WO2014115210A1 - コーティング剤 - Google Patents

コーティング剤 Download PDF

Info

Publication number
WO2014115210A1
WO2014115210A1 PCT/JP2013/006973 JP2013006973W WO2014115210A1 WO 2014115210 A1 WO2014115210 A1 WO 2014115210A1 JP 2013006973 W JP2013006973 W JP 2013006973W WO 2014115210 A1 WO2014115210 A1 WO 2014115210A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
integer
coating agent
atom
ppm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2013/006973
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
太軌 山手
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Soda Co Ltd filed Critical Nippon Soda Co Ltd
Priority to US14/759,969 priority Critical patent/US10947393B2/en
Priority to CN201380071019.9A priority patent/CN104937055B/zh
Priority to SG11201505710UA priority patent/SG11201505710UA/en
Priority to KR1020177035816A priority patent/KR102105241B1/ko
Priority to KR1020157018225A priority patent/KR101828139B1/ko
Priority to KR1020177035814A priority patent/KR20170141278A/ko
Priority to JP2014558294A priority patent/JP6035350B2/ja
Priority to EP13872476.0A priority patent/EP2949716B1/en
Publication of WO2014115210A1 publication Critical patent/WO2014115210A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D201/00—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
    • C09D201/02—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/007—Esters of unsaturated alcohols having the esterified hydroxy group bound to an acyclic carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/52—Esters of acyclic unsaturated carboxylic acids having the esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
    • C07C69/533—Monocarboxylic acid esters having only one carbon-to-carbon double bond
    • C07C69/54—Acrylic acid esters; Methacrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/048—Forming gas barrier coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2300/00—Characterised by the use of unspecified polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2433/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2433/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2433/14—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2435/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2435/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2443/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium or a metal; Derivatives of such polymers
    • C08J2443/04—Homopolymers or copolymers of monomers containing silicon
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31678—Of metal
    • Y10T428/31692—Next to addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31699—Ester, halide or nitrile of addition polymer
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31935—Ester, halide or nitrile of addition polymer

Definitions

  • the present invention relates to a novel coating agent, particularly a coating agent having excellent adhesion to a plastic substrate.
  • a compound having an aryl group is known as a monomer that gives a polymer (optical material) having transparency and a high refractive index.
  • Patent Documents 1 and 2 describe that a compound having a triphenylsilyl group can be used as an optical material such as a lens or a prism.
  • Patent Document 3 describes that a compound having four phenyl groups can be used in an optical element.
  • coating agents containing these compounds are excellent in adhesion to plastic substrates.
  • the compound represented by formula (I) can provide a coating agent that forms a layer having excellent adhesion to a plastic substrate. It came to be completed.
  • R 1 represents an electron donating group, a represents an integer of 0 to 5, and a ′ represents an integer of 0 to 7.
  • Z is a carbon atom or a silicon atom
  • R 2 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a linear or branched C1-C6 alkyl group, a linear or branched C1-C6 alkoxy group, a C3-C6 cyclic alkyl group, or a C3-C6 cyclic alkoxy group
  • X is a single bond
  • a C1-C20 alkylene group which may contain an amide structure or a urethane structure;
  • R 1 represents an electron donating group, a represents an integer of 0 to 5, and a ′ represents an integer of 0 to 7.
  • Z is a carbon atom or a silicon atom
  • R 2 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a linear or branched C1-C6 alkyl group, a linear or branched C1-C6 alkoxy group, a C3-C6 cyclic alkyl group, or a C3-C6 cyclic alkoxy group
  • X is a single bond
  • a C1-C20 alkylene group which may contain an amide structure or a urethane structure;
  • R 1 represents an electron donating group, a represents an integer of 0 to 5, and a ′ represents an integer of 0 to 7.
  • Z is a carbon atom or a silicon atom
  • R 2 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a linear or branched C1-C6 alkyl group, a linear or branched C1-C6 alkoxy group, a C3-C6 cyclic alkyl group, or a C3-C6 cyclic alkoxy group
  • X is a single bond
  • a C1-C20 alkylene group which may contain an amide structure or a urethane structure;
  • a coating agent containing a compound represented by formula (I) is further added to formula (II) R 4 Si (R 3 ) 3 (II) (Wherein R 4 represents a C2-C8 alkenyl group, a C6-C10 aryl group, or a C1-C30 alkyl group optionally substituted with an epoxy group, a glycidyloxy group or a (meth) acryloxy group,
  • R 4 represents a C2-C8 alkenyl group, a C6-C10 aryl group, or a C1-C30 alkyl group optionally substituted with an epoxy group, a glycidyloxy group or a (meth) acryloxy group
  • the coating agent according to any one of (1) to (5) above, which comprises a condensate of an organosilane compound represented by R 3 is a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
  • a molded article comprising a substrate coated with the coating agent according to any one of (1) to (6) above and a layer obtained by curing the coating agent is directly provided.
  • the present invention it is possible to provide a coating agent that forms a high refractive index layer excellent in adhesion to a plastic substrate, particularly a cycloolefin polymer substrate.
  • the said coating agent contains the condensate of an organosilane compound, it can utilize as an organic inorganic composite film or its composition for formation.
  • the layer formed with the coating agent of this invention is excellent in adhesiveness, and can use this layer as a contact bonding layer and an intermediate
  • a functional film that could not be directly coated on a plastic substrate can be laminated via the film of the present invention.
  • Coating agent (compound of formula (I))
  • the coating agent of the present invention contains a compound represented by the following formula (I).
  • the compound represented by the formula (I) may be only one kind or a mixture of two or more kinds.
  • R 1 represents an electron donating group, a represents an integer of 0 to 5, and a ′ represents an integer of 0 to 7.
  • Z is a carbon atom or a silicon atom
  • R 2 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a linear or branched C1-C6 alkyl group, a linear or branched C1-C6 alkoxy group, a C3-C6 cyclic alkyl group, or a C3-C6 cyclic alkoxy group
  • X is a single bond
  • a C1-C20 alkylene group which may contain an amide structure or a urethane structure;
  • Examples of the electron donating group for R 1 include a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 alkylthio group, a C6-C10 aryl group, and a C6-C10 aryloxy group.
  • Examples of the electron donating group for R 1 are as follows.
  • Examples of the “C1-C6 alkyl group” include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, and n-pentyl. Group, n-hexyl group and the like.
  • Examples of the “C1-C6 alkoxy group” include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, n-butoxy group, s-butoxy group, i-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group.
  • C1-C6 alkylthio group examples include methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, i-propylthio group, n-butylthio group, s-butylthio group, i-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group. Group, n-hexylthio group and the like.
  • Examples of the “C6-C10 aryl group” include a phenyl group and a naphthyl group.
  • Examples of the “C6-C10 aryloxy group” include a phenoxy group and a naphthoxy group.
  • the “C1-C20 alkylene group” is a divalent carbon chain, such as a methylene chain, dimethylene chain, trimethylene chain, methyldimethylene chain, tetramethylene chain, 1,2-dimethyldimethylene chain, pentamethylene chain. 1-methyltetramethylene chain, 2-methyltetramethylene chain, hexamethylene chain, octamethylene chain, decamethylene chain, icosamethylene group and the like.
  • C1-C6 alkyl group of R in —NR—, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t -Butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group and the like.
  • Examples of the “C3-C6 divalent aliphatic cyclic group” include 1,1-cyclopropylene group, 1,2-cyclopropylene group, 1,2-cyclobutylene group, 1,3-cyclobutylene group, 1, Examples include 2-cyclohexylene group and 1,4-cyclohexylene group.
  • Examples of the “C6 to C10 arylene group” include 1,2-phenylene group, 1,4-phenylene group, 1,2-naphthylene group, 1,5-naphthylene group and the like.
  • the oxygen atom, sulfur atom, and selenium atom include, for example, the case of —O— and —CO— in the case of an oxygen atom.
  • R represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group
  • C3-C6 divalent aliphatic cyclic group C6-C10 arylene
  • Specific examples of X as the “C1-C20 alkylene group optionally containing a group, an amide structure or a urethane structure” include the following.
  • R 5 and R 6 represent an electron donating group, and are a hydroxyl group, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 alkylthio group, a C6 to C10 aryl group, and a C6 to C10. Of the aryloxy group.
  • Examples of the electron donating groups of R 5 and R 6 are as follows.
  • Examples of the “C1-C6 alkyl group” include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, i-butyl group, t-butyl group, and n-pentyl. Group, n-hexyl group and the like.
  • Examples of the “C1-C6 alkoxy group” include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, n-butoxy group, s-butoxy group, i-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group.
  • C1-C6 alkylthio group examples include methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, i-propylthio group, n-butylthio group, s-butylthio group, i-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group. Group, n-hexylthio group and the like.
  • Examples of the “C6-C10 aryl group” include a phenyl group and a naphthyl group.
  • Examples of the “C6-C10 aryloxy group” include a phenoxy group and a naphthoxy group.
  • a ′′ and a ′ ′′ are each independently an integer of 0 to 4, preferably 0 or 1
  • n1 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 10, and more preferably an integer of 1 to 5.
  • n2 is an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 5, and more preferably an integer of 1 to 2.
  • n3 and n4 are each independently an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 5.
  • m1 is an integer of 0 or 1.
  • polyesters polyurethanes, polyisocyanates or polycarbonates.
  • the compound represented by the formula (I) of the present invention can be produced by a known method, and for example, can be produced by a method described in JP-A-63-145287, WO2009 / 139476, etc.
  • TIPS represents a triisopropylsilyl group.
  • copolymerizable compounds other than the compound represented by the formula (I) may be appropriately selected according to the purpose of adjustment such as melting point, viscosity or refractive index, and are not particularly limited. Things.
  • acrylic acid esters such as isocyanate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, diallyl terephthalate, allyl esters such as diethylene glycol bisallyl carbonate, triallyl
  • the proportion of the compound of formula (I) contained in the total polymerizable compound is preferably 30 mol% or more, and more preferably 50 mol% or more.
  • the coating agent of the present invention may contain a polymerization initiator.
  • the polymerization reaction include a photopolymerization reaction and a thermal polymerization reaction, but a photopolymerization reaction that does not require consideration of the thermal influence on the plastic substrate is more preferable.
  • Examples of light used for the photopolymerization reaction include ultraviolet light and visible light, and ultraviolet light is preferred because of its high polymerization rate.
  • Examples of the photopolymerization initiator include (a) a compound that generates cationic species by light irradiation, and (b) a compound that generates active radical species by light irradiation.
  • Examples of the compound that generates a cationic species by light irradiation include, for example, a cation moiety having sulfonium, iodonium, diazonium, ammonium, (2,4-cyclopentadien-1-yl) [(1-methylethyl) benzene] -Fe cation.
  • the anion moiety is composed of BF 4 ⁇ , PF 6 ⁇ , SbF 6 ⁇ , [BX 4 ] ⁇ (where X is a phenyl group substituted with at least two fluorine or trifluoromethyl groups).
  • Onium salts are examples of the compound that generates a cationic species by light irradiation.
  • sulfonium salts include bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluorophosphate, bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluoroantimonate, bis [4- (diphenyl).
  • iodonium salts include diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium tetrafluoroborate, diphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, bis (dodecylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, bis (dodecylphenyl) iodonium Examples thereof include hexafluoroantimonate, bis (dodecylphenyl) iodonium tetrafluoroborate, bis (dodecylphenyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and the like.
  • diazonium salt examples include phenyldiazonium hexafluorophosphate, phenyldiazonium hexafluoroantimonate, phenyldiazonium tetrafluoroborate, phenyldiazonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and the like.
  • ammonium salts include 1-benzyl-2-cyanopyridinium hexafluorophosphate, 1-benzyl-2-cyanopyridinium hexafluoroantimonate, 1-benzyl-2-cyanopyridinium tetrafluoroborate, 1-benzyl-2-cyanopyridinium Tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 1- (naphthylmethyl) -2-cyanopyridinium hexafluorophosphate, 1- (naphthylmethyl) -2-cyanopyridinium hexafluoroantimonate, 1- (naphthylmethyl) -2-cyanopyridinium And tetrafluoroborate, 1- (naphthylmethyl) -2-cyanopyridinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and the like.
  • (2,4-Cyclopentadien-1-yl) [(1-methylethyl) benzene] -Fe salt includes (2,4-cyclopentadien-1-yl) [(1-methylethyl) benzene] -Fe.
  • Examples of the compound that generates active radical species by light irradiation include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, xanthone, fluorenone, benzaldehyde.
  • the thermal polymerization initiator refers to a compound that generates radicals upon heating, and examples thereof include organic peroxides, azo compounds, and redox initiators.
  • organic peroxide include benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl hydroperoxide and dicumyl peroxide, acetyl peroxide, lauroyl peroxide, cyclohexanone peroxide, dibenzoyl Peroxides, peroxides such as tert-butylpermaleate; peroxycarbonates such as 1,6bis (t-butylperoxycarbonyloxy) hexane; peroxyketals; potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium persulfate, etc. Examples include persulfates.
  • Examples of the azo compound include 2,2′-azobispropane, 2,2′-dichloro-2,2′-azobispropane, 1,1′-azo (methylethyl) diacetate, and 2,2′-azo.
  • redox initiator examples include a combination of hydrogen peroxide-iron (II) salt, organic oxide-dimethylaniline, cerium (IV) salt-alcohol, and the like.
  • the amount of the polymerization initiator used in the present invention is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total amount of all polymerizable compounds.
  • a sensitizer can be added as necessary.
  • trimethylamine, methyldimethanolamine, triethanolamine, p-dimethylaminoacetophenone, ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, N, N-dimethylbenzylamine and 4,4′-bis ( Diethylamino) benzophenone and the like can be used.
  • the coating agent of the present invention includes, if necessary, a condensate of an organic silane compound, a metal compound, an organic solvent, an ultraviolet absorber, a dye, a rust inhibitor, a preservative, and the like as long as the object of the present invention is not impaired.
  • the additive component can be blended.
  • the coating agent of the present invention may contain a condensate of an organosilane compound for the purpose of laminating an organic inorganic layer. Thereby, an organic-inorganic composite film having good adhesion to the substrate can be formed.
  • the condensate of the organic silane compound can be produced by using a known silanol condensation method for the organic silane compound represented by the formula (II).
  • R 4 represents a C2-C8 alkenyl group, a C6-C10 aryl group, or a C1-C30 alkyl group optionally substituted with an epoxy group, a glycidyloxy group or a (meth) acryloxy group, and R 3 represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
  • Examples of the C2-C8 alkenyl group for R 4 include a vinyl group, an allyl group, and a 2-propenyl group.
  • C1-C30 alkyl groups include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, n-pentyl, isopentyl, neopentyl Group, 2-methylbutyl group, 2,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, isohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, nonyl group, isononyl group, decyl group, lauryl group, tridecyl group, myristyl group , Pentadecyl group, palmityl group, heptadecyl group, stearyl group and the like.
  • Examples of the C6 to C10 aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
  • the hydrolyzable group of R 3 is, for example, a group that can be hydrolyzed to produce a silanol group by heating at 25 ° C. to 100 ° C. in the presence of non-catalyst and excess water, siloxane condensation Means a group capable of forming a product, and specific examples thereof include an alkoxy group, an acyloxy group, a halogen group, an isocyanate group, and the like, including an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a group having 1 to 6 carbon atoms. An acyloxy group is preferred.
  • examples of the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, t-butoxy group and the like.
  • examples of the acyloxy group 6 include an acetyloxy group and a benzoyloxy group.
  • examples of the halogen include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the organosilane compound represented by the formula (II) used in the present invention has a solubility parameter (SP1) obtained by the Fedors estimation method represented by the formula (I) obtained by the Fedors estimation method. It is preferable that the solubility parameter (SP2) of the compound is smaller and the difference is a group of 1.6 or more. When SP1 is smaller than SP2 and the difference is 1.6 or more, there is an advantage that the inorganic component is easily segregated on the coating film surface.
  • the solubility parameter (SP value) is calculated based on the following Fedors estimation method.
  • solubility parameter (SP value) of the compound represented by formula (I) and the organosilicon compound represented by formula (II) can be calculated based on the Fedors' estimation method, based on the SP value calculated in advance, The combination of the compound represented by formula (I) and the organosilicon compound represented by formula (II) can be determined.
  • Examples of the compound include methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, t -Butyltrimethoxysilane, sec-butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, pentyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, etc. Both SP value is 8.61 or less) and the like.
  • the mass ratio in the layer of the compound represented by formula (I) (and other copolymerizable compound, if present) and the condensate of the organosilane compound represented by formula (II) is 99: 1. ⁇ 55: 45 is preferred.
  • the silanol condensation catalyst is not particularly limited as long as it hydrolyzes a hydrolyzable group in the compound represented by the formula (II) and condenses the silanol to form a siloxane bond.
  • Examples thereof include at least one selected from the group consisting of a salt, a metal hydroxide, an acid, a base, a metal chelate compound, a hydrolyzate thereof, and a condensate thereof.
  • a silanol condensation catalyst can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • organic metal examples include alkyl metal compounds such as tetramethyltitanium and tetrapropylzirconium; metal propoxide, metal isopropoxide, metal n-butoxide, specifically metal alcoholates such as tetraisopropoxytitanium and tetrabutoxyzirconium Etc.
  • the organic acid metal salt is a compound composed of a salt obtained from a metal ion and an organic acid.
  • the organic acid include carboxylic acids such as acetic acid, oxalic acid, tartaric acid and benzoic acid; and sulfur-containing organic materials such as sulfonic acid and sulfinic acid. Examples include acids, phenolic compounds, enol compounds, oxime compounds, imide compounds, aromatic sulfonamides, and the like. Specific examples include carboxylic acid metal salts, sulfonic acid metal salts, phenol metal salts, and the like.
  • a metal hydroxide is a metal compound having a hydroxide ion as an anion.
  • the metal chelate compound is preferably a metal chelate compound having a hydroxyl group or a hydrolyzable group, and more preferably a metal chelate compound having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups.
  • having two or more hydroxyl groups or hydrolyzable groups means that the sum of hydrolyzable groups and hydroxyl groups is 2 or more.
  • the hydrolyzable group include an alkoxy group, an acyloxy group, a halogen group, and an isocyanate group, and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and an acyloxy group having 1 to 4 carbon atoms are preferable.
  • the metal chelate compound is preferably a ⁇ -ketocarbonyl compound, a ⁇ -ketoester compound, or an ⁇ -hydroxyester compound.
  • organic acid metal salts organic acid metal salts, metal hydroxides, and metal chelate compounds
  • titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al) Tin (Sn) is preferable, and titanium (Ti) is particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the acid include organic acids and mineral acids.
  • Specific examples of the organic acid include acetic acid, formic acid, oxalic acid, carbonic acid, phthalic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, and the like.
  • Examples of the mineral acid include hydrochloric acid, nitric acid, boric acid, borohydrofluoric acid, and the like.
  • a photoacid generator that generates an acid by light irradiation, specifically, diphenyliodonium hexafluorophosphate, triphenylphosphonium hexafluorophosphate, and the like are also included in the acid.
  • the base examples include strong bases such as tetramethylguanidine and tetramethylguanidylpropyltrimethoxysilane; organic amines, carboxylic acid neutralized salts of organic amines, quaternary ammonium salts, and the like.
  • the compounding ratio of the silanol condensation catalyst is 1:99 to 99: 1, preferably 1:99 to 50:50 with respect to the mass of the organosilane compound.
  • Metal Compound A metal compound can be added to the coating agent of the present invention for the purpose of increasing the refractive index and hardness of the formed layer.
  • the metal compound include the organic silane compounds described above, and organic metals exemplified as silanol condensation catalysts, organic acid metal salts, metal hydroxides, and metal chelate compounds.
  • Other metal compounds include metal oxides. Specific examples include silicon dioxide, titanium oxide, aluminum oxide, chromium oxide, manganese oxide, iron oxide, zirconium oxide (zirconia), cobalt oxide metal oxide particles, and the like. Zirconium oxide is particularly preferable.
  • colloidal metal oxide particles can also be used as the metal oxide particles of the present invention. Specific examples include colloidal silica and colloidal zirconium, and water-dispersed colloidal or organic solvent-dispersed colloidal metal oxide particles such as methanol or isopropyl alcohol.
  • the coating agent of the present invention can contain an organic solvent.
  • Typical organic solvents that can be used include ether-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ketone-based, and organic halide-based solvents. , Ester series and aliphatic hydrocarbon series are preferred.
  • Specific ether compounds include diethyl ether, dipropyl ether, dibutyl ether, diamyl ether, and ester specific compounds include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, heptyl acetate, ethyl butyrate, isoamyl.
  • Specific compounds of isovalerate, aliphatic hydrocarbons are normal hexane, normal heptane, cyclohexane, aromatic compounds are toluene, xylene, ketone compounds are methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone
  • organic halide compounds include trichloroethane and trichlorethylene.
  • relatively inactive solvents such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether can also be used.
  • ester systems such as propyl acetate, butyl acetate, isoamyl acetate, heptyl acetate, ethyl butyrate and isoamyl isovalerate having aromaticity
  • a solvent comprising is preferred.
  • the molded body of the present invention is obtained by coating a plastic substrate with a coating agent containing the compound represented by the above formula (I) and directly providing a layer obtained by curing the coating agent.
  • the base material on which the coating agent of the present invention can be used is preferably a plastic base material, and examples thereof include cycloolefin resin, polycarbonate resin, acrylic resin, polyimide resin, polyester resin, epoxy resin, liquid crystal polymer resin, and polyether sulfone.
  • a cycloolefin resin is particularly preferably used.
  • the coating agent in the present invention if necessary, a condensate of the organic silane compound, a photopolymerization initiator, It is prepared by mixing a metal compound or the like.
  • a condensate of an organic silane compound it is also called an organic inorganic composite film or its formation composition.
  • solvent to be used examples include the above-mentioned organic solvents. These solvents can be used alone or in combination of two or more.
  • tetrafunctional silane and colloidal silica can be added for the purpose of improving the hardness of the resulting coating film.
  • examples of the tetrafunctional silane include tetraaminosilane, tetrachlorosilane, tetraacetoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, tetrabenzyloxysilane, tetraphenoxysilane, tetra (meth) acryloxysilane, tetrakis [2 -(Meth) acryloxyethoxy] silane, tetrakis (2-vinyloxyethoxy) silane, tetraglycidyloxysilane, tetrakis (2-vinyloxybutoxy) silane, tetrakis (3-methyl-3-oxetanemethoxy) silane be able to.
  • fillers can be added and dispersed separately in order to develop various properties such as coloring, thickening the coating film, preventing UV transmission to the substrate, imparting corrosion resistance, and heat resistance.
  • the filler include water-insoluble pigments such as organic pigments and inorganic pigments, and particulate and fibrous or scale-like metals and alloys other than pigments, and oxides, hydroxides, carbides, nitrides thereof, and the like. Examples thereof include sulfides.
  • this filler include particulate, fibrous or scale-like iron, copper, aluminum, nickel, silver, zinc, ferrite, carbon black, stainless steel, silicon dioxide, titanium oxide, aluminum oxide, chromium oxide, Manganese oxide, iron oxide, zirconium oxide, cobalt oxide, synthetic mullite, aluminum hydroxide, iron hydroxide, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, clay, diatomaceous earth, slaked lime, gypsum, talc, barium carbonate, calcium carbonate, carbonic acid
  • dehydrating agents such as methyl orthoformate, methyl orthoacetate, tetraethoxysilane, various surfactants, silane coupling agents other than the above, titanium coupling agents, dyes, dispersants, thickeners, leveling agents, etc. These additives can also be added.
  • the solid content in the coating layer forming solution in the present invention is preferably 1 to 90% by mass, and more preferably 5 to 60% by mass.
  • the coating layer of the present invention is (A) a step of applying the above-mentioned coating agent on a substrate and drying, and (B) light containing ultraviolet rays. It can manufacture by passing through the process of irradiating and hardening a coating agent. When using a thermal polymerization initiator, what is necessary is just to heat instead of irradiating light as said (B) process.
  • the compound represented by the formula (I) is polymerized and further contains a condensate of the organosilane compound represented by the formula (II).
  • the carbon atom content on the surface of the membrane is less than the carbon atom content inside the membrane (near the junction with the base material), and a condensed layer of a silane compound condensate is formed on the membrane surface. Can do.
  • a coating method of the coating agent a known coating method can be used, for example, dipping method, spray method, bar coating method, roll coating method, spin coating method, curtain coating method, gravure printing method, silk screen method, An ink jet method can be used.
  • the film thickness to be formed is not particularly limited and is, for example, about 0.1 to 200 ⁇ m.
  • the layer formed by applying the coating agent is preferably dried, for example, at 40 to 200 ° C. for about 0.5 to 120 minutes, more preferably at 60 to 120 ° C. for about 1 to 60 minutes. preferable.
  • Irradiation with ultraviolet rays can be performed using a known apparatus such as a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or an excimer lamp.
  • a functional laminated film can be provided on the layer formed using the coating agent of the present invention. Since the layer formed using the coating agent of the present invention has very good adhesion to the plastic substrate, this layer can be used as an adhesive layer and an intermediate layer. Conventionally, a functional film that could not be directly coated on a plastic substrate can be laminated via the film of the present invention. A plurality of layers can be laminated, and the coating agent of the present invention can be further coated on the plurality of layers and further laminated.
  • the functional laminated film examples include a transparent conductive film and a gas barrier film.
  • a transparent conductive film indium oxide film doped with tin (ITO film), tin oxide film doped with fluorine (FTO film), zinc oxide film doped with antimony, zinc oxide film doped with indium, etc. Is mentioned.
  • the gas barrier film is not particularly limited as long as it has gas barrier properties such as oxygen and water vapor, but is preferably a thin film of an inorganic compound, in particular, titanium, zirconium, aluminum, silicon, germanium, indium, tin, tantalum, zinc, A thin film of a metal oxide, metal nitride, metal carbide or a composite thereof having a metal element selected from the group consisting of tungsten and lead is preferred.
  • the thickness of these functional laminated films is usually 10 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm.
  • a method for forming a transparent conductive film or gas barrier film made of an inorganic compound on a layer formed using a coating agent can be formed by a known method, but sputtering, vacuum deposition, ion It can be performed by a physical method such as a plating method, a chemical method such as a spray method, a dip method, a thermal CVD method, or a plasma CVD method.
  • a film made of silicon oxide can be formed by using, for example, a silicon compound sintered in the presence of oxygen gas as a target, and oxygen can be formed using metal silicon as a target.
  • a film can also be formed by reactive sputtering in the presence.
  • a film made of silicon oxynitride can be formed on a substrate by supplying silane gas together with oxygen gas and nitrogen gas into a chamber in which plasma is generated and reacting them.
  • a film made of silicon oxide can be formed by using, for example, an organic solvent solution containing a silicon compound as an evaporant.
  • a film by sputtering, vacuum deposition, ion plating, or plasma CVD.
  • the surface of the layer formed using a coating agent may be subjected to plasma treatment or UV ozone treatment in advance, if necessary.
  • coating agent-1 2 g of the product (A-1) or (A-2) was dissolved in 8 g of methyl ethyl ketone (MEK). Thereafter, a photopolymerization initiator Irgacure (registered trademark) 907 (manufactured by BASF Corporation, UV polymerization initiator, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one) was added to 0.1. 08 g was added and dissolved by stirring for 15 minutes to prepare coating agents (B-1) and (B-2).
  • Irgacure registered trademark
  • UV light mainly composed of light of 365 nm, 313 nm, and 254 nm, manufactured by Eye Graphics, 120 W / cm, lamp height 9.8 cm, conveyor speed 5 m / min
  • a thin film was obtained by irradiating with an ultraviolet ray having an integrated dose of 400 mJ / cm 2 .
  • Cellotape (registered trademark) was affixed to each sample, and the tape was peeled off after being rubbed several times with the belly of the finger, and evaluated by the number of grids remaining without peeling off the coating film.
  • -Haze rate The haze rate of the coating film was measured using the haze meter (made by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).
  • -Total light transmittance The film slice was measured using a color / turbidity simultaneous measuring device (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd .; COH 400).
  • the coating layer had excellent transparency and a high refractive index.
  • the coating agents (B-3) to (B-9) were formed on the following plastic substrate by bar coating, and heated at 100 ° C. for 3 minutes in a hot air circulating dryer.
  • Condensing type high-pressure mercury lamp UV light mainly composed of 365 nm, 313 nm, and 254 nm wavelengths, manufactured by Eye Graphics, 1 lamp type, 120 W / cm, lamp height 9.8 cm, conveyor speed 5 m / min
  • a thin film was obtained by irradiating with an ultraviolet ray having an integrated irradiation amount of 400 mJ / cm 2 .
  • Base material 1 PET film Cosmo Shine A4300 (188 ⁇ m), Toyobo Base material 2: PEN film Theonex Q65F (125 ⁇ m), Teijin DuPont Base material 3: Acrylic plate Delaglass A (2mm), Asahi Kasei Base material 4: Polyimide Kapton 500H ( 126.7 ⁇ m), Toray DuPont
  • the coating agents (B-4) to (B-8) were formed on the following plastic substrate by bar coating, and heated at 100 ° C. for 3 minutes in a hot air circulating dryer.
  • Condensing type high-pressure mercury lamp UV light mainly composed of 365 nm, 313 nm, and 254 nm wavelengths, manufactured by Eye Graphics, 1 lamp type, 120 W / cm, lamp height 9.8 cm, conveyor speed 5 m / min
  • a thin film was obtained by irradiating with an ultraviolet ray having an integrated irradiation amount of 400 mJ / cm 2 .
  • Base material 5 COP plate ZEONOR 1600 (1mm), ZEON Nippon Base material 6: COP plate ZEONOR 1430R (1mm), Nippon ZEON Base material 7: COC plate TOPAS COC 5018L-10 (1 mm), Polyplastics base material 8 : COC plate TOPAS COC 6017S-04 (1mm), Polyplastics
  • coating layer-4 The coating agents (B-4) and (B-6) to (B-8) were formed into a film by bar coating on the following plastic substrate, and heated at 100 ° C. for 3 minutes in a hot air circulation dryer.
  • Condensing type high-pressure mercury lamp UV light mainly composed of 365 nm, 313 nm, and 254 nm wavelengths, manufactured by Eye Graphics, 1 lamp type, 120 W / cm, lamp height 9.8 cm, conveyor speed 5 m / min
  • a thin film was obtained by irradiating with an ultraviolet ray having an integrated irradiation amount of 400 mJ / cm 2 .
  • Substrate 9 COP film ZEONOR Film ZF-14 (188 ⁇ m), Nippon Zeon (stretched film)
  • Base material 10 COP film ZEONOR Film ZF-16 (188 ⁇ m), Nippon Zeon (stretched film)
  • Substrate 11 PET film Lumirror T60, Toray (stretched film)

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

　プラスチック基材との密着性に優れ、透明性と高屈折率を有する層を形成することができるコーティング剤を提供することを課題とする。本発明のコーティング剤は、式（Ｉ）［式中、Ａは、置換基として電子供与性基を有してもよいフェニル基、ナフチル基を表す。Ｚは、炭素原子またはケイ素原子、Ｒ２は、水素原子、水酸基、直鎖若しくは分岐のアルキル基、直鎖若しくは分岐のアルコキシ基、環状アルキル基、または環状アルコキシ基、Ｘは、単結合；酸素原子、硫黄原子、セレン原子、－ＮＲ－、２価の脂肪族環基、アリーレン基、アミド構造若しくはウレタン構造を含んでいてもよいのアルキレン基；２価の脂肪族環基；またはアリーレン基、Ｙは、重合可能な官能基、ｎは２または３の整数、ｍは１または２の整数、ｌは０または１の整数であり、ｎ＋ｍ＋ｌ＝４である。ｎが２または３の整数の場合、Ａは同一でも相異なっていてもよい。］で表される化合物を含有する。

Description

コーティング剤
　本発明は、新規なコーティング剤、特に、プラスチック基材との密着性に優れるコーティング剤に関する。
　本願は、２０１３年１月２８日に出願された日本国特許出願第２０１３－０１３０９２号に対し優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　アリール基を有する化合物は、透明性と高屈折率を有するポリマー（光学材料）を与えるモノマーとして知られている。例えば、特許文献１、２にはトリフェニルシリル基を有する化合物がレンズ、プリズム等の光学材料として使用できることが記載されている。また、特許文献３には４個のフェニル基を有する化合物が光学素子に使用できることが記載されている。
　しかしながら、これらの化合物を含有したコーティング剤がプラスチック基材との密着性に優れるということは知られてない。
特開昭６３－１４５３１０号公報 特開昭６３－１４５２８７号公報 ＷＯ２００９／１３９４７６号パンフレット
　プラスチック基材との密着性に優れ、透明性と高屈折率を有する層を形成することができるコーティング剤を提供することを課題とする。
　上記課題の解決のために鋭意検討の結果、式（Ｉ）で表される化合物が、プラスチック基材との密着性に優れた層を形成するコーティング剤を与えることができることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は、
（１）式（Ｉ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
［式中、
Ａは、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
（Ｒ１は、電子供与性基を表し、ａは、０～５の整数、ａ’は、０～７の整数を表す。）
Ｚは、炭素原子またはケイ素原子、
Ｒ２は、水素原子、水酸基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルキル基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ６の環状アルキル基、またはＣ３～Ｃ６の環状アルコキシ基、
Ｘは、単結合；
酸素原子、硫黄原子、セレン原子、－ＮＲ－（式中、Ｒは水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、Ｃ３～Ｃ６の２価の脂肪族環基、Ｃ６～Ｃ１０のアリーレン基、アミド構造若しくはウレタン構造を含んでいてもよいＣ１～Ｃ２０のアルキレン基；
Ｃ３～Ｃ１０の２価の脂肪族環基；
またはＣ６～Ｃ１０のアリーレン基、
Ｙは、重合可能な官能基、
ｎは２または３の整数、
ｍは１または２の整数、
ｌは０または１の整数であり、ｎ＋ｍ＋ｌ＝４である。
ｎが２または３の整数の場合、Ａは、同一でも相異なっていてもよい。］
で表される化合物を含有するコーティング剤。
（２）式（Ｉ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
［式中、
Ａは、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
（Ｒ１は、電子供与性基を表し、ａは、０～５の整数、ａ’は、０～７の整数を表す。）
Ｚは、炭素原子またはケイ素原子、
Ｒ２は、水素原子、水酸基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルキル基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ６の環状アルキル基、またはＣ３～Ｃ６の環状アルコキシ基、
Ｘは、単結合；
酸素原子、硫黄原子、セレン原子、－ＮＲ－（式中、Ｒは水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、Ｃ３～Ｃ６の２価の脂肪族環基、Ｃ６～Ｃ１０のアリーレン基、アミド構造若しくはウレタン構造を含んでいてもよいＣ１～Ｃ２０のアルキレン基；
Ｃ３～Ｃ１０の２価の脂肪族環基；
またはＣ６～Ｃ１０のアリーレン基、
Ｙは、重合可能な官能基、
ｎは２または３の整数、
ｍは１、
ｌは０または１の整数であり、ｎ＋ｍ＋ｌ＝４である。
ｎが２または３の整数の場合、Ａは、同一でも相異なっていてもよい。］
で表される化合物を含有するコーティング剤。
（３）式（Ｉ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
［式中、
Ａは、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
（Ｒ１は、電子供与性基を表し、ａは、０～５の整数、ａ’は、０～７の整数を表す。）
Ｚは、炭素原子またはケイ素原子、
Ｒ２は、水素原子、水酸基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルキル基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ６の環状アルキル基、またはＣ３～Ｃ６の環状アルコキシ基、
Ｘは、単結合；
酸素原子、硫黄原子、セレン原子、－ＮＲ－（式中、Ｒは水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、Ｃ３～Ｃ６の２価の脂肪族環基、Ｃ６～Ｃ１０のアリーレン基、アミド構造若しくはウレタン構造を含んでいてもよいＣ１～Ｃ２０のアルキレン基；
Ｃ３～Ｃ１０の２価の脂肪族環基；
またはＣ６～Ｃ１０のアリーレン基、
Ｙは、重合可能な官能基、
ｎは３、
ｍは１、
ｌは０である。
Ａは、同一でも相異なっていてもよい。］
で表される化合物を含有するコーティング剤。
（４）式（Ｉ）で表される化合物を含有するコーティング剤がさらに金属化合物を含有することを特徴とする上記（１）～（３）のいずれか一項に記載のコーティング剤。
（５）金属化合物がジルコニアであることを特徴とする上記（４）に記載のコーティング剤。
（６）式（Ｉ）で表される化合物を含有するコーティング剤が更に式（II）
Ｒ４Ｓｉ（Ｒ３）３　　（II）
（式中、Ｒ４はＣ２～Ｃ８のアルケニル基、Ｃ６～Ｃ１０のアリール基、又はエポキシ基、グリシジルオキシ基若しくは（メタ）アクリロキシ基で置換されていても良いＣ１～Ｃ３０のアルキル基を表し、Ｒ３は水酸基又は加水分解性基である）で表される有機シラン化合物の縮合物を含有することを特徴とする上記（１）～（５）のいずれか一項に記載のコーティング剤。
（７）上記（１）～（６）のいずれか一項に記載のコーティング剤を基材上にコーティングし、前記コーティング剤を硬化させた層を直接設けたことを特徴とする成形体。
（８）基材がプラスチック基材であることを特徴とする上記（７）に記載の成形体。
（９）上記（７）または（８）の成形体上に、さらに機能性を有する積層膜を設けたことを特徴とする成形体。
（１０）機能性を有する積層膜が、酸化インジウムスズ膜であることを特徴とする上記（９）に記載の成形体に関する。
　本発明によればプラスチック基材、特にシクロオレフィンポリマー基材への密着性に優れる高屈折率の層を形成するコーティング剤を提供することができる。また、前記コーティング剤に有機シラン化合物の縮合物を含有する場合は、有機無機複合膜又はその形成用組成物として利用できる。また、本発明のコーティング剤により形成された層は、密着性に優れ、本層を接着層、中間層として用いることができる。従来、プラスチック基材に直接コーティングすることができなかった機能性膜を本発明の膜を介して積層させることができる。
１　コーティング剤
（式（Ｉ）化合物）
　本発明のコーティング剤は、以下の式（Ｉ）で表される化合物を含有する。式（Ｉ）で表わされる化合物は一種のみであってもよく、２種以上の混合物であってもよい。
　式（Ｉ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
式中、Ａは、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
（Ｒ１は、電子供与性基を表し、ａは、０～５の整数、ａ’は、０～７の整数を表す。）
Ｚは、炭素原子またはケイ素原子、
Ｒ２は、水素原子、水酸基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルキル基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ６の環状アルキル基、またはＣ３～Ｃ６の環状アルコキシ基、
Ｘは、単結合；
酸素原子、硫黄原子、セレン原子、－ＮＲ－（式中、Ｒは水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、Ｃ３～Ｃ６の２価の脂肪族環基、Ｃ６～Ｃ１０のアリーレン基、アミド構造若しくはウレタン構造を含んでいてもよいＣ１～Ｃ２０のアルキレン基；
Ｃ３～Ｃ１０の２価の脂肪族環基；
またはＣ６～Ｃ１０のアリーレン基、
Ｙは、重合可能な官能基、
ｎは２または３の整数、
ｍは１または２の整数、
ｌは０または１の整数であり、ｎ＋ｍ＋ｌ＝４である。
ｎが２または３の整数の場合、Ａは、同一でも相異なっていてもよい。
　Ｒ１の電子供与性基としては、水酸基、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のアルキルチオ基、Ｃ６～Ｃ１０のアリール基、Ｃ６～Ｃ１０のアリールオキシ基が挙げられる。
　Ｒ１の電子供与性基を具体的に例示すると以下のとおりである。
　「Ｃ１～Ｃ６のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。
　「Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基」としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－ペントキシ基、ｎ－ヘキトキシ基等が挙げられる。
　「Ｃ１～Ｃ６のアルキルチオ基」としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基、ｉ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基、ｎ－ペンチルチオ基、ｎ－ヘキシルチオ基等が挙げられる。
　「Ｃ６～Ｃ１０のアリール基」としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
　「Ｃ６～Ｃ１０のアリールオキシ基」としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられる。
　Ｘの置換基を具体的に例示すると以下のとおりである。
　「Ｃ１～Ｃ２０のアルキレン基」は、二価の炭素鎖であり、たとえば、メチレン鎖、ジメチレン鎖、トリメチレン鎖、メチルジメチレン鎖、テトラメチレン鎖、１，２－ジメチルジメチレン鎖、ペンタメチレン鎖、１－メチルテトラメチレン鎖、２－メチルテトラメチレン鎖、ヘキサメチレン鎖、オクタメチレン鎖、デカメチレン鎖、イコサメチレン基等が挙げられる。
　－ＮＲ－中のＲの「Ｃ１～Ｃ６のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。
　「Ｃ３～Ｃ６の２価の脂肪族環基」としては、１，１－シクロプロピレン基、１，２－シクロプロピレン基、１，２－シクロブチレン基、１，３－シクロブチレン基、１，２－シクロヘキシレン基、１，４－シクロヘキシレン基等が挙げられる。
　「Ｃ６～Ｃ１０のアリーレン基」としては、１，２－フェニレン基、１，４－フェニレン基、１，２－ナフチレン基、１，５－ナフチレン基等が挙げられる。
　酸素原子、硫黄原子、セレン原子は、たとえば、酸素原子の場合、－Ｏ－及び－ＣＯ－の場合を包含する。
　「酸素原子、硫黄原子、セレン原子、－ＮＲ－（式中、Ｒは水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、Ｃ３～Ｃ６の２価の脂肪族環基、Ｃ６～Ｃ１０のアリーレン基、アミド構造若しくはウレタン構造を含んでいてもよいＣ１～Ｃ２０のアルキレン基」であるＸとして具体的には、以下が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　上記構造中、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
で表される構造が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
上記構造中、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
で表される構造が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　ここで、Ｒ５、Ｒ６は、電子供与性基を表し、水酸基、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のアルキルチオ基、Ｃ６～Ｃ１０のアリール基、Ｃ６～Ｃ１０のアリールオキシ基が挙げられる。
　Ｒ５、Ｒ６の電子供与性基を具体的に例示すると以下のとおりである。
　「Ｃ１～Ｃ６のアルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓ－ブチル基、ｉ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基等が挙げられる。
　「Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基」としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｓ－ブトキシ基、ｉ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ｎ－ペントキシ基、ｎ－ヘキトキシ基等が挙げられる。
　「Ｃ１～Ｃ６のアルキルチオ基」としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ－プロピルチオ基、ｉ－プロピルチオ基、ｎ－ブチルチオ基、ｓ－ブチルチオ基、ｉ－ブチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基、ｎ－ペンチルチオ基、ｎ－ヘキシルチオ基等が挙げられる。
　「Ｃ６～Ｃ１０のアリール基」としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
　「Ｃ６～Ｃ１０のアリールオキシ基」としては、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられる。
　また、ａ’’、ａ’’’は、独立して０～４の整数であり、好ましくは０あるいは１であり、
　ｎ１は１～２０の整数であり、好ましくは１～１０の整数であり、より好ましくは１～５の整数である。
　ｎ２は、１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数であり、より好ましくは１～２の整数である。
　ｎ３とｎ４は、独立して１～１０の整数であり、好ましくは１～５の整数である。
　ｍ１は、０または１の整数である。
　Ｙの重合可能な官能基としては、－Ｏ－ＣＯ－（Ｏ）ｍ２－ＣＲ＝ＣＨ２（但し、式中、ｍ２は０又は１、Ｒは水素原子又はメチル基を表す。）、－ＣＨ＝ＣＨ２、アリルオキシ基、アリルオキシカルボニルオキシ基、エポキシ基、または、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
などの、ポリエステル、ポリウレタン、ポリイソシアネート若しくはポリカーボネートを形成するために用いられる官能基等が挙げられる。
　本発明の式（Ｉ）で表される化合物を具体的に示すと、以下のものが例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000005
　本発明の式（Ｉ）で表される化合物は、公知の方法により製造できるが、例えば特開昭６３－１４５２８７号公報、ＷＯ２００９／１３９４７６号パンフレットなどに記載の方法により製造することができる。
　具体的には以下のとおりである。
１）３－（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリフェニルシラン、３－アリルオキシカルボニルオキシプロピルトリフェニルシランの場合
　市販のトリフェニルシランと酢酸アリルとの付加体をアルカリで加水分解して得た３－ヒドロキシプロピルトリフェニルシランに（メタ）アクリル酸クロリド又はクロルギ酸アリルを、ピリジン、トリエチルアミンなどの脱塩酸剤の存在下に夫々反応させることにより製造される。
２）３－アリルオキシプロピルトリフェニルシランの場合
　市販のトリフェニルシランをジアリルエーテルに付加させて製造される。
３）３－アクリロイルオキシエチルオキシテトラフェニルシランの場合
　下記に示す方法に従い製造される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　上記式において、ＴＩＰＳはトリイソプロピルシリル基を示す。
（その他の成分）
その他の共重合性化合物
　また、式（Ｉ）で表わされる化合物以外のその他の共重合性化合物を含んでいてもよい。
　式（Ｉ）で表わされる化合物以外のその他の共重合性化合物は、融点、粘度または屈折率などの調整目的に応じて適宜選定すればよく、特に限定されるものではないが、たとえば、以下のものが挙げられる。
　メチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ブロモフェニル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリス（２－（メタ）アクリロキシエチル）イソシアネート等の（メタ）アクリル酸エステル類、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタレート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のアリルエステル類、スチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等の芳香族オレフィン類等が挙げられる。
　全重合性化合物に含まれる式（Ｉ）の化合物の割合は、３０ｍｏｌ％以上とすることが好ましく、５０ｍｏｌ％以上とすることがより好ましい。
重合開始剤
　また、本発明のコーティング剤は、重合開始剤を含んでいてもよい。ここで、重合反応としては、光重合反応や熱重合反応などが挙げられるが、プラスチック基材への熱的影響を考慮しないで済む光重合反応の方が好ましい。光重合反応に用いる光線としては、紫外線または可視光線が挙げられるが、重合速度が速いことから紫外線が好ましい。
　光重合開始剤としては、（ａ）光照射によりカチオン種を発生させる化合物及び（ｂ）光照射により活性ラジカル種を発生させる化合物等を挙げることができる。
　光照射によりカチオン種を発生させる化合物としては、例えば、カチオン部分が、スルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、アンモニウム、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅカチオンであり、アニオン部分が、ＢＦ４ －、ＰＦ６ －、ＳｂＦ６ －、［ＢＸ４］－（ただし、Ｘは少なくとも２つ以上のフッ素又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル基）で構成されるオニウム塩が挙げられる。
　具体的に、スルホニウム塩としては、ビス［４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、ビス［４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビステトラフルオロボレート、ビス［４－（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウム テトラフルオロボレート、ジフェニル－４－（フェニルチオ）フェニルスルホニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
　ヨードニウム塩としては、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム テトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
　ジアゾニウム塩としては、フェニルジアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート、フェニルジアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、フェニルジアゾニウム テトラフルオロボレート、フェニルジアゾニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
　アンモニウム塩としては、１－ベンジル－２－シアノピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、１－ベンジル－２－シアノピリジニウム ヘキサフルオロアンチモネート、１－ベンジル－２－シアノピリジニウム テトラフルオロボレート、１－ベンジル－２－シアノピリジニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウム テトラフルオロボレート、１－（ナフチルメチル）－２－シアノピリジニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅ塩としては、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅ（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェート、（２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅ（ＩＩ）ヘキサフルオロアンチモネート、２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅ（ＩＩ）テトラフルオロボレート、２，４－シクロペンタジエン－１－イル）［（１－メチルエチル）ベンゼン］－Ｆｅ（ＩＩ）テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
　光照射により活性ラジカル種を発生させる化合物としては、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３－メチルアセトフェノン、４－クロロベンゾフェノン、４，４’－ジメトキシベンゾフェノン、４，４’－ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントン、２－クロロチオキサントン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノ－プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン－１，４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス－（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ（２－ヒドロキシ－２－メチル－１－（４－（１－メチルビニル）フェニル）プロパノン）等を挙げることができる。
　熱重合開始剤は、加熱によりラジカルを発生する化合物のことを指し、例えば、有機過酸化物、アゾ化合物及びレドックス開始剤等が挙げられる。
　上記有機過酸化物としては、ベンゾイルパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ジ－ｔ－ブチルパーオキサイド、ｔ－ブチルハイドロパーオキサイド及びジクミルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、シクロヘキサノンペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ｔｅｒｔ－ブチルペルマレエートのようなペルオキシド；１，６ビス（ｔ－ブチルパーオキシカルボニロキシ）ヘキサン等のパーオキシカーボネート；パーオキシケタール；過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩等が挙げられる。
　上記アゾ化合物としては、２，２'－アゾビスプロパン、２，２'－ジクロロ－２，２'－アゾビスプロパン、１，１'－アゾ（メチルエチル）ジアセテート、２，２'－アゾビスイソブタン、２，２'－アゾビスイソブチルアミド、２，２'－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、２，２'－アゾビス－２－メチルプロピオン酸メチル、２，２'－ジクロロ－２，２'－アゾビスブタン、２，２'－アゾビス－２－メチルブチロニトリル、２，２'－アゾビスイソ酪酸ジメチル、３，５－ジヒドロキシメチルフェニルアゾ－２－メチルマロノジニトリル、２，２'－アゾビス－２－メチルバレロニトリル、４，４'－アゾビス－４－シアノ吉草酸ジメチル、２，２'－アゾビス－２，４－ジメチルバレロニトリル等を挙げることができる。
　上記レドックス開始剤としては、例えば過酸化水素－鉄（II）塩、有機化酸化物－ジメチルアニリン、セリウム（IV）塩－アルコール等の組み合わせを挙げることができる。
　本発明において用いられる重合開始剤の配合量は、全重合性化合物の総量に対して、０．０１～２０質量％配合することが好ましく、０．１～１０質量％が、さらに好ましい。
　なお、本発明においては、必要に応じて増感剤を添加することができる。例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン及び４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が使用できる。
（その他の成分）
　また、本発明のコーティング剤には、必要に応じ、本発明の目的を損なわない範囲で、有機シラン化合物の縮合物、金属化合物、有機溶剤、紫外線吸収剤、染料、防錆剤、防腐剤などの添加成分を配合することができる。
有機シラン化合物の縮合物
　本発明のコーティング剤には、有機無機層を積層することを目的として、有機シラン化合物の縮合物を含有することができる。これによって、基材と接着性のよい有機無機複合膜を形成することができる。
　有機シラン化合物の縮合物は、式（II）で表される有機シラン化合物を公知のシラノール縮合の方法を用いて製造することができる。
　Ｒ４Ｓｉ（Ｒ３）３　　（II）
　式中、Ｒ４はＣ２～Ｃ８のアルケニル基、Ｃ６～Ｃ１０のアリール基、又はエポキシ基、グリシジルオキシ基若しくは（メタ）アクリロキシ基で置換されていても良いＣ１～Ｃ３０のアルキル基を表し、Ｒ３は水酸基又は加水分解性基を表す。
　Ｒ４におけるＣ２～Ｃ８のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、２－プロペニル基等が挙げられる。
　Ｃ１～Ｃ３０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２－メチルブチル基、２，２－ジメチルプロピル基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、ラウリル基、トリデシル基、ミリスチル基、ペンタデシル基、パルミチル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。
　Ｃ６～Ｃ１０のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。　
　Ｒ３の加水分解性基とは、例えば、無触媒、過剰の水の共存下、２５℃～１００℃で加熱することにより、加水分解されてシラノール基を生成することができる基や、シロキサン縮合物を形成することができる基を意味し、具体的には、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン基、イソシアネート基等を挙げることができ、炭素数１～４のアルコキシ基又は炭素数１～６のアシルオキシ基が好ましい。
　ここで、炭素数１～４のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ－ブトキシ基等が挙げられ、炭素数１～６のアシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。ハロゲンとしてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
　また、本発明において使用される式（II）で表わされる有機シラン化合物は、そのＦｅｄｏｒｓの推算法により求められた溶解パラメータ（ＳＰ１）が、Ｆｅｄｏｒｓの推算法により求められた式（Ｉ）で表される化合物の溶解パラメータ（ＳＰ２）よりも小さく、かつ、その差が１．６以上の基であることが好ましい。
　ＳＰ１がＳＰ２より小さく、かつ、その差が１．６以上の場合は、塗膜表面に無機成分が偏析しやすいという利点がある。
ここで、溶解パラメータ（ＳＰ値）とは、以下のＦｅｄｏｒｓの推算法に基づき計算されるものである。
Ｆｅｄｏｒｓの式：ＳＰ値（δ）＝（Ｅｖ／ｖ）１／２＝（ΣΔｅｉ／ΣΔｖｉ）１／２Ｅｖ：蒸発エネルギー　
ｖ：モル体積
Δｅｉ：各成分の原子又は原子団の蒸発エネルギー
Δｖｉ：各原子又は原子団のモル体積
　上記の式の計算に使用する各原子又は原子団の蒸発エネルギー、モル体積はR. F. Fedors, Polym. Eng. Sci., 14, 147 (1974)を参照することができる。
　式（Ｉ）で表わされる化合物及び式（II）で表わされる有機ケイ素化合物の溶解パラメータ（ＳＰ値）はＦｅｄｏｒｓの推算法に基づき計算することができるから、あらかじめ計算されたＳＰ値を基に、式（Ｉ）で表わされる化合物及び式（II）で表わされる有機ケイ素化合物の組み合わせを決定することができる。
　例えば、式（Ｉ）で表わされる化合物として、３－アクリロイルオキシプロピルトリフェニルシラン（ＳＰ値：１０．２１）を用いる場合、ＳＰ値がトリフェニルシラン化合物のＳＰ値より１．６以上小さい有機シラン化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ｎ－ブチルトリメトキシシラン、ｔ－ブチルトリメトキシシラン、ｓｅｃ－ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシランなど（これらはいずれもＳＰ値が８．６１以下である）が挙げられる。
　式（Ｉ）で表される化合物（および、存在するならばその他の共重合性化合物）と式（II）で表される有機シラン化合物の縮合物との層中の質量比は、９９：１～５５：４５が好ましい。
　シラノール縮合触媒としては、式（II）で表される化合物中の加水分解性基を加水分解し、シラノールを縮合してシロキサン結合とするものであれば特に制限されず、有機金属、有機酸金属塩、金属水酸化物、酸、塩基、金属キレート化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が挙げられる。シラノール縮合触媒は１種単独、又は、２種以上の組合せで使用することができる。
　有機金属としては、例えば、テトラメチルチタン、テトラプロピルジルコニウム等のアルキル金属化合物；金属プロポキシド、金属イソプロポキシド、金属ｎ－ブトキシド、具体的にはテトライソプロポキシチタン、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコラート等が挙げられる。
　有機酸金属塩は、金属イオンと有機酸から得られる塩からなる化合物であり、有機酸としては、酢酸、シュウ酸、酒石酸、安息香酸等のカルボン酸類；スルフォン酸、スルフィン酸等の含硫黄有機酸；フェノール化合物；エノール化合物；オキシム化合物；イミド化合物；芳香族スルフォンアミド；等の酸性を呈する有機化合物が挙げられる。具体的にはカルボン酸金属塩、スルフォン酸金属塩、フェノール金属塩等が挙げられる。
　金属水酸化物は、陰イオンとして水酸化物イオンをもつ金属化合物である。
　金属キレート化合物としては、水酸基若しくは加水分解性基を有する金属キレート化合物であることが好ましく、２以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属キレート化合物であることがより好ましい。なお、２以上の水酸基若しくは加水分解性基を有するとは、加水分解性基及び水酸基の合計が２以上であることを意味する。加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン基、イソシアネート基が挙げられ、炭素数１～４のアルコキシ基、炭素数１～４のアシルオキシ基が好ましい。
　また、前記金属キレート化合物としては、β－ケトカルボニル化合物、β－ケトエステル化合物、及びα－ヒドロキシエステル化合物が好ましく、具体的には、アセト酢酸メチル、アセト酢酸ｎ－プロピル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸ｎ－ブチル、アセト酢酸ｓｅｃ－ブチル、アセト酢酸ｔ－ブチル等のβ－ケトエステル類；アセチルアセトン、へキサン－２，４－ジオン、ヘプタン－２，４－ジオン、ヘプタン－３，５－ジオン、オクタン－２，４－ジオン、ノナン－２，４－ジオン、５－メチル－へキサン－２，４－ジオン等のβ－ジケトン類；グリコール酸、乳酸等のヒドロキシカルボン酸等が配位した化合物が挙げられる。
　また、これら有機金属、有機酸金属塩、金属水酸化物、金属キレート化合物における金属としては、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、タングステン（Ｗ）、鉛（Ｐｂ）等が挙げられ、これらの中でもチタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、スズ（Ｓｎ）が好ましく、特にチタン（Ｔｉ）が好ましい。これらは１種単独で用いてもよいし、２種以上用いることもできる。
　酸としては、有機酸、鉱酸が挙げられ、具体的には例えば、有機酸としては酢酸、ギ酸、シュウ酸、炭酸、フタル酸、トリフルオロ酢酸、ｐ－トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等、鉱酸としては、塩酸、硝酸、ホウ酸、ホウフッ化水素酸等が挙げられる。
　ここで、光照射によって酸を発生する光酸発生剤、具体的には、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロホスフェート等も酸に包含される。
　塩基としては、テトラメチルグアニジン、テトラメチルグアニジルプロピルトリメトキシシラン等の強塩基類；有機アミン類、有機アミンのカルボン酸中和塩、４級アンモニウム塩等が挙げられる。
　シラノール縮合触媒の配合比は、有機シラン化合物の質量に対して、１：９９～９９：１、好ましくは１：９９～５０：５０である。
金属化合物
　本発明のコーティング剤には、形成される層の屈折率や硬度をあげることを目的として、金属化合物を添加することができる。金属化合物としては、前述の有機シラン化合物や、シラノール縮合触媒として例示された有機金属、有機酸金属塩、金属水酸化物、金属キレート化合物が挙げられるが、それら以外の金属化合物としては、金属酸化物が挙げられ、具体的には、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、酸化コバルトの金属酸化物粒子等が挙げられる。特に酸化ジルコニウムが好ましい。
　粒子の形状としては、球状、多孔質粉末、鱗片状、繊維状等が挙げられるが、多孔質粉末状であることがより好ましい。
　また、本発明の金属酸化物粒子としては、コロイド状金属酸化物粒子も使用できる。具体的には、コロイド状シリカ、コロイド状ジルコニウムを挙げることができ、水分散コロイド状、あるいはメタノールもしくはイソプロピルアルコールなどの有機溶媒分散コロイド状の金属酸化物粒子を挙げることができる。
有機溶媒
　本発明のコーティング剤には、有機溶媒を含むことができる。使用可能な代表的有機溶媒としては、エーテル系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、ケトン系、有機ハロゲン化物系などがあるが、中でも安全性などの点から、エーテル系、エステル系、脂肪族炭化水素系が好ましい。エーテル系の具体的化合物としてはジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジアミルエーテル、エステル系の具体的化合物としてはエチルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、アミルアセテート、ヘプチルアセテート、エチルブチレート、イソアミルイソバリレート、脂肪族系炭化水素系の具体的化合物としてはノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン、シクロヘキサン、芳香族系の具体的化合物としてはトルエン、キシレン、ケトン系の具体的化合物としてはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、有機ハロゲン化物系の具体的化合物としてはトリクロロエタン、トリクロロエチレンなどが挙げられる。さらには、プロピレングリコールモノメチルエーテルやプロピレングリコールモノエチルエーテルなどの比較的非活性な溶剤も使用可能である。中でも、本発明が自然環境下の開放系で用いられることが多いことを考慮すると、芳香性を有するプロピルアセテート、ブチルアセテート、イソアミルアセテート、ヘプチルアセテート、エチルブチレート、イソアミルイソバリレートなどのエステル系を含んでなる溶剤が好ましい。
２　成形体
　本発明の成形体は、プラスチック基材上に上記式（Ｉ）で表される化合物を含有するコーティング剤をコーティングし、前記コーティング剤を硬化させた層を直接設けたものである。
（基材）
　本発明のコーティング剤が使用できる基材としては、プラスチック基材が好ましく、例えば、シクロオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、液晶ポリマー樹脂、ポリエーテルスルフォンが挙げられるが、特に、シクロオレフィン樹脂が好適に用いられる。
　（コーティング層の形成）
１）コーティング剤の調製
　本発明におけるコーティング剤は、通常、有機溶媒中に前記式（Ｉ）で表される化合物のほか、必要に応じて、前記有機シラン化合物の縮合物、光重合開始剤、金属化合物等を混合して調製される。
　なお、有機シラン化合物の縮合物を含有する場合は、有機無機複合膜又はその形成用組成物とも言う。
　用いる溶媒としては、前述の有機溶媒を挙げることができる。これらの溶媒は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　また、得られる塗膜の硬度向上を目的として４官能シランやコロイド状シリカを添加することもできる。４官能シランとしては、例えば、テトラアミノシラン、テトラクロロシラン、テトラアセトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラベンジロキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラ（メタ）アクリロキシシラン、テトラキス［２－（メタ）アクリロキシエトキシ］シラン、テトラキス（２－ビニロキシエトキシ）シラン、テトラグリシジロキシシラン、テトラキス（２－ビニロキシブトキシ）シラン、テトラキス（３－メチル－３－オキセタンメトキシ）シランを挙げることができる。また、コロイド状シリカとしては、水分散コロイド状シリカ、メタノールもしくはイソプロピルアルコールなどの有機溶媒分散コロイド状シリカを挙げることができる。
　また、得られる塗膜の着色、厚膜化、下地への紫外線透過防止、防蝕性の付与、耐熱性などの諸特性を発現させるために、別途、充填材を添加・分散させることも可能である。この充填材としては、例えば有機顔料、無機顔料などの非水溶性の顔料または顔料以外の粒子状、繊維状もしくは鱗片状の金属および合金ならびにこれらの酸化物、水酸化物、炭化物、窒化物、硫化物などが挙げられる。この充填材の具体例としては、粒子状、繊維状もしくは鱗片状の鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、銀、亜鉛、フェライト、カーボンブラック、ステンレス鋼、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化コバルト、合成ムライト、水酸化アルミニウム、水酸化鉄、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー、ケイソウ土、消石灰、石膏、タルク、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、ベントナイト、雲母、亜鉛緑、クロム緑、コバルト緑、ビリジアン、ギネー緑、コバルトクロム緑、シェーレ緑、緑土、マンガン緑、ピグメントグリーン、群青、紺青、岩群青、コバルト青、セルリアンブルー、ホウ酸銅、モリブデン青、硫化銅、コバルト紫、マルス紫、マンガン紫、ピグメントバイオレット、亜酸化鉛、鉛酸カルシウム、ジンクエロー、硫化鉛、クロム黄、黄土、カドミウム黄、ストロンチウム黄、チタン黄、リサージ、ピグメントエロー、亜酸化銅、カドミウム赤、セレン赤、クロムバーミリオン、ベンガラ、亜鉛白、アンチモン白、塩基性硫酸鉛、チタン白、リトポン、ケイ酸鉛、酸化ジルコン、タングステン白、鉛亜鉛華、バンチソン白、フタル酸鉛、マンガン白、硫酸鉛、黒鉛、ボーンブラック、ダイヤモンドブラック、サーマトミック黒、植物性黒、チタン酸カリウムウィスカー、二硫化モリブデンなどを挙げることができる。
　その他、オルトギ酸メチル、オルト酢酸メチル、テトラエトキシシランなどの公知の脱水剤、各種界面活性剤、前記以外のシランカップリング剤、チタンカップリング剤、染料、分散剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を添加することもできる。
　本発明におけるコーティング層形成用溶液中の固形分としては、１～９０質量％であることが好ましく、５～６０質量％であることがより好ましい。
２）コーティング層の形成
　本発明のコーティング層は、光重合開始剤を使用する場合には、（Ａ）上述したコーティング剤を基体上に塗布し、乾燥する工程、（Ｂ）紫外線を含む光を照射し、コーティング剤を硬化する工程を経ることにより製造できる。熱重合開始剤を使用する場合は、上記（Ｂ）工程として光を照射する代わりに加熱すればよい。
　本発明におけるコーティング膜は上記（Ｂ）工程を経ることで、式（Ｉ）で表わされる化合物の重合が行われ、さらに、式（II）で表わされる有機シラン化合物の縮合物を含有する場合は、膜表面部の炭素原子含有量が膜の内部（基材との接合部付近）の炭素原子含有量に比して少ない構成となり、膜表面にシラン化合物の縮合物の濃縮層を形成することができる。
　コーティング剤の塗布方法としては、公知の塗布方法を用いることができ、例えば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法等を挙げることができる。また、形成する膜厚としては、特に制限されるものではなく、例えば、０．１～２００μｍ程度である。
　コーティング剤を塗布して形成した層の乾燥処理としては、例えば、４０～２００℃で、０．５～１２０分程度行うことが好ましく、６０～１２０℃で、１～６０分程度行うことがより好ましい。
　紫外線の照射は、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマーランプ等の公知の装置を用いて行うことができる。
（機能性の積層膜）
　本発明のコーティング剤を使用して形成した層の上に機能性の積層膜を設けることができる。
　本発明のコーティング剤を使用して形成した層は、非常にプラスチック基材と密着性がよいため、本層を接着層、中間層として用いることができる。従来、プラスチック基材に直接コーティングすることができなかった機能性膜を本発明の膜を介して積層させることができる。複数層を積層することができ、また、本発明のコーティング剤を複数層上にさらにコーティングし、さらに積層することもできる。
　機能性の積層膜としては、透明導電膜やガスバリア膜が挙げられる。
　透明導電膜としては、スズがドープされた酸化インジウム膜（ＩＴＯ膜）、フッ素がドープされた酸化スズ膜（ＦＴＯ膜）、アンチモンがドープされた酸化亜鉛膜やインジウムがドープされた酸化亜鉛膜等が挙げられる。
　ガスバリア膜は、酸素、水蒸気等のガスバリア性を有する限り特に制限はないが、好ましくは、無機化合物の薄膜であり、特に、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、インジウム、スズ、タンタル、亜鉛、タングステン及び鉛から成る群より選ばれた金属元素を有する金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物又はそれらの複合物の薄膜が好ましい。
　これらの機能性積層膜の厚さは、通常１０～３００ｎｍ、好ましくは１０～２００ｎｍ、より好ましくは１０～１００ｎｍである。
　無機化合物からなる透明導電性膜又はガスバリア膜を、コーティング剤を使用して形成した層上に形成する方法は、公知の方法により形成することが可能であるが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等の物理的方法や、スプレー法、ディップ法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の化学的方法等により行うことができる。
　たとえば、スパッター法等によれば、例えばケイ素化合物を酸素ガス存在下で焼結させたもの等をターゲットとして用いることにより、酸化ケイ素からなる膜を成膜することもでき、金属シリコンをターゲットとして酸素存在下で反応性スパッターすることによっても成膜することができる。また、プラズマＣＶＤ法によれば、シランガスを、酸素ガスおよび窒素ガスと共に、プラズマを発生させたチャンバーの中に供給し、反応させ、基板上に酸化窒化ケイ素からなる膜を成膜することができる。また、熱ＣＶＤ法等によれば、例えばケイ素化合物を含有する有機溶媒溶液等を蒸発物として用いることにより、酸化ケイ素からなる膜を成膜することができる。
　本発明においては、特に、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法又はプラズマＣＶＤ法により成膜するのが好ましい。
　また、機能性の積層膜を形成する際に、必要に応じて、コーティング剤を使用して形成した層の表面を予めプラズマ処理またはＵＶオゾン処理しておいてもよい。
　以下に実施例を示すが、本発明の技術的範囲はこれら実施例により限定されるものではない。
１－１　化合物の合成－１
（合成例１）
３－メタクリロキシプロピルトリフェニルシラン（Ａ－１）の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　十分に乾燥した空気で反応フラスコを置換した。これに、トリフェニルシラン２５．０４ｇ（０．０９６２ｍｏｌ）を仕込み、冷却管、温度計、窒素封入管を取り付けた後、Ｎ２気流下で酢酸アリル３６．４１ｇ（０．３６４ｍｏｌ）を仕込み、Ｎ２気流下で室温にて攪拌を行った。塩化白金酸のエタノール溶液（Ｐｔ換算で１０ｗｔ％）０．５ｇを滴下し、Ｎ２気流下、室温で３時間攪拌した。Ｈ－ＮＭＲでＳｉ－Ｈのシグナル（５．５ｐｐｍ）が消失したことを確認し、反応が完結した事を確認後、過剰の酢酸アリルを減圧下留去、さらにその残渣とＰｔ触媒をカラム精製して、白色結晶の３－アセトキシプロピルトリフェニルシラン（Ｍｗ　３６０．５２）を２７．７８ｇ（収率８０．１％）得た。得られた生成物の核磁気共鳴（ＮＭＲ）の測定を行った結果を以下に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は重クロロホルムを用いて行った。Ｈ－ＮＭＲスペクトル値：７．４ｐｐｍ、７．６ｐｐｍ、４．１ｐｐｍ、２．０ｐｐｍ、１．８ｐｐｍ、１．５ｐｐｍ。
　反応フラスコに、３－アセトキシプロピルトリフェニルシラン１２．９７ｇ（０．０３６ｍｏｌ）を仕込み、冷却管、温度計を取り付けた後、１Ｎの炭酸ソーダ、エタノール溶液に加え、７０－８０℃　５時間加熱し、加水分解して白色結晶の３－ヒドロキシプロピルトリフェニルシラン（Ｍｗ　３１８．４８）を　１１．４ｇ（０．０３５８ｍｏｌ）を得た（収率９９．４％）。得られた生成物の核磁気共鳴（ＮＭＲ）の測定を行った結果を以下に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は重クロロホルムを用いて行った。Ｈ－ＮＭＲスペクトル値：７．４ｐｐｍ、７．６ｐｐｍ、３．６ｐｐｍ、１．７ｐｐｍ、１．４ｐｐｍ。
　乾燥不活性ガス（窒素）で十分に置換した反応フラスコに超脱水トルエン３００ｇを入れ、これに３－ヒドロキシプロピルトリフェニルシラン５．０１ｇ（０．０１５７３ｍｏｌ）、トリエチルアミン１．９１ｇ（０．０１８８８ｍｏｌ）を溶解した。これにメタクリル酸クロライド１．９７６ｇ（０．０１８９０ｍｏｌ）を徐々に加えた。滴下終了後、室温下６時間攪拌後、反応液を水、０．５Ｎ塩酸、水、１Ｎ炭酸ソーダ、水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。トルエン留去し、透明液体の３－メタクリロキシプロピルトリフェニルシラン（Ａ－１）（Ｍｗ　３８６．５６）を４．９７６ｇ（０．０１２８７４ｍｏｌ）得た（収率８２％）。得られた生成物の核磁気共鳴（ＮＭＲ）の測定を行った結果を以下に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は重クロロホルムを用いて行った。Ｈ－ＮＭＲスペクトル値：７．４ｐｐｍ、７．６ｐｐｍ、６．４ｐｐｍ、６．１ｐｐｍ、５．８ｐｐｍ、４．２ｐｐｍ、１．８ｐｐｍ、１．４ｐｐｍ。
(合成例２)
３－アクリロキシプロピルトリフェニルシラン（Ａ－２）の製造
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　乾燥不活性ガス（窒素）で十分に置換した反応フラスコに超脱水トルエン３００ｇを入れ、これに３－ヒドロキシプロピルトリフェニルシラン５．２８ｇ（０．０１６５８ｍｏｌ）、トリエチルアミン２．０１ｇ（０．０１９８９ｍｏｌ）を溶解した。これにアクリル酸クロライド１．８０１ｇ（０．０１９９ｍｏｌ）を徐々に加えた。滴下終了後、室温下６時間攪拌後、反応液を水、０．５Ｎ塩酸、水、１Ｎ炭酸ソーダ、水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。トルエン留去し、透明液体の３－アクリロキシプロピルトリフェニルシラン（Ａ－２）（Ｍｗ　３７２．５３）を５．５６ｇ（０．０１４９２ｍｏｌ）得た（収率８９．９９％）。得られた生成物の核磁気共鳴（ＮＭＲ）の測定を行った結果を以下に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は重クロロホルムを用いて行った。Ｈ－ＮＭＲスペクトル値：７．４ｐｐｍ、７．６ｐｐｍ、６．４ｐｐｍ、６．１ｐｐｍ、５．８ｐｐｍ、４．２ｐｐｍ、１．８ｐｐｍ、１．４ｐｐｍ。
１－２　コーティング剤の調製－１
　上記生成物（Ａ－１）又は（Ａ－２）２ｇを８ｇのメチルエチルケトン（ＭＥＫ）で溶解した。その後、光重合開始剤　Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７（ＢＡＳＦ社製、ＵＶ重合開始剤、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノ－プロパン－１－オン）を０．０８ｇ添加、１５分間攪拌溶解させ、コーティング剤（Ｂ－１）、（Ｂ－２）を調製した。
１－３　ジルコニア粒子添加コーティング剤の調製
　（Ｂ－２）２．５ｇと２０ｗｔ％ＭＥＫ分散ジルコニアコロイド２．５ｇを混合し、コーティング剤（Ｂ－２’）を得た。
１－４　有機シラン化合物添加コーティング剤の調製
１）シラノール縮合触媒の合成
　ジイソプロポキシビスアセチルアセトナートチタン（日本曹達製、Ｔ－５０、酸化チタン換算固形分量：１６．５重量％）３０３．０３ｇをエタノール５８４．２１ｇに溶解した後、攪拌しながらイオン交換水１１２．７６ｇ（１０倍モル／酸化チタンのモル）を加えた。この溶液を４０℃に加温しながら２時間攪拌し加水分解させた。次に溶液をろ過し、黄色透明な酸化チタン換算濃度５重量％の酸化チタンナノ分散液［Ｃ－１］を得た。酸化チタンの平均粒径は４．１ｎｍで単分散性であった。
２）有機シラン化合物の加水分解縮合物の調製
　有機シラン化合物として、ビニルトリメトキシシラン２６４．７６ｇ（信越化学工業株式会社製、ＫＢＭ－１００３）と３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１９０．１９ｇ（信越化学工業株式会社製、ＫＢＭ－５０３）を（ビニルトリメトキシシラン／３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン＝７０／３０：モル比）混合させた液［Ｄ－１］を使用した。
　次に、元素比（Ｔｉ／Ｓｉ＝１／９）となるように［Ｃ－１］４５３．０９ｇと［Ｄ－１］４５４．９５ｇを混合し、さらに、イオン交換水を９１．９６ｇ（２倍モル／有機ケイ素化合物のモル）を加え、２４時間攪拌した液［Ｅ－１］を作製した。
３）コーティング剤（有機無機複合膜形成用組成物）の調製
　固形分の割合が１０重量％／９０重量％＝［Ｅ－１］／［Ｂ－２］となるように上記［Ｅ－１］液と［Ｂ－２］液を混合させ、コーティング剤（有機無機複合膜形成用組成物）［Ｂ－２’’］を作製した。
１－５　コーティング層の形成－１
・フィルムサンプル
　コーティング剤[（Ｂ－１）、（Ｂ－２）、（Ｂ－２’）、（Ｂ－２’’）]を厚さ１８８μｍのＣＯＰフィルム（日本ゼオン株式会社　ＺＦ－１６）にバーコーターにて成膜し、温風循環型乾燥器にて１３０℃、３分間加熱した。続いて、集光型高圧水銀灯（３６５ｎｍ、３１３ｎｍ、２５４ｎｍの波長の光を主成分とするＵＶ光、アイグラフィックス社製、１２０Ｗ／ｃｍ、ランプ高９．８ｃｍ、コンベア速度５ｍ／分）により、積算照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して薄膜を得た。これを用いて膜厚測定、碁盤目テープ剥離試験、ヘイズ率の測定を行った。
・屈折率測定用サンプル
　塗膜形成用組成物[（Ｂ－１）、（Ｂ－２）、（Ｂ－２’）]をシリコンウェハー上にディップコーターにて成膜し、温風循環型乾燥器にて１３０℃、３分間加熱した。続いて、集光型高圧水銀灯（３６５ｎｍ、３１３ｎｍ、２５４ｎｍの波長の光を主成分とするＵＶ光、アイグラフィックス社製、１２０Ｗ／ｃｍ、ランプ高９．８ｃｍ、コンベア速度５ｍ／分）により、積算照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して薄膜を得た。
[測定条件]
・塗膜屈折率
　Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製　高速分光エリプソメーター　Ｍ－２０００Ｄを用いて測定した。
・膜厚測定
　フィルメトリクス（株）製　非接触式膜厚測定装置　型式Ｆ－２０を用いて測定した。
・碁盤目テープ剥離試験（密着性）
　ＪＩＳ　Ｋ５６００に準拠し、塗膜に１ｍｍ間隔の切り込みを縦横１１本ずつ入れて１００個の碁盤目を作成した。各試料にセロテープ（登録商標）を貼付け、指の腹で複数回擦り付けて密着させた後テープを剥し、塗膜が剥離せずに残存した格子の目数で評価した。
・ヘイズ率
　塗膜のヘイズ率を、ヘイズメーター（日本電色工業製）を用いて測定した。
・全光線透過率
　フィルム切片を色彩・濁度同時測定器（日本電色工業；ＣＯＨ　４００）を用いて測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　すべての基材において、コーティング層の剥離は見られず、密着性に優れていることが確認された。またコーティング層は透明性にすぐれ屈折率も高いものであった。
２－１　化合物の合成－２
（合成例３）
ジフェニルメチルシリルプロピルアクリレート（Ａ－３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　乾燥不活性ガス（窒素）で十分に置換した反応フラスコに超脱水ＴＨＦ ６０．００ｇ、３－（メチルジフェニルシリル）－１－プロパノール ７．３０ｇ（０．０２３５５ ｍｏｌ）、トリエチルアミン ４．２９ｇ（０．０４２８ｍｏｌ）を入れ、溶解させつつ液温が１０℃以下になるまで冷却した。これにアクリル酸クロライド ３．８７ｇ（０．０４２８ｍｏｌ）を徐々に加え、１時間攪拌した。滴下終了後、室温下で１晩攪拌した。反応混合物を水、０．５Ｎ塩酸、水、１Ｎ炭酸ソーダ、水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去した。酢酸エチル／ヘキサン混合溶剤を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。化合物Ａ－３を６．８７ｇ（０．０２２１４ ｍｏｌ）収率 ９４％で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトル値：７．６ｐｐｍ、７．４ｐｐｍ、６．４ｐｐｍ、６．１ｐｐｍ、５．７ｐｐｍ、４．１ｐｐｍ、１．７ｐｐｍ、１．２ｐｐｍ、０．５ｐｐｍ。
（合成例４）
トリフェニルシリルフェノキシエチルアクリレート（Ａ－４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　反応フラスコにＴＨＦ ４４．００ｇと４－トリフェニルシリルフェノール ３．００ ｇ（０．００８５１ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン ３．３５ｇ（０．０１２７７ ｍｏｌ）、ヒドロキシエチルアクリレート １．４８ ｇ（０．０１２７７ｍｏｌ）を入れ、溶解させつつ液温が０℃以下になるまで冷却した。アゾジカルボン酸ジエチル（４０％トルエン溶液、約２．２ｍｏｌ/Ｌ） ５．５６ ｇ（０．０１２７７ｍｏｌ）を徐々に加え、１時間攪拌した。その後、室温下で１晩攪拌した後、さらに液温５０℃下で３時間攪拌した。溶媒を留去した後、酢酸エチル／ヘキサン混合溶剤を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。化合物Ａ－４を３．２９ ｇ（０．００７６ ｍｏｌ）収率 ５１％で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトル値：７．７ｐｐｍ、７．４ｐｐｍ、７．２ｐｐｍ、６．９ｐｐｍ、６．４ｐｐｍ、６．２ｐｐｍ、５．８ｐｐｍ、４．５ｐｐｍ、４．３ｐｐｍ。
（合成例５）
ジフェニルシリルジフェノキシエチルアクリレート（Ａ－５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　反応フラスコにＴＨＦ ５０．００ｇと４，４’－ジフェニルシランビスフェノール５．００ｇ（０．０１３５７ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン １０．６８ｇ（０．０４０７１ｍｏｌ）、ヒドロキシエチルアクリレート ４．７３ｇ（０．０４０７１ｍｏｌ）を入れ、溶解させつつ液温が０℃以下になるまで冷却した。アゾジカルボン酸ジエチル（４０％トルエン溶液、約２．２ｍｏｌ/Ｌ）１７．７３ｇ（０．０４０７１ｍｏｌ）を徐々に加え、１時間攪拌した。その後、室温下で１晩攪拌した後、さらに液温５０℃下で３時間攪拌した。溶媒を留去した後、酢酸エチル／ヘキサン混合溶剤を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。化合物Ａ－５を４．６７ｇ（０．００８３ｍｏｌ）収率 ６１％で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトル値：７．３－７．６ｐｐｍ、６．９－７．０ｐｐｍ、６．４ｐｐｍ、６．２ｐｐｍ、５．８ｐｐｍ、４．５ｐｐｍ、４．３ｐｐｍ。
（合成例６）
トリフェニルメチルプロピルアクリレート（Ａ－６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　乾燥不活性ガス（窒素）で十分に置換した反応フラスコに超脱水ＴＨＦ ４２．３６ｇ、４，４，４－トリフェニルブタノール５．００ｇ（０．０１６５３ｍｏｌ）、トリエチルアミン ３．３５ｇ（０．０３３０７ｍｏｌ）を入れ、溶解させつつ液温が１０℃以下になるまで冷却した。これにアクリル酸クロライド ２．２４ｇ（０．０２４８０ｍｏｌ）を徐々に加え、１時間攪拌した。滴下終了後、室温下で１晩攪拌した。反応混合物を水、０．５Ｎ塩酸、水、１Ｎ炭酸ソーダ、水で順次洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去した。酢酸エチル／ヘキサン混合溶剤を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。化合物Ａ－６を５．３６ｇ（０．０１５０ ｍｏｌ）収率９１％で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトル値：７．３ｐｐｍ、７．２ｐｐｍ、６．４ｐｐｍ、６．１ｐｐｍ、５．８ｐｐｍ、４．１ｐｐｍ、２.７ｐｐｍ、１．５ｐｐｍ。
（合成例７）
トリフェニルメチルフェノキシエチルアクリレート（Ａ－７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　反応フラスコにＴＨＦ ５０．００ｇと４－トリフェニルメチルフェノール ５．００ｇ（０．０１４８６ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン ５．８５ｇ（０．０２２２９ｍｏｌ）、ヒドロキシエチルアクリレート ２．５９ｇ（０．０２２２９ｍｏｌ）を入れ、溶解させつつ液温が０℃以下になるまで冷却した。アゾジカルボン酸ジエチル（４０％トルエン溶液、約２．２ｍｏｌ／Ｌ）９．７１ ｇ（０．０２２２９ｍｏｌ）を徐々に加え、１時間攪拌した。その後、室温下で１晩攪拌した後、さらに液温５０℃下で３時間攪拌した。溶媒を留去した後、酢酸エチル／ヘキサン混合溶剤を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。化合物Ａ－７を３．２９ ｇ（０．００７６ ｍｏｌ）収率 ５１％で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトル値：７．３－７．０ｐｐｍ、６．９ｐｐｍ、６．４ｐｐｍ、６．２ｐｐｍ、５．８ｐｐｍ、４．５ｐｐｍ、４．３ｐｐｍ。
（合成例８）
４－［トリス（４－メトキシフェニル）メチル]フェノキシエチルアクリレート（Ａ－８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　反応フラスコにＴＨＦ ３０．００ｇと４－［トリス（４－メトキシフェニル）メチル］フェノール ３．００ ｇ（０．００７０３ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン ２．２７ｇ（０．０１０５５ ｍｏｌ）、ヒドロキシエチルアクリレート １．２３ ｇ（０．０１０５５ｍｏｌ）を入れ、溶解させつつ液温が０℃以下になるまで冷却した。アゾジカルボン酸ジエチル（４０％トルエン溶液、約２．２ｍｏｌ／Ｌ）４．５６ ｇ（０．０１０５５ｍｏｌ）を徐々に加え、１時間攪拌した。その後、室温下で１晩攪拌した後、さらに液温５０℃下で３時間攪拌した。溶媒を留去した後、酢酸エチル／ヘキサン混合溶剤を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。化合物Ａ－８を２．０３ｇ（０．００３８７ｍｏｌ）収率５５％で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトル値：７．１ｐｐｍ、７．０ｐｐｍ、６．９ｐｐｍ、６．７ｐｐｍ、６．４ｐｐｍ、６．２ｐｐｍ、５．８ｐｐｍ、４．５ｐｐｍ、４．３ｐｐｍ。
（合成例９）
ジフェニルメチルジフェノキシエチルアクリレート（Ａ－９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　反応フラスコにＴＨＦ ５０．００ｇと４，４’－ジヒドロキシテトラフェニルメタン５．００ ｇ（０．０１４１９ｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン １１．１６ｇ（０．０４２５６ ｍｏｌ）、ヒドロキシエチルアクリレート ４．９４ ｇ（０．０４２５６ ｍｏｌ）を入れ、溶解させつつ液温が０℃以下になるまで冷却した。アゾジカルボン酸ジエチル（４０％トルエン溶液、約２．２ｍｏｌ／Ｌ）１８．５３ ｇ（０．０４２５６ｍｏｌ）を徐々に加え、１時間攪拌した。その後、室温下で１晩攪拌した後、さらに液温５０℃下で３時間攪拌した。溶媒を留去した後、酢酸エチル／ヘキサン混合溶剤を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。化合物Ａ－９を３．６６ ｇ（０．００６７ ｍｏｌ）収率 ５１％で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトル値：７．３－７．０ｐｐｍ、６．９ｐｐｍ、６．４ｐｐｍ、６．２ｐｐｍ、５．８ｐｐｍ、４．５ｐｐｍ、４．３ｐｐｍ。
（合成例１０）
トリフェニルシリルプロポキシカルボニルアミノエチルアクリレート（Ａ－１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　窒素置換した反応フラスコに、トルエン ５０．００ｇと２－イソシアナートエチルアクリラート２．５０ｇ（０．０１８８４ｍｏｌ）、３－トリフェニルシリル-1-プロパノール ５．０４ｇ（０．０１５７０ｍｏｌ）、ラウリル酸ジブチル錫を触媒量入れ、溶解させつつ液温が７０℃になるまで加温し、６時間反応した。反応終了後、反応液を室温まで冷やし、蒸留水 ２０ｇを入れ、未反応イソシアネート化合物を失活させた。有機層の溶媒を留去した後、酢酸エチル／ヘキサン混合溶剤を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。化合物Ａ－１０を５．８４ｇ（０．０１２７２ ｍｏｌ）収率 ８１％で得た。１Ｈ－ＮＭＲスペクトル値:７．２－７．５ｐｐｍ、６．４ｐｐｍ、６．１ｐｐｍ、５．８ｐｐｍ、４．９ｐｐｍ、４．２－４．１ｐｐｍ、３．５ｐｐｍ、１．８ｐｐｍ、１．４ｐｐｍ。
２－２　コーティング剤の調整－２
　上記化合物（Ａ－３）～（Ａ－９）をそれぞれ １ｇをシクロヘキサン ４ｇに加え、完全に溶解するまで、攪拌した。その後、光重合開始剤　Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７（ＢＡＳＦ社製、ＵＶ重合開始剤、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノ－プロパン－１－オン）０．０４ ｇを添加し、コーティング剤（Ｂ－３）～（Ｂ－９）を作成した。
２－３　コーティング層の形成－２
　（Ｂ－３）～（Ｂ－９）のコーティング剤を下記のプラスチック基盤にバーコートにて成膜し、温風循環型乾燥機にて１００℃、３分間加熱した。集光型高圧水銀灯（３６５ｎｍ、３１３ｎｍ、２５４ｎｍの波長の光を主成分とするＵＶ光、アイグラフィックス社製、１灯型、１２０Ｗ／ｃｍ、ランプ高９．８ｃｍ、コンベア速度５ｍ／分）により、積算照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して薄膜を得た。
　基材１：PETフィルム コスモシャインA4300（188μm）、東洋紡績
　基材２：PENフィルム テオネックスQ65F （125μm）、帝人デュポン
　基材３：アクリル板　　デラグラスA（2mm）、旭化成
　基材４：ポリイミド　　カプトン 500H（126.7μm）、東レ・デュポン
・密着性試験
　ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－６のクロスカット法に準拠して密着性試験を行った。
　すべての基材において、コーティング層の剥離は見られず、密着性に優れていることが確認された。
２－４　コーティング層の形成－３
　（Ｂ－４）～（Ｂ－８）のコーティング剤を下記のプラスチック基盤にバーコートにて成膜し、温風循環型乾燥機にて１００℃、３分間加熱した。集光型高圧水銀灯（３６５ｎｍ、３１３ｎｍ、２５４ｎｍの波長の光を主成分とするＵＶ光、アイグラフィックス社製、１灯型、１２０Ｗ／ｃｍ、ランプ高９．８ｃｍ、コンベア速度５ｍ／分）により、積算照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して薄膜を得た。
　基材５：COPプレート ZEONOR 1600（1mm）、日本ゼオン
　基材６：COPプレート ZEONOR 1430R（1mm）、日本ゼオン
　基材７：COCプレート TOPAS COC 5018L-10（1 mm）、ポリプラスチックス
　基材８：COCプレート TOPAS COC 6017S-04（1mm）、ポリプラスチックス
・密着性試験
　ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－６のクロスカット法に準拠して密着性試験を行った。
　すべての基材において、コーティング層の剥離は見られず、密着性に優れていることが確認された。
２－５　コーティング層の形成－４
　（Ｂ－４）、（Ｂ－６）～（Ｂ－８）のコーティング剤を下記のプラスチック基盤にバーコートにて成膜し、温風循環型乾燥機にて１００℃、３分間加熱した。集光型高圧水銀灯（３６５ｎｍ、３１３ｎｍ、２５４ｎｍの波長の光を主成分とするＵＶ光、アイグラフィックス社製、１灯型、１２０Ｗ／ｃｍ、ランプ高９．８ｃｍ、コンベア速度５ｍ／分）により、積算照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して薄膜を得た。
　基材９：COPフィルム ZEONOR Film ZF-14（188μm）、日本ゼオン（延伸フィルム）　
　基材１０：COPフィルム ZEONOR Film ZF-16（188μm）、日本ゼオン（延伸フィルム）
　基材１１：PETフィルム　ルミラーT60、東レ（延伸フィルム）
・密着性試験
　ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－６のクロスカット法に準拠して密着性試験を行った。
　すべての基材において、コーティング層の剥離は見られず、密着性に優れていることが確認された。
２－６　機能性の積層膜の形成
　コーティング剤（Ｂ－２）、（Ｂ－２’）、（Ｂ－２’’）、（Ｂ－４）、（Ｂ－６）、（Ｂ－７）を使用して、実施例１－５記載の方法でコーティング層を作成した。この薄膜の上にＤＣスパッタ法でスズがドープされた酸化インジウム膜（ＩＴＯ膜）を約４０ｎｍ積層した。
・密着性試験
　ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－６のクロスカット法に準拠して密着性試験を行ったところ、ＩＴＯ膜の剥離は見られず、密着性に優れていることが確認された。

Claims (10)

  1. 式（Ｉ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
     ［式中、
    Ａは、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
     （Ｒ１は、電子供与性基を表し、ａは、０～５の整数、ａ’は、０～７の整数を表す。）
    Ｚは、炭素原子またはケイ素原子、
    Ｒ２は、水素原子、水酸基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルキル基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ６の環状アルキル基、またはＣ３～Ｃ６の環状アルコキシ基、
    Ｘは、単結合；
    酸素原子、硫黄原子、セレン原子、－ＮＲ－（式中、Ｒは水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、Ｃ３～Ｃ６の２価の脂肪族環基、Ｃ６～Ｃ１０のアリーレン基、アミド構造若しくはウレタン構造を含んでいてもよいＣ１～Ｃ２０のアルキレン基；
    Ｃ３～Ｃ１０の２価の脂肪族環基；
    またはＣ６～Ｃ１０のアリーレン基、
    Ｙは、重合可能な官能基、
    ｎは２または３の整数、
    ｍは１または２の整数、
    ｌは０または１の整数であり、ｎ＋ｍ＋ｌ＝４である。
    ｎが２または３の整数の場合、Ａは、同一でも相異なっていてもよい。］
    で表される化合物を含有するコーティング剤。
  2. 式（Ｉ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
     ［式中、
    Ａは、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
     （Ｒ１は、電子供与性基を表し、ａは、０～５の整数、ａ’は、０～７の整数を表す。）
    Ｚは、炭素原子またはケイ素原子、
    Ｒ２は、水素原子、水酸基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルキル基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ６の環状アルキル基、またはＣ３～Ｃ６の環状アルコキシ基、
    Ｘは、単結合；
    酸素原子、硫黄原子、セレン原子、－ＮＲ－（式中、Ｒは水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、Ｃ３～Ｃ６の２価の脂肪族環基、Ｃ６～Ｃ１０のアリーレン基、アミド構造若しくはウレタン構造を含んでいてもよいＣ１～Ｃ２０のアルキレン基；
    Ｃ３～Ｃ１０の２価の脂肪族環基；
    またはＣ６～Ｃ１０のアリーレン基、
    Ｙは、重合可能な官能基、
    ｎは２または３の整数、
    ｍは１、
    ｌは０または１の整数であり、ｎ＋ｍ＋ｌ＝４である。
    ｎが２または３の整数の場合、Ａは、同一でも相異なっていてもよい。］
    で表される化合物を含有するコーティング剤。
  3. 式（Ｉ）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
     ［式中、
    Ａは、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
     （Ｒ１は、電子供与性基を表し、ａは、０～５の整数、ａ’は、０～７の整数を表す。）
    Ｚは、炭素原子またはケイ素原子、
    Ｒ２は、水素原子、水酸基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルキル基、直鎖若しくは分岐のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ６の環状アルキル基、またはＣ３～Ｃ６の環状アルコキシ基、
    Ｘは、単結合；
    酸素原子、硫黄原子、セレン原子、－ＮＲ－（式中、Ｒは水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、Ｃ３～Ｃ６の２価の脂肪族環基、Ｃ６～Ｃ１０のアリーレン基、アミド構造若しくはウレタン構造を含んでいてもよいＣ１～Ｃ２０のアルキレン基；
    Ｃ３～Ｃ１０の２価の脂肪族環基；
    またはＣ６～Ｃ１０のアリーレン基、
    Ｙは、重合可能な官能基、
    ｎは３、
    ｍは１、
    ｌは０である。
    Ａは、同一でも相異なっていてもよい。］
    で表される化合物を含有するコーティング剤。
  4. 式（Ｉ）で表される化合物を含有するコーティング剤がさらに金属化合物を含有することを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載のコーティング剤。
  5. 金属化合物がジルコニアであることを特徴とする請求項４に記載のコーティング剤。
  6. 式（Ｉ）で表される化合物を含有するコーティング剤が更に式（II）
    Ｒ４Ｓｉ（Ｒ３）３　　（II）
    （式中、Ｒ４はＣ２～Ｃ８のアルケニル基、Ｃ６～Ｃ１０のアリール基、又はエポキシ基、グリシジルオキシ基若しくは（メタ）アクリロキシ基で置換されていても良いＣ１～Ｃ３０のアルキル基を表し、Ｒ３は水酸基又は加水分解性基である）で表される有機シラン化合物の縮合物を含有することを特徴とする請求項１～５のいずれか一項に記載のコーティング剤。
  7. 請求項１～６のいずれか一項に記載のコーティング剤を基材上にコーティングし、前記コーティング剤を硬化させた層を直接設けたことを特徴とする成形体。
  8. 基材がプラスチック基材であることを特徴とする請求項７に記載の成形体。
  9. 請求項７または８の成形体上に、さらに機能性を有する積層膜を設けたことを特徴とする成形体。
  10. 機能性を有する積層膜が、酸化インジウムスズ膜であることを特徴とする請求項９に記載の成形体。
PCT/JP2013/006973 2013-01-28 2013-11-27 コーティング剤 Ceased WO2014115210A1 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/759,969 US10947393B2 (en) 2013-01-28 2013-11-27 Coating agent
CN201380071019.9A CN104937055B (zh) 2013-01-28 2013-11-27 涂层剂
SG11201505710UA SG11201505710UA (en) 2013-01-28 2013-11-27 Coating agent
KR1020177035816A KR102105241B1 (ko) 2013-01-28 2013-11-27 코팅제
KR1020157018225A KR101828139B1 (ko) 2013-01-28 2013-11-27 코팅제
KR1020177035814A KR20170141278A (ko) 2013-01-28 2013-11-27 코팅제
JP2014558294A JP6035350B2 (ja) 2013-01-28 2013-11-27 コーティング剤
EP13872476.0A EP2949716B1 (en) 2013-01-28 2013-11-27 Coating agent

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013-013092 2013-01-28
JP2013013092 2013-01-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014115210A1 true WO2014115210A1 (ja) 2014-07-31

Family

ID=51227030

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/006973 Ceased WO2014115210A1 (ja) 2013-01-28 2013-11-27 コーティング剤

Country Status (9)

Country Link
US (1) US10947393B2 (ja)
EP (1) EP2949716B1 (ja)
JP (3) JP6035350B2 (ja)
KR (3) KR102105241B1 (ja)
CN (3) CN108047866A (ja)
MY (1) MY174180A (ja)
SG (1) SG11201505710UA (ja)
TW (3) TWI522346B (ja)
WO (1) WO2014115210A1 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014198763A (ja) * 2013-03-29 2014-10-23 新日鉄住金化学株式会社 アクリレート化合物、アクリル樹脂組成物及びアクリル樹脂硬化物
WO2017094264A1 (ja) * 2015-12-03 2017-06-08 日本曹達株式会社 導電膜付き基材
WO2017110060A1 (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 日本曹達株式会社 コーティング剤
WO2018230507A1 (ja) 2017-06-15 2018-12-20 日本曹達株式会社 接着性組成物
KR20190041507A (ko) 2016-10-14 2019-04-22 닛뽕소다 가부시키가이샤 접착성 조성물
JP2023528501A (ja) * 2020-06-03 2023-07-04 東友ファインケム株式会社 易接着層形成用組成物及びこれを用いたハードコーティングフィルム
US11834390B2 (en) 2018-10-05 2023-12-05 Nippon Soda Co., Ltd. Adhesive composition

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014115210A1 (ja) * 2013-01-28 2014-07-31 日本曹達株式会社 コーティング剤
JP2016033210A (ja) * 2014-07-28 2016-03-10 日本曹達株式会社 コーティング剤
JPWO2016170771A1 (ja) * 2015-04-24 2017-11-30 日本曹達株式会社 有機無機複合体形成用組成物
EP3363870B1 (en) * 2015-10-16 2023-04-19 Nissan Chemical Corporation Coating agent for flow passage
KR101914004B1 (ko) * 2018-03-23 2018-10-31 오종훈 매립형 거푸집을 이용한 밀착형 가시설
US20200392273A1 (en) * 2019-06-14 2020-12-17 The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy Silyl-containing acrylates and degradable radical-cured networks thereof
KR102484761B1 (ko) * 2021-09-10 2023-01-05 김용배 변전설비에서 진공을 자동으로 체크하고 기록할 수 있는 장치
CN115594703A (zh) * 2022-10-17 2023-01-13 吉林奥来德光电材料股份有限公司（Cn） 一种oled器件封装用化合物、组合物、封装薄膜及包含其的有机发光器件

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61261374A (ja) * 1985-05-14 1986-11-19 インタ−ナシヨナル　ペイント　パブリツクリミテイド　カンパニ− 防汚塗料用バインダ−
JPS63145310A (ja) 1986-12-06 1988-06-17 Agency Of Ind Science & Technol 光学用プラスチツク材料
JPS63145287A (ja) 1986-12-06 1988-06-17 Agency Of Ind Science & Technol トリフエニルシリル基を有する新規な不飽和化合物
JP2001131288A (ja) * 1999-08-26 2001-05-15 Dow Corning Corp シリコーン樹脂及びその製造方法
JP2004035881A (ja) * 2002-05-30 2004-02-05 Atofina Chemicals Inc 船舶コーティング組成物用のトリアリールシリル（メタ）アクリロイル含有ポリマー
JP2004346317A (ja) * 2003-05-21 2004-12-09 Atofina Chemicals Inc 船舶用塗料組成物のためのトリアリールシリル（メタ）アクリロイル含有重合体
WO2009139476A1 (ja) 2008-05-16 2009-11-19 旭硝子株式会社 重合性化合物、光硬化性組成物、光学素子および光ヘッド装置
JP2011201087A (ja) * 2010-03-24 2011-10-13 Toppan Printing Co Ltd タッチパネル用ハードコートフィルム及びタッチパネル
WO2012133586A1 (ja) * 2011-03-30 2012-10-04 住友大阪セメント株式会社 低屈折率膜形成用組成物、低屈折率膜、プラスチック基材、及び表示装置

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2632675B2 (ja) * 1986-02-04 1997-07-23 大日本インキ化学工業株式会社 被覆用樹脂組成物
US4960465A (en) * 1986-12-09 1990-10-02 W. R. Grace & Co. Hydraulic cement additives and hydraulic cement compositions containing same
JP2526903B2 (ja) 1987-05-20 1996-08-21 大日本インキ化学工業株式会社 被覆用樹脂組成物
JPH0619147A (ja) 1992-07-01 1994-01-28 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH0934113A (ja) * 1995-07-18 1997-02-07 Mitsubishi Materials Corp ポジ型金属酸化物薄膜パターン形成用組成物及びポジ型金属酸化物薄膜パターンの形成方法
US5902851A (en) * 1996-12-24 1999-05-11 Matsushita Electric Works, Ltd. Resinous composition for foul releasing coat and coating articles
JP2002072477A (ja) * 2000-06-12 2002-03-12 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物
JP3433931B2 (ja) 2001-04-17 2003-08-04 倉敷紡績株式会社 フッ素樹脂成形体表面の改質法
JP2003080624A (ja) 2001-09-07 2003-03-19 Nof Corp 透明導電材料およびタッチパネル
US6762271B2 (en) * 2001-11-02 2004-07-13 Bausch & Lomb Incorporated High refractive index aromatic-based silyl monomers
JP4280147B2 (ja) * 2003-10-27 2009-06-17 Ｊｓｒ株式会社 放射線硬化性樹脂組成物
US7326523B2 (en) 2004-12-16 2008-02-05 International Business Machines Corporation Low refractive index polymers as underlayers for silicon-containing photoresists
US8586154B2 (en) * 2007-03-09 2013-11-19 3M Innovative Properties Company Triphenyl monomers suitable for microstructured optical films
WO2008112451A2 (en) 2007-03-09 2008-09-18 3M Innovative Properties Company Microstructured optical films comprising biphenyl difunctional monomers
US20110280789A1 (en) * 2009-01-16 2011-11-17 Junji Suzuki Process for producing carbon material
KR101627725B1 (ko) 2009-02-03 2016-06-07 삼성전자 주식회사 광경화형 화합물
JP2011085767A (ja) 2009-10-15 2011-04-28 Jsr Corp 酸転写用組成物、バイオチップの製造方法、バイオチップ及び重合体
JP2012153825A (ja) * 2011-01-27 2012-08-16 Showa Denko Kk （メタ）アクリロイル基含有共重合体
JP2013091779A (ja) 2012-09-21 2013-05-16 Nippon Shokubai Co Ltd プライマー用硬化性組成物
WO2014115210A1 (ja) * 2013-01-28 2014-07-31 日本曹達株式会社 コーティング剤

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61261374A (ja) * 1985-05-14 1986-11-19 インタ−ナシヨナル　ペイント　パブリツクリミテイド　カンパニ− 防汚塗料用バインダ−
JPS63145310A (ja) 1986-12-06 1988-06-17 Agency Of Ind Science & Technol 光学用プラスチツク材料
JPS63145287A (ja) 1986-12-06 1988-06-17 Agency Of Ind Science & Technol トリフエニルシリル基を有する新規な不飽和化合物
JP2001131288A (ja) * 1999-08-26 2001-05-15 Dow Corning Corp シリコーン樹脂及びその製造方法
JP2004035881A (ja) * 2002-05-30 2004-02-05 Atofina Chemicals Inc 船舶コーティング組成物用のトリアリールシリル（メタ）アクリロイル含有ポリマー
JP2004346317A (ja) * 2003-05-21 2004-12-09 Atofina Chemicals Inc 船舶用塗料組成物のためのトリアリールシリル（メタ）アクリロイル含有重合体
WO2009139476A1 (ja) 2008-05-16 2009-11-19 旭硝子株式会社 重合性化合物、光硬化性組成物、光学素子および光ヘッド装置
JP2011201087A (ja) * 2010-03-24 2011-10-13 Toppan Printing Co Ltd タッチパネル用ハードコートフィルム及びタッチパネル
WO2012133586A1 (ja) * 2011-03-30 2012-10-04 住友大阪セメント株式会社 低屈折率膜形成用組成物、低屈折率膜、プラスチック基材、及び表示装置

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
R. F. FEDORS, POLYM. ENG. SCI., vol. 14, 1974, pages 147
See also references of EP2949716A4

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014198763A (ja) * 2013-03-29 2014-10-23 新日鉄住金化学株式会社 アクリレート化合物、アクリル樹脂組成物及びアクリル樹脂硬化物
WO2017094264A1 (ja) * 2015-12-03 2017-06-08 日本曹達株式会社 導電膜付き基材
JPWO2017094264A1 (ja) * 2015-12-03 2018-10-04 日本曹達株式会社 導電膜付き基材
WO2017110060A1 (ja) * 2015-12-21 2017-06-29 日本曹達株式会社 コーティング剤
CN108291108A (zh) * 2015-12-21 2018-07-17 日本曹达株式会社 涂层剂
JPWO2017110060A1 (ja) * 2015-12-21 2018-08-30 日本曹達株式会社 コーティング剤
US20180273793A1 (en) * 2015-12-21 2018-09-27 Nippon Soda Co., Ltd. Coating agent
CN108291108B (zh) * 2015-12-21 2020-12-18 日本曹达株式会社 涂层剂
KR20190041507A (ko) 2016-10-14 2019-04-22 닛뽕소다 가부시키가이샤 접착성 조성물
KR20210097841A (ko) 2016-10-14 2021-08-09 닛뽕소다 가부시키가이샤 접착성 조성물
EP4155361A1 (en) 2016-10-14 2023-03-29 Nippon Soda Co., Ltd. Adhesive composition
US11795353B2 (en) 2016-10-14 2023-10-24 Nippon Soda Co., Ltd. Adhesive composition
US12104092B2 (en) 2016-10-14 2024-10-01 Nippon Soda Co., Ltd. Adhesive composition
JPWO2018230507A1 (ja) * 2017-06-15 2020-04-09 日本曹達株式会社 接着性組成物
WO2018230507A1 (ja) 2017-06-15 2018-12-20 日本曹達株式会社 接着性組成物
US11834390B2 (en) 2018-10-05 2023-12-05 Nippon Soda Co., Ltd. Adhesive composition
JP2023528501A (ja) * 2020-06-03 2023-07-04 東友ファインケム株式会社 易接着層形成用組成物及びこれを用いたハードコーティングフィルム
JP7497465B2 (ja) 2020-06-03 2024-06-10 東友ファインケム株式会社 易接着層形成用組成物及びこれを用いたハードコーティングフィルム

Also Published As

Publication number Publication date
TW201439059A (zh) 2014-10-16
EP2949716A1 (en) 2015-12-02
TW201527277A (zh) 2015-07-16
KR20150095776A (ko) 2015-08-21
TW201527276A (zh) 2015-07-16
JP6227743B2 (ja) 2017-11-08
JP2017094723A (ja) 2017-06-01
EP2949716B1 (en) 2020-04-29
EP2949716A4 (en) 2016-10-05
SG11201505710UA (en) 2015-08-28
JP6035350B2 (ja) 2016-11-30
KR101828139B1 (ko) 2018-02-09
JP6335244B2 (ja) 2018-05-30
CN104937055B (zh) 2018-04-13
KR20170141278A (ko) 2017-12-22
JPWO2014115210A1 (ja) 2017-01-19
JP2017071782A (ja) 2017-04-13
US20150353738A1 (en) 2015-12-10
MY174180A (en) 2020-03-12
TWI522346B (zh) 2016-02-21
US10947393B2 (en) 2021-03-16
TWI557106B (zh) 2016-11-11
CN108047866A (zh) 2018-05-18
TWI557107B (zh) 2016-11-11
KR20170141279A (ko) 2017-12-22
KR102105241B1 (ko) 2020-04-27
CN104937055A (zh) 2015-09-23
CN107254059A (zh) 2017-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6227743B2 (ja) コーティング剤
JP5468265B2 (ja) 有機無機複合体
CN102245662B (zh) 包含用马来酰亚胺基进行了表面修饰的无机氧化物微粒的固化型组合物
JP2014037453A (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物およびそれを用いた積層体
US9217095B2 (en) Organic-inorganic complex, and composition for forming same
JP2012041545A (ja) フッ素系重合体および樹脂組成物
JP2014084360A (ja) 活性エネルギー線硬化型アンダーコート用組成物及び積層体
JP5570007B2 (ja) 有機無機複合体
JP2016033210A (ja) コーティング剤
JP2008208243A (ja) フッ素系重合体及び樹脂組成物
JP6734299B2 (ja) コーティング剤

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13872476

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2014558294

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20157018225

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14759969

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2013872476

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: IDP00201504542

Country of ref document: ID

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE