WO2009024353A2 - Verfahren und schmelztauchveredelungsanlage zur bandstabilisierung eines zwischen abstreifdüsen der schmelztauchveredelungsanlage geführten, mit einer beschichtung versehenen bandes - Google Patents

Verfahren und schmelztauchveredelungsanlage zur bandstabilisierung eines zwischen abstreifdüsen der schmelztauchveredelungsanlage geführten, mit einer beschichtung versehenen bandes Download PDF

Info

Publication number
WO2009024353A2
WO2009024353A2 PCT/EP2008/006923 EP2008006923W WO2009024353A2 WO 2009024353 A2 WO2009024353 A2 WO 2009024353A2 EP 2008006923 W EP2008006923 W EP 2008006923W WO 2009024353 A2 WO2009024353 A2 WO 2009024353A2
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
strip
band
tape
distance
stabilization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/EP2008/006923
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
WO2009024353A3 (de
Inventor
Holger Behrens
Michael Zielenbach
Hans-Georg Hartung
Pascal Fontaine
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SMS Siemag AG
Original Assignee
SMS Siemag AG
SMS Demag AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SMS Siemag AG, SMS Demag AG filed Critical SMS Siemag AG
Priority to US12/733,274 priority Critical patent/US20100285239A1/en
Priority to AU2008290746A priority patent/AU2008290746B2/en
Priority to CN2008801038920A priority patent/CN101784689B/zh
Priority to CA2697194A priority patent/CA2697194C/en
Priority to ES08801674T priority patent/ES2387835T3/es
Priority to EP08801674A priority patent/EP2188403B1/de
Priority to JP2010520505A priority patent/JP5355568B2/ja
Priority to MX2010002049A priority patent/MX2010002049A/es
Priority to KR1020107002284A priority patent/KR101185395B1/ko
Priority to BRPI0815633A priority patent/BRPI0815633B1/pt
Priority to PL08801674T priority patent/PL2188403T3/pl
Publication of WO2009024353A2 publication Critical patent/WO2009024353A2/de
Publication of WO2009024353A3 publication Critical patent/WO2009024353A3/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/003—Apparatus
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/14—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
    • C23C2/24—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using magnetic or electric fields
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/34—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the shape of the material to be treated
    • C23C2/36—Elongated material
    • C23C2/40—Plates; Strips
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/50—Controlling or regulating the coating processes
    • C23C2/52—Controlling or regulating the coating processes with means for measuring or sensing

Definitions

  • the invention relates to a method for stabilizing the strip of a guided between the wiping nozzles of a hot dip coating plant, provided with a coating tape and a corresponding Schmelztauchbe- coating system.
  • a method for stabilizing the strip of a guided between the wiping nozzles of a hot dip coating plant provided with a coating tape and a corresponding Schmelztauchbe- coating system.
  • electromagnetically contactless acting on the continuous steel strip coils stabilizing forces in accordance with the detected tape position on the tape.
  • Electromagnetic strip stabilizers are based on the principle of induction in order to generate attractive forces perpendicular to the ferromagnetic steel strip by means of defined magnetic fields. Thus, the position of the steel strip between two opposite electromagnetic inductors (electromagnets) can be changed without contact.
  • Such systems are known in different types. They are e.g. used in hot dip finishing plants in the coating area above the so-called wiping nozzles.
  • Various control and control concepts are known (eg DE 10 2005 060 058 A1, WO 2006/006911 A1).
  • Wiping nozzles are used in hot-dip coating plants for steel strip in order to obtain a defined amount of coating medium on the strip surface.
  • the quality of the coating depends to a large extent on the uniformity of the wiping medium (eg air or nitrogen) as well as on the band movement in the nozzle area.
  • the belt movements are caused by non-circularity of rollers or, for example, by impulse effect of the air in the cooling tower area of hot-dip finishing plants. As the strip movement in the stripper nozzle increases, the coating quality or uniformity of the coating of the continuous steel strip is reduced.
  • strip stabilization systems connected downstream in the strip running direction can damp or reduce strip movement occurring within the scraping nozzle, so that an improvement in the coating accuracy and coating uniformity of the liquid metal on the steel strip is achieved.
  • This can z. B. be electromagnetically acting actuators exert contactless attractive forces on the convincedlau- fenden steel strip and thus change the band position.
  • the goal of all applications is to position the belt stabilization as close as possible to the wiper nozzle, ignoring the relationship between distance and effect.
  • the object of the invention is therefore to improve the strip stabilization in the region of the wiper.
  • This object is achieved according to the invention with the method according to claim 1.
  • This is characterized in that the distance (the effect) of the band stabilization of the wiping nozzles is set to a value equal to a distance threshold value, which as a function of Bandwidth is determined taking into account a factor Phi, wherein the factor Phi is calculated as a function of the strip thickness and the strip tension.
  • the measured variable strip position represents the temporal and / or local change in the distance of the strip relative to a straight reference line transversely to the strip running direction; that is, the tape position represents the tape profile and / or its vibration behavior as a function of time.
  • strip stabilization encompasses two essential aspects: on the one hand strip stabilization means smoothing of a wave-shaped strip profile and on the other hand this term means damping of vibrations of the strip. Both aspects of band stabilization can be implemented independently or in combination or simultaneously with the aid of suitable control circuits.
  • the essential advantage of the claimed limitation of the distance is that if the distance is set to a value below the distance threshold value which can be calculated according to the invention, a considerably better effect is achieved for both aspects of the desired band stabilization. In contrast, the effect of band stabilization at intervals above the distance threshold decreases significantly or the band is despite stabilization even more unstable than without control (opposite effect).
  • Ideal would be a distance of zero, that is, if the band stabilization at the level of the scrapers would be arranged, because then the band stabilization would act directly at the level of the stripping and the tape would then held optimally stable during a measurement process.
  • this arrangement is structurally not feasible due to lack of space in the rule. Therefore, the distance should be as small as possible, but maximally set to the value of the distance threshold value which can be calculated according to the invention.
  • the electromagnetic forces are applied by on each band side in pairs opposing coil assemblies whose distance from the wiping nozzles is changeable.
  • the band position within the coil arrangement is preferably measured, specifically in the spatial vicinity of the coil arrangement.
  • the tape position above and below the coil assembly can be measured.
  • a plurality of coils are arranged on each band side, wherein the respective outer coils are arranged to be adjustable on the continuous band edges parallel to the plane of the band.
  • the distance of the belt stabilization device, hereinafter also abbreviated to belt stabilization, of the wiping nozzles should not exceed their bandwidth for wider belts (B> 1400 mm). For narrower bands (B ⁇ 1400 mm), a spacing of up to 1.75 times the bandwidth can be allowed. This distance results from the principle of Staint-Venant, which states that with increasing distance of an attacking force on z. B. a clamped steel strip whose effect on the overall state decreases.
  • the basis for the solution according to the invention is the positioning of the strip stabilizer to the wiping nozzle or the wiping nozzles, taking into account the stress mechanism.
  • the distance between the stabilizing effect and the scraper in a specified range or . may not exceed a maximum in the form of a distance threshold.
  • the above object is further achieved by the claimed melt-dipping coating system.
  • This is characterized in that the distance (effect) of the strip stabilization from the wiping nozzles is set to a value less than or equal to a distance threshold determined as a function of the bandwidth taking into account a factor Phi as a function of strip thickness and strip tension.
  • the distance threshold value is based on the principle of Venant for continuous wide steel bands at approx. The bandwidth and for narrower bands max. 1.75 times the bandwidth (see FIG. 5). At a greater distance, the effect of band stabilization in terms of smoothing the band profile (transverse arc, S-shape, see Fig. 2) is very limited or no longer recognizable at long distances.
  • the following device for combining the strip stabilization with the wiping nozzle, in which the strip stabilizing coils always act towards the centered strip layer:
  • the stabilization must be respectively aligned to the band position and the actual position must be determined.
  • the alignment is carried out by means of specially mounted alignment aids.
  • the stabilization is mounted on this frame and is therefore mechanically fixed and reproducibly adjustable (FIG. 3).
  • the centering on the band position or band center is therefore always identical between stabilization and the scraper nozzle.
  • Wiping nozzles and stabilizing coils are mechanically synchronized and aligned!

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Controlling Rewinding, Feeding, Winding, Or Abnormalities Of Webs (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bandstabilisierung eines zwischen Abstreifdüsen einer Schmelztauchveredelungsanlage geführten, mit einer Beschichtung versehenen Bandes sowie eine entsprechende Schmelztauchbeschichtungsanlage. Dabei werden durch in Bandlaufrichtung den Abstreifdüsen nachgeordnete elektromagnetisch berührungslos auf das durchlaufende Stahlband wirkende Spulen stabilisierende Kräfte nach Maßgabe der erfassten Bandposition auf das Band ausübt. Um die Bandstabilisierung im Bereich der Abstreifdüse zu verbessern, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass der Abstand der Wirkungslinie der Bandstabilisierungseinrichtung von den Abstreifdüsen auf einen Wert = einem Abstandsschwellenwert eingestellt wird, welcher als Funktion der Bandbreite unter Berücksichtigung eines Faktors Phi ermittelt wird, wobei der Faktor Phi als Funktion der Banddicke und des Bandzuges berechnet wird.

Description

Verfahren und Schmelztauchveredelungsanlage zur Bandstabilisierung eines zwischen Abstreifdüsen der Schmelztauchveredelungsanlage geführten, mit einer Beschichtung versehenen Bandes
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bandstabilisierung eines zwischen Abstreifdüsen einer Schmelztauchveredelungsanlage geführten, mit einer Beschichtung versehenen Bandes sowie eine entsprechende Schmelztauchbe- schichtungsanlage. Dabei werden durch in Bandlaufrichtung den Abstreifdüsen nachgeordnete elektromagnetisch berührungslos auf das durchlaufende Stahlband wirkende Spulen stabilisierende Kräfte nach Maßgabe der erfassten Bandposition auf das Band ausübt.
Elektromagnetische Bandstabilisierungen basieren auf dem Prinzip der Indukti- on, um mittels definierter Magnetfelder anziehende Kräfte senkrecht zum ferro- magnetischen Stahlband zu erzeugen. Damit kann die Lage des Stahlbands zwischen zwei gegenüberliegenden elektromagnetischen Induktoren (Elektro- magnete) berührungslos verändert werden. Solche Systeme sind in unterschiedlicher Bauart bekannt. Sie werden z.B. in Schmelztauchveredelungsanla- gen im Beschichtungsbereich oberhalb der so genannten Abstreifdüsen verwendet. Unterschiedlichste Regelungs- und Steuerungskonzepte sind bekannt (z. B. DE 10 2005 060 058 A1 , WO 2006/006911 A1 ).
Abstreifdüsen werden in Schmelztauchveredelungsanlagen für Stahlband ein- gesetzt, um eine definierte Menge Beschichtungsmedium auf der Bandoberfläche zu erhalten. Die Qualität der Beschichtung (Gleichmäßigkeit der Auftragung, Schichtdickengenauigkeit, homogener Oberflächenglanz) hängt maßgeblich von der Gleichmäßigkeit des Abstreifdüsenmediums (z.B. Luft oder Stickstoff) sowie von der Bandbewegung im Düsenbereich ab. Die Bandbewegun- gen werden durch Unrundheiten von Rollen oder z.B. durch Impulswirkung der Luft im Kühlturmbereich von Schmelztauchveredelungsanlagen hervorgerufen. Mit zunehmender Bandbewegung in der Abstreifdüse reduziert sich die Be- schichtungsqualität bzw. Gleichmäßigkeit der Beschichtung des durchlaufenden Stahlbands.
Durch den Einsatz von in Bandlaufrichtung nach geschalteten Bandstabilisie- rungssystemen kann eine innerhalb der Abstreifdüse auftretende Bandbewegung gedämpft bzw. reduziert werden, so dass eine Verbesserung der Be- schichtungsgenauigkeit und Beschichtungsgleichmäßigkeit des flüssigen Metalls auf dem Stahlband erreicht wird. Dies können z. B. elektromagnetisch wirkende Aktuatoren sein, die berührungslos anziehende Kräfte auf das durchlau- fende Stahlband ausüben und somit die Bandlage verändern.
Bei den bekannten Systemen ergibt sich Bauart bedingt aufgrund der in Bandlaufrichtung der Abstreifdüse nachgeordneten Bandstabilisierung eine reduzierte Wirkung der Regelung auf die Bandbewegung in der Abstreifdüse. Die Beru- higung der Schwingungen erfolgt oberhalb der Abstreifdüse innerhalb der
Bandstabilisierung mittels der Bandstabilisierungsspulen mit hoher Effektivität. Im Bereich der Düse ist die Wirkung mit steigendem Abstand zwischen dieser und der Stabilisierungseinheit jedoch deutlich eingeschränkt. Die Position der Bandstabilisierung wird dabei entsprechend der baulichen Gegebenheiten fest- gelegt, ohne die physikalischen Abhängigkeiten zu beschreiben.
Daher ist das Ziel aller Anwendungen die Bandstabilisierung möglichst nahe an die Abstreifdüse zu positionieren, wobei der Zusammenhang zwischen Abstand und Wirkung nicht berücksichtigt wird.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, die Bandstabilisierung im Bereich der Abstreifdüse zu verbessern.
Gelöst wird diese Aufgabe erfindungsgemäß mit dem Verfahren gemäß Patentanspruch 1. Dieses ist dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand (der Wir- kung) der Bandstabilisierung von den Abstreifdüsen auf einen Wert kleiner gleich einem Abstandsschwellenwert eingestellt wird, welcher als Funktion der Bandbreite unter Berücksichtigung eines Faktors Phi ermittelt wird, wobei der Faktor Phi als Funktion der Banddicke und des Bandzuges berechnet wird.
Die Messgröße Bandposition repräsentiert im Rahmen der vorliegenden Beschreibung die zeitliche und / oder örtliche Änderung des Abstandes des Ban- des gegenüber einer graden Referenzlinie quer zur Bandlaufrichtung; dass heißt, die Bandposition repräsentiert das Bandprofil und/ oder dessen Schwingungsverhalten als Funktion der Zeit.
Der Begriff Bandstabilisierung umfasst im Rahmen der vorliegenden Beschrei- bung zwei wesentliche Aspekte: Zum einen meint Bandstabilisierung eine Glättung eines wellenförmigen Bandprofils und zum anderen meint dieser Begriff eine Dämpfung von Schwingungen des Bands. Beide Aspekte der Bandstabilisierung können unabhängig voneinander oder in Kombination bzw. gleichzeitig mit Hilfe geeigneter Regelkreise realisiert werden.
Der wesentliche Vorteil der beanspruchten Begrenzung des Abstandes ist darin zu sehen, dass bei einer Einstellung des Abstandes auf einen Wert unterhalb des erfindungsgemäß berechenbaren Abstandsschwellenwertes, eine erheblich bessere Wirkung für beide Aspekte der angestrebten Bandstabilisierung er- reicht wird. Demgegenüber lässt die Wirkung der Bandstabilisierung bei Abständen oberhalb des Abstandsschwellenwertes deutlich nach oder das Band wird trotz Stabilisierungsregelung sogar instabiler als ohne Regelung (gegenteiliger Effekt).
Ideal wäre ein Abstand von Null, d.h. wenn die Bandstabilisierung auf Höhe der Abstreifer angeordnet wäre, weil dann die Bandstabilisierung unmittelbar auf Höhe der Abstreifdüsen wirken würde und das Band während eines Messvorganges dann optimal stabil gehalten würde. Diese Anordnung ist aber bautechnisch aufgrund von Platzmangel in der Regel nicht realisierbar. Deshalb sollte der Abstand möglichst klein, maximal jedoch auf den Wert des erfindungsgemäß berechenbaren Abstandsschwellenwert eingestellt werden. Die elektromagnetischen Kräfte werden durch auf jeder Bandseite sich paarweise gegenüberliegende Spulenanordnungen aufgebracht, deren Abstand von den Abstreifdüsen veränderbar ist.
Vorzugsweise wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren die Bandposition innerhalb der Spulenanordnung gemessen, und zwar in räumlicher Nähe der Spulenanordnung.
Zusätzlich kann die Bandposition ober- und unterhalb der Spulenanordnung gemessen werden.
Nach einer Ausgestaltung der Erfindung sind auf jeder Bandseite mehrere Spulen angeordnet, wobei die jeweils außen liegenden Spulen auf die durchlaufenden Bandkanten parallel zur Ebene des Bandes einstellbar angeordnet sind. Diese Anordnung ermöglicht vorteilhafter Weise eine optimale Wirkung bei der Glättung des Bandprofils.
Der Abstand der Bandstabilisierungseinrichtung, nachfolgend verkürzt auch Bandstabilisierung genannt, von den Abstreifdüsen sollte bei breiteren Bändern (B > 1400 mm) deren Bandbreite nicht überschreiten. Bei schmaleren Bändern (B < 1400 mm) kann ein Abstand bis zum 1 ,75fachen der Bandbreite zugelassen werden. Dieser Abstand ergibt sich aus dem Prinzip von Staint-Venant, das besagt, dass mit steigendem Abstand einer angreifenden Kraft auf z. B. ein eingespanntes Stahlband deren Wirkung auf dem Gesamtzustand abnimmt.
Grundlage für die erfindungsgemäße Lösung ist die Positionierung der Bandstabilisierung zur Abstreifdüse bzw. den Abstreifdüsen unter Berücksichtigung der Spannungsmechanik.
Die Wirkung eines punktuellen Lastangriffs in einem gegebenen Lastsystem ergibt sich nach dem Prinzip von Saint Venant nur in einem kleinen Bereich um den Lasteingriffspunkt. Die durch die Krafteinleitung örtlich unregelmäßigen Kraftverteilungen klingen sehr schnell ab. Dieses Prinzip wird bei Festigkeitsberechnungen zur Dimensionierung von Bauteilen standardmäßig eingesetzt und wird hier auf die Bandstabilisierungswirkung im Abstreifdüsenbereich angewendet.
Um eine ausreichende Wirkung in der Abstreifdüse auf das Bandprofil und die Bandbewegung (Schwingung) zu erzielen, um diese maßgeblich zu verändern bzw. zu dämpfen, muss entsprechend des Prinzips von Saint-Venant der Abstand zwischen Stabilisierungswirkung und Abstreifdüse in einem festgelegten Bereich gewählt werden bzw. darf einen Höchstwert in Form eines Abstandsschwellenwertes nicht überschreiten. Dabei muss der Abstand, d. h. die Länge Stahlband, in der eine Wirkung durch die Bandstabilisierung zu erwarten ist nach folgender Regel gewählt werden:
Abstand < Abstandsschwellenwert = Phi * charakteristische Länge
mit Phi = Funktion(Banddicke, Bandzug)
Die oben genannte Aufgabe wird weiterhin durch die beanspruchte Schmelz- tauchbeschichtungsanlage gelöst. Diese ist dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand (der Wirkung) der Bandstabilisierung von den Abstreifdüsen auf einen Wert kleiner gleich einem Abstandsschwellenwert eingestellt ist, welcher als Funktion der Bandbreite unter Berücksichtigung eines Faktors Phi, als Funktion der Banddicke und des Bandzuges, ermittelt ist.
Die Vorteile dieser Anlage entsprechen den oben mit Bezug auf das beanspruchte Verfahren genannten Vorteilen.
Die erfindungsgemäße Lösung soll nachfolgend - auch unter Bezug auf die Zeichnungen - näher erläutert werden. Dabei zeigt:
Fig. 1 schematisch die Anordnung der Bandstabilisierungsspulen,
Fig. 2 die Profilierungen des Bandes,
Fig. 3 schematisch die Anordnung der Düsenbalken,
Fig. 4 das Bandstabilisierungssystem,
Fig.5 die Abhängigkeit des Faktors Phi von der Bandbreite und
Fig.6 den Zusammenhang zwischen Bandschwingungen und dem Abstand der Bandstabilisierung von der Abstreifdüse.
Die Anordnung der Bandstabilisierung und der Abstreifdüse ist prinzipiell aus der Figur 4 ersichtlich.
Der Abstandsschwellenwert ergibt sich nach dem Prinzip von Venant für durch- laufende breite Stahlbänder zu ca. der Bandbreite und bei schmaleren Bändern zu max. dem 1 ,75fachen der Bandbreite (siehe Figur 5). In einem größeren Abstand ist die Wirkung der Bandstabilisierung im Hinblick auf eine Glättung des Bandprofils (Querbogen, S-Form, siehe Fig. 2) sehr eingeschränkt bzw. bei großen Abständen nicht mehr erkennbar.
Der Kraftangriffspunkt der Bandstabilisierung liegt dann zu weit von der Düsenlippe weg, um eine ausreichende Wirkung auf die Bandverformungen wie z. B. Reduktion des Querbogens auszuüben.
Weiterhin konnte durch Messungen und Simulationen nachgewiesen werden, dass die Schwingungsbeeinflussung (Dämpfung der Amplitude der Band- Schwingung) im Düsenspalt ebenfalls von dem Abstand des Kraftangriffspunktes zur Wirkstätte Düsenspalt abhängt.
Damit ergibt sich folgender Zusammenhang:
Abstand < Phi (Banddicke, Bandzug) * Bandbreite = Abstandsschwellenwert.
Der Faktor Phi wurde abhängig vom Bandzug und der Banddicke sowohl analytisch mittels FEM Simulationen als auch empirisch an Bandbehandlungsanlagen untersucht und ermittelt. In Fig. 5 ist der Zusammenhang dargestellt. Mit abnehmender Bandbreite erhöht sich der mögliche Abstand zwischen Bandstabilisierung und Abstreifdüse (siehe Figur 4), da aufgrund der reduzierten Bandbreite eine unsymmetrische Spannungsverteilung bzw. ein nicht optimales wellenförmiges Bandprofil sich weniger nachteilig auf die Bandstabilisierung auswirkt. Aufgrund von Spannungsunterschieden über die Banddicke ergeben sich elastische Verformungen. Die Spannung über der Blechdicke wirkt sich oberhalb eines Grenzwertes in Form von Bandquerverformung aus (Querbogen).
Lokale Änderungen der Spannungsverteilung über der Blechdicke durch den äußeren Krafteinfluss der Bandstabilisierung zeigen sich abhängig von dem dargestellten Funktionsverlauf bis zu einem Abstand von 0,75 bis 1 ,75 mal der Bandbreite in Bandlaufrichtung gesehen.
Liegen Schwingungen des Stahlbands aufgrund von z. B. unrundem Lauf der Stabilisierungsrolle im Zinkgefäß vor, dann erzielt man mit einer Regelung zur Bandstabilisierung eine Reduktion der Bandschwingung gegenüber einer Situation ohne Bandstabilisierungsregelung, wenn der Abstand der Bandstabilisierung von der Abstreifdüse typischerweise max. 1 ,5 m vom Düsenspalt beträgt. Wie aus Figur 5 zu erkennen ist, ergibt sich der Abstandsschwellenwert von ca. 1 ,5 m für viele unterschiedliche typische Bandbreiten. Befindet sich die Band- Stabilisierung weiter als dieser Abstandsschwellenwert von der Abstreifdüse weg, dann werden die Schwingungen im Bereich der Abstreifdüse nicht mehr gedämpft, sondern können sogar angeregt werden, was trotz Schwingungsdämpfung im Bereich der Bandstabilisierung zu einer Erhöhung der Bandbewegung innerhalb der Abstreifdüse und damit zu einer Verringerung der Beschich- tungsqualität führt (Fig. 6).
Analoges gilt auch für die Stabilisierung/Glättung des Bandprofils. Bei Abständen unterhalb des Abstandsschwellenwertes wird eine gute Glättung erreicht, darüber wird eine Glättung schwierig bzw. nicht mehr möglich.
Weiterhin ist folgende Vorrichtung zur Kombination der Bandstabilisierung mit der Abstreifdüse vorgesehen, bei der die Bandstabilisierungsspulen immer zur zentrierten Bandlage hin wirken:
Gegenüber den bekannten Systemen muss die Stabilisierung jeweils auf die Bandlage ausgerichtet werden bzw. die Ist-Position bestimmt werden. Die Aus- richtung erfolgt mittels extra angebrachter Ausrichthilfen.
Aufgrund der speziellen Rahmenkonstruktion der Abstreifdüse wird die Stabilisierung auf diesem Rahmen befestigt und ist somit mechanisch fest und reproduzierbar einstellbar (Fig. 3). Die Zentrierung auf Bandlage bzw. Bandmitte ist somit immer identisch zwischen Stabilisierung und Abstreifdüse.
Damit wird einer möglichen Verdrehung des Bands während der Produktion gefolgt und es ist keine Neubestimmung der Nullposition bzw. der Sollposition der Bandlage erforderlich. Abstreifdüsen und Stabilisierungsspulen sind so me- chanisch synchronisiert und ausgerichtet!
Zusammenfassend ergibt sich:
1. Festlegung des maximal zulässigen Abstands zwischen Stabilisierungs- Wirkung und Abstreifdüse aufgrund der physikalischen Zusammenhänge
(Prinzip nach Saint Venant) zu Abstand < Phi * Bandbreite. 2. Der Korrekturfaktor Phi ergibt sich aus Simulationen und Betriebsversuchen als Funktion von der Bandbreite zwischen 1 ,75 und 0,75. Die Verformungen des Bands in Querrichtung ergeben sich aus der Instabilität aufgrund der geringen Banddicke. Mit verringerter Bandbreite wirken sich diese nicht so stark aus, was in einer Vergrößerung des möglichen Abstandes der Bandstabilisierung von der Abstreifdüse resultiert.
3. Integration der Bandstabilisierungsspulen innerhalb der Abstreifdüsenkonstruktion zur Erhöhung der Ausrichtgenauigkeit aufgrund einer mechanischen Kopplung der Düse mit den Stabilisierungsspulen. 4. Die Bandstabilisierungsspulen sind über die Kopplung an die Abstreifdüse immer identisch ausgerichtet, auch bei Schräglagen oder Bandverwindungen.

Claims

Patenansprüche
1. Verfahren zur Bandstabilisierung eines zwischen Abstreifdüsen einer Schmelztauchveredelungsanlage geführten, mit einer Beschichtung ver- sehenen Bandes, wobei die Bandposition erfasst wird und durch in Bandlaufrichtung den Abstreifdüsen nachgeordnete elektromagnetisch berührungslos auf das durchlaufende Stahlband wirkende Spulen stabilisierende Kräfte nach Maßgabe der erfassten Bandposition auf das Band ausübt werden, dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand (der Wirkung) der Bandstabilisierung von den Abstreifdüsen auf einen Wert kleiner gleich einem Abstandsschwellenwert eingestellt wird, welcher als Funktion der Bandbreite unter Berücksichtigung eines Faktors Phi ermittelt wird, wobei der Faktor Phi als Funktion der Banddicke und des Bandzuges berechnet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand möglichst klein, idealerweise auf einen Wert von Null eingestellt wird.
3. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bandposition innerhalb der Spulenanordnung gemessen wird.
4. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bandposition in räumlicher Nähe der Spulenanordnung gemessen wird.
5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bandposition zusätzlich ober- und unterhalb der Spulenanordnung gemessen wird.
6. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand der Bandstabilisierung von den Abstreifdüsen je nach aktueller Bandbreite das 1 ,75- 0,75-fache der Bandbreite beträgt.
7. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bandposition als örtliche Verteilung des Abstandes des Bandes gegenüber einer graden Referenzlinie über der Bandbreite erfasst wird und insofern als Ist- Messgröße das Ist-Bandprofil repräsentiert.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die stabilisierenden Kräfte nach Maßgabe des erfassten Ist-Band profils quer zur Transportrichtung auf das Band einwirken, um das erfasste Ist- Bandprofil auf ein vorgegebenes optimales Soll-Bandprofil in Form eines glatten wellenfreien Bandprofils quer zur Bandrichtung glatt zu ziehen.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1-6, dadurch gekennzeichnet, dass die Bandposition als zeitliche Änderung des Abstandes des Bandes gegenüber einer graden Referenzlinie erfasst wird und insofern als Ist-
Messgröße das Ist-Schwingungsverhalten des Bandes in Abhängigkeit der Zeit repräsentiert.
10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die stabilisierenden Kräfte nach Maßgabe des erfassten Ist- Schwingungsverhaltens des Bandes vorzugsweise senkrecht zur Transportrichtung auf das Band einwirken, um das erfasste Ist- Schwingungsverhalten des Bandes falls erforderlich geeignet zu dämpfen.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 7-10, dadurch gekennzeichnet, dass die gemessene Bandposition als zeitliche und örtliche über der Bandbreite verteilte Änderung des Abstandes des Bandes gegenüber der graden Referenzlinie das Schwingungsverhalten des Bandprofils als Funktion der Zeit repräsentiert; und dass die stabilisierenden Kräfte derart geeignet auf das Band einwirken, dass das Bandprofil, soweit erforderlich, geglättet und gleichzeitig dessen Schwingungsverhalten geeignet gedämpft wird.
12. Schmelztauchveredelungsanlage zum Beschichten eines Bandes mit einer Beschichtung, mit: einer mindestens einer Abstreifdüse zum Entfernen überschüssiger Beschichtung von dem Band; einer Messeinrichtung zum Erfassen der Bandposition; und einer Bandstabilisierung mit elektromagnetischen Spulen, welche der Abstreifdüse in Band lauf richtung nachgeordnet ist, zum Erzeugen berührungslos auf das Stahlband wirkender stabilisierender Kräfte nach Maßgabe der erfassten Bandposition; dadurch gekennzeichnet, dass der Abstand (der Wirkung) der Bandstabilisierung von den Abstreifdüsen auf einen Wert kleiner gleich einem Abstandsschwellenwert eingestellt ist, welcher als Funktion der Bandbreite unter Berücksichtigung eines Faktors Phi ermittelt ist, wobei sich der Faktor Phi als Funktion der Banddicke und des Bandzuges berechnet.
13. Schmelztauchveredelungsanlage nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Spulen auf der Ober- und Unterseite des Bandes sich paarweise gegenüberliegend angeordnet sind und ihr Abstand zu den Abstreifdüsen veränderbar ist.
14. Schmelztauchveredelungsanlage nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Messeinrichtung auf Höhe der Spulen oder in deren Nähe angeordnet ist und dort die Bandposition erfasst.
15. Schmelztauchveredelungsanlage nach Anspruch 12,13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass auf der Ober- und/oder Unterseite des Bandes jeweils mehrere Spulen über der Breite des Bandes verteilt angeordnet sind und dass die jeweils außen liegenden Spulen auf die durchlaufenden Bandkanten parallel zur Ebene des Bandes einstellbar angeordnet sind.
16. Schmelztauchveredelungsanlage nach einem der Ansprüche 12 - 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Bandstabilisierung und die Messeinrichtung mechanisch gekop- pelt fest zueinander beabstandet sind.
PCT/EP2008/006923 2007-08-22 2008-08-22 Verfahren und schmelztauchveredelungsanlage zur bandstabilisierung eines zwischen abstreifdüsen der schmelztauchveredelungsanlage geführten, mit einer beschichtung versehenen bandes Ceased WO2009024353A2 (de)

Priority Applications (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/733,274 US20100285239A1 (en) 2007-08-22 2008-08-22 Method of and hot-dip installation for stabilizing a strip guided between stripping dies of the hot-dip coating installation and provided with a coating
AU2008290746A AU2008290746B2 (en) 2007-08-22 2008-08-22 Process and hot-dip coating system for stabilizing a strip guided between stripping dies of the hot-dip coating system and provided with a coating
CN2008801038920A CN101784689B (zh) 2007-08-22 2008-08-22 用于对在热浸精整设备的整平喷嘴之间引导的具有覆层的带材进行带材稳定的方法和热浸精整设备
CA2697194A CA2697194C (en) 2007-08-22 2008-08-22 Process and hot-dip coating system for stabilizing a strip guided between stripping dies of the hot-dip coating system and provided with a coating
ES08801674T ES2387835T3 (es) 2007-08-22 2008-08-22 Procedimiento e instalación de revestimiento por inmersión en caliente para la estabilización de una banda guiada entre toberas rascadoras de la instalación de revestimiento por inmersión en caliente y provista con un revestimiento
EP08801674A EP2188403B1 (de) 2007-08-22 2008-08-22 Verfahren und schmelztauchveredelungsanlage zur bandstabilisierung eines zwischen abstreifdüsen der schmelztauchveredelungsanlage geführten, mit einer beschichtung versehenen bandes
JP2010520505A JP5355568B2 (ja) 2007-08-22 2008-08-22 溶融漬浸被覆装備のエアナイフノズル間に案内された被覆を備えたストリップを安定化させる方法と溶融漬浸被覆装備
MX2010002049A MX2010002049A (es) 2007-08-22 2008-08-22 Procedimiento e instalación de refinamiento por inmersión en baño fundido para la estabilización de banda de una banda provista de un recubrimiento y conducida entre toberas rascadoras en una instalación de refinamiento por inmersión en baño fundido.
KR1020107002284A KR101185395B1 (ko) 2007-08-22 2008-08-22 용융 도금 시스템의 스트리핑 노즐들 사이에서 안내되고 코팅층이 구비된 스트립을 안정화하기 위한 방법 및 그 용융 도금 시스템
BRPI0815633A BRPI0815633B1 (pt) 2007-08-22 2008-08-22 processo e instalação de tratamento por imersão em fusão para estabilização de fita de uma fita provida de um revestimento, guiada entre bocais de raspagem da instalação de tratamento por imersão em fusão
PL08801674T PL2188403T3 (pl) 2007-08-22 2008-08-22 Sposób i instalacja do uszlachetniania zanurzeniowego do stabilizowania prowadzonej pomiędzy dyszami zgarniającymi instalacji do uszlachetniania zanurzeniowego, pokrytej powłoką taśmy

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102007039690.4 2007-08-22
DE102007039690 2007-08-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2009024353A2 true WO2009024353A2 (de) 2009-02-26
WO2009024353A3 WO2009024353A3 (de) 2010-01-21

Family

ID=39967543

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2008/006923 Ceased WO2009024353A2 (de) 2007-08-22 2008-08-22 Verfahren und schmelztauchveredelungsanlage zur bandstabilisierung eines zwischen abstreifdüsen der schmelztauchveredelungsanlage geführten, mit einer beschichtung versehenen bandes

Country Status (15)

Country Link
US (1) US20100285239A1 (de)
EP (1) EP2188403B1 (de)
JP (1) JP5355568B2 (de)
KR (1) KR101185395B1 (de)
CN (1) CN101784689B (de)
AU (1) AU2008290746B2 (de)
BR (1) BRPI0815633B1 (de)
CA (1) CA2697194C (de)
DE (1) DE102008039244A1 (de)
ES (1) ES2387835T3 (de)
MX (1) MX2010002049A (de)
MY (1) MY164257A (de)
PL (1) PL2188403T3 (de)
RU (1) RU2436861C1 (de)
WO (1) WO2009024353A2 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102597295A (zh) * 2009-11-04 2012-07-18 Sms西马格股份公司 用于涂覆金属带材的装置以及对此的方法
WO2016078803A1 (de) * 2014-11-21 2016-05-26 Fontaine Engineering Und Maschinen Gmbh Verfahren und vorrichtung zum beschichten eines metallbandes mit einem zunächst noch flüssigen beschichtungsmaterial

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2905955B1 (fr) * 2006-09-18 2009-02-13 Vai Clecim Soc Par Actions Sim Dispositif de guidage d'une bande dans un bain liquide
KR101322066B1 (ko) 2010-12-10 2013-10-28 주식회사 포스코 강판 제진장치
DE102012000662A1 (de) 2012-01-14 2013-07-18 Fontaine Engineering Und Maschinen Gmbh Vorrichtung zum Beschichten eines metallischen Bandes mit einem Beschichtungsmaterial
JP6065921B2 (ja) * 2013-07-22 2017-01-25 Ｊｆｅスチール株式会社 鋼板の製造方法
DE102015216721B3 (de) * 2015-09-01 2016-11-24 Fontaine Engineering Und Maschinen Gmbh Vorrichtung zum Behandeln eines Metallbandes
DE102016222224A1 (de) * 2016-02-23 2017-08-24 Sms Group Gmbh Verfahren zum Betreiben einer Beschichtungseinrichtung zum Beschichten eines Metallbandes sowie Beschichtungseinrichtung
DE102016222230A1 (de) * 2016-08-26 2018-03-01 Sms Group Gmbh Verfahren und Beschichtungseinrichtung zum Beschichten eines Metallbandes
CN110325659B (zh) * 2017-02-24 2021-09-14 杰富意钢铁株式会社 连续热镀金属处理装置及使用该装置的热镀金属处理方法
DE102017109559B3 (de) 2017-05-04 2018-07-26 Fontaine Engineering Und Maschinen Gmbh Vorrichtung zum Behandeln eines Metallbandes

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002014572A1 (en) 2000-08-11 2002-02-21 Pohang Iron And Steel Company Ltd A method for controlling the thickness of a galvanising coating on a metallic object
WO2006006911A1 (en) 2004-07-13 2006-01-19 Abb Ab A device and a method for stabilizing a metallic object
DE102005060058A1 (de) 2005-12-15 2007-06-28 Emg Automation Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Stabilisieren eines Bandes

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1208145B (de) * 1962-02-02 1965-12-30 Driam S A Vorrichtung zum Fuehren von Metallstreifen
GB1351125A (en) * 1970-04-15 1974-04-24 British Steel Corp Method of and apparatus for controlling a moving metal sheet to conform to a predetermined plane
US4655166A (en) * 1979-12-26 1987-04-07 Hitachi, Ltd. Apparatus for preventing oscillation of running strip
US5401317A (en) * 1992-04-01 1995-03-28 Weirton Steel Corporation Coating control apparatus
JPH10298727A (ja) * 1997-04-23 1998-11-10 Nkk Corp 鋼板の振動・形状制御装置
ZA987172B (en) * 1998-03-23 1999-04-28 Inland Steel Co Magnetic containment of hot dip coating bath
TW476679B (en) * 1999-05-26 2002-02-21 Shinko Electric Co Ltd Device for suppressing the vibration of a steel plate
WO2002077313A1 (en) * 2001-03-15 2002-10-03 Nkk Corporation Production method of hot-dip metal strip and device therefor
JP2005097748A (ja) * 2001-03-15 2005-04-14 Jfe Steel Kk 溶融めっき金属帯の製造方法及び製造装置
JP3868249B2 (ja) * 2001-07-30 2007-01-17 三菱重工業株式会社 鋼板形状矯正装置
JP3530514B2 (ja) * 2001-08-02 2004-05-24 三菱重工業株式会社 鋼板形状矯正装置及び方法
JP3901969B2 (ja) * 2001-08-29 2007-04-04 三菱重工業株式会社 鋼板の制振装置
JP2003105515A (ja) * 2001-09-26 2003-04-09 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 鋼板形状矯正装置及び方法
EP1538233A1 (de) * 2002-09-13 2005-06-08 JFE Steel Corporation Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines nach dem heisstauchverfahren beschichteten metallbands
US8062711B2 (en) * 2005-03-24 2011-11-22 Abb Research Ltd. Device and a method for stabilizing a steel sheet
SE529060C2 (sv) * 2005-06-30 2007-04-24 Abb Ab Anordning samt förfarande för tjockleksstyrning
DE102005030766A1 (de) * 2005-07-01 2007-01-04 Sms Demag Ag Vorrichtung zur Schmelztauchbeschichtung eines Metallstranges
SE0702163L (sv) * 2007-09-25 2008-12-23 Abb Research Ltd En anordning och ett förfarande för stabilisering och visuell övervakning av ett långsträckt metalliskt band

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002014572A1 (en) 2000-08-11 2002-02-21 Pohang Iron And Steel Company Ltd A method for controlling the thickness of a galvanising coating on a metallic object
WO2006006911A1 (en) 2004-07-13 2006-01-19 Abb Ab A device and a method for stabilizing a metallic object
DE102005060058A1 (de) 2005-12-15 2007-06-28 Emg Automation Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Stabilisieren eines Bandes

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102597295A (zh) * 2009-11-04 2012-07-18 Sms西马格股份公司 用于涂覆金属带材的装置以及对此的方法
JP2013510236A (ja) * 2009-11-04 2013-03-21 エス・エム・エス・ジーマーク・アクチエンゲゼルシャフト ストリップをコーティングするための装置及びそのための方法
WO2016078803A1 (de) * 2014-11-21 2016-05-26 Fontaine Engineering Und Maschinen Gmbh Verfahren und vorrichtung zum beschichten eines metallbandes mit einem zunächst noch flüssigen beschichtungsmaterial
US10907242B2 (en) 2014-11-21 2021-02-02 Fontaine Engineering Und Maschinten Gmbh Method and device for coating a metal strip with a coating material which is at first still liquid
US12018379B2 (en) 2014-11-21 2024-06-25 Fontaine Engineering Und Maschinen Gmbh Device including electromagnetic stabilizing device and blowing device
US12163230B2 (en) 2014-11-21 2024-12-10 Fontaine Engineering Und Maschinen Gmbh Device for coating a metal strip with separately movable electromagnetic stabilizing device and blowing device

Also Published As

Publication number Publication date
DE102008039244A1 (de) 2009-03-12
US20100285239A1 (en) 2010-11-11
EP2188403B1 (de) 2012-07-25
AU2008290746A1 (en) 2009-02-26
WO2009024353A3 (de) 2010-01-21
CN101784689B (zh) 2013-06-26
BRPI0815633B1 (pt) 2018-10-23
BRPI0815633A2 (pt) 2015-02-18
CN101784689A (zh) 2010-07-21
CA2697194C (en) 2012-03-06
AU2008290746B2 (en) 2011-09-08
RU2436861C1 (ru) 2011-12-20
JP5355568B2 (ja) 2013-11-27
EP2188403A2 (de) 2010-05-26
MX2010002049A (es) 2010-05-03
JP2010535945A (ja) 2010-11-25
MY164257A (en) 2017-11-30
KR101185395B1 (ko) 2012-09-25
KR20100030664A (ko) 2010-03-18
RU2010110581A (ru) 2011-09-27
PL2188403T3 (pl) 2012-12-31
CA2697194A1 (en) 2009-02-26
ES2387835T3 (es) 2012-10-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2188403B1 (de) Verfahren und schmelztauchveredelungsanlage zur bandstabilisierung eines zwischen abstreifdüsen der schmelztauchveredelungsanlage geführten, mit einer beschichtung versehenen bandes
DE102004060425B3 (de) Verfahren zur Bandbeschichtung
EP3221487B1 (de) Verfahren und vorrichtung zum beschichten eines metallbandes
DE102008024013B3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Richten eines Metallbandes
DE102009006293A1 (de) Verfahren zur Verringerung von Bandquerkrümmung und Bandschwingungen sowie Verfahren zur Herstellung von tauchbeschichteten Band nach dem Bandstabilisierungsverfahren
EP2496728B1 (de) Vorrichtung zum beschichten eines metallischen bandes und verfahren hierfür
EP1944570A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Geradheit von Langprodukten
EP3504352B1 (de) Verfahren und beschichtungseinrichtung zum beschichten eines metallbandes
EP3372719B1 (de) Vliesbahn-führungsvorrichtung
JP2010535945A5 (de)
WO2013167366A1 (de) Verfahren zur bearbeitung von walzgut und walzwerk
WO2006103050A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur schmelztauchbeschichtung eines metallbandes
EP2190602A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur bandlageregelung
AT500766A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur vermeidung von schwingungen
DE102007045202A1 (de) Vorrichtung zur Bandkantenstabilisierung
DE69201466T2 (de) Methode zum Kontrollieren des Beschichtungsgewichts eines heissmetallisierten Stahlbandes.
DE3048672C2 (de)
DE102005060058A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Stabilisieren eines Bandes
AT410409B (de) Verfahren zum stranggiessen von metallschmelzen sowie stranggiessanlage zur durchführung des verfahrens
DE102023105688B3 (de) Rolle zur Führung von Bändern, Verfahren zum Herstellen einer Rolle und entsprechende Verwendung
DE3500878C1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Baendern mit schmelzfluessigem Metall,insbesondere zum Feuerverzinken von Stahlband
EP1781834B1 (de) Verfahren zur führung eines bandes und verwendung für ein solches verfahren
EP3420113A1 (de) Verfahren zum betreiben einer beschichtungseinrichtung zum beschichten eines metallbandes sowie beschichtungseinrichtung
DE102023118930A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur berührungslosen Messung der Planheit eines bewegten Materialbandes
EP1230993A2 (de) Vorrichtung zur Verbesserung der Planheit von gewalztem Band, insbesondere von Stahlband

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200880103892.0

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 08801674

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2008801674

Country of ref document: EP

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20107002284

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2697194

Country of ref document: CA

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2010520505

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: MX/A/2010/002049

Country of ref document: MX

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2008290746

Country of ref document: AU

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: PI 2010000641

Country of ref document: MY

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1522/CHENP/2010

Country of ref document: IN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2010110581

Country of ref document: RU

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2008290746

Country of ref document: AU

Date of ref document: 20080822

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12733274

Country of ref document: US

ENP Entry into the national phase

Ref document number: PI0815633

Country of ref document: BR

Kind code of ref document: A2

Effective date: 20100219