WO2018048005A1 - 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치 - Google Patents

마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a mask protection module, a pellicle comprising the same, and a lithographic apparatus comprising the same.
  • Korean Patent Registration Publication KR1552940B1 (Application No. KR20130157275A, Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd.) discloses a method for producing a graphite-containing thin film having a high tensile strength while having high EUV permeability with a pellicle film for extreme ultraviolet lithography. It is.
  • One technical problem to be solved by the present invention is to provide a mask protection module, a pellicle including the same, and a lithographic apparatus including the same, which is easy to manufacture a large area.
  • Another technical problem to be solved by the present invention is to provide a mask protection module having improved strength, a pellicle including the same, and a lithographic apparatus including the same.
  • Another technical problem to be solved by the present invention is to provide a mask protection module with improved EUV transmittance, a pellicle including the same, and a lithographic apparatus including the same.
  • Another technical problem to be solved by the present invention is to provide a mask protection module with improved thermal characteristics, a pellicle including the same, and a lithographic apparatus including the same.
  • Another technical problem to be solved by the present invention is to provide a mask protection module having a long life, a pellicle comprising the same, and a lithographic apparatus including the same.
  • Another technical problem to be solved by the present invention is to provide a mask protection module having a reduced manufacturing cost, a pellicle comprising the same, and a lithographic apparatus including the same.
  • the technical problem to be solved by the present invention is not limited to the above.
  • the present invention provides a mask protection module.
  • the mask protection module includes a frame, a membrane supported by the frame, wherein the membrane is a region in which at least one of light transmittance, heat transfer rate, or intensity is different from one another. Can include them.
  • the membrane may include a transmission region through which the light transmits, and a peripheral region surrounding the transmission region and having a lower transmittance of the light than the transmission region.
  • the heat transfer rate of the peripheral region may be higher than the heat transfer rate of the transmission region.
  • the peripheral region and the transmission region may have different thicknesses.
  • the thickness of the peripheral region may be thicker than the thickness of the transmission region.
  • the peripheral region and the transmission region may be formed of the same material, and the thickness of the peripheral region may be thicker than the thickness of the transmission region.
  • the peripheral region and the transmission region may be formed of different materials.
  • the intensity of the peripheral region may be higher than that of the transmission region.
  • the ratio of the peripheral region may be higher than the ratio of the transmission region.
  • the transmission region may include a first transmission region through which the light incident from the outside is transmitted to the membrane, and light transmitted from the mask disposed on the membrane by transmitting the first transmission region. And a second transmission region that transmits, wherein the first transmission region and the second transmission region may be spaced apart from each other.
  • the peripheral region includes a first peripheral region surrounding the transmission region, and a second peripheral region surrounding the first peripheral region, wherein the heat transfer rate of the first peripheral region is:
  • the heat transfer rate of the second peripheral region may be higher, and the toughness strength of the second peripheral region may be higher than the toughness strength of the first peripheral region.
  • the membrane, the mask protection module comprising a plane shape (plane shape) provided.
  • an inner space surrounded by the frame and the membrane is defined, and at least a portion of the frame is configured to open the inner space, thereby allowing a path in which a mask is inserted or removed into the inner space.
  • the inner space surrounded by the frame and the membrane is defined, the frame includes a first frame and a second frame configured to be separated from each other, the membrane is a first membrane and configured to be separated from each other and A first segment comprising a second membrane, said first membrane being supported by said first frame, said second membrane being supported by said second frame, said first segment comprising said first membrane and said first frame And a second segment including the second membrane and the second frame may be spaced apart from each other to provide a path through which the mask is inserted or removed into the inner space.
  • the present invention provides a pellicle.
  • the pellicle may include a mask protection module according to an embodiment of the present invention described above.
  • the present invention can provide a lithographic apparatus.
  • the lithographic apparatus includes a light source for emitting light, a mask placement region in which a mask for reflecting the light is disposed, and the light disposed on the mask and emitted from the light source toward the mask. And a mask protection module for transmitting, wherein the mask protection module includes a frame and a membrane supported by the frame, wherein the membrane includes a transmission region through which the light passes, and a transmission region through which the light transmits. It may include lower peripheral areas.
  • the light may include Extreme Ultraviolet.
  • the peripheral region may surround the transmission region, and the peripheral region may have a higher mechanical strength or a higher heat transfer rate than the transmission region.
  • the transmission region may include a first transmission region and a second transmission region spaced apart from each other, and the peripheral region may surround the first and second transmission regions.
  • a mask protection module includes a frame and a membrane supported by the frame, wherein the membrane has at least one of light transmittance, heat transfer rate, and intensity different from each other. It may include areas.
  • the membrane may include a peripheral region and a transmission region, wherein the transmittance of the peripheral region is relatively low in transmittance to light, as compared with the transmission region of the transmission region. It may be formed of a material having high strength, and / or chemical resistance. Accordingly, the kind of material that can be used as the membrane can be varied, and the mechanical strength, heat resistance, and / or chemical resistance of the membrane can be improved. In addition, accordingly, the mask ambiguity module can be easily manufactured in a large area. Accordingly, manufacturing cost can be reduced, and a highly reliable mask protection module with long life can be provided.
  • FIG. 1 is a view for explaining a mask protection module according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a diagram for describing a mask protection module according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG 3 is a view for explaining a mask protection module according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a diagram for describing a mask protection module according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a diagram for describing a mask protection module according to a fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a diagram for describing a mask protection module according to a fifth embodiment of the present invention.
  • FIGS. 7A and 7B are diagrams for describing a mask protection module according to an eighth embodiment of the present invention.
  • FIGS. 8A and 8B are diagrams for describing a mask protection module according to a ninth embodiment of the present invention.
  • 9A and 9B are diagrams for describing a mask protection modol according to a tenth embodiment of the present invention.
  • FIGS. 10A and 10B are diagrams for describing a mask protection module and a transmission area replacement apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a diagram for describing a lithographic apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is a graph measuring EUV intensity according to a distance between a mask and a membrane of a mask protection module according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is an image illustrating an image characteristic according to a distance between a mask and a membrane of a mask protection module according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a graph illustrating image contrast, NILS, and H-V CD bias according to a distance between a mask and a membrane of a mask protection module according to an embodiment of the present invention.
  • first, second, and third are used to describe various components, but these components should not be limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Thus, what is referred to as a first component in one embodiment may be referred to as a second component in another embodiment.
  • first component in one embodiment may be referred to as a second component in another embodiment.
  • second component in another embodiment.
  • Each embodiment described and illustrated herein also includes its complementary embodiment.
  • the term 'and / or' is used herein to include at least one of the components listed before and after.
  • connection is used herein to mean both indirectly connecting a plurality of components, and directly connecting.
  • 1 is a view for explaining a mask protection module according to an embodiment of the present invention.
  • 1 is a diagram illustrating a mask protection module and a mask, respectively, and a mask may be disposed in an inner space of the mask protection module.
  • a mask protection module 300 is provided that includes a frame 100 and a membrane 200 supported by the frame 100.
  • the mask protection module 300 may be a pellicle.
  • the mask 50 may be disposed under the mask protection module 300. In other words, the mask 50 may be disposed in an inner space surrounded by the frame 100 and the membrane 200.
  • Light 60 may be incident to the mask protection module 300.
  • the light 60 may include Extreme Ultraviolet.
  • the light 60 incident to the membrane 200 of the mask protection module 300 may pass through the membrane 200 and enter the mask 50.
  • the mask 50 may be a reflective mask. As a result, the light 60 incident to the mask 50 may be reflected by the mask 50 to pass through the membrane 200.
  • the membrane 200 may include regions in which at least one of transmittance, heat transfer rate, or intensity of the light 60 is different. More specifically, the membrane 200 may include a transmission region through which the light 60 transmits and a peripheral region surrounding the transmission region.
  • the transmission region may have an area corresponding to the area of the light 60 incident on the mask 50.
  • the transmission area may have an area corresponding thereto.
  • the transmittance of the peripheral area with respect to the light 60 may be lower than the transmittance of the transmission area.
  • the heat transfer rate of the peripheral region may be higher than the heat transfer rate of the transmission region.
  • the strength of the peripheral region may be higher than the strength of the transmission region.
  • FIGS. 2 to 10B a mask protection module according to various embodiments of the present disclosure will be described with reference to FIGS. 2 to 10B.
  • FIG. 2 is a diagram for describing a mask protection module according to a first embodiment of the present invention.
  • the membrane 200a of the mask protection module according to the first embodiment of the present invention may include a penetration region 210a and a peripheral region 220a.
  • the membrane 200a may be provided in a plane shape in a fixed state to the frame 100.
  • the ratio of the peripheral area 220a in the total area of the membrane 200a may be higher than the ratio of the permeation area 210a.
  • the ratio of the transmission region 210a may be higher than the ratio of the peripheral region 220a.
  • the transmission region 210a may be a region through which the light 60 transmits.
  • the transmission region 210a may have a polygonal shape, as shown in FIG. 2.
  • the transmission region 210a may be formed of a material having a transmittance of 90% or more in the 13.5 nm wavelength band.
  • the transmission region 210a may include titanium, tantalum, tungsten, molybdenum, chromium, cobalt, boron, carbon, nickel, silver, platinum, zirconium, aluminum, beryllium, silicon, boron, at least one of them. At least one of one oxide, at least one nitride thereof, at least one carbide thereof, or at least one boride thereof.
  • the transmission region 210a may include a carbon nanostructure (eg, graphene, carbon nanotube, etc.) structure.
  • the peripheral area 220a may surround the transmission area 210a.
  • the peripheral area 220a and the transmission area 210a may have at least one of transmittance, heat transfer rate, and intensity of the light 60.
  • the transmittance of the peripheral area 220a with respect to the light 60 may be lower than that of the transmission area 210a.
  • the heat transfer rate of the peripheral region 220a may be higher than the heat transfer rate of the transmission region 210a.
  • the strength of the peripheral region 220a may be higher than that of the transmission region 210a.
  • the peripheral region 220a may be formed of a material different from that of the transmission region 210a.
  • the peripheral region 220a may include at least one of metal, carbon, polymer, or ceramic.
  • the membrane 200a may further include an auxiliary transmission region 230 through which alignment light for alignment of the mask protection module is transmitted.
  • the alignment light may be DUV light.
  • the auxiliary transmission region 230 may be formed of the same material as the transmission region 210a.
  • the auxiliary transmission region 230 may be formed of a material different from the transmission region 210a (eg, a material having high transmittance for DUV light).
  • the light 60 may be irradiated to the transmission region 210a of the mask protection module according to the first embodiment of the present invention. As described with reference to FIG. 1, the light 60 may pass through the transmission region 210a and be incident to a mask disposed in an internal space of the mask protection module. As described with reference to FIG. 1, the mask may reflect the light 60, and the reflected light 60 may pass through the transmission region 210a.
  • the membrane 200a when the membrane 200a is formed entirely of a material having a high transmittance with respect to the light 60, it is not easy to manufacture a mask protection module in a large area, and the light Due to the problem of ensuring high transmittance for 60 and at the same time securing mechanical strength, thermal properties, and chemical resistance, there is a limit to the material that can be used as the membrane 200a. Accordingly, it is not easy to manufacture a highly reliable mask protection module having a long life.
  • the membrane 200a is the transmission region 210a through which the light 60 transmits and the peripheral region 220a surrounding the transmission region 210a. ) May be included.
  • the light 60 may be incident and transmitted toward the transmission region 210a, and the light 60 reflected by the mask may be incident and transmitted toward the transmission region 210a.
  • the peripheral region 220a may be formed of a material having high heat transfer rate, strength, and / or chemical resistance, even though the transmittance to the light 60 is relatively low compared to the transmission region 210a. Can be.
  • the kind of material that can be used as the membrane 200a may be varied, and the mechanical strength, heat resistance, and / or chemical resistance of the membrane 200a may be improved.
  • the mask protection module can be easily manufactured in a large area. Accordingly, manufacturing cost can be reduced, and a highly reliable mask protection module with long life can be provided.
  • FIG 3 is a view for explaining a mask protection module according to a second embodiment of the present invention.
  • the membrane 200c of the mask protection module according to the second embodiment of the present invention may have a plurality of transmissions. Regions 212c and 214c and peripheral region 220c may be included. As described with reference to FIG. 2, the transmittance, heat transfer rate, and / or strength of the plurality of transmission regions 212c and 214c and the peripheral region 220c may be different from each other.
  • the plurality of transmission regions 212c and 214c may include a first transmission region 212c and a second transmission region 214c.
  • the first transmission region 212c and the second transmission region 214c may be provided spaced apart from each other.
  • the peripheral region 220c may be provided between the first transmission region 212c and the second transmission region 214c.
  • the light 60 may be irradiated to the first transmission region 212c.
  • the light 60 may pass through the first transmission region 212c and may be irradiated with a mask disposed in an inner space of the mask protection module.
  • the light 60 may be reflected from the mask.
  • the reflected light 60 may pass through the second transmission region 214c.
  • the first transmission region 212c and the second transmission region 214c may be formed of the same material.
  • the first transmission region 212c and the second transmission region 214c may be formed of different materials.
  • the first transmission region 212c may be formed of a material which is easy to transmit the light 60 incident from a light source
  • the second transmission region 214c may be the light reflected by the mask.
  • 60 may be formed of a material that is easy to permeate.
  • FIG. 4 is a diagram for describing a mask protection module according to a third embodiment of the present invention.
  • the membrane 200e of the mask protection module according to the third embodiment of the present invention includes a transmission region 210e and a peripheral region 220e, wherein the thickness of the transmission region 210e is It may be thinner than the thickness of the peripheral area 220e.
  • the transmission region 210e and the peripheral region 220e may be formed of the same material, and the thickness of the transmission region 210e may be thinner than the thickness of the peripheral region 220e.
  • the transmission region 210e and the peripheral region 220e may be formed of different materials, and the thickness of the transmission region 210e may be thinner than the thickness of the peripheral region 220e. .
  • the transmission of the transmission region 210e with respect to the light 60 is higher than that of the peripheral region 220e, and the transmission region ( Heat transfer rate and strength of 210e may be lower than heat transfer rate and strength of the peripheral region 210e.
  • the light 60 may be irradiated and transmitted to the transmission region 210e, and the light 60 reflected from a mask disposed under the mask protection module may transmit the transmission region 210e.
  • the membrane 200f may further include an auxiliary transmission region through which alignment light is transmitted.
  • FIG. 5 is a diagram for describing a mask protection module according to a fourth embodiment of the present invention.
  • the membrane 200f of the mask protection module according to the fourth embodiment of the present invention may include a base membrane 210f and a support membrane 230.
  • the base membrane 210f may be formed of a material having a high transmittance with respect to the light 60.
  • the base membrane 210f may be formed of the same material as the transmission region described with reference to FIG. 2.
  • the support membrane 230 may be formed of a material having a higher heat transfer rate and / or strength than the base membrane 210f.
  • the support membrane 230 may be formed of the same material as the peripheral region described with reference to FIG. 2.
  • the support membrane 230 may be disposed on the base membrane 210f and may not cover the front surface of the base membrane 210f.
  • the membrane 200f may include a transmissive region in which the base membrane 210f and the support membrane 230 overlap and a peripheral region in which the base membrane 210f and the support membrane 230 do not overlap. It may include.
  • the transmittance of the transmission region to the light 60 is higher than that of the peripheral region, and the heat transfer rate and intensity of the transmission region are It may be lower than the heat transfer rate and strength of the surrounding area.
  • the light 60 may be irradiated and transmitted to the transmission region 210e, and the light 60 reflected from a mask disposed under the mask protection module may transmit the transmission region 210e.
  • FIG. 6 is a diagram for describing a mask protection module according to a fifth embodiment of the present invention.
  • the membrane 200g of the mask protection module according to the fifth embodiment of the present invention includes a transmissive region 210 and a plurality of peripheral regions 222g and 224g surrounding the transmissive region 210. can do.
  • the light 60 may be irradiated and transmitted to the transmission region 210, and the light 60 reflected from a mask disposed under the mask protection module may transmit the transmission region 210.
  • the plurality of peripheral regions 222g and 224g may include a first peripheral region 222g and a second peripheral region 224g.
  • the first peripheral region 222g may surround the transmission region 210, and the second peripheral region 224g may surround the second peripheral region 222g.
  • the first peripheral region 222g and the second peripheral region 222g may be formed of different materials. Accordingly, the heat transfer rate of the first peripheral region 222g may be higher than the heat transfer rate of the second peripheral region 224g.
  • the heat transfer rate of the first peripheral region 222g may be higher than the heat transfer rate of the second peripheral region 224g.
  • the strength of the second peripheral region 224g supported by the frame 100 may be higher than that of the first peripheral region 222g. Accordingly, the mechanical strength of the membrane 200g may be improved, and thus the strength of the mask protection module may be improved.
  • FIGS. 7A and 7B are diagrams for describing a mask protection module according to a sixth embodiment of the present invention.
  • the membrane 200h of the mask protection module according to the sixth embodiment of the present invention may include a transparent region 210h and a peripheral region 220h surrounding the transparent region 210h). It may include.
  • the transmission region 210h may be provided in a form detachable from the peripheral region 220h.
  • a first adhesive element 212h may be provided on one surface of the transmissive region 210h.
  • the one surface of the transmission region 210h may be a surface in contact with the peripheral region 220h.
  • the peripheral region 220h may have an opening to which the transparent region 210h is attached, and a second adhesive element 222h is provided on one surface around the opening of the peripheral region 220h. Can be.
  • the one surface of the peripheral area 220h may be a surface exposed to the internal space of the mask protection module.
  • the first adhesive element 212h and the second adhesive element 222h may be magnets having different polarities. Accordingly, the transmission region 210h may be easily attached or detached to the peripheral region 220h.
  • the transmission region 210h may be provided in a form that is easily detachable from the peripheral region 220h. Accordingly, when the lithography process is performed using the mask protection module to replace the transmissive region 210h through which light is transmitted, the transmissive region 210h may be replaced without replacing the entire mask protection module. May be optionally replaced. As a result, a mask protection module having a low replacement cost and a simple replacement process may be provided.
  • the first and second adhesive elements 212h and 222h of the transmission region 210h and the peripheral region 220h are provided. 2 may be omitted, and the transparent region 210h may be attached to the peripheral region 220h using an adhesive.
  • FIGS. 8A and 8B are diagrams for describing a mask protection module according to a seventh embodiment of the present invention.
  • the membrane 200a of the mask protection module according to the seventh embodiment of the present invention includes a transmissive region 210a and a peripheral region 220a as described with reference to FIG. 2.
  • the frame 100a may provide a path through which the mask 50 is inserted or removed.
  • An inner space surrounded by the frame 100a and the membrane 200a may be defined, and a mask 50 may be disposed in the inner space.
  • At least a portion of the frame 100a may be configured to open the internal space.
  • any one sidewall portion may be opened to provide a path through which the mask 50 is provided to the inner space. . Accordingly, the mask 50 can be easily inserted or removed into the inner space.
  • 9A and 9B are diagrams for describing a mask protection modol according to an eighth embodiment of the present invention.
  • the membrane of the mask protection module according to the eighth embodiment of the present invention includes first membranes 212i and 222i and second membranes 214i and 224i, and the frame is formed of It may include one frame 102i and a second frame 104i.
  • the first membrane 212i and 222i and the second membrane 214i and 224i may be configured to be separated from each other, and the first frame 102i and the second frame 104i may be configured to be separated from each other. have.
  • the first membranes 212i and 222i may be supported and fixed to the first frame 102i, and the second membranes 214i and 224i may be supported and fixed to the second frame 104i.
  • a mask protection module may include a first segment including the first membranes 212i and 222i and the first frame 102i, and the second membranes 214i and 224i and the second membrane. It may include a second segment including the second frame 104i.
  • the first segment and the second segment may be configured to be spaced apart and separated from each other. In other words, the first segment and the second segment may be spaced apart from each other, as shown in FIG. 11B, to provide a path through which the mask 50 is inserted or removed in an inner space surrounded by the membrane and the frame. have.
  • the first frame 102i may include first to third sidewall portions.
  • the first sidewall portion and the third sidewall portion may face each other, and the second sidewall portion may connect the first sidewall portion and the third sidewall portion.
  • the first sidewall portion, the second sidewall portion, and the first membranes 212i and 222i may be opened while the second sidewall portion is fixed.
  • the second segment may also be opened in the same manner as the first segment described above. Accordingly, the mask 50 can be easily inserted or removed into the inner space.
  • FIGS. 10A and 10B are diagrams for describing a mask protection module and a transmission area replacement apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • a mask protection module 300 according to any one of the above-described embodiments of the present invention, and a transmissive region replacement device 400 disposed on the mask protection module 300 are provided.
  • the transmissive region solid state device 400 may be included in a lithographic apparatus.
  • the transmission area replacing apparatus 400 may include a rod 410 and a transmission area seating part 420 connected to one end of the rod 410.
  • the transmission area seating part 420 may rotate by using the axis of rotation in the direction in which the rod 410 extends.
  • the transmissive area mounting part 420 may be provided with a space in which the plurality of transmissive area modules 216 providing the transmissive area of the mask protection module are seated.
  • an area in which the transmissive area is provided in the membrane of the mask protection module may be composed of an opening, and the transmissive area module 216 is disposed on the opening of the membrane to provide the transmissive area of the mask protection module. Can be.
  • the transmissive region seating portion 420 may be In rotation, an unused new transmissive area module 216 may be provided on the mask protection module 300.
  • an unused new transmissive area module 216 may provide the transmissive area of the mask protection module 300. Accordingly, the transmissive region can be easily replaced in-situ, thereby providing a lithographic process and a lithographic apparatus with reduced process time and improved process efficiency.
  • FIG. 11 is a diagram for describing a lithographic apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • a lithographic apparatus may include a light source 10, a reflective lens 20, a mask disposition region, and a mask protection module 300.
  • the light source 10 may emit light 60.
  • the light 60 may be extreme ultraviolet rays.
  • Light emitted from the light source 10 may be incident to the reflective lens 20, and the reflective lens 20 may reflect the light 60 toward the mask protection module 300.
  • the reflective lens 20 may include a plurality of lenses.
  • the mask 50 may be disposed on the mask arrangement area. According to an embodiment, the mask 50 may be a reflective mask. Accordingly, when the light 60 is irradiated to the mask 50, the mask 50 may reflect the light 60.
  • the mask protection module 300 may be any one of the mask protection modules according to the first to tenth embodiments of the present invention described above.
  • the mask protection module 300 may be disposed on the mask 50 to transmit the light 60 emitted from the light source 10 toward the mask 50. More specifically, the light 60 may be irradiated to the mask 50 by passing through the transmission region of the membrane, as in the embodiments of the present invention described above.
  • the mask 50 reflects the light 60, and the reflected light 60 passes through the transmissive region of the membrane as in the embodiments of the present invention. Can be investigated.
  • the light 60 reflected by the mask 50 may be irradiated onto the substrate 40 via a plurality of lenses (not shown).
  • FIG. 12 is a graph measuring EUV intensity according to a distance between a mask and a mask of a mask protection module according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 13 is a distance between a mask and a mask of a mask protection module according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a graph illustrating image contrast, NILS, and HV CD bias according to a distance between a mask and a membrane of a mask protection module according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • a mask protection module having a membrane formed of silicon nitride is manufactured, and EUV intensity, image characteristics, image contrast, NILS, according to the distance between the silicon nitride membrane and the mask, are irradiated with EUV light. And HV CD bias.
  • a mask protection module according to an embodiment of the present invention, a pellicle including the same, and a lithographic apparatus including the same may be used in a process of manufacturing various transfer devices such as a semiconductor process and a display manufacturing process.

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Abstract

마스크 보호 모듈이 제공된다. 상기 마스크 보호 모듈은, 프레임(frame), 상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인(membrane)을 포함하되, 상기 멤브레인은, 광의 투과도, 열 전달율, 또는 강도 중에서 적어도 어느 하나가 다른 영역들을 포함할 수 있다.

Description

마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치
본 발명은 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치에 관련된 것이다.
반도체 디바이스의 회로 선폭이 급격히 미세화 됨에 따라, 현재 사용되고 있는 193nm 파장대의 광원을 사용하는 액침 ArF 노광 장비로 미세 패턴을 형성하는 데 한계가 있다. 광원 및 노광 장비의 개선이 없이 미세 패턴을 형성하기 위하여 2중 노광 또는 4중 노광 등의 기술을 적용하고 있지만, 이는 대량생산이 중요한 반도체 디바이스 제조에서 공정 횟수의 증가, 공정 가격의 증가, 시간당 처리 매수의 감소 등과 같은 문제점을 야기시킨다.
이러한 문제점을 해결하기 위해, 13.5nm 파장의 극자외선을 광원으로 사용하는 극자외선 리소그래피 기술을 적용한 차세대 노광 장비가 개발되고 있다. 극자외선 리소그래피 기술에서 사용하는 13.5 nm 파장의 빛은 거의 모든 물질에서 흡수되기 때문에, 기존 투과형 레티클이 아닌 거울과 같은 반사형 레티클이 사용된다. 이 레티클에 먼지 또는 이물질 등 불순물이 부착되어 있으면 이 불순물로 인하여 빛이 흡수되거나 반사되기 때문에 전사한 패턴이 손상되어 반도체 장치 또는 액정 표시판 등의 성능이나 수율의 저하를 초래하게 되는 문제가 발생한다. 따라서, 레티클의 표면에 불순물이 부착하는 것을 방지하기 위하여, 레티클 표면에 펠리클(pellicle)과 같은 마스크 보호 모듈을 부착하는 방법이 행해지고 있다. 이런 이유로, 극자외선에 대한 높은 투과도 및 얇은 두께 특성을 갖는 펠리클 개발에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.
예를 들어, 대한민국 특허 등록 공보 KR1552940B1 (출원번호 KR20130157275A, 출원인: 삼성전자 주식회사)에는, 극자외선 리소그래피용 펠리클 막으로, EUV 투과도가 높으면서도 강한 인장 강도를 지닌 흑연-함유 박막을 제조하는 방법이 개시되어 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 일 기술적 과제는, 대면적 제조가 용이한 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 기술적 과제는, 강도가 향상된 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 기술적 과제는, EUV 투과율이 향상된 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 기술적 과제는, 열적 특성이 향상된 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 기술적 과제는, 장수명을 갖는 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 기술적 과제는, 제조 비용이 감소된 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 상술된 것에 제한되지 않는다.
상기 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 마스크 보호 모듈을 제공한다.
일 실시 예에 따르면, 상기 마스크 보호 모듈은, 프레임(frame), 상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인(membrane)을 포함하되, 상기 멤브레인은, 광의 투과도, 열 전달율, 또는 강도 중에서 적어도 어느 하나가 다른 영역들을 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 멤브레인은, 상기 광이 투과하는 투과 영역(penetration region), 및 상기 투과 영역을 둘러싸고, 상기 광의 투과도가 상기 투과 영역보다 낮은 주변 영역(peripheral region)을 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역의 열 전달율은, 상기 투과 영역의 열 전달율보다, 높을 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역 및 상기 투과 영역은 서로 다른 두께를 가질 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역의 두께가 상기 투과 영역의 두께보다 두꺼울 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역 및 상기 투과 영역은 서로 동일한 물질로 형성되고, 상기 주변 영역의 두께가 상기 투과 영역의 두께보다 두꺼울 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역 및 상기 투과 영역은 서로 다른 물질로 형성될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역의 강도가, 상기 투과 영역의 강도보다, 높을 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역의 비율이, 상기 투과 영역의 비율보다 높을 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 투과 영역은, 외부로부터 상기 멤브레인으로 입사하는 상기 광이 투과하는 제1 투과 영역, 및 상기 제1 투과 영역을 투과하여, 상기 멤브레인 상에 배치된 마스크에서 반사된 광이 투과하는 제2 투과 영역을 포함하고, 상기 제1 투과 영역 및 상기 제2 투과 영역은 서로 이격되어 제공될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역은, 상기 투과 영역을 둘러싸는 제1 주변 영역, 및 상기 제1 주변 영역을 둘러싸는 제2 주변 영역을 포함하고, 상기 제1 주변 영역의 열 전달율은, 상기 제2 주변 영역의 열 전달율보다 높고, 상기 제2 주변 영역의 인성 강도는, 상기 제1 주변 영역의 인성 강도보다 높을 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 멤브레인은, 평면 형태(plane shape)로 제공되는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
일 실시 예에 따르면, 상기 프레임 및 상기 멤브레인으로 둘러싸인 내부 공간이 정의되고, 상기 프레임의 적어도 일부분은, 상기 내부 공간을 개방(open)하도록 구성되어, 상기 내부 공간으로 마스크가 삽입 또는 탈거되는 경로를 제공할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 프레임 및 상기 멤브레인으로 둘러싸인 내부 공간이 정의되고, 상기 프레임은, 서로 분리되도록 구성된 제1 프레임 및 제2 프레임을 포함하고, 상기 멤브레인은, 서로 분리되도록 구성된 제1 멤브레인 및 제2 멤브레인을 포함하고, 상기 제1 멤브레인은 상기 제1 프레임에 의해 지지되고, 상기 제2 멤브레인은 상기 제2 프레임에 의해 지지되고, 상기 제1 멤브레인 및 상기 제1 프레임을 포함하는 제1 세그먼트, 및 상기 제2 멤브레인 및 상기 제2 프레임을 포함하는 제2 세그먼트가 이격되도록 구성되어, 상기 내부 공간으로 마스크가 삽입 또는 탈거되는 경로를 제공할 수 있다.
상기 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 펠리클을 제공한다.
일 실시 예에 따르면, 상기 펠리클은, 상술된 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 포함할 수 있다.
상기 기술적 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 리소그래피 장치를 제공할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 리소그래피 장치는, 광을 방출하는 광원, 상기 광을 반사하는 마스크가 배치되는, 마스크 배치 영역, 및 상기 마스크 상에 배치되어 상기 광원에서 방출된 상기 광을 상기 마스크를 향하여 투과시키는, 마스크 보호 모듈을 포함하되, 상기 마스크 보호 모듈은, 프레임, 및 상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인을 포함하되, 상기 멤브레인은, 상기 광이 투과하는 투과 영역, 및 상기 광의 투과도가 상기 투과 영역보다 낮은 주변 영역을 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 광은 극자외선(Extreme Ultraviolet)을 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역은 상기 투과 영역을 둘러싸고, 상기 주변 영역은 상기 투과 영역보다 기계적 강도가 높거나, 또는 열 전달율이 높을 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 투과 영역은, 서로 이격된 제1 투과 영역 및 제2 투과 영역을 포함하고, 상기 주변 영역은 상기 제1 및 제2 투과 영역들을 둘러쌀 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른, 마스크 보호 모듈은, 프레임(frame), 상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인(membrane)을 포함하되, 상기 멤브레인은, 광의 투과도, 열 전달율, 또는 강도 중에서 적어도 어느 하나가 다른 영역들을 포함할 수 있다.
다시 말하면, 예를 들어, 상기 멤브레인은, 주변 영역 및 투과 영역을 포함할 수 있고, 상기 주변 영역의 투과도는 상기 투과 영역의 투과 영역과 비교하여, 상대적으로 광에 대한 투과도가 낮더라도, 열 전달율, 강도, 및/또는 내화학성이 높은 물질로 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 멤브레인으로 사용될 수 있는 물질의 종류가 다양해질 수 있고, 상기 멤브레인의 기계적 강도, 열에 대한 내구성, 및/또는 내화학성이 향상될 수 있다. 또한, 이에 따라, 상기 마스크 모호 모듈이 대면적으로 용이하게 제조될 수 있다. 이에 따라, 제조 비용이 감소되고, 장수명을 갖는 고신뢰성의 마스크 보호 모듈이 제공될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제4 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제5 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제8 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제9 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면들이다.
도 9a 및 도 9b는 본 발명의 제10 실시 예에 따른 마스크 보호 모돌을 설명하기 위한 도면들이다.
도 10a 및 도 10b는 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈 및 투과 영역 교체 장치를 설명하기 위한 도면들이다.
도 11은 본 발명의 실시 예에 따른 리소그래피 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 12는 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인과 마스크 사이의 거리에 따른 EUV 강도를 측정한 그래프이다.
도 13은 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인과 마스크 사이의 거리에 따른 이미지 특성을 나타내는 이미지이다.
도 14는 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인과 마스크 사이의 거리에 따른 image contrast, NILS, 및 H-V CD bias를 측정한 그래프이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명할 것이다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 여기서 설명되는 실시 예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화 될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시 예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.
본 명세서에서, 어떤 구성요소가 다른 구성요소 상에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 구성요소 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 구성요소가 개재될 수도 있다는 것을 의미한다. 또한, 도면들에 있어서, 막 및 영역들의 두께는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다.
또한, 본 명세서의 다양한 실시 예 들에서 제1, 제2, 제3 등의 용어가 다양한 구성요소들을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 구성요소들이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이들 용어들은 단지 어느 구성요소를 다른 구성요소와 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 따라서, 어느 한 실시 예에 제 1 구성요소로 언급된 것이 다른 실시 예에서는 제 2 구성요소로 언급될 수도 있다. 여기에 설명되고 예시되는 각 실시 예는 그것의 상보적인 실시 예도 포함한다. 또한, 본 명세서에서 '및/또는'은 전후에 나열한 구성요소들 중 적어도 하나를 포함하는 의미로 사용되었다.
명세서에서 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함한다. 또한, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 구성요소 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 구성요소 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 배제하는 것으로 이해되어서는 안 된다. 또한, 본 명세서에서 "연결"은 복수의 구성 요소를 간접적으로 연결하는 것, 및 직접적으로 연결하는 것을 모두 포함하는 의미로 사용된다.
또한, 하기에서 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 것이다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다. 도 1은 마스크 보호 모듈 및 마스크를 각각 도시하기 위해 표현한 것으로, 마스크는 상기 마스크 보호 모듈의 내부 공간 내에 배치될 수 있다.
도 1을 참조하면, 프레임(frame, 100) 및 상기 프레임(100)에 의해 지지되는 멤브레인(membrane, 200)을 포함하는 마스크 보호 모듈(300)이 제공된다. 일 실시 예에 따르면, 상기 마스크 보호 모듈(300)은 펠리클 일 수 있다.
상기 마스크 보호 모듈(300) 아래에 마스크(50)가 배치될 수 있다. 다시 말하면, 상기 프레임(100) 및 상기 멤브레인(200)으로 둘러싸인 내부 공간 내에, 상기 마스크(50)가 배치될 수 있다.
광(60)이 상기 마스크 보호 모듈(300)로 입사될 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 상기 광(60)은 극자외선(Extreme Ultraviolet)을 포함할 수 있다. 상기 마스크 보호 모듈(300)의 상기 멤브레인(200)으로 입사된 상기 광(60)은, 상기 멤브레인(200)을 투과하여, 상기 마스크(50)로 입사될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 마스크(50)는 반사형 마스크일 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(50)로 입사된 상기 광(60)은, 상기 마스크(50)에서 반사되어, 상기 멤브레인(200)을 투과할 수 있다.
상기 멤브레인(200)은, 상기 광(60)의 투과도, 열 전달율, 또는 강도 중에서 적어도 어느 하나가 다른 영역들을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 멤브레인(200)은 상기 광(60)이 투과하는 투과 영역 및 상기 투과 영역을 둘러싸는 주변 영역을 포함할 수 있다.
상기 투과 영역은 상기 마스크(50)에 입사되는 상기 광(60)의 면적에 대응하는 면적을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 광(60)의 면적이 110mm x 80mm인 경우, 상기 투과 영역은 이에 대응하는 면적을 가질 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 광(60)에 대한 상기 주변 영역의 투과도는, 상기 투과 영역의 투과도 보다 낮을 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역의 열 전달율은, 상기 투과 영역의 열 전달율보다 높을 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역의 강도는, 상기 투과 영역의 강도보다 높을 수 있다.
이하, 도 2 내지 도 10b를 참조하여, 본 발명의 다양한 실시 예들에 따른 마스크 보호 모듈이 설명된다.
도 2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인(200a)은, 투과 영역(penetration region, 210a), 및 주변 영역(peripheral region, 220a)을 포함할 수 있다. 상기 멤브레인(200a)은 상기 프레임(100)에 고정된(fixed) 상태로 평면 형태(plane shape)로 제공될 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 멤브레인(200a)의 전체 면적에서, 상기 주변 영역(220a)이 차지하는 비율이, 상기 투과 영역(210a)이 차지하는 비율보다 높을 수 있다. 또는, 다른 실시 예에 따르면, 도 2에 도시된 바와 달리, 상기 멤브레인(200a) 전체 면적에서, 상기 투과 영역(210a)이 차지하는 비율이, 상기 주변 영역(220a)이 차지하는 비율보다 높을 수 있다.
상기 투과 영역(210a)은 상기 광(60)이 투과하는 영역일 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 상기 투과 영역(210a)은 도 2에 도시된 바와 같이, 다각형 모양일 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 상기 투과 영역(210a)은 13.5nm 파장대에서 투과도 90% 이상인 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 투과 영역(210a)은, 티타늄, 탄탈륨, 텅스텐, 몰리브데늄, 크롬, 코발트, 붕소, 탄소, 니켈, 은, 백금, 지르코늄, 알루미늄, 베릴륨, 실리콘, 붕소, 이들 중 적어도 어느 하나의 산화물, 이들 중 적어도 어느 하나의 질화물, 이들 중 적어도 어느 하나의 탄화물, 또는 이둘 중 적어도 어느 하나의 붕화물, 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 또는, 다른 예를 들어, 상기 투과 영역(210a)은, Carbon nanostructure(예를 들어, 그래핀, 탄소나노튜브 등) 구조를 포함할 수 있다.
상기 주변 영역(220a)은 상기 투과 영역(210a)을 둘러쌀 수 있다. 상기 주변 영역(220a)과 상기 투과 영역(210a)은 상기 광(60)의 투과도, 열 전달율, 또는 강도 중에서 적어도 어느 하나가 다를 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 광(60)에 대한 상기 주변 영역(220a)의 투과도는, 상기 투과 영역(210a)의 투과도 보다 낮을 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역(220a)의 열 전달율은, 상기 투과 영역(210a)의 열 전달율보다 높을 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 상기 주변 영역(220a)의 강도는, 상기 투과 영역(210a)의 강도보다 높을 수 있다.
상기 주변 영역(220a)은 상기 투과 영역(210a)과 다른 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 주변 영역(220a)은, 금속, 탄소, 고분자, 또는 세라믹 중에서 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 멤브레인(200a)은, 상기 마스크 보호 모듈의 정렬을 위한 정렬 광이 투과되는 보조 투과 영역(230)을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 정렬 광은 DUV 광일 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 상기 보조 투과 영역(230)은, 상기 투과 영역(210a)과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 또는, 다른 실시 예에 따르면, 상기 보조 투과 영역(230)은 상기 투과 영역(210a)과 다른 물질(예를 들어, DUV 광에 대해 높은 투과도를 갖는 물질)로 형성될 수 있다.
본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 상기 투과 영역(210a)으로 상기 광(60)이 조사될 수 있다. 상기 광(60)은, 도 1을 참조하여 설명된 것과 같이, 상기 투과 영역(210a)을 투과하여, 상기 마스크 보호 모듈의 내부 공간 내에 배치된 마스크로 입사될 수 있다. 상기 마스크는 도 1을 참조하여 설명된 것과 같이, 상기 광(60)을 반사하고, 반사된 상기 광(60)은 상기 투과 영역(210a)을 투과할 수 있다.
상술된 본 발명의 실시 예와 달리, 상기 멤브레인(200a)이 전체적으로 상기 광(60)에 대해 높은 투과율을 갖는 물질로 형성되는 경우, 마스크 보호 모듈을 대면적으로 제조하기가 용이하지 않고, 상기 광(60)에 대한 높은 투과율을 확보하는 동시에, 기계적 강도, 열적 특성, 및 내화학성을 확보해야 하는 문제로 인해, 상기 멤브레인(200a)으로 사용할 수 있는 물질에 대한 한계가 있다. 이에 따라, 장수명을 갖는 고신뢰성의 마스크 보호 모듈을 제조하는 것이 용이하지 않다.
반면, 상술된 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따르면, 상기 멤브레인(200a)은 상기 광(60)이 투과하는 상기 투과 영역(210a) 및 상기 투과 영역(210a)을 둘러싸는 상기 주변 영역(220a)을 포함할 수 있다. 상기 광(60)은 상기 투과 영역(210a)을 향하여 입사하여 투과되고, 상기 마스크에서 반사된 상기 광(60)은 상기 투과 영역(210a)을 향하여 입사하여 투과될 수 있다. 이에 따라, 상기 주변 영역(220a)은 상기 투과 영역(210a)과 비교하여, 상대적으로 상기 광(60)에 대한 투과도가 낮더라도, 열 전달율, 강도, 및/또는 내화학성이 높은 물질로 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 멤브레인(200a)으로 사용될 수 있는 물질의 종류가 다양해질 수 있고, 상기 멤브레인(200a)의 기계적 강도, 열에 대한 내구성, 및/또는 내화학성이 향상될 수 있다. 또한, 이에 따라, 상기 마스크 보호 모듈이 대면적으로 용이하게 제조될 수 있다. 이에 따라, 제조 비용이 감소되고, 장수명을 갖는 고신뢰성의 마스크 보호 모듈이 제공될 수 있다.
도 3은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 3을 참조하면, 도 2를 참조하여 설명된 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈과 달리, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인(200c)은, 복수의 투과 영역(212c, 214c) 및 주변 영역(220c)을 포함할 수 있다. 도 2를 참조하여 설명된 바와 같이, 상기 복수의 투과 영역(212c, 214c) 및 상기 주변 영역(220c)의 투과도, 열 전달율, 및/또는 강도는 서로 다를 수 있다.
상기 복수의 투과 영역(212c. 214c)은, 제1 투과 영역(212c) 및 제2 투과 영역(214c)을 포함할 수 있다. 상기 제1 투과 영역(212c) 및 상기 제2 투과 영역(214c)은 서로 이격되어 제공될 수 있다. 다시 말하면, 상기 제1 투과 영역(212c) 및 상기 제2 투과 영역(214c) 사이에, 상기 주변 영역(220c)이 제공될 수 있다.
상기 제1 투과 영역(212c)으로 상기 광(60)이 조사될 수 있다. 상기 광(60)은 상기 제1 투과 영역(212c)을 투과하여, 상기 마스크 보호 모듈의 내부 공간 내에 배치된 마스크로 조사될 수 있다. 상기 마스크에서 상기 광(60)이 반사될 수 있다. 반사된 상기 광(60)은 상기 제2 투과 영역(214c)을 투과할 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 제1 투과 영역(212c) 및 상기 제2 투과 영역(214c)은 서로 동일한 물질로 형성될 수 있다. 또는, 다른 실시 예에 따르면, 상기 제1 투과 영역(212c) 및 상기 제2 투과 영역(214c)은 서로 다른 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 제1 투과 영역(212c)은 광원으로부터 입사된 상기 광(60)이 투과하기 용이한 물질로 형성될 수 있고, 상기 제2 투과 영역(214c)은 상기 마스크에서 반사된 상기 광(60)이 투과하기 용이한 물질로 형성될 수 있다.
도 4는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 제3 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인(200e)은, 투과 영역(210e) 및 주변 영역(220e)을 포함하되, 상기 투과 영역(210e)의 두께는 상기 주변 영역(220e)의 두께보다 얇을 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 투과 영역(210e) 및 상기 주변 영역(220e)은 서로 동일한 물질로 형성되고, 상기 투과 영역(210e)의 두께가 상기 주변 영역(220e)의 두께보다 얇을 수 있다. 또는, 다른 실시 예에 따르면, 상기 투과 영역(210e) 및 상기 주변 영역(220e)은 서로 다른 물질로 형성되고, 상기 투과 영역(210e)의 두께가 상기 주변 영역(220e)의 두께보다 얇을 수 있다.
상기 투과 영역(210e) 및 상기 주변 영역(220e)의 두께 차이에 따라서, 상기 투과 영역(210e)의 상기 광(60)에 대한 투과도는 상기 주변 영역(220e)의 투과도보다 높고, 상기 투과 영역(210e)의 열 전달율 및 강도는 상기 주변 영역(210e)의 열 전달율 및 강도보다 낮을 수 있다.
상기 투과 영역(210e)으로 상기 광(60)이 조사 및 투과되고, 상기 마스크 보호 모듈 아래에 배치된 마스크에서 반사된 상기 광(60)이 상기 투과 영역(210e)을 투과할 수 있다.
또한, 도 4에 도시되지 않았으나, 도 2를 참조하여 설명된 바와 같이, 상기 멤브레인(200f)은 정렬 광이 투과하는 보조 투과 영역을 더 포함할 수 있음은 당업자에게 자명하다.
도 5는 본 발명의 제4 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 제4 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인(200f)은, 베이스 멤브레인(base membrane, 210f), 및 지지 멤브레인(support membrane, 230)을 포함할 수 있다.
상기 베이스 멤브레인(210f)은, 상기 광(60)에 대해서 높은 투과율을 갖는 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 베이스 멤브레인(210f)은, 도 2를 참조하여 설명된 투과 영역과 동일한 물질로 형성될 수 있다.
상기 지지 멤브레인(230)은, 상기 베이스 멤브레인(210f)과 비교하여, 열전달율 및/또는 강도가 높은 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 지지 멤브레인(230)은, 도 2를 참조하여 설명된 주변 영역과 동일한 물질로 형성될 수 있다.
상기 지지 멤브레인(230)은, 상기 베이스 멤브레인(210f) 상에 배치되되, 상기 베이스 멤브레인(210f)의 전면을 덮지 않을 수 있다. 다시 말하면, 상기 멤브레인(200f)은, 상기 베이스 멤브레인(210f) 및 상기 지지 멤브레인(230)이 중첩된 투과 영역, 및 상기 베이스 멤브레인(210f) 및 상기 지지 멤브레인(230)이 중첩되지 않는 주변 영역을 포함할 수 있다.
상기 지지 멤브레인(230) 및 상기 베이스 멤브레인(210f)의 중첩 여부에 따라서, 상기 투과 영역의 상기 광(60)에 대한 투과도는 상기 주변 영역의 투과도보다 높고, 상기 투과 영역의 열 전달율 및 강도는 상기 주변 영역의 열 전달율 및 강도보다 낮을 수 있다.
상기 투과 영역(210e)으로 상기 광(60)이 조사 및 투과되고, 상기 마스크 보호 모듈 아래에 배치된 마스크에서 반사된 상기 광(60)이 상기 투과 영역(210e)을 투과할 수 있다.
도 6은 본 발명의 제5 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 제5 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인(200g)은 투과 영역(210) 및 상기 투과 영역(210)을 둘러싸는 복수의 주변 영역(222g, 224g)을 포함할 수 있다.
상기 투과 영역(210)으로 상기 광(60)이 조사 및 투과되고, 상기 마스크 보호 모듈 아래에 배치된 마스크에서 반사된 상기 광(60)이 상기 투과 영역(210)을 투과할 수 있다.
상기 복수의 주변 영역(222g, 224g)은, 제1 주변 영역(222g) 및 제2 주변 영역(224g)을 포함할 수 있다. 상기 제1 주변 영역(222g)은 상기 투과 영역(210)을 둘러싸고, 상기 제2 주변 영역(224g)은 상기 제2 주변 영역(222g)을 둘러쌀 수 있다.
일 실시 예에 따르면, 상기 제1 주변 영역(222g) 및 상기 제2 주변 영역(222g)은 서로 다른 물질로 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 주변 영역(222g)의 열 전달율은, 상기 제2 주변 영역(224g)의 열 전달율보다 높을 수 있다. 이로 인해, 상기 마스크 보호 모듈을 이용하여 리소그래피 공정을 수행하는 과정에서, 상기 투과 영역(60)에서 발생된 열이, 용이하게 상기 주변 영역(222g, 224g)로 전달되어, 상기 마스크 보호 모듈의 열적 내구성이 향상될 수 있다. 또한, 상기 프레임(100)에 의해 지지되는 상기 제2 주변 영역(224g)의 강도는, 상기 제1 주변 영역(222g)의 강도보다 높을 수 있다. 이에 따라, 상기 멤브레인(200g)의 기계적 강도가 향상되어, 상기 마스크 보호 모듈의 강도가 향상될 수 있다.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 제6 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면이다.
도 7a 및 도 7b를 참조하면, 본 발명의 제6 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인(200h)은, 투과 영역(210h) 및 상기 투과 영역(210h)을 둘러싸는 주변 영역(220h))을 포함할 수 있다.
상기 투과 영역(210h)은 상기 주변 영역(220h)과 탈부착 가능한 형태로 제공될 수 있다. 예를 들어, 상기 투과 영역(210h)의 일면 상에 제1 접착 요소(adhesive element, 212h)가 제공될 수 있다. 상기 투과 영역(210h)의 상기 일면은, 상기 주변 영역(220h)과 접촉하는 면일 수 있다. 또한, 상기 주변 영역(220h)은 상기 투과 영역(210h)이 부착되는 개구부(opening)을 가질 수 있고, 상기 주변 영역(220h)의 상기 개구부 주변의 일면 상에 제2 접착 요소(222h)가 제공될 수 있다. 상기 주변 영역(220h)의 상기 일면은 상기 마스크 보호 모듈의 내부공간에 노출된 면일 수 있다. 상기 제1 접착 요소(212h) 및 상기 제2 접착 요소(222h)는 극성이 서로 다른 자석일 수 있다. 이에 따라, 상기 투과 영역(210h)은 상기 주변 영역(220h)에 용이하게 탈부착될 수 있다.
상술된 바와 같이, 상기 투과 영역(210h)은 상기 주변 영역(220h)과 탈부착이 용이한 형태로 제공될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크 보호 모듈을 이용하여 리소그래피 공정을 수행하여, 광이 투과하는 상기 투과 영역(210h)에 대한 교체가 필요한 경우, 상기 마스크 보호 모듈 전체를 교체하지 않고, 상기 투과 영역(210h)이 선택적으로 교체될 수 있다. 이로 인해, 교체 비용이 저렴하고, 교체 공정이 간단한 마스크 보호 모듈이 제공될 수 있다.
또한, 상술된 본 발명의 제8 실시 예와 달리, 제8 실시 예의 변형 예에 따르면, 상기 투과 영역(210h) 및 상기 주변 영역(220h)의 상기 제1 및 제2 접착 요소(212h, 222h)가 생략되고, 상기 투과 영역(210h)은 접착제를 이용하여, 상기 주변 영역(220h)에 부착될 수 있다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 제7 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈을 설명하기 위한 도면들이다.
도 8a 및 도 8b를 참조하면, 본 발명의 제7 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인(200a)은 도 2를 참조하여 설명된 것과 같이 투과 영역(210a) 및 주변 영역(220a)을 포함하고, 프레임(100a)은 마스크(50)가 삽입 또는 탈거되는 경로를 제공할 수 있다.
상기 프레임(100a) 및 상기 멤브레인(200a)으로 둘러싸인 내부 공간이 정의되고, 상기 내부 공간 내에 마스크(50)가 배치될 수 있다. 상기 프레임(100a)의 적어도 일부분은, 상기 내부 공간을 개방(open)하도록 구성될 수 있다. 다시 말하면, 상기 프레임(100a)이 서로 연결된 4개의 측벽부(sidewall portion)를 포함하는 경우, 어느 하나의 측벽부가 개방되어, 상기 마스크(50)가 상기 내부 공간으로 제공되는 경로를 제공할 수 있다. 이에 따라, 상기 내부 공간으로 상기 마스크(50)가 용이하게 삽입 또는 탈거될 수 있다.
도 9a 및 도 9b는 본 발명의 제8 실시 예에 따른 마스크 보호 모돌을 설명하기 위한 도면들이다.
도 9a 및 도 9b를 참조하면, 본 발명의 제8 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인은, 제1 멤브레인(212i, 222i), 및 제2 멤브레인(214i, 224i)을 포함하고, 프레임은 제1 프레임(102i) 및 제2 프레임(104i)을 포함할 수 있다.
상기 제1 멤브레인(212i, 222i) 및 상기 제2 멤브레인(214i, 224i)은 서로 분리되도록 구성될 수 있고, 상기 제1 프레임(102i) 및 상기 제2 프레임(104i)은 서로 분리되도록 구성될 수 있다.
상기 제1 멤브레인(212i, 222i)은 상기 제1 프레임(102i)에 지지 및 고정될 수 있고, 상기 제2 멤브레인(214i, 224i)은 상기 제2 프레임(104i)에 지지 및 고정될 수 있다.
본 발명의 제8 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈은, 상기 제1 멤브레인(212i, 222i) 및 상기 제1 프레임(102i)을 포함하는 제1 세그먼트, 및 상기 제2 멤브레인(214i, 224i) 및 상기 제2 프레임(104i)을 포함하는 제2 세그먼트를 포함할 수 있다. 상기 제1 세그먼트 및 상기 제2 세그먼트는 서로 이격 및 분리 가능하도록 구성될 수 있다. 다시 말하면, 상기 제1 세그먼트 및 상기 제2 세그먼트는 도 11b에 도시된 것과 같이, 서로 이격되어, 상기 멤브레인 및 상기 프레임으로 둘러싸인 내부 공간 내에 상기 마스크(50)가 삽입 또는 탈거되는 경로를 제공할 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 제1 프레임(102i)이, 제1 내지 제3 측벽부들을 포함할 수 있다. 상기 제1 측벽부 및 상기 제3 측벽부는 서로 마주볼 수 있고, 상기 제2 측벽부는 상기 제1 측벽부 및 상기 제3 측벽부를 연결할 수 있다. 이 경우, 상기 제2 측벽부가 고정된 상태에서, 상기 제1 측벽부, 상기 제2 측벽부, 및 상기 제1 멤브레인(212i, 222i)이 개구될 수 있다. 상기 제2 세그먼트 또한, 상술된 상기 제1 세그먼트와 동일한 방법으로 개구될 수 있다. 이에 따라, 상기 내부 공간으로 상기 마스크(50)가 용이하게 삽입 또는 탈거될 수 있다.
도 10a 및 도 10b는 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈 및 투과 영역 교체 장치를 설명하기 위한 도면들이다.
도 10a 및 도 10b를 참조하면, 상술된 본 발명의 실시 예들 중 어느 하나에 따른 마스크 보호 모듈(300), 및 상기 마스크 보호 모듈(300) 상에 배치된 투과 영역 교체 장치(400)가 제공된다. 일 실시 예에 따르면, 상기 투과 영역 고체 장치(400)는 리소그래피 장치에 포함될 수 있다.
상기 투과 영역 교체 장치(400)는 로드(410) 및 상기 로드(410)의 일단에 연결된 투과 영역 안착부(420)를 포함할 수 있다. 상기 투과 영역 안착부(420)는 상기 로드(410)가 연장되는 방향으로 회적축으로 사용하여 회전할 수 있다.
상기 투과 영역 안착부(420)에는 상기 마스크 보호 모듈의 투과 영역을 제공하는 복수의 투과 영역 모듈(216)이 안착되는 공간이 제공될 수 있다. 다시 말하면, 상기 마스크 보호 모듈의 멤브레인에서 투과 영역이 제공되는 영역은 개구부로 구성될 수 있고, 상기 멤브레인의 개구부 상에 상기 투과 영역 모듈(216)이 배치되어, 상기 마스크 보호 모듈의 투과 영역이 제공될 수 있다.
도 1 및 도 2를 참조하여 설명된 것과 같이, 상기 투과 영역으로 광이 조사될 수 있고, 리소그래피 공정이 복수회 수행되어, 상기 투과 영역의 교체가 필요한 경우, 상기 투과 영역 안착부(420)가 회전하여, 사용되지 않은 새로운 투과 영역 모듈(216)이 상기 마스크 보호 모듈(300) 상에 제공될 수 있다. 다시 말하면, 사용되지 않은 새로운 투과 영역 모듈(216)이 상기 마스크 보호 모듈(300)의 투과 영역을 제공할 수 있다. 이에 따라, 인시츄(in-situ)로 상기 투과 영역이 용이하게 교체될 수 있고, 이로 인해, 공정 시간이 감소되고, 공정 효율이 향상된 리소그래피 공정 및 리소그래피 장치가 제공될 수 있다.
도 11은 본 발명의 실시 예에 따른 리소그래피 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 11을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 리소그래피 장치는, 광원(10), 반사 렌즈(20), 마스크 배치 영역, 및 마스크 보호 모듈(300)을 포함할 수 있다.
상기 광원(10)은 광(60)을 방출할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 상기 광(60)은 극자외선일 수 있다.
상기 광원(10)에서 방출된 광은 상기 반사 렌즈(20)로 입사되고, 상기 반사 렌즈(20)는 상기 광(60)을 상기 마스크 보호 모듈(300)을 향하여 반사할 수 있다. 상기 반사 렌즈(20)는 복수의 렌즈를 포함할 수 있다.
상기 마스크 배치 영역 상에는 마스크(50)가 배치될 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 상기 마스크(50)는 반사형 마스크일 수 있다. 이에 따라, 상기 광(60)이 상기 마스크(50)로 조사되는 경우, 상기 마스크(50)는 상기 광(60)을 반사할 수 있다.
상기 마스크 보호 모듈(300)은, 상술된 본 발명의 제1 내지 제10 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈 중에서 어느 하나일 수 있다. 상기 마스크 보호 모듈(300)은 상기 마스크(50) 상에 배치되어 상기 광원(10)에서 방출된 상기 광(60)을 상기 마스크(50)를 향하여 투과시킬 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 광(60)은, 상술된 본 발명의 실시 예들과 같이, 멤브레인의 투과 영역을 투과하여 상기 마스크(50)로 조사될 수 있다. 상기 마스크(50)는 상술된 바와 같이, 상기 광(60)을 반사하고, 반사된 상기 광(60)은, 상술된 본 발명의 실시 예들과 같이, 멤브레인의 투과 영역을 투과하여 기판(40)으로 조사될 수 있다.
상기 마스크(50)에서 반사된 상기 광(60)은 복수의 렌즈(미도시, 생략)를 경유하여, 상기 기판(40)으로 조사될 수 있다.
도 12는 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인과 마스크 사이의 거리에 따른 EUV 강도를 측정한 그래프이고, 도 13은 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인과 마스크 사이의 거리에 따른 이미지 특성을 나타내는 이미지이고, 도 14는 본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈의 멤브레인과 마스크 사이의 거리에 따른 image contrast, NILS, 및 H-V CD bias를 측정한 그래프이다.
도 12 내지 도 14를 참조하면, 실리콘 질화물로 형성된 멤브레인을 갖는 마스크 보호 모듈을 제조하고, EUV 광을 조사하면서, 실리콘 질화물 멤브레인과 마스크 사이의 거리에 따른 EUV 강도, 이미지 특성, image contrast, NILS, 및 H-V CD bias를 측정하였다.
도 12 내지 도 14에서 알 수 있듯이, 실리콘 질화물 멤브레인과 마스크 사기의 거리가 변화하더라도, EUV 강도, 이미지 특성이 실질적으로 동일하고, image contrast, NILS, 및 H-V CD bias 특성 또한 실질적으로 동일한 것을 확인할 수 있다. 다시 말하면, 도 1 내지 도 10b를 참조하여 설명된 것과 같이, 다양한 형태의 투과 영역을 갖는 마스크 보호 모듈을 사용하여, 멤브레인과 마스크 사이의 거리가 변화하더라도, 리소그래피 특성에 실질적으로 영향을 미치지 않음을 확인할 수 있다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시 예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.
본 발명의 실시 예에 따른 마스크 보호 모듈, 이를 포함하는 펠리클, 및 이를 포함하는 리소그래피 장치는, 반도체 공정, 디스플레이 제조 공정 등 다양한 전사 소자를 제조하는 공정에 사용될 수 있다.

Claims (20)

  1. 프레임(frame); 및
    상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인(membrane)을 포함하되,
    상기 멤브레인은, 광의 투과도, 열 전달율, 또는 강도 중에서 적어도 어느 하나가 다른 영역들을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 멤브레인은,
    상기 광이 투과하는 투과 영역(penetration region); 및
    상기 투과 영역을 둘러싸고, 상기 광의 투과도가 상기 투과 영역보다 낮은 주변 영역(peripheral region)을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 주변 영역의 열 전달율은, 상기 투과 영역의 열 전달율보다, 높은 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  4. 제2 항에 있어서,
    상기 주변 영역 및 상기 투과 영역은 서로 다른 두께를 갖는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 주변 영역의 두께가 상기 투과 영역의 두께보다 두꺼운 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  6. 제2 항에 있어서,
    상기 주변 영역 및 상기 투과 영역은 서로 동일한 물질로 형성되고,
    상기 주변 영역의 두께가 상기 투과 영역의 두께보다 두꺼운 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  7. 제2 항에 있어서,
    상기 주변 영역 및 상기 투과 영역은 서로 다른 물질로 형성되는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  8. 제2 항에 있어서,
    상기 주변 영역의 강도가, 상기 투과 영역의 강도보다, 높은 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  9. 제2 항에 있어서,
    상기 주변 영역의 비율이, 상기 투과 영역의 비율보다 높은 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  10. 제2 항에 있어서,
    상기 투과 영역은,
    외부로부터 상기 멤브레인으로 입사하는 상기 광이 투과하는 제1 투과 영역; 및
    상기 제1 투과 영역을 투과하여, 상기 멤브레인 상에 배치된 마스크에서 반사된 광이 투과하는 제2 투과 영역을 포함하고,
    상기 제1 투과 영역 및 상기 제2 투과 영역은 서로 이격되어 제공되는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  11. 제2 항에 있어서,
    상기 주변 영역은,
    상기 투과 영역을 둘러싸는 제1 주변 영역; 및
    상기 제1 주변 영역을 둘러싸는 제2 주변 영역을 포함하고,
    상기 제1 주변 영역의 열 전달율은, 상기 제2 주변 영역의 열 전달율보다 높고,
    상기 제2 주변 영역의 강도는, 상기 제1 주변 영역의 강도보다 높은 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  12. 제1 항에 있어서,
    상기 멤브레인은, 평면 형태(plane shape)로 제공되는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  13. 제1 항에 있어서,
    상기 프레임 및 상기 멤브레인으로 둘러싸인 내부 공간이 정의되고,
    상기 프레임의 적어도 일부분은, 상기 내부 공간을 개방(open)하도록 구성되어, 상기 내부 공간으로 마스크가 삽입 또는 탈거되는 경로를 제공하는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  14. 제1 항에 있어서,
    상기 프레임 및 상기 멤브레인으로 둘러싸인 내부 공간이 정의되고,
    상기 프레임은, 서로 분리되도록 구성된 제1 프레임 및 제2 프레임을 포함하고,
    상기 멤브레인은, 서로 분리되도록 구성된 제1 멤브레인 및 제2 멤브레인을 포함하고,
    상기 제1 멤브레인은 상기 제1 프레임에 의해 지지되고,
    상기 제2 멤브레인은 상기 제2 프레임에 의해 지지되고,
    상기 제1 멤브레인 및 상기 제1 프레임을 포함하는 제1 세그먼트, 및 상기 제2 멤브레인 및 상기 제2 프레임을 포함하는 제2 세그먼트가 이격되도록 구성되어, 상기 내부 공간으로 마스크가 삽입 또는 탈거되는 경로를 제공하는 것을 포함하는 마스크 보호 모듈.
  15. 제1 항에 따른 마스크 보호 모듈을 포함하는 펠리클.
  16. 광을 방출하는 광원;
    상기 광을 반사하는 마스크가 배치되는, 마스크 배치 영역; 및
    상기 마스크 상에 배치되어 상기 광원에서 방출된 상기 광을 상기 마스크를 향하여 투과시키는, 마스크 보호 모듈을 포함하되,
    상기 마스크 보호 모듈은,
    프레임; 및
    상기 프레임에 의해 지지되는 멤브레인을 포함하되,
    상기 멤브레인은, 상기 광이 투과하는 투과 영역, 및 상기 광의 투과도가 상기 투과 영역보다 낮은 주변 영역을 포함하는 리소그래피 장비.
  17. 제17 항에 있어서,
    상기 광은 극자외선(Extreme Ultraviolet)을 포함하는 리소그래피 장비.
  18. 제17 항에 있어서.
    투과 영역 교체 장치를 더 포함하되,
    상기 투과 영역 교체 장치는,
    로드; 및
    상기 로드의 일단에 연결되고, 상기 멤브레인의 상기 투과 영역을 제공하는 투과 영역 모듈이 안착되는 복수의 공간을 포함하고, 상기 로드를 회전축으로 회전하는 투과 영역 안착부를 포함하는 리소그래피 장비.
  19. 제17 항에 있어서,
    상기 주변 영역은 상기 투과 영역을 둘러싸고,
    상기 주변 영역은 상기 투과 영역보다 기계적 강도가 높거나, 또는 열 전달율이 높은 것을 포함하는 리소그래피 장비.
  20. 제17 항에 있어서,
    상기 투과 영역은, 서로 이격된 제1 투과 영역 및 제2 투과 영역을 포함하고,
    상기 주변 영역은 상기 제1 및 제2 투과 영역들을 둘러싸는 것을 포함하는 리소그래피 장비.
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