WO2014173093A1 - 显示基板、包括该显示基板的显示装置以及制作该显示基板的方法 - Google Patents

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    • G02F2201/48—Flattening arrangements

Definitions

  • An embodiment of the present invention provides a display substrate including a substrate substrate, a black matrix formed on the substrate substrate, and a color film, wherein the color film is alternately disposed with the black matrix and the black film
  • the matrix has a height difference
  • the display substrate further includes:
  • the display substrate provided in the first embodiment of the present invention includes a substrate substrate 1, a black matrix 2 formed on the substrate substrate 1, and a height difference formed on the substrate substrate 1 and the black matrix 2.
  • the color film 3, the display substrate further includes a flat layer: the flat layer is located on the black matrix 2 or on the black matrix 2 and the color film 3 for flattening the height difference between the black matrix 2 and the color film 3.
  • the photoresist includes a transparent photoresist and an opaque photoresist.
  • the flat layer in this embodiment is located on the black matrix 2.
  • the transmittance of the flat layer does not affect the light transmittance of the display substrate. Therefore, in this embodiment,
  • the flat layer of photoresist 40 may be a transparent photoresist or an opaque photoresist.
  • a flat layer made of photoresist is formed on the black matrix, and the upper surface of the flat layer is in the same plane as the upper surface of the color film, without affecting the transmittance of the display substrate. , can eliminate the height difference between the black matrix and the color film, thereby effectively improving the surface flatness of the color film.
  • a transparent resin is used in place of the photoresist to form a flat layer, and the above object can be achieved.
  • a flat layer for planarizing the height difference between the black matrix and the color film may be formed on the black matrix and the color film, and the flat layer corresponds to a portion of the black matrix region. There is a different layer thickness from the portion corresponding to the color film area.
  • the upper surface of the flat layer above the black matrix and the color film is a flat surface, which can eliminate the difference in height between the black matrix and the color film.
  • Step S103a forming a photoresist on the substrate of the substrate on which the black matrix and the color film are formed.
  • Step S103b Exposing the photoresist formed in S103a with a gray tone mask according to a difference in height between the black matrix and the color film.
  • a gray tone mask for example, different exposures may cause different development effects of the photoresist during the development process. Therefore, in the embodiment of the present invention, the height difference between the black matrix and the color film in FIG. 1 may be eliminated, and the black matrix and color may be used.
  • the difference in height between the films is performed by using a gray tone mask to expose the photoresist on the black matrix and the photoresist on the color film to different degrees, so that the photoresist on the black matrix and the photoresist are located.
  • the photoresist on the color film is dissolved to different extents, and the difference in height between the black matrix and the color film in FIG. 1 is eliminated by using the photoresist remaining after the dissolution.
  • Step S103c developing the exposed photoresist in step S103b to form a first photoresist region and a second photoresist region.
  • the photoresist of the third photoresist region in this embodiment corresponds to the black matrix region and is completely or partially retained;
  • the photoresist of the fourth photoresist region corresponds to the color film region and is partially retained, corresponding to
  • the upper surface of the third photoresist region of the black matrix region and the upper surface of the fourth photoresist region corresponding to the color film region are in the same plane.
  • the method for fabricating the display substrate provided in this embodiment is based on the difference in height between the black matrix and the color film, and the gray photoresist mask is used to preserve the transparent photoresist portion on the color film by photolithography.
  • the transparent photoresist at the position corresponding to the black matrix region is completely retained or partially retained, so that the upper surface of the third photoresist region corresponding to the black matrix region is located on the upper surface of the fourth photoresist region corresponding to the color film region.
  • the same plane eliminates the height difference between the black matrix and the color film to improve the product yield and improve the quality of the picture display.
  • the transparent resin formed on the substrate of the black matrix and the color film may be deposited, coated, or the like, and the transparent resin may be an organic resin, or an inorganic resin or other may be used for the purpose of the embodiment of the present invention. s material.
  • the photoresist formed on the transparent resin in the eighth embodiment may be a positive photoresist or a negative photoresist, and may be a transparent photoresist or an opaque photoresist.
  • the photoresist corresponding to the fifth photoresist region of the color film region is completely removed; the photoresist portion corresponding to the sixth photoresist region of the black matrix region is retained or completely retained, and corresponds to The upper surface of the sixth photoresist region of the black matrix region is in the same plane as the upper surface of the transparent resin corresponding to the color film region.
  • the photoresist corresponding to the color film region may not be completely removed, and the portion may be retained as long as the final correspondence is satisfied.
  • the upper surface of the photoresist formed at the position of the black matrix region may be flush with the upper surface of the photoresist formed at the position corresponding to the color film region.
  • the transparent resin by forming a transparent resin on the black matrix and the color film in advance, the transparent resin also has a corresponding height difference at a position corresponding to the black matrix region and a position corresponding to the color film region, and The height difference is enlarged compared to the height difference between the black matrix and the color film, and then the height difference is increased at a position corresponding to the color filter area at a position corresponding to the black matrix area on the display substrate. Exposure and development of the photoresist with different exposures can more precisely control the layer thickness of the photoresist, improve product yield, and improve picture display quality.

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Abstract

提供了一种显示基板、包括该显示基板的显示装置以及制作该显示基板的制作方法。显示基板包括衬底基板（1）、形成在衬底基板（1）上的黑矩阵（2）以及彩膜（3），彩膜（3）与黑矩阵（2）间隔设置并具有高度差，显示基板还包括位于黑矩阵（2）之上、或位于黑矩阵（2）与彩膜（3）之上的平坦层（40），平坦层（40）用于平坦化黑矩阵（2）和彩膜（3）之间的高度差。因此，能够消除黑矩阵（2）和彩膜（3）之间的高度差，进而有效的提高彩膜（3）的表面平整性，提高产品良品率，并提高画面显示质量。

Description

显示基板、 包括该显示基板的显示装置以及制作该显示基板的方法 技术领域
本发明的实施例涉及一种显示基板、显示装置以及显示基板的制作方法。 背景技术
随着显示面板制作成本的降低和制作工艺的改善， 其应用越来越广泛。 显示面板一般由显示基板组成， 显示基板一般至少包括村底基板 1、 形 成在村底基板 1上的黑矩阵 2, 以及形成在村底基板 1上由黑矩阵 2限定的 像素区域内的彩膜 3, 彩膜 3—般包括红色树脂层、 绿色树脂层和蓝色树脂 层， 彩膜 3与黑矩阵 2间隔排列， 如图 1所示。
惯常技术中显示基板的制造方法是先在村底基板 1的表面上形成黑矩阵 2 的图形， 然后依次沉积红色树脂层、 绿色树脂层和蓝色树脂层， 并最终形 成彩膜 3。 然而， 由于在制造过程中， 难以控制彩膜 3的高度使之与黑矩阵 的高度一致， 通常将彩膜 3制作得高于黑矩阵 2, 在彩膜 3与黑矩阵 2之间 产生高度差， 使彩膜 3表面不平整， 可再次参阅图 1。
显示基板表面的平整性对于画面显示质量至关重要。 在黑矩阵 2和彩膜 3 上再沉积其他薄膜时， 二者之间的高度差会不断增大， 导致显示基板表面 不平整，使产品的良品率下降， 并且在后续工艺中， 当对取向层进行摩擦时， 有高度差的区域就会出现摩擦不均匀， 导致显示装置的显示质量较差。 发明内容
本发明实施例的目的之一是提供一种显示基板，以解决彩膜表面不平整， 导致产品的良品率下降， 显示质量下降的问题。
本发明实施例的上述目的是通过以下技术方案实现的：
本发明的实施例一方面提供了一种显示基板， 包括村底基板、 形成在所 述村底基板上的黑矩阵以及彩膜， 所述彩膜与所述黑矩阵交替设置并与所述 黑矩阵具有高度差， 该显示基板还包括：
平坦层， 所述平坦层位于所述黑矩阵之上或位于所述黑矩阵与所述彩膜 之上， 用于平坦化所述黑矩阵和所述彩膜之间的高度差。
本发明的实施例的另一方面还提供了一种显示装置， 该显示装置包括上 述显示基板。
本发明的实施例的再一方面还提供了一种制作显示基板的方法， 该方法 包括： 在村底基板上交替形成黑矩阵和彩膜；
在形成有所述黑矩阵和所述彩膜的村底基板之上， 形成平坦层， 所述平 坦层用于消除所述黑矩阵和所述彩膜之间的高度差。
本发明的实施例提供了显示基板、 包括该显示基板的显示装置以及制作 该显示基板的方法， 在黑矩阵与彩膜上形成有用于平坦化黑矩阵和彩膜之间 高度差的平坦层， 或在黑矩阵上形成有用于平坦化黑矩阵和彩膜之间高度差 的平坦层， 能够消除黑矩阵和彩膜之间的高度差。 本发明的实施例提供的方 法能够有效地提高彩膜表面平整性， 提高产品良品率， 并提高显示质量。 附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案， 下面将对实施例的附图作 筒单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例， 而非对本发明的限制。
图 1为惯常技术中显示基板结构示意图；
图 2为本发明实施例提供的显示基板结构示意图；
图 3为本发明实施例提供的又一显示基板结构示意图；
图 4为本发明实施例提供的再一显示基板结构示意图。 具体实施方式
为使本发明实施例的目的、 技术方案和优点更加清楚， 下面将结合本发 明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、 完整地描述。显然， 所描述的实施例是本发明的一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基于所描 述的本发明的实施例， 本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获 得的所有其他实施例， 都属于本发明保护的范围。
本发明的实施例提供了一种显示基板， 在黑矩阵与彩膜上形成有用于平 坦化黑矩阵和彩膜之间高度差的平坦层， 或在黑矩阵上形成有用于平坦化黑 矩阵和彩膜之间高度差的平坦层， 能够较大程度地消除黑矩阵和彩膜之间的 高度差， 有效地提高彩膜表面平整性。
实施例一
本发明的实施例一提供的显示基板， 如图 1所示， 包括村底基板 1、 形 成在村底基板 1上的黑矩阵 2以及形成在村底基板 1上与黑矩阵 2具有高度 差的彩膜 3 , 该显示基板还包括平坦层： 该平坦层位于黑矩阵 2之上或位于 黑矩阵 2与彩膜 3之上， 用于平坦化黑矩阵 2和彩膜 3之间的高度差。
进一步的， 本发明实施例一中用于平坦化黑矩阵 2和彩膜 3之间高度差 的平坦层可选用例如光刻胶， 通过筒单的光刻技术即可制作完成， 筒化制作 工艺。
在该实施例中选用光刻胶作为平坦层时， 显示基板结构如图 2所示， 本 发明实施例提供的显示基板包括村底基板 1、形成在村底基板 1上的黑矩阵 2 以及彩膜 3,彩膜 3与黑矩阵 2之间具有高度差，平坦层 40位于黑矩阵 2上， 并且平坦层 40的上表面与彩膜 3的上表面位于同一平面。
光刻胶包括透明光刻胶和不透明光刻胶， 本实施例中的平坦层位于黑矩 阵 2上， 平坦层的透光率不会影响显示基板的透光率， 因此， 本实施例中作 为平坦层的光刻胶 40可以采用透明光刻胶， 也可以采用不透明光刻胶。
本实施例提供的显示基板， 在黑矩阵上形成由光刻胶构成的平坦层， 该 平坦层的上表面与彩膜的上表面位于同一平面， 在不影响显示基板的透光率 的情况下， 能够消除黑矩阵和彩膜之间的高度差， 进而有效地提高彩膜表面 平整性。
本领域技术人员可以想到， 在该实施例中用透明树脂代替光刻胶来构成 平坦层， 同样可以实现上述目的。
实施例二
本发明实施例二提供的显示基板选用透明光刻胶作为平坦层， 透明光刻 胶位于彩膜和黑矩阵之上。图 3示出了本实施例提供的显示基板结构示意图， 该显示基板包括村底基板 1、形成在村底基板 1上的黑矩阵 2以及彩膜 3,彩 膜 3与黑矩阵 2具有高度差， 该显示基板还包括： 位于黑矩阵 2与彩膜 3之 上的平坦层 41 , 其中， 该平坦层 41的上表面为一平面， 即平坦层 41的对应 于黑矩阵 2的部分与对应于彩膜 3的部分具有不同的层级厚度， 消除了黑矩 阵 2与彩膜 3之间的高度差。 平坦层 41由透明光刻胶制成。
本实施例提供的显示基板中， 在黑矩阵和彩膜上形成由透明光刻胶制成 的平坦层， 该平坦层上表面为一平面。 该透明的平坦层能够在不影响显示基 板的透光率的情况下， 消除黑矩阵和彩膜之间的高度差， 有效地提高彩膜表 面平整性。
应当理解的是， 本实施例中可以用透明树脂代替光刻胶来构成平坦层， 同样可以实现上述目的。
实施例三
本发明实施例三提供的显示基板，平坦层由透明树脂部分 42和光刻胶部 分 43组成， 透明树脂部分 42覆盖黑矩阵 2与彩膜 3, 光刻胶部分 43覆盖对 应于黑矩阵 2区域的透明树脂，且光刻胶部分 43的上表面与对应于彩膜区域 的透明树脂部分 42的上表面位于同一平面， 如图 4所示。
应当理解的是，本发明实施例中透明树脂 42的材料可以是透明有机树脂 材料， 也可以是透明的无机树脂材料或者其他可以实现本发明目的的材料。
本实施例提供的平坦层包括透明树脂部分和光刻胶部分，具有双层结构， 将黑矩阵与彩膜之间的高度差在透明树脂上进行扩大， 然后基于扩大后的高 度差， 利用灰阶曝光并进行显影， 制作平坦层的光刻胶部分以消除高度差， 能够精确地控制光刻胶部分的层级厚度， 有效地避免显示基板上彩膜与黑矩 阵之间高度差造成的产品良率下降， 显示质量低的问题。
实施例四
本发明实施例四提供了一种显示装置， 该显示装置包括实施例一、 实施 例二和实施例三所提供的显示基板， 其他结构与惯常技术相同， 在此不再赘 述。
本实施例提供的显示装置可以为液晶面板、 液晶显示器、 液晶电视、 OLED ( Organic Light-Emitting Diode, 有机发光二极管）显示面板、 OLED 电视、 手机、 掌上电脑和数码相框等。
本实施例提供的显示装置中包括的显示基板， 在黑矩阵与彩膜上形成有 用于平坦化黑矩阵和彩膜之间高度差的平坦层， 或在黑矩阵上形成有用于平 坦化黑矩阵和彩膜之间高度差的平坦层， 能够消除黑矩阵和彩膜之间的高度 差， 有效地提高彩膜的表面平整性， 提高产品良品率， 并提高显示质量。 实施例五
本发明实施例五提供了一种显示基板的制作方法， 该制作方法包括以下 步骤：
步骤 S101、 提供一村底基板；
步骤 S102、 在村底基板上形成黑矩阵和彩膜； 以及
步骤 S103、 在形成有黑矩阵和彩膜的村底基板上形成平坦层。
一方面， 在本实施例的步骤 S103 中， 可在黑矩阵上形成用于平坦化黑 矩阵和彩膜之间高度差的平坦层， 该平坦层的上表面与彩膜的上表面位于同 一平面， 以消除黑矩阵与彩膜之间的高度差。
另一方面， 本发明实施例的步骤 S103 中， 还可在黑矩阵与彩膜上形成 用于平坦化黑矩阵和彩膜之间高度差的平坦层， 该平坦层对应于黑矩阵区域 的部分与对应于彩膜区域的部分具有不同的层级厚度。 在这种情况下， 位于 黑矩阵与彩膜上方的平坦层上表面为一平面， 能够消除黑矩阵与彩膜之间的 高度差。
在本实施例中， 在村底基板上形成黑矩阵和彩膜后， 还包括在黑矩阵与 彩膜之上或在黑矩阵之上形成用于平坦化黑矩阵和彩膜之间高度差的平坦 层。 该平坦层能够有效地提高彩膜的表面平整性， 提高产品良品率， 并提高 显示质量。
实施例六
本发明实施例六为提高彩膜表面平整性以提高画面显示质量， 在制作显 示基板过程中， 可应用光刻技术， 采用光刻胶形成位于黑矩阵之上或位于黑 矩阵与彩膜之上的平坦层， 在此， 将仅就该实施例与实施例五的不同之处做 详细说明， 该实施例与实施例五中的相同之处， 在此不再赘述。
本实施例中选用光刻胶进行制作平坦层， 选用的光刻胶可以是透明光刻 胶或不透明光刻胶。 形成平坦层的步骤 S103 , 例如， 包括以下步骤：
步骤 S103a、 在制作好黑矩阵和彩膜的村底基板上形成光刻胶。
例如， 本发明实施例中在黑矩阵和彩膜上形成光刻胶可采用涂覆、 沉积 等方式。
步骤 S103b、 依据黑矩阵与彩膜之间的高度差值， 采用灰色调掩膜板对 S103a中形成的光刻胶进行曝光。 例如， 不同的曝光度会使光刻胶在显影过程中产生不同的显影效果， 因 此， 本发明实施例中为消除图 1中黑矩阵与彩膜之间的高度差， 可依据黑矩 阵与彩膜之间存在的高度差值， 采用灰色调掩膜板对位于黑矩阵上的光刻胶 和位于彩膜上的光刻胶进行不同程度的曝光， 使位于黑矩阵上的光刻胶和位 于彩膜上的光刻胶进行不同程度的溶解， 利用溶解后保留的光刻胶消除图 1 中黑矩阵与彩膜之间的高度差。
步骤 S103c、 对步骤 S103b中曝光后的光刻胶进行显影处理， 形成第一 光刻胶区域和第二光刻胶区域。
例如， 彩膜的高度高于黑矩阵的高度， 在本实施例中为了不影响显示基 板的透光性， 将显示基板上彩膜区域对应位置处的光刻胶全部去除， 而黑矩 阵区域对应位置处的光刻胶全部保留或部分保留。
进一步的， 对步骤 S103b中曝光后的光刻胶进行显影处理， 形成对应于 彩膜区域的第一光刻胶区域和对应于黑矩阵区域的第二光刻胶区域， 第一光 刻胶区域的光刻胶完全去除；第二光刻胶区域的光刻胶部分保留或完全保留， 且第二光刻胶区域上表面与彩膜上表面位于同一平面， 利用与黑矩阵区域对 应的第二光刻胶区域上部分保留或全部保留的光刻胶， 消除黑矩阵与彩膜之 间的高度差， 从而达到提高产品良品率， 提高画面显示质量的目的。
该实施例提供的显示基板制作方法， 依据黑矩阵和彩膜之间的高度差， 通过光刻技术， 采用灰色调掩膜板， 将位于彩膜上的光刻胶全部去除， 而使 对应于黑矩阵区域位置处的光刻胶全部保留或部分保留， 能够通过对应于黑 矩阵区域位置处的全部保留或部分保留的光刻胶消除黑矩阵与彩膜之间的高 度差， 以提高产品良品率， 并提高画面显示质量。
实施例七
该实施例中选用透明光刻胶制作平坦层， 形成平坦层的的步骤 103例如 包括以下步骤：
步骤 S103d、 在形成黑矩阵和彩膜的村底基板上形成透明光刻胶。
该实施例中在黑矩阵和彩膜的村底基板上形成透明光刻胶可采用涂覆、 沉积等方式。
步骤 S103e、 依据黑矩阵与彩膜之间的高度差值， 采用灰色调掩膜板对 步骤 S103d中形成的透明光刻胶进行曝光。 步骤 S103f、 对步骤 S103e中曝光后的光刻胶进行显影处理， 形成第三 光刻胶区域和第四光刻胶区域。
例如， 该实施例中第三光刻胶区域的光刻胶对应于黑矩阵区域， 并完全 保留或部分保留； 第四光刻胶区域的光刻胶对应于彩膜区域并部分保留， 对 应于黑矩阵区域的第三光刻胶区域的上表面和对应于彩膜区域的第四光刻胶 区域的上表面位于同一平面。
在该实施例中， 由于在后续的处理中并不完全去除对应于黑矩阵区域和 彩膜区域上的光刻胶， 可以对光刻胶进行固化处理， 然后对固化后的光刻胶 进行机械抛光， 使对应于黑矩阵区域的光刻胶区域的上表面和对应于彩膜区 域的光刻胶区域的上表面位于同一平面。
该实施例中提供的显示基板制作方法，依据黑矩阵和彩膜之间的高度差， 通过光刻技术， 采用灰色调掩膜板， 使位于彩膜上的透明光刻胶部分保留， 而使对应于黑矩阵区域的位置处的透明光刻胶完全保留或部分保留， 使对应 于黑矩阵区域的第三光刻胶区域上表面与对应于彩膜区域的第四光刻胶区域 上表面位于同一平面，消除黑矩阵与彩膜之间的高度差， 以提高产品良品率， 并提高画面显示质量。
实施例八
本发明实施例八还提供了一种显示基板的制作方法， 在此将仅就实施例 八与实施例五不同之处做详细说明， 实施例八与实施例五中的相同之处， 在 此不再赘述， 形成平坦层的步骤 S103, 例如， 包括以下步骤：
步骤 S103g: 在形成有黑矩阵和彩膜的村底基板上形成透明树脂。
例如， 实施例八中在黑矩阵和彩膜的村底基板上形成透明树脂可以采用 沉积、 涂覆等方式， 透明树脂可以选用有机树脂， 也可选用无机树脂或者其 他可以实现本发明实施例目的的材料。
由于黑矩阵和彩膜之间具有高度差， 在实施例八中， 在黑矩阵和彩膜上 形成透明树脂后， 得到的透明树脂的表面在对应黑矩阵和彩膜具有高度差的 区域部分也是不平整的， 即对应于黑矩阵区域的位置处的透明树脂与对应于 彩膜区域的位置处的透明树脂也具有高度差， 并且由于透明树脂形成在黑矩 阵和彩膜上， 因此黑矩阵区域与彩膜区域之间的高度差在透明树脂上进一步 被扩大。 步骤 S103h: 在透明树脂上形成光刻胶。
例如， 实施例八中在透明树脂上形成的光刻胶可以为正性光刻胶， 也可 为负性光刻胶， 可以是透明光刻胶， 也可是不透明光刻胶。
步骤 S103i: 依据对应于黑矩阵区域的透明树脂与对应于彩膜区域的透 明树脂之间的高度差值， 采用灰色调掩膜板对步骤 S103h中涂覆的光刻胶进 行不同程度的曝光并显影， 形成对应于彩膜区域的第五光刻胶区域和对应于 黑矩阵区域的第六光刻胶区域。
在实施例八中， 对应于彩膜区域的第五光刻胶区域的光刻胶完全去除； 对应于黑矩阵区域的第六光刻胶区域的光刻胶部分保留或完全保留， 且对应 于黑矩阵区域的第六光刻胶区域上表面与对应于彩膜区域的透明树脂的上表 面位于同一平面。
应当理解的是， 只要本发明实施例中采用的光刻胶不影响显示基板的透 光率， 则可不必将对应于彩膜区域的光刻胶完全去除， 可以保留部分， 只要 满足最终在对应于黑矩阵区域的位置处形成的光刻胶的上表面与在对应于彩 膜区域的位置处形成的光刻胶的上表面为同一平面即可。 也就是说， 对应于 彩膜区域的第五光刻胶区域的光刻胶部分保留； 对应黑矩阵区域的第六光刻 胶区域的光刻胶部分保留或完全保留， 对应于黑矩阵区域的第六光刻胶区域 的上表面与对应于彩膜区域的光刻胶部分保留的第五光刻胶区域的上表面位 于同一平面。
本发明实施例中， 通过在黑矩阵和彩膜上预先形成一层透明树脂， 透明 树脂在对应于黑矩阵区域的位置处与在对应于彩膜区域的位置处也具有相应 的高度差， 并且该高度差相较于黑矩阵和彩膜之间的高度差会被扩大， 然后 依据显示基板上透明树脂在对应于黑矩阵区域的位置处与对应于彩膜区域的 位置处扩大了的高度差， 采用不同的曝光度对光刻胶进行曝光和显影， 能够 较精确地控制光刻胶的层级厚度， 提高产品良品率， 并提高画面显示质量。
在本发明的实施例六至实施例八中光刻胶可采用正性光刻胶也可采用负 性光刻胶。 ^据采用的光刻胶不同， 采用不同的曝光方式进行曝光。 例如采 用负性光刻胶时， 如需要形成光刻胶完全保留区域， 则对相应区域的光刻胶 进行全曝光， 如需要形成光刻胶部分保留区域， 则对相应区域的光刻胶进行 半曝光， 如需要形成光刻胶完全去除区域， 则对对应区域的光刻胶不曝光， 采用正性光刻胶则采用的曝光方式相反。
以上所述仅是本发明的示范性实施方式， 而非用于限制本发明的保护范 围， 本发明的保护范围由所附的权利要求确定。

Claims

权利要求书
1. 一种显示基板， 包括村底基板、 形成在所述村底基板上的黑矩阵和彩 膜， 所述彩膜和所述黑矩阵交替设置并具有高度差， 其中， 所述显示基板还 包括：
平坦层， 用于平坦化所述黑矩阵和所述彩膜之间的高度差。
2. 如权利要求 1所述的显示基板， 其中， 所述平坦层由光刻胶制成。
3. 如权利要求 2所述的显示基板， 其中， 所述光刻胶为不透明光刻胶； 所述不透明光刻胶位于所述黑矩阵之上， 且上表面与所述彩膜的上表面 位于同一平面。
4. 如权利要求 2所述的显示基板， 其中， 所述光刻胶为透明光刻胶； 所述透明光刻胶位于所述黑矩阵之上， 且上表面与所述彩膜的上表面位 于同一平面； 或，
所述透明光刻胶位于所述黑矩阵与所述彩膜之上， 且上表面为一平面。
5. 如权利要求 1所述的显示基板， 其中， 所述平坦层包括透明树脂和光 刻胶；
所述透明树脂覆盖所述黑矩阵与所述彩膜；
所述光刻胶覆盖与所述黑矩阵区域相对应的透明树脂， 且所述光刻胶的 上表面与所述彩膜区域对应的透明树脂的上表面位于同一平面。
6.根据权利要求 1所述的显示基板，其中，所述平坦层由透明树脂制成， 所述平坦层位于所述黑矩阵上或位于所述黑矩阵与所述彩膜上。
7.一种显示装置， 其包括权利要求 1~6任一项所述的显示基板。
8.一种制作显示基板的方法， 包括以下步骤：
在村底基板上形成黑矩阵和彩膜的步骤；
在形成有所述黑矩阵和所述彩膜的村底基板之上形成平坦层的步骤， 所 述平坦层用于消除所述黑矩阵和所述彩膜之间的高度差。
9. 如权利要求 8所述的方法， 其中， 所述平坦层为光刻胶；
所述在形成有所述黑矩阵和所述彩膜的村底基板之上形成平坦层的步骤 包括：
在形成有所述黑矩阵和所述彩膜的村底基板上形成光刻胶； 根据所述黑矩阵与所述彩膜之间的高度差， 采用灰色调掩模板对所述光 刻胶进行曝光并显影， 形成对应于所述彩膜区域的第一光刻胶区域和对应于 所述黑矩阵区域的第二光刻胶区域；
其中， 完全去除所述第一光刻胶区域的光刻胶， 部分保留或完全保留所 述第二光刻胶区域的光刻胶， 使第二光刻胶区域的上表面与所述彩膜的上表 面位于同一平面。
10. 如权利要求 8所述的方法， 其中， 所述平坦层为透明光刻胶； 所述在形成有所述黑矩阵和所述彩膜的村底基板之上形成平坦层的步骤 包括：
在形成有所述黑矩阵和所述彩膜的村底基板上形成透明光刻胶； 依据所述黑矩阵与所述彩膜之间的高度差值， 采用灰色调掩模板对所述 透明光刻胶进行曝光并显影， 形成对应于所述黑矩阵区域的第三光刻胶区域 和对应于所述彩膜区域的第四光刻胶区域；
其中， 所述第三光刻胶区域的光刻胶完全保留或部分保留， 所述第四光 刻胶区域的光刻胶部分保留， 第三光刻胶区域的上表面与第四光刻胶区域的 上表面位于同一平面。
11.如权利要求 8所述的方法， 其中， 所述平坦层包括透明树脂和光刻 胶；
所述在形成有所述黑矩阵和所述彩膜的村底基板之上形成平坦层的步骤 包括：
在形成有所述黑矩阵和所述彩膜的村底基板上形成透明树脂； 在所述透明树脂上形成光刻胶；
依据所述黑矩阵区域对应的透明树脂与所述彩膜区域对应的透明树脂之 间的高度差值， 采用灰色调掩模板对所述光刻胶进行曝光并显影， 形成对应 于所述彩膜区域的第五光刻胶区域和对应于所述黑矩阵区域的第六光刻胶区 域；
其中， 所述第五光刻胶区域的光刻胶完全去除， 所述第六光刻胶区域的 光刻胶部分保留或完全保留， 所述黑矩阵区域对应的第六光刻胶区域的上表 面与所述彩膜区域对应的透明树脂的上表面， 位于同一平面。
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