WO2019076492A1 - Dünnglassubstrat, insbesondere borosilicatglas-dünnglassubstrat verfahren und vorrichtung zu dessen herstellung - Google Patents

Dünnglassubstrat, insbesondere borosilicatglas-dünnglassubstrat verfahren und vorrichtung zu dessen herstellung Download PDF

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WO2019076492A1
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glass substrate
thin glass
thin
viscosity
glass
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Armin Vogl
Thomas Schmiady
Thilo Zachau
Michael Meister
Jochen Alkemper
Christian Kunert
Lutz Klippe
Rüdiger Dietrich
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Schott AG
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
    • C03B18/02—Forming sheets

Definitions

  • Thin glass substrate in particular borosilicate glass thin glass substrate, method and device for the same
  • the invention relates to a thin glass substrate, in particular a borosilicate glass thin glass substrate, a method and an apparatus for its production. Furthermore, measuring methods for determining the optical quality are in particular produced according to the method
  • Thin-glass substrates indicated. Thin glass substrates are of increasing importance, also in automotive engineering, since not only can these reduce the weight of the motor vehicle, but also the optical properties of its glazing can be significantly influenced.
  • optical data from the environment of the motor vehicle arises an increasing demand for optically high quality
  • the document DE 23 09 445 AI relates to a method for Production of thin float glass of less than 2.5 mm thickness, in which molten glass is poured on a metal bath in free fall, where it is deposited in the
  • the document JP 7-53223 A describes cooling means referred to as overhead coolers for improving the
  • Hot forming system also heat can be withdrawn, but conventionally only to a small extent.
  • Document AU 4631972 A describes glass before floating through a component for flow rate regulation, in particular to let an aperture with a control slide occur, in which this is then heated to temperatures of about 1250 ° C to 1300 ° C and thereby a viscosity of about 10 third Poise accepts.
  • the international application WO 2011/103801 A1 describes a disk arrangement for high-speed trains, in which a glass of this arrangement, a boron oxide and may in particular contain a borosilicate glass.
  • the invention is based on the object
  • the invention also relates to provide a thin glass substrate, in particular a borosilicate glass thin glass substrate, with improved optical quality, a method and an apparatus for its production. Furthermore, the invention also relates
  • drawing strips are provided with a method for producing a thin glass substrate, preferably for the continuous production of a thin glass substrate, in particular a thin glass substrate with reduced drawing strips,
  • the viscosity of the molded or at least partially formed glass defined for the thin glass substrate to be obtained and the heat-formed glass defined before delivery to a device for hot forming in its viscosity, in particular by a defined cooling is set. All subsequent information, in particular numerical Information on the viscosity is given in lg n / dPas, even if this is for the sake of brevity and as on this
  • Substrate in particular thin glass substrate.
  • lg ⁇ / dPas was 3.47, which in the following detailed description still
  • a thin glass substrate as
  • Thin glass substrate with reduced drawing strips in which protrusions on one of the main surfaces of the thin glass substrate, in particular elongated elevations, which rise substantially in the normal direction and in which a longitudinal extension is greater than twice, preferably three times, more preferably five times a transverse extent of the survey, which have a height, on average, adjusted for wedge-shaped Thickness variations and warping with arithmetic averaging of an analysis area of 10 * 10 cm 2 , preferably in the middle of a hot-formed glass ribbon perpendicular to the drawing direction, smaller than 100 nm, preferably smaller than 90 nm, particularly preferably smaller than 80 nm and smaller in a borosilicate glass thin glass substrate than 85 nm, preferably less than 75 nm and particularly preferably less than 65 nm, and in which the transverse extent of the elevation is in each case less than 40 mm.
  • Thin is defined by the manufacturing process floating glass, especially borosilicate glass. During floating, an equilibrium thickness of approx. 7 mm arises during the pure outflow of the hot glass, in particular borosilicate glass, onto liquid tin. A thin one
  • Borosilicate glass in the context of this invention after the outflow of the hot glass, in particular
  • Borosilicate glass stretched in length and width such that sets a glass thickness of less than or equal to 5 mm.
  • Previous mathematical models have suggested that higher processing temperatures also provide higher optical quality, which is why those with a
  • Thin-glass substrates have hitherto been emphasized to cover the distance between the melting furnace delivering the heat-forming glass and the one comprising liquid metal
  • Thin glass substrate is adjusted before the lip stone for the delivery of the liquid glass, the Spout, adjusted, in particular before delivery to a metal bath.
  • Float plants are regularly constructively not designed to allow intervention in front of the spout or lipstone.
  • the terms “before” and “after” should initially have spatial significance. in this connection the term “before” refers to a flow or
  • Viscosity is adjusted so that it is set within defined limits. This means
  • the viscosity of the molded or at least partially shaped glass is preferably at the channel end of the melting tank and before the component for
  • This equation is not necessarily a linear one
  • the viscosity is r ⁇ 2 for a second distance with a distance from 12 m to the component for throughput regulation or tweel up to a distance of 16 m to the component for throughput regulation or tweel for the viscosity r ⁇ 2 the following equation applies, where y2 respectively the distance to the place immediately behind the component for
  • This equation is not necessarily a linear one
  • Component for flow rate regulation "or" behind the component for flow rate regulation " even if not explicitly stated, the distance in the Y direction from a location that is immediately behind the component for flow regulation 17 or on the downstream side of the component to Throughput regulation 17 is up to the place up to which this distance or a corresponding distance is respectively indicated.
  • Thin glass substrate is the temperature of the glass to be molded or at least partially formed in the glass, for which the subsequent measurements of the drawing strips or elongated elevations on the surface and its thickness for the first and second series of measurements are described, preferably at the channel end of the melting tank and in front of the component for throughput regulation or tweel,
  • Distance in draw direction from 12 m to the component for flow rate regulation or tweel at least 720 ° C and not more than 760 ° C.
  • Thin glass substrate is the temperature of the borosilicate glass to be molded or at least partially formed in the glass for which the following measurements of the
  • a defined cooling of the glass comprises in According to this disclosure, a lowering of the temperature of the glass to be heat-formed before or during its hot-forming, in which the indicated temperatures also
  • Tin baths can be controlled, and also, like the
  • Temperature can be adjusted in different tub sections or bays of tin baths.
  • a drawing method in particular a float method, a dow-draw method and / or a fusion method, in particular an overflow fusion downdraw method, is preferably used.
  • a Li-Al-Si glass, an Al-Si glass, a borosilicate glass advantageously, for hot-forming the thin glass substrate, a Li-Al-Si glass, an Al-Si glass, a borosilicate glass,
  • borosilicate glass in particular a borosilicate glass containing the following components (in% by weight):
  • CaO 0 - 3 can be used. In a method of manufacturing a thin glass substrate, in one embodiment, for hot forming the
  • a thin glass substrate comprising a borosilicate glass having the following composition and comprising:
  • Li 2 0 0-1.0 wt .-% Li 2 0 0-1.0 wt .-%, or a borosilicate glass, in particular
  • a Li-Al-Si glass in particular with a Li20 content of 4.6 wt .-% to 5.4 wt .-% and a Na20 content of 8.1 wt .-% to 9, 7 wt .-% and an A1203 content of 16 wt .-% to 20 wt .-% are used.
  • a particularly preferred method for producing a thin glass substrate are surveys on one of Main surfaces of the thin glass substrate, in particular elongated elevations, which rise substantially in the normal direction, formed, which a
  • Draw direction smaller than 100 nm, preferably smaller than 90 nm, more preferably smaller than 80 nm and in a borosilicate glass thin glass substrate smaller than 85 nm, preferably smaller than 75 nm and more preferably smaller than 65 nm and in which the transverse extent of
  • Each elevation is less than 40 mm.
  • the thin glass substrate is substantially wedge shaped by the hot forming
  • the thin glass substrate in one embodiment by the hot forming, further has a warpage over a length of 1 m perpendicular to the drawing direction of less than 600 ⁇ m, borosilicate glass even less than 300 ⁇ m.
  • the thin-glass substrate may preferably have an average thickness arithmetically averaged over one
  • Thin glass substrate of at least 10 cm * 10 cm from 0.3 mm to 2.6 mm preferably obtained a thickness of 0.7 mm to 2.5 mm, more preferably a thickness of about 0.7 mm or a thickness of about 2.54 mm.
  • thicknesses of the glass substrate to 10 mm or even up to 12 mm with all the advantages of
  • Invention uses and can be obtained a reduction in the height of the drawing strips.
  • the device according to the invention for producing a thin glass substrate, in particular a thin glass substrate with reduced pull strips, in particular for carrying out a method disclosed here comprises a device for melting, a device for hot forming and a device for defined adjustment of the viscosity of the glass to be formed into a thin glass substrate, in which a, in particular the device for the defined adjustment of the viscosity of the glass to be formed into a thin glass substrate is arranged in front of the device for hot forming.
  • Glass is placed in front of the lipstone or spout in particularly preferred embodiments.
  • the device for the defined adjustment of the viscosity of the glass to be formed into a thin glass substrate also before the component for throughput regulation or tweeling, in particular directly in front of the component for
  • the device for defined adjustment of the viscosity comprises a cooling device.
  • the device for defined adjustment of the viscosity may comprise fluid-flow areas, in particular regions through which water flows, which absorb heat from the glass to be hot-formed.
  • Detecting glass in particular with a maximum deviation of 10 ° C, and / or detect the viscosity of the glass to be heat-formed, in particular with a maximum
  • the device for hot forming can in preferred
  • Embodiments a pulling device, a
  • Floating device in particular a down-draw
  • an overflow-down-draw merger pulling device In particular, an overflow-down-draw merger pulling device.
  • Thin-glass substrates in particular elongated
  • Elevations which rise substantially in the normal direction and in which a longitudinal extent greater than two times, preferably three times, more preferably five times a transverse extent of the survey, and which have a height, adjusted on average, adjusted by wedge-shaped thickness variations and bends in arithmetic Averaging an analysis area of 10 * 10 cm 2 , preferably in the middle of a hot-formed
  • Glass bands perpendicular to the drawing direction smaller than 100 nm, preferably smaller than 90 nm, more preferably smaller than 80 nm and in a borosilicate glass thin glass substrate smaller than 85 nm, preferably smaller than 75 nm and
  • Measuring method for example by mechanical
  • Thin glass substrate essentially a wedge-shaped
  • the thin glass substrate in preferred embodiments may have an average thickness, averaged over an area of the first and second major surfaces of the thin glass substrate of at least 10 cm * 10 cm, from 0.5 mm to 2.6 mm, preferably a thickness of 0.7 to 2.5 mm, more preferably a thickness of about 0.7 mm or a thickness of about 2.54 mm obtained. Furthermore, it is also possible to have an average thickness, averaged over an area of the first and second major surfaces of the thin glass substrate of at least 10 cm * 10 cm, from 0.5 mm to 2.6 mm, preferably a thickness of 0.7 to 2.5 mm, more preferably a thickness of about 0.7 mm or a thickness of about 2.54 mm obtained. Furthermore, it is also possible
  • the thin glass substrate may comprise a borosilicate glass and hereby contain the following components (in% by weight):
  • the thin glass substrate may also comprise a borosilicate glass having the following composition:
  • the thin glass substrate may comprise a Li-Al-Si glass, an Al-Si glass, a borosilicate glass or a K-Na-Si glass.
  • the thin glass substrate preferably comprises a Li-Al-Si glass, in particular a lithium-aluminum silicate glass having a Li 2 O content of from 4.6% by weight to 5.4% by weight and a Na 2 O 2. Content of 8.1 wt .-% to 9.7 wt .-% and an Al2O3 content of 16 wt .-% to 20 wt .-%.
  • a Li-Al-Si glass in particular a lithium-aluminum silicate glass having a Li 2 O content of from 4.6% by weight to 5.4% by weight and a Na 2 O 2. Content of 8.1 wt .-% to 9.7 wt .-% and an Al2O3 content of 16 wt .-% to 20 wt .-%.
  • the thin glass substrate disclosed herein can be used in a
  • Motor vehicle window in particular a composite disk comprises.
  • a windshield projection device in particular a head-up display, for vehicles operated on land, on or in the water and in the air, in particular motor-driven vehicles, can advantageously have a thin-glass substrate disclosed here, in particular
  • Back reflection surface include.
  • the use of a is particularly advantageous
  • Thin-glass substrate also as part of a laminated glass pane and in particular as part of a vehicle window pane.
  • the inventors have also found that not every optical defect of a thin glass substrate is the same must lead to disturbances or a reduction of its optical properties.
  • Drawing strips typically have a transverse dimension of less than 40 mm.
  • shadow casting methods have been used, which are described, for example, in DIN 52305.
  • Head-up displays used in motor vehicles are used, but unlike viewing already the optical quality of only one of the two main surfaces of significant importance. As far as a measurement in
  • Figure 1 is a schematic sectional view of a
  • Thin glass substrate of a preferred embodiment Thin glass substrate of a preferred embodiment
  • Figure 2 is a schematic sectional view of a
  • Figure 3 is a schematic plan view of a part of a
  • Thin glass substrate of a preferred embodiment Thin glass substrate of a preferred embodiment
  • Embodiment in particular to a
  • Figure 4 shows the course of the viscosity of the glass located on the float bath in flow
  • Figure 5 is a schematic representation of a measuring field and an analysis field on the main surface of a thin glass substrate for measuring the optical path length by means of a
  • Laser interferometer in particular a phase shift interferometer
  • Figure 6 is a perspective view of the with
  • Laser interferometer obtained surface data, in particular the surface structure of a
  • Figure 7 is a grayscale representation of the
  • Laser interferometer obtained surface data of a thin glass substrate, on which the first and second series of measurements were measured at which the thickness values of drawing strips can be recognized as gray values,
  • FIG. 8 shows a gray scale representation of a derivative in the X direction of the surface data of a surface obtained with the laser interferometer
  • FIG. 9 shows a grayscale representation of optical powers of the laser interferometer obtained
  • FIG. 10 shows a grayscale representation of optical powers of the laser interferometer obtained
  • FIG. 11 a schematic representation of a measuring field as well as of an analysis field on the main surface of a thin glass substrate for measuring the optical path length by means of a
  • White light interferometer in particular a Fourier transform white light interferometer, FRT interferometer,
  • FIG. 12 shows a grayscale representation of FIG FRT interferometer obtained surface data of a thin glass substrate on which the first and second series of measurements were carried out, in which the values of the elevations on the upper main surface of drawing strips are to be recognized as gray values,
  • FIG. 13 shows a grayscale representation of optical powers of the FRT interferometer
  • FIG. 14 shows a grayscale representation of optical powers of those obtained with the FRT interferometer
  • FIG. 15 shows a grayscale representation of FIG
  • Figures 17 and 18 are each a schematic representation of a laminated glass according to preferred
  • Embodiments of the invention each having a reflection surface for a head-up display.
  • the details of the thickness D of the thin glass substrate correspond, as can be seen in FIG. 17, to the distance between the two
  • Main surfaces of the thin glass substrate and are each to measure perpendicular to these main surfaces, as shown by the two arrows next to the reference numeral D in Figure 17.
  • the thin glass substrate may preferably be averaged over the area of the first and second main surfaces of the thin glass substrate of at least 10 cm * 10 cm by 0.3 mm to 2.6 mm by the hot forming , preferably obtained a thickness of 0.7 mm to 2.5 mm, more preferably obtained a thickness of about 0.7 mm or a thickness of about 2.54 mm.
  • Figure 2 which overall, as the device according to the invention, the reference numeral 1 carries.
  • This float plant also has a melting tank
  • melting furnace 2 which is supplied in a known manner to be melted glass batch 3 and heated by burners 4 until a glass melt 5 of the desired composition is formed.
  • the tin bath 7 can be arranged in a float bath oven 9, which likewise has burners 10, by means of which the temperature of the glass to be hot-formed is adjustable.
  • the molten, hot-forming glass 8 is inclined obliquely downward, also referred to as a lipstone or spout
  • top rollers 12 as traction device which is formed on the tin bath 7 forming glass band 13 is influenced in its propagation movement from the side in its further movement defined.
  • FIGS. 1 and 2 only two top rollers are shown by way of example, however, more than two of these top rollers can be present and used as required.
  • the glass ribbon 13 can optionally be transferred into a cooling oven 14, which can also have burners 15 in order to subject the glass ribbon to a defined temperature reduction.
  • the glass ribbon 13 is then available for further processing, in particular separation into glass panes or glass substrates.
  • Assemblies or properties for example of hot-forming glasses or thin glass substrates to be able to represent clearer, is first referred to the Cartesian coordinate system shown in Figure 3, which defines an orthogonal X, Y and Z direction, to which all the information in the following various figures relate.
  • the X- and Y-direction biases a plane which extends horizontally and thus also extends substantially parallel to the surface of the tin bath 7. Running perpendicular to this plane, the Z-direction extends upward and hereby also defines the normal direction with respect to the glass ribbon 13.
  • Figure 1 as an apparatus for producing a thin glass substrate, in particular a thin glass substrate with reduced
  • Drawing strip comprising floating aggregate designated as a whole by the reference numeral 1 ' , which has all the devices described with reference to FIG.
  • the melting tank 2 ' has a channel 6 ' for transferring the molten, hot-forming glass 8 to the tin bath 7 ' .
  • the component for flow rate regulation of the glass stream which is also referred to as Tweel arranged.
  • Tweel the component for flow rate regulation of the glass stream
  • a feeder channel may be arranged, which in this case the channel 6, in particular via a forms longer than shown in Figure 1 route.
  • a device 18 for the defined adjustment of the viscosity of the molten Viewed in the direction of flow of the molten and heat-formed glass 8 is a device 18 for the defined adjustment of the viscosity of the molten and
  • Throughput regulation 17 and arranged in front of the lip stone or spout 11.
  • the device 18 for the defined adjustment of the viscosity may also be arranged immediately before the lip stone or spout.
  • This device 18 for the defined setting of
  • Viscosity includes a chamber 19, which differs from the
  • the device 18 includes the defined
  • the walls 22, 23, and 25 of the chamber 19 can absorb heat from the glass to be heat-formed by adjusting its temperature, for example defined by further cooling devices.
  • the chamber 19 may be formed with its walls 22, 23, 24 and 25 also spatially separate from the melting tank 2 ' and have high temperature resistant metallic walls to provide improved heat dissipation available, as described in more detail below with reference to Figure 3 is described.
  • Embodiments all information on viscosity and temperature, which preferably for the channel end of
  • the defined viscosity adjustment device 18 comprises at least one
  • Cooling device by means of which the temperature and thus also the viscosity of the glass 8 to be formed is defined adjustable.
  • Viscosity measurements are well known to a person skilled in the art.
  • a viscosity measurement or determination of the viscosity n can also by a measurement of the temperature T of the respective glass at the specified location and a corresponding subsequent conversion of the temperature T in viscosity values n be made.
  • This temperature-viscosity curve for a conversion of the temperature values T into viscosity values n can be used for the respective glass.
  • This temperature-viscosity curve can be determined beforehand by measuring, for each temperature T of the glass to be measured, its viscosity n in a conventional manner.
  • the corresponding coefficients To, A and B for the respective glass can first be determined experimentally and then used to determine the viscosity n.
  • the value of the measured temperature T then defines the
  • Non-contact and alternatively or additionally direct temperature measurements in contact with the glass to be measured are known to the person skilled in the art.
  • Corresponding sensors are for example with the sensory device or
  • Unit 26 is described in the context of this disclosure.
  • the sensory device or unit 26 may be in direct glass contact and thus a direct
  • Make temperature measurement or even a Radiation measuring device comprise, which detects the temperature by detecting the spectrum emitted by the glass to be heat-formed 8 on the basis of the spectrum itself and / or the intensity of the emitted radiation.
  • Sensory device 26 may be arranged at a location immediately in front of the tweel 17 and in direct proximity to its front side in the direction of flow or, as can be seen by way of example in FIG. 1, also be arranged at a small distance from the trough 17. Instead of just one sensory unit 26 can also more
  • Sensory unit also at the beginning of the tub section 1 or Bays 1 thus in a pulling direction of up to 1.5 m to the component for flow regulation or Tweel and also at the beginning of the tub section 4 or Bays 4 and / or at a distance in the drawing direction of be arranged up to 12 m after the component for flow regulation, without this being for the clarity of illustration
  • Drawing strip comprises a device 47 for thermoforming, which will be described in more detail below with reference to Figure 3, which is located in the flow or draw direction behind the device 18 for the defined adjustment of the viscosity and on the
  • the lipstone or spout 8 passes the hot-forming glass 8 onto a tin bath 7 ' , which is in the float bath furnace 9 '.
  • transverse webs 27 to 31 which divide the tin bath into several bays 32 to 37.
  • Bay here in each case a subdivided by these transverse webs tray section is referred to.
  • Reference numeral 32 or Bay 32 begins or begins in
  • Float baths are usually divided into 7 or 8 bays, whereas in Figure 1 only six
  • Figure 3 is further an alternative or additional embodiment of the device 18 to the defined
  • the molten glass 8 is located in a channel 6 ' which leads from the melting tank 2 ', not shown in FIG. 3, to the float bath furnace 9 ' .
  • the walls 45, 46 of the channel 6 ' are made of a high temperature resistant metal, such as platinum
  • the glass 8 can be deprived of heat and also its
  • a pulling device which has a
  • Float device in particular a Floatbadofen 9 ' with a tin bath 7 ' includes.
  • the invention may also include a down-draw drawing device, in particular an overflow-down-draw fusion drawing device, which is not shown in the figures and the method not only a float method but also a dow-draw device.
  • Methods, in particular an overflow merger down-draw method include.
  • Viscosity of the on the float bath 7 ' located glass 8 or glass ribbon 13 in flow or draw direction along the center line M shows, which is also indicated as the Y direction of the Cartesian coordinate system, and in this case the respective viscosity n of the glass 8 or
  • an arrow 48 at a location in the Y direction in front of the component 17 for flow regulation or Tweel 17 and before the lip stone 11 or Spout 11 is indicated.
  • This location in the Y direction is in preferred embodiments immediately before the component 17 for flow regulation or tweeze 17, thus directly in front of its front end seen in the flow direction.
  • statements on "before the component for flow rate regulation” or "before the tweel”, in particular to viscosities or Temperatures are made, these statements relate in preferred embodiments to this location in front of the component for flow rate regulation or to this location before the tweel.
  • these statements refer to a location in the flow direction immediately before the spout.
  • these statements refer to a location in the flow direction immediately before the lipstone.
  • the arrow 49 is located in the Y direction at the location which corresponds in flow or pulling direction the rear end of the component for flow regulation or Tweels 17, and thus also the location immediately behind the component 17 for flow regulation or Tweel 17th
  • the arrow 50 lies in the Y direction at a distance of 1.5 m to this rear end of the component for flow regulation or Tweels 17 and thus at a location which in flow or
  • Draw direction corresponds to the beginning of the Bays 1 in a preferred embodiment.
  • the arrow 51 is in the Y direction at a distance of 12 m to the rear end of the component 17 for flow regulation or Tweels, which in the flow or pulling direction in this preferred embodiment of the beginning of the Bays. 4
  • Means may be a method according to the invention for the production of a thin glass substrate, preferably for the continuous production of a thin glass substrate, in particular a thin glass substrate with a reduced thickness
  • the viscosity n of the glass 8 or at least partially shaped glass 13 to be formed, in particular to be heat-formed is set in a defined manner for the thin-glass substrate to be obtained.
  • This defined adjustment of the viscosity n is carried out prior to delivery to a device for hot forming 47, in particular before delivery to a float bath furnace 9 ' , wherein in particular a defined cooling of the glass 8 to be formed by means of the device 18 is performed.
  • An adjustment of the viscosity n is made in front of the lip stone or the inlet lip for the dispensing of the liquid glass, the spout 11, and takes place in particular before being dispensed onto a metal bath, the tin bath 7 'of the float bath oven 9 ' .
  • a viscosity adjustment can also be done before
  • the viscosity of the glass to be formed is at the channel end of the melting tank 2 ' thus at the end of the channel
  • the temperature of the molded or at least partially formed glass in the glass for which the subsequent measurements of the drawing strips or
  • such intervals for viscosity ⁇ may be given for each value of yi and y2, respectively.
  • Means 18 for defined adjustment of the viscosity forms a part of the melting tank is the end of the channel 6 'of the melting tank 2 ' immediately in front of the component 17 for flow rate regulation or Tweel 17th
  • Frame of this disclosure in each case at least for the center of the glass 8 or glass bands 13, each seen in the X and Z directions.
  • a corresponding center line M, which runs in the X direction in the center of the glass 8 or glass band 13, is shown by way of example in FIG.
  • Thin glass substrate at a throughput of less than 400 t, preferably 200 t, particularly preferably 100 t of glass per day can be realized.
  • Good glass is here understood to mean a glass substrate in which the maximum height H of the elevations described here or thus the maximum height H of the Drawing strips on average with arithmetic averaging, adjusted by wedge-shaped thickness variations and
  • a hot-formed glass ribbon perpendicular to the drawing direction was less than 100 nm and in which the transverse extent of the survey is in each case smaller than 40 mm.
  • Warping is, in the context of this disclosure, measured values of thickness and height when the influence of the wedge-shaped thickness change K and the warp V is reduced to a value of less than 5%.
  • the glass of melt in particular the glass, which is given below in the measurements of the surface and the thickness of the thin glass substrate and from the melting tank 2 ' entered the device 18 for the defined adjustment of the viscosity, in the device 18 at a first temperature for example, 1500 ° C or borosilicate glass, for example, also of 1650 ° C.
  • a second temperature of, for example, 1050 ° C or borosilicate glass, for example, to 1300 ° C, cooled and then with this temperature in the device 47 for
  • the cooling was at least 250 ° C, preferably 300 ° C, more preferably 450 ° C, but in borosilicate glass particularly preferably 350 ° C and a cooling of 500 ° C was possible with the device 18.
  • Embodiments of Preferred Glasses In the method according to the invention,
  • Borosilicate glasses the following components
  • a first preferred borosilicate glass has the following composition and comprises: Si0 2 70-86% by weight
  • a second preferred borosilicate glass is a
  • Aluminosilicate glasses may preferably have the following composition in% by weight:
  • Lithium aluminosilicate glasses may have a composition containing the following components (in
  • a lithium Aluminosilicatgl can be used, comprising
  • 0.1 Fe 2 0 3 preferably 0, 0003-0, 100 Fe 2 0 3
  • Double ring method according to EN 1288-5 of at least 550 N / mm 2 .
  • a preferred embodiment of the invention comprises, for example in a laminated glass, in particular for a motor vehicle, the second disc, a hot-formed by the process according to the invention thin glass substrate with a lithium-aluminum silicate glass with a L12O content of 4.6 wt .-% to 5.4 wt .-% and a Na2 ⁇ 0 content of 8.1 wt .-% to 9.7 wt .-% and an Al2 ⁇ 03 content of 16 wt .-% to 20 wt .-%.
  • a lithium-aluminum silicate glass with a L12O content of 4.6 wt .-% to 5.4 wt .-% and a Na2 ⁇ 0 content of 8.1 wt .-% to 9.7 wt .-% and an Al2 ⁇ 03 content of 16 wt .-% to 20 wt .-%.
  • the first pane in a laminated glass in particular for a motor vehicle, comprises a lithium aluminum silicate glass having a Li 2 O content of 4.6% by weight to 5.4
  • the second pane which is present as a thin glass substrate, comprises the following components in the case of the laminated glass: 58 to 65 wt .-% Si0 2
  • Components Sn0 2 , Ce0 2 , P 2 Os and ZnO to be included in a proportion of a total of 0 wt .-% to 2.5 wt .-%. Another preferred composition range for a
  • Thin glass substrate in particular the second pane comprises:
  • one or more of SnO 2 , CeO 2 , P 2 Os and ZnO may be included in an amount of from 0.25% to 1.6% by weight in total.
  • 17 shows, schematically and not to scale, a laminated glass pane 59 which comprises a first pane 60, a polymerized layer 61 which is arranged between and connects the first pane 60 and the second pane 62, and finally the second pane 62.
  • the laminated glass pane may comprise more than two panes.
  • this may be the case when particularly high mechanical loads are expected and, accordingly, a particularly high strength of the laminated glass pane is desired.
  • the polymerized layer 61 has a thickness
  • the polymer-formed layer by applying monomers on one of the two discs 60, 62 and by starting a
  • the polymeric layer 61 is formed from a composite of films.
  • the films may also comprise PET and / or PE.
  • the layers may have different compositions and physical properties
  • the first disc 60 is formed thicker than the second disc 62. This is for example advantageous if the first disc has a lower intrinsic strength than the disc 62 so that to ensure a total sufficient strength of the laminated glass 59, the Thickness of the first disc 2 is increased accordingly.
  • the second pane 64 preferably has a thickness between at least 0.3 mm and at most 1.5 mm and comprises or consists of the thin glass substrate 54 described here with reduced pull strips. Only
  • Thin glass substrate 54 with the reference numeral D but also given as a disclosure for all other embodiments of the thin glass substrate 54 described here.
  • the glasses of the first and second disks 59, 62 are preferably matched to one another such that the
  • the second disc 62 is chemically
  • prestressed disc before preferably as a chemical
  • prestressed disc having a compressive stress zone of at least 40 ⁇ m in thickness, the compressive stress being at least 150 MPa and a maximum of 900 MPa.
  • the compressive stress is at most 800 MPa, preferably at most 600 MPa.
  • Such compressive stress is obtained in particular by tempering by means of a sodium nitrate-potassium nitrate mixture.
  • the compressive stress is at most 500 MPa, preferably at most 400 MPa, more preferably at most 300 MPa and most preferably at most 250 MPa.
  • Such compressive stresses can be achieved in particular by tempering by means of a pure sodium nitrate melt.
  • the laminated glass pane 1 is curved
  • Laminated glass in particular as a vehicle window before, so that the outwardly facing side of the second
  • Disc 62 is concavely arched. In this formation to
  • illustrated laminated glass 59 may, especially when used as a vehicle window, a reflection surface 65 for a head-up display, in particular when used in a head-up display for land, waterborne or airborne vehicles,
  • the first pane 60 may face the outside of the vehicle and the second pane 62 may face the inside of the vehicle.
  • the reflection surface 65 for a head-up display on the then facing into the interior of the vehicle surface 63 of the second disc 62 lie.
  • the reflection surface 65 may extend over the entire surface 63 or only over one
  • the second disc 62 has a zebra angle greater than or equal to 45 °, in particular greater than or equal to 50 °, particularly preferably greater than or equal to 55 °, with a thickness of 0.7 mm.
  • zebra angle and the ring-on-bending strength mentioned below reference is made to the application DE 10 2016 125 488, which by
  • the second disc 62 has a ring-on-ring bending strength of more than 150 MPa, in particular more than 250 MPa, preferably more than 300 MPa, more preferably more than 400 MPa, particularly preferably more than 500 MPa and most preferably more than 600 MPa and less than 900 MPa.
  • the laminated glass pane 1 is formed so that the second disc 4 at a thickness of 0.7 mm and a wavelength of 840 nm, a transmission of more than 91.5%, at a
  • Wavelength of 560 nm of more than 91.5% and at 380 nm of more than 90% is, as already mentioned above, particularly advantageous for the realization of a good view through the disc 1, so that in this way the passenger safety is further improved.
  • the second disc 62 is substantially chemically toughened by the exchange of lithium ions and / or sodium ions for sodium ions and / or potassium ions.
  • a second disk 62 is then designated, when the substantial proportion of the bias voltage, ie at least 80% of the generated
  • Bias due to the exchange of lithium ions for sodium ions.
  • a disk is then biased as substantially by the exchange of lithium ions for sodium ions when the bias voltage is obtained exclusively by this exchange.
  • the second disc 62 may also consist of a
  • the second disc 62 can also be made of a traditional soda-lime glass or one for the chemical
  • Prestressing of specially adapted soda-lime glass which also exchanges sodium ions for potassium ions.
  • Fig. 16 shows the embodiment of a laminated glass pane 59, which may be in particular a motor vehicle window.
  • a first disk 60, a polymer-formed layer 61 and a second disk 62 of the laminated glass pane 59 is included.
  • the laminated glass pane 59 is arched. It is possible that, as shown, the thickness of the individual disks 60, 62, as well as the polymer-formed layer 61 tapers from the center of the laminated glass pane 59 towards the edges.
  • the thickness of the individual disks 60, 62 and also of the polymer-formed layer 61 may be constant in each case or for only individual layers 60, 61, 62 constituting the laminated glass pane 59 to have a thickness which varies over the cross section of the disk 59 ,
  • one or more of the layers may be wedge-shaped.
  • the laminated glass pane 59 is formed such that the outwardly facing surface 63 of the second pane 62 is concavely curved.
  • the laminated glass pane 59 can also do so
  • a further preferred composition range for a thin glass substrate, in particular the second pane of a laminated glass with reduced drawing strips, comprises:
  • the thin glass substrate in particular the second pane of a laminated glass, comprises the following
  • the lithium-aluminum silicate glass comprises a glass transition temperature T g of less than 540 ° C and / or a processing temperature of less than 1150 ° C.
  • Thin glass substrates were analyzed and calculated in terms of their dimensions in the z-direction as well as in their optical properties after the measurement and thereby the reduction of the drawing strips compared to conventional methods
  • Measurements of both main surfaces for determining thickness deviations from an ideal thin glass substrate as thickness measurements of the thin glass substrate were carried out in a first series of measurements, and measurements of the elevations or drawing strips on the upper main surface of the thin glass substrate 54 were carried out in a second measurement series.
  • the data of the first measurement series thus detect the optical effect of a thin glass substrate in which the light passes through the upper and lower main surface and also describe this effect on the basis of the resulting optical refractive powers, which are formed by both surfaces.
  • This allows Influencing example of optical beam paths for behind the thin glass substrate 54 arranged sensory devices are described, which serve for example the sensory detection of the environment of a motor vehicle.
  • the second series data capture the optical effects of only one major surface, such as these
  • Thin-glass substrates 54 occur, for example, if they are ground flat and polished on one side or are embedded on one side in a material with the same refractive index, for example in a laminated glass pane.
  • Laser interferometer in particular by means of a phase-shift interferometer, measurements were performed which extended over the entire upper main surface 53 of the thin glass substrate 54.
  • Analysis field 52 are shown by way of example also contour lines VLI and VL2, which indicate a warping V against an ideal plan thin glass substrate 54 only schematically and greatly exaggerated for the sake of clarity
  • Such bends V typically rise in the positive or negative Z direction with respect to the principal planes of ideal planning
  • Thin glass substrate 54 and may be symmetrical in the drawing or Y direction, in particular formed symmetrically to the center line M and extend with the longitudinal direction in the pull ⁇ or Y-direction.
  • contour lines VLI and VL2 are shown by way of example only for the analysis field 52 because of the subsequent metrological explanations, such warping can also extend over the entire thin-glass substrate 54.
  • the value of the warpage V gives the maximum distance of a dot on a main surface of the warped thin glass substrate relative to a corresponding point on the main surface of an ideal thin glass substrate.
  • a conventional thin glass substrate was also singulated from a glass ribbon in the same manner and subjected to the subsequent measurement and evaluation. It was ensured that all measured thin glass substrates from the center of the glass ribbon, perpendicular to the drawing direction, thus from the center of the glass ribbon 13 in the x direction, the glass ribbon were removed after hot forming.
  • Measurements of the elevation of the two major surfaces in the z direction are made by measuring the optical path length difference between the upper and lower major surfaces with respect to an ideally planar glass substrate.
  • Thickness variations of a first series of measurements was using a laser interferometer (phase shift interferometer) made by ZYGO.
  • the laser interferometer was a Fizeau interferometer with an aperture of 300 mm.
  • a Zygo Verifire system with a measuring spot of 30 cm (circular) was used.
  • the measurement uncertainty in the Z direction was ⁇ 30 nm, corresponding to lambda / 20 at a wavelength of 633 nm.
  • optical power P (x, y) of a surface of a glass, in particular a thin glass substrate with
  • Elevations in the z-direction with the height H are obtained if these are determined along a straight line running in the x direction at a fixed value of y:
  • the height H in the z-direction is x. It also applies to the total refractive power of both
  • Thin glass substrate at location x is Ptop (x) the refractive power of the upper
  • Thin glass substrate at location x and Pbottom (x) is the refractive power of the lower
  • Thin glass substrate at location x is.
  • Thin-glass substrate 54 can be specified.
  • the thickness variation of the thin glass substrate which is also referred to as a varicose change, results from these measurements in each case at location y at which the respective linear measurement scan in the X direction was carried out when measuring the second series of measurements described below:
  • Thin glass substrate at location x Thin glass substrate at location x.
  • the thin glass substrates according to the invention are part of a windscreen projection device , in particular a head-up display, for use on land, on or in the water and in the air
  • Vehicles form or if behind these optical sensors for detecting the environment of such a vehicle
  • a thin glass substrate 54 with a glass having a thickness of 0.7 mm and the following
  • Components Sn0 2 , Ce0 2 , P 2 Os and ZnO to be included in a proportion of 0.25 wt .-% total to 1.6 wt .-%. Since the present measured values were measured in the x direction and for the detection of the values in the y direction in each case
  • Thickness deviation of the thin glass substrate 54 in both the x and y direction are detected.
  • this deflection angle can be measured with the here measured
  • Distortion angle is then calculated from the present values from the following formula in arc minutes:
  • This deflection angle substantially corresponds to the conventional measurement method, and consequently this value can also be provided by the measurement and analysis method described above.
  • the upper surface measurements obtained in the second measurement series with the Fourier transform white light interferometer, FRT interferometer are thus the main surface 53 of the above-mentioned thin glass substrate 54 in arbitrary units in a perspective view. It can be clearly seen from this view that bumps on the main surface 53 of the thin glass substrate 54,
  • elongated elevations were formed, which rise substantially in the normal direction and thus in the Z direction and extend with their longitudinal extent substantially in the pulling direction and thus in the Y direction.
  • These, also referred to as a drawing strip elongated elevations was the longitudinal extent in the Y direction each more than two times, in particular more than three times, and usually more than five times the transverse extent of the respective elevation in the X direction.
  • These elevations, which are also referred to as pull tabs, carry the reference numerals 55 to 58 in FIG. 6.
  • An example of the respective transverse extent of a survey is FIG.
  • Thickness change and the reference V represents a Verwolbung against an ideal plan surface.
  • a particularly preferred embodiment, of the measured thin glass substrate 54 even had a height H of the elevations in the Z direction, which averages, adjusted by
  • wedge-shaped thickness variations and bends were less than 90 nm and even less than 80 nm.
  • optical power P geS amt (x) As optical power P geS amt (x), this term was used in the table above with Opt. Power abbreviated and thus the total refractive power of both main surfaces of the thin glass substrate at location x indicated.
  • Thin glass substrate which was renamed in Table 1 and 2 as thin glass. From this table it can be seen that the values of the thickness of the elevations or drawing strips filtered and arithmetically averaged as described above have dropped considerably. For example, in the middle of the glass band (in the X direction and thus perpendicular to the
  • Thin glass substrates for 97.5% of the measurement points have a value of less than 187 * 10 ⁇ 9 / (m / mm) and for the
  • thin glass substrates according to the invention a value of less than 108 * 10-9 m / mm.
  • FIGS. 7 to 10 illustrate, by way of illustration, further results in the form of gray-scale images, and in FIG. 7 each show a gray-scale representation of surface data of the surface obtained with the laser interferometer
  • FIG. 8 shows a grayscale representation of the derivative in the X direction of the thickness data obtained with the laser interferometer and thus varicose surface data of the thin-glass substrate 54 according to the invention, in which the thickness values of drawing strips can be recognized as gray values
  • Thin-glass substrates 54 in which the derivative values can be recognized as gray values.
  • FIG. 9 shows a gray scale representation of optical
  • Fig. 10 shows a grayscale image of optical
  • Refractive powers of a substrate according to the invention in which the refractive powers are likewise to be recognized in each case as gray values. It can clearly be seen that the optical powers of the thin-glass substrate according to the invention are substantially lower than those of the conventional thin-glass substrate. The above values were with a second
  • Measurement method added in a second series of measurements, which were carried out by means of a white light interferometer, in particular a Fourier transform white light interferometer, FRT interferometer, which will be described below with reference to Figures 11 to 14.
  • FIG. 11 shows a schematic view similar to FIG.
  • Contour lines KLI, KL2 and KL3 shown which a substantially wedge-shaped thickness change K of
  • Thin glass substrate 54 merely indicated schematically and reproduce greatly exaggerated for the sake of clarity.
  • Such essentially wedge-shaped thickness changes K typically rise in the positive or negative Z direction with respect to the principal planes of an ideal plan
  • Thin glass substrate 54 and extend with their Longitudinal direction in the pull or Y direction.
  • Thin glass substrate 54 extend.
  • the value of the wedge-shaped thickness change K gives the maximum distance of a dot on a main surface of the thin-glass substrate 54 having a wedge-shaped thickness change relative to one
  • both the first and the second measurement series each had thin glass substrates with the same
  • compositions thus the same glasses and with the same dimensions as for the invention
  • the measurement was made on square surfaces with an area of 18 * 18 cm 2 , but evaluated for the measured values given here only within the analysis field 52.
  • the offset of the lines in the Y direction each had a spacing of 0.36 mm.
  • the gantry design was equipped with a
  • the lateral resolution was ⁇ 2 pm in the X and Y directions and the resolution in the vertical direction thus in the Z direction was 6 nm.
  • the measuring direction of the individual scans along the respective measuring line was in each case perpendicular to the drawing direction, thus in the X direction.
  • the distance between the sensor and the measuring surface was about 3.74 mm with a thickness of each measured thin glass substrate of 0.7 mm.
  • the SAS JMP TM program was used for this purpose.
  • FIG. 12 shows by way of example a grayscale representation of surface data obtained with the FRT interferometer of a thin-glass substrate 54 according to the invention, in which the thickness values of drawing strips can be recognized as gray values.
  • FIGS. 13 and 14 Thin-glass substrates can be seen in FIGS. 13 and 14, in which FIG. 13 shows a gray-scale representation of optical
  • Fig. 14 is a gray scale representation of optical powers of surface data of the upper main surface of a surface of the invention obtained with the FRT interferometer
  • Z m The arithmetic mean of the filtered values, thus corrected by wedge-shaped thickness variations and warping, of the height H of the elevations on the analysis surface 52, on the upper main surface 53 of the
  • elevations on one of the main surfaces of the thin glass substrate in particular elongate elevations which rise substantially in the normal direction, can be formed, which preferably have a longitudinal extent greater than twice
  • the thin glass substrate 54 was formed by the hot forming
  • a wedge-shaped thickness change K over a length of 1 m perpendicular to the drawing direction, thus in the X direction a value of less than 100 pm.
  • the thin-glass substrate 54 had a warping V perpendicular to it over a length of 1 m Draw direction, thus in the X direction a value of less than 600 pm.
  • the thin-film substrate 54 having an average thickness averaged over an area of the first and second main surfaces of the thin glass substrate 54 of at least 10 cm ⁇ 10 cm of 0.3 mm to 2.6 mm could be obtained by the hot molding.
  • the thin glass substrate 54 having a thickness of 0.7 to 2.5 mm were also obtained, as well as particularly preferred embodiments having a thickness of about 0.7 mm or a thickness of about 2.54 mm. Furthermore, with the method according to the invention even glass substrates with a thickness of up to 10 mm or even a thickness of up to 12 mm could be produced.
  • Thickness fluctuations of the third series of measurements were likewise measured by means of a laser interferometer (phase shift
  • the laser interferometer was a Fizeau interferometer with an aperture of 24 ".
  • a Zygo Verifire system with a measuring spot of 24" was used.
  • the measurement uncertainty in the Z direction was ⁇ 30 nm, corresponding to lambda / 20 at a wavelength of 633 nm.
  • optical power P geS amt (x) As optical power P geS amt (x), this term was used in the table above with Opt. Power abbreviated and thus the total refractive power of both main surfaces of the thin glass substrate at location x indicated.
  • a subscript m also indicates that the respective value denoted therewith was arithmetically averaged over the entire analysis field in the X direction.
  • Figures 15 and 16 illustrate, by way of illustration, further results in the form of gray scale images.
  • optical powers of the thin-glass substrate according to the invention are substantially lower than those of the conventional thin-glass substrate.
  • the measurement was made on square surfaces with an area of 18 * 18 cm 2 , but evaluated for the measured values given here only within the analysis field 52.
  • the lateral resolution was ⁇ 2 pm in the X and Y directions and the resolution in the vertical direction thus in the Z direction was 6 nm.
  • the measuring range was 180 x 180 mm in the X and Y directions with 500 measured lines with a distance between the measured lines of 360 pm.
  • the measuring direction of the individual scans along the respective measuring line was in each case perpendicular to the drawing direction, thus in the X direction.
  • the distance between the sensor and the measuring surface was about 5.04 mm with a thickness of each measured thin glass substrate of 2.0 mm.
  • the obtained values were smoothed line by line to suppress high-frequency noise.
  • the SAS JMP TM program was used for this purpose.
  • the analysis field 52 having the dimensions of 10 ⁇ 10 cm 2 was also used as the basis for the arithmetic averaging for the data of the upper main surface 53 obtained as described above.
  • (Angle) m The arithmetic mean of the calculated deflection angle with perpendicularly incident beam on the main surface 53 arithmetically averaged over an analysis area of 10 * 10cm 2 .
  • the height of the elevation which is also referred to as a drawing strip, could each be reduced at least by the value given in the following equation as a function of the thickness of the thin glass substrate.
  • the following inequality applies in particular to the thickness-dependent
  • D is the thickness of the thin glass substrate in mm, for a range of from 0.3 mm to 2.6 mm
  • the method according to the invention enables the production of a thin glass substrate in which the thickness-dependent Elevation on one of the main surfaces of the
  • D is the thickness of the thin glass substrate in mm
  • Elevations which rise substantially in the normal direction, are formed, which have a longitudinal extent greater than two times, preferably three times, more preferably five times a transverse extent of the survey and have a height H in the arithmetic mean, adjusted by wedge-shaped thickness variations and Warp when averaging an analysis area of 10 * 10 cm 2 , preferably in the middle of a hot-formed
  • Glass bands perpendicular to the drawing direction less than 85 nm, preferably less than 75 nm, more preferably less than 65 nm and in which the transverse extent of the survey were each smaller than 40 mm.
  • Borosilicate glass thin glass substrate 54 substantially a wedge-shaped thickness change K over a length of 1 m perpendicular to the drawing direction, thus in the X direction, a value of less than 40 pm.
  • the thin glass substrate 54 had a warping V over a length of 1 m perpendicular to the drawing direction due to the hot forming, thus a value of less than 300 ⁇ m in the X direction.
  • Thin glass substrate 54 of at least 10 cm * 10 cm can be obtained from 0.3 mm to 2.6 mm.
  • borosilicate glass thin glass substrate 54 having a thickness of 0.7 to 2.5 mm were also obtained, as well as particularly preferred embodiments having a thickness of about 0.7 mm or a thickness of about 2.54 mm. Furthermore, with the method according to the invention even glass substrates with a thickness of up to 10 mm or even a thickness of up to 12 mm could be produced.
  • K is a substantially wedge-shaped thickness change K of the thin glass substrate 54 K LI contour line of the essentially wedge-shaped
  • Transverse transverse extent of a survey or drawing strip transversely, in particular perpendicular to the longitudinal direction of the

Landscapes

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Abstract

Die Erfindung betrifft allgemein ein Dünnglassubstrat, bevorzugt eine Borosilicatglas-Dünnglassubstrat, ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zu dessen Herstellung und es wird ein Dünnglassubstrat mit verbesserter optischer Qualität, ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zu dessen Herstellung angegeben, wobei bei dem Verfahren nach dem Schmelzen und vor einer Heißformung die Viskosität des zu formenden oder zumindest teilweise geformten Glases für das zu erhaltende Dünnglassubstrat definiert eingestellt wird und die Vorrichtung eine Einrichtung zum Schmelzen, eine Einrichtung zur Heißformung sowie eine Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität des zu einem Dünnglassubstrat zu formenden Glases umfasst und die Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität des zu einem Dünnglassubstrat zu formenden Glases vor der Einrichtung zur Heißformung angeordnet ist.

Description

DünnglasSubstrat, insbesondere Borosilicatglas- DünnglasSubstrat, Verfahren und Vorrichtung zu dessen
Herstellung
Beschreibung
Die Erfindung betrifft ein Dünnglassubstrat, insbesondere ein Borosilicatglas-Dünnglassubstrat , ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zu dessen Herstellung. Ferner werden Messverfahren zur Ermittlung der optischen Qualität insbesondere von verfahrensgemäß hergestellten
Dünnglassubstraten angegeben. Dünnglassubstrate sind von zunehmender Bedeutung, auch in der Kraftfahrzeugtechnik, da mit diesen nicht nur das Gewicht des Kraftfahrzeugs gesenkt, sondern auch die optischen Eigenschaften von dessen Verglasung maßgeblich beeinflusst werden können.
Mit zunehmenden Anforderungen an die optischen
Eigenschaften dieser Substrate, beispielsweise bei der Einblendung von zweidimensionalen Informationen in
Rückprojektion oder bei der sensorischen Erfassung
optischer Daten aus dem Umfeld des Kraftfahrzeugs entsteht ein zunehmender Bedarf an optisch hochwertigen
Dünnglassubstraten und entsprechenden Weiterentwicklungen zur Verminderung von deren Gewicht. Insbesondere in der E- Mobilität, somit bei elektrisch angetriebenen Fahrzeugen, kommt der Gewichtsreduktion der Verglasung des Fahrzeugs hohe Bedeutung zu.
Das Dokument DE 23 09 445 AI betrifft ein Verfahren zur Herstellung von dünnem Floatglas von weniger als 2,5 mm Dicke, bei dem geschmolzenes Glas in freiem Fall auf ein Metallbad aufgegossen wird, wo es sich im
Viskositätsbereich von bis zu 105 ' 25 Poise ohne den Eingriff von seitlichen Führungsrollen zu einer gleichmäßig dicken Schicht frei ausbreitet, worauf das Glasband im folgenden Abschnitt des Floatbades in verformbarem Zustand gehalten und unter Erhöhung seiner Geschwindigkeit in Längsrichtung gestreckt wird, wobei in diesem Verformungsbereich
ausschließlich mittels von oben auf die Randbereiche des Glasbandes einwirkender Rollen auf das Glasband Kräfte ausgeübt werden, die die Streckwirkung der Zugkraft fortschreitend steuern, um ein allmähliches Strecken auf eine vorgegebene Dicke zu bewirken.
Das Dokument JP 7-53223 A beschreibt als Overhead Coolers bezeichnete Kühleinrichtungen zur Verbesserung der
optischen Qualität, insbesondere zur Reduzierung einer als Microcorrugation bezeichneten optischen Eigenschaft, nach der Hauptformgebung, nach Einsatz der Top-Roller- Zugeinrichtungen. Jedoch wirkt sich dabei die Reduzierung der Microcorrugation nur unwesentlich auf die optische Auffälligkeit der Ziehstreifigkeit aus. Ferner kann direkt beim Eintritt in eine
Heißformgebungsanlage auch Wärme entzogen werden, aber herkömmlich nur in geringem Maße.
Die internationale Anmeldung WO 2016048815 AI beschreibt Vorrichtungen, welche die lokale Temperatur eines
Glasbandes während dessen Heißformung beeinflussen können. Das Dokument US 3843344 A zeigt eine Querschnittsansicht einer Floatanlage. Es wird offenbart, dass Glas in der Nähe eines in dieser Querschnittsansicht gezeigten Tweels oder Einrichtung zur Durchflussregulierung frei fließen können müsse, wobei die Temperatur so hoch und die Viskosität so niedrig sein müssen, dass das Glass keinerlei Stress, somit keinerlei Zug- oder Scherspannungen, aufnehmen und diese auch durch Fließen abbauen können sollte. Präziser führt dieses Dokument aus, dass logio Viskositäten an dieser Stelle niedriger als 3,0 sein sollen.
Die Anmeldung US 3961930 A, lehrt, dass ein zumindest teilweise geformtes Glas vor dessen weiterer Formung erhitzt wird.
Dokument AU 4631972 A beschreibt Glas vor dem Floaten durch ein Bauteil zur Durchsatzregulierung, insbesondere eine Apertur mit einem Regelschieber treten zu lassen, in welcher dieses dann auf Temperaturen von etwa 1250 °C bis 1300 °C aufgeheizt wird und dabei eine Viskosität von etwa 103 Poise annimmt.
Die internationale Anmeldung WO 2016007812 AI offenbart Rückkopplungsschleifen zur Einstellung verschiedener
Prozessparameter wie beispielsweise der Viskosität des Glasbandes auf dem Floatbad, ohne jedoch dafür jeweils konkrete Werte zu benennen.
Die internationale Anmeldung WO 2011/103801 AI beschreibt eine Scheibenanordnung für Hochgeschwindigkeitszüge, bei welcher ein Glas dieser Anordnung ein Boroxid und insbesondere ein Borosilicatglas enthalten kann.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein
Dünnglassubstrat, insbesondere ein Borosilicatglas- Dünnglassubstrat, mit verbesserter optischer Qualität, ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zu dessen Herstellung bereitzustellen. Ferner betrifft die Erfindung auch
vorteilhafte Verwendungen von Dünnglassubstraten,
insbesondere Borosilicatglas-Dünnglassubstraten, mit verbesserter optischer Qualität. Darüber hinaus wird ein vorteilhaftes Verfahren zur Ermittlung der optischen
Qualität bereitgestellt.
Diese Aufgabe wird jeweils mit dem in den unabhängigen Ansprüchen beschriebenen Verfahren und Vorrichtungen gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen sind den jeweiligen abhängigen Ansprüchen sowie der Beschreibung zu entnehmen.
In überraschender Weise haben die Erfinder herausgefunden, dass diese Ziehstreifen mit einem Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats, vorzugsweise zur kontinuierlichen Herstellung eines Dünnglassubstrats, insbesondere eines Dünnglassubstrats mit verminderten Ziehstreifen,
verminderbar sind, bei welchem nach dem Schmelzen und vor einer Heißformung die Viskosität des zu formenden oder zumindest teilweise geformten Glases für das zu erhaltende Dünnglassubstrat definiert eingestellt wird und das heißzuformende Glas vor Abgabe an eine Einrichtung zur Heißformung in dessen Viskosität definiert eingestellt, insbesondere durch eine definierte Abkühlung eingestellt wird. Alle nachfolgenden Angaben, insbesondere numerischen Angaben zur Viskosität sind in lg n /dPas angegeben, auch wenn dieses um der Kürze Willen und wie auf diesem
technischen Gebiet üblich nicht immer explizit angegeben wird .
Als Verminderung der Ziehstreifen wird hierbei verstanden, dass eine Verminderung der Größe der Ziehstreifen eintritt, dies bedeutet des Volumens der durch die Ziehstreifen gebildeten Erhebungen gegenüber einem ideal planen
Substrat, insbesondere Dünnglassubstrat. Zum Vergleich der Verminderung dient hierbei ein Verfahren, bei welchem die Viskosität des heißzuformenden Glases vor Lippenstein oder Spout beispielsweise lg η / dPas 3,47 betrug, welches in der nachfolgenden detaillierten Beschreibung noch
detaillierter anhand konkreter Messergebnisse dargelegt wird. Sowohl bei den erfindungsgemäßen Gläsern als auch den herkömmlichen Vergleichsgläsern wurden für die
nachfolgenden Vergleichsmessungen jeweils Gläser mit einer Zusammensetzung verwendet, wie diese bei der nachfolgenden Beschreibung der am Dünnglassubstrat durchgeführten
Messungen noch stärker konkretisiert wird.
Ferner wird allgemein ein Dünnglassubstrat als
Dünnglassubstrat mit verminderten Ziehstreifen verstanden, bei welchem Erhebungen auf einer der Hauptoberflächen des Dünnglassubstrats, insbesondere langgezogene Erhebungen, welche sich im Wesentlichen in Normalenrichtung erheben und bei welchen eine Längserstreckung größer als das Zweifache, bevorzugt Dreifache, besonders bevorzugt das Fünffache einer Quererstreckung der Erhebung ist, welche eine Höhe aufweisen, die im Mittel, bereinigt von keilförmigen Dickenschwankungen und Verwölbungen bei arithmetischer Mittelung einer Analysefläche von 10 * 10 cm2, vorzugsweise in der Mitte eines heißgeformten Glasbands senkrecht zur Ziehrichtung, kleiner als 100 nm, bevorzugt kleiner als 90 nm, besonders bevorzugt kleiner als 80 nm und bei einem Borosilicatglas-Dünnglassubstrat kleiner als 85 nm, bevorzugt kleiner als 75 nm und besonders bevorzugt kleiner als 65 nm ist und bei welchen die Quererstreckung der Erhebung jeweils kleiner als 40 mm ist.
Dünn definiert sich aus dem Herstellprozess Floaten von Glas, insbesondere auch Borosilicatglas . Beim Floaten stellt sich beim reinen Ausfließen des heißen Glases, insbesondere Borosilicatglases auf flüssiges Zinn eine Gleichgewichtsdicke von ca. 7 mm ein. Ein dünnes
Borosilicatglas im Sinne dieser Erfindung wird nach dem Ausfließen des heißen Glases, insbesondere
Borosilicatglases derart in Länge und Breite gestreckt, dass sich eine Glasdicke von kleiner oder gleich 5 mm einstellt. Frühere mathematische Modelle haben nahegelegt, dass höhere Verarbeitungstemperaturen auch höhere optische Qualität bereitstellen, weshalb die mit einer
Temperaturabsenkung einhergehende erhöhte Viskosität zunächst nicht als erfolgversprechende Maßnahme zur
Erzielung verbesserter optischer Qualität erschien.
Insbesondere bei der kontinuierlichen Herstellung von
Dünnglassubstraten wurde bisher Wert daraufgelegt, die Strecke zwischen der das heißzuformende Glas abgebenden Schmelzwanne und dem ein flüssiges Metall umfassenden
Floatbad räumlich möglichst kurz und verfahrenstechnisch direkt zu gestalten. Ferner sind mit niedrigen Temperaturen einhergehende höhere Viskositäten des zu erschmelzenden Glases für Schmelzwannen eher nachteilig, da sich mit zunehmender Viskosität auch die Homogenisierung des Glases schwieriger gestalten kann. Ferner steht eine Abkühlung des heißzuformenden Glases regelmäßig einem hohen Durchsatz entgegen, da das dann nur zäher fließende Glas innerhalb der heißformenden Prozesskette die Tendenz aufweist, die Durchflussgeschwindigkeit zu senken. Besonders nachteilig erschien deshalb bisher ein die Temperatur absenkender
Eingriff in die Prozesskette der Heißformung, insbesondere wenn dieser zu einem frühen Zeitpunkt erfolgte und somit die gesamte Prozesskette betraf. Bei einem bevorzugten Verfahren zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats wird eine Einstellung der Viskosität vor dem Lippenstein für die Abgabe des flüssigen Glases, dem Spout, vorgenommen, insbesondere vor der Abgabe auf ein Metallbad vorgenommen. Im Rahmen der vorliegenden
Offenbarung werden die Begriffe des Lippensteins sowie des Spouts synonym verwendet und bezeichnen dabei jeweils den gleichen, einem Fachmann auf diesem Gebiet bekannten
Begriff . Überraschend ist der erfindungsgemäße verfahrenstechnische Eingriff vor Spout oder Lippenstein, da herkömmliche
Floatanlagen regelmäßig konstruktiv nicht dazu ausgelegt sind, Eingriffe vor dem Spout oder Lippenstein zuzulassen. Im Rahmen dieser Offenbarung sollen die Begriffe „vor" und „nach" zunächst räumliche Bedeutung haben. Hierbei bezeichnet der Begriff „vor" einen in Strömungs- oder
Ziehrichtung des Glases räumlich vor einem weiteren Objekt liegenden Ort und der Begriff „nach" oder „hinter" einen in Strömungs- oder Ziehrichtung des Glases räumlich nach oder hinter einem weiteren Objekt liegenden Ort. Da jedoch bei der vorliegenden Erfindung das Glas kontinuierlich bewegt wird oder sich kontinuierlich bewegt, kann sich hieraus, insbesondere für die Durchführung des Verfahrens auch eine entsprechende zeitliche Abfolge für die jeweiligen
Verfahrensschritte, insbesondere auch innerhalb einer industriellen Prozesskette, ergeben.
Bei einem bevorzugten Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats wird eine Einstellung der Viskosität vor dem Regelschieber, somit dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung des Glasstroms, welches auch als Tweel bezeichnet wird, vorgenommen und wird insbesondere vor der Abgabe auf ein Metallbad, somit vor Abgabe auf das flüssige Metall des Floatbades vorgenommen.
Definiert eingestellt bedeutet hierbei im Rahmen der vorliegenden Offenbarung, dass eine Einstellung der
Viskosität so vorgenommen wird, dass diese innerhalb definierter Grenzen eingestellt wird. Dies bedeutet
insbesondere auch, dass das Glas nach dieser Einstellung somit die eingestellte Viskosität n des Glases mit einer Abweichung bezüglich des tatsächlich erwünschten Werts und somit einer Abweichung von der definiert eingestellten Viskosität von weniger als Δ lg n / dPas = 0,3 bei einer Entfernung von 12 m nach einem Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung, somit bei einer Entfernung von 12 m nach einem Ort unmittelbar hinter dem Tweel, Δ lg n / dPas = 0,2 bei einer Entfernung von 1,5 m nach dem Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung, somit bei einer Entfernung von 1,5 m nach einem Ort unmittelbar hinter dem Tweel, Δ lg n / dPas = 0,1 unmittelbar vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung, somit unmittelbar vor dem Tweel vorliegt.
Bei einem bevorzugten Verfahren zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats beträgt die Viskosität des zu formenden oder zumindest teilweise geformten Glases bevorzugt am Kanal-Ende der Schmelzwanne und vor dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel insbesondere unmittelbar vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel
mindestens lg n /dPas = 3,75 bis vorzugsweise höchstens 4,5 und/oder unmittelbar hinter dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder dem Tweel lg n /dPas = 3,75 bis vorzugsweise höchstens 4,5
und/oder am Anfang des Wannenabschnitts 1 oder Bays 1, und/oder in einer Entfernung in Ziehrichtung von 1,5 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel mindestens lg n /dPas = 5,25 bis vorzugsweise höchstens 5,85 und/oder am Anfang des Wannenabschnitts 4 oder Bays 4 somit in einer Entfernung in Ziehrichtung von 12 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel mindestens lg n /dPas = 7,05 bis vorzugsweise höchstens 7,6.
Bei einer besonders bevorzugten Ausführungsform gilt für die Viskosität ηι für eine erste Strecke für eine
Entfernung bis zu 1,5 m nach dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel die nachfolgende Gleichung, bei welcher yi jeweils die Entfernung zum dem Ort
unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel bezeichnet und somit unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel den Wert Null annimmt : lg ni(yi) /dPas = (lg n0i /dPas + ai (yi) ) mit 0 m < yi < l,5 m
3, 75 < lg n0i /dPas < 4,5
Figure imgf000012_0001
Diese Gleichung soll nicht zwingend eine lineare
Abhängigkeit für lg ηι (yi) /dPas von dem Wert y angeben, obwohl diese abschnittsweise zu großen Teilen vorliegt, sondern jeweils auch den Wertebereich für lg ni (yi) an einem festen Ort yi angeben, wenn lg ηοι in dem vorstehenden Intervall variiert wird. Bei bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung wies die
Änderung der Viskosität im Bereich von 0 m < yi < 1,5 m pro Längeneinheit von einem Meter einen Wert auf, welcher besonders bevorzugt Δ lg η / dPas / Δ y = 0,666 /m +/- 0,1 /m betrug, jedoch größer als 0,334 /m und kleiner als 0,8 /m war, wobei der Ausdruck Δ lg η / dPas bei dieser
Gleichung nicht eine Abweichung der Viskosität bezüglich des tatsächlich erwünschten Werts, sondern die Änderung der Viskosität auf dem Abstandsbereich Δ y bezeichnet. Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform gilt für die Viskosität r\2 für eine zweite Strecke mit einer Entfernung von 12 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel bis zu einer Entfernung von 16 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel für die Viskosität r\2 die nachfolgende Gleichung gilt, bei welcher y2 jeweils die Entfernung zum Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel bezeichnet: lg n2(v2) /dPas = (lg n02 /dPas + a2 (yi) ) mit 12 m < Y2 ^ 16 m
7,05 < lg n02 /dPas < 7, 6
a2 (y2) = 0, 788 /m * (y2 - 12 m) .
Diese Gleichung soll nicht zwingend eine lineare
Abhängigkeit für lg r\2 (y2) /dPas von dem Wert y angeben, obwohl diese abschnittsweise zu großen Teilen vorliegt, sondern jeweils auch den Wertebereich für lg r\2 (y ) an einem festen Ort y2 angeben, wenn lg ηο2 in dem vorstehenden Intervall variiert wird.
An dieser Stelle, wie auch im gesamten Verlauf dieser
Offenbarung beschreibt die Angabe eines Abstands oder einer Entfernung „nach dem Tweel" oder „hinter dem Tweel", auch wenn jeweils nicht explizit angegeben, den Abstand in Y- Richtung von einem Ort, der unmittelbar hinter dem Tweel 17 liegt oder an der in Strömungsrichtung gesehen hinteren Seite des Tweels 17 liegt bis zu demjenigen Ort, bis zu welchem dieser Abstand oder eine entsprechende Entfernung jeweils angegeben ist. An dieser Stelle, wie auch im gesamten Verlauf dieser
Offenbarung beschreibt folglich inhaltlich identisch die Angabe eines Abstands oder einer Entfernung „nach dem
Bauteil zur Durchsatzregulierung" oder „hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung", auch wenn jeweils nicht explizit angegeben, den Abstand in Y-Richtung von einem Ort, der unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung 17 liegt oder an der in Strömungsrichtung gesehen hinteren Seite des Bauteils zur Durchsatzregulierung 17 liegt bis zu demjenigen Ort, bis zu welchem dieser Abstand oder eine entsprechende Entfernung jeweils angegeben ist.
Diese Entfernung ist beispielhaft in den Figuren 2 und 3 in Y-Richtung als Wert in m angegeben. Konstruktiv kann der Anfang des Floatbades, wie vorliegend der Fall, auch mit dem Ende des Bauteils zur Durchsatzregulierung oder Tweels, insbesondere dessen in Strömungs- oder Ziehrichtung
hintersten Teil zusammenfallen. Bei dem bevorzugten Verfahren zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats beträgt die Temperatur des zu formenden oder zumindest teilweise geformten Glases bei dem Glas, für welches die nachfolgenden Messungen der Ziehstreifen oder langgestreckten Erhebungen an der Oberfläche und dessen Dicke für die erste und die zweite Messreihe beschrieben werden, bevorzugt am Kanal-Ende der Schmelzwanne und vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel,
insbesondere unmittelbar vor dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung mindestens 1100 °C und höchstens 1180 °C und/oder am Anfang des Wannenabschnitts 1 oder Bays 1 und/oder in einer Entfernung in Ziehrichtung von 1,5 m mindestens 850 °C und höchstens 910 °C und/oder am Anfang des Wannenabschnitts 4 oder Bays 4 und/oder in einer
Entfernung in Ziehrichtung von 12 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel mindestens 720°C und höchstens 760 °C beträgt.
Bei dem bevorzugten Verfahren zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats beträgt die Temperatur des zu formenden oder zumindest teilweise geformten Borosilicatglases bei dem Glas, für welches die nachfolgenden Messungen der
Ziehstreifen oder langgestreckten Erhebungen an der
Oberfläche und dessen Dicke für die dritte und die vierte Messreihe beschrieben werden, auch bevorzugt am Kanal-Ende der Schmelzwanne und vor dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel, insbesondere unmittelbar vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel
mindestens 1180 °C und höchstens 1330 °C und/oder am Anfang des Wannenabschnitts 1 oder Bays 1 und/oder in einer
Entfernung in Ziehrichtung von 1,5 m mindestens 1000 °C und höchstens 1080 °C und/oder am Anfang des Wannenabschnitts 4 oder Bays 4 und/oder in einer Entfernung in Ziehrichtung von 12 m nach dem Tweel mindestens 830°C und höchstens 880 °C betragen. Hierbei lag jeweils eine maximale Temperaturabweichung von höchstens 10 °C vor. Eine definierte Einstellung der
Temperatur umfasst im Sinne dieser Offenbarung eine
Einstellung der Temperatur des heißzuformenden Glases vor oder während dessen Heißformung, welche innerhalb der vorstehend angegebenen maximalen Temperaturabweichungen liegt. Eine definierte Abkühlung des Glases umfasst im Sinne dieser Offenbarung eine Absenkung der Temperatur des heißzuformenden Glases vor oder während dessen Heißformung, bei welcher die angegebenen Temperaturen ebenfalls
innerhalb der vorstehend angegebenen maximalen
Temperaturabweichungen liegen.
Dem Fachmann ist es bekannt, wie Temperaturen von
Zinnbädern gesteuert werden können, und auch, wie die
Temperatur in verschiedenen Wannenabschnitten oder Bays von Zinnbädern eingestellt werden kann.
Bevorzugt wird bei dem Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats zur Heißformung ein Ziehverfahren, insbesondere ein Floatverfahren, ein Dow-Draw-Verfahren und/oder ein Fusion-Verfahren, insbesondere ein Overflow- Fusion-Downdraw-Verfahren verwendet .
Bei dem Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats kann vorteilhaft zur Heißformung des Dünnglassubstrats ein Li-Al-Si-Glas , ein Al-Si-Glas, ein Borosilicatglas,
insbesondere ein Borosilicatglas die folgende Komponenten enthalten (in Gew.-%) :
Si02 70 - 87
B203 7 - 25
Na20 + K20 0,5 - 9
Figure imgf000016_0001
CaO 0 - 3 verwendet werden. Bei einem Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats wird bei einer Ausführungsform zur Heißformung des
Dünnglassubstrats ein Borosilicatglas mit der nachfolgenden Zusammensetzung und umfassend:
Si02 70-86 Gew.-%
A1203 0-5 Gew.-%
B2O3 9,0-25 Gew.-%
Na20 0,5-5,0 Gew.-%
K20 0-1,0 Gew.-%
Li20 0-1,0 Gew.-%, oder ein Borosilicatglas, insbesondere
Alkaliborosilicatglas , welches enthält
Si02 78,3-81,0 Gew.
B2O3 9,0-13,0 Gew.-
Figure imgf000017_0001
Na20 3,5-6,5 Gew.-%
K20 0,3-2,0 Gew.-%
CaO 0,0-2,0 Gew.-% verwendet . Insbesondere kann auch ein Li-Al-Si-Glas , insbesondere mit einem Li20-Gehalt von 4,6 Gew.-% bis 5,4 Gew.-% und einem Na20-Gehalt von 8,1 Gew.-% bis 9,7 Gew.-% und einem A1203- Gehalt von 16 Gew.-% bis 20 Gew.-% verwendet werden. Bei einem besonders bevorzugten Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats werden Erhebungen auf einer der Hauptoberflächen des Dünnglassubstrats, insbesondere langgezogene Erhebungen, welche sich im Wesentlichen in Normalenrichtung erheben, ausgebildet, welche eine
Längserstreckung größer als das Zweifache, bevorzugt
Dreifache, besonders bevorzugt das Fünffache einer
Quererstreckung der Erhebung aufweisen und eine Höhe aufweisen, die im Mittel, bereinigt von keilförmigen
Dickenschwankungen und Verwölbungen bei arithmetischer Mittelung einer Analysefläche von 10 * 10 cm2, vorzugsweise in der Mitte eines heißgeformten Glasbands senkrecht zur
Ziehrichtung, kleiner als 100 nm, bevorzugt kleiner als 90 nm, besonders bevorzugt kleiner als 80 nm und bei einem Borosilicatglas-Dünnglassubstrat kleiner als 85 nm, bevorzugt kleiner als 75 nm und besonders bevorzugt kleiner als 65 nm ist und bei welchen die Quererstreckung der
Erhebung jeweils kleiner als 40 mm ist.
Bei dem Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats weist bei einer Ausführungsform durch die Heißformung das Dünnglassubstrat im Wesentlichen eine keilförmige
Dickenänderung über eine Länge von 1 m senkrecht zur
Ziehrichtung einen Wert von weniger als 100 pm, bei
Borosilicatglas sogar von weniger als 40 pm auf. Bei dem Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats weist bei einer Ausführungsform durch die Heißformung das Dünnglassubstrat ferner eine Verwölbung über eine Länge von 1 m senkrecht zur Ziehrichtung einen Wert von weniger als 600 pm, bei Borosilicatglas sogar von weniger als 300 pm auf. Durch die Heißformung kann das Dünnglassubstrat bevorzugt eine mittlere Dicke, arithmetisch gemittelt über eine
Fläche der ersten und der zweiten Hauptoberfläche des
Dünnglassubstrats von mindestens 10 cm * 10 cm von 0,3 mm bis 2,6 mm erhalten, bevorzugt eine Dicke von 0,7 mm bis 2,5 mm erhalten, besonders bevorzugt eine Dicke von etwa 0,7 mm oder eine Dicke von etwa 2,54 mm erhalten.
In weiterer Ausgestaltung können Dicken des Glassubstrats bis 10 mm oder sogar bis 12 mm mit allen Vorteilen der
Erfindung verwendet und kann eine Verminderung der Höhe der Ziehstreifen erhalten werden.
Bei dem Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats beträgt bei bevorzugten Ausführungsformen nach der
Heißformung des Dünnglassubstrats bei einem Durchsatz von weniger als 400 t, bevorzugt 200 t, und am bevorzugtesten 100 t Glas an heißgeformtem Dünnglas pro Tag der Anteil des Gutglases mehr als 15 % des gesamten Glasdurchsatzes.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Herstellung eines Dünnglassubstrats, insbesondere eines Dünnglassubstrats mit verminderten Ziehstreifen, insbesondere zur Durchführung eines hier offenbarten Verfahrens umfasst eine Einrichtung zum Schmelzen, eine Einrichtung zur Heißformung sowie eine Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität des zu einem Dünnglassubstrat zu formenden Glases, bei welcher eine, insbesondere die Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität des zu einem Dünnglassubstrat zu formenden Glases vor der Einrichtung zur Heißformung angeordnet ist. Diese oder eine Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität des zu einem Dünnglassubstrat zu formenden
Glases ist bei besonders bevorzugten Ausführungsformen vor dem Lippenstein oder Spout angeordnet.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform kann eine,
insbesondere die Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität des zu einem Dünnglassubstrat zu formenden Glases auch vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel, insbesondere unmittelbar vor dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel angeordnet sein.
Besonders bevorzugt umfasst die Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität eine Kühleinrichtung.
Hierbei kann die Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität fluiddurchströmte Bereiche umfassen, insbesondere von Wasser durchströmte Bereiche umfassen, welche Wärme von dem heißzuformenden Glas aufnehmen.
Diese Wärmeaufnahme kann beispielhaft durch direkte
Wärmeleitung oder auch durch Aufnahme von Konvektionswärme erfolgen .
Bei dieser Vorrichtung ist die hier angegebene Viskosität des Glases vorteilhaft jeweils mit einer Abweichung von höchstens Δ lg n / dPas = 0,1 an einem Ort unmittelbar vor Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel, Δ lg n / dPas = 0,2 bei einer Entfernung von 1,5 m nach Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel und Δ lg n / dPas = 0,3 /dPas bei einer Entfernung von 12 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel einstellbar.
Ferner kann bei einer bevorzugten Vorrichtung eine
sensorische Einheit die Temperatur des heißzuformenden
Glases, insbesondere mit einer maximalen Abweichung von 10 °C erfassen, und/oder die Viskosität des heißzuformenden Glases erfassen, insbesondere mit einer maximalen
Abweichung von Δ lg n / dPas = 0,1 unmittelbar vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel,
Δ lg n / dPas = 0,2 bei 1,5 m nach Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel und Δ lg n / dPas = 0,3 /dPas bei 12 m nach Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel 0,3 /dPas erfassen.
Die Einrichtung zur Heißformung kann bei bevorzugten
Ausführungsformen eine Zieheinrichtung, eine
Floateinrichtung, insbesondere eine Down-Draw-,
insbesondere eine Overflow-Down-Draw-Fusion-Zieheinrichtung umfassen.
Ein Dünnglassubstrat einer bevorzugten Ausführungsform weist Erhebungen auf einer der Hauptoberflächen des
Dünnglassubstrats auf, insbesondere langgezogene
Erhebungen, welche sich im Wesentlichen in Normalenrichtung erheben und bei welchen eine Längserstreckung größer als das Zweifache, bevorzugt Dreifache, besonders bevorzugt das Fünffache einer Quererstreckung der Erhebung ist, und welche eine Höhe aufweisen, die im Mittel, bereinigt von keilförmigen Dickenschwankungen und Verwolbungen bei arithmetischer Mittelung einer Analysefläche von 10 * 10 cm2, vorzugsweise in der Mitte eines heißgeformten
Glasbands senkrecht zur Ziehrichtung, kleiner als 100 nm, bevorzugt kleiner als 90 nm, besonders bevorzugt kleiner als 80 nm und bei einem Borosilicatglas-Dünnglassubstrat kleiner als 85 nm, bevorzugt kleiner als 75 nm und
besonders bevorzugt kleiner als 65 nm ist und bei welchen die Quererstreckung der Erhebung jeweils kleiner als 40 mm ist. Die vorstehend angegebenen Werte können jeweils auch alternativ mit anderen als den hier dargestellten
Messverfahren, beispielsweise durch mechanische
Abtastverfahren am Dünnglassubstrat ermittelt werden und werden hierbei die gleichen Messwerte ergeben. Optische Verfahren können jedoch berührungsfrei eingesetzt werden, sodass sich keine Veränderungen der Oberflächen,
insbesondere keine Schädigungen, beispielsweise durch
Verkratzung der Hauptoberflächen an den Orten der Messung ergeben .
Durch die Heißformung des Dünnglassubstrats kann das
Dünnglassubstrat im Wesentlichen eine keilförmige
Dickenänderung K über eine Länge von 1 m senkrecht zur Ziehrichtung mit einem Wert von weniger als 100 pm, bei Borosilicatglas sogar von weniger als 40 pm und/oder eine Verwölbung V über eine Länge von 1 m senkrecht zur
Ziehrichtung mit einem Wert von weniger als 600 pm, bei Borosilicatglas sogar von weniger als 300 pm aufweisen.
Das Dünnglassubstrat kann bei bevorzugten Ausführungsformen eine mittlere Dicke, gemittelt über eine Fläche der ersten und der zweiten Hauptoberfläche des Dünnglassubstrats von mindestens 10 cm * 10 cm von 0,5 mm bis 2,6 mm erhalten, bevorzugt eine Dicke von 0,7 bis 2,5 mm, besonders bevorzugt eine Dicke von etwa 0,7 mm oder eine Dicke von etwa 2,54 mm erhalten. Ferner ist es auch möglich
Glassubstrate mit einer Dicke bis zu 10 oder sogar 12 mm herzustellen.
Das Dünnglassubstrat kann ein Borosilicatglas umfassen und hierbei die folgenden Komponenten enthalten (in Gew.-%):
Si02 70 - 87
B203 7 - 25
Na20 + K20 0,5 - 9
Figure imgf000023_0001
CaO 0 - 3. Das Dünnglassubstrat kann auch ein Borosilicatglas mit der nachfolgenden Zusammensetzung umfassen:
S1O2 70-86 Gew.-
Figure imgf000023_0002
B2O3 9,0-25 Gew.
Na20 0, 5-5, 0 Gew
K20 0-1, 0 Gew.-
Li20 0-1,0 Gew.-
Bei einer weiteren Ausführungsform umfasst das
Dünnglassubstrat oder ein Borosilicatglas, insbesondere Alkaliborosilicatglas , welches enthält:
S1O2 78,3-81,0 Gew.-% B2O3 9,0-13,0 Gew.-% AI2O3 3,5-5,3 Gew.-% Na20 3,5-6,5 Gew.-%
K20 0,3-2,0 Gew.-%
Figure imgf000024_0001
Das Dünnglassubstrat kann ein Li-Al-Si-Glas , ein Al-Si- Glas, ein Borosilicatglas oder ein K-Na-Si-Glas umfassen.
Bevorzugt umfasst das Dünnglassubstrat jedoch ein Li-Al-Si- Glas, insbesondere ein Lithium-Aluminium-Silicatglas mit einem Li2<0-Gehalt von 4,6 Gew.-% bis 5,4 Gew.-% und einem Na2<0-Gehalt von 8,1 Gew.-% bis 9,7 Gew.-% und einem AI2O3- Gehalt von 16 Gew.-% bis 20 Gew.-%.
Das hier offenbarte Dünnglassubstrat kann in einer
Kraftfahrzeugscheibe, insbesondere einer Verbundscheibe umfasst sein.
Auch eine Frontscheibenprojektionseinrichtung, insbesondere ein Head-up-Display, für auf dem Land, auf oder im Wasser sowie in der Luft betriebene Fahrzeuge, insbesondere motorbetriebene Fahrzeuge, kann vorteilhaft ein hier offenbartes Dünnglassubstrat, insbesondere als
Rückreflexionsflache, umfassen. Besonders vorteilhaft ist somit die Verwendung eines
Dünnglassubstrats auch als Teil einer Verbundglasscheibe und insbesondere als Teil einer Kraftfahrzeugscheibe .
Die Erfinder haben auch festgestellt, dass nicht jeder optische Fehler eines Dünnglassubstrates in gleicher Weise zu Störungen oder einer Minderung von dessen optischen Eigenschaften führen muss.
Erhebungen auf einer der Hauptoberflächen eines
Dünnglassubstrats, insbesondere langgezogene Erhebungen, welche sich in einer Hauptrichtung, der Zieh- oder
Fortbewegungsrichtung des heißzuformenden Glases auf dem Floatglas, erstrecken und herkömmlich auch als Ziehstreifen bezeichnet werden, können dann zu merklichen
Verschlechterungen der optischen Eigenschaften führen, wenn diese eine bestimmte Größe überschreiten und sogar die Wirkung einer Zylinderlinse im jeweiligen optischen
Strahlengang aufweisen. Derartige Erhebungen oder
Ziehstreifen weisen in typischer Weise eine Quererstreckung von weniger als 40 mm auf.
Zur Klassifizierung derartiger optischer Beeinträchtigungen sind beispielsweise Schattenwurfverfahren eingesetzt worden, welche beispielsweise in der DIN 52305 beschrieben sind.
Diese Schattenwurfverfahren haben jedoch den Nachteil, dass in der Regel im Durchlicht betrieben, beide Seiten eines Glassubstrats erfasst werden und dabei keine Information zur optischen Wechselwirkung nur einer Seite gewonnen wird. Wenn diese Dünnglassubstrate beispielsweise für in
Kraftfahrzeugen verwendete Head-up-Displays verwendet werden, ist jedoch anders als bei Durchsicht bereits die optische Qualität nur einer der beiden Hauptoberflächen von maßgeblicher Bedeutung. Soweit bei einer Messung in
Rückreflexion maximale Abweichungswinkel eines optischen Messstrahls ermittelt werden, ist auch dieser Wert nur von untergeordneter Bedeutung, da hierbei keine ausreichende Information zu den Eigenschaften eines mit dieser
gemessenen Hauptoberfläche gebildeten Systems vorliegen.
Folglich besteht auch ein Interesse daran, die optischen Eigenschaften eines Glassubstrats, insbesondere eines Dünnglassubstrats, mit höherer Aussagekraft erfassen zu können. Vorteilhaft wäre es hierbei, wenn ein derartiges Verfahren zu direkten Aussagen des Verhaltens innerhalb eines optischen Systems führen würde, wie beispielsweise zu Aussagen zu linsenartigen Brechkräften des gesamten gemessenen Feldes führen würde. Von besonderem Vorteil wäre es, wenn dabei die jeweilige Hauptoberfläche eines Glassubstrats, insbesondere eines Dünnglassubstrats unabhängig von der jeweiligen anderen Hauptoberfläche dieses Dünnglassubstrats gemessen werden könnte .
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der beigefügten Zeichnungen und unter Bezugnahme auf bevorzugte und besonders bevorzugte Ausführungsbeispiele detaillierter beschrieben .
Es zeigen:
Figur 1 eine schematische Schnittansicht einer
Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats einer bevorzugten
Ausführungsform der Erfindung, bei welcher die Schnittebene vertikal in etwa durch die Mitte der Vorrichtung verläuft,
Figur 2 eine schematische Schnittansicht einer
Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats einer herkömmlichen
Floatanlage, bei welcher die Schnittebene
vertikal in etwa durch die Mitte der Vorrichtung verläuft ,
Figur 3 eine schematische Aufsicht auf einen Teil einer
Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats einer bevorzugten
Ausführungsform, insbesondere auf ein
heißzuformendes Glasband auf einem Floatbad
Figur 4 den Verlauf der Viskosität des auf dem Floatbad befindlichen Glases in Strömungs- oder
Ziehrichtung, welche als Y-Richtung eines kartesischen Koordinatensystems angegeben ist, Figur 5 eine schematische Darstellung eines Messfeldes sowie eines Analysefeldes auf der Hauptoberfläche eines Dünnglassubstrates zur Messung der optischen Weglänge mittels eines
Laserinterferometer, insbesondere eines Phase- Shift-Interferometers ,
Figur 6 eine perspektivische Darstellung von mit dem
Laserinterferometer erhaltenen Oberflächendaten, insbesondere der Oberflächenstruktur eines
Dünnglassubstrates, in willkürlichen Einheiten, Figur 7 eine Graustufendarstellung von mit dem
Laserinterferometer erhaltenen Oberflächendaten eines Dünnglassubstrates, an welchem die ersten und zweiten Messreihen gemessen wurden, bei welchen die Dickenwerte von Ziehstreifen als Grauwerte zu erkennen sind,
Figur 8 eine Graustufendarstellung einer Ableitung in X- Richtung der mit dem Laserinterferometer erhaltenen Oberflächendaten eines
Dünnglassubstrates, an welchem die erste und zweite Messreihen durchgeführt wurden, bei welchen die Ableitungswerte als Grauwerte zu erkennen sind,
Figur 9 eine Graustufendarstellung optischer Brechkräfte der mit dem Laserinterferometer erhaltenen
Oberflächendaten eines herkömmlichen
Dünnglassubstrates, an welchem die erste und zweite Messreihen durchgeführt wurden, bei welchen die Brechkräfte als Grauwerte zu erkennen sind,
Figur 10 eine Graustufendarstellung optischer Brechkräfte der mit dem Laserinterferometer erhaltenen
Oberflächendaten eines erfindungsgemäßen Dünnglassubstrates, an welchem die erste und zweite Messreihen durchgeführt wurden, bei welchen die Brechkräfte als Grauwerte zu erkennen sind,
Figur 11 eine schematische Darstellung eines Messfeldes sowie eines Analysefeldes auf der Hauptoberfläche eines Dünnglassubstrates zur Messung der optischen Weglänge mittels eines
Weißlichtinterferometers , insbesondere eines Fouriertransformations-WeißIichtinterferometers , FRT-Interferometer,
Figur 12 eine Graustufendarstellung von mit dem FRT-Interferometer erhaltenen Oberflächendaten eines Dünnglassubstrates, an welchem die erste und zweite Messreihe durchgeführt wurden, bei welchen die Werte der Erhebungen auf der oberen Hauptoberfläche von Ziehstreifen als Grauwerte zu erkennen sind,
Figur 13 eine Graustufendarstellung optischer Brechkräfte der mit dem FRT-Interferometer erhaltenen
Oberflächendaten eines herkömmlichen
Dünnglassubstrates, an welchem die erste und zweite Messreihe durchgeführt wurden, bei welchen die Brechkräfte als Grauwerte zu erkennen sind, Figur 14 eine Graustufendarstellung optischer Brechkräfte der mit dem FRT-Interferometer erhaltenen
Oberflächendaten eines erfindungsgemäßen
Dünnglassubstrates, an welchem die erste und zweite Messreihe durchgeführt wurden, bei welchen die Brechkräfte als Grauwerte zu erkennen sind, Figur 15 eine Graustufendarstellung von mit dem
Laserinterferometer erhaltenen Oberflächendaten eines herkömmlichen Dünnglassubstrates, an welchem die dritte und vierte Messreihe durchgeführt wurden, bei welchen die Dickenwerte von Ziehstreifen als Grauwerte zu erkennen sind, Figur 16 eine Graustufendarstellung von mit dem
Laserinterferometer erhaltenen Oberflächendaten eines mit dem erfindungsgemäßen Verfahren
heißgeformten Dünnglassubstrates, an welchem die dritte und vierte Messreihe durchgeführt wurden, bei welchen die Dickenwerte von Ziehstreifen als
Grauwerte zu erkennen sind, Figur 17 und 18 jeweils eine schematische Darstellung einer Verbundglasscheibe gemäß bevorzugten
Ausführungsformen der Erfindung, welche jeweils eine Reflexionsfläche für ein Head-up-Display aufweist.
Detaillierte Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen Bei der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter und
besonders bevorzugter Ausführungsformen bezeichnen in den verschiedenen Figuren gleiche Bezugszeichen gleiche oder gleichwirkende Bestandteile der hier jeweils offenbarten Vorrichtung .
Die Angaben zur Dicke D des Dünnglassubstrats entsprechen, wie in Figur 17 zu erkennen, dem Abstand der zwei
Hauptoberflächen des Dünnglassubstrats und sind jeweils senkrecht zu diesen Hauptoberflächen zu messen, wie dieses durch die zwei Pfeile neben dem Bezugszeichen D in Figur 17 dargestellt ist.
Wie bereits in der prioritätsbegründenden Anmeldung
angegeben, kann das Dünnglassubstrat, insbesondere das Borosilicatglas-Dünnglassubstrat durch die Heißformung bevorzugt eine mittlere Dicke, arithmetisch gemittelt über eine Fläche der ersten und der zweiten Hauptoberfläche des Dünnglassubstrats von mindestens 10 cm * 10 cm von 0,3 mm bis 2,6 mm erhalten, bevorzugt eine Dicke von 0,7 mm bis 2,5 mm erhalten, besonders bevorzugt eine Dicke von etwa 0,7 mm oder eine Dicke von etwa 2,54 mm erhalten. Zunächst wird auf die in Figur 2 dargestellte herkömmliche Anlage zur Herstellung von gefloatetem Glas Bezug genommen, welche insgesamt, wie nachfolgend auch die erfindungsgemäße Vorrichtung das Bezugszeichen 1 trägt.
Diese Floatanlage weist einen auch als Schmelzwanne
bezeichneten Einschmelzofen 2 auf, welchem in bekannter Weise ein zu erschmelzendes Glasgemenge 3 zugeführt und mittels Brennern 4 so lange erhitzt wird, bis sich eine Glasschmelze 5 der erwünschten Zusammensetzung ausbildet.
Weitere Einrichtungen zur Homogenisierung der Glasschmelze sind dem Fachmann bekannt und werden folglich nicht
detaillierter beschrieben. Durch einen Kanal 6 gelangt das geschmolzene Glas der
Glasschmelze 5, in der Regel unter dem Einfluss der
Schwerkraft auf ein Floatbad 7, welches flüssiges Zinn aufweist und auf welchem sich das heißzuformende Glas 8 als Teil seiner Heißformung unter dem Einfluss der Schwerkraft unter Verminderung seiner Höhe seitlich ausbreiten kann.
Zur Einstellung der Temperatur des heißzuformenden Glases kann das Zinnbad 7 in einem Floatbadofen 9 angeordnet sein, welcher ebenfalls über Brenner 10 verfügt, mittels welchen die Temperatur des heißzuformenden Glases einstellbar ist.
Beim Verlassen der Schmelzwanne 2 wird das geschmolzene, heißzuformende Glas 8 über eine auch als Lippenstein oder Spout bezeichnete schräg nach unten verlaufende
Einlauflippe 11, auf welcher es sich bereits zur
verbreitern beginnt, auf das Zinnbad 7 geführt. Mit walzenförmigen Top-Rollern 12 als Zugeinrichtung wird das sich auf dem Zinnbad 7 ausbildenden Glasband 13 in seiner Ausbreitungsbewegung von der Seite her in seiner weiteren Bewegung definiert beeinflusst. In den Figuren 1 und 2 sind lediglich jeweils zwei Top-Roller beispielhaft dargestellt, jedoch können je nach Bedarf auch mehr als zwei dieser Top- Roller vorhanden sein und verwendet werden.
Nach seiner Heißformung kann das Glasband 13 gegebenenfalls in einen Kühlofen 14 überführt werden, welcher ebenfalls über Brenner 15 verfügen kann, um das Glasband einer definierten Temperaturabsenkung zu unterziehen.
Nach Verlassen des Kühlofens 14 steht das Glasband 13 dann zu einer weiteren Verarbeitung, insbesondere Vereinzelung in Glasscheiben oder Glassubstrate zur Verfügung.
Um bei der nachfolgenden Beschreibung erfindungsgemäßer Ausführungsformen räumliche Anordnungen verschiedener
Baugruppen oder von Eigenschaften, beispielsweise von heißzuformenden Gläsern oder Dünnglassubstraten klarer darstellen zu können, wird zunächst auf das in Figur 3 dargestellte kartesische Koordinatensystem verwiesen, welches eine orthogonale X-, Y- und Z-Richtung definiert, auf die sich nachfolgend alle Angaben bei den verschiedenen Figuren weiter beziehen.
Die X- und Y-Richtung spannt eine Ebene auf, welche sich horizontal erstreck und damit auch im Wesentlichen parallel zur Oberfläche des Zinnbads 7 verläuft. Senkrecht zu dieser Ebene verlaufend erstreckt sich die Z-Richtung nach oben und definiert hiermit auch die Normalenrichtung in Bezug auf das Glasband 13.
Nachfolgend wird auf Figur 1 Bezug genommen, welche als Vorrichtung zur Herstellung eines Dünnglassubstrats, insbesondere eines Dünnglassubstrats mit verminderten
Ziehstreifen, die insgesamt mit dem Bezugszeichen 1 ' versehende Floatanlage umfasst, welche über sämtliche mit Bezug auf Figur 2 beschriebenen Einrichtungen verfügt.
Als Einrichtung zum Schmelzen 16, ist hierbei die
Schmelzwanne oder der Einschmelzofen 2', eine
Zuführungseinrichtung für das Glasgemenge 3 und sind die Brenner 4 umfasst. Ferner weist die Schmelzwanne 2' einen Kanal 6 ' zur Überführung des geschmolzenen, heißzuformenden Glases 8 auf das Zinnbad 7' auf.
Beispielhaft ist hinter dem Kanal 6' der Regelschieber 17, somit das Bauteil zur Durchsatzregulierung des Glasstroms, welches auch als Tweel bezeichnet wird, angeordnet. Durch Verschiebung des Regelschiebers oder Tweels 17, welche das Bauteil 17 zur Durchsatzregulierung bilden, in Richtung des neben dem Bezugszeichen 17 dargestellten Doppelpfeils kann der Querschnitt des Kanals 6 verengt oder vergrößert werden, wodurch die Menge des pro Zeiteinheit des aus der Schmelzwanne 2 ' austretenden geschmolzenen und
heißzuformenden Glases 8 geregelt und insbesondere
definiert eingestellt werden. Ferner kann zwischen der Schmelzwanne 2 ' und dem Floatbadofen 9, insbesondere vor dem Tweel 17 eine Speiserinne angeordnet sein, welche in diesem Fall den Kanal 6, insbesondere auch über eine längere als in Figur 1 dargestellte Strecke ausbildet. Eine detailliertere Beschreibung der Durchsatzregulierung findet sich in der DE 10 2013 203 624 AI der gleichen Anmelderin, welche durch Bezugnahme auch zum Gegenstand der
vorliegenden Anmeldung gemacht wird.
In Strömungsrichtung des geschmolzenen und heißzuformenden Glases 8 gesehen ist eine Einrichtung 18 zur definierten Einstellung der Viskosität des geschmolzenen und
heißzuformenden Glases 8 vor dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung 17 und vor dem Lippenstein oder Spout 11 angeordnet.
Bei bevorzugten Ausführungsformen kann die Einrichtung 18 zur definierten Einstellung der Viskosität auch unmittelbar vor dem Lippenstein oder Spout angeordnet sein.
Diese Einrichtung 18 zur definierten Einstellung der
Viskosität umfasst eine Kammer 19, welche von der
Schmelzwanne 2 ' abgetrennt ist oder auch einen Teil von dieser bilden kann und das geschmolzenen zu einem
Dünnglassubstrat zu formenden Glas 8 zur definierten
Einstellung seiner Viskosität aufnimmt. Ferner umfasst die Einrichtung 18 zur definierten
Einstellung der Viskosität fluiddurchströmte Bereiche 20, 21, insbesondere von Wasser durchströmte Bereiche, welche Wärme von dem heißzuformenden Glas 8 aufnehmen und als metallisches Rohrsystem ausgebildet sein können. Dieses metallische Rohrsystem kann auch zur besseren Wärmeaufnahme eingefärbt oder mit einer temperaturfesten Farbe auf dessen Oberfläche versehen sein.
Alternativ oder zusätzlich können auch die Wände 22, 23, und 25 der Kammer 19 Wärme von dem heißzuformenden Glas aufnehmen, indem deren Temperatur, beispielsweise durch weitere Kühleinrichtungen definiert eingestellt wird.
Die Kammer 19 kann mit deren Wänden 22, 23, 24 und 25 auch räumlich getrennt von der Schmelzwanne 2 ' ausgebildet sein und über hochtemperaturfeste metallische Wände verfügen, um eine verbesserte Wärmeableitung zur Verfügung zu stellen, wie dies nachfolgend noch unter Bezugnahme auf Figur 3 detaillierter beschrieben wird.
Wenn die Einrichtung 18 zur definierten Einstellung der Viskosität und somit die Kammer 19 mit deren Wänden 22, 23, 24 und 25 räumlich getrennt von der Schmelzwanne 2 ' ausgebildet ist, und folglich nicht mehr einen Teil der Schmelzwanne 2 ' bildet, beziehen sich für diese
Ausführungsformen sämtliche Angaben zur Viskosität und Temperatur, welche bevorzugt für das Kanal-Ende der
Schmelzwanne und vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel getroffen werden, nur noch auf den Ort
unmittelbar vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel und umfassen dabei nicht mehr das dann räumlich von diesem Ort getrennte Ende des Kanals der Schmelzwanne.
Wie vorstehend beschrieben umfasst die Einrichtung 18 zur definierten Einstellung der Viskosität zumindest eine
Kühleinrichtung, mittels welcher die Temperatur und somit auch die Viskosität des heißzuformenden Glases 8 definiert einstellbar ist. Hiermit ist die Viskosität des Glases 8 jeweils mit einer maximalen Abweichung Δ lg n / dPas = 0,1 an einem Ort unmittelbar vor Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel, Δ lg n / dPas = 0,2 bei einer Entfernung von 1,5 m zu dem Ort unmittelbar hinter Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel und Δ lg n / dPas = 0,3 /dPas bei einer Entfernung von 12 m zu dem Ort unmittelbar hinter Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel einstellbar.
Die Einrichtung 18 zur definierten Einstellung der
Viskosität umfasst ferner eine sensorische Einheit 26, welche die Temperatur des heißzuformenden Glases 8, insbesondere mit einer maximalen Abweichung von 10 °C erfasst, und somit auch die Viskosität des heißzuformenden Glases erfasst, insbesondere mit einer maximalen Abweichung von Δ lg n / dPas = 0,1 an einem Ort unmittelbar vor
Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel, Δ lg n / dPas = 0,2 bei einer Entfernung von 1,5 m zu dem Ort unmittelbar hinter Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel und Δ lg n / dPas = 0,3 /dPas bei einer Entfernung von 12 m zu dem Ort unmittelbar hinter Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel erfasst.
Viskositätsmessungen sind einem Fachmann auf vorliegendem technischen Gebiet hinlänglich bekannt.
Eine Viskositätsmessung oder Ermittlung der Viskosität n kann jedoch auch durch eine Messung der Temperatur T des jeweiligen Glases am jeweils angegebenen Ort und eine entsprechende nachfolgende Umrechnung der Temperatur T in Viskositätswerte n vorgenommen werden.
Dann kann für das jeweilige Glas dessen Temperatur- Viskositätskurve für eine Umrechnung der Temperaturwerte T in Viskositätswerte n verwendet werden. Diese Temperatur- Viskositätskurve kann vorab ermittelt werden, indem für jede zu messende Temperatur T des jeweiligen Glases dessen Viskosität n auf herkömmliche Weise gemessen wird.
Hierfür kann aber insbesondere auch die dem Fachmann bekannte Vogel-Fulcher-Tammann-Gleichung lgn = A+B/ (T-To) , vorliegend mit Angabe der Temperaturen in °C, für das jeweilige Glas verwendet werden.
Hierzu können die entsprechenden Koeffizienten To, A und B für das jeweilige Glas zunächst experimentell ermittelt und dann zur Bestimmung der Viskosität n verwendet werden. Der Wert der gemessenen Temperatur T definiert dann den
entsprechend gemessenen und mit dieser Gleichung
umgerechneten Wert der Viskosität n.
Berührungsfreie sowie alternativ oder zusätzlich direkte Temperaturmessungen in Berührung mit dem zu messenden Glas sind dem Fachmann bekannt. Entsprechende Sensoren sind beispielsweise mit der sensorischen Einrichtung oder
Einheit 26 im Rahmen dieser Offenbarung beschrieben.
Die sensorische Einrichtung oder Einheit 26 kann sich in direktem Glaskontakt befinden und somit eine direkte
Temperaturmessung vornehmen oder auch eine Strahlungsmesseinrichtung umfassen, welche durch Erfassung des vom heißzuformenden Glases 8 emittierten Spektrums anhand des Spektrums selbst und/oder der Intensität der abgegebenen Strahlung die Temperatur erfasst. Die
sensorische Einrichtung 26 kann an einem Ort, unmittelbar vor dem Tweel 17 angeordnet sein, und dabei in direkter Nähe zu dessen in Strömungsrichtung vorderer Seite oder wie dieses beispielhaft auch der Figur 1 zu entnehmen ist auch in geringem Abstand zum Tweel 17 angeordnet sein. Statt nur einer sensorischen Einheit 26 können auch weitere
sensorische Einheiten an weiteren Orten, insbesondere an weiteren, in Strömungsrichtung beabstandeten Orten
angeordnet sein, beispielsweise kann eine weitere
sensorische Einheit auch am Anfang des Wannenabschnitts 1 oder Bays 1 somit in einer Entfernung in Ziehrichtung von bis zu 1,5 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel und auch am Anfang des Wannenabschnitts 4 oder Bays 4 und/oder in einer Entfernung in Ziehrichtung von bis zu 12 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung angeordnet sein, ohne dass dieses um der Klarheit der Darstellung
Willen eigenständig in Figur 1 nochmals dargestellt wurde.
Die Vorrichtung 1 ' zur Herstellung eines Dünnglassubstrats, insbesondere eines Dünnglassubstrats mit verminderten
Ziehstreifen, umfasst eine Einrichtung 47 zur Heißformung, welche nachfolgend auch unter Bezugnahme auf Figur 3 detaillierter beschrieben wird, die sich in Strömungs- oder Ziehrichtung hinter der Einrichtung 18 zur definierten Einstellung der Viskosität befindet und über den
Lippenstein oder Spout 11 das heißzuformende Glas 8
aufnimmt . Der Lippenstein oder Spout 8 leitet das heißzuformende Glas 8 auf ein Zinnbad 7', welches im Floatbadofen 9'
aufgenommen ist. Am Boden des Floatbadofens 9' befinden sich Querstege 27 bis 31, welche das Zinnbad in mehrere Bays 32 bis 37 unterteilen. Als Bay wird hierbei jeweils ein durch diese Querstege unterteilter Wannenabschnitt bezeichnet. Der erste Wannenabschnitt 1 mit dem
Bezugszeichen 32 oder Bay 32 beginnt oder fängt in
Strömungs- oder Ziehrichtung gesehen direkt hinter der Einlauflippe 11 bei einer Entfernung zum Bauteil zur
Durchsatzregulierung 17 oder Regelschieber 17 von 1,5 m an. Den Anfang der jeweils weiteren Wannenabschnitte oder Bays 33 bis 37 definiert jeweils der in Strömungsrichtung nachfolgende Quersteg 27 bis 31. Der in Strömungsrichtung vorderste Teil eines Querstegs 27 bis 31 definiert dabei jeweils den Anfang des nachfolgenden Wannenabschnitts 33 bis 37 oder Bays 33 bis 37. Somit liegt der Anfang des Wannenabschnitts 4 oder Bays 4, somit der Anfang des in Strömungsrichtung vierten Bays oder vierten
Wannenabschnitts bei einer Entfernung zum Bauteil 17 zur Durchsatzregulierung oder dem Regelschieber von 12m.
Floatbäder werden in der Regel in 7 oder 8 Bays unterteilt, wohingegen in Figur 1 beispielhaft nur sechs
hintereinanderliegende Bays, dies sind Bay 1 bis Bay 6 mit den Bezugszeichen 32 bis 37, dargestellt sind. Es wird zur weiteren Beschreibung auch auf DE 10 2006 051 637 AI verwiesen, in welcher Floatbäder mit entsprechenden Bays offenbart sind. Oberhalb des sich auf dem Zinnbad 7 ' ausbildenden Glasbands 13 sind, wie auch gut aus Figur 3 zu erkennen ist, weitere Top-Roller 38 bis 44 neben dem Top-Roller 12 ' zur
mechanischen Bewegung des Glasbands 13 angeordnet.
Bis zum Anfang des Bays 1, welcher das Bezugszeichen 32 aufweist, beträgt die Entfernung vom Ende des Bauteils zur Durchsatzregulierung oder Tweels 17 in Zieh- oder
Strömungsrichtung 1,5 m und bis zum Anfang des Bays 4, welcher das Bezugszeichen 35 aufweist, beträgt die
Entfernung vom Ende des Bauteils 17 zur
Durchsatzregulierung oder Tweels 17 in Zieh- oder
Strömungsrichtung 12 m, wie dieses auch der in X-Richtung skalierten Darstellung des kartesischen Koordinatensystems der Figur 3 zu entnehmen ist.
Figur 3 ist weiterhin eine alternative oder zusätzliche Ausgestaltung der Einrichtung 18 zur definierten
Einstellung der Viskosität zu entnehmen. Das geschmolzene Glas 8 befindet sich in einem Kanal 6' der von der in Figur 3 nicht dargestellten Schmelzwanne 2 ' zum Floatbadofen 9 ' führt. Die Wände 45, 46 des Kanals 6' sind aus einem hochtemperaturfesten Metall, beispielsweise Platin
gebildet, welches auch als metallische Schicht auf einem mineralischem feuerfesten Material angeordnet sein kann.
Durch die definierte Einstellung der Temperatur der Wände 45, 46 kann dem Glas 8 Wärme entzogen und auch dessen
Temperatur sowie Viskosität definiert eingestellt werden. Auch bei dieser Ausführungsform kann die vorstehend
beschriebene sensorische Einheit 26 vorzugsweise in der Nähe des Tweels 17 angeordnet sein. Vorstehend wurde für die Einrichtung 47 zur Heißformung eine Zieheinrichtung beschrieben, welche eine
Floateinrichtung, insbesondere einen Floatbadofen 9 ' mit einem Zinnbad 7' umfasst.
In weiterer Ausgestaltung kann die Erfindung jedoch auch eine Down-Draw-Zieheinrichtung, insbesondere eine Overflow- Down-Draw-Fusion-Zieheinrichtung umfassen, welche in den Figuren nicht dargestellt ist und das Verfahren nicht nur ein Floatverfahren, sondern auch ein Dow-Draw-Verfahren, insbesondere ein Overflow-Fusion-Down-Draw-Verfahren umfassen . Nachfolgend wird auf Figur 4 Bezug genommen, welche den
Verlauf der Viskosität des auf dem Floatbad 7 ' befindlichen Glases 8 oder Glasbands 13 in Strömungs- oder Ziehrichtung entlang der Mittellinie M zeigt, welche auch als Y-Richtung des kartesischen Koordinatensystems angegeben ist, und hierbei die jeweilige Viskosität n des Glases 8 oder
Glasbands 13 als Funktion des Ortes in Y-Richtung angibt.
In Figur 4 ist ein Pfeil 48 bei einem Ort in Y-Richtung vor dem Bauteil 17 zur Durchsatzregulierung oder Tweel 17 und vor dem Lippenstein 11 oder Spout 11 angegeben. Dieser Ort in Y-Richtung liegt bei bevorzugten Ausführungsformen unmittelbar vor dem Bauteil 17 zur Durchsatzregulierung oder Tweel 17, somit direkt vor dessen in Strömungsrichtung gesehen vorderem Ende. Soweit im Rahmen dieser Offenbarung Aussagen zu „vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung" oder „vor dem Tweel", insbesondere zu Viskositäten oder Temperaturen gemacht werden, beziehen sich diese Aussagen bei bevorzugten Ausführungsformen auf diesen Ort vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder auf diesen Ort vor dem Tweel. Soweit im Rahmen dieser Offenbarung Aussagen zu „vor dem Spout", insbesondere zu Viskositäten oder
Temperaturen gemacht werden, beziehen sich diese Aussagen bei den bevorzugten Ausführungsformen auf einen Ort in Strömungsrichtung unmittelbar vor dem Spout.
Soweit im Rahmen dieser Offenbarung Aussagen zu „vor dem Lippenstein", insbesondere zu Viskositäten oder
Temperaturen gemacht werden, beziehen sich diese Aussagen bei den bevorzugten Ausführungsformen auf einen Ort in Strömungsrichtung unmittelbar vor dem Lippenstein.
Der Pfeil 49 befindet sich in Y-Richtung bei dem Ort, welcher in Strömungs- oder Ziehrichtung dem hinteren Ende des Bauteils zur Durchsatzregulierung oder Tweels 17 entspricht, und somit auch den Ort unmittelbar hinter dem Bauteil 17 zur Durchsatzregulierung oder Tweel 17
bezeichnet, welcher den hier offenbarten Abstands- und Entfernungsangaben zugrunde liegt. Der Pfeil 50 liegt in Y Richtung bei einer Entfernung von 1,5 m zu diesem hinteren Ende des Bauteils zur Durchsatzregulierung oder Tweels 17 und damit an einem Ort, welcher in Strömungs- oder
Ziehrichtung bei einer bevorzugten Ausführungsform dem Anfang des Bays 1 entspricht. Der Pfeil 51 liegt in Y- Richtung bei einer Entfernung von 12 m zum hinteren Ende des Bauteils 17 zur Durchsatzregulierung oder Tweels, welches in Strömungs- oder Ziehrichtung bei dieser bevorzugten Ausführungsform dem Anfang des Bays 4
entspricht .
Mit den vorstehen beschriebenen Vorrichtungen und
Einrichtungen kann ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats, vorzugsweise zur kontinuierlichen Herstellung eines Dünnglassubstrats, insbesondere eines Dünnglassubstrats mit verminderten
Ziehstreifen, durchgeführt werden.
Bei diesem Verfahren wird nach dem Schmelzen und vor der Heißformung die Viskosität n des zu formenden, insbesondere heißzuformenden Glases 8 oder zumindest teilweise geformten Glases 13 für das zu erhaltende Dünnglassubstrat definiert eingestellt.
Diese definierte Einstellung der Viskosität n wird vor Abgabe an eine Einrichtung zur Heißformung 47, insbesondere vor der Abgabe an einen Floatbadofen 9' durchgeführt, wobei insbesondere eine definierte Abkühlung des heißzuformenden Glases 8 mittels der Einrichtung 18 durchgeführt wird.
Eine Einstellung der Viskosität n wird vor dem Lippenstein oder der Einlauflippe für die Abgabe des flüssigen Glases, dem Spout 11, vorgenommen und erfolgt insbesondere vor der Abgabe auf ein Metallbad, das Zinnbad 7 ' des Floatbadofens 9 ' .
Eine Einstellung der Viskosität kann auch vor dem
Regelschieber 17, somit dem Bauteil 17 zur Durchsatzregulierung des Glasstroms, dem Tweel 17
vorgenommen werden.
Die Viskosität des zu formenden Glases beträgt dabei am Kanal-Ende der Schmelzwanne 2 ' somit am Ende des Kanals
6 'und vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel 17 mindestens lg n /dPas = 3,75 und/oder unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder dem Tweel lg n /dPas = 3,75 bis vorzugsweise höchstens 4,5.
Am Anfang des Bays 1 und/oder in einer Entfernung in
Ziehrichtung von bis zu 1,5 m oder von 1,5 m nach dem
Bauteil 17 zur Durchsatzregulierung oder Tweel 17 kann die Viskosität bei einer bevorzugten Ausführungsform mindestens lg n /dPas = 5,25 bis vorzugsweise höchstens 5,85 betragen und/oder am Anfang des Bays 4 und/oder in einer Entfernung in Ziehrichtung von bis zu 12 m oder von 12 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel mindestens lg n /dPas = 7,05 bis vorzugsweise 7,6 betragen.
Hierbei kann die Temperatur des zu formenden oder zumindest teilweise geformten Glases bei dem Glas, für welches die nachfolgenden Messungen der Ziehstreifen oder
langgestreckten Erhebungen an der Oberfläche und dessen Dicke beschrieben werden, vor dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel mindestens 1180 °C und höchstens 1330 °C und/oder am Anfang des Bays 1 und/oder in einer Entfernung in Ziehrichtung von 1,5 m mindestens 1000 °C und höchstens 1080 °C und/oder am Anfang des Bays 4 und/oder in einer Entfernung in Ziehrichtung von etwa 12 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel mindestens 830°C und höchstens 880 °C betragen. Hierbei lag jeweils eine maximale Temperaturabweichung von höchstens 10 °C vor. Bei einer besonders bevorzugten Ausführungsform gilt für die Viskosität ni für eine erste Strecke für eine
Entfernung bis zu 1,5 m nach dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel die nachfolgende Gleichung, bei welcher yi jeweils die Entfernung oder den Abstand zu dem Ort unmittelbar hinter dem Bauteil 17 zur
Durchsatzregulierung oder Tweel 17 bezeichnet und somit am Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel den Wert Null annimmt: lg ni(yi) /dPas = (lg n0i /dPas + ai (yi) ) mit 0 m < yi < l,5 m
3,75 < lg noi /dPas < 4,5
Figure imgf000045_0001
Bei dieser bevorzugten Ausführungsform wies die Änderung der Viskosität im Bereich von 0 m < yi < 1,5 m pro
Längeneinheit von einem Meter einen Wert auf, welcher besonders bevorzugt Δ lg η / dPas / Δ y = 0,666 /m +/- 0,1 /m betrug, jedoch größer als 0,334 /m und kleiner als 0,8 /m war, wobei Δ lg n / dPas bei dieser Gleichung die
Änderung der Viskosität auf dem Abstandsbereich Δ y
bezeichnet . Damit lehrt die vorstehende Ungleichung für den Ort
unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung, somit dem Tweel oder Regelschieber bei yi = 0 für die
Viskosität
Figure imgf000046_0001
des zu formenden oder zumindest
teilweise geformten Glases das nachfolgende Intervall: lg
Figure imgf000046_0002
= lg ηι (yi=0 ) /dPas = (lg η0ι /dPas + ai(yi=0))
Damit aber gibt die vorstehende Ungleichung für den Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel, welcher bevorzugt als Regelschieber ausgebildet ist, für die Viskosität
Figure imgf000046_0003
des zu formenden oder zumindest teilweise geformten Glases, da ai(yi=0)) an diesem Ort den Wert Null annimt, an: lg
Figure imgf000046_0004
) /dPas = lg ηοι /dPas
Somit gilt für die Viskosität
Figure imgf000046_0005
an diesem Ort
unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung, welches als Regelschieber ausgebildet ist, mit der
vorstehenden Aussage 3,75 ^ lg noi /dPas ^ 4,5 dieses
Intervall auch für lg
Figure imgf000046_0006
:
Figure imgf000046_0007
Diese Werte ergeben sich im Wesentlichen aus der Tatsache, dass das Glas bei Durchtritt durch das Bauteil zur
Durchsatzregulierung, insbesondere bei Durchtritt durch den Regelschieber im Rahmen der Messgenauigkeit keine merkliche Temperaturänderung und somit im Rahmen der Messgenauigkeit keine merkliche Viskositätsänderung erfährt.
Damit wird die Viskosität n des zu formenden oder zumindest teilweise geformten Glases bei Durchtritt durch das Bauteil zur Durchsatzregulierung, insbesondere bei Durchtritt durch den Regelschieber im Rahmen der Messgenauigkeit nicht geändert . Wie vorstehend durchgeführt, können derartige Intervalle für die Viskosität η für jeden Wert von yi und von y2 entsprechend angegeben werden.
Bei einer weiteren bevorzugten Ausführungsform gilt für die Viskosität r\2 für eine zweite Strecke mit einer Entfernung von 12 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel bis zu einer Entfernung von 16 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel für die Viskosität r\2 die nachfolgende Gleichung, bei welcher y2 jeweils die
Entfernung zu dem Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel bezeichnet: lg n2(v2) /dPas = (lg n02 /dPas + a2 (yi) ) mit 12 m < Y2 ^ 16 m
7,05 < lg n02 /dPas < 7, 6
a2 (y2) = 0, 788 /m * (y2 - 12 m) .
Sämtliche Entfernungsangaben sind im Rahmen dieser
Offenbarung, soweit diese Viskositäten und insbesondere die Viskosität η, ηι, η2, oder die Temperatur des Glases betreffen jeweils beginnend von dem Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung, somit dem Tweel oder Regelschieber angegeben und sind jeweils in Zieh- oder Strömungsrichtung, somit in Y-Richtung angegeben. Dieser Ort unmittelbar nach dem oder hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung entspricht bei Ausführungsformen von Schmelzwannen, welche über einen Tweel verfügen, der in Strömungsrichtung gesehenen Hinterseite des Tweels oder Regelschiebers 17.
Bei einer ersten Ausführungsform, bei welcher die
Einrichtung 18 zur definierten Einstellung der Viskosität einen Teil der Schmelzwanne bildet, liegt das Ende des Kanals 6 'der Schmelzwanne 2 ' unmittelbar vor dem Bauteil 17 zur Durchsatzregulierung oder Tweel 17.
Die Angaben für die jeweiligen Viskositäten gelten im
Rahmen dieser Offenbarung jeweils zumindest für die Mitte des Glases 8 oder Glasbands 13, jeweils gesehen in X- und in Z-Richtung. Eine entsprechende Mittellinie M, welche in X-Richtung in der Mitte des Glases 8 oder Glasbands 13 verläuft, ist beispielhaft in Figur 3 dargestellt.
Besonders gut konnten die vorstehend beschriebenen
Viskositäten in Anlagen zur Heißformung eines
Dünnglassubstrats bei einem Durchsatz von weniger als 400 t, bevorzugt 200 t, besonders bevorzugt 100 t Glas pro Tag verwirklicht werden. Nach der Heißformung des Dünnglassubstrats bei einem
Durchsatz von weniger als 400 t pro Tag, bevorzugt 200 t pro Tag, besonders bevorzugt 100 t Glas pro Tag betrug pro Tag der Anteil des Gutglases mehr als 15 % des gesamten Glasdurchsatzes. Als Gutglas wird hierbei ein Glassubstrat verstanden, bei welchem die maximale Höhe H der hier beschriebenen Erhebungen oder somit die maximale Höhe H der Ziehstreifen im Mittel bei arithmetischer Mittelung, bereinigt von keilförmigen Dickenschwankungen und
Verwölbungen einer Analysefläche von 10 * 10 cm2,
vorzugsweise in der Mitte eines heißgeformten Glasbands senkrecht zur Ziehrichtung, weniger als 100 nm betrug und bei welchen die Quererstreckung der Erhebung jeweils kleiner als 40 mm ist.
Als bereinigt von keilförmigen Dickenschwankungen und
Verwölbungen gelten im Rahmen dieser Offenbarung Messwerte der Dicke und der Höhe, wenn der Einfluss der keilförmigen Dickenänderung K sowie der Verwolbung V auf einen Wert von weniger als 5 % reduziert ist.
Generell wurde das Glas aus Schmelze, insbesondere das Glas, welches nachfolgend bei den Messungen der Oberfläche und der Dicke des Dünnglassubstrats angegeben ist und aus der Schmelzwanne 2 ' in die Einrichtung 18 zur definierten Einstellung der Viskosität eintrat, in der Einrichtung 18 mit einer ersten Temperatur von beispielsweise 1500 °C oder bei Borosilicatglas beispielsweise auch von 1650 °C
aufgenommen und für den Eintritt in die Heißformgebung auf eine zweite Temperatur von beispielsweise 1050 °C oder bei Borosilicatglas beispielsweise auf 1300°C, abgekühlt und mit dieser Temperatur dann in die Einrichtung 47 zur
Heißformung überführt.
Die Abkühlung betrug dabei jedoch mindestens 250 °C, bevorzugt 300 °C, besonders bevorzugt 450 °C, jedoch bei Borosilicatglas besonders bevorzugt 350 °C und auch eine Abkühlung von 500 °C war mit der Einrichtung 18 möglich. Ausführungsformen bevorzugter Gläser Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren können,
insbesondere in der hier beschriebenen Vorrichtung, vorteilhaft die nachfolgend aufgeführten Gläser verwendet werden .
1. Borosilicatgläser
2. Aluminosilicatgläser
3. Lithiumaluminosilicatgläser
Bei den hier offenbarten Zusammensetzungen sind alle angegebenen Werte, sowohl in der Beschreibung als auch in den Ansprüchen jeweils in Gew.-% angegeben, soweit nicht abweichend hiervon für die jeweilige Zusammensetzung anderes angegeben wird.
Hierbei versteht der Fachmann insbesondere als
Borosilicatgläser Gläser, die folgende Komponenten
enthalten (in Gew.-%) :
Si02 70 - 87
B203 7 - 25
Na20 + K20 0,5 - 9
Figure imgf000050_0001
CaO 0 - 3.
Ein erstes bevorzugtes Borosilicatglas hat die nachfolgende Zusammensetzung und umfasst: Si02 70-86 Gew.-%
Figure imgf000051_0001
B2O3 9,0-25 Gew.-%
Na20 0,5-5,0 Gew.-%
K20 0-1,0 Gew.-%
Li20 0-1,0 Ge .-%.
Ein zweites bevorzugtes Borosilicatglas ist ein
Alkaliborosilicatglas mit guten thermischen
Vorspanneigenschaften. Es enthält
Si02 78,3-81,0 Gew.
B2O3 9,0-13,0 Gew.-
Figure imgf000051_0002
Na20 3, 5-6, 5 Gew.-^
K20 0, 3-2, 0 Gew.-^
CaO 0,0-2,0 Gew.-^
2. Aluminosilicatgläser können bevorzugt die nachfolgende Zusammensetzung in Gew.-% aufweisen:
Si02 55 bis 65
Na20 mehr als 12 bis 17
Figure imgf000051_0003
K20 2 bis 4,4
MgO 3, 9 bis 10
Zr02 0 bis 5
ZnO 0 bis 4
CaO 0 bis 4
Na20 + K20 + MgO + ZnO + CaO 15 bis 28
Sn02 0 bis 1
T1O2 + Ce02 weniger oder gleich 1 3. Lithiumaluminosilicatgläser können eine Zusammensetzung aufweisen, die die nachfolgenden Komponenten enthält (in
Si02 60 bis 75
A1203 10 bis 28 und
L12O 3 bis 15.
Vorteilhaft kann auch ein Lithium-Aluminosilicatgl verwendet werden, umfassend
- eine Zusammensetzung in mol-% aus:
60-70 S1O2
Figure imgf000052_0001
0,0-0, 9 B2O3
9, 5-15 Li20
8, 2-<12 Na20
0,0-0,7 K20
0, 0-0,2 MgO oder
0,2-2,3 CaO
0, 0-0,4 ZnO
1,3-2, 6 Zr02
0,0-0,5 P2O5
0,1 Fe203, bevorzugt 0, 0003-0, 100 Fe203
-0,3 Sn02
0,2 Ce02, bevorzugt 0,0004-0,200 Ce02 wobei vorzugsweise - das Lithium-Aluminosilicatglas einen E-Modul von
zumindest 80 GPa aufweist,
- eine Glasübergangstemperatur Tg von kleiner als 540°C und/oder eine Verarbeitungstemperatur von kleiner als
1150°C aufweist,
- für eine Formgebung mittels eines Floatprozesses geeignet ist und,
- chemisch und/oder thermisch vorspannbar ist, so dass es eine Biegebruchfestigkeit, gemessen mit der
Doppelringmethode nach EN 1288-5, von zumindest 550 N/mm2 aufweist .
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung umfasst, beispielsweise bei einem Verbundglas, insbesondere für ein Kraftfahrzeug, die zweite Scheibe, ein mit dem erfindungsgemäßen Verfahren heißgeformtes Dünnglassubstrat mit einem Lithium-Aluminium-Silicatglas mit einem L12O- Gehalt von 4,6 Gew.-% bis 5,4 Gew.-% und einem Na2<0-Gehalt von 8,1 Gew.-% bis 9,7 Gew.-% und einem Al2<03-Gehalt von 16 Gew.-% bis 20 Gew.-%.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung umfasst, beispielsweise die erste Scheibe bei einem Verbundglas, insbesondere für ein Kraftfahrzeug, ein Lithium-Aluminium- Silicatglas mit einem Li20-Gehalt von 4,6 Gew.-% bis 5,4
Gew.-% und einem Na2<0-Gehalt von 8,1 Gew.-% bis 9,7 Gew.-% und einem Al2<03-Gehalt von 16 Gew.-% bis 20 Gew.-%.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung umfasst die zweite, als Dünnglassubstrat vorliegende Scheibe bei dem Verbundglas folgende Bestandteile: 58 bis 65 Gew.-% Si02
16 bis 20 Gew.-% A1203
0, 1 bis 1 Gew. -% B203
4,6 bis 5,4 Gew.-% Li20
8, 1 bis 9, 7 Gew. -% Na20
Gegebenenfalls 0,05 bis 1,0 Gew.-% K20
0,2 bis 2, 0 Gew.-% CaO
2, 5 bis 5, 0 Gew. -% Zr02
Dabei können gegebenenfalls ein oder mehrere der
Bestandteile Sn02, Ce02, P2Os und ZnO zu einem Anteil von insgesamt 0 Gew.-% bis 2,5 Gew.-% umfasst sein. Ein weiterer bevorzugter Zusammensetzungsbereich für ein
Dünnglassubstrat, insbesondere die zweite Scheibe umfasst:
60 bis 62 Gew.-% Si02
17,5 bis 19,5 Gew.-% A1203
0,5 bis 0,7 Gew.-% B203
4, 8 bis 5,2 Gew. -% Li20
8,5 bis 9, 5 Gew. -% Na20
0,2 bis 0,5 Gew.-% K20
0,5 bis 1,2 Gew.-% CaO
3,2 bis 3,8 Gew.-% Zr02
Gegebenenfalls können ein oder mehrere der Bestandteile Sn02, Ce02, P2Os und ZnO zu einem Anteil von insgesamt 0,25 Gew.-% bis 1,6 Gew.-% umfasst sein. Figur 17 zeigt schematisch und nicht maßstabsgetreu eine Verbundglasscheibe 59, welche eine erste Scheibe 60 umfasst, eine polymerisch ausgebildete Lage 61, welche zwischen der ersten Scheibe 60 und der zweiten Scheibe 62 angeordnet ist und diese verbindet, sowie schließlich die zweite Scheibe 62.
Allgemein, ohne Beschränkung auf das hier abgebildete Ausführungsbeispiel ist es jedoch auch möglich, dass die Verbundglasscheibe mehr als zwei Scheiben umfasst.
Beispielhaft kann dies der Fall sein, wenn besonders hohe mechanische Belastungen erwartet werden und entsprechend eine besonders hohe Festigkeit der Verbundglasscheibe angestrebt sind.
Die polymerisch ausgebildete Lage 61 hat eine Dicke
zwischen mindestens 0,5 mm und höchstens 1,7 mm. Sie kann als Folie, beispielsweise als Folie umfassend EVA und/oder Polyvinylbutyral , oder als Lage, welche mehrere Folien umfasst, beziehungsweise als mehrlagige Folie, ausgebildet sein. Es ist aber auch möglich, dass die polymerisch ausgebildete Lage durch Aufbringen von Monomeren auf eine der beiden Scheiben 60, 62 sowie durch Starten einer
Polymerisierungsreaktion die polymerisch ausgebildete Lage in situ zu bilden. Auch ist es allgemein möglich, dass die polymerische Lage 61 aus einem Verbund von Folien gebildet ist. Insbesondere können die Folien auch PET und/oder PE umfassen. Bei einer mehrlagigen Folie können die Lagen unterschiedliche Zusammensetzungen und physikalische
Eigenschaften aufweisen. Allgemein kann die Folie oder eine Lage einer mehrlagigen Folie eine Low-E bzw. eine
sogenannte Solar-Control- Beschichtung aufweisen.
Weiterhin ist in der abgebildeten Ausführungsform die erste Scheibe 60 dicker ausgebildet als die zweite Scheibe 62. Dies ist beispielsweise dann von Vorteil, wenn die erste Scheibe eine geringere intrinsische Festigkeit aufweist als die Scheibe 62, sodass zur Gewährleistung einer insgesamt ausreichenden Festigkeit der Verbundglasscheibe 59 die Dicke der ersten Scheibe 2 entsprechend erhöht wird.
Die zweite Scheibe 64 weist bevorzugt eine Dicke zwischen mindestens 0,3 mm und höchstens 1,5 mm auf und umfasst das hier beschriebene Dünnglassubstrat 54 mit verminderten Ziehstreifen oder besteht aus diesem. Lediglich
beispielhaft ist nur in Figur 17 die Dicke des
Dünnglassubstrats 54 mit dem Bezugszeichen D, jedoch dabei auch als Offenbarung für alle weiteren hier beschriebenen Ausführungsformen des Dünnglassubstrats 54 angegeben.
Die Gläser der ersten und der zweiten Scheibe 59, 62 sind bevorzugt so aufeinander abgestimmt, dass sich die
Temperaturen, bei welchen die beiden Gläser der ersten und der zweiten Scheibe im Viskositätsbereich zwischen lg n /dPas = 7 und lg n /dPas = 10 die gleiche Viskosität aufweisen, voneinander nur um maximal 50 °C, bevorzugt um maximal 30°C, besonders bevorzugt um maximal 20°C und ganz besonders bevorzugt um maximal 10 °C voneinander
unterscheiden . Bevorzugt liegt die zweite Scheibe 62 als chemisch
vorgespannte Scheibe vor, bevorzugt als chemisch
vorgespannte Scheibe mit einer Druckspannungszone von mindestens 40 pm Dicke, wobei die Druckspannung mindestens 150 MPa und maximal 900 MPa beträgt.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung beträgt die Druckspannung maximal 800 MPa, bevorzugt maximal 600 MPa. Eine solche Druckspannung wird insbesondere durch ein Vorspannen mittels eines Natriumnitrat-Kaliumnitrat- Gemischs erhalten.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung beträgt die Druckspannung maximal 500 MPa, bevorzugt maximal 400 MPa, besonders bevorzugt maximal 300 MPa und ganz besonders bevorzugt maximal 250 MPa. Solche Druckspannungen sind insbesondere durch ein Vorspannen mittels einer reinen Natriumnitratschmelze zu erzielen. Gemäß einer in Figur 18 dargestellten Ausführungsform der Erfindung liegt die Verbundglasscheibe 1 als gebogene
Verbundglasscheibe, insbesondere als Kraftfahrzeugscheibe vor, sodass die nach außen weisende Seite der zweiten
Scheibe 62 konkav gewölbt ist. Bei dieser Formung zur
Erzeugung der Wölbung kann das erfindungsgemäße
Dünnglassubstrat der zweiten Scheibe 62 geringfügigen
Dickenänderungen der Dicke D unterliegen.
Sowohl die in Figur 17 als auch die in Figur 18
dargestellte Verbundglasscheibe 59 kann, insbesondere bei Verwendung als Kraftfahrzeugscheibe, eine Reflexionsfläche 65 für ein Head-up-Display ausbilden, insbesondere, wenn diese in einem Head-up-Display für auf dem Land, auf oder im Wasser sowie in der Luft betriebene Fahrzeuge,
insbesondere motorbetriebene Fahrzeuge verwendet wird. Bei einer solchen Verwendung der Verbundglasscheibe 59 kann die erste Scheibe 60 der Außenseite des Fahrzeugs und die zweite Scheibe 62 der Innenseite des Fahrzeugs zugewandt sein. Hierbei kann die Reflexionsfläche 65 für ein Head-up- Display auf der dann in den Innenraum des Fahrzeugs weisenden Oberfläche 63 der zweiten Scheibe 62 liegen.
Hierbei kann sich die Reflexionsfläche 65 über die gesamte Oberfläche 63 erstrecken oder auch nur über einen
Teilbereich der Oberfläche 63 erstrecken, welcher mit einem Doppelpfeil 66 beispielhaft in den Figuren 15 und 16 dargestellt ist. Head-up-Displays sind dem Fachmann
wohlbekannt und bedürfen folglich keiner weiteren
detaillierteren Darstellung.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung weist die zweite Scheibe 62 einen Zebrawinkel von größer oder gleich 45° auf, insbesondere von größer oder gleich 50°, besonders bevorzugt von größer oder gleich 55°, bei einer Dicke von 0,7 mm. Bezüglich des Zebrawinkels und der nachfolgend erwähnten Ring-on-Biegefestigkeit wird auf die Anmeldung DE 10 2016 125 488 verwiesen, welche durch
Inkorporierung auch zum Gegenstand der vorliegenden
Anmeldung gemacht wird, deren Priorität für diese Anmeldung jedoch nicht beansprucht wird, da die jeweils dieser
Voranmeldung DE 10 2016 125 488 entsprechenden
Dünnglassubstrate, insbesondere auch bei Verwendung für eine Kraftfahrzeugscheibe, im Rahmen der vorliegenden Offenbarung nun Dünnglassubstrate mit verminderten
Ziehstreifen sind, welche jedoch in der Voranmeldung DE 10 2016 125 488 nicht offenbart sind.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung weist die zweite Scheibe 62 eine Ring-on-Ring-Biegefestigkeit von mehr als 150 MPa, insbesondere mehr als 250 MPa, bevorzugt mehr als 300 MPa, weiterhin bevorzugt mehr als 400 MPa, besonders bevorzugt mehr als 500 MPa und ganz besonders bevorzugt mehr als 600 MPa und weniger als 900 MPa auf.
Weiterhin ist die Verbundglasscheibe 1 gemäß einer weiteren Ausführungsform so ausgebildet, dass die zweite Scheibe 4 bei einer Dicke von 0,7 mm und einer Wellenlänge von 840 nm eine Transmission von mehr als 91,5 %, bei einer
Wellenlänge von 560 nm von mehr als 91,5 % und bei 380 nm von mehr als 90 % aufweist. Dies ist, wie bereits weiter oben genannt, besonders vorteilhaft für die Realisierung einer guten Durchsicht durch die Scheibe 1, sodass auf diese Weise die FahrgastSicherheit weiter verbessert wird.
Bevorzugt ist die Verbundglasscheibe 59 so ausgestaltet, dass die Temperaturen, bei welchen die Gläser der ersten Scheibe 60 und der zweiten Scheibe 62 im Viskositätsbereich zwischen lg n /dPas = 7 bis lg n /dPas = 10 die gleichen Viskositätswerte aufweisen, sich bei jeweils gleicher
Viskosität voneinander nur um maximal 50 °C, bevorzugt um maximal 30°C, besonders bevorzugt um maximal 20°C und ganz besonders bevorzugt um maximal 10 °C voneinander
unterscheiden . Gemäß einer nochmals weiteren Ausführungsform der Erfindun liegt die zweite Scheibe 62 im Wesentlichen durch den Austausch von Lithium-Ionen und/oder Natrium-Ionen gegen Natrium-Ionen und/oder Kalium-Ionen chemisch vorgespannt vor. Als „im Wesentlichen durch den Austausch von Lithium- Ionen gegen Natrium-Ionen vorgespannt" wird eine zweite Scheibe 62 dann bezeichnet, wenn der wesentlichen Anteil der Vorspannung, also mindestens 80% der erzeugten
Vorspannung, auf den Austausch von Lithium-Ionen gegen Natrium-Ionen zurückzuführen ist. Insbesondere ist eine Scheibe dann als im Wesentlichen durch den Austausch von Lithium-Ionen gegen Natrium-Ionen vorgespannt, wenn die Vorspannung ausschließlich durch diesen Austausch erhalten wird .
Die zweite Scheibe 62 kann auch aus einem
Aluminosilikatglas bestehen, bei welchem die chemische Vorspannung im Wesentlichen durch den Austausch von
Natrium-Ionen gegen Kalium-Ionen erfolgte.
Die zweite Scheibe 62 kann auch aus einem traditionellen Kalk-Natron-Glas oder aus einem für die chemische
Vorspannbarkeit speziell angepassten Kalk-Natron-Glas bestehen, bei dem ebenfalls Natrium-Ionen gegen Kalium- Ionen ausgetauscht sind.
Fig. 16 zeigt die Ausführungsform einer Verbundglasscheibe 59, welche insbesondere eine Kraftfahrzeugscheibe sein kann. Hierbei ist wiederum eine erste Scheibe 60, eine polymerisch ausgebildete Lage 61 sowie eine zweite Scheibe 62 von der Verbundglasscheibe 59 umfasst. Allerdings ist diesmal die Verbundglasscheibe 59 gewölbt ausgebildet. Dabei ist es möglich, dass sich, wie abgebildet, die Dicke der einzelnen Scheiben 60, 62, sowie die der polymerisch ausgebildeten Lage 61 von der Mitte der Verbundglasscheibe 59 hin zu den Rändern verjüngt. Allerdings ist es auch möglich, dass die Dicke der einzelnen Scheiben 60, 62 sowie auch der polymerisch ausgebildeten Lage 61 jeweils konstant ist oder dass nur einzelne der die Verbundglasscheibe 59 aufbauenden Lagen 60, 61, 62 eine über den Querschnitt der Scheibe 59 variierende Dicke aufweisen. Beispielsweise können eine oder mehrere der Lagen keilförmig ausgebildet vorliegen .
Vorliegend ist die Verbundglasscheibe 59 so ausgebildet, dass die nach außen weisende Oberfläche 63 der zweiten Scheibe 62 konkav gewölbt ist.
Allgemein, ohne Beschränkung auf das hier abgebildete Beispiel, kann die Verbundglasscheibe 59 auch so
ausgebildet sein, dass die nach außen weisende Oberfläche 64 der ersten Scheibe 60 konkav gewölbt ist.
Ein nochmals weiterer bevorzugter Zusammensetzungsbereich für ein Dünnglassubstrat, insbesondere die zweite Scheibe eines Verbundglases mit verminderten Ziehstreifen umfasst:
61 bis 62 Gew.-% Si02
17,5 bis 18,5 Gew.-% A1203
0,5 bis 0,7 Gew.-% B203
4, 9 bis 5, 1 Gew. -% Li20
8,8 bis 9,3 Gew.-% Na20
0,2 bis 0,5 Gew.-% K20 0,5 bis 1,2 Gew.-% CaO
3, 2 bis 3, 8 Gew.-% Zr02
Gegebenenfalls können dabei ein oder mehrere der
Bestandteile SnC>2, CeC>2, P2O5 und ZnO zu einem Anteil insgesamt 0,5 Gew.-% bis 1,0 Gew.-% umfasst sein.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung umfasst das Dünnglassubstrat, insbesondere die zweite Scheibe eines Verbundglases die folgende
Zusammensetzung in mol-%:
60 bis 70 Si02
Figure imgf000062_0001
0, 0 bis 0, 9 B203
9, 6 bis 11, 6 Li2o
8, 2 bis kleiner Na20
0, 0 bis 0,7 K20
0, 0 bis 0,2 MgO oder 0 bis 1,0 MgO
0, 2 bis 2,3 CaO
0, 0 bis 0,4 ZnO
1, 3 bis 2, 6 Zr02
0, 0 bis 0,5 P2O5
0, 003 bis 0, 100 Fe203
0, 0 bis 0,3 Sn02
0, 004 bis 0,200 Ce02.
Bevorzugt gelten dabei folgende Verhältnisse für die Zusammensetzung des Lithium-Aluminium-Silicatglases :
(Li20 + AI2O3) / (Na20 + K20) > 2, 0,47 < Li20 / (Li20 + Na20 + K20) < 0,7
0,8 < CaO + Fe203 + ZnO + P205 + B203 + Ce02 < 3, wobei zumindest vier aus den sechs Oxiden von der
Glaszusammensetzung umfasst sind.
Weiterhin bevorzugt umfasst dabei das Lithium-Aluminium- Silicatglas eine Glasübergangstemperatur Tg von kleiner als 540 °C und/oder eine Verarbeitungstemperatur von weniger als 1150°C.
Die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren erhaltenen
Dünnglassubstrate wurden in ihren Abmessungen in z-Richtung sowie in ihren optischen Eigenschaften nach dem Vermessen analysiert und berechnet und dabei die Verminderung der Ziehstreifen gegenüber herkömmlichen Verfahren
festgestellt .
Es wurden dabei bei einer ersten Messreihe Messungen beider Hauptoberflächen zur Bestimmung von Dickenabweichungen von einem ideal planen Dünnglassubstrat als Dickenmessungen des Dünnglassubstrats und wurden bei einer zweiten Messreihe Messungen der Erhebungen oder Ziehstreifen auf der oberen Hauptoberfläche des Dünnglassubstrats 54 vorgenommen.
Die Daten der ersten Messreihe erfassen somit die optische Wirkung eines Dünnglassubstrats, bei welchem das Licht durch die obere und untere Hauptoberfläche hindurchtritt und beschreiben diese Wirkung auch anhand der hierdurch entstehenden optischen Brechkräfte, welche durch beide Oberflächen gebildet werden. Hierdurch können Beeinflussungen beispielsweise von optischen Strahlengängen für hinter dem Dünnglassubstrat 54 angeordnete sensorische Einrichtungen beschrieben werden, welche beispielsweise der sensorischen Erfassung des Umfelds eines Kraftfahrzeugs dienen.
Die Daten der zweiten Messreihe erfassen die optischen Wirkungen nur einer Hauptoberfläche, wie diese
beispielsweise bei in Durchlicht verwendeten
Dünnglassubstraten 54 auftreten, wenn diese beispielsweise auf einer Seite plan geschliffen und poliert sind oder auf einer Seite in einen Werkstoff mit gleichem Brechungsindex, beispielsweise in einer Verbundglasscheibe eingebettet sind .
Hierzu wird nachfolgend zur Erläuterung der ersten
Messreihe, somit den Messungen beider Hauptoberflächen zur Bestimmung von Dickenabweichungen von einem ideal planen Dünnglassubstrat zunächst auf Figur 5 Bezug genommen. Diese zeigt eine schematische Darstellung eines Messfeldes zur Messung der optischen Weglänge zwischen der oberen
Hauptoberfläche und der unteren Hauptoberfläche und somit von Abmessungen in Z-Richtung. Mittels eines
Laserinterferometers , insbesondere mittels eines Phase- Shift-Interferometers , wurden Messungen durchgeführt welches sich über die gesamte obere Hauptoberfläche 53 des Dünnglassubstrates 54 erstreckten.
Als Hauptoberflache eines Dunnglas- oder Glassubstrats werden in üblicher Weise die beiden sich gegenüberliege Seiten des Substrats bezeichnet, welche jeweils die größte flächige Erstreckung aufweisen.
Ferner ist ein Analysefeld 52 dargestellt, in welchem die nachfolgend beschriebenen Auswertungen vorgenommen wurden, deren Ergebnisse in Tabelle 1 angegeben sind. In dem
Analysefeld 52 sind beispielhaft auch Konturlinien VLI und VL2 dargestellt, welche eine Verwölbung V gegenüber einem ideal planen Dünnglassubstrat 54 lediglich schematisch andeuten und um der Klarheit Willen stark überhöht
wiedergeben. Derartige Verwolbungen V erheben sich in typischer Weise in positiver oder negativer Z-Richtung bezogen auf die Hauptebenen eines ideal planen
Dünnglassubstrats 54 und können in Zieh- oder Y-Richtung symmetrisch, insbesondere symmetrisch zu der Mittellinie M ausgebildet sein und sich mit deren Längsrichtung in Zieh¬ oder Y-Richtung erstrecken. Obwohl wegen der nachfolgenden messtechnischen Erläuterungen die Konturlinien VLI und VL2 beispielhaft nur für das Analysefeld 52 dargestellt sind, können sich derartige Verwolbungen auch über das gesamte Dünnglassubstrat 54 erstrecken. Hierbei gibt der Wert der Verwölbung V den maximalen Abstand eines Punktes auf einer Hauptoberfläche des verwölbten Dünnglassubstrats relativ zu einem entsprechenden Punkt auf der Hauptoberfläche eines ideal planen Dünnglassubstrat ab.
Das Dünnglassubstrat wurde vor der jeweiligen Messung der Dickenabweichung nach Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens aus dem Glasband 13 in Form eines
rechteckförmigen Substrats vereinzelt. Die Messungen der Dickenabweichung wurden in der in Figur 5 dargestellten Form auf einer kreisförmigen Messfläche mit einem
Durchmesser von 300 mm der Messung unterzogen.
Zum Vergleich wurde ein herkömmliches Dünnglassubstrat ebenfalls aus einem Glasband in gleicher Weise vereinzelt und der nachfolgenden Messung sowie Auswertung unterzogen. Dabei wurde darauf geachtet, dass sämtliche gemessenen Dünnglassubstrate aus der Mitte des Glasbands, senkrecht zur Ziehrichtung, somit aus der Mitte des Glasbands 13 in x-Richtung, dem Glasband nach Heißformung entnommen wurden.
Hierbei wurden Messungen an der Hauptoberfläche 53 in Z- Richtung des kartesischen Koordinatensystems vorgenommen und lag das Dünnglassubstrat 54 jeweils mit dessen
Hauptoberflächen parallel zur X-Y-Ebene auf einer planen Unterlage auf, wie dieses auch für sämtliche weiteren hier offenbarten Messungen der Fall war.
Es wurden Messungen der Dickenabweichung von einem ideal planen Glassubstrat vorgenommen, welche in Tabelle 1 auch als Dickenschwankung Dm /m bezeichnet sind, und dabei
Messungen der Erhebung der beiden Hauptoberfläche in z- Richtung durch Messung des optischen Weglängenunterschieds zwischen der oberen und unteren Hauptoberfläche bezüglich eines ideal planen Glassubstrats vorgenommen.
Diese Messung der durch die Dicke der Erhebungen beider Seiten gebildeten Dickenabweichungen von einem ideal planen Substrat, somit Dickenschwankungen oder auch variköse
Dickenschwankungen einer ersten Messreihe wurde mittels eines Laserinterferometer (phase shift interferometer) der Firma ZYGO vorgenommen.
Es handelte sich bei dem Laserinterferometer um ein Fizeau- Interferometer mit einer Apertur von 300 mm. Es wurde dabei ein Zygo Verifire System mit einem Messfleck von 30 cm (circular) eingesetzt.
Es wurde im QPSI™ rapid mechanical phase-shifting Modus gemessen und es betrug die Kameraeinstellung 1024x1024, welches jeweils 1024 Messpunkten in X- und in X-Richtungen entsprach .
Die Messunsicherheit in Z-Richtung war <30 nm, entsprechend Lambda/20 bei einer Wellenlänge von 633 nm.
Die seitliche Unsicherheit in X- und in Y-Richtung betrug 0,31 mm . Piston Zernike Removal war aktiviert und Daten wurden lediglich zur Unterdrückung des Einflusses einer
keilförmigen Dickenänderung K sowie einer Verwolbung V sowie unter Verwendung der Zygo Mx Software (Version
7.0.0.15) mit einem Gaussian Spline Filter Hochpass mit einem Cutoff von 40mm verwendet. Der Spline Beaton
Coefficient und die Spline Tension Controls waren auf Default Settings eingestellt.
Der Einfluss der keilförmigen Dickenänderung K sowie der Verwolbung V konnte mit der vorstehend beschriebenen
Filterung in Bezug auf das Messergebnis der Messung der jeweiligen Dickenschwankung Dm /m auf einen Wert von weniger als 5 % reduziert werden. Hierdurch konnte die Messung der Dickenschwankung Dm /m am jeweiligen Ort der Messung bereinigt werden von keilförmigen
Dickenschwankungen und Verwölbungen .
Zum besseren Verständnis, wie derartige Dicken- oder auch Oberflächenmessungen in optische Brechkräfte umgesetzt werden können, werden die nachfolgenden Erläuterungen gegeben .
Die optische Brechkraft P(x,y) einer Oberfläche eines Glases, insbesondere eines Dünnglassubstrats, mit
Erhebungen in z-Richtung mit der Höhe H ergibt sich dann, wenn man diese entlang einer in x-Richtung verlaufenden Geraden jeweils bei einem festen Wert von y bestimmt:
Figure imgf000068_0001
wobei
n den Brechungsindex des gemessenen
Dünnglassubstrats darstellt und jeweils bei dem gemessenen Dünnglassubstrat einen Wert von 1,525 aufwies,
z'(x) und z"(x) die erste und zweite
Ableitung der Höhe z (x) in x-Richtung darstellen und
die Höhe H in z-Richtung am Ort x ist Es gilt ferner für die gesamte Brechkraft beider
Hauptoberflächen des Dünnglassubstrats 54:
wobe1 r gesamt (x) die gesamte Brechkraft beider
Hauptoberflächen des
Dünnglassubstrats am Ort x ist Ptop(x) die Brechkraft der oberen
Hauptoberflächen des
Dünnglassubstrats am Ort x ist und Pbottom (x) die Brechkraft der unteren
Hauptoberflächen des
Dünnglassubstrats am Ort x ist.
Es konnten mit dem verwendeten Verfahren der Dickenmessung Pgesamt (x) am Ort y und mittels des nachfolgend beschriebenen Verfahrens der zweiten Messreihe mittels Fourier- Interferometrie sowohl die obere Hauptoberfläche 53 als Werte ztop(x) als auch die untere Hauptoberfläche mit Werten 'Zbottom (X ) des Dünnglassubstrats am Ort y 54 gemessen, deren Brechkräfte PtoP(x) und Pbottom (x) bestimmt werden und daraus die gesamte Brechkraft Pgesamt (x) des Dünnglassubstrats 54 angegeben oder auch nur die Brechkraft PtoP(x) oder Pjoottom(x) von nur einer der beiden Hauptoberflächen des
Dünnglassubstrats 54 angegeben werden.
Der Einfluss der Dicke des als ansonsten, somit bis auf die Erhebungen ideal plan angenommenen Dünnglassubstrats 54, konnte jeweils vernachlässigt werden, insbesondere auch weil die optische Weglänge innerhalb des Dünnglassubstrats nur vernachlässigbaren Einfluss auf die optischen
Brechkräfte hatte. Als Dickenschwankung des Dünnglassubstrats, welche auch als variköse Änderung bezeichnet wird, ergeben sich aus diesen Messungen damit jeweils am Ort y, an welchem der jeweilige linienförmige Messscan in X-Richtung durchgeführt wurde bei Messung der zweiten nachfolgend beschriebenen Messreihe:
D (X) = Zbottom(x) - Ztop(x) ~ DGlas(x) . Wobei
Z bottom ( X ) die Entfernung zur unteren
Hauptoberfläche des
Dünnglassubstrats am Ort x
ztop(x) die Entfernung zur oberen
Hauptoberfläche des
Dünnglassubstrats am Ort x und
Doias die Dicke des als ideal
planparallel unterstellten
Dünnglassubstrats am Ort x war.
Aufgrund der der hier beschriebenen Filterung der
gemessenen Dünnglassubstrate aus der Mitte des Glasbands konnte der Einfluss einer keilförmigen Dickenänderung K und Verwolbung V vermindert und auf diese Weise von diesem Einfluss bereinigt werden.
Diese so aus den Messwerten ermittelten Werte für Ptop(x), Pbottom(x) gemessen mittels Fourierinterferometrie der nachfolgend beschriebenen zweiten Messreihe und PgeSamt (x) gemessen mittels des Weißlicht interferometers , insbesondere des Zygo-Weißlicht interferometers der ersten Messreihe, stellen erheblich präzisere Angaben für die optische
Leistung eines Dünnglassubstrats, insbesondere für die erzielbare Auflösung und den zu erhaltenen Kontrast
innerhalb eines optischen Systems dar, als dies
herkömmliche Schattenwurf erfahren leisten konnten.
Dies gilt insbesondere dann, wenn die erfindungsgemäßen Dünnglassubstrate Teil einer Frontscheibenprojektions¬ einrichtung, insbesondere eines Head-up-Display, für auf dem Land, auf oder im Wasser sowie in der Luft betriebene
Fahrzeuge, bilden oder wenn hinter diesen optische Sensoren zur Erfassung der Umgebung eines solchen Fahrzeugs
angeordnet sind .
Es wurde bei diesen ersten und zweiten Messreihen
beispielhaft jeweils ein Dünnglassubstrat 54 mit einem Glas mit einer Dicke von 0,7 mm und der folgenden
Zusammensetzung verwendet:
60 bis 62 Gew.-% Si02
17,5 bis 19,5 Gew.-% A1203
0,5 bis 0,7 Gew.-% B203
4, 8 bis 5,2 Gew. -% Li20
8,5 bis 9, 5 Gew. -% Na20
0,2 bis 0,5 Gew.-% K20
0,5 bis 1,2 Gew.-% CaO
3, 2 bis 3, 8 Gew.-% Zr02.
Es konnten bei diesem Glas ein oder mehrere der
Bestandteile Sn02, Ce02, P2Os und ZnO zu einem Anteil von insgesamt 0,25 Gew.-% bis 1,6 Gew.-% umfasst sein. Da die vorliegenden Messwerte in x-Richtung gemessen wurden und zur Erfassung der Werte in y-Richtung jeweils
zeilenweise parallel in x-Richtung verlaufende,
nebeneinanderliegende Werte der Messungen in x-Richtung aneinandergereiht wurden, ergaben sich dabei für jede Zeile eines y-Werts die zugehörigen x-Werte dieser Zeile.
Es konnte durch diese zeilenweise Abtastung mit der
vorstehend beschriebenen Messung die gesamte
Dickenabweichung des Dünnglassubstrats 54 sowohl in x- als auch in y-Richtung erfasst werden. Das quadratische
Analysefeld 52 der Figur 5, welches für die nachfolgende Tabelle 1 ausgewertet wurde, wies dabei eine Größe von 18 * 18 cm2 auf.
Es handelt sich hierbei um eine eindimensionale Näherung, die zu einem zweidimensionalen Bild der Hauptoberfläche 53 zusammengesetzt wurde. Diese Näherung ist jedoch
gerechtfertigt, da Waviness und starke Krümmungen jeweils nur senkrecht zur Ziehrichtung und somit in X-Richtung auftraten und somit auch entsprechend erfasst werden konnten. Auch die Struktur der Erhebungen, somit der
Ziehstreifen, welche sich mit deren Längsrichtung im
Wesentlichen in Ziehrichtung, somit in Y-Richtung
erstrecken, wie auch aus Figur 6 zu erkennen, ließ diese Näherung zu.
Um auch für herkömmliche Verfahren, bei welchen
beispielsweise im Schattenwurf der Ablenkungswinkel
parallelen Lichts gemessen wird, entsprechende Werte mit dem vorliegenden Verfahren, insbesondere dem Verfahren der zweiten Messreihe, bereitzustellen und diese Werte, beispielsweise in Bogenminuten zu berechnen kann dieser Ablenkungswinkel mit den hier vorliegenden gemessenen
Werten wie folgt jeweils für eine der Hauptoberflächen des Dünnglassubstrats, beispielsweise mit dem hier offenbarten Verfahren der zweiten Messreiche mittels
Fourierinterferometrie bestimmt werden. Der
Ablenkungswinkel berechnet sich dann aus den vorliegenden Werten aus der nachfolgenden Formel in Bogenminuten zu:
ArcTan(z'(x))
60
Dieser Ablenkungswinkel entspricht im Wesentlichen den herkömmlichen Messverfahren und es kann folglich auch dieser Wert mit dem vorstehend beschriebenen Mess- und Analyseverfahren bereitgestellt werden.
In Figur 6 sind beispielhaft die bei der zweiten Messreihe mit dem Fouriertransformations-Weißlichtinterferometer, FRT-Interferometer, erhaltenen Messwerte für die obere Oberfläche somit die Hauptoberfläche 53 des vorstehend erwähnten Dünnglassubstrat 54 in willkürlichen Einheiten in einer perspektivischen Ansicht dargestellt. Dieser Ansicht ist gut zu entnehmen, dass Erhebungen auf der Hauptoberfläche 53 des Dünnglassubstrats 54,
insbesondere langgezogene Erhebungen ausgebildet wurden, welche sich im Wesentlichen in Normalenrichtung und somit in Z-Richtung erheben und sich mit deren Längserstreckung im Wesentlichen in Ziehrichtung und somit in Y-Richtung erstrecken. Bei diesen, auch als Ziehstreifen bezeichneten langgezogenen Erhebungen betrug die Längserstreckung in Y- Richtung jeweils mehr als das Zweifache, insbesondere mehr als das Dreifache, und in der Regel mehr als das Fünffache der Quererstreckung der jeweiligen Erhebung in X-Richtung. Diese auch als Ziehstreifen bezeichneten Erhebungen tragen in Figur 6 die Bezugszeichen 55 bis 58. Beispielhaft für die jeweilige Quererstreckung einer Erhebung ist die
Quererstreckung Q der Erhebung 57 in x-Richtung mit einem Doppelpfeil Q dargestellt und bezeichnet die größte
Erstreckung einer Erhebung senkrecht zu deren Längsrichtung somit quer zur Längsrichtung der Erhebung oder des
Ziehstreifens, welcher durch diese Erhebung gebildet wird.
Beispielhaft ist auch für die Höhenmessung sämtlicher weiterer Punkte auf der Mess- oder Analysefläche 52 die mit einem Doppelpfeil dargestellte Höhe H des Ziehstreifens 57 oder der Erhebung 57 am Ort y = 0, x = xi mit einem Wert von z = H angegeben. Diese Höhe H entspricht der gemessenen Höhe ztop(x) am Ort y = 0 des kartesischen
Koordinatensystems in Bezug auf eine ideal plane Oberfläche der Hauptoberfläche 53 des Dünnglassubstrats 54. Die ideal plane Oberfläche ist für die Orte y = 0 in X-Richtung als Bezugslinie 0Pi in Figur 6 dargestellt. Ferner ist mit dem Bezugszeichen K eine keilförmige
Dickenänderung und dem Bezugszeichen V eine Verwolbung gegenüber einer ideal planen Oberfläche dargestellt.
Diese Ziehstreifen bildenden Erhebungen wiesen, wie
nachfolgend noch detaillierter für die zweite Messreihe beschrieben eine Höhe H in Z-Richtung auf, die bereinigt von keilförmigen Dickenschwankungen und Verwolbungen im Mittel bei arithmetischer Mittelung über die Analysefläche 52 der Figur 11 von 10 * 10 cm2, vorzugsweise gemessen in der Mitte eines heißgeformten Glasbands senkrecht zur Ziehrichtung, und somit in X-Richtung in jedem gemessenen Fall kleiner als 100 nm waren.
Eine besonders bevorzugte Ausführungsform, des gemessenen Dünnglassubstrats 54, wies sogar eine Höhe H der Erhebungen in Z-Richtung auf, die im Mittel, bereinigt von
keilförmigen Dickenschwankungen und Verwolbungen kleiner als 90 nm und sogar kleiner als 80 nm waren.
Zur Mittelung der Dickenabweichungen, welche auch als Dickenschwankung bezeichnet werden, wurde ebenfalls eine arithmetische Mittelung der wie vorstehend beschrieben gefilterten Messwerte über die gesamte Analysefläche 52 der Figur 5 von 18*18 cm2 durchgeführt. Es wurden mit dem vorstehend beschriebenen Verfahren der ersten Messreihe die nachfolgenden, in Tabelle 1
angegebenen Messwerte für die Dickenschwankungen oder
Dickenabweichungen des Dünnglassubstrats 54 gewonnen. Tabelle 1
0mm Filter Dm /m (AD/Ax) m / (m/mm) (Opt . Power
/dpt
Dünnglas alt 156, 5E-09 68, 5E-09 34, 1E-03 Dünnglas neu 105, 3E-09 37, 3E-09 19, 9E-03 In vorstehender Tabelle 1 sind die dezimalen Exponenten jeweils als Werte von E angegeben, wobei um der Kürze willen beispielsweise E-9 für den Faktor *10~9 und E-3 für den Faktor *10~3 verwendet wurde.
Als optische Brechkraft PgeSamt (x) wurde in der vorstehenden Tabelle dieser Begriff mit Opt . Power abgekürzt und somit dann die gesamte Brechkraft beider Hauptoberflächen des Dünnglassubstrats am Ort x angegeben.
In der vorstehenden Tabelle 1 sowie in der weiteren
Beschreibung und in den Ansprüchen gibt ein tiefgestellter Index m jeweils an, dass der jeweilige damit bezeichnete Wert über das gesamte Analysefeld in X-Richtung
arithmetisch gemittelt wurde.
Die in Tabelle 1 und 2 jeweils als Dünnglas alt
bezeichnetet Werte wurden bei einem herkömmlichen
Dünnglassubstrat gewonnen, welches die gleiche
Glaszusammensetzung aufwies wie das erfindungsgemäße
Dünnglassubstrat, welches in Tabelle 1 und 2 als Dünnglas neu bezeichnet wurde. Aus dieser Tabelle ist zu erkennen, dass die wie vorstehend beschrieben gefilterten und arithmetisch gemittelten Werte der Dicke der Erhebungen oder Ziehstreifen erheblich abgesunken sind. So wird beispielsweise in der Mitte des Glasbands (in X-Richtung und somit senkrecht zur
Strömungsrichtung gesehen) 13 eine Abnahme von einem mittleren Wert von 156 * 10~9 m auf einen Wert von
105 *10~9 m festgestellt. Dieser Tabelle 1 sind auch deutlich verminderte
arithmetisch gemittelte Steigungswerte (AD/Ax)m / (m/mm) zu entnehmen, welches mit der vorstehend angegebenen Gleichung für die Ablenkungswinkel auch zu deutlich verminderten gemittelten Ablenkungswinkeln führt. Gleiches gilt für die gemessenen und analysierten Werte der optischen
Brechkräfte . Es ergab sich aus diesen gemittelten Werten der wie
vorstehend beschrieben gefilterten Messungen als 97,5 % Quantil, dass 97,5 % der Messpunkte eine variköse
Dickenabweichung somit eine insgesamte Dickenabweichung beider Hauptoberflächen hatten bei dem mit dem
erfindungsgemäßen Verfahren heißgeformten
Dünnglassubstraten von weniger als 292 nm und bei dem herkömmlich heißgeformten Dünnglassubstrat von weniger als 441 nm. Für (AD/Ax)m ergab sich für die herkömmlichen
Dünnglassubstrate für 97,5 % der Messpunkte ein Wert von weniger als 187 * 10~9 / (m/mm) und für die
erfindungsgemäßen Dünnglassubstrate ein Wert von weniger als 108 * 10-9 m/mm.
Für die Brechkraft ergab sich für die herkömmlichen
Dünnglassubstrate für 97,5 % der Messpunkte ein wie
vorstehend beschrieben gefilterter, somit von Einflüssen der keilförmigen Dickenänderung K und der Verwolbung V bereinigter sowie gemittelter Wert von weniger als 99 mdpt und für die erfindungsgemäßen Dünnglassubstrate
entsprechend ein Wert von weniger als 66,0 mdpt .
Die Figuren 7 bis 10 stellen zur Veranschaulichung weitere Ergebnisse in Form von Graustufenbildern dar und zeigen jeweils in Figur 7 eine Graustufendarstellung von mit dem Laserinterferometer erhaltenen Oberflächendaten des
erfindungsgemäßen Dünnglassubstrates 54, bei welchen die Dickenwerte von Ziehstreifen als Grauwerte zu erkennen sind, in Figur 8 eine Graustufendarstellung der Ableitung in X-Richtung der mit dem Laserinterferometer erhaltenen Dickendaten und somit varikösen Oberflächendaten des
Dünnglassubstrates 54, bei welchen die Ableitungswerte als Grauwerte zu erkennen sind.
Bei den Darstellungen der Figuren 7 bis 16 sind keine
Rohdaten der jeweiligen Messung gezeigt, sondern bereits Korrekturen von Verwolbungen mittels Filterung eingebracht, welche nachfolgend zu den jeweiligen Messreihen noch detaillierter beschrieben werden.
Figur 9 zeigt eine Graustufendarstellung optischer
Brechkräfte der mit dem Laserinterferometer erhaltenen Oberflächendaten eines herkömmlichen Dünnglassubstrates, und Figur 10 eine Graustufendarstellung optischer
Brechkräfte eines erfindungsgemäßen Substrats, bei welchen die Brechkräfte ebenfalls jeweils als Grauwerte zu erkennen sind . Es ist deutlich zu erkennen, dass die optischen Brechkräfte des erfindungsgemäßen Dünnglassubstrats wesentlich geringer als die des herkömmlichen Dünnglassubstrats sind. Die vorstehenden Werte wurden mit einem zweiten
Messverfahren in einer zweiten Messreihe ergänzt, welches mittels eines Weißlichtinterferometers , insbesondere eines Fouriertransformations-Weißlichtinterferometers , FRT- Interferometers durchgeführt wurden, das nachfolgend unter Bezugnahme auf die Figuren 11 bis 14 beschrieben wird.
Figur 11 zeigt ähnlich zu Figur 5 eine schematische
Darstellung eines Mess- oder Analysefelds 52, welches sich über die gesamte obere Hauptoberfläche des quadratischen Dünnglassubstrats 54 mit einer Größe von 18 * 18 cm2 erstreckt .
Im Gegensatz zu der Darstellung aus Figur 5 wurde für das in Figur 11 dargestellte Messfeld 52 ein quadratisches Dünnglassubstrat mit den Abmessungen von 18 cm * 18 cm und einem Analysefeld von 10 cm * 10 cm verwendet. In dem
Analysefeld 52 der Figur 11 sind beispielhaft auch
Konturlinien KLI, KL2 und KL3 dargestellt, welche eine im Wesentlichen keilförmige Dickenänderung K des
Dünnglassubstrat 54 gegenüber einem ideal planen
Dünnglassubstrat 54 lediglich schematisch angedeutet und um der Klarheit Willen stark überhöht wiedergeben. Derartige im Wesentlichen keilförmige Dickenänderungen K erheben sich in typischer Weise in positiver oder negativer Z-Richtung bezogen auf die Hauptebenen eines ideal planen
Dünnglassubstrats 54 und erstrecken sich mit deren Längsrichtung in Zieh- oder Y-Richtung. Obwohl wegen der nachfolgenden messtechnischen Erläuterungen die
Konturlinien KLI, KL2 und KL2 beispielhaft nur für das
Analysefeld 52 dargestellt sind, können sich derartige keilförmige Erhebungen auch über das gesamte
Dünnglassubstrat 54 erstrecken. Hierbei gibt der Wert der keilförmigen Dickenänderung K den maximalen Abstand eines Punktes auf einer Hauptoberfläche des Dünnglassubstrats 54 mit keilförmiger Dickenänderung relativ zu einem
entsprechenden Punkt auf der Hauptoberfläche eines ideal planen Dünnglassubstrat ab.
Für die Messung der herkömmlichen Dünnglassubstrate wurden sowohl bei der ersten als auch bei der zweiten Messreihe jeweils Dünnglassubstrate mit den gleichen
Zusammensetzungen, somit den gleichen Gläsern und mit den gleichen Abmessungen wie für die erfindungsgemäß
heißgeformten Dünnglassubstrate verwendet. Es wurde bei der zweiten Messreihe ein
Fouriertransformations-Interferometer Microprof® (Art. MPR 200 30 mit Sensoren FRT CWL 600 pm) , hergestellt von Fries Research & Technology GmbH, Friedrich-Ebert-Str . , D-51429 Bergisch Gladbach, verwendet.
Dabei lagen die folgenden Verhältnisse vor.
Die Messung wurde an quadratischen Flächen mit einer Fläche von 18* 18 cm2 vorgenommen, jedoch für die hier angegebenen Messwerte nur innerhalb des Analysefelds 52 ausgewertet. Es wurden 500 Scans, somit in Y-Richtung nebeneinander liegende zeilenweise Messungen, mit jeweils 500 Punkten und einem Punktabstand in X-Richtung von 0,36 mm vorgenommen. Der Versatz der Zeilen in Y-Richtung wies jeweils einen Abstand von 0,36 mm auf. Ausgewertet wurde beispielhaft nur die obere Fläche innerhalb des Analysefelds 52 eines 0,7 mm dicken Dünnglassubstrats, somit das Analysefeld 52 von dessen oberer Hauptoberfläche 53. Die Scaneinheit (gantry design) wurde mit einer
Geschwindigkeit von 15 mm/ s als Messgeschwindigkeit
betrieben, bei einer möglichen Maximalgeschwindigkeit von 300 mm/s) . Die seitliche Auflösung betrug in X- und Y- Richtung < 2 pm und die Auflösung in vertikaler Richtung somit in Z-Richtung betrug 6 nm.
Der Messbereich erfasste in X- und Y-Richtung 180 x 180 mm mit 500 gemessenen Linien mit einem Abstand zwischen den gemessenen Linien von 360 pm.
Es wurden dabei 500 Messpunkte pro Linie erfasst und der Abstand zwischen den Messpunkten betrug jeweils 360 pm.
Die Messrichtung der einzelnen Scans entlang der jeweiligen Messlinie verlief jeweils senkrecht zur Ziehrichtung, somit in X-Richtung.
Der Abstand zwischen Sensor und der Messoberfläche betrug ungefähr 3.74 mm bei einer Dicke des jeweils gemessenen Dünnglassubstrats von 0.7 mm.
Die erhaltenen Werte wurden zeilenweise geglättet, um hochfrequentes Rauschen zu unterdrücken. Es wurde ein kubischer Spline mit einem Flexibility
Parameter lambda = 5 verwendet sowie ein kubischer Spline mit einem Flexibility Parameter lambda = 10000, welches einem Hochpassfilter mit einer Länge von 40 mm entsprach, um jeweils den Einfluss von Verwolbungen V und keilförmigen Dickenänderungen K des Dünnglassubstrats zu unterdrücken. Es wurde hierzu das SAS JMP™ Programm verwendet.
Beide gefilterte Zeilen wurden voneinander abgezogen z (x, lambda=5) - z (x, lambda=l 0000 ) , um einen Bandpassfilter zu ergeben, der im Wesentlichen nur noch die tatsächlich für die gemessenen Werte der Erhebungen z (x) befreit von
Störungen der jeweiligen Messwerte bereitzustellen, welches einem Bandpassfilter mit 3dB Bandpass Länge von ca. 7-35 mm entsprach.
Der Einfluss der keilförmigen Dickenänderung K sowie der Verwölbung V konnte mit der vorstehend beschriebenen
Filterung in Bezug auf das Messergebnis der Messung der jeweiligen Höhe H auf ein Wert von weniger als 5 %
reduziert werden. Hierdurch konnte die Messung der Höhe am jeweiligen Ort der Messung bereinigt werden von
keilförmigen Dickenschwankungen und Verwolbungen. Das Analysefeld 52 mit den Abmessungen von 10 * 10 cm2 wurde ebenfalls der jeweiligen arithmetischen Mittelung für die wie vorstehend beschrieben erhaltenen Daten der oberen Hauptoberfläche 53 zugrunde gelegt. Figur zeigt 12 beispielhaft eine Graustufendarstellung von mit dem FRT-Interferometer erhaltenen Oberflächendaten eines erfindungsgemäßen Dünnglassubstrates 54, bei welchen die Dickenwerte von Ziehstreifen als Grauwerte zu erkennen sind .
Ein Vergleich der herkömmlichen mit erfindungsgemäßen
Dünnglassubstraten ist den Figuren 13 und 14 zu entnehmen, bei welchen Figur 13 eine Graustufendarstellung optischer
Brechkräfte der mit dem FRT-Interferometer erhaltenen
Oberflächendaten eines herkömmlichen Dünnglassubstrates und Figur 14 eine Graustufendarstellung optischer Brechkräfte der mit dem FRT-Interferometer erhaltenen Oberflächendaten der oberen Hauptoberfläche eines erfindungsgemäßen
Dünnglassubstrates 54.
Hierbei wurden die nachfolgenden, in Tabelle 2 aufgeführten Ergebnisse im arithmetischen Mittel gemittelt über die
Analysefläche 52 erhalten.
Tabelle 2
Spline Filter Zm /m (AZ/Ax)m (Opt. Power) m, (Winkel) 5-35mm I (m/mm) einseitig /dpt
Dünnglas alt 108,6E-09 30,2E-09 ä, 1E-03 208E-03
Dünnglas neu 70,lE-09 20, 8E-09 5, 2E-03 142, 9E-03
In dieser Tabelle bezeichnen: Zm: Das arithmetische Mittel der gefilterten, und somit von keilförmigen Dickenschwankungen und Verwölbungen bereinigten Werte der Höhe H der Erhebungen auf der Analysefläche 52, auf der oberen Hauptoberfläche 53 des
Dünnglassubstrats 54 von 10x10cm2
(AZ/Ax)m: Das arithmetische Mittel der Ableitung
senkrecht zur Ziehrichtung der
Oberflächenwelligkeit der Ziehstreifen auf einer Analysefläche von 10x10cm2
(Opt. Power) m, einseitig : Das arithmetische Mittel der
errechneten optischen Brechkraft der oberen
Hauptoberfläche 53 auf einer Mittelungsfläche von 10x10cm2
(Winkel) m: Das arithmetische Mittel des errechneten
Ablenkungswinkels bei senkrecht einfallendem Strahl auf die Hauptoberfläche 53 arithmetisch gemittelt über eine Analysefläche von 10 * 10cm2.
Somit konnten mit dem hier beschriebenen Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats Erhebungen auf einer der Hauptoberflächen des Dünnglassubstrats, insbesondere langgezogene Erhebungen, welche sich im Wesentlichen in Normalenrichtung erheben, ausgebildet werden, welche eine Längserstreckung größer als das Zweifache, bevorzugt
Dreifache, besonders bevorzugt das Fünffache einer
Quererstreckung der Erhebung aufweisen und eine Höhe H aufweisen, die im arithmetischen Mittel bei Mittelung einer Analysefläche von 10 * 10 cm2, vorzugsweise in der Mitte eines heißgeformten Glasbands senkrecht zur Ziehrichtung, kleiner als 100 nm, bevorzugt kleiner als 90 nm, besonders bevorzugt kleiner als 80 nm und bei einem Borosilicatglas- Dünnglassubstrat kleiner als 85 nm, bevorzugt kleiner als 75 nm und besonders bevorzugt kleiner als 65 nm waren und bei welchen die Quererstreckung der Erhebung jeweils kleiner als 40 mm waren.
Nicht nur die gemittelten Werte, sondern auch die
Verteilung der absoluten Werte wurde durch das
erfindungsgemäße Verfahren erheblich verbessert.
97,5 % der Messpunkte des erfindungsgemäß heißgeformten Dünnglassubstrats hatten eine Abweichung in Z-Richtung somit maximale Erhebung der Ziehstreifen von weniger als 173, 9 nm und bei dem herkömmlich geformten Dünnglassubstrat waren es 273,5 nm.
Für 97,5% der Messpunkte betrug der Wert von (AD/Ax)m
/ (m/mm) für das erfindungsgemäß heißgeformte Glas weniger als 57,1 und für das herkömmlich geformte Glas 78,3. Für 97,5% der Messpunkte betrug der Wert der Brechkraft
einseitig für das herkömmlich geformte Dünnglassubstrat weniger als 22,3 mdpt und für das erfindungsgemäß
heißgeformte Dünnglassubstrat weniger als 17,5 mdpt. Mit dem Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats wies durch die Heißformung das Dünnglassubstrat 54 im
Wesentlichen eine keilförmige Dickenänderung K über eine Länge von 1 m senkrecht zur Ziehrichtung, somit in X- Richtung einen Wert von weniger als 100 pm auf. Ferner wies hierbei durch die Heißformung das Dünnglassubstrat 54 eine Verwölbung V über eine Länge von 1 m senkrecht zur Ziehrichtung, somit in X-Richtung einen Wert von weniger als 600 pm auf.
Bei der vorstehenden Beschreibung waren alle Mittelungen arithmetische Mittelungen, die innerhalb der jeweiligen Analysefläche 52 vorgenommen wurden, wobei bei der Dickenmessung, somit der Messung der
varikösen Dickenabweichung eine Analyse- und
Mittelungsfläche von 18 * 18 cm2 und bei der Messung der Höhe H der Erhebungen allein auf der Hauptoberfläche 53, eine Analyse- oder Mittelungsfläche von 10 * 10 cm2
verwendet wurde . Mit dem vorstehend beschriebenen Verfahren konnte durch die Heißformung das Dünnglassubstrat 54 mit einer mittleren Dicke, gemittelt über eine Fläche der ersten und der zweiten Hauptoberfläche des Dünnglassubstrats 54 von mindestens 10 cm * 10 cm von 0,3 mm bis 2,6 mm erhalten werden.
Es waren aber auch weitere bevorzugte Ausführungsformen des Dünnglassubstrats 54 mit einer Dicke von 0,7 bis 2,5 mm zu erhalten, sowie besonders bevorzugte Ausführungsformen mit einer Dicke von etwa 0,7 mm oder einer Dicke von etwa 2,54 mm. Ferner konnten mit dem erfindungsgemäßen Verfahren sogar Glassubstrate mit einer Dicke von bis zu 10 mm oder sogar einer Dicke von bis zu 12 mm hergestellt werden. Die nachfolgenden Messungen einer dritten und vierten
Messreihe wurden an einem 2mm dicken Borosilicatglas vorgenommen, welches die nachfolgende Zusammensetzung aufwies :
Si02 70-86 Gew.-%
Figure imgf000087_0001
B2O3 9,0-25 Gew.-%
Na20 0,5-5,0 Gew.-%
K20 0-1,0 Gew.-%
Li20 0-1,0 Gew.-%.
Die Messung der durch die Dicke der Erhebungen beider
Seiten gebildeten Dickenabweichungen von einem ideal planen Substrat, somit Dickenschwankungen oder auch variköse
Dickenschwankungen der dritten Messreihe wurde ebenfalls mittels eines Laserinterferometer (phase shift
interferometer) der Firma ZYGO vorgenommen.
Es handelte sich bei dem Laserinterferometer um ein Fizeau- Interferometer mit einer Apertur von 24 ". Es wurde dabei ein Zygo Verifire System mit einem Messfleck von 24"
(circular) eingesetzt.
Es wurde im Standart TWF Modus gemessen und es betrug die Kameraeinstellung 1024x1024, welches jeweils 1024
Messpunkten in X- und in X-Richtungen entsprach.
Die Messunsicherheit in Z-Richtung war <30 nm, entsprechend Lambda/20 bei einer Wellenlänge von 633 nm.
Die seitliche Unsicherheit in X- und in Y-Richtung betrug 0, 62 mm. Piston und Tilt Zernike Removal war aktiviert und Daten wurden lediglich zur Unterdrückung des Einflusses einer keilförmigen Dickenänderung K sowie einer Verwolbung V sowie unter Verwendung der Zygo Mx Software (Version 7.0.0.15) mit einem Gaussian Spline Filter Hochpass mit einem Cutoff von 40mm verwendet. Der Spline Beaton
Coefficient und die Spline Tension Controls waren auf Default Settings eingestellt. Der Einfluss der keilförmigen Dickenänderung K sowie der Verwolbung V konnte mit der vorstehend beschriebenen Filterung in Bezug auf das Messergebnis der Messung der jeweiligen Dickenschwankung Dm /m auf einen Wert von weniger als 5 % reduziert werden. Hierdurch konnte die Messung der Dickenschwankung Dm /m am jeweiligen Ort der Messung bereinigt werden von keilförmigen
Dickenschwankungen und Verwölbungen .
Es wurden mit dem vorstehend beschriebenen Verfahren dritten Messreihe die nachfolgenden, in Tabelle 3
angegebenen Messwerte für die Dickenschwankungen oder Dickenabweichungen des Dünnglassubstrats 54 gewonnen.
Tabelle 3
0mm Filter Dm /m (AD/Ax) m / (m/mm) (Opt . Power
/dpt
84,3E-09 24,3E-09 16, 5E-03
BOrOneu 59, 7E-09 21, 1E-09 16, 0E-03 In vorstehender Tabelle 3 sind die dezimalen Exponenten jeweils als Werte von E angegeben, wobei um der Kürze willen beispielsweise E-9 für den Faktor *10~9 und E-3 für den Faktor *10~3 verwendet wurde.
Als optische Brechkraft PgeSamt (x) wurde in der vorstehenden Tabelle dieser Begriff mit Opt . Power abgekürzt und somit dann die gesamte Brechkraft beider Hauptoberflächen des Dünnglassubstrats am Ort x angegeben.
In der vorstehenden Tabelle 3 sowie in der weiteren
Beschreibung und in den Ansprüchen gibt ein tiefgestellter Index m jeweils ebenfalls an, dass der jeweilige damit bezeichnete Wert über das gesamte Analysefeld in X-Richtung arithmetisch gemittelt wurde.
Die Messungen der dritten und vierten Messreihe zeigen ebenfalls die mit der Erfindung verbesserten Werte.
Die Figuren 15 und 16 stellen zur Veranschaulichung weitere Ergebnisse in Form von Graustufenbildern dar.
Es ist deutlich zu erkennen, dass die optischen Brechkräfte des erfindungsgemäßen Dünnglassubstrats wesentlich geringer als die des herkömmlichen Dünnglassubstrats sind.
Die vorstehenden Werte der dritten Messreihe wurden mit einem weiteren Messverfahren in einer vierten Messreihe ergänzt, welches mittels eines Weißlichtinterferometers , insbesondere eines Fouriertransformations-
Weißlichtinterferometers , FRT-Interferometers durchgeführt wurden, das bereits unter Bezugnahme auf die Figuren 11 bis 14 beschrieben wurde.
Es wurde bei der vierten Messreihe ebenfalls ein
Fouriertransformations-Interferometer Microprof® (Art. MPR 200 30 mit Sensoren FRT CWL 600 pm) , hergestellt von Fries Research & Technology GmbH, Friedrich-Ebert-Str . , D-51429 Bergisch Gladbach, verwendet. Dabei lagen die folgenden Verhältnisse vor.
Die Messung wurde an quadratischen Flächen mit einer Fläche von 18* 18 cm2 vorgenommen, jedoch für die hier angegebenen Messwerte nur innerhalb des Analysefelds 52 ausgewertet.
Es wurden 500 Scans, somit in Y-Richtung nebeneinander liegende zeilenweise Messungen, mit jeweils 500 Punkten und einem Punktabstand in X-Richtung von 0,36 mm vorgenommen. Der Versatz der Zeilen in Y-Richtung wies jeweils einen Abstand von 0,36 mm auf. Ausgewertet wurde beispielhaft nur die obere Fläche innerhalb des Analysefelds 52 eines 2 mm dicken Dünnglassubstrats, somit das Analysefeld 52 von dessen oberer Hauptoberfläche 53. Die Scaneinheit (gantry design) wurde mit einer
Geschwindigkeit von 15 mm/ s als Messgeschwindigkeit
betrieben, bei einer möglichen Maximalgeschwindigkeit von 300 mm/s) . Die seitliche Auflösung betrug in X- und Y- Richtung < 2 pm und die Auflösung in vertikaler Richtung somit in Z-Richtung betrug 6 nm.
Der Messbereich erfasste in X- und Y-Richtung 180 x 180 mm mit 500 gemessenen Linien mit einem Abstand zwischen den gemessenen Linien von 360 pm.
Es wurden dabei 500 Messpunkte pro Linie erfasst und der Abstand zwischen den Messpunkten betrug jeweils 360 pm.
Die Messrichtung der einzelnen Scans entlang der jeweiligen Messlinie verlief jeweils senkrecht zur Ziehrichtung, somit in X-Richtung. Der Abstand zwischen Sensor und der Messoberfläche betrug ungefähr 5,04 mm bei einer Dicke des jeweils gemessenen Dünnglassubstrats von 2,0 mm.
Die erhaltenen Werte wurden zeilenweise geglättet, um hochfrequentes Rauschen zu unterdrücken.
Es wurde ein kubischer Spline mit einem Flexibility
Parameter lambda = 5 verwendet sowie ein kubischer Spline mit einem Flexibility Parameter lambda = 10000, welches einem Hochpassfilter mit einer Länge von 40 mm entsprach, um jeweils den Einfluss von Verwölbungen V und keilförmigen Dickenänderungen K des Dünnglassubstrats zu unterdrücken. Es wurde hierzu das SAS JMP™ Programm verwendet.
Beide gefilterte Zeilen wurden voneinander abgezogen z (x, lambda=5) - z (x, lambda=l 0000 ) , um einen Bandpassfilter zu ergeben, der im Wesentlichen nur noch die tatsächlich für die gemessenen Werte der Erhebungen z (x) befreit von
Störungen der jeweiligen Messwerte bereitzustellen, welches einem Bandpassfilter mit 3dB Bandpass Länge von ca. 7-35 mm entsprach. Der Einfluss der keilförmigen Dickenänderung K sowie der Verwölbung V konnte mit der vorstehend beschriebenen
Filterung in Bezug auf das Messergebnis der Messung der jeweiligen Höhe H auf ein Wert von weniger als 5 %
reduziert werden. Hierdurch konnte die Messung der Höhe am jeweiligen Ort der Messung bereinigt werden von
keilförmigen Dickenschwankungen und Verwolbungen.
Das Analysefeld 52 mit den Abmessungen von 10 * 10 cm2 wurde ebenfalls der jeweiligen arithmetischen Mittelung für die wie vorstehend beschrieben erhaltenen Daten der oberen Hauptoberfläche 53 zugrunde gelegt.
Hierbei wurden die nachfolgenden, in Tabelle 4 aufgeführten Ergebnisse im arithmetischen Mittel gemittelt über die Analysefläche 52 erhalten.
Tabelle 4
Spline Zm /m (ΔΖ/Δχ)„, (Opt. (Winkel)
Filter 5- /(m/mm) Power) m, /rad
35mm einseitig /dp
Figure imgf000092_0001
Boroneu 37,7E-09 12,0E-09 3,6E-03 82,4E-03
In den Tabellen 3 und 4 bezeichnen:
Boroneu ein mit dem vorliegend offenbarten Verfahren heißgeformtes Borosilicatglas BorOait ein mit einem herkömmlichen Verfahren
heißgeformtes Borosilicatglas
Zm: Das arithmetische Mittel der gefilterten, und
somit von keilförmigen Dickenschwankungen und Verwolbungen bereinigten Werte der Höhe H der
Erhebungen auf der Analysefläche 52, auf der oberen Hauptoberfläche 53 des
Dünnglassubstrats 54 von 10x10cm2
(AZ/Ax)m: Das arithmetische Mittel der Ableitung
senkrecht zur Ziehrichtung der
Oberflächenwelligkeit der Ziehstreifen auf einer Analysefläche von 10x10cm2
(Opt. Power) m, einseitig : Das arithmetische Mittel der
errechneten optischen Brechkraft der oberen
Hauptoberfläche 53 auf einer Mittelungsfläche von
10x10cm2
(Winkel) m: Das arithmetische Mittel des errechneten Ablenkungswinkels bei senkrecht einfallendem Strahl auf die Hauptoberfläche 53 arithmetisch gemittelt über eine Analysefläche von 10 * 10cm2.
Bei dem hier offenbarten Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats, insbesondere zu dessen Heißformung, konnte die Höhe der auch als Ziehstreifen bezeichneten Erhebung jeweils mindestens um den in der nachfolgenden Gleichung angegebenen Wert im Abhängigkeit von der Dicke des Dünnglassubstrats vermindert werden. Die nachfolgende Ungleichung gilt insbesondere für die dickenabhängige
Erhebung auf einer der Hauptoberflächen des
Dünnglassubstrates bei welchen die Quererstreckung der Erhebung jeweils kleiner als 40 mm ist, im Mittel, bereinigt von keilförmigen Dickenschwankungen und
Verwölbungen bei arithmetischer Mittelung einer
Analysefläche von 10 * 10 cm2. Hneu/nm < Hait/nm * ( 0 , 85-0 , 1 *D/mm) wobei
D die Dicke des Dünnglassubstrates in mm, für einen Bereich von für einen Bereich von 0,3 mm bis 2,6 mm
Hneu die Höhe der Erhebung auf einer der
Hauptoberflächen eines erfindungsgemäßen Dünnglassubstrats in nm,
Halt die Höhe der Erhebung auf einer der
Hauptoberflächen eines herkömmlichen
Dünnglassubstrats in nm.
In der Regel waren sogar stärkere Verbesserungen, somit stärkere Verminderungen der Höhe H der Ziehstreifen zu erhalten, sodass die vorstehende Gleichung lediglich eine Grenze für den in der Regel zu erreichenden Erfolg angibt.
Diese Gleichung gilt in strengem Sinne insbesondere für Dünnglassubstrate mit einer Dicke von 0,3 mm bis 2,6 mm. Jedoch zeigten auch Dünnglassubstrate mit einer Dicke, welche größer als 2,6 mm war, eine ähnliche Verbesserung, welche durch diese Ungleichung jedoch für höhere Werte der Dicke als 2,6 mm, insbesondere ab einem Wert der Dicke von 6mm nicht mehr korrekt wiedergegeben wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren ermöglicht die Herstellung eines Dünnglassubstrats bei der die dickenabhängige Erhebung auf einer der Hauptoberflächen des
Dünnglassubstrates bei welchen die Quererstreckung der Erhebung jeweils kleiner als 40 mm ist, im Mittel,
bereinigt von keilförmigen Dickenschwankungen und
Verwölbungen bei arithmetischer Mittelung einer
Analysefläche von 10 * 10 cm2 folgende Gleichung erfüllt:
SQRT (D/mm) * H/nm < 85 wobei
D die Dicke des Dünnglassubstrates in mm,
H die Höhe der Erhebung auf einer der
Hauptoberflächen eines erfindungsgemäßen Dünnglassubstrats in nm, und der Ausdruck
SQRT() die quadratische Wurzel des in Klammer ()
stehenden Wertes bezeichnet.
Diese Beziehung gilt in strengem Sinne insbesondere für Dünnglassubstrate mit einer Dicke von 0,3 mm bis 2,6 mm. Jedoch zeigten auch Dünnglassubstrate mit einer Dicke, welche größer als 2,6 mm war, eine ähnliches Verhalten.
Somit konnten mit dem hier beschriebenen Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats bei einem
Borosilicatglas Erhebungen auf einer der Hauptoberflächen des Dünnglassubstrats, insbesondere langgezogene
Erhebungen, welche sich im Wesentlichen in Normalenrichtung erheben, ausgebildet werden, welche eine Längserstreckung größer als das Zweifache, bevorzugt Dreifache, besonders bevorzugt das Fünffache einer Quererstreckung der Erhebung aufweisen und eine Höhe H aufweisen, die im arithmetischen Mittel, bereinigt von keilförmigen Dickenschwankungen und Verwölbungen bei Mittelung einer Analysefläche von 10 * 10 cm2, vorzugsweise in der Mitte eines heißgeformten
Glasbands senkrecht zur Ziehrichtung, kleiner als 85 nm, bevorzugt kleiner als 75 nm, besonders bevorzugt kleiner als 65 nm waren und bei welchen die Quererstreckung der Erhebung jeweils kleiner als 40 mm waren.
Nicht nur die gemittelten Werte, sondern auch die
Verteilung der absoluten Werte wurde durch das
erfindungsgemäße Verfahren erheblich verbessert.
Mit dem Verfahren zur Herstellung eines Borosilicatglas- Dünnglassubstrats wies durch die Heißformung das
Borosilicatglas-Dünnglassubstrat 54 im Wesentlichen eine keilförmige Dickenänderung K über eine Länge von 1 m senkrecht zur Ziehrichtung, somit in X-Richtung einen Wert von weniger als 40 pm auf. Ferner wies hierbei durch die Heißformung das Dünnglassubstrat 54 eine Verwölbung V über eine Länge von 1 m senkrecht zur Ziehrichtung, somit in X- Richtung einen Wert von weniger als 300 pm auf.
Bei der vorstehenden Beschreibung waren alle Mittelungen auch der dritten und vierten Messreihe arithmetische
Mittelungen, die innerhalb der jeweiligen Analysefläche 52 vorgenommen wurden, wobei bei der Dickenmessung, somit der Messung der varikösen Dickenabweichung eine Analyse- und Mittelungsfläche von 18 * 18 cm2 und bei der Messung der Höhe H der Erhebungen allein auf der Hauptoberfläche 53, eine Analyse- oder Mittelungsfläche von 10 * 10 cm2 verwendet wurde. Mit dem vorstehend beschriebenen Verfahren konnte durch die Heißformung das Borosilicatglas-Dünnglassubstrat 54 mit einer mittleren Dicke, gemittelt über eine Fläche der ersten und der zweiten Hauptoberfläche des
Dünnglassubstrats 54 von mindestens 10 cm * 10 cm von 0,3 mm bis 2,6 mm erhalten werden.
Es waren aber auch weitere bevorzugte Ausführungsformen des Borosilicatglas-Dünnglassubstrats 54 mit einer Dicke von 0,7 bis 2,5 mm zu erhalten, sowie besonders bevorzugte Ausführungsformen mit einer Dicke von etwa 0,7 mm oder einer Dicke von etwa 2,54 mm. Ferner konnten mit dem erfindungsgemäßen Verfahren sogar Glassubstrate mit einer Dicke von bis zu 10 mm oder sogar einer Dicke von bis zu 12 mm hergestellt werden.
Bezugszeichenliste
1 Anlage zur Herstellung von gefloatetem Glas,
Floatanlage
1 ' erfindungsgemäße Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats, Floatanlage
2 Schmelzwanne oder Einschmelzofen
2 ' Schmelzwanne oder Einschmelzofen
3 Glasgemenge
4 Brenner
5 Glasschmelze
6 Kanal der Schmelzwanne
6 ' Kanal der Schmelzwanne
7 Floatbad, insbesondere Zinnbad
7 ' Floatbad, insbesondere Zinnbad
8 Geschmolzenes, heißzuformendes Glas
9 Floatbadofen
9 ' Floatbadofen
10 Brenner
11 Einlauflippe, Lippenstein oder Spout
12 Top-Roller
12 ' Top-Roller
13 Glasband
14 Kühlofen
15 Brenner
16 Einrichtung zum Schmelzen
17 Bauteil zur Durchsatzregulierung, Regelschieber, Tweel
18 Einrichtung zur definierten Einstellung der
Viskosität
19 Kammer
20 Fluiddurchströmter Bereich 21 Fluiddurchströmter Bereich
22 Wand der Kammer 19
23 Wand der Kammer 19
24 Wand der Kammer 19
25 Wand der Kammer 19
26 Sensorische Einheit
27 Quersteg
28 Quersteg
29 Quersteg
30 Quersteg
31 Quersteg
32 Bay oder Wannenabschnitt 1
33 Bay oder Wannenabschnitt 2
34 Bay oder Wannenabschnitt 3
35 Bay oder Wannenabschnitt 4
36 Bay oder Wannenabschnitt 5
37 Bay oder Wannenabschnitt 6
38 Top-Roller
39 Top-Roller
40 Top-Roller
41 Top-Roller
42 Top-Roller
43 Top-Roller
44 Top-Roller
45 Wand des Kanals 6 '
46 Wand des Kanals 6'
47 Einrichtung zur Heißformung
48 Pfeil bei einem Ort vor Tweel 17 und vor
Lippenstein 11 oder Spout 11
49 Pfeil bei dem Ort, welcher in Strömungs- oder
Ziehrichtung dem hinteren Ende des Tweels 17 und somit dem Ort unmittelbar hinter dem Tweel
entspricht
50 Pfeil bei einer Entfernung von 1,5 m, welcher in Strömungs- oder Ziehrichtung dem Anfang des Bays 1 entspricht
51 Pfeil bei einer Entfernung von 12 m, welcher in Strömungs- oder Ziehrichtung dem Anfang des Bays 4 entspricht
52 Analysefeld
53 Obere Hauptoberfläche
54 Dünnglassubstrat
55 Ziehstreifen
56 Ziehstreifen
57 Ziehstreifen
58 Ziehstreifen
59 Verbundglasscheibe
60 Erste Scheibe
61 Polymerische Lage
62 Zweite Scheibe
63 nach außen weisende Oberfläche der zweiten Scheibe
62
64 nach außen weisende Oberfläche der ersten Scheibe 60
65 Reflexionsfläche für ein Head-up-Display auf der nach außen weisende Oberfläche 63 der zweiten
Scheibe 62
66 Doppelpfeil
M Mittelinie des Glases oder Glasbands in X-Richtung D Dicke des Dünnglassubstrats 54
K eine im Wesentlichen keilförmige Dickenänderung K des Dünnglassubstrat 54 KLI Konturlinie der im Wesentlichen keilförmigen
Dickenänderung K des Dünnglassubstrat 54
KL2 Konturlinie der im Wesentlichen keilförmigen
Dickenänderung K des Dünnglassubstrat 5
KL3 Konturlinie der im Wesentlichen keilförmigen
Dickenänderung K des Dünnglassubstrat 5
V Verwolbung des Dünnglassubstrats 54
VLI Konturlinie der Verwolbung V des Dünnglassubstrat
54
VL2 Konturlinie der Verwolbung V des Dünnglassubstrat 54
H Höhe der Erhebung oder des Ziehstreifens
Hneu Höhe der Erhebung oder des Ziehstreifens eines herkömmlichen Dünnglassubstrats
Halt Höhe der Erhebung oder des Ziehstreifens eines mit dem vorliegend offenbarten Verfahren heißgeformten
Dünnglassubstrats 0Pi Oberfläche eines ideal planen
DünnglasSubstrats
Q Quererstreckung einer Erhebung oder Ziehstreifens quer, insbesondere senkrecht zur Längsrichtung der
Erhebung oder des Ziehstreifens

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats, vorzugsweise zur kontinuierlichen Herstellung eines
Dünnglassubstrats, insbesondere eines
Dünnglassubstrats mit verminderten Ziehstreifen, bei welchem
nach dem Schmelzen und vor einer Heißformung die
Viskosität des zu formenden oder zumindest teilweise geformten Glases für das zu erhaltende
Dünnglassubstrat definiert eingestellt wird
und
das heißzuformende Glas vor Abgabe an eine Einrichtung zur Heißformung in dessen Viskosität definiert
eingestellt, insbesondere durch eine definierte
Abkühlung eingestellt wird.
2. Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach Anspruch 1, bei welchem eine Einstellung der
Viskosität vor dem Lippenstein oder Spout, vorgenommen wird, insbesondere vor der Abgabe auf ein Metallbad vorgenommen wird. 3. Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach
Anspruch 1 oder 2, bei welchem eine Einstellung der Viskosität vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel vorgenommen wird,
insbesondere vor der Abgabe auf ein Metallbad
vorgenommen wird. Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach einem der Ansprüche 1, 2 oder 3, bei welchem die
Viskosität des zu formenden oder zumindest teilweise geformten Glases vorzugsweise am Kanal-Ende der Schmelzwanne und vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel mindestens lg n /dPas = 3,75 bis vorzugsweise
höchstens 4,5 und/oder unmittelbar hinter dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder dem Tweel lg n /dPas = 3,75 bis vorzugsweise höchstens 4,5 und/oder am Anfang des Bays 1 oder Wannenabschnitts 1 und/oder in einer Entfernung in Ziehrichtung von 1,5 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel mindestens lg n /dPas = 5,25 bis vorzugsweise höchstens 5,85 und/oder am Anfang des Bays 4 oder Wannenabschnitts 4 und/oder in einer Entfernung in Ziehrichtung von 12 m nach dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel mindestens lg n /dPas = 7,05 bis vorzugsweise 7,6 beträgt
und/oder für die Viskosität ηι für eine erste Strecke für eine Entfernung bis zu 1,5 m nach dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel die nachfolgende
Gleichung gilt, bei welcher yi jeweils die Entfernung zum einem Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel bezeichnet: lg ni(yi) /dPas = (lg n0i /dPas + ai (yi) ) mit 0 m < yi < l,5 m
3, 75 < lg ηοι /dPas < 4,5
Figure imgf000104_0001
und/oder für die Viskosität r\2 für eine zweite Strecke mit einer Entfernung von 12 m nach dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel bis zu einer
Entfernung von 16 m nach dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung für die Viskosität r\2 die
nachfolgende Gleichung gilt, bei welcher γ2 jeweils die Entfernung zum Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel bezeichnet: lg r\2 (Y2) /dPas = (lg n02 /dPas + a2 (y2) ) mit 12 m < y2 ^ 16 m
7,05 < lg n02 /dPas < 7, 6
a2 (y2) = 0, 788 /m * (y2 - 12 m) .
5. Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei welchem zur Heißformung ein Ziehverfahren, insbesondere ein
Floatverfahren, ein Down-Draw-Verfahren und/oder ein Fusion-Verfahren, insbesondere ein Overflow-Fusion- Downdraw-Verfahren verwendet wird.
Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei welchem zur Heißformung des Dünnglassubstrats ein Li-Al-Si-Glas , ein Al-Si-Glas, ein K-Na-Si-Glas oder ein
Borosilicatglas verwendet wird.
Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei welchem zur Heißformung des Dünnglassubstrats ein Borosilicatglas die folgenden Komponenten enthalten (in Gew.-%) :
Si02 70 - 87
B2O3 7 - 25
Na20 + K20 0,5 - 9
Figure imgf000105_0001
CaO 0 - 3 verwendet wird
Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei welchem zur Heißformung des Dünnglassubstrats ein Borosilicatglas insbesondere mit der nachfolgenden Zusammensetzung:
S1O2 70-86 Gew.-%
Figure imgf000105_0002
B2O3 9,0-25 Gew.-
Na20 0, 5-5, 0 Gew. K20 0-1,0 Gew.-%
Li20 0-1,0 Gew.-%, verwendet wird oder ein Borosilicatglas , insbesondere ein Alkaliborosilicatglas verwendet wird, welches enthält
S1O2 78,3-81,0 Gew.-%
B2O3 9,0-13,0 Gew.-%
Figure imgf000106_0001
Na20 3, 5-6, 5 Gew.-%
K20 0, 3-2, 0 Gew.-%
CaO 0,0-2,0 Gew.-%.
Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei welchem zur Heißformung des Dünnglassubstrats ein Li-Al-Si-Glas , insbesondere mit einem Li20-Gehalt von 4,6 Gew.-% bis 5,4 Gew.-% und einem Na2<0-Gehalt von 8,1 Gew.-% bis 9,7 Gew.-% und einem Al2<03-Gehalt von 16 Gew.-% bis 20 Gew. -% verwendet wird.
Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei welchem Erhebungen auf einer der Hauptoberflächen des
Dünnglassubstrats, insbesondere langgezogene
Erhebungen, welche sich im Wesentlichen in
Normalenrichtung erheben, ausgebildet werden, welche eine Längserstreckung größer als das Zweifache, bevorzugt Dreifache, besonders bevorzugt das Fünffache einer Quererstreckung der Erhebung aufweisen und eine Höhe aufweisen, die im Mittel, bereinigt von
keilförmigen Dickenschwankungen und Verwolbungen bei arithmetischer Mittelung einer Analysefläche von 10 * 10 cm2, vorzugsweise in der Mitte eines heißgeformten Glasbands senkrecht zur Ziehrichtung, kleiner als 100 nm, bevorzugt kleiner als 90 nm, besonders bevorzugt kleiner als 80 nm und bei einem Borosilicatglas- Dünnglassubstrat kleiner als 85 nm, bevorzugt kleiner als 75 nm und besonders bevorzugt kleiner als 65 nm ist und bei welchen die Quererstreckung der Erhebung jeweils kleiner als 40 mm ist.
11. Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei welchem durch die Heißformung das Dünnglassubstrat im
Wesentlichen keilförmige Dickenänderung K über eine Länge von 1 m senkrecht zur Ziehrichtung einen Wert von weniger als 100 pm und bei Borosilicatglas einen Wert von weniger als 40 pm aufweist.
12. Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei welchem durch die Heißformung das Dünnglassubstrat eine
Verwölbung V über eine Länge von 1 m senkrecht zur Ziehrichtung einen Wert von weniger als 600 pm und bei Borosilicatglas einen Wert von weniger als 300 pm aufweist .
Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei welchem durch die Heißformung das Dünnglassubstrat eine mittlere Dicke, gemittelt über eine Fläche der ersten und der zweiten Hauptoberfläche des Dünnglassubstrats von mindestens 10 cm * 10 cm von 0,3 mm bis 2,6 mm erhält, bevorzugt eine Dicke von 0,7 bis 2,5 mm erhält, besonders bevorzugt eine Dicke von etwa 0,7 mm oder eine Dicke von etwa 2,54 mm erhält.
14. Verfahren zur Herstellung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei welchem nach der Heißformung des Dünnglassubstrats bei einem
Durchsatz von weniger als 400 t, bevorzugt 200 t, besonders bevorzugt 100 t Glas pro Tag der Anteil des Gutglases mehr als 15 % des gesamten Glasdurchsatzes beträgt .
15. Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats, insbesondere eines Borosilicatglas- Dünnglassubstrats , insbesondere eines
Dünnglassubstrats mit verminderten Ziehstreifen, insbesondere zur Durchführung eines Verfahrens gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, umfassend
eine Einrichtung zum Schmelzen,
eine Einrichtung zur Heißformung sowie
eine Einrichtung zur definierten Einstellung der
Viskosität des zu einem Dünnglassubstrat zu formenden
Glases ,
bei welcher eine, insbesondere die Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität des zu einem Dünnglassubstrat zu formenden Glases vor einer, insbesondere der Einrichtung zur Heißformung
angeordnet ist.
16. Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats, insbesondere eines
Dünnglassubstrats mit verminderten Ziehstreifen, insbesondere zur Durchführung eines Verfahrens gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, bei welcher eine, insbesondere die Einrichtung zur definierten
Einstellung der Viskosität des zu einem
Dünnglassubstrat zu formenden Glases vor dem Spout angeordnet ist.
17. Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats, insbesondere eines
Dünnglassubstrats mit verminderten Ziehstreifen, insbesondere zur Durchführung eines Verfahrens gemäß einem der vorstehenden Ansprüche, umfassend
eine Einrichtung zum Schmelzen,
eine Einrichtung zur Heißformung sowie
eine Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität des zu einem Dünnglassubstrat zu formenden Glases ,
bei welcher eine, insbesondere die Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität des zu einem Dünnglassubstrat zu formenden Glases vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel angeordnet ist.
8. Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats nach Anspruch 14 oder 15, bei welcher die Einrichtung zur definierten Einstellung der Viskosität eine Kühleinrichtung umfasst.
19. Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats, nach einem der Ansprüche von 14 bis 16, bei welcher die Einrichtung zur definierten
Einstellung der Viskosität fluiddurchströmte Bereiche umfasst, welche Wärme von dem heißzuformenden Glas aufnehmen .
20. Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats, nach einem der Ansprüche von 14 bis 17, bei welcher die Viskosität des Glases in einem
Bereich von 900 °C bis 1500 °C mit einer Abweichung von Δ lg n / dPas = 0,1 an einem Ort unmittelbar vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel, Δ lg n / dPas = 0,2 bei einer Entfernung von 1,5 m nach einem Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel und Δ lg n / dPas = 0,3 /dPas bei einer Entfernung von 12 m zu dem Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel einstellbar ist.
21. Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats, nach einem der Ansprüche von 14 bis 18, bei welcher die Temperatur des zu formenden Glases in einem Bereich von 900 °C bis 1500 °C mit einer Abweichung von weniger als 10 °C einstellbar ist.
22. Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats nach einem der Ansprüche von 14 bis 18, bei welcher eine sensorische Einheit die
Temperatur des heißzuformenden Glases, insbesondere mit einer maximalen Abweichung von 10°C erfasst, und/oder die Viskosität des heißzuformenden Glases erfasst, insbesondere mit einer maximalen Abweichung von Δ lg n / dPas = 0,1 an einem Ort unmittelbar vor dem Bauteil zur Durchsatzregulierung oder Tweel, Δ lg n / dPas = 0,2 bei einer Entfernung von 1,5 m nach dem
Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel und Δ lg n / dPas = 0,3 /dPas bei einer Entfernung von 12 m zu dem Ort unmittelbar hinter dem Bauteil zur
Durchsatzregulierung oder Tweel erfasst.
23. Vorrichtung zur Herstellung eines
Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden
Ansprüche von 14 bis 19, bei welcher die Einrichtung zur Heißformung eine Zieheinrichtung, eine
Floateinrichtung, insbesondere eine Down-Draw- Zieheinrichtung oder insbesondere eine Overflow-Down- Draw-Zieheinrichtung ist. 24. Dünnglassubstrat, insbesondere Borosilicatglas-
Dünnglassubstrat , insbesondere hergestellt oder herstellbar nach einem Verfahren der Ansprüche von 1 bis 12, sowie insbesondere hergestellt in einer
Vorrichtung gemäß der Ansprüche von 13 bis 21.
25. Dünnglassubstrat, insbesondere Borosilicatglas-
Dünnglassubstrat-insbesondere nach Anspruch 22, umfassend Erhebungen auf einer der Hauptoberflächen des Dünnglassubstrats, insbesondere langgezogene Erhebungen, welche sich im Wesentlichen in
Normalenrichtung erheben und bei welchen eine Längserstreckung größer als das Zweifache, bevorzugt Dreifache, besonders bevorzugt das Fünffache einer Quererstreckung der Erhebung ist, und welche eine Höhe H aufweisen, die vorzugsweise im Mittel, bereinigt von keilförmigen Dickenschwankungen und Verwolbungen bei arithmetischer Mittelung einer Analysefläche von 10 * 10 cm2, vorzugsweise in der Mitte eines heißgeformten Glasbands senkrecht zur Ziehrichtung, kleiner als 100 nm, bevorzugt kleiner als 90 nm, besonders bevorzugt kleiner als 80 nm und bei einem Borosilicatglas-
Dünnglassubstrat kleiner als 85 nm, bevorzugt kleiner als 75 nm und besonders bevorzugt kleiner als 65 nm ist und bei welchen die Quererstreckung der Erhebung jeweils kleiner als 40 mm ist.
26. Dünnglassubstrat nach Anspruch 22 oder 23, bei welchem durch die Heißformung des Dünnglassubstrats das Dünnglassubstrat im Wesentlichen keilförmige
Dickenänderung über eine Länge von 1 m senkrecht zur Ziehrichtung einen Wert von weniger als 100 pm und bei
Borosilicatglas von weniger als 40 pm aufweist.
27. Dünnglassubstrat nach einem der vorstehenden
Ansprüche von 22 bis 24, bei welchem durch die
Heißformung das Dünnglassubstrat eine Verwolbung über eine Länge von Im senkrecht zur Ziehrichtung einen Wert von weniger als 600 pm und bei Borosilicatglas einen Wert von weniger als 300 pm aufweist.
Dünnglassubstrat nach einem der vorstehenden Ansprüche von 22 bis 25, bei welchem das Dünnglassubstrat eine mittlere Dicke, gemittelt über eine Fläche der ersten und der zweiten Hauptoberfläche des Dünnglassubstrats von mindestens 10 cm * 10 cm von 0,5 mm bis 2,6 mm erhält, bevorzugt eine Dicke von 0,7 bis 2,5 mm erhält, besonders bevorzugt eine Dicke von etwa 0,7 mm oder eine Dicke von etwa 2,54 mm erhält.
29. Dünnglassubstrat nach einem der vorstehenden
Ansprüche 22 bis 26, umfassend ein Li-Al-Si-Glas , ein Al-Si-Glas, ein K-Na-Si-Glas oder ein Borosilicatglas
30. Dünnglassubstrat nach einem der vorstehenden
Ansprüche 22 bis 26, umfassend Li-Al-Si-Glas,
insbesondere ein Lithium-Aluminium-Silicatglas mit einem Li2<0-Gehalt von 4,6 Gew.-% bis 5,4 Gew.-% und einem Na2<0-Gehalt von 8,1 Gew.-% bis 9,7 Gew.-% und einem Al2<03-Gehalt von 16 Gew.-% bis 20 Gew.-%..
31. Dünnglassubstrat nach einem der vorstehenden
Ansprüche 22 bis 26 umfassend die folgenden
Komponenten enthaltend (in Gew.-%):
Si02 70 - 87
B203 7 - 25
Na20 + K20 0,5 - 9
Figure imgf000113_0001
CaO 0 - 3.
32. Dünnglassubstrat nach Anspruch 27, umfassend ein Borosilicatglas mit der nachfolgenden Zusammensetzung: Si02 70-86 Gew.-%
A1203 0-5 Gew.-%
B2O3 9,0-25 Gew.-%
Na20 0,5-5,0 Gew.-%
K20 0-1,0 Gew.-%
Li20 0-1,0 Gew.-%, oder ein Borosilicatglas , insbesondere
Alkaliborosilicatglas , welches enthält
Si02 78,3-81,0 Gew.-
B2O3 9,0-13,0 Gew.-%
Figure imgf000114_0001
Na20 3,5-6,5 Gew.-% K20 0,3-2,0 Gew.-%
CaO 0,0-2,0 Ge .-%.
33. Verbundglasscheibe umfassend insbesondere eine erste Scheibe und ein Dünnglassubstrat nach einem der vorstehenden Ansprüche 22 bis 28.
34. Kraftfahrzeugscheibe umfassend ein
Dünnglassubstrat nach einem der vorstehenden Ansprüche 22 bis 28.
35. Frontscheibenprojektionseinrichtung, insbesondere Head-up-Display, für auf dem Land, auf oder im Wasser sowie in der Luft betriebene Fahrzeuge, insbesondere motorbetriebene Fahrzeuge, umfassend ein
Dünnglassubstrat nach einem der vorstehenden Ansprüche 22 bis 28.
36. Verwendung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche 22 bis 28 als Teil einer
Verbundglasscheibe .
37. Verwendung eines Dünnglassubstrats nach einem der vorstehenden Ansprüche 22 bis 28 als Teil einer
Kraft fahrzeugscheibe .
PCT/EP2018/066662 2016-12-22 2018-06-21 Dünnglassubstrat, insbesondere borosilicatglas-dünnglassubstrat verfahren und vorrichtung zu dessen herstellung Ceased WO2019076492A1 (de)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022125049A1 (de) 2022-09-28 2024-03-28 Schott Technical Glass Solutions Gmbh Glasscheibe mit geringen optischen Fehlern, insbesondere geringen oberflächennahen Brechkräften, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung
EP4345071A1 (de) 2022-09-28 2024-04-03 SCHOTT Technical Glass Solutions GmbH Glasscheibe mit geringen optischen fehlern, insbesondere geringen oberflächennahen brechkräften, verfahren zu deren herstellung sowie deren verwendung
EP4406922A1 (de) 2023-01-30 2024-07-31 SCHOTT Technical Glass Solutions GmbH Glasscheibe für die verwendung in architekturverglasungen, scheibenverbund und deren verwendung

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU473784B2 (en) * 1972-09-05 1974-03-14 Pilkington Brothers Ltd. Improvements in or relating to the manufacture of flat glass
DE2309445A1 (de) 1973-02-26 1974-10-17 Floatglas Gmbh Verfahren zur herstellung von duennem floatglas
US3843344A (en) 1973-03-06 1974-10-22 Ppg Industries Inc Method of and apparatus for forming sheet glass on molten metal
US3961930A (en) 1971-09-16 1976-06-08 Pilkington Brothers Limited Manufacture of flat glass
JPH0753223A (ja) 1993-08-13 1995-02-28 Asahi Glass Co Ltd フロートガラスの製造方法及び製造装置
DE102006051637A1 (de) 2006-11-02 2008-05-08 Schott Ag Floatbadwanne, Bodenwandstein, Absaugvorrichtung und Verfahren zum Absaugen von flüssigem Metall aus einer Floatbadwanne
WO2011103801A1 (zh) 2010-02-26 2011-09-01 肖特公开股份有限公司 用于高速地面运输系统的玻璃窗
DE102013203624A1 (de) 2013-03-04 2014-09-18 Schott Ag Vorrichtung und Verfahren zum Abziehen einer Oberflächenglasschicht und Glaswanne oder -rinne mit einer solchen Vorrichtung
JP2015105216A (ja) * 2013-12-02 2015-06-08 旭硝子株式会社 フロートガラス製造装置、およびフロートガラス製造方法
WO2016007812A1 (en) 2014-07-10 2016-01-14 Corning Incorporated Glass ribbon manufacturing apparatus and methods
WO2016048815A1 (en) 2014-09-22 2016-03-31 Corning Incorporated Glass manufacturing apparatus and methods
US20160176746A1 (en) * 2014-12-18 2016-06-23 Schott Ag Glass film with specially formed edge, method for producing same, and use thereof

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3961930A (en) 1971-09-16 1976-06-08 Pilkington Brothers Limited Manufacture of flat glass
AU473784B2 (en) * 1972-09-05 1974-03-14 Pilkington Brothers Ltd. Improvements in or relating to the manufacture of flat glass
AU4631972A (en) 1972-09-05 1974-03-14 Pilkington Brothers Ltd. Improvements in or relating to the manufacture of flat glass
DE2309445A1 (de) 1973-02-26 1974-10-17 Floatglas Gmbh Verfahren zur herstellung von duennem floatglas
US3843344A (en) 1973-03-06 1974-10-22 Ppg Industries Inc Method of and apparatus for forming sheet glass on molten metal
JPH0753223A (ja) 1993-08-13 1995-02-28 Asahi Glass Co Ltd フロートガラスの製造方法及び製造装置
DE102006051637A1 (de) 2006-11-02 2008-05-08 Schott Ag Floatbadwanne, Bodenwandstein, Absaugvorrichtung und Verfahren zum Absaugen von flüssigem Metall aus einer Floatbadwanne
WO2011103801A1 (zh) 2010-02-26 2011-09-01 肖特公开股份有限公司 用于高速地面运输系统的玻璃窗
DE102013203624A1 (de) 2013-03-04 2014-09-18 Schott Ag Vorrichtung und Verfahren zum Abziehen einer Oberflächenglasschicht und Glaswanne oder -rinne mit einer solchen Vorrichtung
JP2015105216A (ja) * 2013-12-02 2015-06-08 旭硝子株式会社 フロートガラス製造装置、およびフロートガラス製造方法
WO2016007812A1 (en) 2014-07-10 2016-01-14 Corning Incorporated Glass ribbon manufacturing apparatus and methods
WO2016048815A1 (en) 2014-09-22 2016-03-31 Corning Incorporated Glass manufacturing apparatus and methods
US20160176746A1 (en) * 2014-12-18 2016-06-23 Schott Ag Glass film with specially formed edge, method for producing same, and use thereof

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
DATABASE WPI Week 201539, 10 June 2015 Derwent World Patents Index; AN 2015-32950R, XP002778305 *

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022125049A1 (de) 2022-09-28 2024-03-28 Schott Technical Glass Solutions Gmbh Glasscheibe mit geringen optischen Fehlern, insbesondere geringen oberflächennahen Brechkräften, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung
EP4345071A1 (de) 2022-09-28 2024-04-03 SCHOTT Technical Glass Solutions GmbH Glasscheibe mit geringen optischen fehlern, insbesondere geringen oberflächennahen brechkräften, verfahren zu deren herstellung sowie deren verwendung
WO2024068721A1 (de) 2022-09-28 2024-04-04 Schott Technical Glass Solutions Gmbh Glasscheibe sowie ensemble von glasscheiben mit geringer feinwelligkeit und verfahren zu deren herstellung sowie deren verwendung
EP4406922A1 (de) 2023-01-30 2024-07-31 SCHOTT Technical Glass Solutions GmbH Glasscheibe für die verwendung in architekturverglasungen, scheibenverbund und deren verwendung
DE102023105566A1 (de) 2023-01-30 2024-08-01 Schott Technical Glass Solutions Gmbh Glasscheibe für die Verwendung in Architekturverglasungen, Scheibenverbund und deren Verwendung

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