WO2019065080A1 - エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電ガラスフィルムおよびエレクトロクロミック調光素子 - Google Patents

エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電ガラスフィルムおよびエレクトロクロミック調光素子 Download PDF

Info

Publication number
WO2019065080A1
WO2019065080A1 PCT/JP2018/032372 JP2018032372W WO2019065080A1 WO 2019065080 A1 WO2019065080 A1 WO 2019065080A1 JP 2018032372 W JP2018032372 W JP 2018032372W WO 2019065080 A1 WO2019065080 A1 WO 2019065080A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
layer
glass film
light control
electrochromic
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2018/032372
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
晶子 杉野
望 藤野
健太 渡辺
毅 村重
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to CN201880062539.6A priority Critical patent/CN111149049A/zh
Priority to KR1020207008207A priority patent/KR20200056391A/ko
Priority to US16/651,371 priority patent/US20200292903A1/en
Priority to JP2019544468A priority patent/JPWO2019065080A1/ja
Priority to EP18862327.6A priority patent/EP3690542A4/en
Publication of WO2019065080A1 publication Critical patent/WO2019065080A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Priority to JP2022161226A priority patent/JP2022176332A/ja
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on an electrochromic effect
    • G02F1/153—Constructional details
    • G02F1/155—Electrodes

Definitions

  • the present invention relates to an electrochromic light control member, a light transmitting conductive glass film, and an electrochromic light control device.
  • a current-driven light control device using an electrochromic material in which the amount of light transmission, color, or the like changes by an electrochemical redox reaction is known.
  • an electrochromic device including a working electrode sheet, a counter electrode sheet, an electrochromic compound and an electrolyte, and the working electrode sheet comprising a glass sheet and a transparent conductive oxide film (see, for example, Patent Document 1).
  • a single layer made of a crystalline ITO film is used as the transparent conductive oxide film.
  • the surface resistance value of the electrode substrate such as the working electrode sheet is required to be low (resistance reduction) from the viewpoint of improvement of responsiveness of the electrochromic compound and energy saving.
  • a method of increasing the thickness of the ITO film is considered as a method of reducing the resistance.
  • the film thickness of the ITO film is increased, a crack is easily generated when the electrode substrate is bent. Since the electrochromic element is driven by current, when a crack is generated in the electrode substrate, the oxidation / reduction of the electrochromic compound in the crack portion is inhibited, which causes a problem that the light control function is significantly reduced. Specifically, for example, the uniformity at the time of coloring or decoloring may be reduced, and color unevenness may occur. In addition, the electrochromic device in which the film thickness of the ITO film is thickened is low in transparency and not preferable for applications such as a light control window.
  • the object of the present invention is to provide an electrochromic light control member excellent in low resistance and flexibility, a light transmitting conductive glass film used for the electrochromic light control member, and an electrochromic light control device including the electrochromic light control member To provide.
  • the electrochromic light control member of the present invention comprises a glass film, a light transmissive conductive layer, and an electrochromic light control layer in this order, and the light transmissive conductive layer is a first indium-based conductive oxide layer A metal layer and a second indium-based conductive oxide layer from the glass film side in this order.
  • the surface resistance value of the light transmitting conductive layer is 50 ⁇ / ⁇ or less.
  • the first indium-based conductive oxide layer and the second indium-based conductive oxide layer are amorphous films.
  • the thickness of the glass film is 20 ⁇ m to 200 ⁇ m. According to another aspect of the present invention, a light transmitting conductive glass film is provided.
  • the light transmitting conductive glass film includes a glass film and a light transmitting conductive layer disposed on one side of the glass film, the light transmitting conductive layer being a first indium-based conductive oxide layer, A metal layer and a second indium-based conductive oxide layer are provided in this order from the glass film side.
  • the light transmitting conductive glass film is used for the electrochromic light control member.
  • an electrochromic light control device is provided.
  • the electrochromic light control device includes the electrochromic light control member and an electrode substrate, and the electrode substrate is disposed on the electrochromic light control layer side of the electrochromic light control member.
  • the electrochromic light control member (and the light transmitting conductive glass film and the electrochromic light controlling device) of the present invention is excellent in the responsiveness and energy saving of the electrochromic light controlling layer because the light transmitting conductive layer has a low resistance.
  • the electrochromic light control member of the present invention is provided with a glass film and has high scratch resistance and barrier properties equivalent to that of a glass plate, and thus has high reliability. Specifically, it has high reliability by avoiding problems (for example, defects such as appearance defects due to the influence of environmental factors such as moisture) which may occur when a resin film is used as a substrate.
  • the glass film is excellent in flexibility, it can be manufactured by a roll-to-roll method, and the productivity is improved.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an electrochromic light control member according to one embodiment of the present invention.
  • 1 is a schematic plan view of a light transmitting conductive glass film according to one embodiment of the present invention.
  • 1 is a schematic cross-sectional view of an electrochromic light control device according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an electrochromic light control member (hereinafter also referred to as an EC light control member) according to one embodiment of the present invention.
  • the EC light control member 100 by this embodiment is equipped with the glass film 10, the transparent conductive layer 20, and the electrochromic light control layer (it is also called EC light control layer hereafter) 30 in this order.
  • the EC light control member 100 includes only the glass film 10, the light transmitting conductive layer 20, and the EC light control layer 30.
  • the glass film 10 and the light transmitting conductive layer 20 constitute a light transmitting conductive glass film 110.
  • the light transmitting conductive glass film 110 can function as an electrode in the electrochromic light control device to which the EC light control member is applied.
  • the light transmitting conductive layer 20 includes the first indium-based conductive oxide layer 21, the metal layer 22, and the second indium-based conductive oxide layer 23 in this order from the glass film 10 side.
  • a low resistance light-transmissive conductive layer is formed. Ru.
  • the responsiveness of the electrochromic light control layer is improved.
  • the EC light control member provided with the said light transmissive conductive layer is excellent also in light transmittance.
  • a light transmissive conductive layer having a high visible light transmittance (as a result, an EC light control member having a high visible light transmittance), having a reflectance of a wavelength of 550 nm of 15% or more, and even 30% or more) It is formed.
  • the EC light control member of this invention uses a glass film as a base material.
  • a glass film is not susceptible to adverse effects by environmental factors, and the above-mentioned EC light control member is excellent in reliability and can be suitably used also for products used under severe conditions.
  • a glass film can function as a support for securing the mechanical strength of the EC light control member.
  • the glass film may be part of an electrode substrate provided in the electrochromic light control device to which the EC light control member is applied.
  • the glass film those obtained by any appropriate manufacturing method can be used. Typically, a glass film is melted at a temperature of 1400 ° C. to 1600 ° C., a mixture containing a main raw material such as silica or alumina, an antifoamer such as mirabilite or antimony oxide, and a reducing agent such as carbon. After being formed into a thin plate, it is produced by cooling.
  • a main raw material such as silica or alumina
  • an antifoamer such as mirabilite or antimony oxide
  • a reducing agent such as carbon
  • Examples of the method for forming the glass film include a slot down draw method, a fusion method, and a float method.
  • the glass film formed by the fusion method does not need to be polished because the surface is not contaminated with tin or the like as in the case of forming by the float method, and the smoothness and thickness reduction of the surface are ensured. be able to. From these points of view, it is preferable to use the fusion method.
  • the thickness of the glass film is preferably 20 ⁇ m to 200 ⁇ m, and more preferably 50 ⁇ m to 150 ⁇ m. Within such a range, it is possible to obtain an electrochromic light control member which is excellent in flexibility and easy to adopt a roll-to-roll process.
  • the Young's modulus Eg at 23 ° C. of the glass film is usually about 70 GPa, preferably 50 to 120 GPa, more preferably 60 to 80 GPa, and still more preferably 65 to 75 GPa.
  • the Young's modulus is a value calculated from the slope of the maximum tangent in the stress-strain (S-S) curve obtained by pulling a strip-shaped sample of 10 mm in the width direction at 23 ° C. between chucks at 50 mm and speed 300 mm / min. Say.
  • the width of the glass film is preferably 50 mm to 2000 mm, more preferably 100 mm to 1000 mm.
  • the glass film is preferably a long glass ribbon. When it is long, its length is preferably 100 m or more, more preferably 500 m or more.
  • the bending stress at 23 ° C. of the glass roll is preferably 20 GPa or more.
  • a glass substrate with a resin film may be used instead of the above glass film.
  • the glass substrate with a resin film is formed by laminating a resin film on the above-mentioned glass film.
  • the glass film and the resin film may be laminated via any appropriate pressure-sensitive adhesive or adhesive.
  • a glass substrate with a resin film is advantageous in that it has excellent strength and is more suitable for a roll-to-roll process.
  • the resin film is made of any suitable resin material.
  • the resin include polyethylene, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, polyvinylidene chloride, polypropylene, polyvinyl alcohol, polyester, polycarbonate, polystyrene, polyacrylonitrile, ethylene vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, ethylene -Methacrylic acid copolymer, nylon, cellophane, silicone resin and the like.
  • the width of the resin film is preferably 1% to 20%, more preferably 3% to 15%, with respect to the width of the glass film.
  • the width of the resin film is preferably 80% to 110%, more preferably 90% to 100%, with respect to the width of the glass film.
  • the Young's modulus of the resin film is preferably 0.1 to 20 GPa, more preferably 0.5 to 10 GPa, and still more preferably 2 to 5 GPa.
  • the thickness of the resin film is not particularly limited, and is preferably 2 ⁇ m to 200 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 150 ⁇ m, and still more preferably 20 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the product of Young's modulus (GPa) and thickness ( ⁇ m) at 23 ° C. of the resin film is preferably 100 ⁇ 10 3 pa ⁇ m or more.
  • the length of the resin film may be any appropriate length depending on the length of the glass film.
  • the light transmitting conductive layer may be part of an electrode substrate provided in the electrochromic light control device to which the EC light control member is applied, and has a function of causing the current from the external power source to flow through the EC light control layer Have.
  • the light-transmissive conductive layer includes, in order from the glass film side, a first indium-based conductive oxide layer (hereinafter also referred to as a first oxide layer), a metal layer, and a second indium-based conductive layer. And an oxide layer (hereinafter also referred to as a second oxide layer).
  • the light transmissive conductive layer consists only of the first oxide layer, the metal layer, and the second oxide layer.
  • the surface resistance value R of the light transmitting conductive layer is, for example, 50 ⁇ / sq or less, preferably 30 ⁇ / sq or less, more preferably 20 ⁇ / sq or less, still more preferably 15 ⁇ / sq or less.
  • 0.1 ohm / square or more Preferably, it is 1 ohm / square or more, More preferably, it is 5 ohms / square or more.
  • the surface resistance value of the light transmitting conductive layer is measured, for example, on the four surfaces of the light transmitting conductive layer of the light transmitting conductive glass film 110 in accordance with the 4-probe method of JIS K 7194 (1994). be able to.
  • the specific resistance of the light transmitting conductive layer is, for example, 2.5 ⁇ 10 ⁇ 4 ⁇ ⁇ cm or less, preferably 2.0 ⁇ 10 ⁇ 4 ⁇ ⁇ cm or less, more preferably 1.1 ⁇ 10 ⁇ 4. ⁇ ⁇ cm or less, for example, 0.01 ⁇ 10 ⁇ 4 ⁇ ⁇ cm or more, preferably 0.1 ⁇ 10 ⁇ 4 ⁇ ⁇ cm or more, more preferably 0.5 ⁇ 10 ⁇ 4 ⁇ It is more than cm.
  • the specific resistance of the light transmitting conductive layer is calculated using the thickness of the light transmitting conductive layer and the surface resistance value of the light transmitting conductive layer.
  • the thickness of the light transmitting conductive layer is, for example, 20 nm or more, preferably 40 nm or more, more preferably 60 nm or more, still more preferably 80 nm or more, and for example, 150 nm or less, preferably 120 nm or less, more Preferably, it is 100 nm or less.
  • First indium-based conductive oxide layer (first oxide layer)
  • the first indium-based conductive oxide layer (first oxide layer) imparts conductivity to the light-transmitting conductive layer together with the metal layer and the second indium-based conductive oxide layer (second oxide layer) It is a conductive layer.
  • the first oxide layer is also an optical adjustment layer for suppressing the visible light reflectance of the metal layer and improving the visible light transmittance of the light transmissive conductive layer.
  • the first oxide layer contains indium oxide (In 2 O 3 ) as a conductive oxide.
  • indium oxide doped with metal atoms may be used.
  • the metal atom include at least one metal atom selected from the group consisting of Sn, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, and W.
  • the conductive oxide in the first oxide layer is preferably indium tin complex oxide (ITO), indium gallium complex oxide (IGO), indium gallium zinc complex oxide from the viewpoint of low resistance and transparency. (IGZO) etc. is mentioned, More preferably, ITO is mentioned.
  • the content of tin oxide (SnO 2 ) contained in ITO is, for example, 0.5% by mass or more, preferably 3% by mass or more, more preferably 6% by mass, based on the total amount of tin oxide and indium oxide. % By mass, more preferably 8% by mass or more, particularly preferably 10% by mass or more, and for example, 35% by mass or less, preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less More preferably, it is 13% by mass or less.
  • the indium oxide content is the balance of the tin oxide content.
  • the conductive oxide in the first oxide layer may be either crystalline or amorphous. From the viewpoint of uniform formation of the metal layer, it is preferably amorphous. That is, the first oxide layer is preferably an amorphous film, more preferably an amorphous ITO film. In the present specification, in the planar TEM image at 25,000 times, when the area ratio occupied by crystal grains is 80% or less (preferably, 0% or more and 50% or less), it is amorphous. It is assumed that it is crystalline if it exceeds 80%.
  • the content ratio of the conductive oxide (preferably ITO) in the first oxide layer is, for example, 95% by mass or more, preferably 98% by mass or more, more preferably 99% by mass or more. , 100 mass% or less.
  • the thickness of the first oxide layer is, for example, 5 nm or more, preferably 20 nm or more, more preferably 30 nm or more, and for example, 60 nm or less, preferably 50 nm or less. If the thickness of the first oxide layer is in the above range, the visible light transmittance of the light transmitting conductive layer can be easily adjusted to a high level.
  • the thickness of the first oxide layer is measured, for example, by cross-sectional observation with a transmission electron microscope (TEM).
  • the metal layer is a conductive layer that imparts conductivity to the light transmissive conductive layer.
  • the metal layer is also a low resistance layer which lowers the surface resistance value of the light transmitting conductive layer.
  • the metal layer is formed of any suitable metal.
  • the metal for example, Ti, Si, Nb, In, Zn, Sn, Au, Ag, Cu, Al, Co, Cr, Ni, Pb, Pd, Pt, Cu, Ge, Ru, Nd, Mg, Ca
  • an alloy containing two or more of these metals may be used.
  • the metal Preferably, silver (Ag), a silver alloy is mentioned, More preferably, a silver alloy is mentioned.
  • a silver alloy By using silver or a silver alloy, it is possible to form a light transmitting conductive layer which has a low resistance value and a particularly high average reflectance in the near infrared region.
  • the electrochromic light control member provided with such a transparent conductive layer is suitable also for the use used for the outdoors or a window.
  • the average reflectance of near infrared rays (wavelength: 850 to 2500 nm) of the light transmitting conductive glass film is, for example, 10% or more, preferably 20% or more, more preferably 50% or more, and for example, 95% Below, Preferably, it is 90% or less.
  • silver alloys include Ag-Cu alloys, Ag-Pd alloys, Ag-Sn alloys, Ag-In alloys, Ag-Pd-Cu alloys, Ag-Pd-Cu-Ge alloys, Ag-Cu-Au alloys, Ag-Cu-Sn alloy, Ag-Cu-In alloy, Ag-Ru-Cu alloy, Ag-Ru-Au alloy, Ag-Nd alloy, Ag-Mg alloy, Ag-Ca alloy, Ag-Na alloy etc Be From the viewpoint of low resistance and wet heat durability, preferred examples of the silver alloy include Ag-Cu alloy, Ag-Cu-In alloy, Ag-Cu-Sn alloy, Ag-Pd alloy, Ag-Pd-Cu alloy, etc. Be
  • the content ratio of silver is, for example, 80% by mass or more, preferably 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more, and for example, 99.9% by mass or less.
  • the content ratio of the other metal in the silver alloy is the balance of the content ratio of silver described above.
  • the thickness of the metal layer is, for example, 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and for example, 20 nm or less, preferably 10 nm or less. If it is such a range, the transparent conductive layer which is excellent in light transmittance can be formed.
  • the thickness of the metal layer is measured, for example, by cross-sectional observation with a transmission electron microscope (TEM).
  • Second indium-based conductive oxide layer (second oxide layer)
  • the second indium-based conductive oxide layer (second oxide layer) is a conductive layer which imparts conductivity to the light-transmitting conductive layer, together with the first oxide layer and the metal layer.
  • the second oxide layer is also an optical adjustment layer for suppressing the visible light reflectance of the metal layer and improving the visible light transmittance of the light transmitting conductive layer.
  • the second oxide layer contains indium oxide (In 2 O 3 ) as a conductive oxide.
  • the conductive oxide that forms the second oxide layer include the conductive oxides exemplified in the section C-1, and preferably ITO.
  • the second oxide layer is preferably an amorphous film, more preferably an amorphous ITO film.
  • the content ratio of the conductive oxide (preferably ITO) in the second oxide layer is, for example, 95% by mass or more, preferably 98% by mass or more, more preferably 99% by mass or more. , 100 mass% or less.
  • the thickness of the second oxide layer is, for example, 5 nm or more, preferably 20 nm or more, more preferably 30 nm or more, and for example, 60 nm or less, preferably 50 nm or less. If the thickness of the second oxide layer is in the above range, the visible light transmittance of the light transmitting conductive layer can be easily adjusted to a high level.
  • the thickness of the second oxide layer is measured, for example, by cross-sectional observation with a transmission electron microscope (TEM).
  • the ratio of the thickness of the second oxide layer to the thickness of the first oxide layer is, for example, 0.5 or more, preferably 0.75 The above, and also, for example, 1.5 or less, preferably 1.25 or less.
  • the ratio of the thickness of the second oxide layer to the thickness of the metal layer is, for example, 2.0 or more, preferably 3.0 or more, and For example, it is 10 or less, preferably 8.0 or less.
  • the EC light control layer is a light control layer that changes the light transmittance and the color by the current supplied through the light transmitting conductive layer.
  • the EC light control layer 30 includes, in order from the light transmitting conductive layer 20 side, a first electrochromic compound layer (hereinafter also referred to as a first EC layer) 31 and an electrolyte.
  • a layer 32 and a second electrochromic compound layer (hereinafter also referred to as a second EC layer) 33 are provided.
  • the thickness of the EC light control layer is, for example, 0.1 ⁇ m or more and 5000 ⁇ m or less.
  • First electrochromic compound layer (first EC layer)
  • the first EC layer is a light control layer that changes the light transmittance and the color according to the current flowing in the first EC layer.
  • the first EC layer is formed of any suitable electrochromic compound.
  • the electrochromic compound for example, inorganic electrochromic compounds such as tungsten oxide, molybdenum oxide, vanadium oxide, indium oxide, iridium oxide, nickel oxide, and prussiaon blue; for example, phthalocyanine compounds, styryl compounds, viologen compounds
  • organic electrochromic compounds such as polypyrrole, polyaniline and polythiophene.
  • the thickness of the first EC layer is, for example, 0.01 ⁇ m or more and 3000 ⁇ m or less.
  • the electrolyte layer is a layer for efficiently energizing the electrochromic compounds constituting the first EC layer and the second EC layer.
  • the electrolyte layer may be formed of a liquid electrolyte and a sealing material for sealing the liquid electrolyte, or may be formed of a solid electrolyte membrane.
  • the electrolyte for forming the electrolyte layer is not limited.
  • LiClO 4 , LiBF 4 , LiAsF 6 , LiPF 6 , LiCF 3 SO 3 , LiCF 3 COO, KCl, NaClO 3 , NaCl, NaBF 4 , NaSCN, KBF 4 examples thereof include alkali metal salts or alkaline earth metal salts such as Mg (ClO 4 ) 2 and Mg (BF 4 ) 2 .
  • quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium salts and the like can be mentioned.
  • an organic solvent is used in combination with the electrolyte.
  • the organic solvent is not limited as long as it dissolves the electrolyte, and carbonates such as ethylene carbonate, propylene carbonate and methyl carbonate; furans such as tetrahydrofuran; for example, ⁇ -butyrolactone, 1,2-dimethoxyethane, 1, 3-dioxolane, 4-methyl-1,3-dioxolane, methyl formate, methyl acetate, methyl propionate, acetonitrile, N, N-dimethylformamide and the like.
  • the thickness of the electrolyte layer is, for example, 0.01 ⁇ m or more and 3000 ⁇ m or less.
  • Second electrochromic compound layer (second EC layer)
  • the second EC layer is a light control layer that changes the light transmittance and the color according to the current flowing in the second EC layer.
  • the second EC layer is formed of any suitable electrochromic compound.
  • the electrochromic compound is not particularly limited, and the electrochromic compounds exemplified in the section D-1 may be used.
  • the thickness of the second EC layer is, for example, 0.01 ⁇ m or more and 3000 ⁇ m or less.
  • FIG. 2 is a schematic plan view of a light transparent conductive glass film according to one embodiment of the present invention.
  • the light transmitting conductive glass film 110 according to this embodiment includes the glass film 10 and the light transmitting conductive layer 20 disposed on one side of the glass film 10. In one embodiment, the light transmitting conductive film 110 consists only of the glass film 10 and the light transmitting conductive layer 20.
  • the light transmitting conductive glass film 110 includes the first indium-based conductive oxide layer 21, the metal layer 22, and the second indium-based conductive oxide layer 23 in this order from the glass film 10 side.
  • the thickness of the light transmitting conductive glass film is, for example, 20 ⁇ m or more, preferably 50 ⁇ m or more, and for example, 200 ⁇ m or less, preferably 150 ⁇ m or less.
  • the visible light transmittance of the light transmitting conductive glass film is, for example, 60% or more, preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and for example, 95% or less.
  • the visible light transmittance is high even when the visible light reflectance of the metal layer is high.
  • a light transmitting conductive glass film can be obtained.
  • the EC light control member may be manufactured by any appropriate method. Hereinafter, the representative example of the manufacturing method of EC light control member is shown.
  • an EC light control member In order to manufacture an EC light control member, first, a light transmitting conductive glass film is produced, and then an EC light control layer is formed on the light transmitting conductive glass film.
  • a transparent conductive glass film is obtained by forming a first oxide layer, a metal layer and a second oxide layer on a glass film. Any appropriate method may be employed as a method of forming these layers.
  • a dry process is used. More specifically, as a dry method, a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, etc. may be mentioned. Preferably, a sputtering method such as a magnetron sputtering method is used.
  • inert gas such as Ar
  • reactive gases such as oxygen
  • the flow rate ratio of the reactive gas is not particularly limited, and the ratio of the flow rate of the reactive gas to the flow rate of the inert gas is, for example, 0.1 / 100 or more, preferably It is 1/100 or more, and for example, 5/100 or less.
  • an inert gas and a reactive gas are preferably used together as a gas in the formation of the first oxide layer.
  • an inert gas is used alone as the gas.
  • an inert gas and a reactive gas are used in combination as a gas.
  • examples of the target material include the above-described inorganic oxide or metal which constitutes each layer.
  • the power source used in the sputtering method is not limited, and examples thereof include a DC power source, an MF / AC power source, and an RF power source alone or in combination, and preferably a DC power source.
  • the light transmitting conductive layer may be formed into a pattern shape such as a wiring pattern by etching, if necessary.
  • a known material can be used for the EC light control layer.
  • the EC light control layer is disposed on the upper surface of the light transmitting conductive glass film so that the EC light control layer and the second indium-based conductive oxide layer are in contact with each other.
  • An EC light control member is obtained by this.
  • the above-mentioned manufacturing method can be implemented by a roll to roll system. Also, some or all of them can be carried out in batch mode.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an electrochromic light adjusting device (EC light adjusting device) according to an embodiment of the present invention.
  • the EC light adjustment device 200 according to this embodiment includes an EC light adjustment member 100 and an electrode substrate (upper electrode substrate) 120 disposed on one side of the EC light adjustment member 100.
  • the EC light control member 100 the EC light control member described in the section A to D can be used.
  • the electrode substrate 120 can be disposed on the EC light control layer 30 side of the EC light control member 110.
  • the EC dimmer 200 includes only the EC dimmer 110 and the electrode substrate 120.
  • the light transmitting conductive glass film 110 can be used as the electrode substrate 120. That is, the electrode substrate 120 can include the light transmitting conductive layer 20 and the glass film 10 from the EC light control member 100 in this order.
  • the EC light control element 120 in which the electrode substrate 120 (light transmissive conductive glass film 110) is disposed has a configuration in which the EC light control layer 30 is disposed between the pair of light transmissive conductive films 110. possible.
  • positioned facing the electrode substrate 120 can function as a lower side electrode of EC light control element.
  • the surface resistance value of the light transmitting conductive layer is low, and the resistance is low. Therefore, the responsiveness and energy saving of the EC light control layer are excellent.
  • the EC light control device has a glass film and has high scratch resistance and barrier property equivalent to that of a glass plate, and thus has high reliability. Specifically, it has high reliability by avoiding problems (for example, defects such as appearance defects due to the influence of environmental factors such as moisture) which may occur when a resin film is used as a substrate. Furthermore, since the glass film is excellent in flexibility, it can be manufactured by a roll-to-roll method, and the productivity is improved.
  • Example 1 (Preparation of glass film) A glass film roll having a thickness of 100 ⁇ m was prepared. (Formation of first indium-based conductive oxide layer (first oxide layer)) Next, the glass film roll was placed in a vacuum sputtering apparatus, and evacuation was performed until the air pressure at the time of unconveying was 4 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa (degassing treatment). At this time, a part of the glass film was transported without introducing the sputtering gas (Ar and O 2 ), and it was confirmed that the pressure increased to 2 ⁇ 10 ⁇ 2 Pa. Thus, it was confirmed that a sufficient amount of gas remained in the glass film roll.
  • sputtering gas Ar and O 2
  • a first indium-based conductive oxide layer made of amorphous ITO and having a thickness of 40 nm was formed on the upper surface of the glass film by sputtering.
  • a 12 mass% A target consisting of a sintered body of tin oxide and 88% by mass of indium oxide was sputtered.
  • a metal layer made of an Ag—Cu alloy and having a thickness of 8 nm was formed on the top surface of the first indium-based conductive oxide layer by sputtering.
  • a direct current (DC) power source was used as a power source in a vacuum atmosphere at an atmospheric pressure of 0.3 Pa into which Ar was introduced, and an Ag alloy (product number "No. 317" manufactured by Mitsubishi Materials Corporation) was sputtered.
  • DC direct current
  • Ag alloy product number "No. 317” manufactured by Mitsubishi Materials Corporation
  • Comparative Example 1 A light transmitting conductive glass film is prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the first indium-based conductive oxide layer is 30 nm and the metal layer and the second indium-based conductive oxide layer are not formed. I got
  • Comparative Example 2 A light transmitting conductive glass film is prepared in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the first indium-based conductive oxide layer is 100 nm and the metal layer and the second indium-based conductive oxide layer are not formed. I got
  • the obtained transparent conductive glass film was subjected to the following evaluation. The results are shown in Table 1.
  • the initial surface resistance value R 0 of the light transmissive conductive layer was measured in accordance with the 4-probe method of JIS K 7194 (1994). The results are shown in Table 1.
  • (2) Visible Light Transmittance The total light transmittance of the light transmitting conductive glass film was measured using a haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., device name “HGM-2DP), and was used as the visible light transmittance.
  • the 500x500 mm EC light control element was manufactured as follows using the transparent conductive glass film obtained by the Example and the comparative example. A current was applied to the obtained EC dimmer to measure the time for which the color of the EC dimmer changed. The case where the color change time of the EC light control layer was within 60 seconds was evaluated as ⁇ , and the case longer than 60 seconds was evaluated as x. (Manufacture of EC light control device) Two sheets of the light transmitting conductive glass films obtained in Example 1 were prepared, and these were used as the upper electrode substrate and the lower electrode substrate of the EC light control device to manufacture the EC light control device.
  • a light transmitting conductive glass film was laminated on both sides of a commercially available EC light control layer (electrochromic compound layer / electrolyte layer / electrochromic compound layer) to manufacture an EC light control device. Also in Comparative Examples 1 and 2, an EC light control device was manufactured in the same manner as described above using the light transmitting conductive glass films obtained in these experimental examples.
  • the optical laminate of the present invention is suitably used for a current-driven light control device.
  • Electrochromic light control layer (EC light control layer) 31 First electrochromic compound layer (first EC layer) 32 electrolyte layer 33 second electrochromic compound layer (second EC layer) 100 Electrochromic light control member (EC light control member) 110 Transparent conductive glass film 200 Electrochromic light control device

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

低抵抗およびフレキシブル性に優れるエレクトロクロミック調光部材、該エレクトロクロミック調光部材に用いられる光透過性導電ガラスフィルム、および、該エレクトロクロミック調光部材を含むエレクトロクロミック調光素子を提供する。　本発明のエレクトロクロミック調光部材は、ガラスフィルムと、光透過性導電層と、エレクトロクロミック調光層とをこの順に備え、該光透過性導電層が、第１インジウム系導電性酸化物層と、金属層と、第２インジウム系導電性酸化物層とを、該ガラスフィルム側からこの順に備える。

Description

エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電ガラスフィルムおよびエレクトロクロミック調光素子
　本発明は、エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電ガラスフィルムおよびエレクトロクロミック調光素子に関する。
　従来より、電気化学的な酸化還元反応により、光透過量や色彩などが変化するエレクトロクロミック材料を用いた電流駆動型の調光装置が知られている。例えば、作用電極シート、対極シート、エレクトロクロミック化合物および電解質を含み、作用電極シートがガラスシートおよび透明導電性酸化物膜を備えるエレクトロクロミック素子が提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１のエレクトロクロミック素子では、透明導電性酸化膜として、結晶性ＩＴＯ膜からなる単層が用いられている。
特開２０１５－１７２６６６号公報
　しかるに、エレクトロクロミック素子においては、エレクトロクロミック化合物の応答性の改良、省エネルギーなどの観点から、作用電極シートなどの電極基板の表面抵抗値を低く（低抵抗化）することが求められている。低抵抗化の方法として、ＩＴＯ膜の膜厚を厚くする方法が検討される。
　しかしながら、ＩＴＯ膜の膜厚を厚くすると、電極基板を曲げた際にクラックが生じ易くなる。エレクトロクロミック素子は、電流駆動であるため、電極基板にクラックが生じると、クラック部分におけるエレクトロクロミック化合物の酸化還元が阻害され、調光機能が著しく低下する不具合が生じる。具体的には、例えば、着色または脱色時の均一性が低下し、色ムラが発生する場合がある。また、ＩＴＯ膜の膜厚を厚くしたエレクトロクロミック素子は、透明性が低く、調光窓などの用途には好ましくない。
　本発明の課題は、低抵抗およびフレキシブル性に優れるエレクトロクロミック調光部材、該エレクトロクロミック調光部材に用いられる光透過性導電ガラスフィルム、および、該エレクトロクロミック調光部材を含むエレクトロクロミック調光素子を提供することにある。
　本発明のエレクトロクロミック調光部材は、ガラスフィルムと、光透過性導電層と、エレクトロクロミック調光層とをこの順に備え、該光透過性導電層が、第１インジウム系導電性酸化物層と、金属層と、第２インジウム系導電性酸化物層とを、該ガラスフィルム側からこの順に備える。
　１つの実施形態においては、上記光透過性導電層の表面抵抗値が、５０Ω／□以下である。
　１つの実施形態においては、上記第１インジウム系導電性酸化物層および前記第２インジウム系導電性酸化物層が、非晶質膜である。
　１つの実施形態においては、上記ガラスフィルムの厚みが、２０μｍ～２００μｍである。
　本発明の別の局面によれば、光透過性導電ガラスフィルムが提供される。この光透過性導電ガラスフィルムは、ガラスフィルムと、該ガラスフィルムの片側に配置された光透過性導電層とを備え、該光透過性導電層が、第１インジウム系導電性酸化物層と、金属層と、第２インジウム系導電性酸化物層とを、該ガラスフィルム側からこの順に備える。
　１つの実施形態においては、上記光透過性導電ガラスフィルムは、上記エレクトロクロミック調光部材に用いられる。
　本発明のさらに別の局面によれば、エレクトロクロミック調光素子が提供される。このエレクトロクロミック調光素子は、上記エレクトロクロミック調光部材と、電極基板とを備え、該電極基板が、該エレクトロクロミック調光部材の前記エレクトロクロミック調光層側に配置される。
　本発明のエレクトロクロミック調光部材（ならびに、光透過性導電ガラスフィルムおよびエレクトロクロミック調光素子）は、光透過性導電層が低抵抗であるため、エレクトロクロミック調光層の応答性および省エネルギーに優れる。また、本発明のエレクトロクロミック調光部材はガラスフィルムを備え、ガラス板同等の耐擦傷性およびバリア性を有するため、高い信頼性を有する。具体的には、樹脂フィルムを基材として用いた場合に生じ得る不具合（例えば、水分などの環境因子の影響による外観不良等の不具合）を回避して、高い信頼性を有する。さらに、ガラスフィルムはフレキシブル性に優れるため、ロールトゥロール方式での製造が可能であり、生産性が向上する。
本発明の１つの実施形態によるエレクトロクロミック調光部材の概略断面図である。 本発明の１つの実施形態による光透過性導電ガラスフィルムの概略平面図である。 本発明の１つの実施形態によるエレクトロクロミック調光素子の概略断面図である。
　以下、本発明の代表的な実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
Ａ．エレクトロクロミック（ＥＣ）調光部材の全体構成
　図１は、本発明の１つの実施形態によるエレクトロクロミック調光部材（以下、ＥＣ調光部材ともいう）の概略断面図である。この実施形態によるＥＣ調光部材１００は、ガラスフィルム１０と、光透過性導電層２０と、エレクトロクロミック調光層（以下、ＥＣ調光層ともいう）３０とをこの順に備える。１つの実施形態においては、ＥＣ調光部材１００は、ガラスフィルム１０と、光透過性導電層２０と、ＥＣ調光層３０のみから構成される。また、ガラスフィルム１０および光透過性導電層２０は、光透過性導電ガラスフィルム１１０を構成する。光透過性導電ガラスフィルム１１０は、ＥＣ調光部材が適用されたエレクトロクロミック調光素子において、電極として機能し得る。
　光透過性導電層２０は、第１インジウム系導電性酸化物層２１と、金属層２２と、第２インジウム系導電性酸化物層２３とを、ガラスフィルム１０側からこの順に備える。
　本発明においては、金属層を介して積層された第１インジウム系導電性酸化物層と第２インジウム系導電性酸化物層とを配置することにより、低抵抗な光透過性導電層が形成される。このような光透過性導電層を形成することにより、エレクトロクロミック調光層の応答性が向上する。また、エネルギー消費の少ないＥＣ調光部材を得ることができる。さらには、上記光透過性導電層を備えるＥＣ調光部材は、光透過性にも優れる。
　また、金属層を介して、第１インジウム系導電性酸化物層と第２インジウム系導電性酸化物層とを積層することにより、金属層の可視光反射率が高い場合であっても（例えば、波長５５０ｎｍの反射率が１５％以上、さらには、３０％以上であっても）、可視光透過率が高い光透過性導電層（結果として、可視光透過率が高いＥＣ調光部材）が形成される。
　さらに、本願発明のＥＣ調光部材は、基材としてガラスフィルムが用いられる。ガラスフィルムは、環境因子による悪影響を受けがたく、上記ＥＣ調光部材は、信頼性に優れ、過酷な状況下で使用される製品にも好適に用いられ得る。
Ｂ．ガラスフィルム
　ガラスフィルムは、ＥＣ調光部材の機械強度を確保するための支持材として機能し得る。ガラスフィルムは、ＥＣ調光部材が適用されたエレクトロクロミック調光素子が備える電極基板の一部であり得る。
　ガラスフィルムとしては、任意の適切な製造方法で得られたものが用いられ得る。代表的には、ガラスフィルムは、シリカやアルミナ等の主原料と、芒硝や酸化アンチモン等の消泡剤と、カーボン等の還元剤とを含む混合物を、１４００℃～１６００℃の温度で溶融し、薄板状に成形した後、冷却して作製される。
　ガラスフィルムの成形方法は、例えば、スロットダウンドロー法、フュージョン法、フロート法等が挙げられる。これらのうちフュージョン法によって成形したガラスフィルムは、フロート法によって成形した場合のように表面が錫等で汚染されていないので研磨処理を行う必要がなく、また表面の平滑性及び薄型化を確保することができる。これらの観点から、フュージョン法を用いるのが好ましい。
　ガラスフィルムの厚みは、好ましくは２０μｍ～２００μｍであり、より好ましくは５０μｍ～１５０μｍである。このような範囲であれば、フレキシブル性に優れ、ロールトゥロール方式のプロセスを採用しやすいエレクトロクロミック調光部材を得ることができる。
　ガラスフィルムの２３℃におけるヤング率Ｅｇは、通常７０ＧＰａ程度であるが、好ましくは５０～１２０ＧＰａ、より好ましくは６０～８０ＧＰａ、さらに好ましくは６５～７５ＧＰａである。ヤング率とは、幅方向１０ｍｍの短冊状の試料を２３℃においてチャック間５０ｍｍ、速度３００ｍｍ／ｍｉｎで引張り、得られる応力－ひずみ（Ｓ－Ｓ）曲線において最大接線の傾きより算出される値をいう。
　ガラスフィルムの幅は、好ましくは５０ｍｍ～２０００ｍｍであり、より好ましくは１００ｍｍ～１０００ｍｍである。
　ガラスフィルムは、好ましくは長尺状のガラスリボンである。長尺状である場合、その長さは、好ましくは１００ｍ以上であり、より好ましくは５００ｍ以上である。
　ガラスロールの２３℃における曲げ応力は２０ＧＰａ以上であることが好ましい。
　１つの実施形態においては、上記ガラスフィルムに代えて、樹脂フィルム付きのガラス基材が用いられ得る。樹脂フィルム付きのガラス基材は、上記ガラスフィルムに樹脂フィルムを積層して構成される。ガラスフィルムと樹脂フィルムとは、任意の適切な粘着剤または接着剤を介して積層され得る。樹脂フィルム付きのガラス基材は、強度に優れ、ロールトゥロール方式のプロセスにより好適であるという点で有利である。
　樹脂フィルムは、任意の適切な樹脂材料から構成される。当該樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレン－ビニルアルコール共重合体、エチレン－メタクリル酸共重合体、ナイロン、セロファン、シリコーン樹脂等が挙げられる。
　樹脂フィルムの幅は、ガラスフィルムの幅に対して、好ましくは１％～２０％であり、より好ましくは３％～１５％である。また、ガラスフィルムの全面を補強する場合、樹脂フィルムの幅は、ガラスフィルムの幅に対して、好ましくは８０％～１１０％であり、より好ましくは９０％～１００％である。
　樹脂フィルムのヤング率は、好ましくは０．１～２０ＧＰａ、より好ましくは０．５～１０ＧＰａ、さらに好ましくは２～５ＧＰａである。
　樹脂フィルムの厚みは、特に制限されず、好ましくは２μｍ～２００μｍであり、より好ましくは１０μｍ～１５０μｍであり、さらに好ましくは２０μｍ～１００μｍである。
　樹脂フィルムの２３℃におけるヤング率（ＧＰａ）と厚み（μｍ）との積は、１００×１０３ｐａ・ｍ以上であることが好ましい。
　樹脂フィルムの長さは、ガラスフィルムの長さに応じて、任意の適切な長さとされ得る。
Ｃ．光透過性導電層
　光透過性導電層は、ＥＣ調光部材が適用されたエレクトロクロミック調光素子が備える電極基板の一部であり得、外部電源からの電流をＥＣ調光層に通電させる機能を有する。
　上記のとおり、光透過性導電層は、ガラスフィルム側から順に、第１インジウム系導電性酸化物層（以下、第１酸化物層とも略する）と、金属層と、第２インジウム系導電性酸化物層（以下、第２酸化物層とも略する）とを備える。１つの実施形態においては、光透過性導電層は、第１酸化物層と、金属層と、第２酸化物層のみからなる。
　光透過性導電層の表面抵抗値Ｒは、例えば、５０Ω／□以下、好ましくは、３０Ω／□以下、より好ましくは、２０Ω／□以下、さらに好ましくは、１５Ω／□以下であり、また、例えば、０．１Ω／□以上、好ましくは、１Ω／□以上、より好ましくは、５Ω／□以上である。光透過性導電層の表面抵抗値は、例えば、光透過性導電ガラスフィルム１１０の光透過性導電層の４表面に対して、ＪＩＳ　Ｋ７１９４（１９９４年）の４探針法に準拠して測定することができる。
　光透過性導電層の比抵抗は、例えば、２．５×１０－４Ω・ｃｍ以下、好ましくは、２．０×１０－４Ω・ｃｍ以下、より好ましくは、１．１×１０－４Ω・ｃｍ以下であり、また、例えば、０．０１×１０－４Ω・ｃｍ以上、好ましくは、０．１×１０－４Ω・ｃｍ以上、より好ましくは、０．５×１０－４Ω・ｃｍ以上である。光透過性導電層の比抵抗は、光透過性導電層の厚みと、光透過性導電層の表面抵抗値とを用いて算出される。
　光透過性導電層の厚みは、例えば、２０ｎｍ以上、好ましくは、４０ｎｍ以上、より好ましくは、６０ｎｍ以上、さらに好ましくは、８０ｎｍ以上であり、また、例えば、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１２０ｎｍ以下、より好ましくは、１００ｎｍ以下である。
Ｃ－１．第１インジウム系導電性酸化物層（第１酸化物層）
　第１インジウム系導電性酸化物層（第１酸化物層）は、金属層および第２インジウム系導電性酸化物層（第２酸化物層）とともに、光透過性導電層に導電性を付与する導電層である。また、第１酸化物層は、第２酸化物層とともに、金属層の可視光反射率を抑制し、光透過性導電層の可視光透過率を向上させるための光学調整層でもある。
　第１酸化物層は、導電性酸化物として、インジウム酸化物（Ｉｎ２Ｏ３）を含有する。導電性酸化物として、金属原子がドープされたインジウム酸化物を用いてもよい。該金属原子としては、例えば、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも１種の金属原子が挙げられる。
　第１酸化物層中の導電性酸化物としては、低抵抗および透明性の観点から、好ましくは、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）、インジウムガリウム複合酸化物（ＩＧＯ）、インジウムガリウム亜鉛複合酸化物（ＩＧＺＯ）などが挙げられ、より好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。
　ＩＴＯに含有される酸化スズ（ＳｎＯ２）の含有量は、酸化スズおよび酸化インジウムの合計量に対して、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上、より好ましくは、６質量％以上、さらに好ましくは、８質量％以上、特に好ましくは、１０質量％以上であり、また、例えば、３５質量％以下、好ましくは、２０質量％以下、より好ましくは、１５質量％以下、さらに好ましくは、１３質量％以下である。酸化インジウムの含有量は、酸化スズの含有量の残部である。ＩＴＯに含有される酸化スズの含有量を、好適な範囲とすることにより、ＩＴＯ膜の経時での膜質変化を抑制しやすい。
　第１酸化物層中の導電性酸化物は、結晶質および非晶質のいずれであってもよい。金属層の均一形成の観点から、好ましくは、非晶質である。すなわち、第１酸化物層は、好ましくは、非晶質膜であり、より好ましくは、非晶質ＩＴＯ膜である。なお、本明細書においては、２５，０００倍での平面ＴＥＭ画像において、結晶粒が占める面積割合が８０％以下（好ましくは、０％以上５０％以下）である場合に、非晶質であるとし、８０％超過である場合に、結晶質であるとする。
　第１酸化物層中、導電性酸化物（好ましくはＩＴＯ）の含有割合は、例えば、９５質量％以上、好ましくは、９８質量％以上、より好ましくは、９９質量％以上であり、また、例えば、１００質量％以下である。
　第１酸化物層の厚みは、例えば、５ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上、より好ましくは、３０ｎｍ以上であり、また、例えば、６０ｎｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ以下である。第１酸化物層の厚みが上記範囲であれば、光透過性導電層の可視光透過率を高い水準に調整しやすい。第１酸化物層の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察により測定される。
Ｃ－２．金属層
　金属層は、第１酸化物層および第２酸化物層とともに、光透過性導電層に導電性を付与する導電層である。また、金属層は、光透過性導電層の表面抵抗値を低くする低抵抗化層でもある。
　金属層は、任意の適切な金属により形成される。当該金属としては、例えば、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｒｕ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｎａ、Ｗ、Ｚｒ、ＴａおよびＨｆからなる群から選択される１種の金属が挙げられる。また、これらの金属を２種以上含有する合金を用いてもよい。
　金属として、好ましくは、銀（Ａｇ）、銀合金が挙げられ、より好ましくは、銀合金が挙げられる。銀または銀合金を用いれば、抵抗値が小さく、かつ、近赤外線領域の平均反射率が特に高い光透過性導電層を形成することができる。このような光透過性導電層を備えるエレクトロクロミック調光部材は、屋外や窓に使用される用途にも好適である。光透過性導電ガラスフィルムの近赤外線（波長８５０～２５００ｎｍ）の平均反射率は、例えば、１０％以上、好ましくは、２０％以上、より好ましくは、５０％以上であり、また、例えば、９５％以下、好ましくは、９０％以下である。
　銀合金としては、例えば、Ａｇ－Ｃｕ合金、Ａｇ－Ｐｄ合金、Ａｇ－Ｓｎ合金、Ａｇ－Ｉｎ合金、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ合金、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ－Ｇｅ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ａｕ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ｓｎ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ｉｎ合金、Ａｇ－Ｒｕ－Ｃｕ合金、Ａｇ－Ｒｕ－Ａｕ合金、Ａｇ－Ｎｄ合金、Ａｇ－Ｍｇ合金、Ａｇ－Ｃａ合金、Ａｇ－Ｎａ合金などが挙げられる。低抵抗、湿熱耐久性の観点から、銀合金として、好ましくは、Ａｇ－Ｃｕ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ｉｎ合金、Ａｇ－Ｃｕ－Ｓｎ合金、Ａｇ－Ｐｄ合金、Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ合金などが挙げられる。
　銀合金中、銀の含有割合は、例えば、８０質量％以上、好ましくは、９０質量％以上、より好ましくは、９５質量％以上であり、また、例えば、９９．９質量％以下である。銀合金におけるその他の金属の含有割合は、上記した銀の含有割合の残部である。
　金属層の厚みは、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、５ｎｍ以上であり、また、例えば、２０ｎｍ以下、好ましくは、１０ｎｍ以下である。このような範囲であれば、光透過性に優れる光透過性導電層を形成することができる。金属層の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察により測定される。
Ｃ－３．第２インジウム系導電性酸化物層（第２酸化物層）
　第２インジウム系導電性酸化物層（第２酸化物層）は、第１酸化物層および金属層とともに、光透過性導電層に導電性を付与する導電層である。また、第２酸化物層は、金属層の可視光反射率を抑制し、光透過性導電層の可視光透過率を向上させるための光学調整層でもある。
　第２酸化物層は、導電性酸化物として、インジウム酸化物（Ｉｎ２Ｏ３）を含有する。第２酸化物層を形成する導電性酸化物としては、Ｃ－１項で例示した導電性酸化物が挙げられ、好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。また、第２酸化物層は、好ましくは、非晶質膜であり、より好ましくは、非晶質ＩＴＯ膜である。
　第２酸化物層中、導電性酸化物（好ましくはＩＴＯ）の含有割合は、例えば、９５質量％以上、好ましくは、９８質量％以上、より好ましくは、９９質量％以上であり、また、例えば、１００質量％以下である。
　第２酸化物層の厚みは、例えば、５ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上、さらに好ましくは、３０ｎｍ以上であり、また、例えば、６０ｎｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ以下である。第２酸化物層の厚みが上記範囲であれば、光透過性導電層の可視光透過率を高い水準に調整しやすい。第２酸化物層の厚みは、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）による断面観察により測定される。
　第２酸化物層の厚みの、第１酸化物層の厚みに対する比（第２酸化物層の厚み／第１酸化物層の厚み）は、例えば、０．５以上、好ましくは、０．７５以上、また、例えば、１．５以下、好ましくは、１．２５以下である。
　第２酸化物層の厚みの、金属層の厚みに対する比（第２酸化物層の厚み／金属層の厚み）は、例えば、２．０以上、好ましくは、３．０以上であり、また、例えば、１０以下、好ましくは、８．０以下である。
Ｄ．ＥＣ調光層
　ＥＣ調光層は、光透過性導電層を介して通電される電流によって、光透過率や色彩を変化させる調光層である。
　１つの実施形態においては、図１に示すように、ＥＣ調光層３０は、光透過性導電層２０側から順に、第１エレクトロクロミック化合物層（以下、第１ＥＣ層ともいう）３１と、電解質層３２と、第２エレクトロクロミック化合物層（以下、第２ＥＣ層ともいう）３３とを備える。
　ＥＣ調光層の厚みは、例えば、０．１μｍ以上５０００μｍ以下である。
Ｄ－１．第１エレクトロクロミック化合物層（第１ＥＣ層）
　第１ＥＣ層は、第２ＥＣ層とともに、第１ＥＣ層に流れる電流に応じて、その光透過率や色彩を変化させる調光層である。
　第１ＥＣ層は任意の適切なエレクトロクロミック化合物から形成される。エレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化バナジウム、酸化インジウム、酸化イリジウム、酸化ニッケル、プルシアオンブルーなどの無機系エレクトロクロミック化合物；例えば、フタロシアニン系化合物、スチリル系化合物、ビオロゲン系化合物、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェンなどの有機系エレクトロクロミック化合物などが挙げられる。
　第１ＥＣ層の厚みは、例えば、０．０１μｍ以上３０００μｍ以下である。
Ｄ－２．電解質層
　電解質層は、第１ＥＣ層および第２ＥＣ層を構成するエレクトロクロミック化合物に効率よく通電させるための層である。
　電解質層は、液状電解質およびその液状電解質を封止する封止材から形成されていてもよく、また、固体状電解質膜から形成されていてもよい。
　電解質層を形成する電解質としては限定されず、例えば、ＬｉＣｌＯ４、ＬｉＢＦ４、ＬｉＡｓＦ６、ＬｉＰＦ６、ＬｉＣＦ３ＳＯ３、ＬｉＣＦ３ＣＯＯ、ＫＣｌ、ＮａＣｌＯ３、ＮａＣｌ、ＮａＢＦ４、ＮａＳＣＮ、ＫＢＦ４、Ｍｇ(ＣｌＯ４)２、Ｍｇ(ＢＦ４)２などのアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩などが挙げられる。また、４級アンモニウム塩、４級ホスホニウム塩なども挙げられる。
　電解質層として液状電解質を用いる場合は、好ましくは、電解質とともに有機溶媒を併用する。有機溶媒は、電解質を溶解すれば限定的でなく、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、メチルカーボネートなどのカーボネート類；例えば、テトラヒドロフランなどのフラン類；例えば、γ－ブチロラクトン、１，２－ジメトキシエタン、１，３－ジオキソラン、４－メチル－１，３－ジオキソラン、ギ酸メチル、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。
　電解質層の厚みは、例えば、０．０１μｍ以上３０００μｍ以下である。
Ｄ－３．第２エレクトロクロミック化合物層（第２ＥＣ層）
　第２ＥＣ層は、第１ＥＣ層とともに、第２ＥＣ層に流れる電流に応じて、その光透過率や色彩を変化させる調光層である。
　第２ＥＣ層は任意の適切なエレクトロクロミック化合物から形成される。該エレクトロクロミック化合物としては、特に限定されず、Ｄ－１項で例示したエレクトロクロミック化合物が用いられ得る。
　第２ＥＣ層の厚みは、例えば、０．０１μｍ以上３０００μｍ以下である。
Ｅ．光透過性導電ガラスフィルム
　図２は、本発明の１つの実施形態による光透過性導電ガラスフィルムの概略平面図である。この実施形態による光透過性導電ガラスフィルム１１０は、ガラスフィルム１０と、ガラスフィルム１０の片側に配置された光透過性導電層２０とを備える。１つの実施形態においては、光透過性導電性フィルム１１０は、ガラスフィルム１０と光透過性導電層２０のみからなる。
　ガラスフィルムの詳細は、上記Ｂ項で説明したとおりである。
　光透過性導電層の詳細は、上記Ｃ項で説明したとおりである。すなわち、光透過性導電ガラスフィルム１１０は、第１インジウム系導電性酸化物層２１と、金属層２２と、第２インジウム系導電性酸化物層２３とを、ガラスフィルム１０側からこの順に備える。
　光透過性導電ガラスフィルムの厚みは、例えば、２０μｍ以上、好ましくは、５０μｍ以上であり、また、例えば、２００μｍ以下、好ましくは１５０μｍ以下である。
　光透過性導電ガラスフィルムの可視光透過率は、例えば、６０％以上、好ましくは、８０％以上、より好ましくは、８５％以上であり、また、例えば、９５％以下である。本発明においては、第１酸化物層と第２酸化物層との間に金属層を配置することにより、該金属層の可視光反射率が高い場合であっても、可視光透過率が高い光透過性導電ガラスフィルムを得ることができる。
Ｆ．ＥＣ調光部材の製造方法
　ＥＣ調光部材は、任意の適切な方法により製造され得る。以下、ＥＣ調光部材の製造方法の代表例を示す。
　ＥＣ調光部材を製造するには、まず、光透過性導電ガラスフィルムを作製し、次いで、光透過性導電ガラスフィルムにＥＣ調光層を形成する。
　光透過性導電ガラスフィルムは、ガラスフィルム上に、第１酸化物層、金属層および第２の酸化物層を形成して得られる。これら各層の形成方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。１つの実施形態においては、乾式法が用いられる。より具体的には、乾式法として、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。好ましくは、マグネトロンスパッタリング法等のスパッタリング法が用いられる。
　スパッタリング法で用いられるガスとしては、例えば、Ａｒなどの不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素などの反応性ガスを併用することができる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比は、特に限定されず、反応性ガスの流量の、不活性ガスの流量に対する比で、例えば、０．１／１００以上、好ましくは、１／１００以上であり、また、例えば、５／１００以下である。１つの実施形態においては、第１酸化物層の形成において、ガスとして、好ましくは、不活性ガスおよび反応性ガスが併用される。金属層の形成において、ガスとして、好ましくは、不活性ガスが単独使用される。第２酸化物層の形成において、ガスとして、好ましくは、不活性ガスおよび反応性ガスが併用される。
　スパッタリング法を採用する場合、ターゲット材としては、各層を構成する上述の無機酸化物または金属が挙げられる。
　スパッタリング法で用いられる電源には限定はなく、例えば、ＤＣ電源、ＭＦ／ＡＣ電源およびＲＦ電源の単独使用または併用が挙げられ、好ましくは、ＤＣ電源が挙げられる。
　光透過性導電層は、必要に応じて、エッチングによって、配線パターンなどのパターン形状に形成してもよい。
　ＥＣ調光層は、公知の材料を用いることができる。ＥＣ調光層と、第２インジウム系導電性酸化物層とが接触するように、ＥＣ調光層を光透過性導電ガラスフィルムの上面に配置する。これによって、ＥＣ調光部材が得られる。なお、上記した製造方法を、ロールトゥロール方式で実施できる。また、一部または全部をバッチ方式で実施することもできる。
Ｇ．エレクトロクロミック調光素子
　図３は、本発明の１つの実施形態によるエレクトロクロミック調光素子（ＥＣ調光素子）の概略断面図である。この実施形態によるＥＣ調光素子２００は、ＥＣ調光部材１００と、ＥＣ調光部材１００の片側に配置された電極基板（上側電極基板）１２０とを備える。ＥＣ調光部材１００としては、Ａ項～Ｄ項で説明したＥＣ調光部材が用いられ得る。電極基板１２０は、ＥＣ調光部材１１０のＥＣ調光層３０側に配置され得る。１つの実施形態においては、ＥＣ調光素子２００は、ＥＣ調光部材１１０と電極基板１２０のみから構成される。
　電極基板１２０としては、上記光透過性導電ガラスフィルム１１０が用いられ得る。すなわち、電極基板１２０は、光透過性導電層２０と、ガラスフィルム１０とを、ＥＣ調光部材１００からこの順に備え得る。このように電極基板１２０（光透過性導電ガラスフィルム１１０）が配置されたＥＣ調光素子１２０は、一対の光透過性導電性フィルム１１０の間に、ＥＣ調光層３０が配置された構成であり得る。なお、上記のとおり、電極基板１２０と対向して配置される光透過性導電ガラスフィルム１１０は、ＥＣ調光素子の下側電極として機能し得る。
　本発明のＥＣ調光素子は、光透過性導電層の表面抵抗値が低く、低抵抗である。そのため、ＥＣ調光層の応答性および省エネルギーに優れる。また、上記ＥＣ調光素子は、ガラスフィルムを備え、ガラス板同等の耐擦傷性およびバリア性を有するため、高い信頼性を有する。具体的には、樹脂フィルムを基材として用いた場合に生じ得る不具合（例えば、水分などの環境因子の影響による外観不良等の不具合）を回避して、高い信頼性を有する。さらに、ガラスフィルムはフレキシブル性に優れるため、ロールトゥロール方式での製造が可能であり、生産性が向上する。
　以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。
［実施例１］
（ガラスフィルムの用意）
　　厚みが１００μｍのガラスフィルムロールを用意した。
（第１インジウム系導電性酸化物層（第１酸化物層）の形成）
　次いで、ガラスフィルムロールを真空スパッタ装置に設置して、未搬送時の気圧が４×１０－３Ｐａとなるまで真空排気した（脱ガス処理）。この時、スパッタリングガス（ＡｒおよびＯ２）を導入しない状態で、ガラスフィルムの一部を搬送し、２×１０－２Ｐａまで気圧が上がることを確認した。これにより、ガラスフィルムロールに十分な量のガスが残存していることを確認した。
　次いで、ガラスフィルムロールを繰り出しながら、ガラスフィルムの上面に、スパッタリングにより、非晶質ＩＴＯからなり、厚みが４０ｎｍである第１インジウム系導電性酸化物層を形成した。具体的には、ＡｒおよびＯ２を導入した気圧０．３Ｐａの真空雰囲気下（流量比はＡｒ：Ｏ２＝１００：１．４）で、直流（ＤＣ）電源を用いて、１２質量％の酸化スズと８８質量％の酸化インジウムとの焼結体からなるターゲットをスパッタリングした。
（金属層の形成）
　Ａｇ－Ｃｕ合金からなり、厚みが８ｎｍである金属層を、スパッタリングにより、第１インジウム系導電性酸化物層の上面に形成した。具体的には、Ａｒを導入した気圧０．３Ｐａの真空雰囲気で、電源として、直流（ＤＣ）電源を用い、Ａｇ合金（三菱マテリアル社製、品番「Ｎｏ．３１７」）をスパッタリングした。
（第２インジウム系導電性酸化物層（第２酸化物層）の形成）
　非晶質ＩＴＯからなり、厚みが３８ｎｍである第２インジウム系導電性酸化物層を、金属層の上面に、スパッタリングにより、形成した。具体的には、ＡｒおよびＯ２を導入した気圧０．４Ｐａの真空雰囲気下（流量比はＡｒ：Ｏ２＝１００：１．５）で、直流（ＤＣ）電源を用いて、１２質量％の酸化スズと８８質量％の酸化インジウムとの焼結体からなるターゲットをスパッタリングした。
　上記の操作により、ガラスフィルムの上に、順に、第１インジウム系導電性酸化物層、金属層および第２インジウム系導電性酸化物層が形成された光透過性導電ガラスフィルムを得た。
　得られた光透過性導電ガラスフィルムを、大気雰囲気下で１４０℃、３０分の条件で、加熱した。
［比較例１］
　第１インジウム系導電性酸化物層の厚みを３０ｎｍとし、金属層および第２インジウム系導電性酸化物層を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして、光透過性導電ガラスフィルムを得た。
［比較例２］
　第１インジウム系導電性酸化物層の厚みを１００ｎｍとし、金属層および第２インジウム系導電性酸化物層を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして、光透過性導電ガラスフィルムを得た。
［評価］
　得られた光透過性導電ガラスフィルムを以下の評価に供した。結果を表１に示す。
（１）光透過性導電層の表面抵抗値
　ＪＩＳ　Ｋ７１９４（１９９４年）の４探針法に準拠して、光透過性導電層の初期の表面抵抗値Ｒ０を測定した。その結果を表１に示す。
（２）可視光透過率
　ヘーズメーター（スガ試験機社製、装置名「ＨＧＭ－２ＤＰ）を用いて、光透過性導電ガラスフィルムの全光線透過率を測定し、可視光透過率とした。
（３）応答性
　実施例および比較例で得られた光透過性導電ガラスフィルムを用い、下記のようにして、５００×５００ｍｍのＥＣ調光素子を製造した。得られたＥＣ調光素子に電流を流し、ＥＣ調光層の色彩が変化する時間を測定した。ＥＣ調光層の色彩が変化する時間が６０秒以内の場合を〇と評価し、６０秒より長い場合を×と評価した。
（ＥＣ調光素子の製造）
　実施例１で得られた光透過性導電ガラスフィルムを２枚準備し、これらをＥＣ調光素子の上側電極基板および下側電極基板として用い、ＥＣ調光素子を製造した。具体的には、市販のＥＣ調光層（エレクトロクロミック化合物層／電解質層／エレクトロクロミック化合物層）の両面に、光透過性導電ガラスフィルムを積層し、ＥＣ調光素子を製造した。
　比較例１および２についても、これらの実験例で得られた光透過性導電ガラスフィルムを用いて、上記同様に、ＥＣ調光素子を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　本発明の光学積層体は電流駆動型の調光装置に好適に用いられる。
　１０　　　ガラスフィルム
　２０　　　光透過性導電層
　２１　　　第１インジウム系導電性酸化物層（第１酸化物層）
　２２　　　金属層
　２３　　　第２インジウム系導電性酸化物層（第２酸化物層）
　３０　　　エレクトロクロミック調光層（ＥＣ調光層）
　３１　　　第１エレクトロクロミック化合物層（第１ＥＣ層）
　３２　　　電解質層
　３３　　　第２エレクトロクロミック化合物層（第２ＥＣ層）
１００　　　エレクトロクロミック調光部材（ＥＣ調光部材）
１１０　　　光透過性導電ガラスフィルム
２００　　　エレクトロクロミック調光素子

 

Claims (7)

  1. 　ガラスフィルムと、光透過性導電層と、エレクトロクロミック調光層とをこの順に備え、
    　該光透過性導電層が、第１インジウム系導電性酸化物層と、金属層と、第２インジウム系導電性酸化物層とを、該ガラスフィルム側からこの順に備える、
    　エレクトロクロミック調光部材。
  2. 　前記光透過性導電層の表面抵抗値が、５０Ω／□以下である、請求項１に記載のエレクトロクロミック調光部材。
  3. 　前記第１インジウム系導電性酸化物層および前記第２インジウム系導電性酸化物層が、非晶質膜である、請求項１に記載のエレクトロクロミック調光部材。
  4. 　前記ガラスフィルムの厚みが、２０μｍ～２００μｍである、請求項１に記載のエレクトロクロミック調光部材。
  5. 　ガラスフィルムと、該ガラスフィルムの片側に配置された光透過性導電層とを備え、
    　該光透過性導電層が、第１インジウム系導電性酸化物層と、金属層と、第２インジウム系導電性酸化物層とを、該ガラスフィルム側からこの順に備える、
    　光透過性導電ガラスフィルム。
  6. 　請求項１に記載のエレクトロクロミック調光部材に用いられる、請求項５に記載の光導電性ガラスフィルム。
  7. 　請求項１に記載のエレクトロクロミック調光部材と、
    　電極基板とを備え、
    　該電極基板が、該エレクトロクロミック調光部材の前記エレクトロクロミック調光層側に配置される、
    　エレクトロクロミック調光素子。
PCT/JP2018/032372 2017-09-29 2018-08-31 エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電ガラスフィルムおよびエレクトロクロミック調光素子 Ceased WO2019065080A1 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201880062539.6A CN111149049A (zh) 2017-09-29 2018-08-31 电致变色调光构件、透光性导电玻璃薄膜及电致变色调光元件
KR1020207008207A KR20200056391A (ko) 2017-09-29 2018-08-31 일렉트로크로믹 조광 부재, 광 투과성 도전 유리 필름 및 일렉트로크로믹 조광 소자
US16/651,371 US20200292903A1 (en) 2017-09-29 2018-08-31 Electrochromic dimming member, light-transmitting conductive glass film and electrochromic dimming element
JP2019544468A JPWO2019065080A1 (ja) 2017-09-29 2018-08-31 エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電ガラスフィルムおよびエレクトロクロミック調光素子
EP18862327.6A EP3690542A4 (en) 2017-09-29 2018-08-31 ELECTROCHROME DIMMING PART, TRANSLUCENT CONDUCTIVE GLASS FILM AND ELECTROCHROME DIMMING ELEMENT
JP2022161226A JP2022176332A (ja) 2017-09-29 2022-10-05 エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電ガラスフィルムおよびエレクトロクロミック調光素子

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017191106 2017-09-29
JP2017-191106 2017-09-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019065080A1 true WO2019065080A1 (ja) 2019-04-04

Family

ID=65901570

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2018/032372 Ceased WO2019065080A1 (ja) 2017-09-29 2018-08-31 エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電ガラスフィルムおよびエレクトロクロミック調光素子

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20200292903A1 (ja)
EP (1) EP3690542A4 (ja)
JP (2) JPWO2019065080A1 (ja)
KR (1) KR20200056391A (ja)
CN (1) CN111149049A (ja)
WO (1) WO2019065080A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20230325014A1 (en) * 2020-09-01 2023-10-12 Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd. Transparent electrode laminate and touch sensor including same

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7628397B2 (ja) * 2020-05-25 2025-02-10 日東電工株式会社 光透過性導電性シート、タッチセンサ、調光素子、光電変換素子、熱線制御部材、アンテナ、電磁波シールド部材および画像表示装置
CN115291449B (zh) * 2022-08-12 2024-08-20 台玻(青岛)光电科技有限公司 一种电致变色镜子的导电镜
CN115933263B (zh) * 2022-09-27 2025-09-09 广东欧莱高新材料股份有限公司 一种制备电致变色器件的方法及电致变色器件
EP4726466A1 (en) 2023-06-12 2026-04-15 Sumitomo Bakelite Co.Ltd. Electrochromic lens, electrochromic sheet, and electrochromic device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006526176A (ja) * 2003-05-06 2006-11-16 ジェンテックス コーポレイション 車両用バックミラー要素及びこれらの要素を組み込むアセンブリ
JP2008070900A (ja) * 2001-10-16 2008-03-27 Ppg Ind Ohio Inc ポリマーエレクトロクロミックデバイス
US20100321757A1 (en) * 2009-06-22 2010-12-23 Cammenga David J Vehicle rearview mirror with spotter mirror
JP2015172666A (ja) 2014-03-12 2015-10-01 日本電気硝子株式会社 エレクトロクロミック素子および表示装置
WO2017047070A1 (ja) * 2015-09-15 2017-03-23 日本電気株式会社 電子表示装置とその駆動方法
JP2017092033A (ja) * 2015-11-09 2017-05-25 日東電工株式会社 光透過性導電フィルムおよび調光フィルム

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0523487U (ja) * 1991-09-09 1993-03-26 三井東圧化学株式会社 パネルヒーター
CA2168529A1 (en) * 1995-02-02 1996-08-03 Tatsuichiro Kon Transparent conductive sheet
JP4970668B2 (ja) * 2000-07-19 2012-07-11 パナソニック株式会社 電極付き基板の製造方法
US6798556B2 (en) * 2003-01-31 2004-09-28 Rockwell Scientific Licensing, Llc. Locally-switched reversible electrodeposition optical modulator
EP2426552A1 (en) * 2006-03-03 2012-03-07 Gentex Corporation Electro-optic elements incorporating improved thin-film coatings
US8368992B2 (en) * 2006-03-03 2013-02-05 Gentex Corporation Electro-optical element including IMI coatings
KR20120031185A (ko) * 2009-06-30 2012-03-30 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 투명 도전막
US11205926B2 (en) * 2009-12-22 2021-12-21 View, Inc. Window antennas for emitting radio frequency signals
FR2968414B1 (fr) * 2010-12-06 2013-07-05 Saint Gobain Dipositif electrochimique a proprietes de transmission optique et/ou energetique electrococommandables
JP2014194541A (ja) * 2013-02-26 2014-10-09 Nippon Electric Glass Co Ltd 電子デバイスの製造方法
WO2015037601A1 (ja) * 2013-09-12 2015-03-19 旭硝子株式会社 モールドの凹凸パターンを転写した物品、物品の製造方法、および光学パネルの製造方法
CN105385371B (zh) * 2014-09-01 2020-06-23 日东电工株式会社 透明导电膜用承载膜及层叠体
HK1245900A1 (zh) * 2014-12-19 2018-08-31 View, Inc. 减少电致变色装置中汇流条下方的缺陷
JP6739310B2 (ja) * 2015-10-28 2020-08-12 日東電工株式会社 光透過性導電フィルム、その製造方法、調光フィルムおよびその製造方法
CN205405029U (zh) * 2016-02-26 2016-07-27 研创应用材料（赣州）股份有限公司 一种高转变速率的电致变色膜

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008070900A (ja) * 2001-10-16 2008-03-27 Ppg Ind Ohio Inc ポリマーエレクトロクロミックデバイス
JP2006526176A (ja) * 2003-05-06 2006-11-16 ジェンテックス コーポレイション 車両用バックミラー要素及びこれらの要素を組み込むアセンブリ
US20100321757A1 (en) * 2009-06-22 2010-12-23 Cammenga David J Vehicle rearview mirror with spotter mirror
JP2015172666A (ja) 2014-03-12 2015-10-01 日本電気硝子株式会社 エレクトロクロミック素子および表示装置
WO2017047070A1 (ja) * 2015-09-15 2017-03-23 日本電気株式会社 電子表示装置とその駆動方法
JP2017092033A (ja) * 2015-11-09 2017-05-25 日東電工株式会社 光透過性導電フィルムおよび調光フィルム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20230325014A1 (en) * 2020-09-01 2023-10-12 Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd. Transparent electrode laminate and touch sensor including same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022176332A (ja) 2022-11-25
EP3690542A1 (en) 2020-08-05
KR20200056391A (ko) 2020-05-22
EP3690542A4 (en) 2021-07-07
JPWO2019065080A1 (ja) 2020-10-22
CN111149049A (zh) 2020-05-12
US20200292903A1 (en) 2020-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2022176332A (ja) エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電ガラスフィルムおよびエレクトロクロミック調光素子
JP5667189B2 (ja) エレクトロクロミックデバイス、エレクトロクロミックデバイスを組み込んだアセンブリ、および／またはそれらの製造方法
JP4888119B2 (ja) 透明導電膜及びその製造方法、並びに透明導電性基材、発光デバイス
JP6839581B2 (ja) エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電フィルムおよびエレクトロクロミック調光素子
KR102266536B1 (ko) 금속산화물 박막, 금속산화물 박막을 증착하기 위한 방법 및 금속산화물 박막을 포함하는 장치
KR101862200B1 (ko) 전기변색 기판 시스템, 전기변색 기판 시스템이 이용되는 스마트 윈도우 기판 시스템 및 스마트 윈도우 기판 시스템의 제작 방법
KR20150093835A (ko) 가요성 전자기기에 대한 개선된 은계 전도성 층
JP2007250430A (ja) 透明導電膜、およびこれを用いた透明導電性フィルム
KR101700884B1 (ko) 망간주석산화물계 투명전도성산화물 및 이를 이용한 다층투명도전막 그리고 그 제조방법
KR20150039373A (ko) 투명전극 및 이를 포함하는 전자 소자
US10457591B2 (en) Substrate provided with a stack having thermal properties comprising at least one nickel oxide layer
CN112470065B (zh) 电化学设备及其形成方法
WO2017170757A1 (ja) エレクトロクロミック調光部材、光透過性導電フィルムおよびエレクトロクロミック調光素子
US10457590B2 (en) Substrate provided with a stack having thermal properties comprising at least one nickel oxide layer
KR20150080849A (ko) 복합체 투명 전극
JP3850865B2 (ja) 導電性積層体
JPWO2013099768A1 (ja) ガラス基板およびガラス基板の製造方法
WO2022208161A1 (en) Electrochromic device containing an optically transparent silver layer and an electrically conductive, optically transparent oxide layer, and method of forming the same
KR20180088432A (ko) 적어도 1개의 니켈 산화물 층을 포함하는 열 특성을 갖는 스택이 제공된 기판
KR101991047B1 (ko) 전도성 적층체, 이의 제조방법, 이를 포함하는 투명 전극 및 전자소자
KR20140039399A (ko) 반사방지 및 저반사 코팅층을 적용하여 투과율을 향상시킨 터치스크린
KR20200127426A (ko) 질소 도핑 산화물 기반 투명 전도성 산화물 박막 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 18862327

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2019544468

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2018862327

Country of ref document: EP

Effective date: 20200429

WWW Wipo information: withdrawn in national office

Ref document number: 2018862327

Country of ref document: EP