WO2014104925A1 - Способ обработки цилиндрических поверхностей сапфировых деталей, сапфировая плунжерная пара и насос-дозатор на её основе - Google Patents

Способ обработки цилиндрических поверхностей сапфировых деталей, сапфировая плунжерная пара и насос-дозатор на её основе Download PDF

Info

Publication number
WO2014104925A1
WO2014104925A1 PCT/RU2013/000342 RU2013000342W WO2014104925A1 WO 2014104925 A1 WO2014104925 A1 WO 2014104925A1 RU 2013000342 W RU2013000342 W RU 2013000342W WO 2014104925 A1 WO2014104925 A1 WO 2014104925A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
sapphire
crystal
modification
parts
basis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/RU2013/000342
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Виталий Алексеевич САВЕНКОВ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to EA201500475A priority Critical patent/EA027091B1/ru
Priority to EP13868960.9A priority patent/EP2939810B1/en
Priority to ES13868960.9T priority patent/ES2682921T3/es
Publication of WO2014104925A1 publication Critical patent/WO2014104925A1/ru
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/02—Lapping machines or devices; Accessories designed for working surfaces of revolution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B5/00—Machines or devices designed for grinding surfaces of revolution on work, including those which also grind adjacent plane surfaces; Accessories therefor
    • B24B5/50—Machines or devices designed for grinding surfaces of revolution on work, including those which also grind adjacent plane surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground, e.g. strings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16—Oxides
    • C30B29/20—Aluminium oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C30—CRYSTAL GROWTH
    • C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B33/00—After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B13/00—Pumps specially modified to deliver fixed or variable measured quantities
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B53/00—Component parts, details or accessories not provided for in, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B23/00 or F04B39/00 - F04B47/00
    • F04B53/14—Pistons, piston-rods or piston-rod connections
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B53/00—Component parts, details or accessories not provided for in, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B23/00 or F04B39/00 - F04B47/00
    • F04B53/16—Casings; Cylinders; Cylinder liners or heads; Fluid connections
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B53/00—Component parts, details or accessories not provided for in, or of interest apart from, groups F04B1/00 - F04B23/00 or F04B39/00 - F04B47/00
    • F04B53/16—Casings; Cylinders; Cylinder liners or heads; Fluid connections
    • F04B53/162—Adaptations of cylinders
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
    • A61M2205/00—General characteristics of the apparatus
    • A61M2205/02—General characteristics of the apparatus characterised by a particular materials
    • A61M2205/0211—Ceramics
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
    • A61M2205/00—General characteristics of the apparatus
    • A61M2205/02—General characteristics of the apparatus characterised by a particular materials
    • A61M2205/0222—Materials for reducing friction
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
    • A61M5/00—Devices for bringing media into the body in a subcutaneous, intra-vascular or intramuscular way; Accessories therefor, e.g. filling or cleaning devices, arm-rests
    • A61M5/14—Infusion devices, e.g. infusing by gravity; Blood infusion; Accessories therefor
    • A61M5/142—Pressure infusion, e.g. using pumps
    • A61M5/14212—Pumping with an aspiration and an expulsion action
    • A61M5/14216—Reciprocating piston type
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
    • A61M5/00—Devices for bringing media into the body in a subcutaneous, intra-vascular or intramuscular way; Accessories therefor, e.g. filling or cleaning devices, arm-rests
    • A61M5/14—Infusion devices, e.g. infusing by gravity; Blood infusion; Accessories therefor
    • A61M5/142—Pressure infusion, e.g. using pumps
    • A61M5/145—Pressure infusion, e.g. using pumps using pressurised reservoirs, e.g. pressurised by means of pistons
    • A61M5/1452—Pressure infusion, e.g. using pumps using pressurised reservoirs, e.g. pressurised by means of pistons pressurised by means of pistons
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05—INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05C—INDEXING SCHEME RELATING TO MATERIALS, MATERIAL PROPERTIES OR MATERIAL CHARACTERISTICS FOR MACHINES, ENGINES OR PUMPS OTHER THAN NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES
    • F05C2203/00—Non-metallic inorganic materials
    • F05C2203/08—Ceramics; Oxides
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05—INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05C—INDEXING SCHEME RELATING TO MATERIALS, MATERIAL PROPERTIES OR MATERIAL CHARACTERISTICS FOR MACHINES, ENGINES OR PUMPS OTHER THAN NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES
    • F05C2203/00—Non-metallic inorganic materials
    • F05C2203/08—Ceramics; Oxides
    • F05C2203/0865—Oxide ceramics
    • F05C2203/0869—Aluminium oxide
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F05—INDEXING SCHEMES RELATING TO ENGINES OR PUMPS IN VARIOUS SUBCLASSES OF CLASSES F01-F04
    • F05C—INDEXING SCHEME RELATING TO MATERIALS, MATERIAL PROPERTIES OR MATERIAL CHARACTERISTICS FOR MACHINES, ENGINES OR PUMPS OTHER THAN NON-POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES
    • F05C2203/00—Non-metallic inorganic materials
    • F05C2203/08—Ceramics; Oxides
    • F05C2203/0865—Oxide ceramics
    • F05C2203/0869—Aluminium oxide
    • F05C2203/0873—Sapphire

Definitions

  • the group of inventions relates to devices, in particular, plunger pairs and metering pumps based on them, as well as to the manufacture of devices and their parts, in particular, to a method for processing cylindrical surfaces of sapphire parts.
  • the group of inventions can be used in any technical field in which plunger pairs are used, including as components of pumping and / or metering devices (metering pumps), in particular in pharmaceutical, food, chemical, perfumery, cosmetic, machine-building and others areas of industry.
  • leucosapphire is transparent in a wide range of wavelengths, has low light scattering and high optical uniformity, high radiation resistance and low internal stresses, high resistance to aggressive environments.
  • the transparency of leucosapphire is an additional advantage, consisting in the possibility of visual control of the presence / absence of bubbles during the operation of metering pumps, which is important for high-precision dosing.
  • a plunger pair is known from the prior art, the details of which are made of a leucosapphire crystal (RU2240733 C1, 11.27.2004). She is the prototype of the present invention.
  • the disadvantage of the prototype is the high surface roughness. According to estimates of the author of the present invention, made on the basis of knowledge of the mechanical method used for processing cylindrical surfaces of sapphire plunger pair parts, the level of surface roughness of parts of the sapphire plunger prototype pair Ra is more than 5 ⁇ m.
  • the high roughness of the surfaces of the rubbing parts leads to an increased friction force between them, which, in turn, leads to increased wear of the rubbing parts and, accordingly, adversely affects the stability and durability of the plunger couples and metering pumps based on them.
  • the problem to which the group of inventions is directed is to develop a method for processing cylindrical surfaces of sapphire, which allows to achieve a surface roughness of Ra 2-g5 A and to manufacture a plunger pair of sapphire with a minimum coefficient of friction in this way.
  • the plunger pair is mainly made from a single crystal of leucosapphire, however, it can also be made from crystals based on ⁇ -modification of aluminum oxide ( ⁇ -A Oz) with impurities, for example, from a crystal of the color of alexandrite, red ruby, blue sapphire, orange sapphire, orange padparage, yellow sapphire, green sapphire, pink sapphire, dark red sapphire, purple sapphire and others.
  • ⁇ -A Oz aluminum oxide
  • the invention is as follows.
  • Preforms are drilled from an artificially grown single crystal of leucosapphire using a diamond tool with the necessary allowances for further machining (shaping).
  • the main assembly units of sapphire pumping and metering devices are: the outer part (part) is a sapphire cylinder (aka case, sleeve or sleeve) and the inside (part) is a sapphire plunger (it is also a piston or rod).
  • the sapphire cylinder and sapphire plunger together form a plunger pair.
  • the plunger pair contains at least one outer crystal part based on ⁇ -alumina, and at least one inner crystal part based on ⁇ -alumina.
  • the design provides a sapphire gate (a second plunger that acts as a locking device).
  • Preliminary cylindrical sapphire blanks can be obtained in two different ways.
  • the cylindrical workpieces of a sapphire piston and cylinder are drilled from a single artificially grown sapphire single crystal. Drilling takes place with a diamond drill of the required diameter, taking into account the allowance for further processing. Drilling occurs using various cutting fluids. These can be various brands of synthetic cooling oils, for example 5W-ADDIN0L Super light 5W-40, OW CASTROL Formula SLXOW-30 and others. The remaining material is sent back to the melt and crystal growth unit.
  • the second method consists in cutting the whole sapphire monolith “boules” (growth according to the Kyropoulos method) or “boats” (growth according to the Bagdasarov method) with diamond wheels to obtain square blocks. Further, these blocks are processed on grinding machine equipment with diamond wheels with large grains of diamond, i.e. produce rough grinding. The result is a sapphire cylindrical coarse workpiece.
  • the first method is preferred.
  • the workpieces are processed on high-precision machine tools mechanically using diamond tools. In this case, various diamond wheels, diamond drills and diamond hones, with different sizes of diamond grains, are used. All processing processes necessarily occur with the use of various cutting fluids. These can be various brands of synthetic cooling oils, for example 5W-ADDINOL Super light 5W-40, OW CASTROL Formula SLX0W-30 and others.
  • sapphire billets are machined with diamond tools with finer grain diamond tools.
  • a minimum tolerance is achieved for the following more precise and subtle stages of processing.
  • the process can occur on different brands and modifications of grinding machine equipment, in particular, on the universal circular grinding machine model CG 2535-AL or CG 2550-AL, universal circular grinding machine semiautomatic device model 3U12AAF11 with DRO and others.
  • pre-finishing machining of leucosapphire billets with diamond tools with a grain size fraction of the smallest size is performed.
  • the product removal rate reaches 1000 ⁇ m / min. This processing step occurs in stages, using a cutting diamond tool with a constant decrease in the diamond grain fraction in these tools.
  • the processing can take place both without central equipment and in centers, as is known to a person skilled in the art.
  • a single crystal interacts with a processing tool, it is necessary to take into account the anisotropy of the properties of leucosapphire. Improving the quality of processing is achieved by reducing cutting single grains of the tool.
  • the surface roughness Ra 2-g5 A working surfaces of leucosapphire plunger pairs in sapphire metering pumps is achieved as follows. Pre-finished parts are chemically-mechanically polished. A quasi-plasticity regime is applied, which allows you to process surfaces with a roughness of 2-10 nm, removal is 0.4 ⁇ m / min, processing is carried out with a cloth polishing wheel with 5/3 ⁇ m diamond grain in watch oil at a pressure of 1.5 * 10 2 KSS / mm 2 , during fine polishing, processing is carried out with 1/0 micron diamond grain in watch oil, removal is 0.1 micron / min, and the so-called nanometer surface relief is obtained.
  • Semi-soft and soft lapping and polishing wheels are used as a finishing tool.
  • the working part of these tools is made of semi-soft and soft materials such as polyurethane, suede, felt, felt, most preferably natural suede and felt.
  • polishing material especially pure filtered watch brands of oils are used.
  • the etching process can be divided into two stages: - diffusion of anionic and cationic complexes on the crystal surface;
  • polishing composition for example NALCO-2354, NALCO 2360 or Siopol-1 (Rogov V.V. Physical chemistry in the formation of functional surfaces of electronic components and optical systems made of glass and sapphire ( os-ABO3) during tribochemical polishing. Superhard materials, 2009, 4, pp. 74-83; UA48581 A, 08/15/2002) with sapphire when removing stocks.
  • the smallest roughness of the machined cylindrical surface Ra 2- ⁇ 5 A and the highest optical purity class P 0-10 are achieved.
  • the mode of supply of the etching solution to the polishing disc by the drip method is 25-45 drops / min.
  • one of two types of polishing compounds is used: 1. Siopol-1 with an aqueous-ammonia colloidal solution of OSCh.6-3, pH 9.3
  • All processing processes, their high geometric accuracy in roundness, parallelism, centricity, linearity and surface roughness at all stages of manufacture are monitored on electronic screens of monitors of high-precision machine equipment. Finishing acceptance for the quality of workmanship is carried out in the OTK laboratory using mechanical and electronic measuring instruments.
  • the parameter Ra is measured on non-contact optical devices, in particular, MII-5, MII-10 and MII-15 (MII - interference measuring microscope), MPI (interference microscope, profilometer) and FEI Helios 650 Nanolab Two-beam analytical system for scanning electron-ion microscopy (SEM: surface microscopy with a resolution of less than 0.7 nm).
  • the sapphire rod and cylinder are pressed into the corresponding metal parts with a manual mechanical press.
  • Auxiliary parts of dispensers, in particular parts of dispensers for mounting on a machine, pressing sapphire into metal consist of medical stainless steel, preferably AISI 316 L or 12X18H10T.
  • the above-described "multi-stage ladder method of chemical-mechanical polishing" of the working surfaces of sapphire plunger couples achieves the technical result of the invention - a reduction in the friction coefficient of friction surfaces, which in turn allows to reduce wear of the details of the plunger pair and thus increase the service life of the metering pump based on it, including longer maintain the accuracy of the dosage of the dosed liquids, which is especially important in the pharmaceutical industry when dosing liquid drugs s funds.
  • the estimated service life of metering pumps based on sapphire plunger pairs processed by the "multi-stage ladder method of chemical-mechanical polishing" is 25-30 years, which significantly exceeds the service life of currently available metering pumps with plunger pairs made of metal and ceramic materials.
  • the above embodiment is non-limiting, and other embodiments within the scope of the claims may be carried out by a person skilled in the art.
  • the essential features that are causally related to the technical result achieved are only the material from which the plunger pair parts are made — a crystal based on os-modification of alumina, preferably a leucosapphire single crystal, and surface roughness Ra 2-g5 A; all other features, such as the presence of additional parts, geometric dimensions and materials of parts with the exception of the material of the cylinder and piston, design features of metering pumps, etc., are not essential to achieve the claimed technical result and can be selected by a specialist in this field of technology from known options based on well-known design principles.
  • the essential features that are causally related to the achieved technical result are the following stages and substances: drilling preliminary blanks of crystal parts based on ss-modification of aluminum oxide with a diamond tool, three-stage mechanical surface treatment with a diamond tool in the presence of cutting fluids with a sequential decrease in the abrasive grain size to 125/100 and / or 100/80 ⁇ m, relieving internal stress in workpieces by annealing in a muffle furnace, treating the surface with a semi-soft or soft polishing wheel or grinding with 5/3 diamond grain ⁇ m and / or 1/0 ⁇ m in watch oil, tribochemical polishing of the surface with a polishing composition based on colloidal Si0 2 .
  • This method processing can be used for other non-planar sapphire surfaces, for example spherical.
  • the group of inventions satisfies the requirement of unity of invention, because the processing method is intended for the manufacture of a plunger pair and a metering pump based on it, and a plunger pair is intended for use in a metering pump.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

Изобретение относится к плунжерным парам и насосам-дозаторам на их основе, к изготовлению устройств и их частей, в частности, к способу обработки цилиндрических поверхностей деталей из кристалла на основе -модификации оксида алюминия. Плунжерная пара содержит наружную и внутреннюю детали из кристалла на основе -модификации оксида алюминия, предпочтительно монокристалла лейкосапфира, с шероховатостью контактирующих рабочих поверхностей Ra 2-5 ангстрем. Гладкость поверхности достигается способом обработки, включающем высверливание предварительных заготовок деталей из кристалла при помощи алмазного инструмента, трехступенчатую механическую обработку поверхности алмазным инструментом в присутствии смазочно-охлаждающих жидкостей с последовательным убыванием величины зерна абразива, снятие внутреннего напряжения в заготовках методом отжига в муфельной печи, обработку поверхности полумягким или мягким полировальным кругом или притиром с алмазным зерном 5/3 мкм и/или 1/0 мкм на часовом масле, трибохимическое полирование поверхности полировальным составом на основе коллоидного SiO2. Изобретение позволяет увеличить ресурс эксплуатации плунжерных пар в составе насосов-дозаторов, дольше сохранять точность дозировки дозируемых жидкостей за счет снижения коэффициента трения трущихся поверхностей.

Description

СПОСОБ ОБРАБОТКИ ЦИЛИНДРИЧЕСКИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ
САПФИРОВЫХ ДЕТАЛЕЙ, САПФИРОВАЯ ПЛУНЖЕРНАЯ ПАРА И
НАСОС-ДОЗАТОР НА ЕЁ ОСНОВЕ
Группа изобретений относится к устройствам, в частности, плунжерным парам и насосам-дозаторам на их основе, а также к изготовлению устройств и их частей, в частности, к способу обработки цилиндрических поверхностей сапфировых деталей. Группа изобретений может быть использована в любых областях техники, в которых используются плунжерные пары, в том числе как составные части насосных и/или дозирующих устройств (насосов-дозаторов), в частности в фармацевтической, пищевой, химической, парфюмерной, косметической, машиностроительной и других областях промышленности.
В настоящее время большинство насосов-дозаторов для фармацевтической и пищевой промышленности содержат плунжерные пары из различных металлических и керамических материалов (см., например, US4273263 А, 16.06.1981; DE2723320 С2, 04.11.1982; FR2797046 А1, 02.02.2001).
Однако для насосов-дозаторов с металлическими и керамическими плунжерными парами существует проблема износа трущихся деталей. Образующиеся в результате трения соприкасающихся деталей мельчайшие частицы материала этих деталей загрязняют дозируемые жидкости, что особенно нежелательно в фармацевтической промышленности. Также в результате износа трущихся деталей происходит изменение дозируемого объёма, что также неприемлемо для высокоточного дозирования. Кроме того, насосы-дозаторы в фармацевтической и пищевой промышленности должны выдерживать длительное воздействие агрессивных факторов эксплуатации, в частности, процесс стерилизации.
Значительно большую износостойкость можно получить при изготовлении деталей плунжерной пары из кристаллов, в частности из кристаллов, основой которых является α-модификация оксида алюминия (а- AI2O3, он же корунд). Проведенные исследования показали, что, например, лейкосапфир (являющийся разновидностью α-АЬОз), ориентированный в направлении кристаллографической оси [0001] имеет износостойкость, в 10 раз большую по сравнению с покрытием из хрома и в 5 раз большую по сравнению с корундовой керамикой.
Кроме того, лейкосапфир прозрачен в широком интервале длин волн, имеет слабое светорассеяние и высокую оптическую однородность, высокую радиационную стойкость и низкие внутренние напряжения, высокую устойчивость к агрессивным средам. Прозрачность лейкосапфира - это дополнительное преимущество, заключающееся в возможности визуального контроля наличия/отсутствия пузырей при работе насосов-дозаторов, что является важным при высокоточном дозировании.
Из уровня техники известна плунжерная пара, детали которой изготовлены из кристалла лейкосапфира (RU2240733 С1, 27.11.2004). Она является прототипом настоящего изобретения. Недостатком прототипа является высокая шероховатость поверхности. По оценкам автора настоящего изобретения, сделанным на основании знания использованного в техническом решении механического способа обработки цилиндрических поверхностей деталей сапфировой плунжерной пары, уровень шероховатости поверхностей деталей сапфировой плунжерной пары-прототипа Ra более 5 мкм.
Высокая шероховатость поверхностей трущихся деталей приводит к повышенной силе трения между ними, что, в свою очередь, приводит к повышенному износу трущихся деталей и, соответственно, отрицательно сказывается на стабильности и долговечности работы плунжерных пар и насосов-дозаторов на их основе.
Задача, на решение которой направлена группа изобретений, заключается в разработке способа обработки цилиндрических поверхностей сапфира, позволяющего достичь уровня шероховатости поверхности Ra 2-г5 А и изготовлении этим способом плунжерной пары из сапфира с минимальным коэффициентом трения. Плунжерная пара изготавливается преимущественно из монокристалла лейкосапфира, однако может изготавливаться также из кристаллов на основе α-модификации оксида алюминия (α-А Оз) с примесями, например, из кристалла цвета александрита, красного рубина, синего сапфира, оранжевого сапфира, оранжевого падпараджа, желтого сапфира, зеленого сапфира, розового сапфира, темно-красного сапфира, фиолетового сапфира и других.
Изобретение осуществляется следующим образом.
Из искусственно выращенного монокристалла лейкосапфира высверливаются предварительные заготовки при помощи алмазного инструмента с необходимыми припусками для дальнейшей механической обработки (формообразование). Основными сборочными единицами сапфировых насосных и дозирующих устройств являются: наружная часть (деталь) - сапфировый цилиндр (он же корпус, гильза или втулка) и внутренняя часть (деталь) - сапфировый плунжер (он же поршень или стержень). Сапфировый цилиндр и сапфировый плунжер вместе образуют плунжерную пару. Таким образом, плунжерная пара содержит, как минимум, одну наружную деталь из кристалла на основе α-модификации оксида алюминия, и, как минимум, одну внутреннюю деталь из кристалла на основе а- модификации оксида алюминия. Для некоторых моделей насосов-дозаторов конструкцией предусмотрен сапфировый шибер (второй плунжер, выполняющий роль запирающего устройства-крана).
Предварительные цилиндрические сапфировые заготовки могут быть получены двумя различными способами. В первом способе цилиндрические заготовки сапфировых поршня и цилиндра высверливаются из цельного искусственно выращенного монокристалла сапфира. Высверливание происходит алмазным сверлом необходимого диаметра с учётом припуска на дальнейшую обработку. Высверливание происходит с применением различных смазочно-охлаждающих жидкостей. Это могут быть различные марки синтетических охлаждающих масел, например 5W-ADDIN0L Super light 5W-40, OW CASTROL Formula SLXOW-30 и другие. Оставшийся материал отправляется обратно в установку расплава и роста кристаллов. Второй способ заключается в распиле цельного сапфирового монолита «були» (рост по методу Киропулоса) или «лодочки» (рост по методу Багдасарова) алмазными кругами с получением квадратных блоков. Далее эти блоки обрабатывают на шлифовальном станочном оборудовании алмазными кругами с крупными зёрнами алмаза, т.е. производят грубую шлифовку. Получаются сапфировые цилиндрические грубо обработанные заготовки. Первый способ является предпочтительным. Далее заготовки обрабатывают на высокоточном станочном оборудовании механическим путём с применением алмазного инструмента. При этом применяются различные алмазные круги, алмазные свёрла и алмазные хоны, с разными величинами алмазного зерна. Все процессы обработки обязательно происходят с применением различных смазочно- охлаждающих жидкостей. Это могут быть различные марки синтетических охлаждающих масел, например 5W-ADDINOL Super light 5W-40, OW CASTROL Formula SLX0W-30 и другие.
Далее сапфировые заготовки подвергают механической обработке алмазными инструментами с более мелким зерном алмазного инструмента. На этом этапе обработки достигается минимальный допуск для следующих более точных и тонких этапов обработки. Процесс может происходить на разных марках и модификациях шлифовального станочного оборудования, в частности, на универсальном круглошлифовальном станке модели CG 2535-AL или CG 2550-AL, универсальном круглошлифовальном станке-полуавтомате модели 3U12AAF11 с УЦИ и других.
Затем производят предфинишную механическую обработку лейкосапфировых заготовок алмазными инструментами с фракцией зерна наименьших размеров. Применяются алмазные абразивные круги на связке Ml с размером зёрен 125/100 мкм, 100/80 мкм. Концентрация 100%, марка алмаза АС 15, АС 20, АС 32, скорость инструмента 5 м/сек. При этом достигается шероховатость поверхности Ra 0,6 мкм, а глубина наружного слоя составляет h = 11 мкм. Скорость удаления продукта достигает 1000 мкм/мин. Данная ступень обработки происходит поэтапно, с применением режущего алмазного инструмента с постоянным уменьшением фракции алмазного зерна в этих инструментах. В зависимости от конкретной обрабатываемой детали, обработка может происходить как на без центровальном оборудовании, так и в центрах, как известно специалисту в данной области техники. При взаимодействии монокристалла с обрабатывающим инструментом необходимо учитывать анизотропию свойств лейкосапфира. Улучшение качества обработки достигается за счёт снижения резания единичными зёрнами инструмента. По завершении предфинишной обработки необходимо снять образовавшееся внутреннее напряжение в сапфировых заготовках, чтобы не происходило растрескивания сапфира. Для этого применяют метод отжига сапфировой заготовки. Заготовка отправляется в муфельную печь, где при постепенном нагревании до 700-800 °С в течение 20-30 минут происходит процесс снятия внутреннего напряжения. Затем печь отключают, и происходит медленное остывание. Остывшие заготовки готовы к дальнейшей финишной механической обработке.
Далее следует финишная обработка, или химико-механическое полирование. Шероховатость поверхности Ra 2-г5 А рабочих поверхностей лейкосапфировых плунжерных пар в сапфировых насос-дозаторах достигается следующим образом. Прошедшие предфинишную обработку детали подвергаются химико-механическому полированию. Применяется режим квазипластичности, который позволяет обрабатывать поверхности с шероховатостью 2-10 нм, съём составляет 0,4 мкм/мин, обработка ведётся суконным полировальным кругом с алмазным зерном 5/3 мкм на часовом масле при давлении 1,5*10 2 КСС/мм2, при тонком полировании обработка ведётся алмазным зерном 1/0 мкм на часовом масле, съём составляет 0,1 мкм/мин, при этом получается так называемый нанометровый рельеф поверхности. В качестве обрабатывающего доводочного инструмента используются полумягкие и мягкие притиры и полировальные круги. Рабочая часть этих инструментов изготовлена из полумягких и мягких материалов, таких как полиуретан, замша, фетр, сукно, наиболее предпочтительно натуральная замша и сукно. В качестве полировального материала применяются особо чистые профильтрованные часовые марки масел. При химико-механической полировке цилиндрических сапфировых поверхностей удаляется не основной материал, а промежуточный слой, образованный за счёт химического действия жидкостей. Процесс травления можно подразделить на две стадии: - диффузию анионных и катионных комплексов на поверхности кристалла;
- образование и удаление адсорбированного соединения с поверхности кристалла. Шероховатость обработанных поверхностей снижается, а фактура и чистота их улучшается:
- по мере уменьшения зернистости алмазной суспензии;
- при переходе от твёрдых шлифовальных инструментов на операциях грубого и тонкого шлифования к эластичным и мягким полировальным инструментам из полиуретана, замши и фетра на заключительных операциях обработки;
- при переходе от алмазно-абразивного резания к трибохимическому взаимодействию полировального состава, например NALCO-2354, NALCO 2360 или Сиопол-1 (Рогов В.В. Физико-химия в процессах формирования функциональных поверхностей деталей электронной техники и оптических систем из стекла и сапфира (ос-АЬОз) при трибохимическом полировании. Сверхтвердые материалы, 2009, 4, с. 74-83; UA48581 А, 15.08.2002) с сапфиром при снятии припусков.
При этом достигается наименьшая шероховатость обработанной цилиндрической поверхности Ra 2-^5 А и наивысший класс оптической чистоты Р 0-10 (ГОСТ 11141-84). При этом режим подачи травильного раствора на полировальный круг капельным способом составляет 25-45 капель/мин. Для получения таких результатов применяют один из двух видов полировальных составов: 1. Сиопол-1 с водно-аммиачным коллоидным раствором ОСЧ.6-3, рН 9,3
(Рогов В.В. Физико-химия в процессах формирования функциональных поверхностей деталей электронной техники и оптических систем из стекла и сапфира (α-АЬОз) при трибохимическом полировании. Сверхтвердые материалы, 2009, Ne 4, с. 74-83; UA48581 А, 15.08.2002)
б 2. Водный раствор коллоидного кремнезёма (S1O2) NALCO-2354, рН 10,85 или NALCO-2360, рН 8,54.
Состояние обработанной поверхности Ra 2-г5 А.
Все процессы обработки, их высокая геометрическая точность по круглости, паралельности, центричности, линейности и шероховатости поверхности на всех этапах изготовления отслеживаются на электронных экранах мониторов высокоточного станочного оборудования. Финишная приёмка на предмет качества изготовления осуществляется в лаборатории ОТК с помощью механических и электронных измерительных приборов. Параметр Ra измеряется на оптических бесконтактных приборах, в частности, МИИ-5, МИИ-10 и МИИ-15 (МИИ - микроскоп интерференционный измерительный), МПИ (микроскоп профилометр интерференционный) и на Двухлучевой аналитической системе FEI Helios 650 Nanolab для растровой электронно- ионной микроскопии (SEM: Микроскопия поверхности с разрешением менее 0,7 нм).
Далее при необходимости сапфировые стержень и цилиндр запрессовываются в соответствующие металлические детали ручным механическим прессом. Вспомогательные части дозаторов, в частности части дозаторов для крепежа к машине, запрессовки сапфира в металл, состоят из медицинской нержавеющей стали, предпочтительно марки AISI 316 L или 12Х18Н10Т.
Описанным выше «многоступенчатым лестничным способом химико- механической полировки» рабочих поверхностей сапфировых плунжерных пар достигается технический результат изобретения - снижение коэффициента трения трущихся поверхностей, что в свою очередь позволяет уменьшить износ деталей плунжерной пары и увеличить таким образом ресурс эксплуатации насоса-дозатора на её основе, в том числе дольше сохранять точность дозировки дозируемых жидкостей, что особенно важно в фармацевтической промышленности при дозировании жидких лекарственных средств. Предполагаемый срок службы насосов-дозаторов на основе обработанных «многоступенчатым лестничным способом химико- механической полировки» сапфировых плунжерных пар составляет 25-30 лет, что значительно превышает срок службы коммерчески доступных на настоящий момент насосов-дозаторов с плунжерными парами из металлических и керамических материалов.
Вышеприведённый пример осуществления изобретения является неограничивающим, и другие воплощения в рамках формулы изобретения могут быть осуществлены специалистом в данной области техники. Для заявляемой плунжерной пары и насоса-дозатора на её основе существенными признаками, находящимися в причинно-следственной связи с достигаемым техническим результатом, являются только материал, из которого изготовлены детали плунжерной пары - кристалл на основе ос-модификации оксида алюминия, предпочтительно монокристалл лейкосапфира, и шероховатость поверхности Ra 2-г5 А; все остальные признаки, такие как наличие дополнительных деталей, геометрические размеры и материалы деталей за исключением материала цилиндра и поршня, конструкционные особенности насосов-дозаторов и т.д., являются несущественными для достижения заявленного технического результата и могут быть выбраны специалистом в данной области техники из известных вариантов на основании известных принципов конструирования.
Для заявляемого способа обработки цилиндрических поверхностей деталей из кристалла на основе α-модификации оксида алюминия с достижением шероховатости поверхности Ra 2-J-5 А существенными признаками, находящимися в причинно-следственной связи с достигаемым техническим результатом, является наличие следующих стадий и веществ: высверливание предварительных заготовок деталей из кристалла на основе сс- модификации оксида алюминия при помощи алмазного инструмента, трехступенчатую механическую обработку поверхности алмазным инструментом в присутствии смазочно-охлаждающих жидкостей с последовательным убыванием величины зерна абразива до 125/100 и/или 100/80 мкм, снятие внутреннего напряжения в заготовках методом отжига в муфельной печи, обработку поверхности полумягким или мягким полировальным кругом или притиром с алмазным зерном 5/3 мкм и/или 1/0 мкм на часовом масле, трибохимическое полирование поверхности полировальным составом на основе коллоидного Si02. Данный способ обработки может быть использован и для других неплоских поверхностей сапфира, например сферических.
Группа изобретений удовлетворяет требованию единства изобретения, т.к. способ обработки предназначен для изготовления плунжерной пары и насоса-дозатора на её основе, а плунжерная пара предназначена для использования в насосе-дозаторе.

Claims

Формула изобретения
1. Способ обработки цилиндрических поверхностей деталей из кристалла на основе α-модификации оксида алюминия с достижением шероховатости поверхности Ra 2-^5 А, включающий высверливание предварительных заготовок деталей из кристалла на основе α-модификации оксида алюминия при помощи алмазного инструмента, трехступенчатую механическую обработку поверхности алмазным инструментом в присутствии смазочно- охлаждающих жидкостей с последовательным убыванием величины зерна абразива до 125/100 и/или 100/80 мкм, снятие внутреннего напряжения в заготовках методом отжига в муфельной печи, обработку поверхности полумягким или мягким полировальным кругом или притиром с алмазным зерном 5/3 мкм и/или 1/0 мкм на часовом масле, трибохимическое полирование поверхности полировальным составом на основе коллоидного Si02.
2. Способ по п.1, где кристалл на основе α-модификации оксида алюминия представляет собой монокристалл лейкосапфира.
3. Способ по п.1, где кристалл на основе α-модификации оксида алюминия представляет собой кристалл с примесями, выбранный из группы: кристалл цвета александрита, красный рубин, синий сапфир, оранжевый сапфир, оранжевый падпараджа, желтый сапфир, зеленый сапфир, розовый сапфир, темно-красный сапфир, фиолетовый сапфир.
4. Способ по любому из п. п. 1-3, где деталями являются цилиндр и поршень плунжерной пары.
5. Способ по п.1, где рабочая часть полумягкого или мягкого полировального круга или притира выполнена из полиуретана, замши, фетра или сукна.
6. Способ по п.1, где в качестве полировального состава на основе коллоидного SiOz используется NALCO-2354, NALCO-2360 или Сиопол-1.
7. Плунжерная пара, содержащая, как минимум, одну наружную деталь из кристалла на основе α-модификации оксида алюминия, и, как минимум, одну внутреннюю деталь из кристалла на основе α-модификации оксида алюминия, ю отличающаяся тем, что шероховатость контактирующих рабочих поверхностей деталей составляет Ra 2 5 А.
8. Плунжерная пара по п.7, где кристалл на основе α-модификации оксида алюминия представляет собой монокристалл лейкосапфира.
9. Плунжерная пара по п.7, где кристалл на основе α-модификации оксида алюминия представляет собой кристалл с примесями, выбранный из группы: кристалл цвета александрита, красный рубин, синий сапфир, оранжевый сапфир, оранжевый падпараджа, желтый сапфир, зеленый сапфир, розовый сапфир, темно-красный сапфир, фиолетовый сапфир.
10. Плунжерная пара по любому из п. п. 7-9, где наружная и внутренняя детали представляют собой цилиндр и поршень соответственно.
11. Насос-дозатор, содержащий плунжерную пару по п.7.
12. Насос-дозатор по п.11 для применения в фармацевтической, пищевой, химической, парфюмерной, косметической или машиностроительной промышленности.
PCT/RU2013/000342 2012-12-27 2013-04-22 Способ обработки цилиндрических поверхностей сапфировых деталей, сапфировая плунжерная пара и насос-дозатор на её основе Ceased WO2014104925A1 (ru)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EA201500475A EA027091B1 (ru) 2012-12-27 2013-04-22 Способ обработки цилиндрических поверхностей сапфировых деталей, сапфировая плунжерная пара и насос-дозатор на ее основе
EP13868960.9A EP2939810B1 (en) 2012-12-27 2013-04-22 Method for processing cylindrical surfaces of sapphire parts, a sapphire piston pair and a metering pump on the basis thereof
ES13868960.9T ES2682921T3 (es) 2012-12-27 2013-04-22 Procedimiento para procesar superficies cilíndricas de piezas de zafiro, un par de pistones de zafiro y una bomba de dosificación basada en los mismos

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2012157503 2012-12-27
RU2012157503/03A RU2521129C1 (ru) 2012-12-27 2012-12-27 Способ обработки цилиндрических поверхностей сапфировых деталей, сапфировая плунжерная пара и насос-дозатор на ее основе

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014104925A1 true WO2014104925A1 (ru) 2014-07-03

Family

ID=51021811

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/RU2013/000342 Ceased WO2014104925A1 (ru) 2012-12-27 2013-04-22 Способ обработки цилиндрических поверхностей сапфировых деталей, сапфировая плунжерная пара и насос-дозатор на её основе

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP2939810B1 (ru)
EA (1) EA027091B1 (ru)
ES (1) ES2682921T3 (ru)
RU (1) RU2521129C1 (ru)
WO (1) WO2014104925A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3153828A4 (en) * 2014-05-30 2018-02-28 Obschestvo S Ogranichennoy Otvetstvennostyu "Farmasapfir" Positive displacement hydraulic device for pumping and/or dosing liquids

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2585885C2 (ru) * 2014-08-12 2016-06-10 Общество с Ограниченной Ответственностью "ФармаСапфир" СПОСОБ ОБРАБОТКИ ТРУЩИХСЯ ПОВЕРХНОСТЕЙ ДЕТАЛЕЙ ИЗ ИСКУССТВЕННО ВЫРАЩЕННОГО МОНОКРИСТАЛЛА НА ОСНОВЕ АЛЬФА-Al2O3
RU2580892C1 (ru) * 2014-11-14 2016-04-10 Общество с Ограниченной Ответственностью "ФармаСапфир" Насос-дозатор
DE102021102859A1 (de) * 2021-02-08 2022-08-11 Tricumed Medizintechnik Gmbh Chip-Kapillare

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4273263A (en) 1978-05-13 1981-06-16 Robert Bosch Gmbh Filling apparatus for fluid media
DE2723320C2 (de) 1977-05-24 1982-11-04 Hassia Verpackung Gmbh, 6479 Ranstadt Füllpumpe, insbes. zum Einfüllen von keimfrei zu haltenden Lebensmitteln in Behälter
US4405294A (en) * 1980-10-11 1983-09-20 Dragerwerk Ag Dosing pump
SU1112043A1 (ru) * 1982-06-15 1984-09-07 Предприятие П/Я В-2038 Шлифовальный материал
FR2797046A1 (fr) 1999-07-30 2001-02-02 Spc France Dispositif de dosage volumetrique differentiel
UA48581A (ru) 2001-10-18 2002-08-15 Інститут Надтвердих Матеріалів Ім. В.М. Бакуля Нан України Способ финишной, прецизионной обработки деталей из монокорунда и полировальный инструмент
RU2240733C1 (ru) 2003-10-17 2004-11-27 САВЕНКОВ Виталий Алексеевич Плунжерная пара

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020036789A (ko) * 1999-06-25 2002-05-16 알프레드 엘. 미첼슨 세륨 옥사이드를 이용한 마이크로리소그라피용 플로라이드결정 광학 렌즈 및 예형의 연마방법
JP2004060513A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Shimadzu Corp 液体クロマトグラフ用送液ポンプ
RU2314762C2 (ru) * 2005-12-23 2008-01-20 Виталий Алексеевич САВЕНКОВ Плунжерная пара для хирургических инструментов, аппаратов, устройств и способ сборки плунжерной пары для хирургических инструментов, аппаратов, устройств
JP5789512B2 (ja) * 2009-07-31 2015-10-07 電気化学工業株式会社 Ｌｅｄ搭載用ウエハとその製造方法、及びそのウエハを用いたｌｅｄ搭載構造体

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2723320C2 (de) 1977-05-24 1982-11-04 Hassia Verpackung Gmbh, 6479 Ranstadt Füllpumpe, insbes. zum Einfüllen von keimfrei zu haltenden Lebensmitteln in Behälter
US4273263A (en) 1978-05-13 1981-06-16 Robert Bosch Gmbh Filling apparatus for fluid media
US4405294A (en) * 1980-10-11 1983-09-20 Dragerwerk Ag Dosing pump
SU1112043A1 (ru) * 1982-06-15 1984-09-07 Предприятие П/Я В-2038 Шлифовальный материал
FR2797046A1 (fr) 1999-07-30 2001-02-02 Spc France Dispositif de dosage volumetrique differentiel
UA48581A (ru) 2001-10-18 2002-08-15 Інститут Надтвердих Матеріалів Ім. В.М. Бакуля Нан України Способ финишной, прецизионной обработки деталей из монокорунда и полировальный инструмент
RU2240733C1 (ru) 2003-10-17 2004-11-27 САВЕНКОВ Виталий Алексеевич Плунжерная пара

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
V.V. ROGOV: "Physicochemistry in Processes of Formation of Functional Surfaces of Electronic Equipment and Optical Systems' Parts of Glass and Sapphire (?-Al O ) at Tribochemical Polishing", SVERKHTVYORDIYE MATERIALY, 2009, pages 74 - 83

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3153828A4 (en) * 2014-05-30 2018-02-28 Obschestvo S Ogranichennoy Otvetstvennostyu "Farmasapfir" Positive displacement hydraulic device for pumping and/or dosing liquids

Also Published As

Publication number Publication date
EA027091B1 (ru) 2017-06-30
EP2939810B1 (en) 2018-06-06
ES2682921T3 (es) 2018-09-24
EP2939810A1 (en) 2015-11-04
EP2939810A4 (en) 2016-08-24
EA201500475A1 (ru) 2015-11-30
RU2521129C1 (ru) 2014-06-27
RU2012157503A (ru) 2014-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI569315B (zh) 半導體用合成石英玻璃基板之製造方法
EP2587312B1 (en) Electronic grade glass substrate and making method
RU2521129C1 (ru) Способ обработки цилиндрических поверхностей сапфировых деталей, сапфировая плунжерная пара и насос-дозатор на ее основе
TWI610358B (zh) 鏡面硏磨晶圓的製造方法
TW201217098A (en) Method of preparing an edge-strengthened article
TW201510201A (zh) 具有陽離子界面活性劑之硏光漿料
WO2015059868A1 (ja) 半導体ウェーハの製造方法
尹韶辉 et al. Inclined axis magnetorheological finishing technology for small aspherical surface
JP2010021394A (ja) 半導体ウェーハの製造方法
RU2585885C2 (ru) СПОСОБ ОБРАБОТКИ ТРУЩИХСЯ ПОВЕРХНОСТЕЙ ДЕТАЛЕЙ ИЗ ИСКУССТВЕННО ВЫРАЩЕННОГО МОНОКРИСТАЛЛА НА ОСНОВЕ АЛЬФА-Al2O3
US20150266155A1 (en) Method for producing polished-article
CN105980103B (zh) 工件的双头磨削方法
TWI547552B (zh) 硏光加工用硏磨材及使用此之基板的製造方法
白振伟 et al. Experimental investigations into forces acting between cluster MR effect pad and workpiece surface
WO2020137187A1 (ja) 両頭研削方法
Park et al. The Effect of Pressure and Platen Speed on the Material Removal Rate of Sapphire Wafer in the CMP Process
JP5589041B2 (ja) 少なくとも３つの加工物の同時両面材料除去処理のための方法
Watt et al. AlumaGem for polishing calcium fluoride
Venkatesh et al. Precision micro-machining of silicon and glass
Abbas et al. Investigation of slurry aggregation effects on the chemical mechanical polishing process with electrical power sensor utilization
CN120116032A (zh) 一种单晶硅光学元件表面去除彩虹纹的工艺方法
CN116638382A (zh) 一种小尺寸硬化内花键振动研磨方法
Zhang et al. Mechanism analysis and modelling of surface roughness for CeO2 slurry assisted grinding of BK7 optics considering both particle size and mass fraction
Marinescu et al. 4 LappingMaterials of Brittle
Yuan et al. Experimental Study on Micro-End Lapping Mechanism

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13868960

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201500475

Country of ref document: EA

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2013868960

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE