WO2012172266A1 - Procede de fabrication d'un vitrage comprenant une couche poreuse - Google Patents

Procede de fabrication d'un vitrage comprenant une couche poreuse Download PDF

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Definitions

  • the invention relates to a process for obtaining a glazing comprising a porous layer, in particular with antireflection properties, or an anti-fouling consisting of a porous material consisting essentially of a metal such as silicon or titanium, oxygen and possibly, in a minority amount, carbon and hydrogen.
  • Glazing finds particular applications in the field of building or automotive. It also finds its application in the devices used for the recovery of solar light energy, particularly in the field of photovoltaic cells or solar collectors, or alternatively in the field of self-cleaning glazing with photocatalytic properties.
  • an antireflection coating on a transparent substrate typically glass
  • antireflection stack comprising a succession of low and high index layers, for obtaining glazing with antireflection properties.
  • the various interferential thin layers constituting the stacks are conventionally deposited by vacuum deposition techniques of the sputtering type.
  • antireflection coatings consisting of a single layer of a material consisting essentially of porous silicon oxide.
  • the implementation of such a porous material makes it possible to reduce the refractive index to values close to 1 , 22, and consequently to obtain a nearly zero reflection on the surface of a glass substrate of index 1, 5, this layer keeping most of its porosity during sintering of at least 630 ° C.
  • the method for synthesizing such a layer comprises the essential step of hydrolytic condensation by sol-gel of a silicon compound of the RSiX 4 type.
  • the patent application EP 1 676 291 describes, still for obtaining a porous silicon oxide layer of refractive index lower than that of glass, processes comprising in a first step the deposition on the substrate, in phase vapor (CVD or Chemical Vapor Deposition) or Physical Vapor Deposition (PVD), a primary layer of a material containing oxygen, silicon, carbon and hydrogen.
  • a second step the primary layer is subjected to a heat treatment (heating) which makes it possible, by removing at least a portion of the carbon and hydrogen present in the primary layer, to obtain a porous layer having a porosity of the order of one nanometer.
  • a gas containing the reagent is fed to the substrate, in the presence of heat input most often from the temperature-heated substrate, and then reacts with the surface of the substrate to form the reaction product.
  • PVD processes differ greatly from high vacuum coating processes in which the material to be deposited or its precursors is introduced into the gas phase by physical methods such as a plasma or an ion beam, and then deposited on the substrates. .
  • magnetron sputtering (or sputtering according to the English term) is the most used for the deposition of thin layers on a substrate: according to this method, in a vacuum chamber under constant pressure of a plasma-generating gas, for example argon, a plasma is generated between two electrodes, by means of a DC or high frequency voltage. The positive gas ions produced in the plasma are accelerated and strike a solid disposed on the cathode, called a target.
  • the atoms torn from the solid by the impact of the argon ions diffuse into the plasma, and settle on the substrate disposed on the anode.
  • the atoms of the solid of the cathode can also react with additional species introduced into the plasma. This is called reactive sputtering.
  • the final layer is thus made of a material resulting from a chemical reaction between the elements torn from the target and the gas contained in the plasma.
  • the application EP 1 676 291 describes as a possible method such a PVD process in which the sputtering of a metal silicon or silica target is used, in a reactive atmosphere comprising a mixture of alkenes or a alkene / oxygen mixture, in an argon plasma gas or an argon / oxygen mixture.
  • An additional source of silicon can be introduced into the plasma gas, in order to increase the deposition rate of the layer on the substrate.
  • Such an embodiment poses problems on the layer finally obtained: if one chooses to use a pure silicon target, the tests conducted have shown that it was not possible to obtain low optical index layers, by reference to the optical index of the non-porous material.
  • porous material with a "low" optical index is understood to mean a material the porosity of which causes said index to be reduced by at least 3%, 5% or even 10% with respect to that known from the non-porous material. porous.
  • optical index is understood to mean the optical (refractive) index measured at 550 nm.
  • the use of a silicon oxide target is problematic because the material is not conductive, it constitutes a cathode of very poor quality, resulting in very low deposition rates and the presence of electric arcs in the field. 'installation.
  • the process which is the subject of the invention also makes it possible to obtain porous layers comprising at least titanium as metal element, oxygen and possibly carbon and which have photocatalytic properties, in the sense described for example in EP 850 204 B1.
  • a titanium oxide-based photocatalytic layer consisting of titanium oxide can be obtained, in particular crystallized in anatase form, which is the most active form.
  • a mixture of anatase and rutile phases is also conceivable.
  • Obtaining a porous layer according to the invention also has the advantage of increasing the contact surface between the dirt deposited on the surface of the glazing and photocatalytic particles of Ti0 2 .
  • the titanium oxide may be pure or doped, for example by transition metals (especially W, Mo, V, Nb), lanthanide ions or noble metals (such as platinum or palladium) or fluorine.
  • the photocatalytic layer based on titanium oxide does not contain nitrogen atoms, as this contributes to reducing the optical transmission of the layer.
  • the titanium oxide layer is normally the last layer of a stack deposited on the substrate, that is to say the layer of the stack farthest from the substrate. It is important that the photocatalytic layer is in contact with the atmosphere and its pollutants. It is however possible to deposit on the photocatalytic layer a very thin layer, generally discontinuous or porous. According to techniques already described, different layers can be deposited, cumulatively or alternatively, under the titanium oxide-based layer:
  • Such layers can be deposited by CVD before the photocatalytic layer. They are preferably based on or consisting of an oxide, a nitride, an oxynitride or an oxycarbide of at least one of the following elements: Si, Al, Sn, Zn, Zr. Among these materials, silica or silicon oxycarbide are preferred because of their ease of deposition by the CVD technique.
  • low-emissivity layers such as tin oxide doped with fluorine or antimony layers.
  • tin oxide doped with fluorine or antimony layers make it possible to limit the condensation (fog and / or frost) on the surface of the multiple glazings, in particular when they are inclined (for example when they are integrated with roofs or verandas).
  • the presence of a low-emissivity layer in face 1 makes it possible to limit heat exchanges with the outside during the night, and thus to maintain a surface temperature of the glass greater than the dew point. The appearance of mist or frost is therefore strongly reduced or completely eliminated.
  • the photocatalytic layer may be deposited directly on the doped tin oxide layer.
  • a further advantage of the process according to the invention in this case is therefore to allow the deposition of layers in which the titanium oxide is crystallized in the anatase form (the most active) and deposited directly on a tin oxide layer dope.
  • the present invention in its most general form, proposes a method of manufacturing a glazing unit comprising a substrate, in particular a glass substrate, provided with a coating comprising at least one porous layer, in particular, the refractive index of which is thus reduced, comprising the following steps:
  • a coating comprising a layer of a material comprising at least one element chosen from Si,
  • said layer comprising optionally additionally hydrogen, said deposition being carried out on the substrate moving in said chamber by sputtering a carbon target in an atmosphere of a reactive plasma, preferably oxidizing, comprising at least one precursor of the element or elements,
  • refractive index decreased it is meant that the refractive index of the porous material constituting the layer is less than 3% and preferably at least 5% and very preferably at least 10% relative to the refractive index. to the refractive index of the same non-porous material.
  • precursor of the element (s) is meant any compound that can be vaporized in the atmosphere of the reactive plasma and containing the at least one element.
  • thermal treatment is understood to mean any process that allows the temperature in the layer to rise locally until at least a portion of the carbon initially present in said layer is removed.
  • the porosimetry tests carried out by the applicant company have shown that the average pore size in the material thus obtained is less than 10 nm, or even less than 5 nm in the porous layer deposited by the techniques according to the invention.
  • the power applied on the carbon cathode is between 0.5 and 20 kW / m, in particular between 0.5 and 5 kW / m.
  • the bias applied on the cathode may be direct current or alternating current.
  • the total pressure of the gases in the vacuum chamber is between 0, 1 and 2 Pa.
  • the partial pressure of the precursor (s) in the chamber is between 0.05 and 1.5 Pa.
  • the reactive plasma atmosphere consists essentially of a neutral gas such as argon and at least one of the precursors comprises oxygen.
  • the atmosphere of the reactive plasma comprises mixing a neutral gas such as argon and an oxidizing gas such as oxygen.
  • the atmosphere of the reactive plasma consists essentially of precursors, at least one of which contains oxygen.
  • the heat treatment step is carried out under conditions allowing the elimination of at least a portion of the carbon and hydrogen, until a porous layer is obtained in which the residual carbon content is less than 15 atomic%, preferably less than 10 atomic% and most preferably less than 5 atomic%.
  • the heat treatment of the layer is carried out between 300 and 800 ° C., for a duration of less than 1 hour.
  • the heat treatment is carried out according to the methods defined in application EP 2 1 18 031.
  • Silicon or a mixture of elements mainly comprising silicon is used as the element.
  • including mainly means more than 50% of the sum of said elements present and preferably more than 80% or even more than 90 atomic% of the sum of said elements present.
  • - Silicon or a mixture of elements mainly comprising silicon is used as element and the heat treatment is carried out under conditions allowing the elimination of at least a portion of the carbon and hydrogen, up to obtaining a porous layer with a refractive index of less than 1.42, preferably less than 1.40, or even less than 1.35.
  • Silicon or a mixture of elements mainly comprising silicon and the thickness of the porous layer is used as element, after heat treatment is between 30 and 150 nm, preferably between 50 and 120 nm.
  • - Titanium or a mixture of elements mainly comprising titanium is used as the element.
  • Titanium or a mixture of elements mainly comprising titanium is used as the element, and the heat treatment is carried out under conditions allowing the elimination of at least a portion of the carbon and hydrogen, up to obtaining a porous layer of refractive index less than 2.30, preferably less than 2.20.
  • the element used is titanium or a mixture of elements including mainly titanium and the thickness of the porous layer, after heat treatment is between 5 and 120 nm, and especially between 5 and 25 nm or between 80 and 120 nm.
  • the element used is titanium or a mixture of elements including mainly titanium and the porous layer has a photocatalytic activity of the antifouling type.
  • any organometallic compound comprising at least one atom of the element or elements selected from the above list and at least one group chosen from alkyls (in particular methyl and ethyls). , chlorine, oxygen, hydrogen, alkoxys, aromatic rings (phenyls), alkenyls, alkynyls.
  • Silicon or a mixture of elements mainly comprising silicon and the precursor (s) are chosen from silicon organometallic compounds, in particular chosen from among siloxanes, for example hexamethyldisiloxane (HMDSO) or TDMSO. (tetramethyldisiloxane).
  • HMDSO hexamethyldisiloxane
  • TDMSO tetramethyldisiloxane
  • Silicon or a mixture of elements mainly comprising silicon and the precursor (s) are chosen from alkyl silanes and silicon alkoxides, for example dietoxymethylsilane (DEMS), Si (OC 2 H 5 ) 4 ( TEOS), Si (OCH 3 ) 4 (TMOS), (Si (CH 3 ) 3 ) 2 (HMDS), Si (CH 3 ) 4 (TMS), (SiO (CH 3 ) 2 ) 4 , (SiH (CH) 3 ) 2 ) 2 .
  • the element used is silicon or a mixture of elements mainly comprising silicon and the precursor (s) are chosen from silicon hydrides, in particular SiH 4 or Si 2 H 6 .
  • Silicon or a mixture of elements mainly comprising silicon and the precursor (s) are chosen from silicon chlorides, in particular SiCl 4 , CH 3 SiCl 3 , (CH 3 ) 2 SiCl 2 .
  • Titanium or a mixture of elements mainly comprising titanium and the titanium precursor (s) are chosen from titanium organo-metals or titanium alkyl titanes and / or alcoholates, in particular Ti tetraisopropoxide, titanium di-isopropoxy diacetylacetonate and titanium tetra-octylene glycolate, titanium acetylacetonate, titanium methylacetoacetate, titanium ethylacetoacetate and titanium chloride TiCl 4 .
  • the invention also relates to glazing that can be obtained according to the method as previously described.
  • the invention relates to a glazing unit comprising a coating consisting of at least one layer of a porous material consisting essentially of silicon, oxygen and optionally carbon and hydrogen, with a refractive index of less than 1, 40, obtainable by a method as described above.
  • the invention further relates to a glazing unit comprising a coating consisting of at least one layer of a porous material consisting essentially of titanium, oxygen and optionally carbon and hydrogen, having photocatalytic properties and capable of being obtained by a method as described above.
  • HMDSO Hexamethyldisiloxane
  • argon or an argon / oxygen mixture as carrier gases are introduced into the chamber, until a total pressure of gas ranging from 2 to 10 mTorr (0.27 to 1.33 Pascals).
  • the gas flow rates Ar and O 2 are given in Table 1 below.
  • the flow rate of the precursor is adjusted so that its partial pressure in the chamber is maintained between 0.05 and 1 Pascal.
  • the plasma is ignited and a power of 520 W / m at 1110 W / m is applied on the carbon cathode, with a pulse frequency of 50 kHz and 10 ⁇ duration of the inverted pulses.
  • the glass ribbon scrolls in front of the cathode.
  • a layer of the material produced by the reaction of the atomized carbon atoms of the target with the HDMSO in the reactive plasma is finally deposited on the substrate, the speed of which is adjusted to obtain a layer thickness of a few tens of nanometers.
  • the thus coated substrate is then subjected to a heat treatment consisting of heating at 620 ° C for 10 minutes.
  • the refractive index of the layer deposited on the substrate was measured before and after the heat treatment step at 620 ° C.
  • the refractive indices are measured according to the present invention at 550 nm, according to the invention. DIN 67507 standard.

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Abstract

L'invention se rapporte à un procédé de fabrication d'un vitrage comprenant un substrat, notamment verrier, muni d'un revêtement comprenant au moins une couche constituée par un matériau poreux, notamment dont l'indice de réfraction en est ainsi diminué, comprenant les étapes suivantes : dépôt sur le substrat, par un procédé de dépôt physique en phase vapeur PVD dans une enceinte sous vide, d'un revêtement comprenant une couche d'un matériau comprenant au moins un élément choisi parmi Si, Ti, Sn, Al, Zr, In ou un mélange d'au moins deux de ces éléments, de l'oxygène, du carbone, ladite couche comprenant en outre éventuellement de l'hydrogène, traitement thermique de la couche ainsi déposée, dans des conditions permettant l'élimination d'au moins une partie du carbone et l'obtention de ladite couche du matériau poreux, ledit procédé se caractérisant en ce que ledit dépôt est réalisé sur le substrat défilant dans ladite enceinte par la pulvérisation cathodique d'une cible en carbone, dans une atmosphère d'un plasma réactif de préférence oxydant comprenant au moins un précurseur du ou des éléments.

Description

PROCEDE DE FABRICATION D' UN VITRAGE
COMPRENANT UNE COUCHE POREUSE L'invention concerne un procédé d'obtention d'un vitrage comprenant une couche poreuse, notamment à propriétés antireflets, ou antisalissure constituée par un matériau poreux constitué essentiellement d'un métal tel que le silicium ou le titane, d'oxygène et éventuellement, en quantité minoritaire, du carbone et de l'hydrogène. Le vitrage trouve notamment ses applications dans le domaine du bâtiment ou de l'automobile. Il trouve également son application dans les dispositifs utilisés pour le recouvrement de l'énergie lumineuse solaire, notamment dans le domaine des cellules photovoltaïques ou des collecteurs solaires, ou encore alternativement dans le domaine des vitrages autonettoyants à propriétés photocatalytiques.
Il est bien connu qu'une partie de la lumière traversant un substrat, notamment verrier, est réfléchie à la surface de celui-ci. Une telle réflexion diminue de façon sensible le rendement des systèmes photovoltaïques ou des collecteurs solaires protégés par le substrat. Dans le domaine du bâtiment ou de l'automobile, il est également recherché parfois une diminution de la réflexion lumineuse.
Le principe de dépôt d'un revêtement antireflet sur un substrat transparent, typiquement verrier est bien connu de l'art : il s'agit de disposer sur le substrat d'indice de réfraction d'environ n = 1 ,5, une couche ou un empilement de couches interférentielles permettant de diminuer le pourcentage de lumière RL réfléchie à la surface du substrat et d'en augmenter le facteur de transmission lumineuse TL.
Par l'ajustement du nombre, de la nature chimique (et donc de leur indice optique), et des épaisseurs des différentes couches successives de l'empilement, il est possible de ramener la réflexion lumineuse à des valeurs extrêmement faibles, que ce soit dans le domaine du visible (350 à 800 nm) ou dans le domaine de l'infrarouge proche (800 à 2500 nm).
Par exemple, il a déjà été décrit par la société déposante, notamment dans la demande EP 1206715 A1 , des empilements antireflets comprenant une succession de couches à bas et haut indices, permettant l'obtention de vitrages à propriétés antireflets. Les différentes couches minces interférentielles constituant les empilements sont classiquement déposées par les techniques de dépôt sous vide du type pulvérisation cathodique.
Selon une autre technique, il a été également été proposé, notamment dans le brevet EP 1 181 256 B1 , des revêtements antireflets constitués par une unique couche d'un matériau essentiellement constitué d'oxyde de silicium poreux. Selon cet art antérieur, la mise en œuvre d'un tel matériau poreux, dont l'épaisseur de la couche est ajustée en fonction de la longueur du rayonnement incident, permet de diminuer l'indice de réfraction jusqu'à des valeurs voisines de 1 ,22, et par suite d'obtenir une réflexion presque nulle à la surface d'un substrat de verre d'indice 1 ,5, cette couche gardant l'essentiel de sa porosité lors d'un frittage d'au moins 630° C. Le procédé de synthèse d'une telle couche comprend l'étape essentielle de la condensation hydrolytique par voie sol-gel d'un composé du silicium du type RSiX4.
La demande de brevet EP 1 676 291 décrit, toujours pour l'obtention d'une couche en oxyde de silicium poreux d'indice de réfraction inférieur à celui du verre, des procédés comprenant selon une première étape le dépôt sur le substrat, en phase vapeur (CVD ou Chemical Vapor Déposition, selon le terme anglais) ou de dépôt physique en phase vapeur (ou PVD de l'anglais Physical Vapor Déposition), d'une couche primaire d'un matériau contenant de l'oxygène, du silicium, du carbone et de l'hydrogène. Selon une seconde étape, la couche primaire est soumise à un traitement thermique (chauffage) permettant l'obtention, par élimination d'au moins une partie du carbone et de l'hydrogène présent dans la couche primaire, d'une couche poreuse, présentant une porosité de l'ordre du nanomètre. Selon le procédé CVD, un gaz contenant le réactif est amené sur le substrat, en présence d'apport de chaleur issu le plus souvent du substrat porté à température, et réagit alors à la surface de celui pour y former le produit réactionnel.
Les procédés PVD englobent de façon différente des procédés de revêtement sous vide poussé, dans lesquels le matériau à déposer ou ses précurseurs sont introduits en phase gazeuse par des méthodes physiques comme un plasma ou un faisceau d'ion, pour être ensuite déposé sur les substrats. Parmi ces procédés, la pulvérisation cathodique magnétron (ou sputtering selon le terme anglais) est la plus utilisée pour le dépôt de couches minces sur un substrat : selon ce procédé, dans une chambre à vide sous pression constante d'un gaz générateur de plasma, par exemple l'argon, on génère un plasma entre deux électrodes, au moyen d'une tension continue ou à haute fréquence. Les ions de gaz positifs produits dans le plasma sont accélérés et viennent frapper un solide disposé sur la cathode, appelée cible. Les atomes arrachés du solide par l'impact des ions d'argon diffusent dans le plasma, et se déposent sur le substrat disposé sur l'anode. Les atomes du solide de la cathode peuvent également réagir avec des espèces supplémentaires introduites dans le plasma. On parle alors de pulvérisation réactive. La couche finale est ainsi constituée d'un matériau résultant d'une réaction chimique entre les éléments arrachés de la cible et le gaz contenu dans le plasma.
Tout particulièrement, la demande EP 1 676 291 décrit comme mode possible un tel procédé PVD dans lequel comprenant la pulvérisation d'une cible en silicium métallique ou en en silice est utilisée, dans une atmosphère réactive comprenant un mélange d'alcènes ou d'un mélange alcène/oxygène, dans un gaz plasma d'argon ou d'un mélange argon/oxygène. Une source supplémentaire de silicium peut être introduite dans le gaz plasma, afin d'augmenter la vitesse de dépôt de la couche sur le substrat. Une telle réalisation pose cependant des problèmes sur la couche finalement obtenue : si on choisit d'utiliser une cible en silicium pur, les essais menés ont montrés qu'il n'était pas possible d'obtenir de couches à bas indice optique, par référence à l'indice optique du matériau non poreux. Par matériau poreux à « bas » indice optique, on entend au sens de la présente invention un matériau dont la porosité entraîne l'abaissement dudit indice d'au moins 3%, 5% ou même 10% par rapport à celui connu du matériau non poreux. On entend par indice optique au sens de la présente invention l'indice optique (de réfraction) mesuré à 550 nm.
De même, l'utilisation d'une cible en oxyde de silicium est problématique car le matériau n'étant pas conducteur, il constitue une cathode de très mauvaise qualité, entraînant des vitesses de dépôt très faibles et la présence d'arcs électriques dans l'installation.
En outre, quelque soit la cible utilisée (oxyde de silicium ou silicium métallique), une partie nécessairement importante du matériau déposé est du dioxyde de silicium dense dont l'indice de réfraction est élevé (1 ,47). De ce fait il n'apparaît pas possible selon de telles techniques de fabrication d'obtenir au final une couche poreuse dans sa totalité, et par suite les plus basses valeurs théoriquement possibles de l'indice de réfraction.
Selon un autre avantage, dans le cas d'une couche unique déposée sur un substrat verrier, il est utile de disposer de matériaux faciles et peu coûteux à déposer, dont l'indice de réfraction est inférieur à celui du substrat verrier, de manière à limiter la réflexion à la surface du substrat. Alternativement, dans le cas d'un empilement de couches à fonction antireflet, la mise à disposition dans l'empilement d'au moins une couche poreuse obtenue selon l'invention et d'indice de réfraction ajustable, c'est-à-dire en particulier dont l'indice peut être inférieure de plusieurs pourcents à celui du matériau non poreux la constituant, permet l'obtention de degrés de liberté supplémentaires pour ajuster l'effet antireflet. Alternativement, il peut être également utile d'obtenir des revêtements externes présentant une autre fonctionnalité que l'effet antireflet. En particulier, la société déposante a découvert que le procédé objet de l'invention permet également l'obtention de couches poreuses comprenant au moins du titane comme élément métallique, de l'oxygène et éventuellement du carbone et qui présentent des propriétés photocatalytiques, au sens décrit par exemple dans le brevet EP 850 204 B1.
De manière connue, une couche photocatalytique à base d'oxyde de titane constituée d'oxyde de titane peut être obtenue, notamment cristallisé sous forme anatase, qui est la forme la plus active. Un mélange de phases anatase et rutile est également concevable. L'obtention d'une couche poreuse selon l'invention présente en outre l'intérêt d'augmenter la surface de contact entre les salissures se déposant sur la surface du vitrage et les particules photocatalytiques de Ti02. L'oxyde de titane peut être pur ou dopé, par exemple par des métaux de transition (notamment W, Mo, V, Nb), des ions lanthanides ou des métaux nobles (tels que par exemple platine, palladium) ou encore du fluor. Ces différentes formes de dopage permettent soit d'augmenter l'activité photocatalytique du matériau, soit de décaler le gap de l'oxyde de titane vers des longueurs d'onde proches du domaine du visible ou comprises dans ce domaine. De préférence, la couche photocatalytique à base d'oxyde de titane ne contient pas d'atomes d'azote, car cela contribue à diminuer la transmission optique de la couche.
La couche à base d'oxyde de titane est normalement la dernière couche d'un l'empilement déposé sur le substrat, autrement dit la couche de l'empilement la plus éloignée du substrat. Il importe en effet que la couche photocatalytique soit en contact avec l'atmosphère et ses polluants. Il est toutefois possible de déposer sur la couche photocatalytique une très fine couche, généralement discontinue ou poreuse. Selon des techniques déjà décrites, différentes couches peuvent être déposées, cumulativement ou alternativement, sous la couche à base d'oxyde de titane :
- une ou plusieurs couches faisant office de barrière à la migration des ions alcalins provenant du substrat. De telles couches peuvent être déposées par CVD avant la couche photocatalytique. Elles sont de préférence à base de ou constituées par un oxyde, un nitrure, un oxynitrure ou un oxycarbure de l'un au moins des éléments suivants : Si, Al, Sn, Zn, Zr. Parmi ces matériaux, la silice ou l'oxycarbure de silicium sont préférés de par leur facilité de dépôt par la technique CVD.
- une ou plusieurs couches à faible émissivité, telles que des couches en oxyde d'étain dopé au fluor ou à l'antimoine. De telles couches permettent de limiter la condensation (buée et/ou givre) sur la surface des vitrages multiples, en particulier lorsqu'ils sont inclinés (par exemple lorsqu'ils sont intégrés à des toitures ou des vérandas). La présence d'une couche bas-émissive en face 1 permet de limiter les échanges de chaleur avec l'extérieur pendant la nuit, et donc de maintenir une température de surface du verre supérieure au point de rosée. L'apparition de buée ou de givre est donc fortement atténuée voire totalement supprimée. La couche photocatalytique peut être déposée directement sur la couche d'oxyde d'étain dopé. Ce dernier impose d'habitude la forme rutile, moins active, mais la cristallisation en phase gazeuse obtenue par le procédé selon l'invention permet de pallier cet inconvénient. Un avantage supplémentaire du procédé selon l'invention dans ce cas est donc de permettre le dépôt de couches dans lesquelles l'oxyde de titane est cristallisé sous la forme anatase (la plus active) et déposé directement sur une couche d'oxyde d'étain dopé.
La présente invention, dans sa forme la plus générale, propose un procédé de fabrication d'un vitrage comprenant un substrat, en particulier verrier, muni d'un revêtement comprenant au moins une couche poreuse, notamment dont l'indice de réfraction en est ainsi diminuée, comprenant les étapes suivantes :
- dépôt sur le substrat, par un procédé de dépôt physique en phase vapeur PVD dans une enceinte sous vide, d'un revêtement comprenant une couche d'un matériau comprenant au moins un élément choisi parmi Si,
Ti, Sn, Al, Zr, In, Zn, Nb, W, Ta, Bi, en particulier Si ou Ti, ou le mélange d'au moins deux de ces éléments, de l'oxygène, du carbone, ladite couche comprenant en outre éventuellement de l'hydrogène, ledit dépôt étant réalisé sur le substrat défilant dans ladite enceinte par la pulvérisation cathodique d'une cible en carbone, dans une atmosphère d'un plasma réactif de préférence oxydant comprenant au moins un précurseur du ou des éléments,
- traitement thermique de la couche ainsi déposée, dans des conditions permettant l'élimination d'au moins une partie du carbone et l'obtention de ladite couche poreuse.
Par indice de réfraction diminué, on entend que l'indice de réfraction du matériau poreux constituant la couche est inférieur d'au moins 3% et de préférence d'au moins 5% et de manière très préférée d'au moins 10% par rapport à l'indice de réfraction du même matériau non poreux. Par précurseur du ou des éléments, on entend tout composé pouvant être vaporisé dans l'atmosphère du plasma réactif et contenant le ou lesdits éléments.
Par traitement thermique, on entend au sens de la présente invention tout procédé permettant l'élévation locale de la température dans la couche jusqu'à l'élimination d'au moins une partie du carbone présent initialement dans ladite couche.
Sans que cela puisse être considéré comme une règle générale, les essais de porosimétrie effectués par la société déposante ont montré que la taille moyenne des pores dans le matériau ainsi obtenu est inférieure à 10 nm, voire inférieure à 5 nm dans la couche poreuse déposée par les techniques selon l'invention.
Le procédé selon l'invention peut être avantageusement mis en œuvre selon l'un des modes réalisations préféré qui suit, étant bien entendu que ces modes peuvent être combinés entre eux, le cas échéant :
La puissance appliquée sur la cathode de carbone est comprise entre 0,5 et 20 kW/m, notamment entre 0,5 et 5 kW/m. La polarisation appliquée sur la cathode peut être en courant continu ou en courant alternatif. - La pression totale des gaz dans l'enceinte sous vide est comprise entre 0, 1 et 2 Pa.
La pression partielle du ou des précurseurs dans l'enceinte est comprise entre 0,05 et 1 ,5 Pa.
Selon un premier mode, l'atmosphère de plasma réactif est constituée essentiellement d'un gaz neutre tel que l'argon et au moins un des précurseurs comprend de l'oxygène.
Selon un mode alternatif, l'atmosphère du plasma réactif comprend le mélange d'un gaz neutre tel que l'argon et d'un gaz oxydant tel que l'oxygène. - Selon un autre mode alternatif, l'atmosphère du plasma réactif est constituée essentiellement de précurseurs dont au moins l'un contient de l'oxygène.
L'étape de traitement thermique est mise en œuvre dans des conditions permettant l'élimination d'au moins une partie du carbone et de l'hydrogène, jusqu'à l'obtention d'une couche poreuse dans lequel le taux de carbone résiduel est inférieur à 15% atomique, de préférence est inférieur à 10% atomique et de manière très préférée est inférieur à 5 % atomique. Le traitement thermique de la couche est opéré entre 300 et 800° C, pendant une durée inférieure à 1 heure.
Le traitement thermique est opéré selon les modalités définies dans la demande EP 2 1 18 031 . - On utilise comme élément le silicium ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le silicium. Par « incluant majoritairement », on entend plus de 50% de la somme desdits éléments présents et de préférence plus de 80% ou même plus de 90% atomique de la somme desdits éléments présents. - On utilise comme élément le silicium ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le silicium et le traitement thermique est mis en œuvre dans des conditions permettant l'élimination d'au moins une partie du carbone et de l'hydrogène, jusqu'à l'obtention d'une couche poreuse d'indice de réfraction inférieure à 1 ,42, de préférence inférieure à 1 ,40, ou même inférieur à 1 ,35.
On utilise comme élément le silicium ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le silicium et l'épaisseur de la couche poreuse, après traitement thermique est comprise entre 30 et 150 nm, de préférence entre 50 et 120 nm. - On utilise comme élément le titane ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le titane. Par incluant majoritairement, on entend plus de 50% de la somme desdits éléments présents et de préférence plus de 80% ou même plus de 90% atomique de la somme desdits éléments présents. - On utilise comme élément le titane ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le titane et le traitement thermique est mis en œuvre dans des conditions permettant l'élimination d'au moins une partie du carbone et de l'hydrogène, jusqu'à l'obtention d'une couche poreuse d'indice de réfraction inférieure à 2,30, de préférence inférieure à 2,20.
On utilise comme élément le titane ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le titane et l'épaisseur de la couche poreuse, après traitement thermique est comprise entre 5 et 120 nm, et notamment entre 5 et 25 nm ou entre 80 et 120 nm.
On utilise comme élément le titane ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le titane et la couche poreuse présente une activité photocatalytique du type antisalissure. De manière générale il est possible selon l'invention d'utiliser comme précurseur tout composé organométallique comprenant au moins un atome du ou des éléments sélectionnés dans la liste précédente et au moins un groupement choisi parmi les alkyls (en particulier les méthyl et les éthyls), le chlore, l'oxygène, l'hydrogène, les alcoxys, les cycles aromatiques (phenyls), les alkényl, les alkynyls.
En particulier selon certains modes de réalisations particuliers de l'invention:
On utilise comme élément le silicium ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le silicium et le ou les précurseurs sont choisis parmi les organométalliques de silicium, en particulier choisi(s) parmi les siloxanes, par exemple l'hexamethyldisiloxane (HMDSO) ou le TDMSO (tétraméthyldisiloxane).
On utilise comme élément le silicium ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le silicium et le ou les précurseurs sont choisis parmi les alkyl silanes et les alcoolates de silicium, par exemple le diétoxymethylsilane (DEMS), Si(OC2H5)4 (TEOS), Si(OCH3)4 (TMOS), (Si(CH3)3)2 (HMDS), Si(CH3)4 (TMS), (SiO(CH3)2)4, (SiH (CH3)2)2. On utilise comme élément le silicium ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le silicium et le ou les précurseurs sont choisis parmi les hydrures de silicium, en particulier SiH4 ou Si2H6.
On utilise comme élément le silicium ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le silicium et le ou les précurseurs sont choisis parmi les chlorures de silicium, en particulier SiCl4, CH3SiCl3, (CH3)2SiCl2.
Selon d'autres modes de réalisations particuliers de l'invention:
On utilise comme élément le titane ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le titane et le ou les précurseurs du titane sont choisis parmi les organo-métalliques de titane ou les alkyltitanes et/ou les alcoolates de titane, en particulier tétraisopropylate de Ti, le di-iso- propoxy di-acétylacétonate de titane et le tétra-octylène glycolate de titane, l'acétylacétonate de titane, le méthylacétoacétate de titane, l'éthylacétoacétate de titane le chlorure de titane TiCl4. L'invention se rapporte également au vitrage susceptible d'être obtenu selon le procédé tel que précédemment exposé.
En particulier, l'invention concerne un vitrage comprenant un revêtement constitué par au moins une couche d'un matériau poreux constitué essentiellement de silicium, d'oxygène et éventuellement de carbone et de l'hydrogène, d'indice de réfraction inférieure à 1 ,40, susceptible d'être obtenu par un procédé tel que décrit précédemment.
L'invention concerne en outre un vitrage comprenant un revêtement constitué par au moins une couche d'un matériau poreux constitué essentiellement de titane, d'oxygène et éventuellement de carbone et de l'hydrogène, présentant des propriétés photocatalytiques et susceptible d'être obtenu par un procédé tel que décrit précédemment.
L'invention et ses avantages seront mieux compris à la lecture des exemples non limitatifs qui suivent. Exemples :
Différentes couches selon l'invention ont été déposées sur des substrats en verre sodo-calcique d'une épaisseur de 4 mm, commercialisé sous la référence PLAN I LUX® par la société déposante, dans des enceintes de pulvérisation cathodique assistée par champ magnétique (magnétron). Avant chaque dépôt un vide résiduel est effectué dans l'enceinte, jusqu'à atteindre une valeur de 0,5 millipascals (mPa), selon les techniques bien connues dans le domaine. Une cible en carbone est installée au niveau de la cathode selon l'invention. Différents mélanges de gaz comprenant l'organométallique de silicium (HMDSO : Hexamethyldisiloxane) source de silicium, en mélange éventuellement avec l'argon ou un mélange argon/oxygène comme gaz porteurs sont introduits dans l'enceinte, jusqu'à atteindre une pression totale des gaz variant entre 2 et 10 mTorrs (0,27 à 1 ,33 Pascals).
Les débits des gaz Ar et 02 sont donnés dans le tableau 1 qui suit. Le débit du précurseur est ajusté de manière à ce que sa pression partielle dans l'enceinte soit maintenue entre 0,05 et 1 Pascal.
Le plasma est allumé et une puissance de 520 W/m à 1110 W/m est appliquée sur la cathode en Carbone, avec une fréquence de pulsation de 50 kHz et 10 μ≤ de durée des puises inversés.
Le ruban de verre défile en face de la cathode. Une couche du matériau produit par la réaction des atomes de carbone pulvérisés de la cible ave le HDMSO dans le plasma réactif est déposé finalement sur le substrat, dont la vitesse est ajustée pour recueillir une épaisseur de couche de quelques dizaines de nanomètres.
Le substrat ainsi revêtu est ensuite soumis à un traitement thermique consistant en un chauffage à 620° C pendant 10 minutes.
Le tableau 1 qui suit résume les données expérimentales pour chacun des vitrages réalisés selon l'invention : débit Pression Puissance Vitesse
Fréquence
Exemple (sccm) totale cathode Substrat
(kHz)
o2 Ar (mTorr) Watt/m (mm/s)
1 0 50 5 520 50 1
2 0 50 2 520 50 0,5
3 0 50 10 550 50 1
4 0 20 5 1110 50 1
5 0 20 5 1110 50 1
6 5 20 5 1110 50 1
7 5 2 3 1110 50 1
8 0 0 5,5 1110 50 1
9 0 0 3 1110 50 1
10 0 0 5,5 1110 50 1,6
11 5 20 5 1110 50 1,3
12 0 20 5 1110 50 1,3
13 0 50 2 520 50 0,25
Tableau 1
Pour tous les exemples, on a mesuré l'indice de réfraction de la couche déposée sur le substrat avant et après l'étape de traitement thermique à 620° C. Les indices de réfraction sont mesurés selon la présente invention à 550 nm, selon la norme DIN 67507.
Les résultats sont donnés dans le tableau 2 ci dessous : Indice n Indice n Epaisseur couche Epaisseur couche
Exemple avant recuit après recuit avant recuit après recuit (nm)
(nm)
1 1,47 1,26 54 45
2 1,50 1,28 58 51
3 - 1,34 - 40
4 1,59 1,31 61 47
5 1,53 1,32 151 123
6 1,44 1,31 119 91
7 1,46 1,33 103 82
8 - 1,32 - 100
9 - 1,34 - 52
10 1,49 1,32 138 77
11 1,48 1,37 140 101
12 1,54 1,33 126 105
13 1,56 1,36 109 92
Tableau 2
Les résultats reportés dans le tableau 2 montrent de façon étonnante que l'utilisation d'un procédé par les techniques de pulvérisation cathodique selon l'invention, dans lequel, de façon tout à fait nouvelle, une cible en carbone est utilisée en combinaison avec un plasma contenant un organométallique de silicium, permet l'obtention de couches essentiellement en silice poreuse de faible indice de réfraction, c'est-à-dire d'indice de réfraction inférieur à 1,42, voir inférieur à 1,40 ou même inférieur à 1,35.
La présente invention est décrite dans ce qui précède à titre d'exemple. Il est entendu que l'homme du métier est à même de réaliser différentes variantes de l'invention sans pour autant sortir du cadre du brevet tel que défini par les revendications.

Claims

REVENDICATIONS
1. Procédé de fabrication d'un vitrage comprenant un substrat, en particulier verrier, muni d'un revêtement comprenant au moins une couche constituée par un matériau poreux, notamment dont l'indice de réfraction en est ainsi diminué, comprenant les étapes suivantes : dépôt sur le substrat, par un procédé de dépôt physique en phase vapeur PVD dans une enceinte sous vide, d'un revêtement comprenant une couche d'un matériau comprenant au moins un élément choisi parmi Si, Ti, Sn, Al, Zr, In ou un mélange d'au moins deux de ces éléments, de l'oxygène, du carbone, ladite couche comprenant en outre éventuellement de l'hydrogène, traitement thermique de la couche ainsi déposée, dans des conditions permettant l'élimination d'au moins une partie du carbone et l'obtention de ladite couche du matériau poreux, ledit procédé se caractérisant en ce que ledit dépôt est réalisé, sur le substrat défilant dans ladite enceinte, par la pulvérisation cathodique d'une cible en carbone, dans une atmosphère d'un plasma réactif de préférence oxydant comprenant au moins un précurseur du ou des éléments.
2. Procédé selon la revendication 1 , dans lequel la puissance appliquée sur la cathode est comprise entre 0,5 et 20 KW/m.
3. Procédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la pression totale des gaz dans l'enceinte sous vide est comprise entre 0,1 et 2 Pascals.
4. Procédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la pression partielle du ou des précurseurs dans l'enceinte est comprise entre 0,05 et 1 ,5 Pa.
5. Procédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'atmosphère de plasma réactif est constituée essentiellement d'un gaz neutre tel que l'argon et au moins un des précurseurs comprend de l'oxygène.
6. Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, dans lequel l'atmosphère du plasma réactif comprend le mélange d'un gaz neutre tel que l'argon et d'un gaz oxydant tel que l'oxygène.
7. Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, dans lequel l'atmosphère du plasma réactif est constituée essentiellement de précurseurs dont au moins l'un contient de l'oxygène.
8. Procédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel l'étape de traitement thermique est mise en œuvre dans des conditions permettant l'élimination d'au moins une partie du carbone, jusqu'à l'obtention d'une couche poreuse dans lequel le taux de carbone est inférieur à 15% atomique, de préférence inférieure à 10% atomique et de manière préférée inférieure à 5% atomique.
9. Procédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel le traitement thermique de la couche est opéré par un chauffage entre 300° C et 800° C, pendant une durée inférieure à 1 heure.
10. Procédé selon l'une des revendications précédentes dans lequel on utilise comme élément le silicium ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le silicium.
1 1 . Procédé selon la revendication 10 dans lequel le traitement thermique est mis en œuvre dans des conditions permettant l'élimination d'au moins une partie du carbone et de l'hydrogène, jusqu'à l'obtention d'une couche poreuse d'indice de réfraction inférieure à 1 ,42, de préférence inférieure à 1 ,40, ou même inférieur à 1 ,35.
12. Procédé selon l'une des revendications 10 ou 1 1 dans lequel le ou les précurseurs sont choisis parmi les organométalliques de silicium, en particulier choisi(s) parmi les siloxanes, par exemple l'hexamethyldisiloxane (HMDSO), ou le TDMSO (tétraméthyldisiloxane), les alkylsilanes, par exemple le diétoxymethylsilane (DEMS), Si(CH3)3)2 (HMDS), Si(CH3)4 (TMS), (SiO(CH3)2)4, (SiH(CH3)2)2, les alcoolates de silicium, par exemple Si(OC2H5)4 (TEOS), Si(OCH3)4 (TMOS), ou encore les hydrures de silicium, en particulier SiH4 ou Si2H6, ou les chlorures de silicium, en particulier SiCl4, CH3SiCl3, (CH3)2SiCl2.
13. Procédé selon l'une des revendications 10 à 12 dans lequel l'épaisseur de la couche poreuse, après traitement thermique est comprise entre 30 et 150 nm, de préférence entre 50 et 120 nm.
14. Procédé selon l'une des revendications 1 à 9 dans lequel on utilise comme élément le titane ou un mélange d'éléments incluant majoritairement le titane.
15. procédé selon la revendication 14 dans lequel le traitement thermique est mis en œuvre dans des conditions permettant l'élimination d'au moins une partie du carbone et de l'hydrogène, jusqu'à l'obtention d'une couche poreuse d'indice de réfraction inférieure à 2,30, de préférence inférieure à 2,20.
16. Procédé selon l'une des revendications 14 ou 15 dans lequel le ou les précurseurs du titane sont choisis parmi les organo-métalliques de titane ou les alkyl titanes et/ou les alcoolates de titane, en particulier le tétraisopropylate de Ti, le di-iso-propoxy di-acétylacétonate de titane et le tétra-octylène glycolate de titane, l'acétylacétonate de titane, le méthylacétoacétate de titane, l'éthylacétoacétate de titane.
17. Procédé selon l'une des revendications 14 à 16 dans lequel la couche poreuse présente une activité photocatalytique du type antisalissure.
18. Vitrage comprenant un revêtement constitué par au moins une couche d'un matériau poreux susceptible d'être obtenu par l'une des revendications 1 à 17.
19. Vitrage comprenant un revêtement constitué par au moins une couche d'un matériau poreux constitué essentiellement de silicium, d'oxygène et éventuellement de carbone et d'hydrogène résiduels, d'indice de réfraction inférieure à 1 ,40, susceptible d'être obtenu par un procédé selon l'une des revendications 10 à 13.
20. Vitrage comprenant un revêtement constitué par au moins une couche d' un matériau poreux constitué essentiellement de titane, d'oxygène et éventuellement de carbone et d'hydrogène résiduels, susceptible d'être obtenu par un procédé selon l'une des revendications 14 à 17.
PCT/FR2012/051348 2011-06-17 2012-06-15 Procede de fabrication d'un vitrage comprenant une couche poreuse Ceased WO2012172266A1 (fr)

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US14/126,767 US9394602B2 (en) 2011-06-17 2012-06-15 Process for manufacturing glazing comprising a porous layer
EP12738500.3A EP2720986B1 (fr) 2011-06-17 2012-06-15 Procede de fabrication d'un vitrage comprenant une couche poreuse
EA201490034A EA026182B1 (ru) 2011-06-17 2012-06-15 Способ получения оконного стекла, содержащего пористый слой
PL12738500T PL2720986T3 (pl) 2011-06-17 2012-06-15 Proces wytwarzania oszklenia zawierającego warstwę porowatą
ES12738500T ES2767300T3 (es) 2011-06-17 2012-06-15 Procedimiento de fabricación de un acristalamiento que comprende una capa porosa
CN201280029458.9A CN103619772B (zh) 2011-06-17 2012-06-15 用于制备包含多孔层的窗玻璃的方法
JP2014515268A JP6073301B2 (ja) 2011-06-17 2012-06-15 多孔質層を含むグレージングの製造方法

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024089162A1 (fr) 2022-10-26 2024-05-02 Saint-Gobain Glass France Vitrage feuillete illuminable de vehicule et vehicule avec un tel vitrage
WO2024089161A1 (fr) 2022-10-26 2024-05-02 Saint-Gobain Glass France Vitrage feuillete illuminable de vehicule et vehicule avec un tel vitrage

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6036803B2 (ja) * 2012-02-28 2016-11-30 旭硝子株式会社 積層体の製造方法、および積層体
FR3021967B1 (fr) * 2014-06-06 2021-04-23 Saint Gobain Procede d'obtention d'un substrat revetu d'une couche fonctionnelle
JP6805127B2 (ja) 2015-03-06 2020-12-23 日本板硝子株式会社 コーティング膜付きガラス板及びその製造方法
US10908320B2 (en) * 2015-10-01 2021-02-02 Nippon Sheet Glass Company, Limited Coated glass sheet and method for producing same
EP3197022A1 (fr) * 2016-01-20 2017-07-26 Siemens Aktiengesellschaft Procédé de production d'une boîte pour un moteur électrique
FR3051804B1 (fr) * 2016-05-24 2018-06-29 Saint-Gobain Glass France Procede de depot de couches minces
US11422294B2 (en) * 2017-10-10 2022-08-23 Central Glass Company, Limited Durable functional coatings
FR3078409B1 (fr) * 2018-02-26 2021-07-09 Valeo Vision Element optique pour vehicule automobile
WO2021025849A1 (fr) * 2019-08-05 2021-02-11 Applied Materials, Inc. Revêtement pour réduction de particules de chambre
CN110922054A (zh) * 2019-11-21 2020-03-27 新福兴玻璃工业集团有限公司 一种防尘增透光伏玻璃的生产工艺
US20220397704A1 (en) * 2019-12-02 2022-12-15 Nippon Light Metal Company, Ltd. Optical member and production method therefor

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6054206A (en) * 1998-06-22 2000-04-25 Novellus Systems, Inc. Chemical vapor deposition of low density silicon dioxide films
EP0850204B1 (fr) 1995-09-15 2001-12-05 Saint-Gobain Glass France Substrat a revetement photocatalytique
EP1206715A1 (fr) 1999-11-17 2002-05-22 Saint-Gobain Glass France Substrat transparent comportant un revetement antireflet
US20020164429A1 (en) * 2001-02-22 2002-11-07 Applied Materials, Inc. Methods for forming a low dielectric constant carbon-containing film, and films produced thereby
US20040115954A1 (en) * 2002-12-12 2004-06-17 Todd Michael A. Cvd of porous dielectric materials
US20040235291A1 (en) * 2000-01-18 2004-11-25 Mandal Robert P. Very low dielectric constant plasma-enhanced CVD films
US20050079201A1 (en) * 2003-05-28 2005-04-14 Jorg Rathenow Implants with functionalized carbon surfaces
EP1181256B1 (fr) 1999-04-26 2006-03-29 CENTROSOLAR Glas GmbH & Co. KG Verre de securite trempe, pourvu d'une couche en sio2 antireflets, resistante a l'abrasion et poreuse, et son procede de fabrication
EP1676291A2 (fr) 2003-10-20 2006-07-05 Ionwerks, Inc. Spectrometrie de masse maldi/tof a mobilite ionique utilisant une cellule de mobilite qui alterne les zones de champ electrique fort et faible
EP1679291A1 (fr) * 2005-01-10 2006-07-12 INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG Procédé pour la fabrication d une couche à reflection basse
EP2118031A2 (fr) 2007-01-05 2009-11-18 Saint-Gobain Glass France Procede de depot de couche mince et produit obtenu

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6483529A (en) * 1987-09-28 1989-03-29 Hoya Corp Production of glass forming mold
FR2631346B1 (fr) * 1988-05-11 1994-05-20 Air Liquide Revetement protecteur multicouche pour substrat, procede de protection de substrat par depot par plasma d'un tel revetement, revetements obtenus et leurs applications
FR2699164B1 (fr) * 1992-12-11 1995-02-24 Saint Gobain Vitrage Int Procédé de traitement de couches minces à base d'oxyde ou de nitrure métallique.
EP0845803A4 (fr) * 1996-04-18 2002-03-27 Matsushita Electric Industrial Co Ltd ELEMENT EN SiC ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
TW533228B (en) * 1998-07-27 2003-05-21 Advanced Refractory Tech Hardcoats for flat panel display substrates
FR2838735B1 (fr) * 2002-04-17 2005-04-15 Saint Gobain Substrat a revetement auto-nettoyant
DE10322182A1 (de) * 2003-05-16 2004-12-02 Blue Membranes Gmbh Verfahren zur Herstellung von porösem, kohlenstoffbasiertem Material

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0850204B1 (fr) 1995-09-15 2001-12-05 Saint-Gobain Glass France Substrat a revetement photocatalytique
US6054206A (en) * 1998-06-22 2000-04-25 Novellus Systems, Inc. Chemical vapor deposition of low density silicon dioxide films
EP1181256B1 (fr) 1999-04-26 2006-03-29 CENTROSOLAR Glas GmbH & Co. KG Verre de securite trempe, pourvu d'une couche en sio2 antireflets, resistante a l'abrasion et poreuse, et son procede de fabrication
EP1206715A1 (fr) 1999-11-17 2002-05-22 Saint-Gobain Glass France Substrat transparent comportant un revetement antireflet
US20040235291A1 (en) * 2000-01-18 2004-11-25 Mandal Robert P. Very low dielectric constant plasma-enhanced CVD films
US20050136240A1 (en) * 2000-01-18 2005-06-23 Mandal Robert P. Very low dielectric constant plasma-enhanced CVD films
US20020164429A1 (en) * 2001-02-22 2002-11-07 Applied Materials, Inc. Methods for forming a low dielectric constant carbon-containing film, and films produced thereby
US20040115954A1 (en) * 2002-12-12 2004-06-17 Todd Michael A. Cvd of porous dielectric materials
US20050079201A1 (en) * 2003-05-28 2005-04-14 Jorg Rathenow Implants with functionalized carbon surfaces
EP1676291A2 (fr) 2003-10-20 2006-07-05 Ionwerks, Inc. Spectrometrie de masse maldi/tof a mobilite ionique utilisant une cellule de mobilite qui alterne les zones de champ electrique fort et faible
EP1679291A1 (fr) * 2005-01-10 2006-07-12 INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG Procédé pour la fabrication d une couche à reflection basse
EP2118031A2 (fr) 2007-01-05 2009-11-18 Saint-Gobain Glass France Procede de depot de couche mince et produit obtenu

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
E. KOEP, M. VARELA, J. R. MORANTE: "Nanoporous films obtained by sacrificial layer pulsed laser deposition", THIN SOLID FILMS, vol. 518, 2009, pages 383 - 386, XP026666714, DOI: 10.1016/j.tsf.2009.07.058 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024089162A1 (fr) 2022-10-26 2024-05-02 Saint-Gobain Glass France Vitrage feuillete illuminable de vehicule et vehicule avec un tel vitrage
WO2024089161A1 (fr) 2022-10-26 2024-05-02 Saint-Gobain Glass France Vitrage feuillete illuminable de vehicule et vehicule avec un tel vitrage
FR3141379A1 (fr) 2022-10-26 2024-05-03 Saint-Gobain Glass France Vitrage feuillete illuminable de vehicule et vehicule avec un tel vitrage
FR3141380A1 (fr) 2022-10-26 2024-05-03 Saint-Gobain Glass France Vitrage feuillete illuminable de vehicule et vehicule avec un tel vitrage

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