WO2018074191A1

WO2018074191A1 - 真空ポンプ及び該真空ポンプに適用される防水構造、制御装置

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Publication number: WO2018074191A1
Application number: PCT/JP2017/035473
Authority: WO
Inventors: 健吾三枝; 彦斌孫
Original assignee: Edwards Japan Ltd
Current assignee: Edwards Japan Ltd
Priority date: 2016-10-21
Filing date: 2017-09-29
Publication date: 2018-04-26
Anticipated expiration: 2019-04-21
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Abstract

【課題】現場での保守作業の効率を上げ、かつ、回路分離時等でカバーを外した際に、コネクタ接続部への水の侵入を防止する真空ポンプ及び該真空ポンプに適用される防水構造、制御装置を提供する。【解決手段】保守作業を行う際には制御装置２００の筐体を数十ミリ程度下げてから、制御装置２００の筐体をポンプの径方向に引き出す。このため、真空ポンプの軸方向には十分な空きスペースが無くても容易にポンプ本体１００と制御装置２００の着脱が行える。ベース部１２９及び制御装置２００の側部には壁部２０２が周状に突設されている。このため、保守作業の際に壁部カバー２０１を取り外した場合であってもこの壁部２０２により水滴の侵入を防ぐことができる。更に、隙間２１０にはシール部材２１９と蓋２１７が挿入されている。このため、この隙間２１０には水滴が侵入し難い。

Description

真空ポンプ及び該真空ポンプに適用される防水構造、制御装置

　本発明は真空ポンプ及び該真空ポンプに適用される防水構造、制御装置に係わり、特に現場での保守作業の効率を上げ、かつ、回路分離時等でカバーを外した際に、コネクタ接続部への水の侵入を防止する真空ポンプ及び該真空ポンプに適用される防水構造、制御装置に関する。

　近年のエレクトロニクスの発展に伴い、メモリや集積回路といった半導体の需要が急激に増大している。
　これらの半導体は、きわめて純度の高い半導体基板に不純物をドープして電気的性質を与えたり、エッチングにより半導体基板上に微細な回路を形成したりなどして製造される。

　そして、これらの作業は空気中の塵等による影響を避けるため高真空状態のチャンバ内で行われる必要がある。このチャンバの排気には、一般に真空ポンプが用いられているが、特に残留ガスが少なく、保守が容易等の点から真空ポンプの中の一つであるターボ分子ポンプが多用されている。

　また、半導体の製造工程では、さまざまなプロセスガスを半導体の基板に作用させる工程が数多くあり、ターボ分子ポンプはチャンバ内を真空にするのみならず、これらのプロセスガスをチャンバ内から排気するのにも使用される。

　このターボ分子ポンプは、ポンプ本体とそのポンプ本体を制御する制御装置とからなる。
　ポンプ本体と制御装置との間は、通常、ケーブルとコネクタプラグ機構とで接続される。このポンプ本体と制御装置間のケーブルの接続ミスやケーブルの長さ調整の煩雑さを回避するため、従来特許文献１のようにポンプ本体と制御装置をポンプの軸方向に着脱自在にできる構造が知られている。

特開平１１－１７３２９３号公報

　ところで、一般的にはこのように一体化されたポンプ本体と制御装置周りの空きスペースは狭い。特に軸方向にはスペース的な余裕の無いことが多い。このため、保守の際には一体化されたポンプ本体と制御装置を一旦チャンバから外し、作業スペースの十分に取れる場所までポンプ本体と制御装置を一体化させたまま移動してから保守を行う必要があった。

　また、このようにポンプ本体底部で軸方向に端子の配設されている場合、ポンプ本体側の端子と制御装置側の端子の位置を合わせるのにはポンプ本体と制御装置間のわずかの隙間から作業員が端子の箇所を覗きつつ端子の着脱を確認する必要があり、位置合わせするのが難しく保守作業が簡単ではなかった。

　更に、ポンプ本体には後述する水冷管が配設されている。この水冷管によるポンプ本体の冷却により、ポンプ本体の周囲に結露等の水滴が生じることがある。そして、ポンプ本体と制御装置の分離の際には、この水滴がポンプ本体の周囲よりコネクタ接続部へ侵入する恐れがあった。

　本発明はこのような従来の課題に鑑みてなされたもので、現場での保守作業の効率を上げ、かつ、回路分離時等でカバーを外した際に、コネクタ接続部への水の侵入を防止する真空ポンプ及び該真空ポンプに適用される防水構造、制御装置を提供することを目的とする。

　このため本発明（請求項１）は、ポンプ本体のベース部に対し制御装置が着脱自在に配設され、防水構造を備えた真空ポンプであって、前記防水構造は、前記ベース部の側部に配設され、該ベース部と前記制御装置間を電気的ケーブルを介して結ぶコネクタ部と、該コネクタ部の周囲に前記ベース部と前記制御装置をまたがり突設された壁部と、該壁部を覆う壁部カバーとを備えて構成した。

　コネクタがベース部の側部に配設されているので、ポンプの軸方向には十分な空きスペースが無くても容易にポンプ本体と制御装置の着脱が行える。ベース部及び制御装置の側部には壁部がベース部及び制御装置にまたがり周状に突設されている。このため、保守作業の際にカバーを取り外した場合であってもこの壁部により水滴の侵入を防ぐことができる。これにより、保守作業時における回路の安全が図れる。

　また、本発明（請求項２）は真空ポンプの発明であって、前記ベース部と前記制御装置の間に形成された隙間を備え、該隙間の外周を覆う隙間カバー部が前記壁部カバーの内側に配設されたことを特徴とする。

　このことにより、隙間を伝って流れる水滴の侵入をより一層厳格に防ぐことができる。これにより、保守作業時における回路の安全がより確実に図れる。隙間カバー部はカバーに対して一体として構成されてもよいし、別体で構成されることも可能である。

　更に、本発明（請求項３）は真空ポンプの発明であって、前記ベース部と前記制御装置の間に形成された隙間を備え、前記制御装置の外周面を前記ポンプ本体の前記ベース部側に突設させることで前記隙間の外周を覆うことを特徴とする。

　制御装置を形成する外周面をポンプの軸方向に突設させる。この突設部分により隙間の外周を覆うことで、隙間にはより一層水滴が侵入し難くなる。これにより、保守作業時における回路の安全がより一層確実に図れる。

　更に、本発明（請求項４）は真空ポンプの発明であって、前記ベース部と前記制御装置の間に形成された隙間を備え、前記制御装置の上面の一端を前記ポンプ本体の前記ベース部側に折り曲げた折曲片を備え、該折曲片により前記隙間の外周を覆うことを特徴とする。

　制御装置の上面の一端を折り曲げて折曲片を形成する。この折曲片により隙間の外周を覆うことで、隙間にはより一層水滴が侵入し難くなる。これにより、保守作業時における回路の安全がより一層確実に図れる。

　更に、本発明（請求項５）は真空ポンプの発明であって、前記隙間に対し水の浸入を防ぐためのシール部材が配設されたことを特徴とする。

　隙間に対しシール部材が挿入されたことで、この隙間には水滴が侵入し難い。

　更に、本発明（請求項６）は真空ポンプの発明であって、前記壁部又は前記制御装置の前記上面に排水のための溝若しくは穴が形成されたことを特徴とする。

　壁部に水滴の通る溝若しくは穴を形成したことで、カバーを外したときでも水滴はこの溝若しくは穴に沿って流れるため内側に侵入することはない。これにより、保守作業時における回路の安全が図れる。

　更に、本発明（請求項７）は真空ポンプの発明であって、前記壁部カバーが前記ベース部と前記制御装置の外形に合うように形成されたことを特徴とする。

　このことにより、ポンプ周りに邪魔な出っ張りは無くなり保守作業がし易く、美観にも優れる。

　更に、本発明（請求項８）は防水構造の発明であって、請求項１～７のいずれか１項に記載の真空ポンプに配置されたことを特徴とする。

　真空ポンプはケーブルの本数が多く嵩張り易いが、上記防水構造を搭載することでポンプの側部から容易に保守作業が行える。

　更に、本発明（請求項９）は制御装置の発明であって、請求項１～７のいずれか１項に記載の真空ポンプに適用され、前記ポンプ本体に対して径方向に移動することで着脱自在であることを特徴とする。

　制御装置を径方向に移動自在としたことでポンプの軸方向に作業スペースが十分に取れない所でも容易に保守作業が行える。

　以上説明したように本発明（請求項１）によれば、ベース部の側部にコネクタを配設し、このコネクタの周囲にベース部と制御装置とをまたがり壁部を形成したので、ポンプの軸方向には十分な空きスペースが無くても容易にポンプ本体と制御装置の着脱が行える。
また、保守作業の際にカバーを取り外した場合であっても壁部により水滴の侵入を防ぐことができる。これにより、保守作業時における回路の安全が図れる。

本発明の第１実施形態の構成図ベース部及び制御装置周りの縦断面図カバーを含むベース部と制御装置の正面図図３中の矢視線Ａ－Ａによる水平断面図保守作業を行う際の手順を示す図ベース部及び制御装置周りの縦断面図（別形態）ベース部及び制御装置周りの縦断面図（別形態）本発明の第２実施形態の構成図第２実施形態の別形態を示す図

　以下、本発明の第１実施形態について説明する。本発明の第１実施形態の構成図を図１に示す。図１において、ターボ分子ポンプ１０は、ポンプ本体１００と制御装置２００とが一体化されている。

　ポンプ本体１００の円筒状の外筒１２７の上端には吸気口１０１が形成されている。外筒１２７の内方には、ガスを吸引排気するためのタービンブレードによる複数の回転翼１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・を周部に放射状かつ多段に形成した回転体１０３を備える。

　この回転体１０３の中心にはロータ軸１１３が取り付けられており、このロータ軸１１３は、例えば、いわゆる５軸制御の磁気軸受により空中に浮上支持かつ位置制御されている。

　上側径方向電磁石１０４は、４個の電磁石が、ロータ軸１１３の径方向の座標軸であって互いに直交するＸ軸とＹ軸とに対をなして配置されている。この上側径方向電磁石１０４に近接かつ対応されて４個の電磁石からなる上側径方向センサ１０７が備えられている。この上側径方向センサ１０７は回転体１０３の径方向変位を検出し、制御装置２００に送るように構成されている。

　制御装置２００においては、上側径方向センサ１０７が検出した変位信号に基づき、ＰＩＤ調節機能を有する補償回路を介して上側径方向電磁石１０４の励磁を制御し、ロータ軸１１３の上側の径方向位置を調整する。

　ロータ軸１１３は、高透磁率材（鉄など）などにより形成され、上側径方向電磁石１０４の磁力により吸引されるようになっている。かかる調整は、Ｘ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ独立して行われる。

　また、下側径方向電磁石１０５及び下側径方向センサ１０８が、上側径方向電磁石１０４及び上側径方向センサ１０７と同様に配置され、ロータ軸１１３の下側の径方向位置を上側の径方向位置と同様に調整している。

　更に、軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂが、ロータ軸１１３の下部に備えた円板状の金属ディスク１１１を上下に挟んで配置されている。金属ディスク１１１は、鉄などの高透磁率材で構成されている。ロータ軸１１３の軸方向変位を検出するために軸方向センサ１０９が備えられ、その軸方向変位信号が制御装置２００に送られるように構成されている。

　そして、軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂは、この軸方向変位信号に基づき制御装置２００のＰＩＤ調節機能を有する補償回路を介して励磁制御されるようになっている。軸方向電磁石１０６Ａと軸方向電磁石１０６Ｂは、磁力により金属ディスク１１１をそれぞれ上方と下方とに吸引する。

　このように、制御装置２００は、この軸方向電磁石１０６Ａ、１０６Ｂが金属ディスク１１１に及ぼす磁力を適当に調節し、ロータ軸１１３を軸方向に磁気浮上させ、空間に非接触で保持するようになっている。

　モータ１２１は、ロータ軸１１３を取り囲むように周状に配置された複数の磁極を備えている。各磁極は、ロータ軸１１３との間に作用する電磁力を介してロータ軸１１３を回転駆動するように、制御装置２００によって制御されている。

　回転翼１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・とわずかの空隙を隔てて複数枚の固定翼１２３ａ、１２３ｂ、１２３ｃ・・・が配設されている。回転翼１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・は、それぞれ排気ガスの分子を衝突により下方向に移送するため、ロータ軸１１３の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成されている。

　また、固定翼１２３も、同様にロータ軸１１３の軸線に垂直な平面から所定の角度だけ傾斜して形成され、かつ外筒１２７の内方に向けて回転翼１０２の段と互い違いに配設されている。
　そして、固定翼１２３の一端は、複数の段積みされた固定翼スペーサ１２５ａ、１２５ｂ、１２５ｃ・・・の間に嵌挿された状態で支持されている。

　固定翼スペーサ１２５はリング状の部材であり、例えばアルミニウム、鉄、ステンレス、銅などの金属、又はこれらの金属を成分として含む合金などの金属によって構成されている。

　固定翼スペーサ１２５の外周には、わずかの空隙を隔てて外筒１２７が固定されている。外筒１２７の底部にはベース部１２９が配設され、固定翼スペーサ１２５の下部とベース部１２９の間にはネジ付きスペーサ１３１が配設されている。そして、ベース部１２９中のネジ付きスペーサ１３１の下部には排気口１３３が形成され、外部に連通されている。

　ネジ付きスペーサ１３１は、アルミニウム、銅、ステンレス、鉄、又はこれらの金属を成分とする合金などの金属によって構成された円筒状の部材であり、その内周面に螺旋状のネジ溝１３１ａが複数条刻設されている。
　ネジ溝１３１ａの螺旋の方向は、回転体１０３の回転方向に排気ガスの分子が移動したときに、この分子が排気口１３３の方へ移送される方向である。

　回転体１０３の回転翼１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ・・・に続く最下部には回転翼１０２ｄが垂下されている。この回転翼１０２ｄの外周面は、円筒状で、かつネジ付きスペーサ１３１の内周面に向かって張り出されており、このネジ付きスペーサ１３１の内周面と所定の隙間を隔てて近接されている。

　ベース部１２９は、ターボ分子ポンプ１０の基底部を構成する円盤状の部材であり、一般には鉄、アルミニウム、ステンレスなどの金属によって構成されている。

　ベース部１２９はターボ分子ポンプ１０を物理的に保持すると共に、熱の伝導路の機能も兼ね備えているので、鉄、アルミニウムや銅などの剛性があり、熱伝導率も高い金属が使用されるのが望ましい。

　かかる構成において、回転翼１０２がモータ１２１により駆動されてロータ軸１１３と共に回転すると、回転翼１０２と固定翼１２３の作用により、吸気口１０１を通じてチャンバからの排気ガスが吸気される。

　吸気口１０１から吸気された排気ガスは、回転翼１０２と固定翼１２３の間を通り、ベース部１２９へ移送される。このとき、排気ガスが回転翼１０２に接触又は衝突する際に生ずる摩擦熱や、モータ１２１で発生した熱の伝導や輻射などにより、回転翼１０２の温度は上昇するが、この熱は、輻射又は排気ガスの気体分子等による伝導により固定翼１２３側に伝達される。

　固定翼スペーサ１２５は、外周部で互いに接合しており、固定翼１２３が回転翼１０２から受け取った熱や排気ガスが固定翼１２３に接触又は衝突する際に生ずる摩擦熱などを外筒１２７やネジ付きスペーサ１３１へと伝達する。
　ネジ付きスペーサ１３１に移送されてきた排気ガスは、ネジ溝１３１ａに案内されつつ排気口１３３へと送られる。

　ところで、プロセスガスは、反応性を高めるため高温の状態でチャンバに導入される場合がある。そして、これらのプロセスガスは、排気される際に冷却されてある温度になると固体となり排気系に生成物を析出する場合がある。
　そして、この種のプロセスガスがターボ分子ポンプ１０内で低温となって固体状となり、ターボ分子ポンプ１０内部に付着して堆積する場合がある。

　ターボ分子ポンプ１０内部にプロセスガスの析出物が堆積すると、この堆積物がポンプ流路を狭め、ターボ分子ポンプ１０の性能を低下させる原因となる。

　ここに、前述した生成物は排気口付近の温度が低い部分、特に回転翼１０２ｄ及びネジ付きスペーサ１３１付近で凝固、付着し易い状況にあった。この問題を解決するために、従来はベース部１２９等の外周に図示しないヒータや環状の水冷管を巻着させ、かつ例えばベース部１２９に図示しない温度センサ（例えばサーミスタ）を埋め込み、この温度センサの信号に基づきベース部１２９の温度を一定の高い温度（設定温度）に保つようにヒータの加熱や水冷管による冷却の制御が行われている。

　次に、ポンプ本体１００と制御装置２００間で制御ケーブル、電源ケーブルを接続する端子周りの構造について説明する。
　図２において、ベース部１２９及び制御装置２００の側部には壁部２０２が周状に突設されている。そして、この壁部２０２を覆い嵌合するように壁部カバー２０１が着脱自在になっている。この壁部カバー２０１を含むベース部１２９と制御装置２００の正面図を図３に、図３中の矢視線Ａ－Ａによる水平断面図を図４に示す。また、図２は、図４中の矢視線Ｂ－Ｂによるベース部１２９及び制御装置２００周りの縦断面図を示している。

　ベース部１２９内にはポンプ本体１００内の磁気軸受やモータ等の配線用に空間２０３が形成されている。この空間２０３内は真空雰囲気であり、一方、制御装置２００や制御装置２００との接続部は大気雰囲気である。
　そして、この空間２０３の右端周りの壁部にはハーメチックコネクタ２０５が取り付けられている。このハーメチックコネクタ２０５とベース部１２９の間には図示しないＯリングがＯリング用の溝２０７に配設されている。ハーメチックコネクタ２０５には多数のピン２０９が貫通されている。ピン２０９の右端は露出され、中継基板２１１の図示しない小穴を貫通している。制御装置２００との接続のための中継基板２１１に対してピン２０９は中継基板２１１の小穴部分でハンダ付けされている。

　中継基板２１１の下端には端子２１３が配設され、ハーネス２１５の一端が着脱自在なようになっている。ハーネス２１５の他端は制御装置２００内部に延びている。一方、ピン２０９の左端には図示しない制御ケーブルや電源ケーブルが接続され、空間２０３の内部に通されている。

　制御装置２００を形成する筐体の上部には蓋２１７が配設されている。ベース部１２９と制御装置２００の間には断熱のため１ｍｍ程度の隙間２１０が形成されている。この隙間２１０には水滴が内部に侵入しないように外周側に環状若しくは帯状のシール部材２１９が間装されている。そして、このシール部材２１９と蓋２１７の右端を覆うように隙間カバー部２０１ａがベース部１２９と制御装置２００に対して当接されている。この隙間カバー部２０１ａは隙間２１０に沿ってカバーの内側において突設されたものである。隙間カバー部２０１ａは、蓋２１７や制御装置２００の筐体部と別体として構成されても良いし、後述するように蓋２１７や制御装置２００の筐体部と一体として構成されても良い。

　図４に示す通り、壁部カバー２０１はベース部１２９及び制御装置２００の外形に合わせて曲面状に形成されている。但し、ポンプが角形の場合には平面状に形成される等ポンプの形状に合わせるのが望ましい。また、この壁部カバー２０１は図３に示す通り、配線の引き回しの関係でベース部１２９側の周長が短く、制御装置２００側の周長が長く形成されている。

　次に、本発明の第１実施形態の作用を説明する。
　まず、保守作業を行う際の手順について図５に基づき説明する。図５（ａ）に示すように、保守作業を行う際にはベース部１２９及び制御装置２００の側部より壁部カバー２０１を外す。図５（ｂ）ではハーネス２１５を端子２１３から外す。次に、図５（ｃ）では図示しないベース部１２９及び制御装置２００間を締結していたボルトを取り外し、制御装置２００の筐体を数十ミリ程度下げる。次に図５（ｄ）に示すように、制御装置２００の筐体をポンプの径方向に引き出す。

　このことにより、真空ポンプの軸方向には十分な空きスペースが無くても容易にポンプ本体１００と制御装置２００の着脱が行える。この場合には、ポンプ本体１００を図示しないチャンバに取り付けた状態であっても制御装置２００の保守作業が容易に行える。真空ポンプの側部に端子が配置されているので壁部カバー２０１を外すことで見易く、ハーネス２１５の端子２１３への着脱も容易である。

　次に、保守作業を行う際に、水滴等がコネクタ接続部へ侵入するのを防止する機能について説明する。
　水冷管による冷却により、ベース部１２９の周囲には結露を生じている場合がある。また、保守の際には水冷管から水滴が漏れる恐れもある。これに対し、図２に示すように、ベース部１２９及び制御装置２００の側部には壁部２０２がベース部１２９及び制御装置２００にまたがり周状に突設されている。このため、保守作業の際に壁部カバー２０１を取り外した場合であってもこの壁部２０２により水滴の侵入を防ぐことができる。更に、隙間２１０にはシール部材２１９と蓋２１７が挿入されている。このため、この隙間２１０には水滴が侵入し難い。

　また、シール部材２１９と蓋２１７の右端を覆うように隙間カバー部２０１ａがベース部１２９と制御装置２００に対して当接されている。このため、隙間２１０を伝って流れる水滴の侵入をより一層厳格に防ぐことができる。これにより、保守作業時における回路の安全が確実に図れる。
　なお、このようにシール部材２１９を配設した場合には、壁部２０２はベース部１２９側と制御装置２００側とに分離されてもよい。また、壁部２０２の一部にはケーブルを外部に出すための切欠きが形成されてもよい。この場合、ベース部１２９側の壁部は庇と両側に壁を突設したコの字状の壁とするのが望ましい。制御装置２００側の壁部はシール部材２１９の設けられている箇所に一部切欠きを設けることができる。

　図２の隙間カバー部２０１ａに代えて図６に示すように構成されてもよい。即ち、制御装置２００を形成する筐体の中継基板２１１に対峙する側の側面は、蓋２１７及びシール部材２１９の厚みを覆う範囲まで突設部２００ａを軸方向上部に向けて突設させる。このことにより、図２と同様に隙間２１０には水滴が侵入し難くなる。これにより、保守作業時における回路の安全が図れる。

　また、図２の隙間カバー部２０１ａに代えて図７に示すように構成されてもよい。即ち、蓋２１７の右端はシール部材２１９の厚みを覆う範囲までＬ字状に折曲げられ折曲片２１７ａが形成されている。このことによっても同様に隙間２１０には水滴が侵入し難くなる。これにより、保守作業時における回路の安全が図れる。

　次に、本発明の第２実施形態について説明する。
　本発明の第２実施形態は、壁部に対し溝及び穴を形成することにより水滴を誘導し制御装置２００より排水する構造である。図８（ａ）はベース部のカバーを取ったときの平面図、図８（ｂ）はベース部の側面図を示す。図８において、図示しないハーメチックコネクタ２０５周りには壁部２２２が突設されている。そして、この壁部２２２を覆い嵌合するように図示しない壁部カバー２０１が着脱自在になっている。壁部２２２の外周には溝２２３が形成されており、水滴２２５がこの溝２２３に沿って流れるようになっている。

　かかる構成において、壁部カバー２０１を外したときでも水滴２２５はこの溝２２３に沿って流れるため内側に侵入することはない。これにより、保守作業時における回路の安全が図れる。なお、壁部２２２の形状は水滴２２５が溝２２３に沿って流れる構造であれば、三角形以外にも四角形や丸形等であってもよい。

　また、第２実施形態の別形態を図９に示す。図９（ａ）はベース部のカバーを取ったときの平面図、図９（ｂ）はベース部の側面図を示す。図９において、図示しないハーメチックコネクタ２０５周りには壁部２３２が突設されている。そして、この壁部２３２を覆い嵌合するように図示しない壁部カバー２０１が着脱自在になっている。壁部２３２の上面には溝２３５が形成されており、水滴２２５がこの溝２３５に沿って流れるようになっている。溝２３５は穴２３７と連結しており、この穴２３７は通孔２３９の入り口になっている。溝２３５を通った水滴２２５は通孔２３９を通り落下する。

　かかる構成において、壁部カバー２０１を外したときでも水滴２２５は溝２３５、穴２３７及び通孔２３９を流れるため内側に侵入することはない。これにより、保守作業時における回路の安全が図れる。

　なお、本発明の実施形態及び各変形例は、必要に応じて組み合わせる構成にしてもよい。また、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が当該改変されたものにも及ぶことは当然である。

　１０　ターボ分子ポンプ
１００　ポンプ本体
１２９　ベース部
２００　制御装置
２００ａ　突設部
２０１　壁部カバー
２０１ａ　隙間カバー部
２０２、２２２、２３２　壁部
２０５　ハーメチックコネクタ
２１０　隙間
２１１　中継基板
２１３　端子
２１５　ハーネス
２１７　蓋
２１７ａ　折曲片
２１９　シール部材
２２３、２３５　溝
２２５　水滴
２３７　穴
２３９　通孔

Claims

　ポンプ本体のベース部に対し制御装置が着脱自在に配設され、防水構造を備えた真空ポンプであって、
前記防水構造は、
前記ベース部の側部に配設され、該ベース部と前記制御装置間を電気的ケーブルを介して結ぶコネクタ部と、
該コネクタ部の周囲に前記ベース部と前記制御装置をまたがり突設された壁部と、
該壁部を覆う壁部カバーとを備えたことを特徴とする真空ポンプ。
　前記ベース部と前記制御装置の間に形成された隙間を備え、
該隙間の外周を覆う隙間カバー部が前記壁部カバーの内側に配設されたことを特徴とする請求項１記載の真空ポンプ。
　前記ベース部と前記制御装置の間に形成された隙間を備え、
前記制御装置の外周面を前記ポンプ本体の前記ベース部側に突設させることで前記隙間の外周を覆うことを特徴とする請求項１記載の真空ポンプ。
　前記ベース部と前記制御装置の間に形成された隙間を備え、
前記制御装置の上面の一端を前記ポンプ本体の前記ベース部側に折り曲げた折曲片を備え、
該折曲片により前記隙間の外周を覆うことを特徴とする請求項１記載の真空ポンプ。
　前記隙間に対し水の浸入を防ぐためのシール部材が配設されたことを特徴とする請求項２～４のいずれか１項に記載の真空ポンプ。
　前記壁部又は前記制御装置の前記上面に排水のための溝若しくは穴が形成されたことを特徴とする請求項１～５のいずれか１項に記載の真空ポンプ。
　前記壁部カバーが前記ベース部と前記制御装置の外形に合うように形成されたことを特徴とする請求項１～６のいずれか１項に記載の真空ポンプ。
　請求項１～７のいずれか１項に記載の真空ポンプに配置されたことを特徴とする防水構造。
　請求項１～７のいずれか１項に記載の真空ポンプに適用され、前記ポンプ本体に対して径方向に移動することで着脱自在であることを特徴とする制御装置。