WO2021024921A1

WO2021024921A1 - 表面処理剤

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Publication number: WO2021024921A1
Application number: PCT/JP2020/029346
Authority: WO
Inventors: 恒雄山下; 健前平; 尚志三橋
Original assignee: Daikin Industries Ltd
Current assignee: Daikin Industries Ltd
Priority date: 2019-08-02
Filing date: 2020-07-30
Publication date: 2021-02-11
Anticipated expiration: 2022-02-02
Also published as: US12351682B2; EP4008696B1; JP2021107524A; US20220153929A1; KR20220031655A; TWI874432B; CN114206986B; KR102687494B1; TW202112987A; EP4008696A4; JP6791430B1; EP4008696A1; CN114206986A

Abstract

式（１）または（２）で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、および、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を含む、表面処理剤。各符号は、明細書の記載のとおりである。 RF1 α - XA - RSi β (1) RSi γ - XA - RF2 - XA - RSi γ (2)

Description

表面処理剤

　本開示は、表面処理剤に関する。

　ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

　そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１～２）。

特開２０１４－２１８６３９号公報特開２０１７－０８２１９４号公報

　上記のような表面処理層には、さらに良好な摩擦耐久性を有することが求められ得る。

　本開示は、以下の［１］～［２３］を提供するものである。
［１］　下記式（１）または（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基であり；
　Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を有する基であり；
　αは、１～９の整数であり；
　βは、１～９の整数であり；
　γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、および、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を含み、
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、
　　Ｒ^Ｆが、Ｒ^Ｆ１１で表され、
　　Ｒ^Ｆ１１が、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、各出現においてそれぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　　で表されるフルオロポリエーテル基であり；
　　Ｒ^Ｓｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１１）または（Ｓ１２）：

［式中：
　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数である。］で表され、
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、
　　Ｒ^Ｆが、Ｒ^Ｆ２１で表され、
　　Ｒ^Ｆ２１が、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
　　で表され、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆおよびＲ^Ｆａは、それぞれＲ^Ｆ１１の記載と同意義であり、ただし、Ｒ^Ｆ２１は、Ｒ^Ｆ１１と同種の繰り返し単位からなり；
　　Ｒ^Ｓｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）：

［式中：
　Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１、およびｑ１は、式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）と同意義であり；
　Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、または１価の有機基である。］
で表され、
　ただし、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される場合であって、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ１１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１およびｑ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ２１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１およびｑ１とがそれぞれ完全に同一である場合を除く、表面処理剤。
［２］　Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、［１］に記載の表面処理剤。
［３］　Ｒ^Ｆ１１およびＲ^Ｆ２１が、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数である。］
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、［１］または［２］に記載の表面処理剤。
［４］　Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量が、５００～３０,０００の範囲にある、［１］～［３］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［５］　Ｒ^Ｆにおいて、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｆに対するｅの比が、０．１～１０の範囲にある、［１］～［４］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［６］　α、βおよびγが、１である、［１］～［５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［７］　Ｘ^Ａが、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
－Ｘ^５４－、または
－Ｘ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中：
　ｓ５が、１～２０の整数であり；
　Ｘ^５３が、－Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、または－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－であり；
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基を表し；
　ｔ５が、１～２０の整数であり；
　Ｘ^５４が、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、または－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－である］、
で表される、［１］～［６］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［８］　Ｚ^１が、
　Ｃ_１－６アルキレン基、
　－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１およびｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～６の整数）または、
　－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３およびｚ４は、各出現においそれぞれ独立して０～６の整数）である、［１］～［７］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［９］　ｐ１が、３である、［１］～［８］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１０］　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５質量％以上含まれる、［１］～［９］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１１］　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５～９５質量％含まれる、［１］～［１０］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１２］　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ２）で表される、［１］～［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１３］　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される、［１］～［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１４］　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される、［１］～［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１５］　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１１）で表され、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される、［１］～［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１６］　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１２）で表され、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ２）、または（Ｓ４）で表される、［１］～［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１７］　含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、［１］～［１６］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１８］　さらに溶媒を含む、［１］～［１７］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１９］　防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［１］～［１８］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［２０］　真空蒸着用である、［１］～［１９］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［２１］　［１］～［２０］のいずれか１つに記載の表面処理剤を含有するペレット。
［２２］　基材と、該基材の表面に、［１］～［２０］のいずれか１つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［２３］　光学部材である、［２２］に記載の物品。

　本開示の表面処理剤は、良好な摩擦耐久性を有する表面処理層の形成に寄与し得る。

　本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。
　また、「２～１０価の有機基」とは、炭素を含有する２～１０価の基を意味する。かかる２～１０価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１～９個の水素原子を脱離させた２～１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

　本明細書において、「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

（表面処理剤）
　以下、本開示の表面処理剤について説明する。

　本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）を含む。該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、下記式（１）または（２）：

で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物である。

　式（１）において、Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　上記式において、Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

　上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である。

　上記Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

　好ましくは、後述するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＲｆ^１は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＲｆ^１と同じ構造である。

　式（２）において、Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　上記式において、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

　上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３パーフルオロアルキレン基である。

　上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

　好ましくは、後述するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＲｆ^２は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＲｆ^２と同じ構造である。

　上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

　上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

　上記式（１）および（２）において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

　上記式（１）において、αは１～９の整数であり、βは１～９の整数である。これらαおよびβは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。αおよびβの和は、Ｘ^Ａの価数と同じである。例えば、Ｘ^Ａが１０価の有機基である場合、αおよびβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、またはαが１かつβが９となり得る。また、Ｘ^Ａが２価の有機基である場合、αおよびβは１である。

　上記式（２）において、γは１～９の整数である。γは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、Ｘ^Ａの価数から１を引いた値である。

　上記式（１）および（２）において、Ｘ^Ａは、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２）と基材との結合能を提供する部（Ｒ^Ｓｉ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^Ａは、式（１）および（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。

　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基である。

　後述するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＸ^Ａは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＸ^Ａと同じ構造であってもよい。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＸ^Ａは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＸ^Ａと異なる構造である。

　上記Ｘ^Ａにおける２～１０価の有機基は、好ましくは２～８価の有機基である。一の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは２～４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは３～８価の有機基、より好ましくは３～６価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合または２価の有機基であり、αは１であり、βは１である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合または２価の有機基であり、γは１である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは３～６価の有機基であり、αは１であり、βは２～５である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは３～６価の有機基であり、γは２～５である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、αは１であり、βは２である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、γは２である。

　Ｘ^Ａが、単結合または２価の有機基である場合、式（１）および（２）は、下記式（１’）および（２’）で表される。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、２価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば、単結合または下記式：
　　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
で表される２価の有機基が挙げられる。
　式中：
　Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、一の態様においては、－（ＣＨ_２）_ｓ５－であり、一の態様においては、単結合であり、
　ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
　Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－を表し、
　Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－および－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基を表し、例えば、－ＣＯＮＲ^５４－、および－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－からなる群から選択される基を表し、一の態様としては、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ^５４－、および－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－からなる群から選択される基を表し、
　Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基またはＣ_１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
　ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
　ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｐ５は、０または１であり、
　ｑ５は、０または１であり、
　ここに、ｐ５およびｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５またはｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。
　ここに、Ｘ^Ａ（典型的にはＸ^Ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基およびＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ^Ａは、これらの基により置換されていない。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－Ｒ^５２－
である。Ｒ^５２は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｔ５－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、一の態様においては－（ＣＨ_２）_ｔ５－であり、一の態様においては、単結合である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｘ^Ａ（典型的にはＸ^Ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基およびＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ^Ａは、これらの基により置換されていない。

　好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－Ｒ^５１－Ｘ^５３－Ｒ^５２－、または
－Ｘ^５４－Ｒ^５２－
［式中、Ｒ^５１およびＲ^５２は、上記と同意義であり、
　Ｘ^５３は、
－Ｏ－、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯ－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ５－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｕ５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｕ５－Ｎ（Ｒ^５４）－、または
－ＣＯＮＲ^５４－（ｏ－、ｍ－またはｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－
（式中、Ｒ^５３、Ｒ^５４およびｍ５は、上記と同意義であり、
　ｕ４は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、例えば１であり；ｕ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。）を表し、
　Ｘ^５４は、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯ－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯＮＲ^５４－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｕ５－（Ｓｉ（Ｒ^５４）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５４）_２－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｕ５－Ｎ（Ｒ^５４）－、または
－ＣＯＮＲ^５４－（ｏ－、ｍ－またはｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ^５４）_２－
（式中、各記号は、上記と同意義である。）
を表す。］
であり得る。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
－Ｘ^５４－、または
－Ｘ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
　Ｘ^５３は、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯ－、または－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯＮＲ^５４－であり、例えば、－ＣＯＮＲ^５４－、または－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－であり、例えば、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯ－、または－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯＮＲ^５４－であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基を表し、好ましくは、水素原子またはメチル基を表し、
　ｕ４は、上記と同意義であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　Ｘ^５４は、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、または－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－であり、
　ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。

　一の態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
－Ｘ^５４－、または
－Ｘ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
　Ｘ^５３は、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯ－、または－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯＮＲ^５４－であり、例えば、－ＣＯＮＲ^５４－、または－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－であり、例えば、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯ－、または－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯＮＲ^５４－であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基を表し、好ましくは、水素原子またはメチル基を表し、
　ｕ４は、上記と同意義であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　Ｘ^５４は、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、または－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－であり、
　ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－Ｘ^５３－、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、または
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
　Ｘ^５３は、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯ－、または－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯＮＲ^５４－であり、例えば－ＣＯＮＲ^５４－、または－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－であり、例えば、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯ－、または－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ４－ＣＯＮＲ^５４－であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基を表し、好ましくは、水素原子またはメチル基を表し、
　ｕ４は、上記と同意義であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。

　一の態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
－Ｃ（Ｏ）－、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－ＣＯ－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－ＣＯ－（ＣＨ_２）_ｓ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－ＣＯＮＨ－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｓ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｕ５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－（ＣＨ_２）_ｔ５－、または
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－（ＣＨ_２）_ｕ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－（Ｃ_ｖＨ_２ｖ）－
［式中、Ｒ^５３、ｍ５、ｓ５、ｔ５およびｕ５は、上記と同意義であり、ｖは１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。］
である。

　上記式中、－（Ｃ_ｖＨ_２ｖ）－は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基およびＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^Ａは、非置換である。

　なお、上記Ｘ^Ａは、各式の左側がＲ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２に結合し、右側がＲ^Ｓｉに結合する。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン基以外であり得る。

　別の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、またはＣ_１－６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
　Ｄは、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する、以下において同様）、および

（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６のアルキル基またはＣ_１－６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
　Ｅは、－（ＣＨ_２）_ｎ－（ｎは２～６の整数）であり、
　Ｄは、分子主鎖のＲ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２に結合し、Ｅは、Ｒ^Ｓｉに結合する。］

　上記Ｘ^Ａの具体的な例としては、例えば：
単結合、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２－、
－（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_４－、
－（ＣＨ_２）_５－、
－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－ＣＨ_２－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯ－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯ－、
－ＣＯＮＨ－、
－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_４ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_５ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＨ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－Ｓ－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_４－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_５－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－ＣＨ（ＣＨ_３）－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、
－ＯＣＨ_２－、
－Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＯＣＦＨＣＦ_２－、

などが挙げられる。

　さらに別の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、式：－（Ｒ^１６）_ｘ１－（ＣＦＲ^１７）_ｘ２－（ＣＨ_２）_ｘ３－で表される基である。式中、ｘ１、ｘ２およびｘ３は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｘ１、ｘ２およびｘ３の和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

　上記式中、Ｒ^１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、－ＮＲ^１８－（式中、Ｒ^１８は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ^１６は、酸素原子または２価の極性基である。

　上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（＝ＮＲ^１９）－、及び－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^１９－（これらの式中、Ｒ^１９は、水素原子又は低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１～６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピルであり、これらは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

　上記式中、Ｒ^１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１～６、好ましくは炭素数１～３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１～３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

　上記式（１）および（２）において、Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を有する基である。

（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ））
　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、式（１）または（２）で表され、
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆが、Ｒ^Ｆ１１で表されるフルオロポリエーテル基であり；
　Ｒ^Ｓｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１１）または（Ｓ１２）：

で表される化合物である。例えば、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、以下の式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）または（Ａ４）で表される。

　以下、特に記載していなければ、上記の式（１）または（２）の記載を、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）および（Ａ４）に当て嵌めることができる。具体的には、Ｒｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｘ^Ａ、α、β、およびγは、上記と同意義である。

　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｆ１１は、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
で表されるフルオロポリエーテル基である。
　上記式中：
　Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

　Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。

　これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。また、－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表される。
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数である。］
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－または－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ－で表される基であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－で表される基である。

　上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。

　上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、および－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－または－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

　上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　上記Ｒ^Ｆ１１において、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、（人の）汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

　一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９であり、より好ましくは０．２～０．８５であり、さらに好ましくは０．２～０．８である。

　一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．９以上であり、より好ましくは０．９～１．５である。

　上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　別の態様において、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～８，０００であり得る。

　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１１）または（Ｓ１２）で表される。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１１）で表される基である。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１２）で表される基である。

　式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）において、Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基である。

　以下Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１）に結合する。

　Ｚ^１は、好ましくは、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。

　Ｚ^１における２価の有機基としては、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、好ましくは、ｚ１とｚ２との合計が１以上である。）または、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、好ましくは、ｚ３とｚ４との合計が１以上である。）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－である。Ｚ^１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。好ましくは、ｚ３は０～６の整数であり、ｚ４は１～６の整数である。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　一の態様において、Ｚ^１は、Ｏ－Ｚ^２で表される構造であってもよい。Ｚ^２は、２価の有機基である。Ｏ－Ｚ^２は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１）に結合する。

　上記態様においてＺ^２は、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有していてもよい。

　一の態様において、Ｚ^２は、Ｚ^１として記載した構造を有し得る。

　一の態様において、Ｚ^２は、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ヘキサメチレン基等の炭素数２～１０のアルキレン基、フェニレン基等の炭素数６～８のアリーレン基を含む炭素数２～８のアルキレン基（例えば、炭素数８～１６のアルキレン・アリーレン基等）、ジメチルシリレン基やジエチルシリレン基等のジオルガノシリレン基を含む炭素数２～６のアルキレン基、炭素数２～８のアルキレン基相互が炭素数１～４のシルアルキレン構造または炭素数６～１０のシルアリーレン構造を介して結合している２価の基、ケイ素原子数２～１０個、好ましくは２～５個の直鎖状、分岐状または環状の２価のオルガノポリシロキサン残基を含む炭素数２～６のアルキレン基、ケイ素原子数２～１０個、好ましくは２～５個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基の結合手に炭素数２～１０のアルキレン基が結合している２価の基などが挙げられ、好ましくは炭素数３～１０のアルキレン基、フェニレン基を含む炭素数２～６のアルキレン基、ジメチルシリレン基を含む炭素数２～６のアルキレン基、炭素数２～４のアルキレン基相互が炭素数１～４のシルアルキレン構造または炭素数６～１０のシルアリーレン構造を介して結合している２価の基、ケイ素原子数２～１０個の直鎖状の２価のオルガノポリシロキサン残基を含む炭素数２～６のアルキレン基、ケイ素原子数２～１０個の直鎖状またはケイ素原子数３～１０個の分岐状もしくは環状の２価のオルガノポリシロキサン残基の結合手に炭素数２～１０のアルキレン基が結合している２価の基であり、更に好ましくは炭素数３～６のアルキレン基である。

　Ｚ^２の具体例としては、例えば、下記の基が挙げられる。

　式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）において、Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり、好ましくは、加水分解可能な基である。

　式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）において、Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^２２において、１価の有機基は、好ましくは、Ｃ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）において、ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数である。ただし、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１）単位において、ｐ１とｑ１との合計は３である。

　ｐ１は、好ましくは２または３であり、さらに好ましくは、３である。すなわち、（Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１）毎に、少なくとも１つのＲ^２１が存在する。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、式（１）で表される。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、式（２）で表される。

（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ））
　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）は、式（１）または（２）で表され、
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆが、Ｒ^Ｆ２１で表されるフルオロポリエーテル基であり；
　Ｒ^Ｓｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）：

で表される化合物である。例えば、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）は、以下の式（Ｂ１１）、（Ｂ２１）、（Ｂ１２）、（Ｂ２２）、（Ｂ１３）または（Ｂ２３）で表される。

　以下、特に記載していなければ、上記の式（１）または（２）の記載を、式（Ｂ１１）（Ｂ２１）、（Ｂ１２）、（Ｂ２２）、（Ｂ１３）および（Ｂ２３）に当て嵌めることができる。具体的には、Ｒ^ｆ１、Ｒ^ｆ２、ｐ、ｑ、Ｘ^Ａ、α、β、およびγは、上記と同意義である。

　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｆ２１は、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
で表されるフルオロポリエーテル基である。
　上記式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆおよびＲ^Ｆａは、式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）の各符号と同意義である。

　上記式中、Ｒ^Ｆ２１は、Ｒ^Ｆ１１と同種の繰り返し単位からなる。ここで、「同種の繰り返し単位からなる」とは、Ｒ^Ｆ１１を構成する繰り返し単位の構造と、Ｒ^Ｆ２１を構成する繰り返し単位の構造とが同じ構造を有し、かつ、Ｒ^Ｆ１１に含まれる繰り返し単位の組み合わせと、Ｒ^Ｆ２１に含まれる繰り返し単位の組み合わせとが同じであることをいう。Ｒ^Ｆ１１とＲ^Ｆ２１とにおいて、ａは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよく；ｂは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよく；ｃは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよく；ｄは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよく；ｅは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよく；ｆは、同一の値であってもよく、異なる値であってもよい。

　Ｒ^Ｆ２１を構成する繰り返し単位の構造とＲ^Ｆ１１を構成する繰り返し単位の構造が同じであることを、以下に具体的に説明する。
　Ｒ^Ｆ２１の繰り返し単位－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、Ｒ^Ｆ１１の繰り返し単位－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－と同じ構造である。Ｒ^Ｆ２１の繰り返し単位－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、Ｒ^Ｆ１１の繰り返し単位－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－と同じ構造である。Ｒ^Ｆ２１の繰り返し単位－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、Ｒ^Ｆ１１の繰り返し単位－（ＯＣ_４Ｆ_８）－と同じ構造である。Ｒ^Ｆ２１の繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、Ｒ^Ｆ１１の繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－と同じ構造である。Ｒ^Ｆ２１の繰り返し単位－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、Ｒ^Ｆ１１の繰り返し単位－（ＯＣ_２Ｆ_４）－と同じ構造である。
　例えば、Ｒ^Ｆ１１の繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－が－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１の繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－で表され；Ｒ^Ｆ１１の繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－が－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１の繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－で表され；Ｒ^Ｆ１１の繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－が－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１の繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－で表される。Ｒ^Ｆ１１の繰り返し単位－（ＯＣ_２Ｆ_４）－が－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１の繰り返し単位－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－で表され；Ｒ^Ｆ１１の繰り返し単位－（ＯＣ_２Ｆ_４）－が－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１の繰り返し単位－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－で表される。

　Ｒ^Ｆ１１に含まれる繰り返し単位の組み合わせと、Ｒ^Ｆ２１に含まれる繰り返し単位の組み合わせとが同じであることを、以下に具体的に説明する。
　例えば、Ｒ^Ｆ１１が、繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－からなるとき、Ｒ^Ｆ２１は、繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－からなり；Ｒ^Ｆ１１が、繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－と－（ＯＣ_２Ｆ_４）－とからなるとき、Ｒ^Ｆ２１は、繰り返し単位－（ＯＣ_３Ｆ_６）－と－（ＯＣ_２Ｆ_４）－とからなり；Ｒ^Ｆ１１が、繰り返し単位－（ＯＣ_２Ｆ_４）－と－（ＯＣＦ_２）－とからなるとき、Ｒ^Ｆ２１は、繰り返し単位－（ＯＣ_２Ｆ_４）－と－（ＯＣＦ_２）－とからなる。

　好ましくは、Ｒ^Ｆ１１とＲ^Ｆ２１とにおいて、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ同じである。ここで、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆが同じとは、Ｒ^Ｆ１１における値に対するＲ^Ｆ２１における値の比、すなわち、「Ｒ^Ｆ２１における値」／「Ｒ^Ｆ１１における値」が、０．９～１．１の間にあることをいい、具体的には、０．９５～１．０５の間にあることをいう。上記の「Ｒ^Ｆ２１における値」／「Ｒ^Ｆ１１における値」とは、具体的には、「Ｒ^Ｆ２１におけるａの値」／「Ｒ^Ｆ１１におけるａの値」、「Ｒ^Ｆ２１におけるｂの値」／「Ｒ^Ｆ１１におけるｂの値」、「Ｒ^Ｆ２１におけるｃの値」／「Ｒ^Ｆ１１におけるｃの値」、「Ｒ^Ｆ２１におけるｄの値」／「Ｒ^Ｆ１１におけるｄの値」、「Ｒ^Ｆ２１におけるｅの値」／「Ｒ^Ｆ１１におけるｅの値」、「Ｒ^Ｆ２１におけるｆの値」／「Ｒ^Ｆ１１におけるｆの値」である。

　好ましくは、Ｒ^Ｆ１１が、各出現においてそれぞれ独立して、式（ｆ１）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は下式（ｆ１’）で表され；Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ２）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は下式（ｆ２’）で表され；Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ３）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は下式（ｆ３’）で表され；Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ４）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は下式（ｆ４’）で表され；；Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ４）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は下式（ｆ５’）で表される。なお、Ｒ^Ｆ２１が下式（ｆ１’）、（ｆ２’）、（ｆ３’）、（ｆ４’）または（ｆ５’）で表されるとき、それぞれの繰り返し単位は、式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）の繰り返し単位と同種の繰り返し単位である。
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－　　　（ｆ１’）
［式中、ｄは、１～２００の整数である。］
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２’）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３’）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４’）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５’）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　上記Ｒ^Ｆ２１において、ｅ／ｆ比は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆ２１のｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９であり、より好ましくは０．２～０．８５であり、さらに好ましくは０．２～０．８である。

　一の態様において、耐熱性の観点から、Ｒ^Ｆ２１のｅ／ｆ比は、好ましくは０．９以上であり、より好ましくは０．９～１．５である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆ２１におけるｅ／ｆ比は、Ｒ^Ｆ１１におけるｅ／ｆ比と同じである。ここで、ｅ／ｆ比が同じとは、「Ｒ^Ｆ１１のｅ／ｆ比」に対する「Ｒ^Ｆ２１のｅ／ｆ比」の比、すなわち、「Ｒ^Ｆ２１のｅ／ｆ比」／「Ｒ^Ｆ１１のｅ／ｆ比」が、０．９～１．１の間にあることをいい、具体的には、０．９５～１．０５の間にあることをいう。

　一の態様において、Ｒ^Ｆ２１におけるｅ／ｆ比は、Ｒ^Ｆ１１におけるｅ／ｆ比と異なる。ここで、ｅ／ｆ比が異なるとは、「Ｒ^Ｆ１１のｅ／ｆ比」に対する「Ｒ^Ｆ２１のｅ／ｆ比」の比、すなわち、「Ｒ^Ｆ２１のｅ／ｆ比」／「Ｒ^Ｆ１１のｅ／ｆ比」が、０．９未満、または１．１超であることをいい、例えば、０．８７以下、０．８６以下、１．３以上または１．５以上であってもよい。

　一の態様において、Ｒ^Ｆ１１およびＲ^Ｆ２１のｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９であり、より好ましくは０．２～０．８５であり、さらに好ましくは０．２～０．８である。

　一の態様において、耐熱性の観点から、Ｒ^Ｆ１１およびＲ^Ｆ２１のｅ／ｆ比は、好ましくは０．９以上であり、より好ましくは０．９～１．５である。

　上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　別の態様において、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～８，０００であり得る。

　上記Ｒ^Ｆ２１の数平均分子量は、Ｒ^Ｆ１１の数平均分子量と同じであることが好ましい。ここで、数平均分子量が同じとは、Ｒ^Ｆ１１の数平均分子量に対するＲ^Ｆ２１の数平均分子量の比、すなわち、「Ｒ^Ｆ２１の数平均分子量」／「Ｒ^Ｆ１１の数平均分子量」が、０．９～１．１の間にあることをいい、具体的には、０．９５～１．０５の間にあることをいう。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆ２１の数平均分子量は、Ｒ^Ｆ１１の数平均分子量と異なる。例えば、Ｒ^Ｆ１１の数平均分子量に対するＲ^Ｆ２１の数平均分子量の比、すなわち、「Ｒ^Ｆ２１の数平均分子量」／「Ｒ^Ｆ１１の数平均分子量」が、０．９未満であってもよく、１．１超であってもよい。

　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）における上記Ｒ^Ｆ１の数平均分子量は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）における上記Ｒ^Ｆ１の数平均分子量と同じであることが好ましく；フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）における上記Ｒ^Ｆ２の数平均分子量は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）における上記Ｒ^Ｆ２の数平均分子量と同じであることが好ましい。ここで、数平均分子量が同じとは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）における数平均分子量に対する、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）における数平均分子量の比、すなわち「フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）における数平均分子量」／「フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）における数平均分子量」が、０．９～１．１の間にあることをいい、具体的には、０．９５～１．０５の間にあることをいう。

　別の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）における上記Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量が５００～３０，０００の範囲にあることが好ましく、１，５００～３０，０００の範囲にあることがより好ましく、２，０００～１０，０００の範囲にあるのがさらに好ましい。

　一の態様において、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～８，０００であり得る。

　好ましくは、
　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＲ^Ｆ２１は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＲ^Ｆ１１と同じ数平均分子量を有し；
　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるｅ／ｆ値は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるｅ／ｆ値と同じである。

　一の態様において、
　Ｒ^Ｆ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表され；
　Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ１）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は式（ｆ１’）で表され；
　Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ２）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は式（ｆ２’）で表され；
　Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ３）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は式（ｆ３’）で表され；
　Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ４）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は式（ｆ４’）で表され；
　Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ５）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は式（ｆ５’）で表され；
　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるＲ^Ｆ２１は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるＲ^Ｆ１１と同じ数平均分子量を有し；
　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるｅ／ｆ値は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるｅ／ｆ値と同じである。

　一の態様において、
　Ｒ^Ｆ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表され；
　Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ１）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は式（ｆ１’）で表され；
　Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ２）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は式（ｆ２’）で表され；
　Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ３）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は式（ｆ３’）で表され；
　Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ４）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は式（ｆ４’）で表され；
　Ｒ^Ｆ１１が、式（ｆ５）で表されるとき、Ｒ^Ｆ２１は式（ｆ５’）で表され；
　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）におけるｅ／ｆ値は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）におけるｅ／ｆ値と異なる。

　式（Ｓ２）、（Ｓ３）および（Ｓ４）における、Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１、およびｑ１は、それぞれ、式（Ｓ１１）および（Ｓ１２）におけるＺ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１、およびｑ１と同意義である。

　式（Ｓ２）において、Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、または１価の有機基である。
　なお、Ｒ^ｅ１は（Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１）で表される基を除く構造である。

　一の態様において、Ｒ^ｅ１は、水酸基である。

　一の態様において、Ｒ^ｅ１は、１価の有機基である。

　Ｒ^ｅ１において、上記１価の有機基としては、好ましくは、Ｃ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基を挙げることができる。
　このような構造を有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を用いることにより、基材との結合において立体障害が小さくなり得る。一方で、上述したフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）では、基材との結合において立体障害が大きくなり得る。このことから、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と（Ｂ）とを組み合わせることにより、基材との結合が特に良好となり得、稠密なシロキサン３次元架橋を形成し得る。

　一の態様において、Ｒ^ｅ１は、１価の有機基であり、かつ、－Ｏ－（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１）で表される基を除く構造である。

　一の態様において、Ｒ^ｅ１は、－Ｏ－（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１）である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは単結合であり、Ｒ^ｅ１は、１価の有機基であり、かつ、－（ＯＲ^ｎ１）_ｎ１１ＯＲ^ｎ２で表される基である。Ｒ^ｎ１は、Ｃ_２－Ｃ_４のアルキレン基であり、該アルキレン基は直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。Ｒ^ｎ１は、例えばエチレン基である。ｎ１１は、１～１０の整数であり、例えば、２である。Ｒ^ｎ２は、水素原子またはＣ_１－Ｃ_４のアルキル基であり、例えば、メチル基である。本態様において、Ｒ^ｅ１としては、例えば、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ１１ＯＣＨ_３、－（ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３））_ｎ１１ＯＣＨ_３、－（ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）_ｎ１１ＯＣＨ_３を挙げることができる。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される基である。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される基である。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）は、式（１）で表される。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）は、式（２）で表される。

　本開示の表面処理剤において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される場合であって、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ１１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１およびｑ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ２１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１およびｑ１とがそれぞれ完全に同一である場合を除く。即ち、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される場合、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ１１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１およびｑ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ２１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１およびｑ１とにおいて、少なくともいずれか１つが異なる。
　ここで、「フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲ^Ｆ１１とフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲ^Ｆ２１とが異なる」とは、具体的には、Ｒ^Ｆ１１とＲ^Ｆ２１とにおいて、ａが異なる値である、ｂが異なる値である、ｃが異なる値である、ｄが異なる値である、ｅが異なる値である、およびｆが異なる値である、の少なくとも何れか１つであることを意味する。なお、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲ^Ｆ１１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲ^Ｆ２１とが、同種の繰り返し単位を有する。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）が式（１）で表され、かつ、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）が式（１）で表され、かつ、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される場合、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ^１、ｑ、Ｒ^Ｆ１１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、およびＺ^１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ^１、ｑ、Ｒ^Ｆ２１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、およびＺ^１とにおいて、少なくともいずれか１つが異なる。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）が式（２）で表され、かつ、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）が式（２）で表され、かつ、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される場合、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ１１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、およびＺ^１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ２１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、およびＺ^１とにおいて、少なくともいずれか１つが異なる。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される場合、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ１１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、およびＺ^１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ２１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、およびＺ^１とにおいて、少なくともいずれか１つが異なる。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される場合、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲ^Ｆ１１、およびＸ^Ａと、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲ^Ｆ２１、およびＸ^Ａとにおいて、少なくともいずれか１つが異なる。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される。ただし、本態様においては、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ１１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１およびｑ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ２１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１およびｑ１とがそれぞれ完全に同一である場合を除く。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表される。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（２）で表される。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１１）で表される基である。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１１）で表される基である。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される基である。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される基である。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（１）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１２）で表される基であり、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）または（Ｓ４）で表される基である。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）は、ともに式（２）で表され、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１２）で表される基であり、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）または（Ｓ４）で表される基である。

　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）において、ｐ１は、好ましくは、ｐ１は２または３であり、より好ましくは３である。

　本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）とを含む。このような構成とすることによって、本開示の表面処理剤は、形成される表面処理層の撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、摩擦耐久性、透明性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

　本開示の表面処理剤に含まれる、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）では、分岐点であるＣ原子またはＳｉ原子に（Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１）で表される基が３つ結合している。上記のような構造を有するフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）では、基材との結合において、稠密なシロキサン３次元架橋が形成されないことがある。
　一方で、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）では、分岐点であるＣ原子、Ｓｉ原子またはＮ原子に（Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１）で表される基が２つ結合している。このような構造をするフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）とともに用いることによって、稠密なシロキサン３次元架橋を形成し得る。
　さらに、本開示の表面処理剤では、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲ^Ｆ１１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲ^Ｆ２１とが、同種の繰り返し単位を有する。このことにより、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と（Ｂ）との相溶性が高くなると考えられる。その結果、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と（Ｂ）との混合が容易になり得、例えば、両化合物を任意の割合で混合し得る。
　これらのことから、本開示の表面処理剤を用いると、撥水性、撥油性、摩擦耐久性等の特に良好な表面処理層の形成が可能となり得る。特に、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）または（Ｂ）のみを含む表面処理剤を用いた場合よりも、撥水性、撥油性、摩擦耐久性等の特に良好な表面処理層の形成が可能となる。

　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）とフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５質量％以上含まれることが好ましく、１０質量％以上含まれることがより好ましく、２０質量％以上含まれることがさらに好ましく、４０質量％以上含まれていてもよく、６０質量％以上含まれていてもよく、６５質量％以上含まれていてもよく、７０質量％以上含まれていてもよく；９５質量％以下含まれることが好ましく、９０質量％以下含まれることがより好ましく、８５質量％以下含まれることがさらに好ましく、８０質量％以下含まれていてもよい。このような含有量で含まれることによって、シランカップリン基が加水分解してシロキサン結合を形成する縮合反応が促進され、３次元方向に稠密なネットワークを形成することで摩擦耐久性の向上が図れる。

　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）とフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５～９５質量％含まれていてもよく、１０～９０質量％含まれていてもよく、２０～９０質量％含まれていてもよく、４０～９０質量％含まれていてもよく、６０～９０質量％含まれていてもよく、７０～９０質量％含まれていてもよい。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）とフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、６５～９５質量％含まれていてもよい。

　上記の式（１）または（２）で表される化合物は、例えば、上記特許文献２、特開２００８－２９７２７５号公報等に記載の方法により得ることができる。

　本開示の表面処理剤中、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％または１０モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下または５モル％以上１０モル％以下である。式（２）で表される化合物をかかる範囲とすることにより、形成される表面処理層の摩擦耐久性をより向上させることができる。

（他の化合物）
　本開示の表面処理剤は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等をさらに含み得る。

　上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。

　含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’－Ｒｆ^６　　　・・・（３）
　式中、Ｒｆ^５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基である。
　ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－および（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－および（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－および（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

　上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（３ａ）
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”－（ＯＣＦ_２）_ｄ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（３ｂ）
　これら式中、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”およびｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

　また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３－Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。

　上記含フッ素オイルは、５００～１０，０００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

　含フッ素オイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の組成物は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。

　含フッ素オイルは、本開示の組成物によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

　本開示の組成物（例えば、表面処理剤）中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。

　シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

　触媒は、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）により形成される層の形成を促進する。

　他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

　本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用いることができる。

　本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

（物品）
　以下、本開示の物品について説明する。

　本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。

　本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

　例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

　基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

　かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

　またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

　次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。

　本開示の表面処理剤の層形成は、上記の組成物を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

　湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

　乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

　更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

　湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

　乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

　表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

　触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

　上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

　すなわち本開示はさらに、本開示の組成物の硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。

　光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

　本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

　また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

　さらに、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車の内外装、例えばヘッドライトカバー、サイドミラー、サイドウインドウ、内装加飾フィルム、センターコンソール、メーターパネル、カメラレンズカバーなどであってもよい。

　上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

　以上、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示の組成物の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

　以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ_２）等）の存在順序は任意である。以下において「Ｍｅ」はＣＨ_３を表す。

　フルオロポリエーテル基含有化合物として、下記の化合物を準備した。

　化合物（Ａ）：

　　　　　（ｍ≒２１、ｎ≒３５）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が０．２７個および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が０．４２個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に－Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_３を有する化合物（Ａ’）が、化合物（Ａ）および化合物（Ａ’）の合計に対して３．２モル％含まれていた。）

　化合物（Ｂ）：

　　　　　（ｍ≒２１、ｎ≒３５）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が０．３０個および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が０．４４個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２を有する化合物（Ｂ’）が、、化合物（Ｂ）および化合物（Ｂ’）の合計に対して３．０モル％含まれていた。）

　化合物（Ｃ）：

　　　　（ｍ≒２６、ｎ≒２４）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が１．２３個および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が０．６５個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に－Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_３を有する化合物（Ｃ’）が、化合物（Ｃ）および化合物（Ｃ’）の合計に対して７．９モル％含まれていた。）

　化合物（Ｄ）：

　　　　（ｍ≒２６、ｎ≒２４）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が１．３５個および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が０．６９個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２を有する化合物（Ｄ’）が、化合物（Ｄ）および化合物（Ｄ’）の合計に対して８．１モル％含まれていた。）

　化合物（Ｅ）：

　　　　（ｍ≒２１、ｎ≒３５）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が０．３１個および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が０．４４個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に－Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_３を有する化合物（Ｅ’）が、化合物（Ｅ）および化合物（Ｅ’）の合計に対して３．８モル％含まれていた。）

　化合物（Ｆ）：

　　　　（ｍ≒２１、ｎ≒３５）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が０．３４個および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が０．４０個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２を有する化合物（Ｆ’）が、化合物（Ｆ）および化合物（Ｆ’）の合計に対して３．９モル％含まれていた。）

　化合物（Ｇ）：

　　　　（ｍ≒２６、ｎ≒２４）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が１．３２個および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が０．７０個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に－Ｓｉ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_３を有する化合物（Ｇ’）が、化合物（Ｇ）および化合物（Ｇ’）の合計に対して８．０モル％含まれていた。）

　化合物（Ｈ）：

　　　　（ｍ≒２６、ｎ≒２８）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が１．２２個および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が１．７６個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に－Ｃ（ＯＨ）（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２を有する化合物（Ｈ’）が、化合物（Ｈ）および化合物（Ｈ’）の合計に対して６．５モル％含まれていた。）

化合物（Ｉ）：

　　　　（ｍ≒２６、ｎ≒２８）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が２．２１個および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が２．５３個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に－Ｃ［（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_２ＯＣＨ_３］（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２を有する化合物（Ｉ’）が、化合物（Ｉ）および化合物（Ｉ’）の合計に対して６．２モル％含まれていた。）

化合物（Ｊ）：

　　　　（ｍ≒３５、ｎ≒３３）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が１．２５個および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が２．０３個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_２を有する化合物（Ｊ’）が、化合物（Ｊ）および化合物（Ｊ’）の合計に対して７．８モル％含まれていた。）

化合物（Ｋ）：

　　　　（ｍ≒２６、ｎ≒２８）
（なお、平均組成としては、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が１．２０個および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）の繰り返し単位が１．７５個含まれていた。また、両末端にＳｉ（ＯＣＨ_３）_３を有する化合物（Ｋ’）が、化合物（Ｋ）および化合物（Ｋ’）の合計に対して４．８モル％含まれていた。）

　上記化合物（Ａ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（１）を調製した。

　上記化合物（Ｂ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（２）を調製した。

　上記化合物（Ｃ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（３）を調製した。

　上記化合物（Ｄ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（４）を調製した。

　上記化合物（Ｅ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（５）を調製した。

　上記化合物（Ｆ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（６）を調製した。

　上記化合物（Ｇ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（７）を調製した。

　上記化合物（Ｉ）を、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（８）を調製した。

　上記化合物（Ａ）を、固形分濃度２０．０質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（９）を調製した。

　上記化合物（Ｇ）を、固形分濃度２０．０質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（１０）を調製した。

　上記化合物（Ｈ）を、固形分濃度２０．０質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（１１）を調製した。

　上記化合物（Ｊ）を、固形分濃度２０．０質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（１２）を調製した。

　上記化合物（Ｋ）を、固形分濃度２０．０質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、希釈液（１３）を調製した。

　（表面処理剤の調製）
　希釈液（１）～（８）を、下記表１に示す割合で混合して、表面処理剤１～１２を調製した。表面処理剤１～４が実施例であり、表面処理剤５～１２が比較例である。

（表面処理層の形成）
　表面処理剤１～１２を、スピンコーターを用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。
　スピンコートの条件は、３００回転／分で３秒間、２０００回転／分で３０秒であった。
　塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、硬化膜を形成した。

（表面処理層の特性評価）
　表面処理剤１～１２を用いて得られた表面処理層の特性を以下のように評価した。結果を下記表２に示す。

＜静的接触角＞
（初期評価）
　まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。

＜耐消しゴム摩擦性試験＞
　ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で２５００回擦る毎に耐水接触角を測定し、１５０００回もしくは１００°未満となるまで試験を続けた。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。
　消しゴム：Ｒａｂｅｒ　Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
　接地面積：６ｍｍφ
　移動距離（片道）：３０ｍｍ
　移動速度：３，６００ｍｍ／分
　荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ

　（表面処理剤の調製）
　希釈液（９）～（１３）を、下記表３に示す割合で混合して、表面処理剤１３～２１を調製した。表面処理剤１３～１５が実施例であり、表面処理剤１６～２１が比較例である。

（表面処理層の形成）
　表面処理剤１３～２１を、真空蒸着法を用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。
　真空蒸着法の条件は、抵抗加熱式蒸着機（シンクロン製）、チャンバーサイズ　１９００ｍｍφ、真空度５．０Ｅ－０５、電流値２４０Ａ、電圧１０Ｖ、基材温度４０℃であった。
　塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、硬化膜を形成した。

（表面処理層の特性評価）
　表面処理剤１３～２１を用いて得られた表面処理層の特性を評価した。静的接触角の測定および耐消しゴム摩擦性試験は、表面処理剤１～１２と同様に行った。結果を下記表４に示す。

　本開示の表面処理剤は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims

　下記式（１）または（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２～１０価の有機基であり；
　Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を有する基であり；
　αは、１～９の整数であり；
　βは、１～９の整数であり；
　γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、および、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を含み、
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、
　　Ｒ^Ｆが、Ｒ^Ｆ１１で表され、
　　Ｒ^Ｆ１１が、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、各出現においてそれぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　　で表されるフルオロポリエーテル基であり；
　　Ｒ^Ｓｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１１）または（Ｓ１２）：

［式中：
　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～２の整数である。］で表され、
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、
　　Ｒ^Ｆが、Ｒ^Ｆ２１で表され、
　　Ｒ^Ｆ２１が、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
　　で表され、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆおよびＲ^Ｆａは、それぞれＲ^Ｆ１１の記載と同意義であり、ただし、Ｒ^Ｆ２１は、Ｒ^Ｆ１１と同種の繰り返し単位からなり；
　　Ｒ^Ｓｉが、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）：

［式中：
　Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１、およびｑ１は、式（Ｓ１１）および式（Ｓ１２）と同意義であり；
　Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、または１価の有機基である。］
で表され、
　ただし、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１２）で表され、かつ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される場合であって、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ１１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１およびｑ１と、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）のＲｆ^１、Ｒｆ^２、ｐ、ｑ、Ｒ^Ｆ２１、Ｘ^Ａ、α、β、γ、Ｚ^１、Ｒ^２１、Ｒ^２２、ｐ１およびｑ１とがそれぞれ完全に同一である場合を除く、表面処理剤。
　Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、請求項１に記載の表面処理剤。
　Ｒ^Ｆ１１およびＲ^Ｆ２１が、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数である。］
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
　Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量が、５００～３０,０００の範囲にある、請求項１～３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　Ｒ^Ｆにおいて、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｆに対するｅの比が、０．１～１０の範囲にある、請求項１～４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　α、βおよびγが、１である、請求項１～５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　Ｘ^Ａが、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
－Ｘ^５４－、または
－Ｘ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中：
　ｓ５が、１～２０の整数であり；
　Ｘ^５３が、－Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、または－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－であり；
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基を表し；
　ｔ５が、１～２０の整数であり；
　Ｘ^５４が、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、または－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－である］、
で表される、請求項１～６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　Ｚ^１が、
　Ｃ_１－６アルキレン基、
　－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１およびｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～６の整数）または、
　－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３およびｚ４は、各出現においそれぞれ独立して０～６の整数）である、請求項１～７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　ｐ１が、３である、請求項１～８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５質量％以上含まれる、請求項１～９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）との合計量に対して、５～９５質量％含まれる、請求項１～１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ２）で表される、請求項１～１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される、請求項１～１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される、請求項１～１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１１）で表され、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される、請求項１～１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１２）で表され、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ２）、または（Ｓ４）で表される、請求項１～１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１～１６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　さらに溶媒を含む、請求項１～１７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１～１８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　真空蒸着用である、請求項１～１９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　請求項１～２０のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
　基材と、該基材の表面に、請求項１～２０のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
　光学部材である、請求項２２に記載の物品。