WO2019151709A1 - 코팅 조성물 - Google Patents

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WO2019151709A1
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nanoparticles
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유정선
오동현
임은정
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Definitions

  • the present application relates to a coating composition, a method of manufacturing a substrate using the same, and an optical device.
  • Patent Document 1 European Patent Publication No. 0022311 discloses a so-called GH cell in which a mixture of a liquid crystal host and a dichroic dye guest is applied.
  • Such optical devices generally include two layers of opposingly disposed substrates and the light modulation layer present between the substrates, and also include spacers to maintain the spacing between the substrates.
  • Representative spacers include so-called column spacers and ball spacers, and a structure in which a ball spacer is fixed in an alignment film when a ball spacer is used is also known. Such spacers are also called fixed spacers. This structure is particularly useful when an optical device is manufactured using a flexible substrate, since the ball spacers do not move or aggregate when the substrate is bent, and a uniform cell gap can be maintained.
  • the present application relates to a coating composition, a method of manufacturing a substrate using the same, and an optical device. Disclosure of Invention The present invention aims to provide a coating composition, a method of manufacturing a substrate using the same, and an optical device, in which a spacer fixed to an alignment layer is uniformly dispersed on a surface thereof, and a substrate free of haze can be manufactured in a simple and low-cost process. It is done.
  • the present application relates to coating compositions.
  • Exemplary coating compositions of the present application include an alignment layer forming material, a spacer, and nanoparticles, wherein the density of the spacer is small compared to the density of the nanoparticles, and the density of the nanoparticles is 1.5 g / cm 3 to 10 g /. It may be in the range of cm 3 .
  • the present application relates to a method of manufacturing a substrate.
  • An exemplary method of manufacturing a substrate of the present application includes a process of forming an alignment layer using a coating composition on a substrate layer, wherein the coating composition may include an alignment layer forming material, a spacer, and nanoparticles, and the density of the spacer. Is smaller than the density of the nanoparticles, the density of the nanoparticles may be in the range of 1.5 g / cm 3 to 10 g / cm 3 .
  • An exemplary optical device of the present application is an optical device comprising a first substrate, a second substrate disposed opposite the first substrate, and an optical modulation material present between the first substrate and the second substrate, wherein the first device is provided.
  • An alignment film is formed on a surface of the first substrate that faces the second substrate and / or a surface of the second substrate that faces the first substrate, wherein the alignment film includes a material for forming the alignment film, spacers, and nanoparticles, The density of the spacer is smaller than the density of the nanoparticles, the density of the nanoparticles may be in the range of 1.5 g / cm 3 to 10 g / cm 3 .
  • a device as a substrate having a fixed spacer on the surface, using a single layer of nanoparticles and spacers dispersed in the alignment layer to reduce the process and cost, and to produce a substrate of high performance and optical produced in such a manner A device can be provided.
  • Example 1 to 3 are images of Example 1, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 of the present application observed with an optical microscope.
  • the present application relates to coating compositions.
  • Exemplary coating compositions of the present application may include an alignment layer forming material, a spacer, and nanoparticles.
  • an alignment layer is formed on the substrate layer in order to adjust the alignment state of the liquid crystal compound.
  • the type of alignment film applied in the present application is not particularly limited, and a known alignment film may be used. For example, it satisfies proper coating properties, solubility in solvents, heat resistance, chemical resistance, and durability against orientation treatments such as rubbing, and exhibits proper tilting characteristics as necessary, and impurity management. All known alignment films satisfying properties such as proper voltage holding ratio (VHR) and high contrast ratio may be applied.
  • VHR proper voltage holding ratio
  • the alignment film for example, it may be a vertical or horizontal alignment film.
  • any alignment film having vertical or horizontal alignment capability with respect to the liquid crystal compound of the adjacent liquid crystal layer can be selected and used without particular limitation.
  • an alignment film for example, an alignment film known to be capable of exhibiting orientation characteristics by a non-contact method such as irradiation of linearly polarized light including a contact alignment film or a photoalignment film compound, such as a rubbing alignment film, can be used.
  • the alignment film is an alignment film forming material containing a material for forming an alignment film.
  • the alignment film can be produced by applying the alignment film forming material prepared by dispersing, diluting and / or dissolving the material for forming the alignment film in a suitable solvent.
  • the alignment layer forming material may be a rubbing alignment layer forming material or a photo alignment layer forming material.
  • the kind of the material for forming the alignment film any kind of material known to be capable of exhibiting alignment ability such as vertical or horizontal alignment ability with respect to the liquid crystal can be used by appropriate treatment.
  • the material for forming the alignment layer may be a polyimide compound, a polyvinyl alcohol compound, a polyamic acid compound, a polystyrene compound, a polyamide compound, and the like.
  • a substance known to exhibit orientation ability by rubbing orientation such as a polyoxyethylene compound, etc., but also a polyimide compound, a polyamic acid compound, a polynorbornene compound, a phenylmaleimide air Phenylmaleimide copolymer compound, polyvinylcinamate compound, polyazobenzene compound, polyethyleneimide compound, polyvinylalcohol compound, polyimide compound, polyethylene compound , Polystylene compounds, polyphenylenephthalamide compounds, poly It is selected from the group consisting of materials known to exhibit orientation by light irradiation, such as ester compounds, chloromethylated polyimide (CMPI) compounds, polyvinylcinnamate (PVC) compounds, and polymethyl methacrylate (polymethyl methacrylate
  • the ratio of the material for forming the alignment layer in the coating composition may be 0.1 to 10% by weight.
  • the ratio is, in another example, at least about 0.3%, at least about 0.5%, at least about 0.7%, at least about 0.9%, at least about 1.1%, or at least about 1.3%, or at most about 9%, About 8 wt% or less, about 7 wt% or less, about 6 wt% or less, about 5 wt% or less, about 4 wt% or less, about 3 wt% or less, or about 2 wt% or less. If the ratio of the material for forming the alignment layer is less than the above range, the alignment layer is coated so thin that it is difficult to fix the spacer and the nanoparticles. When the alignment layer exceeds the above range, the thickness of the alignment layer is too thick. Problems such as light leakage occur due to tail generation.
  • the alignment film forming material may be prepared by diluting, dispersing and / or dissolving the above-described material for forming an alignment film in a solvent.
  • the solvent which can be applied at this time is basically not particularly limited.
  • cycloalkane having 3 to 12 carbon atoms or cycloalkane having 3 to 8 carbon atoms such as cyclohexane, dimethyl sulfoxide (DMSO), tetrahydrofuran (THF), dimethylformamide (DMF) and NMethyl-pyrrolidone (NMP) , Chloroform (CHCl 3 ), ketone solvents such as gamma-butyrolactone and cyclopentanone, alcohols such as 2-butoxyethanol, or glycols such as ethylene glycol, or two or more mixed solvents selected from the above Applicable
  • the alignment film forming material in order to form an appropriate alignment film, may be controlled to have a viscosity in a predetermined range.
  • the alignment layer forming material may have a viscosity in the range of about 5 cP to 25 cP.
  • the viscosity may be, for example, about 20 cP or less, 18 cP or less, 16 cP or less, 14 cP or less, or 13 cP or less.
  • the physical properties may be physical properties measured at room temperature.
  • ambient temperature is a naturally occurring, warmed or undecreased temperature, and may be, for example, any temperature in the range of about 10 ° C to 30 ° C, about 23 ° C or about 25 ° C.
  • the physical properties may be physical properties measured at atmospheric pressure.
  • atmospheric pressure is the pressure as it is, generally about 1 atm, such as atmospheric pressure.
  • the average diameter referred to in the present application uses a particle size analyzer as a volume average value D50 (ie, a particle diameter or median diameter when the cumulative volume reaches 50%) in the particle size distribution measurement by laser light diffraction. It may mean to indicate the measured value.
  • D50 volume average value
  • the coating composition includes a spacer together with the alignment layer forming material.
  • the type of spacer applied at this time is not particularly limited.
  • a known ball spacer or column spacer may be used as the spacer.
  • the spacer is not particularly limited in size, for example, a spacer having an appropriate size may be used in consideration of a desired cell gap.
  • the D50 particle diameter of the ball spacer or the height of the column spacer may be about 1 ⁇ m or more.
  • the particle diameter or height is about 2 ⁇ m or more, about 3 ⁇ m or more, about 4 ⁇ m or more, about 5 ⁇ m or more, 6 ⁇ m or more, 7 ⁇ m or more, 8 ⁇ m or more, 9 ⁇ m or more, 10 ⁇ m or more, 11 ⁇ m.
  • the density of the spacer may be in the range of 1 g / cm 3 to 5 g / cm 3 , specifically 1 g / cm 3 to 4 g / cm 3 , 1 g / cm 3 to 3.5 g / cm 3 , 1 g / cm 3 to 3 g / cm 3 , 1 g / cm 3 to 2.5 g / cm 3 , 1 g / cm 3 to 2 g / cm 3 , 1 g / cm 3 to 1.5 g / cm 3 It may be within the scope of the degree, but is not limited thereto.
  • the ratio (B / A) of the density (A) of the spacer and the density (B) of the nanoparticles may be in the range of 1 to 10. In another example, the ratio (B / A) may be about 1.2 or more, 1.4 or more, 1.5 or more, 1.6 or more or 1.8 or more, 9 or less, 8 or less, 7 or less, 6 or less, 5 or less, 4 or less, or 3 or less. However, it is not limited thereto.
  • the ratio of the spacer in the coating composition is not particularly limited.
  • the spacer may be included in a ratio of 0.5 to 10,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alignment layer forming material.
  • the ratio is about 1 part by weight, 1.5 parts by weight, 2 parts by weight, 2.5 parts by weight, 3 parts by weight, 3.5 parts by weight, 4 parts by weight, 4.5 parts by weight, 5 parts by weight in another example.
  • 11 parts by weight or more or 12 parts by weight or more about 9000 parts by weight or less, 8000 parts by weight or less, 7000 parts by weight or less, 6000 parts by weight or less, 5000 parts by weight or less, 4000 parts by weight or less, 3000 parts by weight or less, 2000 parts by weight.
  • the coating composition may include nanoparticles, and the nanoparticles may have a higher density than the spacers.
  • the density of the nanoparticles is lower than the spacer, it is difficult to form irregularities near the substrate layer, and there is a disadvantage in that they are not dispersed well.
  • the nanoparticles are easily laminated to the substrate layer to form irregularities.
  • the nanoparticles may be spherical particles or particles satisfying Equation 1 below, but are not limited thereto.
  • LA is the length of the long axis of the nanoparticles
  • SA is the length of the short axis of the nanoparticles.
  • the length of the long axis and short axis is measured using an SEM cross section image of the coated substrate.
  • the D50 particle diameter of the nanoparticles may be 1 ⁇ m or less, and may be 10 nm to 1,000 nm as a relief, but is not limited thereto.
  • the D50 particle diameter of the nanoparticles is, in another example, at least 10 nm, at least 20 nm, at least 30 nm, at least 40 nm, at least 50 nm, at least 60 nm, at least 70 nm, at least 80 nm, or at least 90 nm, or at least 900 It may be about nm or less, 800 nm or less, 700 nm or less, 600 nm or less, 500 nm or less, 400 nm or less, 300 nm or less, or about 200 nm or less. In the case of nanoparticles within the above range, it is easy to disperse the nanoparticles.
  • the nanoparticles have a density of 1.5 g / cm 3 And in the range of from 10 g / cm 3 .
  • the density is 1.5 g / cm 3 to 9 g / cm 3 , 1.5 g / cm 3 to 8 g / cm 3 , 1.5 g / cm 3 to 7 g / cm 3 , 1.5 g / cm 3 to 6 g in another example / cm 3 , 1.5 g / cm 3 to 5.5 g / cm 3 , 1.5 g / cm 3 to 5 g / cm 3 , 1.5 g / cm 3 to 4.5 g / cm 3 , 1.5 g / cm 3 to 4 g / cm 3 , 1.5 g / cm 3 to 3.5 g / cm 3 or 1.5 g / cm 3 to 3 g / cm 3 or 2 g / cm 3 to 3 g / cm 3 or so, but is not limited thereto.
  • the PMMA-based spacer has a density of 1.5 g / cm 3 or less, but when the nanoparticles are dried after coating the alignment layer, the nanoparticles have a density of 1.5 g / cm 3 in order to precipitate before the spacers are formed. It should be more than, and generally the density of the inorganic nanoparticles used by dispersing is 10 g / cm ⁇ 3> or less.
  • the ratio of the nanoparticles may be included in a ratio of 0.01 to 10000 parts by weight relative to 100 parts by weight of the alignment layer forming material.
  • the ratio is, in another example, at least about 0.05 part by weight, at least about 0.1 part by weight, at least about 0.5 part by weight or at least about 1 part by weight, or at most about 9000 parts by weight, at most 8000 parts by weight, at most 7000 parts by weight, at most 6000 parts by weight.
  • the nanoparticles are selected from the group consisting of silica (silicon dioxide), aluminum oxide, titanium dioxide, zinc oxide, hafnium oxide, zirconium oxide, tin oxide, cerium oxide, magnesium oxide, nickel oxide, calcium oxide and yttrium oxide. It may be one or more, for example, may be silica, but is not limited thereto.
  • the present application relates to a method of manufacturing a substrate, and to a method of manufacturing a substrate by applying the coating composition described above in one example. Information overlapping with what is described in the above-described coating composition will be omitted.
  • the manufacturing method may include a step of forming an alignment layer using the above-described coating composition on the substrate layer.
  • a step can be formed using, for example, an alignment film forming material containing a material for forming an alignment film.
  • the base layer in the present application without particular limitation, any base layer used as the substrate in the configuration of a known optical device such as, for example, a liquid crystal display (LCD) may be applied.
  • the base layer may be an inorganic base layer or an organic base layer.
  • a glass base layer or the like may be exemplified as the inorganic base layer, and various plastic films may be exemplified as the organic base layer.
  • Plastic films include triacetyl cellulose (TAC) films; COP (cyclo olefin copolymer) films, such as norbornene derivatives; Acrylic films such as poly (methyl methacrylate); PM (polycarbonate) films; Polyolefin films such as PE (polyethylene) or PP (polypropylene); polyvinyl alcohol (PVA) films; diacetyl cellulose (DAC) films; polyacrylate (Pac) Films; poly ether sulfone (PES) films; polyetheretherketon (PEEK) films; polyphenylsulfone (PPS) films, polyetherimide (PEI) films; polyethylenemaphthatlate (PEN) films; polyethyleneterephtalate (PET) films; polyimide (PI) films; polysulfone (PSF) films Films or polyarylate (PAR) films and the like can be exemplified, but are not limited thereto.
  • TAC triacetyl cellulose
  • the manufacturing method of the present application may be particularly useful when an organic substrate layer, for example, a plastic film, is used as the substrate layer.
  • the stains are removed by treating the devices on which the stains are generated at a high temperature, for example, by treating the stains at a temperature above Tni of the liquid crystal compound as an example of a light modulator. Methods of removal are known.
  • the organic base layer is applied as the substrate, the heat resistance of the organic base layer is inferior, which makes it difficult to perform a high temperature heat treatment step.
  • an alignment film having excellent physical properties can be formed even when an organic base layer is applied.
  • the thickness of the base layer is not particularly limited, and an appropriate range may be selected according to the use.
  • an alignment film may be formed directly on the substrate layer, or may be formed on the other layer or the composition in a state where another layer or the composition exists on the substrate layer.
  • Examples of the other layers or configurations above are not particularly limited, and all known layers or configurations necessary for driving and configuring the optical device are included. Examples of such layers or configurations include electrode layers, spacers, and the like.
  • the alignment film forming step may include a step of forming a layer of the alignment film forming material (the coating composition) on the substrate layer and a step of performing a known treatment such as the alignment treatment on the formed layer.
  • the orientation treatment can be carried out in a known manner.
  • the rubbing alignment film may be subjected to an appropriate rubbing treatment, or in the case of a photo alignment film, the alignment treatment may be performed through an appropriate light irradiation treatment.
  • the specific manner of performing each treatment is not particularly limited, and, for example, the rubbing process may be a method using a rubbing cloth such as cotton, rayon, or nylon forming, and the light irradiation process is a method of irradiating an appropriate linear polarization. Etc. can be applied.
  • a pretreatment process such as heat treatment and / or drying may be performed.
  • the process such as heat treatment and / or drying may be performed using a suitable dryer, oven or hot plate.
  • the treatment temperature or time is not particularly limited and may be appropriately adjusted.
  • the process may be performed at a temperature of at least about 50 ° C., at least about 60 ° C., at least about 70 ° C., at least about 80 ° C., at least about 90 ° C., at least about 100 ° C., at least about 110 ° C., or at least about 120 ° C. Can be.
  • the temperature may be about 300 ° C. or less, about 280 ° C. or less, about 260 ° C. or less, about 240 ° C. or less, about 230 ° C. or less, about 220 ° C. or less, about 210 ° C. or less, about 200 ° C. or less, about 180 ° C. or less, or About 160 ° C. or less.
  • the processing temperature of the process may also be selected in consideration of the state of the alignment film forming material or the temperature, for example, an appropriate time may be selected within the range of about 1 minute to 2 hours.
  • the physical properties are the physical properties measured at room temperature.
  • ambient temperature is a naturally occurring temperature that is warmed and undecreased, and may be, for example, any temperature within the range of about 10 ° C to 30 ° C, or about 23 ° C or about 25 ° C.
  • the physical properties are the properties measured at normal pressure.
  • atmospheric pressure is a natural pressure that does not specifically raise or lower the pressure, and generally means a pressure of about 1 atmosphere, such as atmospheric pressure.
  • the present application also relates to a method of manufacturing an optical device.
  • Exemplary methods of manufacturing the optical device of the present application can apply the above-described coating composition and / or method of manufacturing the substrate.
  • An exemplary optical device manufacturing method of the present application includes a first substrate and a second substrate disposed opposite to the first substrate, the surface of the first substrate facing the second substrate and / or the second substrate. And forming a layer of the coating composition on a surface of the substrate opposite the first substrate, and aligning the layer.
  • the coating composition may include a material for forming an alignment layer, a spacer, and nanoparticles, the density of the spacer is smaller than the density of the nanoparticles, and the density of the nanoparticles is 1.5 g / cm 3 to 10 g / cm 3. It may be in the range of.
  • the step of dotting the light modulation material containing a liquid crystal compound on the alignment film formed as described above and the pressure in the state in which the opposing substrate is disposed opposite the substrate layer having the alignment film doped with the light modulation material And adding the dot-modulated light modulating material to fill a gap between the base layer and the opposing substrate.
  • the process may be performed in accordance with a general manner of progressing the dotting process, and the specific manner of progress is not particularly limited.
  • a material such as a liquid crystal compound to be applied is selected without any particular limitation, a known appropriate material as necessary.
  • the type of the opposing substrate disposed opposite to the substrate layer is not particularly limited, and a known substrate may be applied.
  • the substrate may also include a substrate layer and an alignment layer formed on one surface thereof, and may include other components such as an electrode layer, if necessary.
  • substrate also does not restrict
  • the alignment layer may be formed on the base layer of the counter substrate according to the alignment layer formation method described above.
  • the gap between the base layer and the counter substrate that is, the so-called cell gap is not particularly limited.
  • the interval may be about 1 ⁇ m or more.
  • the spacing may, in another example, be at least 4 ⁇ m, at least about 5 ⁇ m, at least about 6 ⁇ m, at least about 7 ⁇ m, or at least about 8 ⁇ m, with an upper limit of about 20 ⁇ m, about 18 ⁇ m, about 16 ⁇ m, About 14 ⁇ m, about 12 ⁇ m, or about 10 ⁇ m.
  • the dot spotting problem is not significantly raised even when the doting process is applied, but the problem is highlighted when the cell gap is increased.
  • the dot spotting can be minimized or suppressed even in the manufacture of a high cell gap device.
  • the present application also relates to optical devices, for example optical devices made by the coating compositions and methods of preparation. Descriptions overlapping with those described in the above-described coating compositions and optical devices will be omitted.
  • optical device category it is possible to switch between two or more different optical states, for example high and low transmittance states, high and low transmittance states, low and low transmittance states, states in which different colors are implemented, and the like. Any kind of device so formed may be included.
  • Such an optical device may include a first substrate, a second substrate disposed opposite the first substrate, and a light modulating material present between the first substrate and the second substrate. At least one of the first substrate and the second substrate may be formed in the above-described manner.
  • an alignment film is formed on a surface of the first substrate that faces the second substrate or on a surface of the second substrate that faces the first substrate, and the alignment film includes an alignment film forming material, a spacer, and a nano. It includes particles, the density of the spacer is smaller than the density of the nanoparticles, the density of the nanoparticles may be in the range of 1.5 g / cm 3 to 10 g / cm 3 .
  • an alignment layer formed from the coating composition including the alignment layer forming material, the spacer, and the nanoparticles described above may be formed on one surface of any one of the first substrate and the second substrate.
  • the other substrate may have an alignment film formed from an alignment film forming material including a material for forming an alignment film, which does not include spacers and nanoparticles.
  • the light modulating material may further comprise a dichroic dye.
  • the dichroic dye may be classified into two types. A dye that absorbs more light in a specific direction than the other in a specific direction, and a dye that absorbs polarization in the long axis direction of the molecule is a positive dichroic dye or p.
  • Type dye the absorption of light in the vertical direction may mean a negative dichroic dye or n-type dye. In general, such a dye may have an absorption spectrum of a narrow region around a wavelength causing maximum absorption.
  • dyes used in guest host LCDs include chemical optical stability, width of color and absorption spectrum, dichroic ratio, order of pigment, solubility in host, degree of non-ionization, extinction ) Can be evaluated by properties such as coefficient, purity and high resistivity. Unless otherwise specified, the dichroic dye is assumed to be a positive dye.
  • the term “dye” may mean a material capable of intensively absorbing and / or modifying light in at least part or the entire range within the visible light region, for example, in the 400 nm to 700 nm wavelength range
  • the term “dichroic dye” may refer to a material capable of dichroic absorption of light in at least part or the entire range of the visible light region.
  • the dichroic dye for example, a known dye known to have a property that can be aligned according to the alignment state of the liquid crystal can be selected and used.
  • a dichroic dye black dye can be used, for example.
  • Such dyes are known, for example, but not limited to azo dyes, anthraquinone dyes, and the like.
  • the dichroic ratio of the dichroic dye may be appropriately selected in consideration of the purpose of the present application.
  • the dichroic dye may have a dichroic ratio of 5 to 20 or less.
  • the term “dichroic ratio”, for example, in the case of a p-type dye, may mean a value obtained by dividing the absorption of polarized light parallel to the long axis direction of the dye by the absorption of polarized light parallel to the direction perpendicular to the long axis direction. Can be.
  • Anisotropic dyes may have the dichroic ratio at least at one or some wavelengths within a wavelength range of the visible light region, for example, within a wavelength range of about 380 nm to 700 nm or about 400 nm to 700 nm.
  • the light modulation material may serve as a guest-host type light modulation material. That is, the guest-host type optical modulation material may exhibit anisotropic light absorption effect by dichroic dyes are arranged together according to the arrangement of the liquid crystal compound to absorb light parallel to the alignment direction of the dye and transmit vertical light. .
  • the content of the anisotropic dye of the light modulation material may be appropriately selected in consideration of the purpose of the present application. For example, the content of the anisotropic dye of the light modulator may be 0.1 wt% or more and 10 wt% or less.
  • the cell gap of the optical device that is, the distance between the first substrate and the second substrate is not particularly limited.
  • the interval may be about 1 ⁇ m or more.
  • the spacing may, in another example, be at least about 4 ⁇ m, at least about 5 ⁇ m, at least about 6 ⁇ m, at least about 7 ⁇ m, or at least about 8 ⁇ m, with an upper limit of about 20 ⁇ m, about 18 ⁇ m, about 16 ⁇ m. , About 14 ⁇ m, about 12 ⁇ m or about 10 ⁇ m.
  • substrate was produced using the PC (Polycarbonate) film whose thickness is 100 micrometers in which the indium tin oxide (ITO) electrode layer is formed in one surface.
  • the coating composition has a mean diameter (D50 diameter) of about 100 nm, a spherical silica (SiO 2 ) nanoparticle having a density of about 2.7 g / cm 3 , an average diameter (D50) of about 12 ⁇ m, and a density of about 1.29 g / cm 3 ball spacer and polyimide-based alignment film formation material (Nissan, SE-7492) are mixed in a weight ratio of about 2: 20: 150 (nanoparticle: ball spacer: alignment film formation material) The mixture is placed in a mixed solvent of N-Methyl-2-pyrrolidinone, N-Methyl-2-pyrrolidone, Butyl cellosolve, and Dipropyleneglycol monomethyl ether (DPM).
  • DPM Di
  • a dispersion (alignment film forming material) was used that was dispersed at a concentration of about 1.5% by weight.
  • the alignment layer forming material was coated by a bar coating method such that the final alignment layer thickness was about 200 nm.
  • the baking and imidizing process was performed by maintaining in an oven at about 130 ° C. for about 20 minutes. Subsequently, the baked and imidized layer was rubbed to form an alignment layer.
  • the second substrate includes N-methyl-2-pyrrolidone and butyl cellosolve using a polyimide-based alignment film forming material (Nissan, SE-7492) as a solvent. ) And a final alignment film in the same manner as the first substrate, except that an alignment film forming material (coating composition) dispersed in a mixed solvent of Dipropyleneglycol monomethyl ether (DPM) at a concentration of about 2.0% by weight was used. The alignment film was formed to have a thickness of about 250 nm.
  • a polyimide-based alignment film forming material Nisan, SE-7492
  • DPM Dipropyleneglycol monomethyl ether
  • An end of the first substrate is coated with a sealant which is usually applied in the manufacture of a liquid crystal cell, and a light modulating material (Merck's MAT-16-969 liquid crystal (ne: 1.5463, no: 1.4757, epsilon): 7.4 , ⁇ : 3.2, TNI: 85 ° C., ⁇ n: 0.0706, ⁇ : 4.2) and a mixture of anisotropic dyes (BASF, X12)), and then dotting the bonded first and second substrates.
  • the optical device was fabricated by spreading the dotting light modulating material evenly between the two substrates.
  • the cell gap between the upper and lower substrates was maintained at about 12 ⁇ m.
  • nanoparticles of the coating composition in preparing the first substrate except that silica (SiO 2 ) nanoparticles having an average diameter (D50 diameter) of about 100 nm and a density of about 1.2 g / cm 3 were used,
  • the first and second substrates and the optical device were fabricated in the same manner as in Example 1, respectively.
  • the first and second substrates and the optical device were fabricated in the same manner as in Example 1, except that no nanoparticles were used in the coating composition when fabricating the first substrate.
  • Example 1 it was confirmed that the dispersion evenly without agglomeration phenomenon as a whole, in the case of Comparative Examples 1 to 2 of Figs. 2 to 3, it was confirmed that the aggregation phenomenon different from Example 1.

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Abstract

본 출원은 코팅 조성물, 이를 이용한 기판의 제조 방법 및 광학 디바이스에 대한 것이다. 본 출원에서는, 표면에 고착형 스페이서가 존재하는 기판으로서, 배향막에 나노입자 및 스페이서를 분산한 단일층을 이용하여 공정 및 비용을 절감시키고, 우수한 성능의 기판을 제조하는 방법과 그러한 방식으로 제조된 광학 디바이스를 제공할 수 있다.

Description

코팅 조성물
본 출원은 코팅 조성물, 이를 이용한 기판의 제조 방법 및 광학 디바이스에 관한 것이다.
본 출원은 2018년 1월 30일자 한국 특허 출원 제10-2018-0011163호에 기초한 우선권의 이익을 주장하며, 해당 한국 특허 출원의 문헌에 개시된 모든 내용은 본 명세서의 일부로서 포함된다.
기판의 사이에 광변조층을 배치시켜서 광의 투과율 또는 색상 등을 조절할 수 있는 광학 디바이스는 공지이다. 예를 들면, 특허 문헌 1(유럽 공개특허 제0022311호)에는 액정 호스트(liquid crystal host)와 이색성 염료 게스트(dichroic dye guest)의 혼합물을 적용한 소위 GH셀(Guest host cell)이 알려져 있다.
이러한 광학 디바이스는 일반적으로 대향 배치된 2층의 기판과 그 기판의 사이에 존재하는 상기 광변조층을 포함하고, 상기 기판의 사이의 간격을 유지하는 스페이서를 또한 포함한다.
스페이서에는 대표적으로 소위 컬럼 스페이서와 볼 스페이서가 있고, 볼 스페이서를 사용하는 경우에 볼 스페이서를 배향막 내에 고정시킨 구조도 알려져 있다. 이러한 스페이서는 소위 고착형 스페이서라고도 불리운다. 이러한 구조는 특히 플렉서블 기판을 사용하여 광학 디바이스를 제조한 경우에 유용한데, 기판이 밴딩되는 경우에 볼 스페이서가 이동하거나 뭉치는 현상이 발생하지 않고, 균일한 셀갭의 유지가 가능하기 때문이다.
따라서, 스페이서가 적절히 분산되는 것이 균일한 셀갭의 유지를 위하여 필요할 뿐만 아니라 헤이즈 발생도 억제할 수 있다.
본 출원은 코팅 조성물, 이를 이용한 기판의 제조 방법 및 광학 디바이스에 대한 것이다. 본 출원에서는 표면에 배향막에 고정된 스페이서가 균일하게 분산되어 있고, 헤이즈가 없는 기판을 간단하고 저비용의 공정으로 제조할 수 있게 하는 코팅 조성물, 이를 이용한 기판의 제조 방법 및 광학 디바이스를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 출원은 코팅 조성물에 관한 것이다. 본 출원의 예시적인 코팅 조성물은 배향막 형성용 물질, 스페이서 및 나노 입자를 포함하며, 상기 스페이서의 밀도는 상기 나노 입자의 밀도에 비해서 작고, 상기 나노 입자의 밀도는 1.5 g/cm3 내지 10 g/cm3의 범위 내일 수 있다.
본 출원은 기판의 제조 방법에 관한 것이다. 본 출원의 예시적인 기판의 제조 방법은 기재층상에 코팅 조성물을 사용하여 배향막을 형성하는 공정을 포함하며, 상기 코팅 조성물은 배향막 형성용 물질, 스페이서 및 나노 입자를 포함할 수 있고, 상기 스페이서의 밀도는 상기 나노 입자의 밀도에 비해서 작고, 상기 나노 입자의 밀도는 1.5 g/cm3 내지 10 g/cm3의 범위 내일 수 있다.
본 출원은 광학 디바이스에 관한 것이다. 본 출원의 예시적인 광학 디바이스는 제 1 기판, 상기 제 1 기판과 대향 배치되어 있는 제 2 기판 및 상기 제 1 기판과 제 2 기판의 사이에 존재하는 광변조 물질을 포함하는 광학 디바이스로서, 상기 제 1 기판의 상기 제 2 기판에 대향하는 면 및/또는 상기 제 2 기판의 상기 제 1 기판에 대향하는 면에는 배향막이 형성되어 있고, 상기 배향막은 배향막 형성용 물질, 스페이서 및 나노 입자를 포함하며, 상기 스페이서의 밀도는 상기 나노 입자의 밀도에 비해서 작고, 상기 나노 입자의 밀도는 1.5 g/cm3 내지 10 g/cm3의 범위 내일 수 있다.
본 출원에서는 표면에 고착형 스페이서가 존재하는 기판으로서, 배향막에 나노입자 및 스페이서를 분산한 단일층을 이용하여 공정 및 비용을 절감시키고, 우수한 성능의 기판을 제조하는 방법과 그러한 방식으로 제조된 광학 디바이스를 제공할 수 있다.
도 1 내지 도 3은, 본 출원의 실시예 1, 비교예 1 및 비교예 2를 광학 현미경으로 관찰한 이미지이다.
본 출원은 코팅 조성물에 관한 것이다. 본 출원의 예시적인 코팅 조성물은, 배향막 형성용 물질, 스페이서 및 나노 입자를 포함할 수 있다.
본 출원에서는 액정 화합물의 정렬 상태를 조절하기 위하여 상기 기재층상에 배향막을 형성한다. 본 출원에서 적용하는 배향막의 종류는 특별하게 제한되지 않으며, 공지의 배향막이 사용될 수 있다. 예를 들면, 적절한 코팅성, 용매에 대한 용해도, 내열성, 내화학성 및 러빙과 같은 배향 처리에 대한 내구성 등을 만족하고, 필요에 따라서 적절한 틸팅(tilting) 특성 등을 나타내며, 불순도(impurity) 관리를 통한 적절한 전압보전율(voltage holding ratio; VHR)과 고명암비 등의 물성을 만족하는 공지의 배향막을 모두 적용할 수 있다. 배향막으로는, 예를 들면, 수직 또는 수평 배향막일 수 있다. 수직 또는 수평 배향막으로는, 인접하는 액정층의 액정 화합물에 대하여 수직 또는 수평 배향능을 가지는 배향막이라면 특별한 제한없이 선택하여 사용할 수 있다. 이러한 배향막으로는, 예를 들어, 러빙 배향막과 같이 접촉식 배향막 또는 광배향막 화합물을 포함하여 직선 편광의 조사 등과 같은 비접촉식 방식에 의해 배향 특성을 나타낼 수 있는 것으로 공지된 배향막을 사용할 수 있다.
배향막은, 배향막 형성용 물질을 포함하는 배향막 형성재로서, 예를 들면, 상기 배향막 형성용 물질을 적절한 용매에 분산, 희석 및/또는 용해시켜서 제조한 배향막 형성재를 적용하여 제조할 수 있다.
상기 배향막 형성용 물질은 러빙 배향막 형성용 물질 또는 광 배향막 형성용 물질일 수 있다. 배향막 형성용 물질의 종류는, 적절한 처리에 의해 액정에 대한 수직 또는 수평 배향능과 같은 배향능을 나타낼 수 있는 것으로 공지되어 있는 모든 종류의 물질을 사용할 수 있다.
상기 배향막 형성용 물질은, 폴리이미드(polyimide) 화합물, 폴리비닐알코올(poly(vinyl alcohol)) 화합물, 폴리아믹산(poly(amic acid)) 화합물, 폴리스티렌(polystylene) 화합물, 폴리아미드(polyamide) 화합물 및 폴리옥시에틸렌(polyoxyethylene) 화합물 등과 같이 러빙 배향에 의해 배향능을 나타내는 것으로 공지된 물질이나, 폴리이미드(polyimide) 화합물, 폴리아믹산(polyamic acid) 화합물, 폴리노르보넨(polynorbornene) 화합물, 페닐말레이미드 공중합체(phenylmaleimide copolymer) 화합물, 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinamate) 화합물, 폴리아조벤젠(polyazobenzene) 화합물, 폴리에틸렌이민(polyethyleneimide) 화합물, 폴리비닐알콜(polyvinylalcohol) 화합물, 폴리아미드(polyimide) 화합물, 폴리에틸렌(polyethylene) 화합물, 폴리스타일렌(polystylene) 화합물, 폴리페닐렌프탈아미드(polyphenylenephthalamide) 화합물, 폴리에스테르(polyester) 화합물, CMPI(chloromethylated polyimide) 화합물, PVCI(polyvinylcinnamate) 화합물 및 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate) 화합물 등과 같이 광조사에 의해 배향능을 나타낼 수 있는 것으로 공지된 물질로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다.
코팅 조성물 내에서 상기 배향막 형성용 물질의 비율은 0.1 내지 10 중량%일 수 있다. 상기 비율은 다른 예시에서 약 0.3 중량% 이상, 약 0.5 중량% 이상, 약 0.7 중량% 이상, 약 0.9 중량% 이상, 약 1.1 중량% 이상 또는 약 1.3 중량% 이상이거나, 약 9 중량% 이하, 약 8 중량% 이하, 약 7 중량% 이하, 약 6 중량% 이하, 약 5 중량% 이하, 약 4 중량% 이하, 약 3 중량% 이하 또는 약 2 중량% 이하 정도일 수도 있다. 상기 배향막 형성용 물질의 비율이 상기 범위보다 미만이면, 배향막이 너무 얇게 코팅되어 스페이서와 나노입자를 고착시키기 어렵고, 상기 범위를 초과하는 경우, 배향막의 두께가 두꺼워 광학디바이스 제작 시 셀갭 유지 및 스페이서 주변의 테일 발생에 의해 빛샘 등의 문제가 발생한다.
배향막 형성재는 상기와 같은 배향막 형성용 물질을 용매에 희석, 분산 및/또는 용해시켜 제조할 수 있다. 이 때 적용될 수 있는 용매는 기본적으로 특별하게 제한되지는 않는다. 예를 들면, 용매로는, 사이클로헥산(cyclohexane) 등의 탄소수 3 내지 12 또는 탄소수 3 내지 8의 사이클로알칸, DMSO(dimethyl sulfoxide), THF(tetrahydrofuran), DMF(dimethylformamide), NMP(NMethyl-pyrrolidone), 클로로포름(CHCl3), 감마-부티로락톤이나 사이클로펜타논 등의 케톤 용매, 2-부톡시에탄올 등의 알코올 또는 에틸렌글리콜 등의 글리콜 중에서 선택된 어느 하나나 또는 상기 중에서 선택된 2종 이상의 혼합 용매를 적용할 수 있다.
일 예시에서 적절한 배향막의 형성을 위해서, 배향막 형성재는 점도가 소정 범위로 제어될 수 있다.
예를 들면, 상기 배향막 형성재는, 점도가 약 5 cP 내지 25cP의 범위 내일 수 있다. 상기 점도는, 예를 들면, 약 20 cP 이하, 18 cP 이하, 16 cP 이하, 14 cP 이하 또는 13 cP 이하일 수 있다. 이와 같은 점도를 가지는 배향막 형성재에 스페이서를 혼합한 코팅 조성물을 적용하는 것에 의해 스페이서가 균일하게 분산된 상태로 고착화되어 있는 배향막을 기재층상에 효과적으로 형성할 수 있다.
본 출원에서 언급하는 물성 중에서 측정 온도가 그 물성에 영향을 미치는 경우, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 해당 물성은 상온에서 측정한 물성일 수 있다. 용어 상온은, 가온되거나, 감온되지 않은 자연 그대로의 온도로서, 예를 들면, 약 10℃ 내지 30℃의 범위 내의 어느 한 온도, 약 23℃ 또는 약 25℃ 정도일 수 있다.
또한, 본 출원에서 언급하는 물성 중에서 측정 압력이 그 물성에 영향을 미치는 경우, 특별히 달리 규정하지 않는 한, 해당 물성은 상압에서 측정한 물성일 수 있다. 용어 상압은, 자연 그대로의 압력으로서, 일반적으로 대기압과 같은 대략 1 기압 정도의 압력이다.
본 출원에서 언급하는 평균 직경은 레이저광 회절법에 의한 입도 분포 측정에서의 체적평균값 D50(즉, 누적 체적이 50%가 될 때의 입자직경 또는 메디안 직경)으로서 입도분석기(Particle Size Analyser)를 이용하여 측정한 값을 나타내는 것을 의미할 수 있다.
본 출원에서 코팅 조성물은 상기 배향막 형성용 물질과 함께 스페이서를 포함한다. 이 때 적용되는 스페이서의 종류는 특별히 제한되지 않는다. 일 예시에서 상기 스페이서로는, 공지의 볼 스페이서 또는 컬럼 스페이서가 사용될 수 있다. 상기 스페이서는, 크기는 특별한 제한 없이, 예를 들면, 목적하는 셀갭을 고려하여 적정 크기의 스페이서가 사용될 수 있다. 하나의 예시에서 상기 볼 스페이서의 D50 입경 또는 컬럼 스페이서의 높이는 약 1㎛ 이상일 수 있다. 다른 예시에서 상기 입경 또는 높이는, 약 2㎛ 이상, 약 3㎛ 이상, 약 4㎛ 이상, 약 5㎛ 이상, 6㎛ 이상, 7㎛ 이상, 8㎛ 이상, 9㎛ 이상, 10㎛ 이상, 11㎛ 이상, 12㎛ 이상, 13㎛ 이상, 14㎛ 이상 또는 14.5㎛ 이상일 수 있으며, 30㎛ 이하, 29㎛ 이하, 28㎛ 이하, 27㎛ 이하, 26㎛ 이하, 25㎛ 이하, 24㎛ 이하, 23㎛ 이하, 22㎛ 이하, 21㎛ 이하, 20㎛ 이하, 19㎛ 이하, 18㎛ 이하, 17㎛ 이하, 16㎛ 이하, 16.5㎛ 이하, 15㎛ 이하, 14㎛ 이하, 13㎛ 이하 또는 12.5㎛ 이하일 수 있다.
상기 스페이서의 밀도는 1 g/cm3 내지 5 g/cm3의 범위 내일 수 있고, 구체적으로 1 g/cm3 내지 4 g/cm3, 1 g/cm3 내지 3.5 g/cm3, 1 g/cm3 내지 3 g/cm3, 1 g/cm3 내지 2.5 g/cm3, 1 g/cm3 내지 2 g/cm3, 1 g/cm3 내지 1.5 g/cm3 정도의 범위 내일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
스페이서의 밀도(A) 및 나노 입자의 밀도(B)의 비율(B/A)은 1 내지 10의 범위 내일 수 있다. 다른 예시에서 상기 비율(B/A)은, 약 1.2 이상, 1.4 이상, 1.5 이상, 1.6 이상 또는 1.8 이상이거나, 9 이하, 8 이하, 7 이하, 6 이하, 5 이하, 4 이하 또는 3 이하일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 스페이서의 코팅 조성물 내에서의 비율은 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들면, 배향막 형성용 물질 100 중량부 대비 0.5 내지 10,000 중량부의 비율로 포함될 수 있다. 상기 비율은 다른 예시에서 약 1 중량부 이상, 1.5 중량부 이상, 2 중량부 이상, 2.5 중량부 이상, 3 중량부 이상, 3.5 중량부 이상, 4 중량부 이상, 4.5 중량부 이상, 5 중량부 이상, 5.5 중량부 이상, 6 중량부 이상, 6.5 중량부 이상, 7 중량부 이상, 7.5 중량부 이상, 8 중량부 이상, 8.5 중량부 이상, 9 중량부 이상, 9.5 중량부 이상, 10 중량부 이상, 11 중량부 이상 또는 12 중량부 이상이거나, 약 9000 중량부 이하, 8000 중량부 이하, 7000 중량부 이하, 6000 중량부 이하, 5000 중량부 이하, 4000 중량부 이하, 3000 중량부 이하, 2000 중량부 이하, 1000 중량부 이하, 900 중량부 이하, 800 중량부 이하, 700 중량부 이하, 600 중량부 이하, 500 중량부 이하, 400 중량부 이하, 300 중량부 이하, 200 중량부 이하, 100 중량부 이하, 90 중량부 이하, 80 중량부 이하, 70 중량부 이하, 60 중량부 이하, 50 중량부 이하, 45 중량부 이하, 40 중량부 이하, 35 중량부 이하, 30 중량부 이하, 25 중량부 이하, 20 중량부 이하 또는 15 중량부 이하일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 이러한 비율은 목적하는 분산성 등을 고려하여 적정하게 제어될 수 있다.
본 출원에서 코팅 조성물은 나노 입자를 포함할 수 있고, 상기 스페이서에 비하여 상기 나노 입자가 높은 밀도를 가질 수 있다. 상기 나노 입자의 밀도가 스페이서보다 낮을 경우, 기재층 가까이에 요철 형성이 어렵고, 잘 분산되지 않는 단점이 있다. 그러나, 상기 나노 입자의 밀도가 스페이서보다 높은 경우, 상기 나노 입자가 기재층에 가까이 적층되어 요철을 형성하는데 용이하다.
상기 나노 입자는 구상 입자 또는 하기 수식 1을 만족하는 입자일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
[수식 1]
LA < 3 × SA
상기 수식 1에서, LA는 나노 입자의 장축의 길이이고, SA는 나노 입자의 단축의 길이이다.
상기 장축 및 단축의 길이는 코팅된 기재의 전자현미경 단면도 이미지(SEM cross section image)를 이용하여 측정한 것이다.
상기 나노 입자의 D50 입경은 1μm 이하일 수 있고, 구제척으로 10 nm 내지 1,000 nm일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 나노 입자의 D50 입경은, 다른 예시에서 10 nm 이상, 20 nm 이상, 30 nm 이상, 40 nm 이상, 50 nm 이상, 60 nm 이상, 70 nm 이상, 80 nm 이상 또는 90 nm 이상 정도이거나, 900 nm 이하, 800 nm 이하, 700 nm 이하, 600 nm 이하, 500 nm 이하, 400 nm 이하, 300 nm 이하 또는 200 nm 이하 정도일 수 있다. 상기 범위 내의 나노 입자인 경우, 상기 나노 입자를 분산시키는데 용이하다.
상기 나노 입자는 밀도가 1.5 g/cm3 내지 10 g/cm3의 범위 내에 있을 수 있다. 상기 밀도는 다른 예시에서 1.5 g/cm3 내지 9 g/cm3, 1.5 g/cm3 내지 8 g/cm3, 1.5 g/cm3 내지 7 g/cm3 , 1.5 g/cm3 내지 6 g/cm3, 1.5 g/cm3 내지 5.5 g/cm3, 1.5 g/cm3 내지 5 g/cm3, 1.5 g/cm3 내지 4.5 g/cm3, 1.5 g/cm3 내지 4 g/cm3, 1.5 g/cm3 내지 3.5 g/cm3 또는 1.5 g/cm3 내지 3 g/cm3 또는 2 g/cm3 내지 3 g/cm3 정도 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 일반적인 PMMA 계열 스페이서의 밀도는 1.5 g/cm3 이하이나, 배향막 코팅 후 건조 시, 나노 입자가 스페이서보다 먼저 침전되어 요철을 형성하기 위해서는 상기 나노 입자의 밀도가 1.5 g/cm3 이상이어야 하고, 일반적으로 분산하여 사용하는 무기 나노 입자의 밀도가 10 g/cm3이하이다.
상기 나노 입자의 비율은 배향막 형성용 물질 100 중량부 대비 0.01 내지 10000 중량부의 비율로 포함될 수 있다. 상기 비율은 다른 예시에서 약 0.05 중량부 이상, 약 0.1 중량부 이상, 약 0.5 중량부 이상 또는 약 1 중량부 이상이거나, 약 9000 중량부 이하, 8000 중량부 이하, 7000 중량부 이하, 6000 중량부 이하, 5000 중량부 이하, 4000 중량부 이하, 3000 중량부 이하, 2000 중량부 이하, 1000 중량부 이하, 900 중량부 이하, 800 중량부 이하, 700 중량부 이하, 600 중량부 이하, 500 중량부 이하, 400 중량부 이하, 300 중량부 이하, 200 중량부 이하, 100 중량부 이하, 90 중량부 이하, 80 중량부 이하, 70 중량부 이하, 60 중량부 이하, 50 중량부 이하, 45 중량부 이하, 40 중량부 이하, 35 중량부 이하, 30 중량부 이하, 25 중량부 이하, 20 중량부 이하, 15 중량부 이하, 10 중량부 이하, 8 중량부 이하, 6 중량부 이하, 4 중량부 이하 또는 2 중량부 이하 정도일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 나노 입자의 비율이 상기 범위보다 낮을 경우, 나노입자를 분산시킬 수 없고, 상기 범위보다 높을 경우, 헤이즈(Haze)가 증가하여 투과율이 낮아지는 단점이 발생한다.
상기 나노 입자의 종류는 실리카(이산화규소), 산화알루미늄, 이산화 티타늄, 산화아연, 산화하프늄, 산화지르코늄, 산화주석, 산화세륨, 산화마그네슘, 산화니켈, 산화칼슘 및 산화이트륨으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있고, 예를 들면 실리카일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 출원은 기판의 제조 방법에 관한 것이고, 일 예시에서 전술한 코팅 조성물을 적용하여 기판을 제조하는 방법에 대한 것이다. 전술한 코팅 조성물에서 설명한 내용과 중복되는 내용은 생략하기로 한다.
상기 제조방법은 기재층상에 전술한 코팅 조성물을 사용하여 배향막을 형성하는 공정을 포함할 수 있다. 이러한 공정은, 예를 들면, 배향막 형성용 물질을 포함하는 배향막 형성재를 사용하여 형성할 수 있다.
본 출원에서 기재층으로는, 특별한 제한 없이, 예를 들면, LCD(Liquid Crystal Display)와 같은 공지의 광학 디바이스의 구성에서 기판으로 사용되는 임의의 기재층이 적용될 수 있다. 예를 들면, 기재층은 무기 기재층이거나 유기 기재층일 수 있다. 무기 기재층으로는 글라스(glass) 기재층 등이 예시될 수 있고, 유기 기재층으로는, 다양한 플라스틱 필름 등이 예시될 수 있다. 플라스틱 필름으로는 TAC(triacetyl cellulose) 필름; 노르보르넨 유도체 등의 COP(cyclo olefin copolymer) 필름; PMMA(poly(methyl methacrylate) 등의 아크릴 필름; PC(polycarbonate) 필름; PE(polyethylene) 또는 PP(polypropylene) 등의 폴리올레핀 필름; PVA(polyvinyl alcohol) 필름; DAC(diacetyl cellulose) 필름; Pac(Polyacrylate) 필름; PES(poly ether sulfone) 필름; PEEK(polyetheretherketon) 필름; PPS(polyphenylsulfone) 필름, PEI(polyetherimide) 필름; PEN(polyethylenemaphthatlate) 필름; PET(polyethyleneterephtalate) 필름; PI(polyimide) 필름; PSF(polysulfone) 필름 또는 PAR(polyarylate) 필름 등이 예시될 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다.
본 출원의 제조 방법은, 특히 상기 기재층으로서 유기 기재층, 예를 들면, 플라스틱 필름이 사용되는 경우에 유용할 수 있다. 닷팅 얼룩 등이 발생하는 경우에 상기 얼룩이 발생한 디바이스 등을 고온에서 처리하는 것에 의해 상기 얼룩을 제거하는 방법, 예를 들면, 광변조 물질의 예인 액정 화합물의 Tni 이상의 온도에서 처리하는 것에 의해 상기 얼룩을 제거하는 방법이 알려져 있다. 그렇지만, 기판으로서 유기 기재층이 적용되는 경우에는, 유기 기재층의 내열성이 떨어져서, 고온의 열처리 공정을 수행하는 것이 곤란하다. 그러나, 본 명세서에서 기술하는 방법에 의해서는 상기와 같은 고온 처리 없이도 닷팅 얼룩이 발생하지 않도록 할 수 있기 때문에 유기 기재층이 적용되는 경우에도 우수한 물성의 배향막을 형성할 수 있다.
본 출원에서 상기 기재층의 두께도 특별히 제한되지 않고, 용도에 따라서 적정 범위가 선택될 수 있다.
본 출원의 제조 방법에서는 배향막이 상기 기재층상에 직접 형성될 수도 있고, 상기 기재층상에 다른 층 내지는 구성이 존재하는 상태에서 그 다른 층 내지는 구성상에 형성될 수도 있다.
상기에서 다른 층 내지 구성의 예는, 특별히 제한되지 않고, 광학 디바이스의 구동 및 구성에 필요한 공지의 층 내지 구성이 모두 포함된다. 이러한 층 내지 구성의 예로는, 전극층이나 스페이서 등이 있다.
본 출원에서는 상기와 같은 배향막 형성재를 사용하여 배향막을 형성하고, 이 경우 그 형성 방법은 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 배향막 형성 공정은, 기재층 상에 배향막 형성재(상기 코팅 조성물)의 층을 형성하는 공정 및 상기 형성된 층에 상기 배향 처리 등의 공지의 처리를 수행하는 공정을 포함할 수 있다.
상기 배향 처리는 공지의 방식으로 수행할 수 있다. 예를 들면, 러빙 배향막인 경우에 적절한 러빙 처리를 하거나, 광 배향막인 경우에 적절한 광 조사 처리를 통해 상기 배향 처리를 수행할 수 있다. 상기 각 처리를 수행하는 구체적인 방식은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 러빙 공정은, 코튼, 레이온 또는 나일론 형성 같은 러빙 천을 사용한 방식을 적용할 수 있으며, 광조사 공정은 적절한 직선 편광을 조사하는 방식 등을 적용할 수 있다.
또한, 상기 배향막 형성재의 층을 도포 등에 의해 형성하고, 소성까지의 시간이 기판마다 일정하지 않은 경우나, 도포 후 즉시 소성되지 않은 경우에는 열처리 및/또는 건조 공정 등과 같은 전처리 공정이 수행될 수도 있다. 예를 들면, 상기 열처리 및/또는 건조 등의 공정은, 적절한 건조기, 오븐 또는 핫플레이트 등을 사용하여 수행할 수 있다.
상기에서 열처리 및/또는 건조 공정 등이 수행되는 경우에는 그 처리 온도나 시간은 특별히 제한되지 않고, 적절하게 조절될 수 있다. 예를 들면, 상기 공정은, 약 50℃ 이상, 약 60℃ 이상, 약 70℃ 이상, 약 80℃ 이상, 약 90℃ 이상, 약 100℃ 이상, 약 110℃ 이상 또는 약 120℃ 이상의 온도에서 수행될 수 있다. 또한, 상기 온도는 약 300℃ 이하, 약 280℃ 이하, 약 260℃ 이하, 약 240℃ 이하, 약 230℃ 이하, 약 220℃ 이하, 약 210℃ 이하, 약 200℃ 이하, 약 180℃ 이하 또는 약 160℃ 이하 정도일 수 있다.
상기 공정의 처리 온도도 배향막 형성재의 상태나 상기 온도 등을 고려하여 선택될 수 있으며, 예를 들면, 약 1분 내지 2 시간의 범위 내에서 적정 시간이 선택될 수 있다.
본 명세서에서 언급하는 물성 중에서 측정 온도가 그 결과에 영향을 미치는 경우에, 특별히 달리 언급하지 않는 한 그 물성은 상온에서 측정한 물성이다. 용어 상온은, 가온 및 감온되지 않는 자연 그대로의 온도이고, 예를 들면, 약 10℃ 내지 30℃의 범위 내의 어느 한 온도이거나, 약 23℃ 또는 약 25℃ 정도의 온도일 수 있다. 본 명세서에서 언급하는 물성 중에서 측정 압력이 그 결과에 영향을 미치는 경우에, 특별히 달리 언급하지 않는 한 그 물성은 상압에서 측정한 물성이다. 용어 상압은 특별하게 압력을 올리거나 내리지 않은 자연 그대로의 압력이고, 일반적으로 대기압과 같은 약 1기압 정도의 압력을 의미한다.
본 출원은 또한 광학 디바이스의 제조방법에 관한 것이다. 본 출원의 예시적인 광학 디바이스의 제조 방법은 전술한 코팅 조성물 및/또는 기판의 제조 방법을 적용할 수 있다.
본 출원의 예시적인 광학 디바이스의 제조 방법은, 제 1 기판 및 상기 제 1 기판과 대향 배치되어 있는 제 2 기판에 있어서, 상기 제 1 기판의 상기 제 2 기판에 대향하는 면 및/또는 상기 제 2 기판의 상기 제 1 기판에 대향하는 면에 코팅 조성물의 층을 형성하고, 상기 층을 배향 처리하는 공정을 포함할 수 있다. 상기 코팅 조성물은 배향막 형성용 물질, 스페이서 및 나노 입자를 포함할 수 있고, 상기 스페이서의 밀도는 상기 나노 입자의 밀도에 비해서 작고, 상기 나노 입자의 밀도는 1.5 g/cm3 내지 10 g/cm3의 범위 내일 수 있다.
본 출원의 제조방법은, 상기와 같이 형성된 배향막 상에 액정 화합물을 포함하는 광변조 물질을 닷팅하는 단계와 대향 기판을 상기 광변조 물질이 닷팅된 배향막을 가지는 기재층과 대향 배치한 상태로 압력을 가하여 상기 닷팅된 광변조 물질이 상기 기재층과 대향 기판의 사이의 간격을 충전하도록 하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
상기 과정은 예를 들면, 일반적인 닷팅 공정의 진행 방식에 따라 수행될 수 있으며, 그 구체적인 진행 방식은 특별히 제한되지 않는다.
또한, 적용되는 액정 화합물 등의 재료도 특별한 제한 없이 필요에 따라서 공지의 적정 재료가 선택된다.
또한, 상기에서 기재층과 대향 배치되는 대향 기판의 종류도 특별히 제한되지 않고, 공지의 기판이 적용될 수 있다. 예를 들면, 상기 기판도 기재층과 그 일면에 형성된 배향막을 포함할 수 있으며, 필요한 경우에 전극층과 같은 기타 다른 구성도 포함할 수 있다. 상기 대향 기판의 기재층상에 형성되는 배향막의 형성 방식도 특별히 제한되지 않고, 공지의 방식을 따를 수 있다. 일 예시에서 상기 대향 기판의 기재층상에 배향막을 형성하는 방식은 전술한 배향막 형성 방식을 따를 수 있다.
상기 과정에서 상기 기재층과 대향 기판의 사이의 간격, 즉 소위 셀갭도 특별한 제한은 없다. 다만, 일 예시에서 상기 간격은, 약 1 ㎛ 이상이 될 수 있다. 상기 간격은, 다른 예시에서 4 ㎛ 이상, 약 5 ㎛ 이상, 약 6 ㎛ 이상, 약 7 ㎛ 이상 또는 약 8 ㎛ 이상이 될 수 있고, 그 상한은 약 20 ㎛, 약 18 ㎛, 약 16 ㎛, 약 14 ㎛, 약 12 ㎛ 또는 약 10 ㎛ 정도일 수 있다. 통상적으로 셀갭이 작은 경우, 예를 들면, 약 4 ㎛ 미만인 경우에는 닷팅 공정이 적용되는 경우에도 닷팅 얼룩 문제가 크게 부각되지는 않지만, 셀갭이 커지는 경우에 상기 문제점이 부각된다. 그렇지만, 필요에 따라서 광학 디바이스에 높은 셀갭이 요구되는 경우가 있는데, 본 출원의 방식을 적용하게 되면, 높은 셀갭의 디바이스의 제조에 있어서도 닷팅 얼룩을 최소화하거나 억제할 수 있다.
본 출원은 또한 광학 디바이스, 예를 들면, 상기 코팅 조성물 및 제조 방법에 의해 제조된 광학 디바이스에 대한 것이다. 전술한 코팅 조성물 및 광학 디바이스에서 설명한 내용과 중복되는 내용은 생략하기로 한다.
용어 광학 디바이스의 범주에는, 서로 다른 2가지 이상의 광학 상태, 예를 들면, 고투과율 및 저투과율 상태, 고투과율, 중간 투과율 및 저투과율 상태, 서로 다른 색상이 구현되는 상태 등의 사이를 스위칭할 수 있도록 형성된 모든 종류의 디바이스가 포함될 수 있다.
이러한 광학 디바이스는 제 1 기판, 상기 제 1 기판과 대향 배치되어 있는 제 2 기판 및 상기 제 1 기판과 제 2 기판의 사이에 존재하는 광변조 물질을 포함할 수 있다. 상기에서 제 1 기판 및 제 2 기판 중에 적어도 하나의 기판이 전술한 방식으로 형성된 것일 수 있다. 예를 들면, 상기 제 1 기판의 상기 제 2 기판에 대향하는 면 또는 상기 제 2 기판의 상기 제 1 기판에 대향하는 면에는 배향막이 형성되어 있고, 상기 배향막은, 배향막 형성용 물질, 스페이서 및 나노 입자를 포함하며, 상기 스페이서의 밀도는 상기 나노 입자의 밀도에 비해서 작고, 상기 나노 입자의 밀도가 1.5 g/cm3 내지 10 g/cm3의 범위 내에 있을 수 있다.
하나의 예시에서, 제 1 기판과 제 2 기판 중 어느 하나의 기판의 일면에는 전술한, 배향막 형성용 물질, 스페이서 및 나노 입자를 포함하는 코팅 조성물로부터 형성된 배향막이 형성되어 있을 수 있다. 다른 하나의 기판은 스페이서 및 나노 입자를 포함하지 않는, 배향막 형성용 물질을 포함하는 배향막 형성재로부터 형성된 배향막이 형성되어 있을 수 있다.
필요한 경우에 상기 광변조 물질은 이색성 염료(dichroic dye)를 추가로 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 이색성 염료는 두 가지로 구분할 수 있는데, 특정한 방향으로 다른 방향보다 더 많은 빛을 흡수하는 분자로 분자의 장축 방향의 편광을 흡수하는 색소를 양(positive) 이색성 염료 또는 p형 염료, 수직인 방향의 빛을 흡수하는 것을 음(negative) 이색성 염료 또는 n형 염료를 의미할 수 있다. 일반적으로 상기와 같은 염료는 최대의 흡수를 일으키는 파장을 중심으로 좁은 영역의 흡수 스펙트럼을 가질 수 있다. 또한, 게스트 호스트 액정디스플레이(Guest Host LCD)에 쓰이는 염료는 화학적 광학적 안정성, 색상과 흡수 스펙트럼의 폭, 이색성 비율, 색소의 질서도, 호스트(Host)에 대한 용해도, 비이온화 정도, 소광(extinction) 계수 및 순도와 높은 비저항과 같은 특성으로 평가할 수 있다. 이하 특별한 언급이 없는 한 이색성 염료는 양의 염료인 것으로 가정한다.
본 명세서에서 용어 「염료」는, 가시광 영역, 예를 들면, 400 nm 내지 700 nm 파장 범위 내에서 적어도 일부 또는 전체 범위 내의 광을 집중적으로 흡수 및/또는 변형시킬 수 있는 물질을 의미할 수 있고, 용어 「이색성 염료」는 상기 가시광 영역의 적어도 일부 또는 전체 범위에서 광의 이색성 흡수가 가능한 물질을 의미할 수 있다.
이색성 염료로는, 예를 들면, 액정의 정렬 상태에 따라 정렬될 수 있는 특성을 가지는 것으로 알려진 공지의 염료를 선택하여 사용할 수 있다. 이색성 염료로는, 예를 들면, 흑색 염료(black dye)를 사용할 수 있다. 이러한 염료로는, 예를 들면, 아조 염료 또는 안트라퀴논 염료 등으로 공지되어 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
이색성 염료의 이색비(dichroic ratio)는 본 출원의 목적을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 상기 이색성 염료는 이색비가 5 이상 내지 20 이하일 수 있다. 본 명세서에서 용어「이색비」는, 예를 들어, p형 염료인 경우, 염료의 장축 방향에 평행한 편광의 흡수를 상기 장축 방향에 수직하는 방향에 평행한 편광의 흡수로 나눈 값을 의미할 수 있다. 이방성 염료는 가시광 영역의 파장 범위 내, 예를 들면, 약 380 nm 내지 700 nm 또는 약 400 nm 내지 700 nm의 파장 범위 내에서 적어도 일부의 파장 또는 어느 한 파장에서 상기 이색비를 가질 수 있다.
상기 광변조 물질이 액정 화합물 및 이색성 염료를 모두 포함하는 경우에 상기 광변조 물질은 게스트-호스트형 광변조 물질로 작용할 수 있다. 즉, 상기 게스트-호스트형 광변조 물질은 액정 화합물의 배열에 따라 이색성 염료가 함께 배열되어 염료의 정렬 방향에 평행한 광은 흡수하고 수직한 광은 투과시킴으로써 비등방성 광흡수 효과를 나타낼 수 있다. 또한, 상기 광변조 물질의 이방성 염료의 함량은 본 출원의 목적을 고려하여 적절히 선택될 수 있다. 예를 들어, 상기 광변조 물질의 이방성 염료의 함량은 0.1 중량% 이상 내지 10 중량% 이하일 수 있다.
또한, 광학 디바이스의 셀갭, 즉 상기 제 1 기판과 제 2 기판간의 간격은 특별한 제한은 없다. 다만, 일 예시에서 상기 간격은, 약 1 ㎛ 이상이 될 수 있다. 상기 간격은, 다른 예시에서 약 4 ㎛ 이상, 약 5 ㎛ 이상, 약 6 ㎛ 이상, 약 7 ㎛ 이상 또는 약 8 ㎛ 이상이 될 수 있고, 그 상한은 약 20 ㎛, 약 18 ㎛, 약 16 ㎛, 약 14 ㎛, 약 12 ㎛ 또는 약 10 ㎛ 정도일 수 있다.
이하, 본 출원에 따른 실시예 및 본 출원에 따르지 않는 비교예를 통하여 본 출원을 구체적으로 설명하지만, 본 출원의 범위가 하기 제시된 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.
실시예 1.
제 1 기판의 제작
제 1 기판은, 일면에 ITO(Indium Tin Oxide) 전극층이 형성되어 있는 두께가 100 ㎛인 PC(Polycarbonate) 필름을 사용하여 제작하였다. 코팅 조성물은 평균 직경(D50 직경)이 약 100 nm 정도이고, 밀도가 약 2.7 g/cm3 정도인 구상 실리카(SiO2) 나노 입자, 평균 직경(D50)이 약 12 ㎛ 정도이고, 밀도가 약 1.29 g/cm3 정도인 볼 스페이서 및 폴리이미드 계열의 배향막 형성용 물질(Nissan社, SE-7492)을 약 2:20:150의 중량 비율(나노입자:볼 스페이서:배향막 형성용 물질)로 혼합하고, 상기 혼합물을 N-메틸-2-피롤리디논(N-Methyl-2-pyrrolidone), 부틸셀로솔브(Butyl cellosolve) 및 디프로필렌글리콜모노에틸에테르(Dipropyleneglycol monomethyl ether, DPM)의 혼합 용매 내에 약 1.5 중량%의 농도로 분산시킨 것(배향막 형성재)을 사용하였다. 상기 배향막 형성재를 바코팅 방식(Meyer Bar Coating)으로 최종 배향막 두께가 약 200 nm 정도가 되도록 코팅하였다. 이어서, 약 130℃의 오븐에서 약 20분 동안 유지하여 베이킹 및 이미드화(imidizing) 공정을 진행하였다. 이어서, 상기 베이킹 및 이미드화된 층을 러빙하여 배향막을 형성하였다.
제 2 기판의 제작
제 2 기판은, 폴리이미드 계열의 배향막 형성용 물질(Nissan社, SE-7492)을 용매로서 N-메틸-2-피롤리디논(N-Methyl-2-pyrrolidone), 부틸셀로솔브(Butyl cellosolve) 및 디프로필렌글리콜모노에틸에테르(Dipropyleneglycol monomethyl ether, DPM)의 혼합 용매 내에 약 2.0 중량%의 농도로 분산시킨 배향막 형성재(코팅 조성물)를 사용한 것을 제외하면, 제 1 기판과 동일한 방식으로 최종 배향막 두께가 약 250 nm 정도가 되도록 배향막을 형성하여 제작하였다.
광학 디바이스의 제작
상기 제 1 기판의 단부에는 통상 액정셀의 제조에 적용되는 실런트를 코팅하고, 제 2 기판에 광변조 물질(Merck社의 MAT-16-969 액정(ne: 1.5463, no: 1.4757, ε∥: 7.4, ε⊥: 3.2, TNI: 85℃, △n: 0.0706, △ ε: 4.2)과 이방성 염료(BASF社, X12)의 혼합물)을 닷팅(dotting)한 후에 상기 제 1 및 제 2 기판을 합착함으로써, 닷팅(dotting)된 광변조 물질이 2개의 기판의 사이에 고르게 퍼지게 하여 광학 디바이스를 제조하였다.
상기 과정에서 상부 및 하부 기판의 간격(cell gap)은, 약 12 ㎛ 정도로 유지하였다.
비교예 1
제 1 기판의 제작 시에 코팅 조성물의 나노 입자로서, 평균 직경(D50 직경)이 약 100 nm 정도이고, 밀도가 약 1.2 g/cm3 정도인 실리카(SiO2) 나노 입자를 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방식으로 제 1 및 제 2 기판과 광학 디바이스를 각각 제작하였다.
비교예 2
제 1 기판의 제작 시에 코팅 조성물에 나노 입자를 사용하지 않은 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방식으로 제 1 및 제 2 기판과 광학 디바이스를 각각 제작하였다.
시험예
실시예 및 비교예에서 각각 제조된 기판 또는 광학 디바이스에서의 스페이서 및 나노 입자의 분산도를 확인하였고, 상기 분산도는 광학 현미경을 이용하여 관찰하였다.
도 1 내지 도 3은 각각 실시예 1 및 비교예 1 내지 2에 대한 스페이서 및 나노 입자의 분산도의 확인 결과이다.
도 1 실시예 1의 경우 전체적으로 뭉침 현상 없이 고르게 분산된 것을 확인하였으나, 도 2 내지 3인 비교예 1 내지 2의 경우, 실시예 1과 다르게 뭉침 현상이 나타난 것을 확인하였다.

Claims (16)

  1. 배향막 형성용 물질; 스페이서; 및 나노 입자를 포함하며,
    상기 스페이서의 밀도는 상기 나노 입자의 밀도에 비해서 작고,
    상기 나노 입자의 밀도는 1.5 g/cm3 내지 10 g/cm3의 범위 내에 있는 코팅 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 배향막 형성용 물질이 러빙 배향막 형성용 물질 또는 광 배향막 형성용 물질인 코팅 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서, 배향막 형성용 물질은 폴리이미드(polyimide) 화합물, 폴리비닐알코올(poly(vinyl alcohol)) 화합물, 폴리아믹산(poly(amic acid)) 화합물, 폴리스티렌(polystylene) 화합물, 폴리아미드(polyamide) 화합물, 폴리옥시에틸렌(polyoxyethylene) 화합물, 폴리노르보넨(polynorbornene) 화합물, 페닐말레이미드 공중합체(phenylmaleimide copolymer) 화합물, 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinamate) 화합물, 폴리아조벤젠(polyazobenzene) 화합물, 폴리에틸렌이민(polyethyleneimide) 화합물, 폴리에틸렌(polyethylene) 화합물, 폴리스타일렌(polystylene) 화합물, 폴리페닐렌프탈아미드(polyphenylenephthalamide) 화합물, 폴리에스테르(polyester) 화합물, CMPI(chloromethylated polyimide) 화합물, PVCI(polyvinylcinnamate) 화합물 및 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate) 화합물로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는 코팅 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서, 배향막 형성용 물질의 비율은 0.1 내지 10 중량%인 코팅 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서, 스페이서는 D50 입경이 1 μm 이상인 코팅 조성물.
  6. 제 1 항에 있어서, 스페이서의 밀도는 1 g/cm3 내지 5 g/cm3의 범위 내에 있는 코팅 조성물.
  7. 제 1 항에 있어서, 스페이서의 밀도(A) 및 나노 입자의 밀도(B)의 비율(B/A)은 1.5 내지 10의 범위 내에 있는 코팅 조성물.
  8. 제 1 항에 있어서, 스페이서를 배향막 형성용 물질 100 중량부 대비 0.5 내지 10,000 중량부의 비율로 포함하는 코팅 조성물.
  9. 제 1 항에 있어서, 나노 입자의 D50 입경은 1μm 이하인 코팅 조성물.
  10. 제 1 항에 있어서, 나노 입자는 구상 입자 또는 하기 수식 1을 만족하는 입자인 코팅 조성물:
    [수식 1]
    LA < 3 × SA
    수식 1에서 LA는 나노 입자의 장축의 길이이고, SA는 나노 입자의 단축의 길이이다.
  11. 제 1 항에 있어서, 나노 입자를 배향막 형성용 물질 100 중량부 대비 0.01 내지 10,000 중량부의 비율로 포함하는 코팅 조성물.
  12. 제 1 항에 있어서, 용매를 추가로 포함하는 코팅 조성물.
  13. 기재층상에 제 1 항의 코팅 조성물을 사용하여 배향막을 형성하는 공정을 포함하는 기판의 제조 방법.
  14. 제 13 항에 있어서, 배향막 형성 공정은, 기재층 상에 상기 코팅 조성물의 층을 형성하는 공정 및 상기 형성된 층에 배향 처리를 수행하는 공정을 포함하는 기판의 제조 방법.
  15. 제 1 기판; 상기 제 1 기판과 대향 배치되어 있는 제 2 기판; 및 상기 제 1 기판과 제 2 기판의 사이에 존재하는 광변조 물질을 포함하는 광학 디바이스로서,
    상기 제 1 기판의 상기 제 2 기판에 대향하는 면 또는 상기 제 2 기판의 상기 제 1 기판에 대향하는 면에는 배향막이 형성되어 있고,
    상기 배향막은, 배향막 형성용 물질; 스페이서; 및 나노 입자를 포함하며,
    상기 스페이서의 밀도는 상기 나노 입자의 밀도에 비해서 작고,
    상기 나노 입자의 밀도는 1.5 g/cm3 내지 10 g/cm3의 범위 내에 있는 광학 디바이스.
  16. 제 15 항에 있어서, 광변조 물질은, 이색성 염료를 추가로 포함하는 광학 디바이스.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2024529152A (ja) * 2021-08-13 2024-08-01 エイチディー マイクロシステムズ ポリマー基板へのコーティング用可溶性ポリイミド
CN118057234A (zh) * 2022-11-21 2024-05-21 江苏集萃智能液晶科技有限公司 一种调光器件及制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0022311A1 (en) 1979-06-15 1981-01-14 Stanley Electric Co., Ltd. Multilayer liquid crystal device
JP2004246092A (ja) * 2003-02-14 2004-09-02 Nakan Corp 液晶セルとその製造方法
KR20040092881A (ko) * 2003-04-29 2004-11-04 (주)애드뷰 카본 나노튜브를 이용한 감광성 고분자 액정 배향제조성물, 이를 이용한 액정 배향막, 그 제조방법 및 상기액정 배향막을 포함하는 액정 소자
KR20130092565A (ko) * 2010-08-20 2013-08-20 옥스포드 에너지 테크놀로지스 엘티디. 다공성 실리카 나노입자를 포함하는 광학 코팅
KR20160004596A (ko) * 2014-07-03 2016-01-13 전북대학교산학협력단 액정 디스플레이 소자의 응답 속도를 향상시키는 고분자 액정 배향막의 제조 방법 및 이러한 방법으로 제조된 액정 배향막
KR20170072573A (ko) * 2015-12-17 2017-06-27 주식회사 엘지화학 액정 윈도우 및 이를 포함하는 광학 소자
KR20180011163A (ko) 2015-06-09 2018-01-31 가부시기가이샤쯔바기모도체인 케이블

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06175139A (ja) 1992-12-09 1994-06-24 Teijin Ltd プラスチック基板液晶表示素子およびその製造方法
JP2003005187A (ja) 2001-04-06 2003-01-08 Toray Ind Inc 液晶表示装置
GB2413646B (en) 2004-04-30 2008-08-27 Hewlett Packard Development Co Bistable nematic liquid crystal display device
JP5008059B2 (ja) * 2006-04-26 2012-08-22 日東電工株式会社 防眩性ハードコートフィルム、偏光板、画像表示装置および防眩性ハードコートフィルムの製造方法
JP5126948B2 (ja) 2007-04-16 2013-01-23 学校法人東京理科大学 液晶表示素子
EP2933273B1 (en) * 2012-12-14 2020-09-16 LG Chem, Ltd. Polymerizable composition
JP6244687B2 (ja) * 2013-06-26 2017-12-13 株式会社リコー エレクトロクロミック表示装置
JP6394324B2 (ja) 2013-11-28 2018-09-26 堺化学工業株式会社 チタン酸バリウム粉体とその製造方法
WO2016002831A1 (ja) 2014-07-01 2016-01-07 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 ポリエステル樹脂組成物、射出成形品、光反射体基体及び光反射体
KR101979200B1 (ko) * 2014-10-16 2019-05-17 주식회사 엘지화학 광학 필름 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 광학 필름
US10703870B2 (en) 2015-03-12 2020-07-07 Lg Chem, Ltd. Composition for optical film, and optical film comprising same
CN105238112B (zh) 2015-10-28 2018-06-26 浙江鼎昇新材料科技股份有限公司 一种纳米掺杂智能调光膜制备方法
CN108474870A (zh) * 2016-03-09 2018-08-31 株式会社Lg化学 抗反射膜
CN105572946A (zh) 2016-03-14 2016-05-11 京东方科技集团股份有限公司 一种耐低温显示装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0022311A1 (en) 1979-06-15 1981-01-14 Stanley Electric Co., Ltd. Multilayer liquid crystal device
JP2004246092A (ja) * 2003-02-14 2004-09-02 Nakan Corp 液晶セルとその製造方法
KR20040092881A (ko) * 2003-04-29 2004-11-04 (주)애드뷰 카본 나노튜브를 이용한 감광성 고분자 액정 배향제조성물, 이를 이용한 액정 배향막, 그 제조방법 및 상기액정 배향막을 포함하는 액정 소자
KR20130092565A (ko) * 2010-08-20 2013-08-20 옥스포드 에너지 테크놀로지스 엘티디. 다공성 실리카 나노입자를 포함하는 광학 코팅
KR20160004596A (ko) * 2014-07-03 2016-01-13 전북대학교산학협력단 액정 디스플레이 소자의 응답 속도를 향상시키는 고분자 액정 배향막의 제조 방법 및 이러한 방법으로 제조된 액정 배향막
KR20180011163A (ko) 2015-06-09 2018-01-31 가부시기가이샤쯔바기모도체인 케이블
KR20170072573A (ko) * 2015-12-17 2017-06-27 주식회사 엘지화학 액정 윈도우 및 이를 포함하는 광학 소자

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3747959A4

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Publication number Publication date
JP2021512350A (ja) 2021-05-13
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KR102241335B1 (ko) 2021-04-16
EP3747959A1 (en) 2020-12-09
TW201936816A (zh) 2019-09-16
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KR20190091967A (ko) 2019-08-07
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