WO2013001930A1 - 保管装置と保管方法 - Google Patents

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    • H10P72/34—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H10P72/3404—Storage means

Definitions

  • the present invention relates to a storage apparatus and a storage method for storing articles such as reticles and wafers.
  • Patent Document 1 JP4215079B describes an apparatus for storing an article such as a reticle.
  • ⁇ Provide a rotating shelf for reticles and a rotating shelf for pods, with the rotating shelf for reticles on top and the rotating shelf for pods on top.
  • Two hands that can be raised and lowered, a pod opener, a buffer for temporarily placing the pod, a load port for taking in and out the pod, and delivering the pod and reticle, ⁇ Blow clean air into the rotating shelf in a down flow. It is disclosed.
  • Patent Document 2 JP2008-219032A discloses that a reticle is accommodated and handled in a double case of an inner case and an outer case (pod).
  • An object of the present invention is to enable an article to be stored in a highly clean gas.
  • the storage device of the present invention comprises a plurality of stages, a plurality of container storage spaces for each stage, a rotating shelf that rotates around a vertical axis, A load port of the container; A transport device for transporting the container between the load port and the container storage space; A clean gas is supplied to each container storage space so as to be turned on and off, and a pipe that can be connected to an intake port provided in the container is provided.
  • a storage device comprising a transport device for transporting the container and a pipe for supplying clean gas for each container storage space, Transporting a container containing a reticle or semiconductor wafer and having an intake port between the load port and the container storage space by the transport device; Connecting the pipe to the intake port of the container stored in the container storage space, and supplying clean gas.
  • Clean gas means dry N2 gas or CDA (Clean Dry Air: high cleanliness air with low dew point).
  • the only difference from clean air is chemically active gases such as SO2 and NH3. Is extremely low, and the dew point is -60 ° C. or less, for example, and the water vapor content is extremely low.
  • the article includes, in addition to a bare article such as a reticle and a semiconductor wafer, an article stored in the container in a case for storing the article.
  • the storage device further includes a second rotating shelf that is arranged to overlap the upper portion of the rotating shelf in a plan view and rotates about a vertical axis independently of the rotating shelf, and includes a plurality of stages, and A plurality of article storage spaces that can be opened and closed for each stage, a filter fan unit that supplies clean air in a downflow from above the second rotating shelf, and an opening and closing device that takes in and out the articles from the container, A second transport device for transporting articles between the opening / closing device and the second rotating shelf, a second pipe for supplying clean gas freely on / off for each article storage space, and a storage device And a housing.
  • a second rotating shelf that is arranged to overlap the upper portion of the rotating shelf in a plan view and rotates about a vertical axis independently of the rotating shelf, and includes a plurality of stages, and A plurality of article storage spaces that can be opened and closed for each stage, a filter fan unit that supplies clean air in a downflow from above the second rotating shelf, and an opening and closing
  • the second rotating shelf that requires higher cleanliness can be surrounded by cleaner air, and the interior of the storage device can be made almost airtight by the housing and filled with clean air. it can.
  • the article can be conveyed between the opening / closing device and the second rotating shelf by the second conveying device. And clean gas can be supplied on / off freely for every article storage space, and articles can be kept clean.
  • the container storage space includes a door that can be opened and closed by a hand of a transport device that transports the container
  • the article storage space includes a door that can be opened and closed by a hand of a second transport device that transports an article
  • the pipe that can be connected to the intake port provided in the container includes a valve that opens the flow path by contact with the container
  • the second pipe includes a valve that opens the flow path by contact with the article.
  • the pipe that can be connected to the intake port provided in the container and the second pipe are respectively connected to the clean gas supply source side, and the container storage space or article branched from the rotary joint. And a downstream pipe for supplying clean gas to the storage space. If it does in this way, even if each rotation shelf rotates, clean gas can be easily supplied to a container storage space and an article storage space.
  • each rotating shelf includes a vertical shaft, and the downstream pipe extends from below to above along the shaft. If it does in this way, downstream piping can be provided so that it may rotate with a rotation shelf from the lower part to the upper part of a storage device.
  • 1 to 8 show the storage device 2 of the embodiment.
  • 4 is a reticle rotating shelf
  • 6 is a pod rotating shelf.
  • a reticle (not shown) is stored and stored in the inner case 10, and the inner case 10 is lighter than the pod 54 and requires a higher degree of cleanliness.
  • the reticle rotating shelf 4 is arranged on the upper part of the pod rotating shelf 6 so as to overlap with each other in plan view, so that the rotating shelves 4 and 6 can rotate independently around the vertical axis.
  • the reticle rotating shelf 4 includes a plurality of shelves 9, and each shelf 9 is provided with a plurality of reticle storage chambers 8, which are examples of reticle storage spaces, radially.
  • the reticle rotating shelf 4 is rotated by a vertical shaft 12 and a motor 20, and supply pipes 14 and 16 are provided along the shaft 12 to supply N 2 or CDA (Clean Dry Air) to each reticle storage chamber 8.
  • Reference numeral 18 denotes a base of the reticle rotating shelf 4.
  • the supply pipe 16 extends upward from below along the shaft 12 and supplies clean gas to the supply pipe 14.
  • a pod rotation shelf 6 is provided below the reticle rotation shelf 4, and the pod rotation shelf 6 includes a plurality of shelves 41.
  • a pod storage chamber 40 which is an example of a pod storage space, is provided on each shelf.
  • a plurality are provided radially.
  • a pair of elevating platforms 22 and 24 are provided inside the outer wall 30 of the storage device 2, and these elevate and lower along, for example, vertical guides 25 and 26.
  • the elevating bodies 22 and 24 include hands 28 and 29, the hand 28 delivers the pod, and the hand 29 delivers the inner case 10.
  • the outer wall 30 keeps the inside of the storage device 2 almost airtight with respect to the outside, and 32 is a pod opening / closing device that opens and closes the pod and allows the inner case to be taken in and out.
  • Reference numeral 34 denotes a load port, which is provided with a conveyor (not shown) and transfers pods to and from an overhead traveling vehicle or an operator.
  • the pod buffer 42 temporarily stores pods.
  • the hand 28 delivers the pod among the pod rotating shelf 6, the pod buffer 42, the pod opening / closing device 32, and the load port 34.
  • the hand 29 delivers the inner case 10 between the reticle rotating shelf 4 and the pod opening / closing device 32.
  • the pod rotating shelf 6 is also provided with a vertical shaft (not shown), and a clean gas supply pipe extends upward from below along the shaft. A clean gas supply pipe extends to each pod storage chamber 40 so as to branch from the supply pipe.
  • the reticle since the reticle to be exposed with ultrashort ultraviolet light is stored, the reticle is accommodated in the inner case 10, and each pod 54 accommodates, for example, one inner case 10. However, a plurality of inner cases 10 may be stored in each pod 54. When storing a semiconductor wafer instead of the reticle, the wafer may be stored in the reticle storage chamber 8 in a bare state without using the inner case 10.
  • the 44 is an air supply pipe which supplies clean gas such as N2 or CDA to the rotating shelves 4 and 6.
  • a pair of filter fan units 45, 46 are provided on the ceiling portion of the storage device 2, and the filter fan unit 45 supplies downflow clean air from the upper part of the reticle rotating shelf 4, thereby surrounding the rotating shelves 4, 6. Keep it clean.
  • the filter fan unit 46 supplies downflow clean air toward the pod buffer 42, the hands 28 and 29, the pod opening / closing device 32, and the hands 28 and 29 handle the inner case 10 and the pod 54. Contamination when storing the pod 54 is prevented.
  • FIG. 3 shows the supply of clean gas and clean air to the storage device 2.
  • the clean gas from the air supply pipe 44 is supplied through the rotary joint 48 shown in FIG. 4 through the vertical shafts of the rotary shelves 4 and 6 through the air supply pipe 16 that extends upward from below to store the reticle.
  • the chambers 8 and 10 are individually supplied to the chamber 8 and the pod storage chamber 40.
  • the filter fan unit 45 provides a clean air downflow around the rotating shelves 4 and 6, and the filter fan unit 46 provides a clean air downflow around the pod buffer 42 and the like.
  • the storage chambers 8 and 40 in the shelves 4 and 6 store articles in clean gas, and wrap the reticle rotating shelf 4 and the pod rotating shelf 6 with a clean air downflow, and in particular the reticle rotating shelf. Clean around 4
  • contamination is prevented by clean air.
  • FIG. 4 shows a rotary joint 48 provided on the downstream side of the air supply pipe 44.
  • one rotary joint 48 is provided for each of the reticle rotary shelf 4 and the pod rotary shelf 6.
  • An inner member 50 is rotatably supported by a bearing or the like with respect to the outer member 49, and an air supply pipe 51 is connected to the member 49, communicates with a ventilation path in the member 50, and a plurality of supply pipes are supplied from the ventilation path.
  • Air is supplied to branch into the trachea 52.
  • the air supply pipe 52 is extended along the shafts of the rotating shelves 4 and 6 to form the air supply pipes 14 and 16 and the like, and are led to the individual storage chambers 8 and 40.
  • the structure of the rotary joint 48 is arbitrary.
  • FIG. 5 shows a pod 54 stored in the pod storage chamber 40.
  • the pod 54 includes, for example, an intake valve 55 and an exhaust valve 56 at the bottom, and accommodates, for example, only one inner case 10 in an airtight manner.
  • the pod storage chamber 40 is surrounded by a wall 60 and a door 70 shown in FIG. 7 and the like so as to be substantially airtight.
  • the pod storage chamber 40 is supplied with clean gas from an air supply pipe 58 and is supplied from a valve 57 via an intake valve 55 to Supply clean gas inside. Further, the clean gas is exhausted from the exhaust valve 56 to the inside of the storage chamber 40 through the exhaust groove 50.
  • the exhaust valve 56 and the groove 59 need not be provided.
  • the valve 57 normally closes the tip of the air supply pipe 58 and mechanically opens by contacting the intake valve 55 to supply clean gas.
  • the intake valve 55 opens when the external pressure of the pod 54 is higher than the internal pressure and introduces clean gas
  • the exhaust valve 56 opens when the internal pressure is higher than the external pressure and exhausts the clean gas from the groove 59.
  • exhaust valve 56 is not provided, exhaust is performed so that clean gas leaks from the gap between the pods 54.
  • FIG. 6 shows the inner case 10 stored in the reticle storage chamber 8.
  • the storage chamber 8 is almost hermetically sealed by a wall 65 and a door described later, and an air supply valve 61 is provided at the tip of the air supply pipe 63. Clean gas is supplied into the storage chamber 8 and discharged into the storage chamber 8 through the exhaust groove 64.
  • the valve 61 is opened due to gravity or the like, and clean gas is supplied into the inner case 10.
  • FIG. 7 schematically shows a door of the pod storage chamber 40.
  • the door 70 is slidable in the vertical direction and is provided with a protrusion 72. Then, the protrusion 72 rises due to a slope provided on the hand 28 and the door 70 opens and closes.
  • a similar door is provided in the reticle storage chamber 8.
  • FIG. 8 shows the structure of the valve 57, and the valve 61 has a similar structure, for example.
  • the protrusion 80 protrudes from the floor surface of the pod storage chamber 40 and includes an air supply port 81 and a hole 82 communicating with the air supply port 81.
  • a valve body 83 is provided below the protrusion 80, and the elastic body 84 closes the inlet to the flow path 86.
  • a gas chamber 85 is connected to a clean gas supply pipe.
  • the following effects can be obtained. (1) By protecting the periphery of the reticle rotating shelf 4 and the pod rotating shelf 6 with downflow of clean air and supplying clean gas to each of the storage chambers 8 and 40, articles such as the inner case 10 and the pod 54 Can be stored in an extremely clean state. (2) Since a clean air downflow is supplied to the hands 28, 29 and the pod buffer 42, etc., the pod 54 is stored in the pod buffer 42 when the inner case 10 and the pod 54 are handled by the hands 28, 29, etc. Contamination can be prevented. (3) A door is provided for each storage room 8, 40, the storage room is almost airtight, and a clean gas supply path is provided for each storage room. For this reason, the storage room can be kept clean with a small amount of clean gas.
  • a valve 57 or the like is opened by a mechanical mechanism into the reticle storage chamber 8 and the pod storage chamber 6 to supply clean gas. Accordingly, wiring to the shelves 9 and 41 is unnecessary and clean gas can be supplied reliably. Instead of a mechanical valve, an electromagnetic valve or the like may be used to supply clean gas under the control of a controller (not shown). However, if this is done, wiring to the storage chambers 8 and 40 is required. (5) Since one pod 54 or one inner case 10 is stored in one storage chamber, the number of times of opening the door 70 and the like can be minimized, and contamination of articles can be prevented. (6) Clean gas can be supplied even if the storage chambers 6 and 8 are rotated by the rotary joint 48.

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract

　保管装置（２）は、複数段（９，４１）を備え、かつ前記段（９，４１）毎に容器（１０，５４）の保管スペース（８，４０）を複数備え、鉛直軸（１２）回りに回転する回転棚（４，６）と、前記容器（１０，５４）のロードポート（３４）と、前記ロードポート（３４）と前記保管スペース（８，４０）間で前記容器（１０，５４）を搬送する搬送装置（２８，２９）と、前記保管スペース（８，４０）毎にオン／オフ自在にクリーンガスを供給すると共に、前記容器（１０，５４）に設けられた吸気口（５５）に接続自在な配管（５８，６３）、とを備えている。

Description

保管装置と保管方法
　この発明はレチクル、ウェハー等の物品を保管する保管装置と保管方法に関する。
　特許文献１（JP4215079B）はレチクル等の物品を保管する装置について、
・　レチクル用の回転棚とポッド用の回転棚とを設け、レチクル用の回転棚を上に、ポッド用の回転棚を下に重ねる、
・　昇降自在な２個のハンドと、ポッドオープナー、ポッドを仮置きするバッファ、ポッドを出し入れするロードポートを設け、ポッドとレチクルを受け渡しする、
・　回転棚内にクリーンエアをダウンフローで吹き込む、
ことを開示している。特許文献２（JP2008-219032A）は、レチクルをインナーケースとアウターケース（ポッド）の２重のケースに収容して取り扱うことを開示している。
　より精細なパターンを記録しているレチクル、あるいはより精細なウェハーを保管するには、よりクリーンな雰囲気を供給する必要があり、単にクリーンエアをダウンフローで回転棚内に吹き込むだけでは不十分である。特にEUV（Extreme Ultra Violet:超短紫外）光で露光するレチクル、あるいは極く微細なパターンが刻まれたレチクル等を保管する場合、単にダスト濃度が低いだけでなく、化学的にも清浄で、かつ水分含有量が極端に低い雰囲気で保管する必要がある。
JP4215079B JP2008-219032A
　この発明は、物品を高度にクリーンなガス中で保管できるようにすることを課題とする。
　この発明の保管装置は、複数段を備え、かつ各段毎に容器保管スペースを複数備え、鉛直軸回りに回転する回転棚と、
　前記容器のロードポートと、
　前記ロードポートと前記容器保管スペース間で前記容器を搬送する搬送装置と、
　各容器保管スペース毎にオン／オフ自在にクリーンガスを供給すると共に、容器に設けられた吸気口に接続自在な配管、とを備えている。
　この発明の保管方法では、複数段を備え、かつ各段毎に容器保管スペースを複数備え、鉛直軸回りに回転する回転棚と、前記容器のロードポートと、前記ロードポートと前記容器保管スペース間で前記容器を搬送する搬送装置と、各容器保管スペース毎にクリーンガスを供給するための配管とを備えている保管装置を用い、
　レチクルまたは半導体ウェハーを収納し、かつ吸気口を備えている容器を、前記搬送装置により前記ロードポートと前記容器保管スペース間で搬送するステップと、
　前記容器保管スペースに保管されている容器の吸気口に前記配管を接続し、クリーンガスを供給するステップ、とを実行する。　
　この発明では、容器保管スペース毎にオン／オフ自在にクリーンガスを供給するので、容器を清浄に保つことができ、また不要なスペースにクリーンガスを供給することがない。なおクリーンガスは、乾燥したN2ガス、あるいはCDA（Clean Dry Air：低露点の高清浄度空気）等を意味し、単なるクリーンエアとの相違点は、SO2，NH3等の化学的に活性なガスの含有量が極端に低く、かつ露点が例えば-60℃以下と極端に水蒸気含有量が低い点である。この明細書で物品は、レチクル、半導体ウェハー等の裸の物品の他に、物品を収納するケースで前記容器内に収納されるものを含んでいる。
　好ましくは保管装置はさらに、前記回転棚の上部に平面視で重なるように配置され、かつ前記回転棚とは独立して鉛直軸回りに回転する第２の回転棚で、複数段を備え、かつ各段毎に開閉自在な物品保管スペースを複数備えたものと、第２の回転棚の上方からクリーンエアをダウンフローで供給するフィルタファンユニットと、前記容器から前記物品を出し入れする開閉装置と、前記開閉装置と前記第２の回転棚との間で、物品を搬送する第２の搬送装置と、各物品保管スペース毎にオン／オフ自在にクリーンガスを供給する第２の配管と、保管装置の筐体、とをさらに備えている。このようにすると、より高い清浄度が要求される第２の回転棚がより清浄なクリーンエアに囲まれるようにでき、筐体によって保管装置の内部をほぼ気密にして、クリーンエアで充たすことができる。また開閉装置と第２の回転棚との間で、第２の搬送装置により、物品搬送できる。そして物品保管スペース毎にクリーンガスをオン／オフ自在に供給し、物品を清浄に保つことができる。
　好ましくは、前記容器保管スペースは、容器を搬送する搬送装置のハンドにより開閉自在な扉を備え、前記物品保管スペースは、物品を搬送する第２の搬送装置のハンドにより開閉自在な扉を備え、容器に設けられた吸気口に接続自在な配管は容器との接触により流路を開く弁を備え、前記第２の配管は物品との接触により流路を開く弁を備えている。このようにすると、容器あるいは物品が保管スペースに置かれることにより、メカニカルに弁が開いてクリーンガスが供給されるようにできる。また保管スペースに扉を設けてほぼ気密にし、ハンドで扉を開閉できる。
　特に好ましくは、容器に設けられた吸気口に接続自在な配管と前記第２の配管は各々、クリーンガスの供給源側に接続された回転ジョイントと、回転ジョイントから分岐して容器保管スペースあるいは物品保管スペースへクリーンガスを供給する下流側配管とを備えている。このようにすると、各回転棚が回転しても、容器保管スペースと物品保管スペースとに、簡単にクリーンガスを供給できる。
　最も好ましくは、各回転棚は鉛直のシャフトを備え、前記下流側配管は、前記シャフトに沿って下方から上方へ伸びている。このようにすると、保管装置の下方から上方へ、回転棚と共に回転するように、下流側配管を設けることができる。
実施例の保管装置の水平方向断面図 実施例の保管装置の鉛直方向断面図 実施例の保管装置での雰囲気の流れを模式的に示す図 実施例で用いたロータリジョイントを示す図 ポッド保管室への給排気機構を示す鉛直方向断面図 レチクル保管室への給排気機構を示す鉛直方向断面図 ポッド保管室の扉を示す鉛直方向断面図 機械式の弁を示す鉛直方向断面図
　以下に本発明を実施するための最適実施例を示す。この発明の範囲は、特許請求の範囲の記載に基づき、明細書の記載とこの分野での周知技術とを参酌し、当業者の理解に従って定められるべきである。
　図１～図８に、実施例の保管装置２を示す。各図において、４はレチクル回転棚で、６はポッド回転棚である。図示しないレチクルはインナーケース１０に収納して保管し、インナーケース１０はポッド５４に比べ軽量で、かつより高い清浄度を必要とする。このためレチクル回転棚４をポッド回転棚６の上部に、平面視で重なるように配置し、回転棚４，６はそれぞれ鉛直軸回りに独立して回転できるようにする。
　図２に示すように、レチクル回転棚４は複数の棚９を備え、各棚９には、レチクル保管スペースの例であるレチクル保管室８が放射状に複数設けられている。レチクル回転棚４は鉛直なシャフト１２とモータ２０とにより回転し、シャフト１２に沿って給気管１４，１６を設けて、各レチクル保管室８に対し、N2あるいはCDA（Clean Dry Air）を供給する。１８はレチクル回転棚４のベースである。給気管１６はシャフト１２に沿って下から上向きに伸びて、給気管１４へクリーンガスを供給する。
　図２に示すように、レチクル回転棚４の下部にポッド回転棚６が設けられ、ポッド回転棚６は複数の棚４１を備え、各棚にポッド保管スペースの例であるポッド保管室４０がそれぞれ複数個放射状に設けられている。保管装置２の外壁３０の内部には、これ以外に、一対の昇降台２２，２４が設けられ、これらは例えば鉛直のガイド２５，２６に沿って昇降する。昇降体２２，２４はハンド２８，２９を備え、ハンド２８はポッドの受け渡しを行い、ハンド２９はインナーケース１０の受け渡しを行う。外壁３０は、保管装置２の内部を外部に対しほぼ気密に保ち、３２はポッド開閉装置で、ポッドを開閉し、インナーケースを出し入れ自在にする。３４はロードポートで、図示しないコンベヤなどが設けられ、天井走行車あるいは作業者などとの間でポッドの受け渡しを行う。ポッドバッファ４２はポッドを一時保管する。そしてハンド２８はポッド回転棚６，ポッドバッファ４２，ポッド開閉装置３２，ロードポート３４との間で、ポッドの受け渡しをする。これに対してハンド２９は、レチクル回転棚４及びポッド開閉装置３２との間で、インナーケース１０を受け渡しする。なおポッド回転棚６にも図示しない鉛直なシャフトが設けられ、このシャフトに沿ってクリーンガスの給気管が下から上向きに伸びている。そしてこの給気管から分岐するように、各ポッド保管室４０へクリーンガスの給気管が伸びている。
　実施例では超短紫外光で露光するレチクルを保管するので、レチクルはインナーケース１０に収容され、各ポッド５４にはインナーケース１０が例えば１枚ずつ収容される。しかしながら各ポッド５４に複数枚のインナーケース１０を保管しても良い。レチクルに代えて半導体ウェハーを保管する場合、インナーケース１０を用いず、ウェハーを裸の状態でレチクル保管室８に保管しても良い。
　４４は給気管で、N2あるいはCDAなどのクリーンガスを回転棚４，６に供給する。保管装置２の例えば天井部に一対のフィルタファンユニット４５，４６が設けられ、フィルタファンユニット４５はレチクル回転棚４の上部からダウンフローのクリーンエアを供給し、これによって回転棚４，６の周囲をクリーンに保つ。フィルタファンユニット４６は、ポッドバッファ４２，ハンド２８，２９，ポッド開閉装置３２などに向けてダウンフローのクリーンエアを供給し、ハンド２８，２９でインナーケース１０及びポッド５４を取り扱い、ポッドバッファ４２にポッド５４を保管する際の汚染を防止する。
　図３に、保管装置２に対するクリーンガスとクリーンエアの供給を示す。給気管４４からのクリーンガスを、図４に示す回転ジョイント４８などを介して、回転棚４，６の鉛直なシャフトなどに沿って下方から上方へ伸びる給気管１６等により給気し、レチクル保管室８及びポッド保管室４０に室８，１０毎に個別に供給する。フィルタファンユニット４５により回転棚４，６の周囲にクリーンエアのダウンフローを設け、フィルタファンユニット４６によりポッドバッファ４２などの周囲にクリーンエアのダウンフローを設ける。このようにして、棚４，６内の保管室８，４０ではクリーンガス中で物品を保管し、レチクル回転棚４とポッド回転棚６とをクリーンエアのダウンフローで包んで、特にレチクル回転棚４の周囲を清浄にする。またハンド２８，２９でインナーケース１０とポッド５４を取り扱う際や、ポッドバッファ４２などに仮置きする際には、クリーンエアにより汚染を防止する。
　図４は給気管４４の下流側に設ける回転ジョイント４８を示し、例えばレチクル回転棚４とポッド回転棚６とに対し、１個ずつ設ける。外側の部材４９に対し内側の部材５０がベアリングなどにより回転自在に支持され、部材４９には給気管５１が接続されて、部材５０内の通気路と連通し、この通気路から複数本の給気管５２に分岐するように給気する。そして給気管５２は回転棚４，６のシャフトに沿って延長されて、前記の給気管１４，１６等となり、個々の保管室８，４０へと導かれる。なお回転ジョイント４８の構造自体は任意である。
　図５はポッド保管室４０に保管されたポッド５４を示し、ポッド５４は例えば底部に吸気弁５５と排気弁５６とを備え、インナーケース１０を例えば１枚だけほぼ気密に収容する。ポッド保管室４０は壁６０と後図７の扉７０などで周囲を囲まれてほぼ気密に構成され、給気管５８からクリーンガスを供給して、弁５７から吸気弁５５を介してポッド５４の内部にクリーンガスを供給する。また排気弁５６から排気溝５０を介して、クリーンガスを保管室４０の内部に排気する。なお排気弁５６と溝５９は設けなくても良い。弁５７は常時は給気管５８の先端を閉じ、吸気弁５５と接触することによりメカニカルに開いて、クリーンガスを供給する。吸気弁５５はポッド５４の外圧の方が内圧よりも高い際に開いてクリーンガスを導入し、排気弁５６は内圧が外圧よりも高い際に開いて、クリーンガスを溝５９から排気する。なお排気弁５６を設けない場合、ポッド５４の隙間からクリーンガスが漏れ出すようにして排気する。
　図６はレチクル保管室８に保管したインナーケース１０を示し、保管室８は壁６５と後述の扉などでほぼ気密にされ、給気管６３の先端に給気弁６１が設けられ、インナーケース１０内にクリーンガスを供給し、排気溝６４を介して保管室８内にクリーンガスを排出する。弁６１上にインナーケース１０が置かれると、その重力などにより弁６１が開いて、クリーンガスをインナーケース１０内に供給する。
　図７に、ポッド保管室４０の扉を模式的に示し、扉７０は上下方向にスライド自在で、突起７２が設けられている。そして突起７２がハンド２８に設けた斜面などにより上昇して、扉７０が開閉する。レチクル保管室８にも例えば同様の扉を設ける。
　図８は弁５７の構造を示し、弁６１も例えば同様の構造とする。突起８０はポッド保管室４０の床面から突き出し、給気口８１とこれに連通する孔８２とを備えている。突起８０の下部に弁体８３が設けられ、弾性体８４により流路８６への入口を塞いでいる。また８５はガス室で、クリーンガスの給気管に接続されている。弁６１上にポッドが置かれると、突起８０と共に弁体８３が下降するため、ガス室８５と流路８６とが連通し、給気口８１からクリーンガスが供給される。
　実施例では以下の効果が得られる。
(1)　レチクル回転棚４とポッド回転棚６の周囲をクリーンエアのダウンフローで保護し、個々の保管室８，４０毎にクリーンガスを供給することにより、インナーケース１０及びポッド５４等の物品を極めてクリーンな状態で保管できる。
(2)　ハンド２８，２９とポッドバッファ４２等に対し、クリーンエアのダウンフローを供給するので、ハンド２８，２９等でインナーケース１０及びポッド５４を取り扱う際、及びポッドバッファ４２でポッド５４を保管する際の汚染を防止できる。
(3)　保管室８，４０毎に扉が設けられ、保管室はほぼ気密で、保管室毎にクリーンガスの供給路が設けられている。このため少量のクリーンガスで保管室内を清浄に保つことができる。
(4)　レチクル保管室８及びポッド保管室６内へ、メカニカルな機構で弁５７等が開いてクリーンガスが供給される。従って棚９，４１への配線が不要で、かつ確実にクリーンガスを供給できる。なおメカニカルな弁に代えて電磁弁などを用い、図示しないコントローラの制御によりクリーンガスを供給してもよい。しかしこのようにすると、保管室８，４０への配線が必要である。
(5)　１個の保管室に１個のポッド５４もしくは１個のインナーケース１０を保管するので、扉７０等を開く回数を最小にし、物品の汚染を防止できる。
(6)　回転ジョイント４８により各保管室６，８が回転しても、クリーンガスを供給できる。
２　保管装置　　４　レチクル回転棚　　６　ポッド回転棚
８　レチクル保管室　　９，４１　棚　　１０　インナーケース
１２　シャフト　　１４，１６　給気管　　１８　ベース
２０　モータ　　２２，２４　昇降体　　２５，２６　ガイド
２８，２９　ハンド　　３０　外壁　　３２　ポッド開閉装置
３４　ロードポート　　４０　ポッド保管室　　４２　ポッドバッファ
４４　給気管　　４５，４６　フィルタファンユニット
４８　回転ジョイント　　４９，５０　部材　　５１，５２　給気管
５４　ポッド　　５５　吸気弁　　５６　排気弁　　５７　弁
５８，６３　給気管　　５９，６４　排気溝　　６０，６５　壁
６１　給気弁　　７０　扉　　７２，８０　突起　　８１　給気口
８２　孔　　８３　弁体　　８４　弾性体　　８５　ガス室
８６　流路

Claims (6)

  1. 　複数段を備え、かつ各段毎に容器保管スペースを複数備え、鉛直軸回りに回転する回転棚と、
    　前記容器のロードポートと、
    　前記ロードポートと前記容器保管スペース間で前記容器を搬送する搬送装置と、
    　各容器保管スペース毎にオン／オフ自在にクリーンガスを供給すると共に、容器に設けられた吸気口に接続自在な配管、とを備えている保管装置。
  2. 　前記回転棚の上部に平面視で重なるように配置され、かつ前記回転棚とは独立して鉛直軸回りに回転する第２の回転棚で、複数段を備え、かつ各段毎に開閉自在な物品保管スペースを複数備えたものと、
    　第２の回転棚の上方からクリーンエアをダウンフローで供給するフィルタファンユニットと、
    　前記容器から前記物品を出し入れする開閉装置と、
    　前記開閉装置と前記第２の回転棚との間で、物品を搬送する第２の搬送装置と、
    　各物品保管スペース毎にオン／オフ自在にクリーンガスを供給する第２の配管と、
    　保管装置の筐体、とをさらに備えていることを特徴とする、請求項１の保管装置。
  3. 　前記容器保管スペースは、容器を搬送する搬送装置のハンドにより開閉自在な扉を備え、
    　前記物品保管スペースは、物品を搬送する第２の搬送装置のハンドにより開閉自在な扉を備え、
    　容器に設けられた吸気口に接続自在な配管は容器との接触により流路を開く弁を備え、
    　前記第２の配管は物品との接触により流路を開く弁を備えていることを特徴とする、請求項２の保管装置。
  4. 　容器に設けられた吸気口に接続自在な配管と前記第２の配管は各々、クリーンガスの供給源側に接続された回転ジョイントと、回転ジョイントから分岐して容器保管スペースあるいは物品保管スペースへクリーンガスを供給する下流側配管とを備えていることを特徴とする、請求項２または３の保管装置。
  5. 　各回転棚は鉛直のシャフトを備え、前記下流側配管は、前記シャフトに沿って下方から上方へ伸びている、請求項４の保管装置。
  6. 　複数段を備え、かつ各段毎に容器保管スペースを複数備え、鉛直軸回りに回転する回転棚と、前記容器のロードポートと、前記ロードポートと前記容器保管スペース間で前記容器を搬送する搬送装置と、各容器保管スペース毎にクリーンガスを供給するための配管とを備えている保管装置を用い、
    　レチクルまたは半導体ウェハーを収納し、かつ吸気口を備えている容器を、前記搬送装置により前記ロードポートと前記容器保管スペース間で搬送するステップと、
    　前記容器保管スペースに保管されている容器の吸気口に前記配管を接続し、クリーンガスを供給するステップ、とを実行する保管方法。
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