent Document 3 an electromagnetic absorption layer is provided outside the room where electromagnetic waves are incident, an electromagnetic reflection layer is provided inside the room, and a liquid with a high dielectric constant is enclosed instead of the hollow layer. Proposed.
- Patent Document 1 JP 2001-44750 A
- Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 10-275997
- Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 5-37178
- Patent Document 4 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-8279
- the present invention has been made in view of the circumstances as described in Patent Documents 1 to 4, and for electromagnetic waves having frequencies of 2.45 GHz and 5.2 GHz, which are used in a wireless LAN.
- the present invention also provides a transparent electromagnetic wave absorbing plate having a multi-layer glass structure excellent in heat insulating properties.
- the electromagnetic wave absorbing plate of the present invention a pair of transparent plate glasses are spaced apart via a spacer disposed at the peripheral edge, and a sealed hollow layer is formed between the pair of plate glasses.
- the thickness of the plate glass is in the range of 2 to 20 mm
- the thickness of the hollow layer is in the range of 15 mm
- at least one plate glass of the pair of plate glasses has a thickness of 20 to 2 K ⁇
- a resistance film having a surface resistance (surface resistivity) in a range is formed, and the resistance film is formed on a surface of a sheet glass on a hollow layer side, and is an electromagnetic wave absorbing plate used for a wireless LAN.
- FIG. 1 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave absorbing plate in which a resistive film is formed on a dielectric plate.
- FIG. 2 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave absorbing plate in which a resistive film is formed on two dielectric plates.
- FIG. 3 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave absorbing plate in which a dielectric plate formed with a resistance film is formed by laminating two dielectric plates with an intermediate film.
- FIG. 4 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave absorbing plate in which a resistive film is formed and a dielectric plate is formed by laminating two dielectric plates with an intermediate film.
- FIG. 5 is a cross-sectional view of an electromagnetic wave absorbing plate in which a resistive film is formed on two surfaces of a dielectric plate facing the hollow layer, and one dielectric plate is a laminate of two dielectric plates. It is.
- FIG. 6 is a conceptual diagram for creating an equivalent circuit diagram for calculating impedance when radio waves arrive on a dielectric plate formed with a resistance film.
- FIG. 7 is an equivalent circuit diagram for calculating impedance when the direction of arrival of radio waves is shown in FIG.
- FIG. 8 is a conceptual diagram for creating an equivalent circuit diagram for calculating the impedance when radio waves arrive on a dielectric plate without a resistive film formed.
- FIG. 9 is an equivalent circuit diagram for calculating impedance when the direction of arrival of radio waves is shown in FIG.
- FIG. 10 is a conceptual diagram for creating an equivalent circuit diagram for calculating the impedance of the electromagnetic wave absorbing plate shown in FIG. 2.
- FIG. 11 is an equivalent circuit diagram for calculating impedance when the direction of arrival of radio waves is shown in FIG.
- FIG. 12 In the electromagnetic wave absorbing plate of FIG. 1, the relationship between the surface resistance value of the resistive film and the electromagnetic wave absorption amount when the thickness of the two glass sheets is 6 mm and the thickness of the hollow layer 7 is 6 mm. It is rough.
- FIG. 13 A graph showing the relationship between the resistance value of the resistance film and the amount of electromagnetic waves absorbed when the thickness of the two glass sheets is 6 mm and the thickness of the hollow layer is 6 mm. It is.
- FIG. 14 is a schematic view showing a measuring device for electromagnetic wave absorption performance.
- the electromagnetic wave absorbing plate having a multilayer glass structure of the present invention has a simple multilayer glass structure, and is a transparent electromagnetic wave absorbing plate that functions effectively in a frequency range of 1 to LOG Hz, particularly a frequency of a wireless LAN. 2. Provide an electromagnetic wave absorbing plate effective for 45GHz and 5.2GHz.
- the electromagnetic wave absorbing plate having a multilayer glass structure of the present invention has a simple multilayer glass structure, and functions effectively in a frequency range of 1 to LOG Hz, particularly a frequency of a wireless LAN. 2.
- the wireless LAN frequency band is a frequency band centered around 2.45 GHz and 5.2 GHz band. The latter, which is frequently used because of its ability to communicate, is designed for indoor use only under the Radio Law.
- an “access point” is provided to amplify the output. Furthermore, electromagnetic interference with other parts is prevented.
- the output of the “access point” is 22 mW (0.022 W), so it is necessary to support this output. This output is small compared to general communication devices (cell phones, etc.), so it can be used as an electromagnetic wave absorber if the electromagnetic wave absorption performance is 10 dB (electromagnetic wave energy is attenuated to 1Z10) or more. it can.
- the electromagnetic wave is absorbed.
- the frequency range that requires is 1 to: LOGHz.
- the frequency at which the electromagnetic wave absorbing plate of the present invention becomes effective is approximately 1 to: LOGHz, and this frequency range includes 800 MHz to lGHz for mobile phones, 1.5 GHz band, and 1.9 GHz band for PHS phones.
- LOGHz LOGHz
- the electromagnetic wave absorbing plate of the present invention is effective for electromagnetic waves of 2.45 GHz band and 5.2 GHz band, which are used in wireless LAN, such as an opening on the outer wall of a building. Therefore, it is desirable to use it to prevent the propagation of electromagnetic waves to the outside of the building or to prevent crosstalk due to electromagnetic waves entering from the outside of the building.
- the electromagnetic wave absorbing plate of the present invention includes transparent dielectric plates 1 and 2, which are substantially constant by using a spacer 4 at the periphery of the dielectric plate. It is the structure of the double-glazed glass arranged oppositely so that it may become an interval.
- the dielectric plates 1 and 2 and the spacer 4 are bonded to each other by the adhesive 3. Further, the space near the edge of the dielectric plate formed by the spacer 4 and the dielectric plates 1 and 2 is not provided.
- the sealant 5 is preferably sealed. It is preferable to use a butyl rubber adhesive for the adhesive 3 and a silicone resin or a hot melt resin for the sealing material 5.
- the hollow layer 7 formed by the dielectric plates 1 and 2 is preferably filled with air, but may be filled with a rare gas such as argon gas! /.
- the dielectric plate 1 having a transparent resistance film 6 formed on the surface thereof facing the hollow layer 7 is used.
- plate glass such as soda-lime glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, and various transparent plastic plates such as polycarbonate plate and acrylic plate can be used.
- the thicknesses of the dielectric plates 1 and 2 are important for developing the ability to absorb electromagnetic waves. For this reason, the dielectric plates 10 and 12 as shown in FIG. 3 and the dielectric as shown in FIG. It is desirable to laminate the body plates 20 and 22 and the dielectric plates 30 and 32 as shown in FIG. 5 to adjust the thickness of the dielectric plate to optimize the performance of absorbing electromagnetic waves.
- the dielectric plates can be laminated using, for example, an intermediate film 11, 21 such as polyvinyl butyral or EVA.
- the dielectric to be laminated is one or more of the above-mentioned plate glass such as soda-lime glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, and various transparent plastic plate forces such as polycarbonate plate and acrylic plate.
- a plate glass and a glass plate, a plate glass and a plastic plate, or a plastic plate are laminated.
- the resistive coatings 6, 8 formed on the surfaces of the dielectric plates 1, 2, 12 are made of one or more kinds of metals selected from Ag, Au, Cr, Ti, Al, Cu, SUS, Ni, etc.
- Transparent metal film, or metal film and metal oxide film such as ZnO, SnO, InO, TiO: BiO, TaO, WO, ZnS
- multilayer film for example, ZnO film ZAg film ZZnO film, TiO film ZCr film ZSnO film, Zn
- a TO film or a Nesa film (acid-tin-tin film) can be selected appropriately.
- the means for forming the above-described resistance films 6 and 8 is not particularly specified, but a physical vapor deposition method (sputtering method, vacuum vapor deposition method, etc.) or chemical vapor deposition method can be selected and used.
- a transparent resin film on which a resistance film is formed may be adhered to the dielectric plate.
- the same film as the resistance film formed on a transparent resin plate such as plate glass can be used.
- the transparent resin film polyethylene terephthalate (PET) film, polyester film, or the like can be used.
- the electromagnetic wave absorbing performance of the electromagnetic wave absorbing plate of the present invention is as shown in FIG. 8 when electromagnetic waves are incident from the transparent dielectric plate 1 side on which the resistive coating 6 is formed. As shown in FIG. 7 and FIG. 9, the resistive film 6 is formed and electromagnetic waves are incident from the transparent dielectric plate 2 side. It is different.
- case 3 the case where a resistive film is formed on both surfaces of the two dielectric plates facing the hollow layer is called case 3.
- ⁇ 2 is the complex dielectric constant of the transparent dielectric plate 2
- ⁇ 2 is the relative permeability of the transparent dielectric plate 2.
- da is the thickness (m) of the hollow layer 7.
- Zr is the sheet resistance ( ⁇ inlet) of the resistive coating 6
- 377 is the characteristic impedance of air.
- the input impedance Zxi of the electromagnetic wave on the transparent dielectric plate 1 side (electromagnetic wave incident side) in FIG. 6 is obtained from the equivalent circuit shown in FIG.
- ⁇ 1 is the complex dielectric constant of the transparent dielectric plate 1
- 1 is the relative permeability of the transparent dielectric plate.
- ⁇ 1.
- ⁇ is electromagnetic wave
- d is the thickness (m) of the transparent plate.
- the reflection coefficient ⁇ of the electromagnetic wave reflected from the surface of the transparent dielectric is a value obtained by the following equation (6):
- the electromagnetic wave absorption amount Ail can be obtained by the following equation (7).
- the input impedance ⁇ of the dielectric plate 1 on the free space side opposite to the side on which the electromagnetic wave is incident can be obtained by the following equation (8).
- the input impedance of the resistive film 3 formed on the transparent dielectric plate 1 can be obtained by the following equation (10).
- FIG. 6 shows a resistive film having a surface resistance value Z on the surface of a transparent derivative on the side on which electromagnetic waves are incident.
- the impedance of the electromagnetic wave incident on the transparent dielectric 1 on the electromagnetic wave incident side can be obtained by the following equation (13).
- ⁇ is the complex dielectric constant of the transparent plate
- ⁇ is the relative permeability of the transparent plate
- D is the thickness (m) of the transparent dielectric plate.
- the reflection coefficient ⁇ of the electromagnetic wave reflected by the transparent dielectric plate is a value obtained by the following equation (14):
- the electromagnetic wave absorption amount A when the electromagnetic wave is incident from the transparent dielectric plate side on which the resistance film is not formed can be obtained by the following equation (15).
- the thickness of the sheet glass on which the resistance film is formed is 6 mm, 3 mm, 5 mm, 8 mm, 10 mm, 12 mm, and 15 mm.
- the thickness of the glass sheet is 3mm, 5mm, 8mm, 10mm, 12mm and 15mm, and the absorption range for the electromagnetic wave at 2.45GHz and 5.2GHz is 10dB or more.
- Table 1 The results shown in Table 1 were obtained, and for Case 2, the results shown in Table 2 were obtained.
- Table 1 was created based on the amount of absorption determined by equation (7), and Table 2 was prepared based on the amount of absorption determined by equation (15).
- Case 1 has a wider thickness range of the plate glass and the hollow layer 7 in which the absorption amount is 10 dB or more than Case 2, and the thickness range of the hollow layer 7 is wider.
- the thickness of the plate glass on which the resistance film is formed is in the range of 2 to 20 mm
- the thickness of the hollow layer is in the range of 5 to 15 mm
- one of the glass plates of the pair of plate glasses is in the range of 20-2 kQ / mouth.
- a film with a resistance film in the range of 20-2 kQ / mouth absorbs 10 dB or more of electromagnetic waves used in wireless LAN.
- the thickness of the sheet glass on which the resistance film is formed is 2 mm or more and less than 8 mm, and the thickness of the hollow layer 7 is 5 mn!
- the thickness of the sheet glass on which the resistive film is formed is 8 mm or more and less than 15 mm, and the thickness of the hollow layer 7 If the force is greater than or equal to mm and less than 8 mm, the resistance range of the resistive film is in the range of 20 to 2 kQZ, which is 10 dB or more for both Case 1 and Case 2 or for either Case 1 and Case 2.
- the thickness of the sheet glass on which the resistance film is formed is 8 mm or more and 20 mm or less
- the thickness of the hollow layer 7 is 8 mm or more and 15 mm or less
- the surface resistance value of the resistance film is 20 to 600
- the thickness of the hollow layer 7 is 5 mn!
- the thickness of the sheet glass on which the resistance film is formed is in the range of 2 mm to 8 mm, and the resistance film having the surface resistance value in the range of 20 to 2 mm ⁇ Some of them absorb 2GHz electromagnetic wave more than 10dB, which is preferable.
- the hollow layer 7 is 5 mn!
- the thickness of the glass plate on which the resistive film is formed is in the range of 15 mm to 15 mm and the resistance film of 20 to 600 ⁇ / D is formed in the range of 15 mm to 20 mm. Some of them absorb and are preferable.
- the absorption amount is 20 dB or more (attenuated to 1Z100) with respect to the thickness of the plate glass on which the resistance film is formed and the thickness of the hollow layer, 2.
- the resistance film surface resistance range is as shown in Table 3.
- the resistance film surface resistance range is as shown in Table 4.
- the electromagnetic wave absorption performance is equivalent to determining the amount of electromagnetic wave absorption, assuming that the side force electromagnetic wave is incident on the transparent glass sheet 1 on which the resistive film 6 is formed.
- the circuit looks like Figure 11.
- [0072] is the complex dielectric constant of the transparent flat glass 2, and ⁇ is the relative permeability of the transparent flat glass 2.
- D is the thickness (m) of the transparent glass sheet 2.
- the input impedance Zxi on the incident side of the electromagnetic wave in FIG. 10 is a value obtained from the equivalent circuit shown in FIG. 11 by the following equation (21). [Number 21]
- D is the thickness (m) of the transparent plate.
- the reflection coefficient ⁇ of the electromagnetic wave reflected from the surface of the transparent plate is obtained by the following equation (22).
- the electromagnetic wave absorption amount is such that the hollow layer 7 has a thickness of 6 mm, and the resistive films 6 and 2 formed on the plate glasses 1 and 2
- Equation (23) a graph of the absorption amount with respect to the wavelength of the electromagnetic wave is obtained as shown in FIG.
- the thickness of the plate glass is 3 types, 3mm, 5mm, 10mm, 12mm and 15mm.
- the results shown in Table 5 were obtained when the resistance range of the resistive film with absorption of 10 dB or more for electromagnetic waves of 2.45 GHz and 5.2 GHz was determined as 12 mm and 15 mm.
- Table 6 shows the resistance range of the resistive film where the absorption performance is 20 dB or more as a particularly remarkable effect.
- the thickness of the plate glass, the thickness of the hollow layer 7, and the resistance value of the resistance film, which are equal to or higher than lOdB shown in Table 5, are in the range of 3 to 20 mm in the thickness of the two plate glasses, and the thickness of the hollow layer 7 is The resistance value of the resistive film is in the range of 20 to 2 mm ⁇ .
- the hollow layer 7 is in the range of 5 to 15 mm, the thickness of at least one plate glass is in the range of 2 to 6 mm, and the resistance of the resistance film formed on the plate glass Or (7) the hollow layer 7 is 5 to 15 mm, and the thickness of at least one sheet glass is more than 6 mm and not more than 14 mm.
- the resistance value of the formed resistance film is in the range of 20 to 500 ⁇ , or (8)
- the hollow layer 7 is 11 to 13 mm, and the thickness of at least one sheet glass is more than 14 mm and less than 20 mm. If the resistance value of the resistance film formed on the plate glass is in the range of 20 to 150 ⁇ Z, the electromagnetic wave absorption at 2.45 GHz is preferably lOdB or more.
- the hollow layer 7 is 5 to: L lmm, the thickness of at least one sheet glass is in the range of 2 to 9 mm, and the resistance value of the resistance film formed on the sheet glass is 20 to If it is in the range of 500 ⁇ Z, or (10) the hollow layer 7 is 7 to 13 mm, the thickness of at least one sheet glass is in the range of 11 to 20 mm, and the resistance value of the resistance film is 20 to 2 K When it is in the range of ⁇ / D, the absorption of 5.2 GHz electromagnetic wave is preferably 10 dB or more.
- the plate yield is 10 dB or more.
- the yield is only 10 dB or more.
- the plate yield is 20 dB or more.
- the yield is only 20 dB or more.
- the electromagnetic absorbing plate having the configuration shown in Fig. 1 is made of a plate glass produced by floats on the dielectrics 1 and 2, and the thickness of the plate glass, the thickness of the hollow layer 7 and the surface resistance value of the resistance film shown in Table 7 Different samples 1-4 were prepared.
- the hollow layer 7 was filled with air.
- As the spacer an aluminum spacer having a hollow rectangular cross section was used, and the space between the hollow layers was changed according to the size of the spacer.
- Samples 1 to 4 are electromagnetic wave absorbing plates prepared for use in the 2.45 GHz frequency band of wireless LAN in case 1.
- the resistance film As the resistance film, a TiO film, a Cr film, and a SnO film were formed in this order by a sputtering method. The sheet resistance of the resistive film was adjusted by the film thickness.
- the measurement is performed by using the network analyzer 30 to transmit an electromagnetic wave from the transmitting antenna 32 installed in the arched frame 33, and to reflect the electromagnetic wave reflected by the electromagnetic wave absorbing plate (samples 1 to 4) 36.
- the quantity is measured with a network analyzer using a receiving antenna 32 ⁇ . Horn antennas were used for both the transmitting antenna 32 and the receiving antenna 32 ⁇ .
- Reference number 31 represents an electric wire.
- the reflection amount of the metal plate made of aluminum was measured, and then the reflection amount of the electromagnetic wave absorption plate (samples 1 to 4) 36 was measured.
- the difference between the reflection amount of the metal plate and the electromagnetic wave absorption plate (Samples 1 to 4) 36 was calculated as the electromagnetic wave absorption amount of Samples 1 to 4.
- the reflection amount of the electromagnetic wave absorbing plate (samples 1 to 4) 36 was measured by placing the samples 1 to 4 on a sample base 35 made of electromagnetic wave absorbing foamed polyurethane and kneading carbon. The measurement was performed by surrounding the electromagnetic breaker 34.
- Table 7 shows the measured electromagnetic wave absorption. Table 7 also shows the amount of electromagnetic wave absorption obtained by calculation. As shown in Table 7, the amount of electromagnetic wave absorption calculated and the amount of electromagnetic wave absorption measured agreed well.
- TE waves when the electric field is perpendicular to the incident surface
- TM waves when the magnetic field is perpendicular to the incident surface
- a box using the electromagnetic wave absorbing plates of Samples 1 to 4 was produced, and a notebook computer was placed in the box.
- the box was made with the resistive coating surface on the inside.
- Table 8 shows the amount of electromagnetic wave absorption determined by calculation and the amount of electromagnetic wave absorption measured, and both values agreed well.
- a ZnO film, A1 film, and ZnO film were formed in this order on the resistance film by sputtering.
- an electromagnetic wave absorbing plate as shown in Table 9 (Samples 9 to 11) is used for the wireless LAN 2.45 GHz frequency band in Case 2. ).
- a ZnO film, an A1 film, and a ZnO film were formed in this order by the sputtering method.
- an electromagnetic wave absorbing plate (samples 12 to 14) as shown in Table 10 is used for the wireless LAN 2.45 GHz frequency band in case 2. ) was produced.
- the electromagnetic absorbing plates of Samples 15 to 18 shown in Table 11 were produced. Samples 15 to 18 all have the configuration shown in FIG. 2, and the transparent plate glasses 1 and 2 were produced using lm X lm plate glass (soda-lime-based glass) manufactured by the float process.
- lm X lm plate glass sina-lime-based glass manufactured by the float process.
- An aluminum spacer having a hollow rectangular cross section was used as the spacer 4, and the thickness of the hollow layer 7 was varied depending on the cross-sectional size of the spacer.
- the resistive films 6 and 8 are formed of a TiO film, a Cr film, and a SnO film in this order by sputtering.
- the area resistance of the resistance film was adjusted according to the film thickness, and the resistance films having the same resistance value were formed on the plate glasses 1 and 2.
- Table 12 shows the amount of electromagnetic wave absorption determined by calculation and the amount of electromagnetic wave absorption measured, and both values agreed well.
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Abstract
一対の透明な板ガラスが周縁端部に配設されているスペーサーを介して隔置され、一対の板ガラスの間に密封された中空層が形成されてなる複層ガラスにおいて、板ガラスの厚みが2.5~20mmの範囲にあり、中空層の厚みが2.5~15mmの範囲にあり、一対の板ガラスの少なくとも1枚の板ガラスに、20~2Kル/□の範囲の表面抵抗を有する抵抗膜が形成され、該抵抗膜は板ガラスの中空層側の面に形成されてなることを特徴とする無線LANに用いる電磁波吸収板が提供される。
Description
明 細 書
無線 LANに用いる電磁波吸収板
技術分野
[0001] 本発明は、主に建物の外壁の開口部あるいは屋内の間仕切り等に用いるための、透 明な無線 LANに用いるための電磁波吸収板に関する。
発明の背景
[0002] 近年、情報伝達技術の飛躍的進歩に伴い、多様な情報伝達が可能となっている。な かでも無線による情報伝達は、利便性の観点から、非常に優れ、盛んに利用されて いる。
[0003] 無線による情報伝達の手段としては、携帯電話、 PDA (携帯情報端末)、無線 LAN 、放送波、自動車レーダー、 ETC車載装置、および様々な電子機器などがあげられ る。
[0004] 一方、これら無線による情報伝達の普及にともない、無線による情報伝達に用いられ る機器力 発せられる電磁波は、建物の開口部から建物内に侵入して、他の電子機 器の電磁ノイズとなるため、電磁波を効果的に吸収できる透明性を有する電磁波吸 収板が望まれている。
[0005] 無線による情報伝達のなかでも、無線 LAN (構内情報通信網)は、室内における LA
N工事 (コードの配線工事など)が不要なため、オフィスや一般家庭内において、コス ト削減や使い易さに大きく貢献している。
[0006] しかしながら、無線 LANは、室内においては反射材 (机、ロッカー、イス等)の影響に よる LANスピードの低下、室外への電波漏洩による盗聴、ビルや建物間の電波干渉
(2. 45GHz帯域は 4チャンネルのため)による弊害、外部からの不正アクセスやなり すまし等の発生など、多くの問題が発生する。
[0007] このような問題の対策として、 PC (パーソナルコンピュータ)などの通信端末とサーバ との間での発行者証明書の交換、データの暗号ィ匕または定期的な暗号キーの自動 変更、 IDやパスワードの発行等で対策を実施している。
[0008] しかし、発行者証明書の交換は、機種の互換性がなぐ異機種の間では困難である
。また、データの暗号化、定期的な暗号キーの自動変更、 IDやパスワードなどの対 策は、第三者によって解読されてしまうという危険性が伴う。
[0009] このため、室内の間仕切りやビルや建物などの開口部に、透明な電磁波吸収板を配 置し、外部に情報が漏れな 、ようにすることが必要とされて 、る。
[0010] また、近年、省エネルギーの観点から、開口部に断熱性に優れた複層ガラスが用い られることが多く、このような複層ガラス構成の電磁波吸収板として、特許文献 1には
、到来した電磁波を吸収させる吸収材と、到来した電磁波を反射させる反射材とを、 吸収すべき電磁波の波長の 1Z4に相当する間隔で隔てて配置した、 λ Ζ4型電磁 波吸収体が開示されている。
[0011] λ Ζ4型電磁波吸収体を用いた場合、その吸収体の厚さは波長の 1Z4の大きさを 必要とするため、無線 LANの利用中心周波数が 2. 45GHzの場合は、約 31mmの 厚さが必要となる。従ってこの吸収体を間仕切りや建築物の窓、壁等へ取り付けるに は厚みが厚すぎると 、う欠点がある。
[0012] また、特許文献 2には、 λ Ζ4型電磁波吸収体の厚みを薄くするために、この λ /4 型電磁波吸収体の吸収材と反射材の間に、ストライプ状または格子形状に形成され た導電性被膜を配設することで、吸収材と反射材との間の実効誘電率を大きくし、そ の厚みを減じることを実現した提案もされて 、る。
[0013] 特許文献 2に開示されている電磁波吸収体では、 λ Ζ4型電磁波吸収体の吸収材と 反射材の間にストライプ状または格子形状にコーティングされた導電性被膜を配設 することで板厚を減じることが出来るが、その構造自体において複雑であり、作製が 煩雑となる。
[0014] 特許文献 3では、電磁波の入射する室外側に電磁吸収層を設け、室内側に電磁反 射層を設けるもの、さらには、中空層の代わりに誘電率の高い液体を封入するものが 提案されている。
[0015] この、特許文献 3に開示されている電波吸収ガラスでは、電磁反射層を枠体に導通さ せる必要があり、さらに、中空層の代わりに誘電率の高い液体をもちいると、断熱性 能が劣ってしまう。
[0016] また、単層タイプで誘電体層とインピーダンス層を備える透明電波吸収体においてィ
ンピーダンス層の面で反射した電磁波と誘電体層の表面で反射した電磁波の位相 差を利用して電磁波吸収効果を得る技術が特許文献 4に開示されて ヽるが、室内側 より発生する不用電磁波の吸収が必要な場合は、導電膜面を室外側に向ける必要 性があり、導電膜の耐久性の劣化が懸念される。
特許文献 1:特開 2001—44750号公報
特許文献 2:特開平 10— 275997号公報
特許文献 3:特開平 5— 37178号公報
特許文献 4:特開 2003— 8279号公報
発明の概要
[0017] 本発明は、特許文献 1〜4のような事情に鑑みてなされたものであり、無線 LANで使 用されている、周波数が 2. 45GHzおよび 5. 2GHzの範囲の電磁波に対して、断熱 性に優れた複層ガラス構成の透明な電磁波吸収板を提供する。
[0018] 本発明の電磁波吸収板は、一対の透明な板ガラスが周縁端部に配設されているス ぺーサ一を介して隔置され、一対の板ガラスの間に密封された中空層が形成されて なる複層ガラスにおいて、板ガラスの厚みが 2〜20mmの範囲にあり、中空層の厚み 力 〜 15mmの範囲にあり、一対の板ガラスの少なくとも 1枚の板ガラスに、 20〜2K Ω Ζ口の範囲の表面抵抗 (表面抵抗率)を有する抵抗膜が形成され、該抵抗膜は板 ガラスの中空層側の面に形成されてなることを特徴とする無線 LANに用いる電磁波 吸収板である。
図面の簡単な説明
[0019] [図 1]誘電体板に抵抗膜が形成されてなる、電磁波吸収板の断面図である。
[図 2]2枚の誘電体板に共に抵抗膜が形成された電磁波吸収板の断面図である。
[図 3]抵抗被膜が形成してなる誘電体板が、 2枚の誘電体板を中間膜で積層してなる 、電磁波吸収板の断面図である。
[図 4]抵抗被膜が形成されて 、な 、誘電体板が、 2枚の誘電体板を中間膜で積層し てなる、電磁波吸収板の断面図である。
[図 5]中空層側に面する、誘電体板の、 2つの面に抵抗膜が形成され、 1方の誘電体 板が 2枚の誘電体板を積層してなる電磁波吸収板の断面図である。
[図 6]抵抗被膜が形成されてなる誘電体板に電波が到来する場合の、インピーダンス を計算するための等価回路図を作成するための、概念図である。
[図 7]電波到来方向が図 6に示す場合の、インピーダンスを計算するための等価回路 図である。
[図 8]抵抗被膜が形成されてな ヽ誘電体板に電波が到来する場合の、インピーダン スを計算するための等価回路図を作成するための、概念図である。
[図 9]電波到来方向が図 8に示す場合の、インピーダンスを計算するための等価回路 図である。
[図 10]図 2に示す電磁波吸収板のインピーダンスを計算するための等価回路図を作 成するための、概念図である。
[図 11]電波到来方向が図 10に示す場合の、インピーダンスを計算するための等価回 路図である。
[図 12]図 1の電磁波吸収板において、 2枚の板ガラスの厚みが共に 6mm、中空層 7 の厚みが 6mmの場合の、抵抗膜の表面抵抗値と電磁波の吸収量との関係を示すグ ラフである。
[図 13]図 1の電磁波吸収板において、 2枚の板ガラスの厚みが共に 6mm、中空層の 厚みが 6mmの場合の、抵抗膜の表面抵抗値と電磁波の吸収量との関係を示すダラ フである。
[図 14]電磁波吸収性能の測定装置を示す概略図である。
詳細な説明
[0020] 本発明の複層ガラス構成の電磁波吸収板は、簡易な複層ガラスの構成で、 1〜: LOG Hzの周波数範囲において有効に機能する、透明な電磁波吸収板、特に無線 LAN の周波数 2. 45GHzと 5. 2GHzに対して有効な、電磁波吸収板を提供する。
[0021] 本発明の複層ガラス構成の電磁波吸収板は、簡易な複層ガラスの構成で、 1〜: LOG Hzの周波数範囲において有効に機能する、透明な電磁波吸収板、特に無線 LAN の周波数 2. 45GHzと 5. 2GHzに対して有効な、電磁波吸収板を提供する。
[0022] 電磁波吸収性能については、例えば無線 LAN周波数帯域は 2. 45GHzと 5. 2GH z帯域を中心とする周波数帯域が使用されており、前者は特に室内力 室外への送
信が可能なことから使用頻度が高ぐ後者は電波法の規制により室内のみの仕様と なっている。また、無線 LANを行う際に「アクセスポイント」を設けて出力の増幅を行 つている。さらには他部位との電磁波の干渉を防いでいる。この時の「アクセスポイン ト」の出力が 22mW(0. 022W)となっているので、この出力に対応する必要がある。 この出力は一般の通信機器 (携帯電話等)と比較しても、出力が小さいため電磁波吸 収性能を 10dB (電磁波エネルギーを 1Z10に減衰)以上とすれば電磁波吸収体と して使用することができる。
[0023] また、建物内部において、 PHS電話やパーソナルコンピューター(PC)などが構内の 無線 LANなどに使用され、該無線通信に対する PCやサーバーの誤動作防止や盗 聴防止を目的とする場合、電磁波吸収を必要とする周波数範囲は、 1〜: LOGHzであ る。
[0024] 本発明の電磁波吸収板が有効になる周波数は、およそ 1〜: LOGHzであり、この周波 数範囲には、携帯電話の 800MHz〜lGHz、 1. 5GHz帯、 PHS電話の 1. 9GHz 帯の、 PDA (情報携帯端末)の 2. 45GHz帯、 PCの無線 LANに用いる、 2. 45GHz 帯と 5. 2GHz帯があり、さらに、 ETC車載搭載機器 5. 8GHz帯などである。
[0025] 特に、本発明の電磁波吸収板は、無線 LANに用いられている 2. 45GHz帯と 5. 2G Hz帯の電磁波に対して有効に作用するものであり、建物の外壁の開口部などに用 いて、建物外への電磁波伝播の防止や、あるいは建物外から進入する電磁波による 混線の防止に用いることが望まし 、。
[0026] 本発明の電磁波吸収板は、図 1、図 2に示すように、透明な誘電体板 1と 2とが、誘電 体板の周辺部にスぺーサ 4を用いて、ほぼ一定の間隔になるように対向配置された、 複層ガラスの構成である。誘電体板 1、 2とスぺーサ 4とは接着剤 3によって接着され、 さらに、スぺーサ 4と誘電体板 1と 2によって形成される誘電体板のエッジ付近のスぺ ースには、シーリング材 5によってシールされていることが好ましい。接着剤 3には、ブ チルゴム系の接着剤を、またシーリング材 5にはシリコーン系榭脂、ホットメルト系榭脂 などを用いることが好まし 、。
[0027] 誘電体板 1と 2を対向配置する場合、スぺーサ 4を用いず、弾性シーリング材のみに よって対向酉己置させてもょ 、。
[0028] 誘電体板 1と 2によって形成される中空層 7は、空気によって充填されていることが好 まし 、が、アルゴンガスなどの希ガスで充填されて 、てもよ!/、。
[0029] 誘電体板 1の中空層 7に面した表面には、透明性を有する抵抗被膜 6が形成された ものを用いる。
[0030] 誘電体板 1、 2には、ソーダ石灰系ガラス、アルミノ珪酸系ガラス、ホウ珪酸系ガラス等 の板ガラスや、ポリカーボネイト板やアクリル板などの透明な各種ブラスティック板が 使用できる。
[0031] 誘電体板 1、 2の厚みは、電磁波を吸収する性能を発現させるのに重要であり、この ため、図 3のよう〖こ誘電体板 10と 12、図 4のよう〖こ誘電体板 20と 22、図 5のように誘 電体板 30と 32、を積層させて、誘電体板の厚みを調整し、電磁波を吸収する性能を 最適にすることが望ましい。
[0032] 誘電体板の積層は、例えば、ポリビニルブチラールあるいは EVA等の中間膜 11, 2 1を用いて、積層することができる。
[0033] 積層する誘電体には前述した、ソーダ石灰系ガラス、アルミノ珪酸系ガラス、ホウ珪酸 系ガラス等の板ガラスや、ポリカーボネイト板やアクリル板などの透明な各種プラステ イツク板力ら、 1種以上の誘電体板を選択して行うことができ、例えば、板ガラスと板ガ ラス、板ガラスとブラスティック板、あるいはブラスティック板同士を積層する。
[0034] 誘電体板 1、 2、 12の表面に形成される抵抗被膜 6、 8は、 Ag、 Au、 Cr、 Ti、 Al、 Cu 、 SUS、 Ni等力 選ばれる 1種類以上の金属で成る透明性の金属膜、または、該金 属膜と ZnO、 SnO、 In O、 TiO、: Bi O、 Ta O、 WO、 ZnS等の金属酸化物膜と
2 2 3 2 2 3 2 3 3
を積層した多層薄膜を用いることができる。
[0035] 多層膜としては、たとえば ZnO膜 ZAg膜 ZZnO膜、 TiO膜 ZCr膜 ZSnO膜、 Zn
2 2
O膜 ZA1膜 ZZnO膜、 SnO膜 ZTiCr膜 ZSnO膜等の 3層を積層したもの、 ZnO
2 2
膜 ZAg膜 ZZnO膜 ZAg膜 ZZnO膜、 ZnO膜 ZA1膜 ZZnO膜 ZA1膜 ZZnO膜、 SnO膜 ZA1膜 ZSnO膜 ZA1膜 ZSnO膜などの 5層を積層したもの、あるいは、 I
2 2 2
TO膜やネサ膜 (酸ィ匕錫膜)を適選して用いることができる。
[0036] 前述した抵抗被膜 6、 8を形成する手段としては、特定するものではないが、物理蒸 着法 (スパッタリング法、真空蒸着法など)や化学蒸着法を選択して用いることができ
[0037] また、抵抗被膜を形成した透明な榭脂フィルムを誘電体板に接着してもよい。このと きの抵抗被膜も、板ガラスなどの透明な榭脂板に形成する抵抗被膜と同じ膜を用い ることができる。透明な榭脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィ ルム、ポリエステルフィルムなどを使用することができる。
[0038] 本発明の電磁波吸収板の電磁波吸収性能は、図 6に示すように、抵抗被膜 6が形成 されている透明な誘電体板 1の側から電磁波が入射する場合と、図 8に示すように、 抵抗被膜 6が形成されて 、な 、透明な誘電体板 2の側から電磁波が入射する場合と があり、電磁波の吸収量を求めるための等価回路は、それぞれ図 7と図 9のようにな つて、異なる。
[0039] 以後、図 6に示す、抵抗被膜 6が形成されている透明な誘電体板 1の側から電磁波 が入射する場合をケース 1と呼ぶ。図 8に示す、抵抗被膜 6が形成されていない透明 な誘電体板 2の側から電磁波が入射する場合をケース 2と呼ぶ。
[0040] さらに、図 2のように、中空層に面している 2つの誘電体板の面に、共に抵抗膜が形 成されて!/、る場合をケース 3と呼ぶ。
[0041] ケース 1の場合、電磁波の吸収量は、次のようにして求められる。ケース 1の場合の等 価回路は図 5のようになる。図 5において、電磁波が入射する側と反対側の、透過側 自由空間側の誘電体板 2の入力インピーダンス Z は、次の式(1)で求められる。
[0042] ここに、 ε 2は透明な誘電体板 2の複素誘電率であり、 μ 2は透明な誘電体板 2の比 透磁率である。また、 γ 2は、式(2)で求められ、 j =— 11/2であり、 は電磁波の波 長であり、 d は、透明な誘電体板 2の厚さ(m)である。
g2
[数 2]
β 2
ε 2
y 2 (2)
μ 2
+ 1
2
[0043] 中空層 7への入力インピーダンス Zaiは式(3)で求められる。
[0044] ここに daは中空層 7の厚さ(m)である。
[0045] 透明な誘導体板 1に形成された抵抗被膜の中空層 7側のインピーダンス Zriは、図 7 に示す等価回路図から次の式 (4)で求められる。
[数 4]
[0046] ここに、 Zrは抵抗被膜 6の面積抵抗(ΩΖ口)であり、 377は空気の特性インピーダン スである。
[0047] 図 6の透明な誘電体板 1側(電磁波入射側)の、電磁波の入力インピーダンス Zxiは、 図 7に示す等価回路から、次の式(5)で求められる。
[数 5]
[0048] ここに、 ε 1は透明な誘電体板 1の複素誘電率、 1は透明な誘電体板の比透磁率 である。板ガラスの場合、 ε =7-0. lj(j=(— l)1/2)、 μ =1である。 λは電磁波
の波長であり、 d は透明板状体の厚さ(m)である。
gl
[0049] さらに、透明な誘電体の表面で反射される電磁波の反射係数 Γ は、次の式 (6)で 求められる値であり、
[0050] 反射係数 Γ から、電磁波吸収量 Ailは次の(7)式によって求めることができる。
il
[数 7]
[0051] 次に、ケース 2の場合の電磁波の吸収量は、図 9に示す等価回路を用いて求める。
図 9において、電磁波が入射する側と反対側の自由空間側の誘電体板 1の入力イン ピーダンス Ζ は、次の式(8)で求められる
gil
[0052] ここに、 γ は、次の式(9)で求められる。
1
[数 9]
[0054] また、中空層 7表面での入力インピーダンス Z は、次の式(11)で求められる。
ai2
[数 11]
Zo2 + atanh(Z»i) (1 1)
[0055] 図 6に示す、電磁波が入射する側の透明な誘導体の表面に表面抵抗値 Zの抵抗膜
r2 を仮想し、この抵抗被膜のインピーダンスを、図 7の等価回路から、次式で求められる
[数 12]
[0056] さらに、電磁波入射側の透明な誘電体 1に入射する電磁波のインピーダンスは、次の 式(13)で求められる。
[0057] ここに、 ε は透明板状体の複素誘電率、 μ は透明板状体の比透磁率である。板ガ
2 2
ラスの場合、 ε =7-0. lj(j=(— l)V2)、 μ =1である。 λは電磁波の波長であり
2 2 1
、d は透明な誘電体板の厚さ (m)である。
g2
[0058] 透明な誘電体板で反射される電磁波の反射係数 Γ は、次の式(14)で求められる 値であり、
[数 14]
( 1 4 )
+ 1
[0059] 反射係数 Γ から、抵抗被膜が形成されていない透明な誘電体板側から電磁波が入 射する場合の、電磁波吸収量 Aは次の式(15)によって求めることができる。
[0060] 図 1に示す透明な誘電体板 1、 2に板ガラスを用いるときの電磁波吸収量を、例えば 、厚みが 6mmの板ガラスに抵抗膜を形成し、中空層 7の厚みを 6mmとしさらに抵抗 膜を形成したガラスに対向して配置する板ガラスの厚みを 6mmとしたとき、ケース 1 の場合の電磁波の吸収量は、式(7)によって求めると、図 12のように、電磁波の波長 に対する吸収量のグラフが得られる。
[0061] 抵抗膜が形成された板ガラスの厚みを 3mm、 5mm、 8mm、 10mm, 12mmおよび 15mmの 6種類とし、抵抗膜を形成した板ガラスそれぞれに対し、図 12のようなダラ フを、対向配置する板ガラスを 3mm、 5mm、 8mm、 10mm, 12mmおよび 15mmと して作成し、 2. 45GHz及び 5. 2GHzの電磁波に対する吸収量が 10dB以上となる 抵抗膜の抵抗範囲を求めると、ケース 1については、表 1に示す結果が得られ、ケー ス 2については、表 2に示す結果が得られた。
[0062] 表 1は(7)式によって求められる吸収量に基づき、また表 2は式(15)によって求めら れる吸収量に基づ 、て作成したものである。
表 1および表 2の作成において、抵抗膜の抵抗値が 2ΚΩ Ζ口を越えると、(7)式や( 15)式で求める吸収量と実施例で説明する吸収量の測定値とが異なるので、抵抗膜 の上限値は 2Κ Ω /口とした。
[表 1]
2.45GHZの電磁波の吸 5.2GHZの電磁波の吸 抵抗膜を形成し 収量が 10dB以上とな 収量力 <10dB以上とな 中空層の厚み たガラス板の厚
る抵抗範囲 る抵抗範囲 み
(Q/D) (Ω/D)
3mm 100 〜 2K 100 ~ 1K
5mm 100 〜 2K 20 ~ 500
8mm 100 ~ 2K 500 ~ 2K
6mm
10mm 20 ~ 1K 200 〜 2K
12mm 20 〜 1K 200 〜 2K
15mm 40 〜 100 20 ~ 500
3mm 100 ~ 2K 100 ~ 1K
5mm 100 ~ 2K 20 ~ 400
8mm 50 ~ 600 なし
8mm
10mm 20 ~ 500 なし
12mm 20 ~ 500 200 〜 1K
15mm 20 ~ 100 20 〜 200
3mm 100 〜 2K 150 ~ 850
5mm 100 〜 1K 20 ~ 200
8mm 50 〜 500 なし
10mm
10mm 20 ~ 500 なし
12mm 20 ~ 500 100 〜 2K
15mm なし 20 〜 200
3mm 100 ~ 2K なし
5mm 100 ~ 1K 20 〜 200
8mm 50 〜 300 なし
12mm
10mm 20 ~ 400 なし
12mm 20 ~ 400 200 ~ 2K
15mm 20 ~ 100 20 ~ 200
[表 2]
2.45GHZの電磁波の吸 5.2GHZの電磁波の吸 抵抗膜を形成し 収量力 <1 0dB以上とな 収量が 1 0dB以上とな 中空層の厚み たガラス板の厚
る抵抗範囲 る抵抗範囲 み
( Ω ロ)
3mm 20 ~ 2K なし
5mm 20 〜 2K なし
8mm 50 - I k なし
6mm
10mm 150 〜 1 k 200 ~ 2K
12mm 200 ~ 1 k 100 ~ 2K
15mm なし なし
3mm 50 〜 2K なし
5mm 50 ~ 1 k なし
8mm なし なし
8mm
10mm なし 150 ~ 2K
12mm なし 100 ~ 2K
15mm なし なし
3mm 50 〜 2K なし
5mm 50 ~ 650 なし
8mm なし なし
10mm
10mm なし 200 ~ 2K
12mm なし 100 ~ 2K
15mm なし なし
3mm 100 〜 1 K なし
5mm 100 ~ 1 K なし
8mm なし なし
12mm
10mm なし 300 ~ 2K
12mm なし 100 ~ 2K
15mm なし なし
[0063] ケース 1のほうがケース 2よりも、吸収量が 10dB以上となる板ガラスの厚み範囲、中空 層 7の厚み範囲の広いことが表 1と表 2とを比較するとわかる。
表 1および表 2から、抵抗皮膜が形成される板ガラスの厚みが 2〜20mmの範囲にあ り、中空層の厚みが 5〜15mmの範囲にあり、一対の板ガラスのどちらか一方の板ガ ラスに、 20〜2kQ /口の範囲の抵抗膜が形成されているものは、無線 LANに用い る電磁波を 10dB以上吸収する性能を有することがわかる。
[0064] 特に、表 1、表 2から、 2. 45GHzの電磁波に対して、(1)抵抗膜を形成した板ガラス の厚みが 2mm以上 8mm未満、中空層 7の厚みが 5mn!〜 15mmとする場合、また、 (2)抵抗膜を形成した板ガラスの厚みが 8mm以上 15mm未満で、中空層 7の厚み
力 mm以上 8mm未満とする場合は、抵抗膜の抵抗範囲が 20〜2kQZ口の範囲 で、ケース 1とケース 2の両方の場合あるいはケース 1とケース 2のいずれかの場合に 対し、 10dB以上の電磁波の吸収量となるものがあり、好ましい。
[0065] また、表 1から、(3)抵抗膜を形成した板ガラスの厚みが 8mm以上 20mm以下で、中 空層 7の厚みが 8mm以上 15mm以下で、抵抗膜の表面抵抗値を 20〜600 Ω /Π とすることにより、 2. 45GHzの電磁波の吸収量が 10dB以上となるものがあり、好まし い。
[0066] 次に、 5. 2GHzの電磁波に対しては、表 1、表 2力 、(4)中空層 7が 5〜15mmの範 囲にあり、抵抗膜を形成した板ガラスの厚みが 8mmを超え 15mm未満の範囲にあり 、 100〜2Κ Ω /口の抵抗膜を形成したものは、ケース 1とケース 2の両方の場合ある いはケース 1とケース 2のいずれかの場合に対し、 10dB以上の電磁波の吸収量とな るものがあり、好ましい。
[0067] また、(5)中空層 7の厚みが 5mn!〜 15mmの範囲にあり、抵抗膜を形成した板ガラ スの厚みが 2mm以上 8mm以下の範囲にあり、 20〜2Κ Ω Ζ口の範囲の表面抵抗 値の抵抗膜を形成したものは、 5. 2GHzの電磁波を 10dB以上吸収するものがあり、 好ましい。
[0068] また、(6)中空層 7が 5mn!〜 15mmの範囲にあり、抵抗膜を形成した板ガラスの厚 みの範囲が 15mm以上 20mm以下の範囲にあり、 20〜600 Ω /Dの抵抗膜を形成 したものは、 5. 2GHzの電磁波を 10dB以上吸収するものがあり、好ましい。
[0069] さらに、抵抗膜が形成されている板ガラスの厚み、中空層の厚みに対して、 20dB以 上(1Z100に減衰)の吸収量となる場合についてみると、 2. 45GHzに対しては、表 3のような抵抗膜の表面抵抗値の範囲となり、 5. 2GHzに対しては、表 4のような抵抗 膜の表面抵抗値の範囲となる。
[表 3]
«钪«を形成した 2.45GHzの電磁波の吸収量 5.2GHzの電磁波の吸収量が 中空層の厚み »ガラスの厚み が 20dB以上となる抵枋範囲 20dB以上となる抵抗範囲
(mm) mm) (C5/D) ({?/□)
3 400~2k なし
5 なし 40~100 β 10 50~200 1K-2K
12 50-200 1K~2K
15 なし 20—150
3 なし なし
5 なし なし
8 10 なし なし
12 20~100 1Κ-2Κ
15 なし 20-100
3 なし なし
5 なし なし
10 10 なし なし
12 なし 500 -2Κ
15 なし なし
3 なし なし
5 なし 40-100
12 10 なし なし
12 20~100 500 -2Κ
15 なし なし
[表 4]
抗讓を形成した 2. 45GHzの電磁波の吸収量 5. 2GHzの電磁波の吸収量が 中空層の厚み 板ガラスの厚み が 20dB以上となる抵抗範囲 20dB以上となる抵抗範囲
(mm) \mm) ( Q/口) ( »/□)
3 50~2k なし
5 50~ 1 K なし
β 10 なし なし
12 なし 500~2k
15 なし なし
3 200~1k なし
5 なし なし
8 10 なし なし
12 なし 500 ~ 2k
15 なし なし
3 100-700 なし
5 なし なし
10 10 なし なし
12 なし 500~2k
15 なし なし
3 200~1 k なし
5 200~700 なし
12 10 なし 1 K~2K
12 なし 1 Κ~2Κ
15 なし なし
[0070] ケース 3の場合、電磁波吸収性能は、図 10に示すように、抵抗膜 6が形成されている 透明な板ガラス 1の側力 電磁波が入射するとして、電磁波の吸収量を求めるための 等価回路は、図 11のようになる。
[0071] まず、図 10に記載の透過側自由空間板ガラス 2の入力インピーダンス Ζ を求める。
g2i
[数 16]
[0072] は透明な板ガラス 2の複素誘電率であり、 μ は透明な板ガラス 2の比透磁
1/2
率である。また、 γ は、式(17)で求められ、 j = であり、 λは電磁波の波長であ
2
り、 d は、透明な板ガラス 2の厚さ (m)である。
g2
[0073] y は、次の式(17)で求められる。
Ύ
β
+ 1
[0074] 次に抵抗膜 8表面での入力インピーダンスを求める。
[数 18]
X Z ca
377 (1 8)
乙 rli
+Z cd
377
[0075] ここに Z は抵抗膜の面積抵抗(ΩΖ口)であり、 377は空気の特性インピーダンスで r2
ある。
[0076] 次に式(19)より、中空層表面での入力インピーダンス Zが求められる。
[0077] ここに dは中空層の厚さ(m)である。
a
[数 19] 兀
乙 = tanh 2 X J X — X da + at nh\乙 g ) (19) 図 10に示す入射電磁波側の透明な誘導体の抵抗膜側のインピーダンス Zrliは、次 の式(20)で求められる。
[数 20]
X Z,
377 (20)
Z rli
-Z,
377
[0080] は透明板状体の複素誘電率、 μ は透明板状体の比透磁率である。板ガ ラスの場合、 7-0. lj (j = (— l) 1/2)、 μ = 1である。 λは電磁波の波長であり
、d は透明板状体の厚さ (m)である。
gl
さらに、透明板状体の表面で反射される電磁波の反射係数 Γ は、次の式(22)で求
il
められる値であり、
[数 23]
[0082] 図 2に示す透明な誘電体板 1、 2に厚み 6mmの板ガラスを用いるときの電磁波吸収 量を、中空層 7の厚みを 6mmとし、板ガラス 1と 2に形成される抵抗膜 6、 8の抵抗値 を同じにして、電磁波の吸収量を式(23)によって求めると、図 13のように、電磁波の 波長に対する吸収量のグラフが得られる。
[0083] 板ガラスの厚みを 3mm、 5mm、 10mm, 12mmおよび 15mmの 6種類とし、抵抗膜 を形成した板ガラスそれぞれに対し、図 13のようなグラフを、対向配置する板ガラスを 3mm、 5mm、 10mm, 12mmおよび 15mmとして作成し、 2. 45GHz及び 5. 2GH zの電磁波に対する吸収量が 10dB以上となる抵抗膜の抵抗範囲を求めると、表 5に 示す結果が得られた。また、特に顕著な効果がある場合として、吸収の性能が 20dB 以上となる抵抗膜の抵抗範囲を表 6に示す。
[0084] 表 5に示す lOdB以上となる板ガラスの厚み、中空層 7の厚み、および抵抗膜の抵抗 値は、 2枚の板ガラスの厚みは 3〜20mmの範囲であり、中空層 7の厚みは 5〜 15m mの範囲であり、抵抗膜の抵抗値は 20〜2ΚΩ Ζ口の範囲である。
[0085] さらに、表 5から、(6)中空層 7が 5〜15mmの範囲にあり、少なくとも 1枚の板ガラス の厚みが 2〜6mmの範囲にあり、該板ガラスに形成される抵抗膜の抵抗値が 100〜 2Κ Ω Ζ口の範囲にある場合、または、(7)中空層 7が 5〜15mmであり、少なくとも 1 枚の板ガラスの厚みが 6mmを超え 14mm以下の範囲にあり、該板ガラスに形成され る抵抗膜の抵抗値が 20〜500ΩΖ口の範囲にある場合、または、(8)中空層 7が 11 〜 13mmであり、少なくとも 1枚の板ガラスの厚みが 14mmを越え 20mm以下の範囲 にあり、該板ガラスに形成される抵抗膜の抵抗値が 20〜 150 Ω Z口の範囲にある場 合は、 2. 45GHzの電磁波の吸収量が lOdB以上となり、好ましい。
[0086] また、(9)中空層 7が 5〜: L lmmであり、少なくとも 1枚の板ガラスの厚みが 2〜9mm の範囲にあり、該板ガラスに形成される抵抗膜の抵抗値が 20〜500 Ω Z口の範囲 にある場合、あるいは、(10)中空層 7が 7〜13mmであり、少なくとも 1枚の板ガラス の厚みが 11〜20mmの範囲にあり、抵抗膜の抵抗値が 20〜2K Ω /Dの範囲にあ る場合は、 5. 2GHzの電磁波の吸収量が lOdB以上となり、好ましい。
[表 5]
抵抗膜を形 2.45GHzの電磁波の吸 5.2GHzの電磁波の吸 中空層の厚
成した板ガ 収量が 10dB以上となる 収量が 10dB以上となる み
ラスの厚み 抵抗範囲 抵抗範囲
(mm) (mm) (ΩΖ口) (Ω ロ)
3 200〜2k 100~500
5 100~2k 20-500
6 10 20-700 なし
12 20~1K なし
15 なし なし
3 200~2k なし
5 100-1 k 20-200
8 10 20~500 なし
12 20~5OO 100~2K
15 なし 20~700
3 200~2K なし
5 100~2k 20~200
10 10 20-500 なし
12 20-500 200-2Κ
15 なし なし
3 100~2k なし
5 100〜1K なし
12 10 20〜500 なし
12 20-500 なし
15 20-150 20-200
[表 6]
抵抗膜を形 2. 45GHzの電磁波の吸 5. 2GHzの電磁波の吸 中空層の厚
成した板ガ 収量が 20dB以上となる 収量が 20dB以上となる み
ラスの厚み 抵抗範囲 抵抗範囲
(mm) ( Ωノロ) ( ΩΖ口)
3 700-2K なし
5 500~2K 20~50
6 10 50-500 なし
12 50-500 なし
15 なし なし
3 500-2Κ なし
5 500~1 Κ 20-200
8 10 20〜100 なし
12 20~100 700-2K
15 なし なし
3 500-2Κ なし
5 なし なし
10 10 20〜100 なし
12 20-100 700-2K
15 なし なし
3 なし なし
5 20~200 なし
12 10 なし なし
12 20~100 なし
15 なし なし 実施例 1
[0087] 図 1に示す構成の電磁吸収板を、誘電体 1、 2にフロート製造された板ガラスを用い て、表 7に示す板ガラスの厚み、中空層 7の厚み、抵抗膜の表面抵抗値の異なる、試 料 1〜4を作製した。中空層 7には空気を充填させた。スぺーサには、断面形状が中 空矩形状のアルミニウム製のスぺーサを用い、中空層の間隔をスぺーサのサイズで 変えた。
[0088] 試料 1〜4は、ケース 1の場合の、無線 LANの 2. 45GHz周波数帯に使用するため に作製した電磁波吸収板である。
[0089] 抵抗膜には、 TiO膜、 Cr膜および SnO膜をこの順序で、スパッタリング法で成膜し
たものを用い、抵抗被膜の面積抵抗は、膜厚によって調整した。
[0090] 作製した電磁波吸収板 (試料 1〜4)の電磁波吸収性能は、図 14に示す、タイムドメイ ン法を用いたアーチ型測定装置によって測定した。
[0091] 測定は、ネットワークアナライザ 30を用いて、アーチ型フレーム 33の中に設置された 送信アンテナ 32から電磁波を発信し、電磁波吸収板 (試料 1〜4) 36で反射された電 磁波の反射量を、受信アンテナ 32^ によりネットワークアナライザで測定する。送信 アンテナ 32および受信アンテナ 32^ には、共にホーンアンテナを用いた。参照番号 31は電線を表す。
[0092] 電磁波吸収板 (試料 1〜4) 36につ 、ては、アルミニウムで作製した金属板の反射量 を測定し、次いで電磁波吸収板 (試料 1〜4) 36の反射量を測定し、金属板の反射量 と電磁波吸収板 (試料 1〜4) 36の反射量との差を、試料 1〜4の電磁波吸収量として 算出した。
[0093] なお、電磁波吸収板 (試料 1〜4) 36の反射量の測定は、試料 1〜4を電磁波吸収性 の発泡ポリウレタン製の試料台 35の上に置き、カーボンを練りこんで成型した電磁破 吸収体 34で周囲を囲んで測定を行った。
[0094] 測定された電磁波吸収量を表 7に示す。表 7には、計算によって求めた電磁波吸収 量も示し、計算で求めた電磁波吸収量と測定された電磁波吸収量とは、表 7に示す ように、よく一致した。
[表 7]
なお、測定で、 TE波 (電界が入射面に垂直な場合)と TM波 (磁界が入射面に垂直 な場合)について測定を行ったが、顕著な差はなかった。
[0096] また、垂直入射のみでなぐ垂直力も 45度の傾けた、斜め入射の場合の測定も行つ たが、垂直入射の測定結果と比較して、顕著な差はなかった。
[0097] 試料 1〜4の電磁波吸収板を用いたボックスを作製し、ノートパソコンをボックス内に 設置した。ボックスは、抵抗被膜面を内側にして作製した。
[0098] ボックス内に設置したノートパソコンから、ボックス外に設置したサーバに、周波数 2.
45GHzの周波数帯で無線 LANの接続を試みた力 接続はできず、サーバからの電 磁波がボックス内に透過していないことが確認された。従って、試料 1〜4の電磁波吸 収板は、実用レベルの電磁波吸収性能を有して 、ることが確認できた。
実施例 2
[0099] 実施例 1と同様にして、ケース 1の場合の、無線 LANの 5. 2GHz周波数帯に使用す るために、表 8に示すような電磁波吸収板 (試料 5〜8)を作製した。また、実施例 1と 同様にして、電磁波の吸収量を測定した。
[0100] 表 8に、計算によって求めた電磁波吸収量と測定された電磁波吸収量とを示すが、 両方の値はよく一致した。
[表 8]
実施例 3
[0101] 抵抗膜に、 ZnO膜、 A1膜および ZnO膜をこの順序で、スパッタリング法で成膜した
2 2
ものを用いた他は、実施例 1と同様にして、ケース 2の場合の、無線 LANの 2. 45G Hz周波数帯に使用するために、表 9に示すような電磁波吸収板 (試料 9〜11)を作 製した。
[0102] 実施例 1と同様にして、電磁波の吸収量を測定した。表 9に、計算によって求めた電
磁波吸収量と測定された電磁波吸収量とを示すが、両方の値はよく一致した。
[表 9]
実施例 4
[0103] 抵抗膜に、 ZnO膜、 A1膜および ZnO膜をこの順序で、スパッタリング法で成膜した
2 2
ものを用いた他は、実施例 1と同様にして、ケース 2の場合の、無線 LANの 2. 45G Hz周波数帯に使用するために、表 10に示すような電磁波吸収板 (試料 12〜14)を 作製した。
[0104] 実施例 1と同様にして、電磁波の吸収量を測定した。表 10に、計算によって求めた 電磁波吸収量と、測定された電磁波吸収量とを示すが、両方の値はよく一致した。
[表 10]
実施例 5
[0105] 無線 LANの 2.45GHz周波数帯に使用するための、ケース 3の電磁波吸収板として 、表 11に示す、試料 15〜18の電磁吸収板を作製した。試料 15〜18は、すべて図 2 に示す構成であり、透明な板ガラス 1、 2には、フロート法で製造された lm X lmの板 ガラス (ソーダ石灰系ガラス)を用いて、作製した。
[0106] スぺーサ 4に、断面が中空矩形状のアルミニウム製のスぺーサを用い、スぺーサの断 面サイズによって中空層 7の厚みを変えた。
[0107] 抵抗膜 6、 8には、 TiO膜、 Cr膜および SnO膜をこの順序で、スパッタリング法で成
2 2
膜したものを用い、抵抗膜の面積抵抗は、膜厚によって調整し、板ガラス 1、 2には同 じ抵抗値の抵抗膜を形成した。
[表 11]
[0108] 作製した電磁波吸収板の電磁波吸収性能は、図 14に示す、タイムドメイン法を用い たアーチ型測定装置によって、実施例 1と同様にして、電磁波の吸収量を測定した。
[0109] 試料 15〜18の電磁波吸収板を用いたボックスを作製し、ノートパソコンをボックス内 に設! ^し 7こ。
[0110] ボックス内に設置したノートパソコンから、ボックス外に設置したサーバに、周波数 2.
45GHzの周波数帯で無線 LANの接続を試みた力 接続はできず、サーバからの電 磁波がボックス内に透過していないことが確認された。従って、試料 15〜18の電磁 波吸収板は、実用レベルの電磁波吸収性能を有して 、ることが確認できた。
実施例 6
[0111] 実施例 5と同様にして、無線 LANの 5. 2GHz周波数帯に使用するために、表 12に 示すような電磁波吸収板 (試料 19〜22)を作製した。
実施例 1と同様にして、電磁波の吸収量を測定した。表 12に、計算によって求めた 電磁波吸収量と測定された電磁波吸収量とを示すが、両方の値はよく一致した。
Claims
[1] 一対の透明な板ガラスが周縁端部に配設されているスぺーサーを介して隔置され、 一対の板ガラスの間に密封された中空層が形成されてなる複層ガラスにおいて、板 ガラスの厚みが 2. 5〜20mmの範囲にあり、中空層の厚みが 2. 5〜15mmの範囲 にあり、一対の板ガラスの少なくとも 1枚の板ガラスに、 20〜2K /レ Z口の範囲の表面 抵抗を有する抵抗膜が形成され、該抵抗膜は板ガラスの中空層側の面に形成され てなることを特徴とする無線 LANに用いる電磁波吸収板。
[2] 1枚の板ガラスのみに抵抗膜が形成され、(1)抵抗膜が形成された板ガラスの厚みが 2〜9mmの範囲にあり、中空層の厚みが 5〜15mmの範囲にあり、抵抗膜の抵抗値 が 20〜2k Q /口の範囲にあるカゝ、または、(2)抵抗膜が形成された板ガラスの厚み が 9mmを越え 20mm以下の範囲にあり、中空層の厚みが 5mn!〜 15mmの範囲に あり、抵抗膜の抵抗値が 20〜: Lk Q /口の範囲にあって、かつ、 2. 45GHzの電磁 波の吸収量が 10dB以上であることを特徴とする請求項 1に記載の無線 LANに用い る電磁波吸収板。
[3] 1枚の板ガラスのみに抵抗膜が形成され、(3)中空層の厚みが 5〜15mmの範囲に あり、抵抗膜が形成された板ガラスの厚み力 〜6mmの範囲にあり、抵抗膜の抵抗 値が 20〜500 Ω Ζ口の範囲にある力、または、(4)中空層の厚みが 5mm〜15mm の範囲にあり、抵抗膜が形成された板ガラスの厚みが 6mmを越え 14mm以下の範 囲にあり、抵抗膜の抵抗値が 100〜300 Ω Ζ口の範囲にある力 または、(5)中空層 の厚みが 5mn!〜 15mmの範囲にあり、抵抗膜が形成された板ガラスの厚みが 14m mを越え 20mm以下の範囲にあり、抵抗膜の抵抗値が 20〜500 Ω /Πの範囲にあ つて、かつ、 5. 2GHzの電磁波の吸収量が 10dB以上であることを特徴とする請求項 1に記載の無線 LANに用いる電磁波吸収板。
[4] 2枚の板ガラスに抵抗膜が形成され、(6)中空層が 5〜15mmであり、少なくとも 1枚 の少なくとも 1枚の板ガラスの厚みが 2〜6mmの範囲にあり、該板ガラスに形成され る抵抗膜の抵抗値が 100〜2k Q /口の範囲にある力 または、(7)中空層が 5〜15 mmであり、少なくとも 1枚の板ガラスの厚みが 6mmを超え 14mm以下の範囲にあり 、該板ガラスに形成される抵抗膜の抵抗値が 20〜500 Ω /口の範囲にあるカゝ、また
は、 (8)中空層が l l〜15mmにあり、少なくとも 1枚の板ガラスの厚みが 14mmを越 え 20mm以下の範囲にあり、該板ガラスに形成される抵抗膜の抵抗値が 20〜 150 ΩΖ口の範囲にあり、 2. 45GHzの電磁波の吸収量が lOdB以上であることを特徴と する請求項 1に記載の無線 LANに用いる電磁波吸収板。
[5] 2枚の板ガラスに抵抗膜が形成され、(9)中空層が 5〜: L lmmであり、少なくとも 1枚 の板ガラスの厚みが 2〜9mmの範囲にあり、該板ガラスに形成される抵抗膜の抵抗 値が 20〜500 Ω Ζ口の範囲にある力、または、(10)中空層が 7〜 15mmであり、少 なくとも 1枚の板ガラスの厚みが 11〜20mmの範囲にあり、該板ガラスに形成される 抵抗膜の抵抗値が 20〜2kQ Z口の範囲にあり、 5. 2GHzの電磁波の吸収量が 10 dB以上であることを特徴とする請求項 1に記載の無線 LANに用いる電磁波吸収板。
[6] 抵抗膜が誘電体膜、金属膜、誘電体膜の順に板ガラスに成膜されてなることを特徴 とする請求項 1乃至請求項 3のいずれかに記載の無線 LANに用いる電磁波吸収板
[7] 金属膜が Crまたは A1でなることを特徴とする請求項 1乃至 4の 、ずれかに記載の無 線 LANに用いる電波吸収板。
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