WO2008004397A1 - Apparatus and method for producing reflector mirror - Google Patents

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Masayuki Iijima
Yosuke Kobayashi
Kouji Hirayama
Yusuke Hashimoto
Ryuji Hamada
Ken Momono
Atsushi Nakatsuka
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    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer

Definitions

  • the present invention relates to a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a reflecting mirror used in, for example, an automotive lamp.
  • colored reflector lamps used in lamps such as automobile headlamps are formed by laminating a reflective film and a colored film (protective film) that colors the reflective film on the surface of a resin-molded substrate. It has a shaped reflector.
  • a metal vapor deposition film such as aluminum is mainly used.
  • pigmented coating films have been used for the colored films (see Patent Documents 1 and 2 below).
  • a reflecting film and a colored film are formed in dedicated processing chambers, and a substrate film forming process between the processing chambers and between the processing chambers are performed. Through the substrate transport process, the reflector manufacturing process was performed.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-207611
  • Patent Document 2 JP-A-2005-310386
  • the conventional method for manufacturing a reflecting mirror comprises a colored film made of a pigment-containing coating film, preliminary treatment of the underlayer of the colored film and drying treatment after application are necessary. In addition to increasing complexity and cost, there are problems that work hours cannot be reduced.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a reflecting mirror manufacturing apparatus and a manufacturing method thereof that can simplify the process and shorten the working time.
  • the reflecting mirror manufacturing apparatus of the present invention comprises a metal film forming means for forming a reflecting film, a dye film forming means for forming a colored film, and a film for forming a protective film.
  • Protective film type The forming means is arranged in one vacuum processing chamber.
  • the metal film forming means is a metal evaporation source
  • the dye film forming means is a dye evaporation source
  • the protective film forming means is a plasma polymerization source.
  • the manufacturing method of the reflecting mirror of the present invention includes a reflective film forming step, a colored film forming step,
  • the protective film forming step is performed in a common vacuum processing chamber.
  • the colored film is formed by a vapor deposition method, and by providing a metal evaporation source, a dye evaporation source, and a plasma polymerization source in the vacuum processing chamber, a reflective film in the same vacuum processing chamber, The colored film and the protective film are formed consistently. As a result, the process can be simplified and the working time can be shortened.
  • a drum-shaped substrate holder that simultaneously accommodates a metal film forming means, a dye film forming means, and a protective film forming means is disposed inside a vacuum processing chamber.
  • a plurality of substrates are supported on the inner peripheral surface of the substrate holder.
  • the reflective film forming step, the colored film forming step, and the protective film forming step on the substrate surface the substrate is simultaneously formed on a plurality of substrates while revolving in the vacuum processing chamber by rotating the substrate holder.
  • the reflective film, the colored film, and the protective film are formed consistently in the same vacuum processing chamber, the manufacturing process of the reflective mirror is simplified. As well as being able to reduce work time.
  • FIG. 1 is a side sectional view showing a schematic configuration of a film forming apparatus used in a reflecting mirror manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line [2]-[2] in FIG.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing a general configuration of a lamp.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a film structure of a reflecting mirror.
  • FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a metal evaporation source incorporated in the film forming apparatus of FIG.
  • FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a dye evaporation source incorporated in the film forming apparatus of FIG. 1. Explanation of symbols
  • FIG. 1 is a schematic sectional view of a film forming apparatus 1 configured as a reflecting mirror manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • 2 is a cross-sectional view in the direction [2]-[2] in FIG.
  • the film forming apparatus 1 includes a gantry 3 that supports the vacuum chamber 2 and a substrate holder 4 that is configured to be detachable from the vacuum chamber 2.
  • the inside of the vacuum chamber 2 is a vacuum processing chamber 5 that is sealed when the substrate holder 4 is attached to the vacuum chamber 2, and can be evacuated to a predetermined reduced-pressure atmosphere by the vacuum pump 6. It is said that.
  • a gas source 7 for introducing a raw material gas for plasma polymerization into the vacuum processing chamber 5 is connected to the vacuum chamber 2 via a gas introduction pipe 8.
  • the substrate holder 4 has a substantially cylindrical drum shape capable of supporting a plurality of substrates 10 on the inner peripheral surface, and a plurality of (two in this embodiment) clusters are installed on the carriage 9. Have been.
  • the substrate holder 4 is closed at one end and opened at the other end, and is supported horizontally by a support shaft 11 fixed to the central portion of the closed end.
  • the support shaft 11 also functions as a drive shaft for the rotation drive source (motor) 12, and the base holder 4 is configured to be rotatable about the shaft center portion by driving the rotation drive source 12.
  • a lid 14 is provided that is in close contact with the annular seal member 13 installed on the front surface of the vacuum chamber 2.
  • the substrate holder 4 is mounted in the vacuum processing chamber 5 when the lid 14 is in close contact with the vacuum chamber 2.
  • the base holder 4 has its open end and outer peripheral surface facing each other with a certain gap from the inner wall of the vacuum chamber 2, and the inside of the vacuum chamber 2 and the inside of the base holder 4 communicate with each other. It is supposed to be.
  • the base body 10 constitutes a main body of a reflector used in a lamp such as an automotive headlamp.
  • the lamp 15 has a lamp 16 attached to the center of a base 10 having a reflecting mirror 17 formed on the surface (inner surface), and transmits light emitted from the lamp 16 in the front direction (see FIG. 3). It has the function of condensing light in the middle and lower part
  • the reflecting mirror 17 has a configuration as shown in FIG. 4, and is formed of a laminated film in which a base film 18, a reflecting film 19, a coloring film 20, and a protective film 21 are sequentially formed on the surface of the substrate 10.
  • a protective film 21 may be added between the reflective film 19 and the colored film 20.
  • the base film 18, the reflective film 19, the colored film 20, and the protective film 21 are formed using the film forming apparatus 1 described above. That is, the reflective film 19 also has a metal film force formed by a vacuum deposition method, the colored film 20 has a dye (or pigment) film force formed by a vacuum deposition method, and the base film 18 and the protective film 21 have a plasma polymerization method. It is composed of the formed polymer film. Base film 18 is necessary Are omitted.
  • the substrate 10 is a plastic injection molded body.
  • the film forming apparatus 1 consistently forms these films in a common vacuum processing chamber 5.
  • the vacuum processing chamber 5 includes a metal evaporation source 22 as a metal film forming means for forming a reflective film 19 and a dye evaporation source 23 as a coloring film forming means for forming a colored film 20.
  • a protective film forming means for forming the protective film 21 (and the base film 18) or a plasma polymerization electrode 24 as a plasma polymerization source are disposed.
  • the metal evaporation source 22, the dye evaporation source 23, and the plasma polymerization electrode 24 are arranged at a substantially central portion of the vacuum processing chamber 5, and are arranged along the axial direction from the inner bottom wall of the vacuum chamber 2 as shown in FIG.
  • the base 10 is opposed to the base 10 inside the base holder 4.
  • the metal evaporation source 22 is configured by a resistance heating method, for example, as shown in FIG. 5, and a plurality of filaments 26 such as tungsten are attached between a pair of rod-shaped electrodes 25, 25, and the filaments 26 are evaporated. A material (for example, aluminum) 27 is held. The evaporation material 27 is heated and evaporated by energization heating of the filament 26, thereby forming a reflective film 19 having an aluminum film force on the surface of the substrate 10.
  • the metal evaporation source 22 can also be configured by a sputtering method.
  • the dye evaporation source 23 is also configured by a resistance heating method as shown in FIG.
  • a plurality of tungsten filaments 29 are attached between the pair of mouth-shaped electrodes 28, 28, and a crucible 30 made of alumina or the like is installed on these filaments 29.
  • a color material for example, phthalocyanine
  • a colored film 20 for coloring the reflective film 19 is formed on the surface of the substrate 10 by heating and evaporating by energization heating of the filament 29.
  • the plasma polymerization electrode 24 extends in parallel with the electrodes 25 and 28 of the metal evaporation source 22 and the dye evaporation source 23, and is connected to a DC power source, a high frequency power source, or an intermediate frequency power source (not shown). .
  • the plasma polymerization electrode 24 is used together with a monomer raw material gas (for example, hexamethyldisiloxane (HMD SO)) introduced from the gas source 7 into the vacuum processing chamber 5 through the gas introduction pipe 8.
  • HMD SO hexamethyldisiloxane
  • the substrate holder 4 supporting a plurality of the substrates 10 is loaded in the vacuum chamber 2 and the lid 14 is brought into close contact with the seal member 13 so as to block the vacuum processing chamber 5 from the outside air. Thereafter, the vacuum pump 6 is driven, the vacuum processing chamber 5 is evacuated, and the pressure is reduced to a predetermined degree of vacuum. When the vacuum processing chamber 5 reaches a predetermined degree of vacuum, the substrate holder 4 is rotated in the vacuum processing chamber 5 by driving the rotation drive source 12. Thereby, the substrate 10 revolves inside the vacuum processing chamber 5.
  • the base holder 4 may be provided with a rotation mechanism for the base 10.
  • the monomer raw material gas is introduced from the gas source 7 into the vacuum processing chamber 5 through the gas introduction pipe 8, and the base film made of HMDSO is formed on the surface of the substrate 10 by the discharge action of the plasma polymerization electrode 24. 18 is deposited.
  • the surface of the substrate 10 may be plasma cleaned by introducing argon gas or air.
  • the discharge of the plasma polymerization electrode and the introduction of the monomer raw material gas are stopped, and the filament 26 of the metal evaporation source 22 is electrically heated at, for example, 800 to 1000 ° C to evaporate the evaporation material 27.
  • a reflective film 19 made of aluminum is formed on the base film 18 on the surface of the substrate 10.
  • the plasma polymerization electrode 24 is discharged again, and the monomer raw material gas is further introduced to protect the colored film 20 on the surface of the substrate 10.
  • a film 21 is formed.
  • the surface of the substrate 10 may be hydrophilized by plasma treatment with air, oxygen or argon gas introduced.
  • the reflective film 19 and the colored film 20 are formed by a vacuum deposition method, and the base film 18 and the protective film 21 are formed by a plasma polymerization method.
  • these films can be formed in the same vacuum processing chamber 5.
  • the process of forming the reflecting mirror 17 can be simplified and the working time can be shortened.
  • the substrate is provided by installing the metal evaporation source 22, the dye evaporation source 23, and the plasma polymerization source (electrode) 24 in one vacuum processing chamber 5.
  • the metal evaporation source 22, the dye evaporation source 23, and the plasma polymerization source (electrode) 24 in one vacuum processing chamber 5.
  • the base film 18, the reflective film 19, the colored film 20, and the protective film 21 on the surface can be formed consistently. As a result, the manufacturing facility for the reflector 17 can be simplified, reduced in cost, and reduced in size.
  • the substrate holder 4 can be configured to rotate in the vacuum processing chamber, and a plurality of substrates 10 supported by the substrate holder 4 can be simultaneously subjected to film formation. This makes it possible to manufacture a plurality of reflecting mirrors in a single process, thereby increasing productivity.
  • the untreated substrate 10 is charged in the other substrate holder 4 while the one substrate holder 4 is mounted in the vacuum chamber 2. . Then, after the film formation of the substrate 10 supported by one substrate holder 4 is completed, the one substrate holder 4 is detached from the vacuum chamber 2. Then, the carriage 9 is moved, and the other base holder 4 is mounted on the vacuum chamber 2, and various films are formed as described above. Meanwhile, the processed substrate 10 is taken out from the substrate holder 4 on one side.
  • an evaporation material is set in each of the evaporation sources 22 and 23 in the vacuum chamber 2, and a substrate holder 4 supporting a plurality of substrates 10 is attached to the vacuum chamber 2 (vacuum processing chamber 5).
  • the vacuum processing chamber 5 was evacuated to a predetermined degree of vacuum.
  • a monomer raw material gas was introduced from the gas source 7 to lOPa, and a DC 2 kV was applied to the plasma polymerization electrode 24 to discharge it, and the film was formed for about 30 seconds to form a base film 18.
  • the filament 26 of the metal evaporation source 22 was energized and heated, and a metal material (aluminum) was deposited for about 60 seconds to form the reflective film 19 on the base film 18.
  • a metal material aluminum
  • the filament 29 of the dye evaporation source 23 was energized and heated, and a dye material (phthalocyanine) was deposited for about 30 seconds to form a colored film 20 on the reflective film 19.
  • the reflective film 19 was colored light blue.
  • the monomer raw material was introduced up to lOPa, and the plasma polymerization electrode 24 was charged with a direct current of 2 kV and discharged to form a film for about 180 seconds to form the protective film 21 on the colored film 20 did. More Then, argon gas was introduced for 10 seconds, and the surface was hydrophilized by DC plasma using the electrode 24 for plasma polymerization for about 10 seconds.
  • the force composed of aluminum, phthalocyanine, and HMDSO as the reflective film 19, the colored film 20, and the protective film 21 (underlying film 18) are not limited to these, and the materials of these films are appropriately selected. It can be changed.
  • the force of installing two base holders 4 on the carriage 9 may be increased.

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Description

明 細 書
反射鏡の製造装置及びその製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、例えば自動車用灯具に用いられる反射鏡の製造装置及びその製造方 法に関する。
背景技術
[0002] 現在、 自動車のヘッドランプ等の灯具に用いられる着色反射灯（リフレクタ）は、樹 脂成形した基体の表面に、反射膜と、反射膜を着色する着色膜 (保護膜)とを積層形 成した反射鏡を備えている。反射膜には、主に、アルミニウム等の金属蒸着膜が用い られている。着色膜には従来より色素含有の塗布膜が用レ、られている（下記特許文 献 1 , 2参照)。
[0003] 従来の反射鏡の製造方法としては、反射膜及び着色膜の形成を各々専用の処理 室において行うようにしており、各処理室間における基体の成膜処理と、各処理室間 の基体の搬送処理とを経て反射鏡の製造プロセスを遂行するようにしてレ、た。
[0004] 特許文献 1 :特開 2003— 207611号公報
特許文献 2 :特開 2005— 310386号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] しかしながら、従来の反射鏡の製造方法は、着色膜を色素含有の塗膜で構成して いるため、着色膜の下地層の予備処理や塗布後の乾燥処理が必要であり、設備の 複雑化と高コスト化を招いているとともに、作業時間の短縮が図れないという問題が ある。
[0006] 本発明は上述の問題に鑑みてなされ、工程の簡素化と作業時間の短縮を図ること ができる反射鏡の製造装置及びその製造方法を提供することを課題とする。
課題を解決するための手段
[0007] 以上の課題を解決するに当たり、本発明の反射鏡の製造装置は、反射膜成膜用の 金属膜形成手段と、着色膜成膜用の色素膜形成手段と、保護膜成膜用の保護膜形 成手段とが、ひとつの真空処理室内に配置されていることを特徴とする。
[0008] 本発明において、上記金属膜形成手段は金属蒸発源であり、上記色素膜形成手 段は色素蒸発源であり、上記保護膜形成手段はプラズマ重合源であることを特徴と する。
[0009] また、本発明の反射鏡の製造方法は、反射膜の形成工程と、着色膜の形成工程と
、保護膜の形成工程とを共通の真空処理室内で行うことを特徴とする。
[0010] 本発明では、着色膜の形成を蒸着法によって行うようにしており、真空処理室内に 金属蒸発源、色素蒸発源及びプラズマ重合源を設けることによって、同一真空処理 室内での反射膜、着色膜及び保護膜の形成を一貫して行うようにしている。これによ り、工程を簡素化できるとともに作業時間の短縮を図れるようになる。
[0011] また、本発明の反射鏡の製造装置は、真空処理室の内部に、金属膜形成手段と、 色素膜形成手段と、保護膜形成手段とを同時に収容するドラム状の基体ホルダが回 転可能に設置されており、基体は、基体ホルダの内周面に複数支持されている。そし て、基体表面に対する反射膜の形成工程、着色膜の形成工程及び保護膜の形成ェ 程では、基体ホルダの回転により基体を真空処理室内で公転させながら複数の基体 に同時に成膜する。これにより、一度の処理で複数の反射鏡の製造が可能となる。 発明の効果
[0012] 以上述べたように、本発明によれば、同一真空処理室内での反射膜、着色膜及び 保護膜の形成を一貫して行うようにしているので、反射鏡の製造工程を簡素化できる とともに、作業時間の短縮を図れるようになる。
図面の簡単な説明
[0013] [図 1]本発明の実施形態による反射鏡の製造装置に用いられる成膜装置の概略構 成を示す側断面図である。
[図 2]図 1における [2]— [2]線方向断面図である。
[図 3]灯具の一般的構成を示す概略図である。
[図 4]反射鏡の膜構造を示す断面模式図である。
[図 5]図 1の成膜装置に組み込まれる金属蒸発源の概略構成図である。
[図 6]図 1の成膜装置に組み込まれる色素蒸発源の概略構成図である。 符号の説明
1 成膜装置
2 真空槽
4 基体ホルダ
5 真空処理室
6 真空ポンプ
7 ガス源
9 台車
10 基体
12 回転駆動源
13 シール部材
14 蓋体
15 灯具
16 ランプ
17 反射鏡
18 下地膜
19 反射膜
20 着色膜
21 保護膜
22 金属蒸発源
23 色素蒸発源
24 プラズマ重合用電極
発明を実施するための最良の形態
[0015] 以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
[0016] 図 1は本発明の実施形態による反射鏡の製造装置として構成される成膜装置 1の 概略断面図である。図 2は、図 1における [2]— [2]線方向断面図である。成膜装置 1 は、真空槽 2を支持する架台 3と、真空槽 2に対して着脱自在に構成された基体ホル ダ 4とを備えている。 [0017] 真空槽 2の内部は、真空槽 2に対して基体ホルダ 4が装着された際に密閉される真 空処理室 5となっており、真空ポンプ 6によって所定の減圧雰囲気に真空排気可能と されている。また、真空槽 2には、真空処理室 5に対してプラズマ重合用の原料ガス を導入するガス源 7がガス導入配管 8を介して接続されている。
[0018] 基体ホルダ 4は、内周面に複数の基体 10を支持することができる略円筒状のドラム 形状であり、台車 9の上に複数台（本実施形態では 2台）クラスタ状に設置されている 。基体ホルダ 4は、一端が閉塞し他端が開放されているとともに、閉塞端の中心部に 固定された支持軸 11によって水平に支持されてレ、る。支持軸 11は回転駆動源（モ ータ） 12の駆動軸としても機能し、回転駆動源 12の駆動により基体ホルダ 4が軸心 部を中心に回転可能に構成されている。
[0019] また、基体ホルダ 4の閉塞端近傍の支持軸 11上には、真空槽 2の前面部に設置さ れた環状のシール部材 13と密着される蓋体 14が設けられている。基体ホルダ 4は、 真空槽 2に対して蓋体 14が密着することにより真空処理室 5に装着される。この装着 状態において、基体ホルダ 4はその開口端及び外周面が真空槽 2の内壁に対して一 定の間隙をあけて対向配置され、真空槽 2の内部と基体ホルダ 4の内部とが互いに 連通するようになっている。
[0020] 基体 10は、 自動車用ヘッドランプ等の灯具に用いられる反射鏡 (リフレクタ）の本体 を構成する。図 3に示すように、灯具 15は、表面（内面）に反射鏡 17が形成された基 体 10の中心部にランプ 16が取り付けられてなり、ランプ 16から出射した光を正面方 向（図中下方）に集光する機能を有する。反射鏡 17は、図 4に示すような構成を有し ており、基体 10の表面に、下地膜 18、反射膜 19、着色膜 20及び保護膜 21が順次 形成された積層膜からなる。なお、反射鏡 17の積層構造や各種膜の積層順序は上 記の例に限られない。例えば反射膜 19と着色膜 20の間に保護膜 21を加えてもよい
[0021] 下地膜 18、反射膜 19、着色膜 20及び保護膜 21は、上述した成膜装置 1を用いて 形成される。即ち、反射膜 19は真空蒸着法で形成された金属膜力もなり、着色膜 20 は真空蒸着法で形成された色素 (又は顔料)膜力 なり、下地膜 18及び保護膜 21は プラズマ重合法により形成された重合膜で構成されている。下地膜 18は必要に応じ て省略される。基体 10はプラスチックの射出成形体である。
[0022] 成膜装置 1は、これらの膜を共通の真空処理室 5において一貫して成膜する。図 2 に示すように、真空処理室 5には、反射膜 19成膜用の金属膜形成手段としての金属 蒸発源 22と、着色膜 20成膜用の色素膜形成手段としての色素蒸発源 23と、保護膜 21 (及び下地膜 18)成膜用の保護膜形成手段あるいはプラズマ重合源としてのブラ ズマ重合用電極 24がそれぞれ配置されている。これら金属蒸発源 22、色素蒸発源 2 3及びプラズマ重合用電極 24は真空処理室 5の略中央部に配置されており、図 1に 示すように真空槽 2の内部底壁から軸方向に沿って取り付けられることで、基体ホル ダ 4内部の基体 10と対向している。
[0023] 金属蒸発源 22は、例えば図 5に示すように抵抗加熱方式で構成されており、一対 のロッド状の電極 25, 25間にタングステン等のフィラメント 26を複数取り付け、これら フィラメント 26に蒸発材料 (例えばアルミニウム） 27を保持させている。蒸発材料 27は 、フィラメント 26の通電加熱により加熱、蒸発されることで、基体 10の表面にアルミ二 ゥム膜力 なる反射膜 19を成膜する。なお、金属蒸発源 22は、スパッタリングによる 方式でも構成可能である。
[0024] 色素蒸発源 23もまた、図 6に示すような抵抗加熱方式で構成されている。一対の口 ッド状の電極 28, 28間にはタングステンフィラメント 29が複数取り付けられており、こ れらフィラメント 29にアルミナなどからなる坩堝 30が設置されている。坩堝 30には色 素材料 (例えばフタロシアニン）が収容され、フィラメント 29の通電加熱により加熱、蒸 発されることで、基体 10の表面に反射膜 19を着色する着色膜 20を成膜する。
[0025] プラズマ重合用電極 24は、金属蒸発源 22及び色素蒸発源 23の各電極 25, 28と 平行に延在しており、図示しない直流電源又は高周波電源あるいは中周波電源に 接続されている。プラズマ重合用電極 24は、ガス源 7からガス導入配管 8を介して真 空処理室 5に導入されるモノマー原料ガス（例えばへキサメチルジシロキサン（HMD S〇））とともに本発明の「プラズマ重合源」を構成し、放電により基体 10の表面に HM DSOからなる下地膜 18及び反射膜 19を保護する保護膜 21を成膜する。
[0026] 続いて、以上のように構成される成膜装置 1を用いた反射鏡の製造方法について 説明する。 [0027] まず、基体 10を複数支持した基体ホルダ 4を真空槽 2に装填し、蓋体 14をシール 部材 13に密着させることで真空処理室 5を外気から遮断する。その後、真空ポンプ 6 を駆動させて真空処理室 5を排気し所定の真空度に減圧する。真空処理室 5が所定 の真空度に達すると、回転駆動源 12の駆動により基体ホルダ 4を真空処理室 5内に おいて回転させる。これにより、基体 10は真空処理室 5の内部において公転運動す る。なお、基体ホルダ 4に基体 10の自転機構を付カ卩してもよい。
[0028] この状態で、ガス源 7からガス導入配管 8を介してモノマー原料ガスを真空処理室 5 へ導入し、プラズマ重合用電極 24の放電作用によって基体 10の表面に HMDSOか らなる下地膜 18を成膜する。なお、下地膜 18の形成の代わりに、アルゴンガス又は 空気を導入することにより基体 10の表面をプラズマクリーニングしてもよい。
[0029] 次に、プラズマ重合用電極の放電とモノマー原料ガスの導入を停止し、金属蒸発 源 22のフィラメント 26を例えば 800〜： 1000°Cで通電加熱して蒸発材料 27を蒸発さ せることにより、基体 10表面の下地膜 18上にアルミニウムからなる反射膜 19を成膜 する。
[0030] その後、金属蒸発源 22のフィラメント 26への通電を停止し、今度は色素蒸発源 23 のフィラメント 29を例えば 500°Cで通電加熱して坩堝 30内を約 350°Cに加熱し色素 材料を蒸発させることにより、基体 10表面の反射膜 19上に着色膜 20を成膜する。
[0031] そして、色素蒸発源 23のフィラメント 29の通電を停止した後、再びプラズマ重合用 電極 24を放電させ、更にモノマー原料ガスを導入することにより、基体 10表面の着 色膜 20上に保護膜 21を成膜する。なお、その後、必要に応じて、空気、酸素又はァ ルゴンガスを導入したプラズマ処理により基体 10表面の親水化を行っても良い。
[0032] 以上のように、本実施形態によれば、反射膜 19及び着色膜 20の成膜を真空蒸着 法によって行レ、、下地膜 18及び保護膜 21の成膜をプラズマ重合法によって行うよう にしているので、これらの膜を同一真空処理室 5内で成膜することが可能となる。これ により、反射鏡 17の形成工程を簡素化できるとともに、作業時間の短縮を図ることが できる。
[0033] また、本実施形態の成膜装置 1によれば、ひとつの真空処理室 5内に金属蒸発源 2 2、色素蒸発源 23及びプラズマ重合源 (電極） 24を設置することによって、基体 10表 面に対する下地膜 18、反射膜 19、着色膜 20及び保護膜 21の一貫した成膜が可能 となる。これにより、反射鏡 17の製造設備の簡素化、低コスト化、小型化を図れるよう になる。
[0034] 更に、本実施形態によれば、基体ホルダ 4を真空処理室内で回転可能に構成する とともに、基体ホルダ 4に支持した複数の基体 10に対して同時に成膜処理を施すこと ができるので、一度の処理で複数の反射鏡の製造が可能となり、生産性を高めること ができる。
[0035] なお、本実施形態の成膜装置 1においては、一方の基体ホルダ 4が真空槽 2に装 着されている間、他方の基体ホルダ 4において未処理の基体 10の仕込みが行われ る。そして、一方の基体ホルダ 4に支持された基体 10の成膜が完了した後、当該一 方の基体ホルダ 4が真空槽 2から離脱される。そして、台車 9を移動させて他方の基 体ホルダ 4が真空槽 2に装着され、上述したように各種膜の成膜が行われる。その間 、一方側の基体ホルダ 4から処理済の基体 10の取出しが行われる。
実施例
[0036] 以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限られない
[0037] 図 1を参照して、真空槽 2内部の各蒸発源 22， 23に蒸発材料をセットし、基体 10を 複数支持した基体ホルダ 4を真空槽 2 (真空処理室 5)に装着して真空処理室 5を所 定の真空度に排気した。ガス源 7からモノマー原料ガスを lOPaまで導入し、プラズマ 重合用電極 24に直流 2kVを印加して放電をたて、約 30秒間成膜し、下地膜 18を形 成した。
[0038] 次に、金属蒸発源 22のフィラメント 26を通電加熱し、金属材料 (アルミニウム）を約 6 0秒間蒸着させて下地膜 18の上に反射膜 19を成膜した。続いて、色素蒸発源 23の フィラメント 29を通電加熱し、色素材料 (フタロシアニン)を約 30秒間蒸着させて反射 膜 19の上に着色膜 20を成膜した。これにより、反射膜 19が薄いブルーに着色され た。
[0039] 続いて、モノマー原料を lOPaまで導入し、プラズマ重合用電極 24に直流 2kVを印 カロして放電をたて、約 180秒間成膜し、着色膜 20の上に保護膜 21を形成した。更に 、アルゴンガスを 1ラ 10— 導入し、プラズマ重合用電極 24を用いた DCプラズマに より表面の親水化を約 10秒間行った。
[0040] 以上のようにして作製した反射鏡 17の耐酸性試験、耐アルカリ性試験を行ったとこ ろいずれの試験にもパスできる膜特性を得られたことが確認された。
[0041] 以上、本発明の実施形態について説明したが、勿論、本発明はこれに限定される ことなぐ本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
[0042] 例えば以上の実施形態では、反射膜 19、着色膜 20、保護膜 21 (下地膜 18)として それぞれアルミニウム、フタロシアニン、 HMDSOで構成した力 これら各膜の材料 はこれらに限定されず、適宜変更可能である。
[0043] また、以上の実施形態では、台車 9に基体ホルダ 4を 2基設置した力 更にその数 を増加しても構わない。

Claims

請求の範囲
[1] 基体表面に反射膜、着色膜及び保護膜が所定の順序で成膜されてなる反射鏡の 製造装置において、
反射膜成膜用の金属膜形成手段と、
着色膜成膜用の色素膜形成手段と、
保護膜成膜用の保護膜形成手段とが、
ひとつの真空処理室内に配置されてレ、ることを特徴とする反射鏡の製造装置。
[2] 前記金属膜形成手段は金属蒸発源であり、前記色素膜形成手段は色素蒸発源で あり、前記保護膜形成手段はプラズマ重合源であることを特徴とする請求の範囲第 1 項に記載の反射鏡の製造装置。
[3] 前記真空処理室の内部には、前記金属膜形成手段と、前記色素膜形成手段と、前 記保護膜形成手段とを同時に収容するドラム状の基体ホルダが回転可能に設置さ れており、
前記基体は、前記基体ホルダの内周面に複数支持されていることを特徴とする請 求の範囲第 1項に記載の反射鏡の製造装置。
[4] 前記基体ホルダは、前記真空処理室に対して着脱自在に構成されていることを特 徴とする請求の範囲第 3項に記載の反射鏡の製造装置。
[5] 基体表面に反射膜、着色膜及び保護膜が所定の順序で成膜されてなる反射鏡の 製造方法において、
前記反射膜の形成工程と、前記着色膜の形成工程と、前記保護膜の形成工程とを 、共通の真空処理室内で行うことを特徴とする反射鏡の製造方法。
[6] 前記反射膜の形成工程、前記着色膜の形成工程及び前記保護膜の形成工程で は、前記基体を前記真空処理室内で公転させながら複数の基体に同時に成膜する ことを特徴とする請求の範囲第 5項に記載の反射鏡の製造方法。
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