WO2021167408A1 - 안테나 구조체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치 - Google Patents

안테나 구조체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치 Download PDF

Info

Publication number
WO2021167408A1
WO2021167408A1 PCT/KR2021/002139 KR2021002139W WO2021167408A1 WO 2021167408 A1 WO2021167408 A1 WO 2021167408A1 KR 2021002139 W KR2021002139 W KR 2021002139W WO 2021167408 A1 WO2021167408 A1 WO 2021167408A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
antenna
segment
turn
antenna structure
radius
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/KR2021/002139
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
엄세훈
이윤성
손영훈
박세홍
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
En2Core Technology Inc
Original Assignee
En2Core Technology Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020200020704A external-priority patent/KR102324789B1/ko
Application filed by En2Core Technology Inc filed Critical En2Core Technology Inc
Priority to EP21756465.7A priority Critical patent/EP4064324A4/en
Priority to US17/759,987 priority patent/US12205794B2/en
Priority to CN202180010823.0A priority patent/CN115039196B/zh
Priority to JP2022549548A priority patent/JP7676424B2/ja
Publication of WO2021167408A1 publication Critical patent/WO2021167408A1/ko
Anticipated expiration legal-status Critical
Priority to US18/975,986 priority patent/US20250104968A1/en
Priority to JP2025075764A priority patent/JP2025114669A/ja
Ceased legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/321Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
    • H01J37/3211Antennas, e.g. particular shapes of coils
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/321Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/12Supports; Mounting means
    • H01Q1/22Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles
    • H01Q1/26Supports; Mounting means by structural association with other equipment or articles with electric discharge tube
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/32Processing objects by plasma generation
    • H01J2237/327Arrangements for generating the plasma

Definitions

  • the present invention relates to an antenna structure and a plasma generating apparatus using the same, and more particularly, to an antenna structure including a plurality of antenna segments and a plurality of capacitive elements to generate an induced electric field and an induced magnetic field to induce plasma generation. It's about the device.
  • the technology using plasma is being used in various industrial fields, such as not only semiconductor, display, and medical equipment technology, but also environmental technology such as air, water, and soil purification, and energy technology such as solar cells and hydrogen energy.
  • Methods for generating such plasma are very diverse, such as direct current discharge such as corona discharge, glow discharge, arc discharge, AC discharge such as capacitively coupled discharge and inductively coupled discharge, shock wave, high energy beam, etc.
  • direct current discharge such as corona discharge, glow discharge, arc discharge
  • AC discharge such as capacitively coupled discharge and inductively coupled discharge
  • shock wave high energy beam, etc.
  • the high inductive coupling method is in the spotlight.
  • plasma control is unstable due to factors such as internal/external pressure, type or property of supply gas, power applied to the device, current/voltage flowing through components, and power consumption. Or had a problem such as damage to the durability of the device. Furthermore, these problems become more serious as the volume, area, etc. of the plasma generating device increases, and thus a solution is required.
  • One problem to be solved by the present invention is to provide an antenna structure including a plurality of segments and a capacitive element, and a plasma generating apparatus using the same.
  • One problem to be solved by the present invention is to provide an antenna structure having a large volume or a large area in order to generate plasma in a large area, and a plasma generating apparatus using the same.
  • One problem to be solved by the present invention is to provide an antenna structure having a structure in which a voltage is distributed to safely generate plasma at a high voltage formed in an inductor by a high driving frequency or a large input current, and a plasma generating device using the same will be.
  • One problem to be solved by the present invention is to provide a plasma generating device for preventing the plasma generating device from being damaged by heat generated while plasma is induced.
  • One problem to be solved by the present invention is to provide a plasma generating apparatus that effectively absorbs heat generated while plasma is induced by using cooling water.
  • the antenna structure for inducing plasma in a chamber by receiving AC power, a first radius of curvature and a second radius of curvature with respect to the central axis on a first plane intersecting a virtual central axis and a first capacitive load electrically connecting the first and second antenna segments in series, wherein the first antenna segment has the first radius of curvature.
  • the second antenna segment When extending from one end of the first capacitive load by a first length, the second antenna segment has the second radius of curvature and from the other end of the first capacitive load by a second length corresponding to the first length
  • the antenna structure may be extended, and the sum of the first length and the second length may be shorter than a circumference having the first radius of curvature or the second radius of curvature as a radius.
  • the first One antenna structure in the plasma generating apparatus for inducing plasma in a chamber by receiving AC power, comprising a first antenna structure disposed to have a first radius of curvature with respect to a virtual central axis, the first One antenna structure includes a plurality of first antenna segments having the first radius of curvature and at least one first capacitive load disposed between the plurality of first antenna segments such that the plurality of first antenna segments are electrically connected in series.
  • a plasma generating apparatus may be provided in which the sum of the lengths of the antenna segments is shorter than a circumference having the first radius of curvature as a radius.
  • the antenna structure disposed outside the plasma generating unit to provide an induced electric field to induce plasma inside the plasma generating unit it is formed along the outer wall surface of the plasma generating unit to induce an electric field.
  • a first antenna wherein a first coolant flow passage for moving coolant is formed inside the first antenna, the first antenna includes a first inner diameter surface parallel to an outer wall of the plasma generator, 1 in surface contact with the plasma generator through an inner diameter surface, the first antenna defining a contact with the first coolant flow path and including an outer wall of the plasma generator and a first surface parallel to the first inner diameter surface
  • the antenna structure may be provided with an antenna structure for absorbing heat of the plasma generating unit through the inner diameter surface and the first surface in order to prevent the plasma generating unit from increasing in temperature by the plasma.
  • the maximum voltage applied to the antenna by the capacitive element in the antenna structure when the plasma generating device is driven can be reduced.
  • a high electromotive force is induced by the antenna structure when the plasma generating device is driven, so that the plasma can be maintained for a longer period of time.
  • energy loss generated in the plasma can be reduced by reducing the voltage applied to the antenna structure when the plasma generating device is driven.
  • a large-area display or a plurality of semiconductor processes can be performed by inducing a large-area plasma.
  • the present invention it is possible to reduce the power consumption generated by the antenna structure in the plasma generating device.
  • the potential difference between the antennas in the antenna structure is reduced, so that a high-density plasma can be generated more safely.
  • the antenna structure is driven by a high-output high-frequency power source, damage to the chamber or the dielectric tube can be prevented.
  • the effect of the parasitic capacitor can be reduced while the antenna structure performs an effective cooling function.
  • FIG. 1 is a diagram of a plasma system according to an embodiment of the present specification.
  • FIG. 2 is a diagram of implementations of a plasma system according to an embodiment of the present specification.
  • FIG 3 is a view showing a plasma generator according to an embodiment of the present specification.
  • FIG. 4 is a diagram related to an RF power source according to an embodiment of the present specification.
  • 5 and 6 are diagrams of a method in which an antenna segment is disposed according to an embodiment of the present specification.
  • FIGS. 7 to 10 are diagrams of an antenna structure including an antenna segment and a capacitive element according to an embodiment of the present specification.
  • FIG. 11 is a diagram of an equivalent circuit of an antenna structure according to an embodiment of the present specification.
  • FIG. 12 is a view related to a graph showing a voltage according to a position in the antenna structure according to an embodiment of the present specification.
  • FIG. 13 is a diagram illustrating a graph showing a voltage according to a position in an antenna structure including a capacitive element according to an embodiment of the present specification.
  • FIG. 14 is a view of an antenna structure having a rectangular cross-section according to an embodiment of the present specification.
  • 15 is a view of a cross-section of an antenna structure according to an embodiment of the present specification.
  • 16 is a view of an antenna structure having a rectangular cross-section and a circular cross-section according to an embodiment of the present specification.
  • 17 and 18 are views of a cross-section of an antenna structure having at least two types of cross-sectional shapes according to an embodiment of the present specification.
  • 19 to 22 are diagrams of a method in which antennas having different cross-sections are connected in the antenna structure according to an embodiment of the present specification.
  • FIG. 23 is a view illustrating a heat transfer member according to an embodiment of the present specification.
  • the antenna structure for inducing plasma in a chamber by receiving AC power, a first radius of curvature and a second radius of curvature with respect to the central axis on a first plane intersecting a virtual central axis and a first capacitive load electrically connecting the first and second antenna segments in series, wherein the first antenna segment has the first radius of curvature.
  • the second antenna segment When extending from one end of the first capacitive load by a first length, the second antenna segment has the second radius of curvature and from the other end of the first capacitive load by a second length corresponding to the first length
  • the antenna structure may be extended, and the sum of the first length and the second length may be shorter than a circumference having the first radius of curvature or the second radius of curvature as a radius.
  • the antenna structure for inducing plasma in a chamber by receiving AC power, a first radius of curvature and a second radius of curvature with respect to the central axis on a first plane intersecting a virtual central axis and a first capacitive load electrically connecting the first and second antenna segments in series, wherein the first antenna segment has the first radius of curvature.
  • the second antenna segment When extending from one end of the first capacitive load by a first length, the second antenna segment has the second radius of curvature and from the other end of the first capacitive load by a second length corresponding to the first length
  • the antenna structure may be extended, and the sum of the first length and the second length may be shorter than a circumference having the first radius of curvature or the second radius of curvature as a radius.
  • first and second radii of curvature may be equal to each other, the first and second lengths may be equal to each other, and the first antenna segment and the second antenna segment may have the same inductance.
  • the antenna structure has a third antenna segment disposed to have a third radius of curvature greater than the first radius of curvature on the first plane, and a fourth radius of curvature greater than the second radius of curvature on the first plane. and a second capacitive load electrically connecting the third and fourth antenna segments in series, the third antenna segment having the first length from one end of the second capacitive load. It may extend by a third longer length, and the fourth antenna segment may extend from the other end of the second capacitive load by a fourth length greater than the second length.
  • a straight line passing through the first and second capacitive loads may pass through the central axis.
  • a central angle of the sector having the first antenna segment as an arc may be the same as a central angle of the sector having the third antenna segment as an arc.
  • the antenna structure may include an inter-turn capacitive load electrically connecting the second antenna segment and the third antenna segment in series.
  • first and second capacitive loads and the inter-turn capacitive loads may have the same capacitance.
  • the antennac structure is disposed between the fifth antenna segment having the first radius of curvature, the sixth antenna segment having the second radius of curvature, and the fifth and sixth antenna segments with respect to the central axis, and a third capacitive load electrically connecting fifth and sixth antenna segments in series, wherein the fifth and sixth antenna segments are disposed in a second plane intersecting the central axis, the first plane and The second plane may be different planes.
  • a first interlayer capacitive load electrically connecting the second antenna segment and the fifth antenna segment in series may be included.
  • the antenna structure is disposed between the seventh antenna segment having the first radius of curvature, the eighth antenna segment having the second radius of curvature, and the seventh and eighth antenna segments with respect to the central axis, and the seventh antenna segment and a fourth capacitive load electrically connecting the eighth antenna segment in series and a second interlayer capacitive load electrically connecting the sixth antenna segment and the seventh antenna segment in series; 8 antenna segments intersect the central axis and are arranged in a third plane different from the first plane and the second plane, wherein the first interlayer capacitive load and the second interlayer capacitive load are preset with respect to the central axis can have an angle.
  • the first antenna segment extends from one end to the other end, and the other end of the first antenna segment is electrically connected to one end of the first capacitive load, and the second antenna segment extends from one end to the other end.
  • One end of the second antenna segment may be electrically connected to the other end of the first capacitive load.
  • the maximum voltage at the other end of the first antenna segment with respect to the reference node may correspond to the maximum voltage at the other end of the second antenna segment with respect to the reference node.
  • the voltage of the other end of the second antenna segment with respect to one end of the second antenna segment corresponds to the voltage of the other end of the first antenna segment with respect to one end of the first antenna segment can be
  • the magnitude of the maximum voltage of the other end of the first antenna segment with respect to the reference node corresponds to the magnitude of the maximum voltage of one end of the second antenna segment with respect to the reference node.
  • the voltage at the other end of the first antenna segment with respect to the reference node and the voltage at the end of the second antenna segment with respect to the reference node have opposite signs.
  • the antenna structure includes a first point located between one end and the other end of the first antenna segment and a second point located between one end and the other end of the second antenna segment, and the AC power is applied to the antenna structure.
  • the maximum voltage of the first point with respect to the reference node may correspond to the maximum voltage of the second point with respect to the reference node.
  • the voltage of the other end of the first antenna segment with respect to the reference node and the voltage of the other end of the second antenna segment with respect to the reference node may correspond to each other.
  • the antenna structure may be implemented as at least one of a flat plate type for inducing plasma to the upper or lower portion and a tube type for inducing plasma to the center.
  • the first One antenna structure in the plasma generating apparatus for inducing plasma in a chamber by receiving AC power, comprising a first antenna structure disposed to have a first radius of curvature with respect to a virtual central axis, the first One antenna structure includes a plurality of first antenna segments having the first radius of curvature and at least one first capacitive load disposed between the plurality of first antenna segments such that the plurality of first antenna segments are electrically connected in series.
  • a plasma generating apparatus may be provided in which the sum of the lengths of the antenna segments is shorter than a circumference having the first radius of curvature as a radius.
  • the plasma generating device includes a second antenna structure disposed on the first plane to have a second radius of curvature greater than the first radius of curvature with respect to the central axis, wherein the second antenna structure has the second radius of curvature.
  • a plurality of second antenna segments with Each of the antenna segments may have a first length, and the sum of the lengths of the plurality of second antenna segments may be shorter than a circumference having the second radius of curvature as a radius.
  • first to eighth antenna segments described above may be interpreted as indicating any one antenna segment in the antenna structure, respectively, regardless of order.
  • the first antenna segment and the second antenna segment may refer to antenna segments disposed on the same plane.
  • the above-described series connection may include not only a case in which elements are directly connected, but also a case in which they are indirectly connected by including other elements between elements.
  • the antenna structure disposed outside the plasma generating unit to provide an induced electric field to induce plasma inside the plasma generating unit it is formed along the outer wall surface of the plasma generating unit to induce an electric field.
  • a first antenna wherein a first coolant flow passage for moving coolant is formed inside the first antenna, the first antenna includes a first inner diameter surface parallel to an outer wall of the plasma generator, 1 in surface contact with the plasma generator through an inner diameter surface, the first antenna defining a contact with the first coolant flow path and including an outer wall of the plasma generator and a first surface parallel to the first inner diameter surface
  • the antenna structure may be provided with an antenna structure for absorbing heat of the plasma generating unit through the inner diameter surface and the first surface in order to prevent the plasma generating unit from increasing in temperature by the plasma.
  • the first turn antenna may include a first outer-diameter surface connected to the first inner-diameter surface, and the first outer-diameter surface may be bent in a longitudinal direction in a direction away from the plasma generator.
  • the second antenna and the third antenna may be arranged such that a distance between the first antenna and the second antenna is longer than a distance between the second antenna and the third antenna.
  • the second antenna is electrically connected to the first antenna, is disposed to surround the first antenna, and includes a second antenna formed of at least a second inner surface and a second outer surface, wherein the second inner surface is the second antenna.
  • the second inner diameter surface of the second antenna may not be parallel to the first inner diameter surface of the first antenna.
  • the first antenna is electrically connected to the first antenna and is disposed on the same plane as the first antenna so as to surround the first antenna and includes a second antenna formed of at least a second inner surface and a second outer surface,
  • the second inner surface is disposed closer to the plasma generator than the second outer surface, and the distance between the second inner surface and the first outer surface may increase as the distance between the second inner surface and the first outer surface increases in the longitudinal direction of the plasma generator from the plane.
  • a second antenna electrically connected to the first antenna and disposed to surround the first antenna may be included, wherein a cross-section of the second antenna may be different from that of the first antenna.
  • a second antenna electrically connected to the first antenna and disposed to surround the first antenna, and a connector connecting the first antenna and the second antenna, wherein the first antenna and the second antenna are included.
  • the antennas may have different cross-sections, a cross-section of one end of the connection part may correspond to a cross-section of the first antenna, and a cross-section of the other end of the connection part may correspond to a cross-section of the second antenna.
  • the connecting portion may include at least a portion of the distal end of the first antenna and at least a portion of the expanded distal end of the second antenna.
  • connection part may include a capacitive element.
  • it may include a tightening unit coupled to the first antenna to provide a tightening force to the first antenna.
  • a plasma generating unit including an internal space in which the plasma is induced; and an antenna structure disposed outside the plasma generator to provide an induced electric field to induce plasma in the internal space of the plasma generator, wherein the antenna structure is formed along an outer wall surface of the plasma generator to induce an electric field a first antenna, wherein a first coolant flow passage for moving coolant is formed inside the first antenna, the first antenna includes a first inner diameter surface parallel to an outer wall of the plasma generator, 1 in surface contact with the plasma generator through an inner diameter surface, the first antenna defining the first coolant flow path and including an outer wall of the plasma generator and a first surface parallel to the first inner diameter surface, the antenna
  • the structure may be provided with a plasma generating device that absorbs heat of the plasma generating unit through the inner diameter surface and the first surface in order to prevent the plasma generating unit from increasing in temperature by the plasma.
  • the thickness of the plasma generator may be 0.5 mm or more and 30 mm or less.
  • the diameter of the plasma generator may be 10 mm or more and 300 mm or less.
  • the plasma generating apparatus further includes a heat transfer member thermally coupled to the plasma generating unit and the antenna structure, respectively, wherein the plasma generating unit and the antenna structure are spaced apart from each other, and the heat transfer member is the plasma generating unit and between the antenna structures.
  • At least a portion of the plasma generator may be made of at least one of aluminum oxide, silicon nitride, silicon nitride, silicon dioxide, yttrium oxide, ceramic, silicon carbide, or a combination thereof.
  • an inner surface defining the inner space of the plasma generator may be made of a silicon carbide material.
  • the present specification relates to an antenna structure and a plasma generating apparatus using the same.
  • the plasma is a phase in which a material is applied with high energy and is separated into negatively charged electrons and positively charged ions, and may be induced or generated by various methods.
  • ICP Inductively Coupled Plasma
  • RF Radio Frequency
  • the antenna is an inductive element or load that forms an electric or magnetic field around it when a voltage or current is applied, and may mean a coil or an inductor, and further may mean an equivalent circuit implemented as an element other than the inductive element. have.
  • the antenna structure may mean a structure including at least one antenna.
  • the antenna structure may include at least one or more capacitive elements or loads, and may be implemented in a form in which at least one or more antennas or capacitive elements are connected or disposed in a specific way.
  • the plasma generating apparatus can be widely used in various fields such as semiconductors, display processing, environment, and energy, and the plasma generating apparatus described below is limited to being used only in certain specific fields. No, it is stated in advance that it can be commonly used in the field where plasma is utilized.
  • ICP system inductively coupled plasma system
  • the plasma system 10 may induce the generation of inductively coupled plasma in the plasma generator by supplying RF power to the antenna structure using an RF power source.
  • a plasma system 10 may include a plasma generating apparatus 100 including an antenna structure 1000 and a plasma generating unit 2000 , and an RF power source 200 .
  • the plasma generating apparatus 100 may generate plasma by receiving RF power from the RF power source 200 . Specifically, when RF power is supplied to the antenna structure 1000 , a time-varying current flows, and based on this, an induced electric field is generated in the plasma generator 2000 to induce plasma.
  • the antenna structure 1000 may be electrically connected to the RF power source 200 .
  • the antenna structure 1000 may be connected in series or parallel with the RF power source 200 through a conductive wire, or may be connected in series or parallel through an electrical element.
  • the antenna structure 1000 may be physically or electrically connected to the plasma generator 2000 . Details of the connection relationship between the antenna structure 1000 and the plasma generator 2000 will be described later.
  • the plasma generator 2000 may include a region in which plasma generation is induced.
  • the plasma generator 2000 may mean a space in which plasma is generated and maintained, such as a chamber or tube.
  • FIG. 2 is a diagram of implementations of the plasma system 10 according to an embodiment of the present specification.
  • the plasma system 10 may be implemented in various ways according to a method in which plasma is utilized. Specifically, a positional relationship between the RF power source 200 , the antenna structure 1000 , and the plasma generator 2000 may be set according to a method in which plasma is utilized.
  • the plasma system 10 may generate plasma above or below the antenna structure 1000 .
  • the antenna structure 1000 is implemented in a flat plate type and disposed on the plasma generator 2000, and the plasma generator 2000 includes a process target such as a semiconductor wafer, a silicon substrate, and a display.
  • a semiconductor process or a display process may be performed using the process gas provided to the chamber and introduced into the plasma generator 2000 and the induced plasma.
  • the antenna structure 1000 is implemented in a flat plate type and disposed at the bottom of the plasma generating unit 2000, and the plasma generating unit 2000 is provided as a chamber including a process object such as a semiconductor wafer, a silicon substrate, a display, etc.
  • a semiconductor process or a display process may be performed using the process gas introduced into the plasma generator 2000 and the induced plasma.
  • the plasma system 10 may generate plasma in the center of the antenna structure 1000 .
  • the antenna structure 1000 is implemented in a tubular shape to surround or wind the plasma generating unit 2000
  • the plasma generating unit 2000 is provided as a dielectric tube, and is supplied to the plasma generating unit 2000 .
  • Active species may be generated using the process gas and plasma and may be provided to a separate process chamber.
  • the shape of the antenna structure 1000 is not limited to a flat plate or tubular shape as shown in FIG. 2 , and the antenna structure 1000 may be implemented in a tubular shape in FIG. 2A and in a flat plate shape in FIG. 2B . is of course
  • FIG. 3 is a diagram illustrating a plasma generator 2000 according to an embodiment of the present specification.
  • the plasma generator 2000 may be implemented in various shapes.
  • the plasma generator 2000 may be implemented in a shape including an internal space in which plasma is induced.
  • the plasma generator 2000 may have a shape such as a hollow cylindrical shape, a ring shape, or a tube shape.
  • the plasma generator 2000 may have a specific thickness t.
  • the thickness t of the plasma generating unit 2000 may be determined within 0.5 mm to 30 mm.
  • the thickness t of the plasma generating unit 2000 is less than 0.5 mm, by-products are easily generated inside the plasma generating unit 2000 by the antenna structure 1000 and physical durability may be weakened.
  • the thickness t of the plasma generating unit 2000 is greater than 30 mm, inductive coupling between the antenna structure 1000 disposed around the plasma generating unit 2000 and the plasma induced inside the plasma generating unit 2000 .
  • the thickness (t) range of the above-described plasma generating unit 2000 is stably within the plasma generating unit 2000 when the antenna structure 1000 is electrically coupled to the plasma generating unit 2000 as described below. It may have a critical significance in that it can induce and maintain the plasma and improve the durability of the plasma generator 2000 .
  • the plasma generator 2000 may have a specific diameter d.
  • the diameter d when the plasma generator 2000 has a tube shape, the diameter d may be determined within a range of 10 mm to 300 mm.
  • the diameter d may mean the diameter of the inner surface, the outer surface, or the average diameter of the inner surface and the outer surface diameter of the plasma generator 2000 .
  • the diameter d of the plasma generating unit 2000 when the diameter d of the plasma generating unit 2000 is less than 10 mm, the form of plasma induced inside the plasma generating unit 2000 may have a relatively large surface area compared to its volume, resulting in energy loss.
  • the above-described diameter (d) range of the plasma generating unit 2000 is the plasma induction by making it easier to manufacture the RF power source 200 and the antenna structure 1000 of the plasma system 10 and preventing plasma energy loss. It may have a critical significance in terms of increasing efficiency.
  • the shape of the plasma generating unit 2000 has been mainly described for the case of a hollow cylindrical shape or a tube shape, but the technical idea of the present specification is not limited thereto.
  • the plasma generating unit 2000 is a plasma
  • it may have a polygonal shape including an induced internal space, and even in this case, the above-described thickness (t) and diameter (d) may be applied.
  • the plasma generator 2000 may be made of various materials.
  • the plasma generator 2000 may be made of a non-conductor.
  • the plasma generator 2000 may be made of a material having high thermal conductivity.
  • the plasma generator 2000 may include aluminum nitride (AlN), aluminum oxide (Al2O3), silicon nitride (SiN), silicon nitride (Si3N4), silicon dioxide (SiO2), yttrium oxide (Y2O3), or silicon carbide ( SiC).
  • the plasma generating unit 2000 generates impurities (particles) by reacting with the gas (eg, NF3, Ar, CO2, CH4, NF3, O2, H2, etc.) flowing into the plasma generating unit 2000 for plasma induction.
  • the gas eg, NF3, Ar, CO2, CH4, NF3, O2, H2, etc.
  • the plasma generator 2000 may be made of silicon carbide (SiC).
  • FIG. 4 is a diagram of an RF power source 200 according to an embodiment of the present specification.
  • the RF power source 200 may include an AC power source 210 , a rectifier 220 , an inverter 230 , a controller 240 , and a sensor module 250 .
  • the RF power source 200 may convert the first AC power supplied from the AC power source 210 into a second AC power source and supply it to a load.
  • the RF power source 200 converts the first AC power used in a typical home or industry into a second AC power having a frequency of several hundreds of kHz to several tens of MHz and power of several kW or more to the antenna structure 1000 . can provide
  • the load may include the antenna structure 1000 and plasma generated by the antenna structure 1000 .
  • the rectifier 220 may convert the output of the AC power source 210 into DC power.
  • the rectifier 220 may convert the first AC power supplied from the AC power source 210 into DC power and apply it to both ends of the inverter 230 .
  • the inverter 230 may receive the DC power from the rectifier 220 and supply the second AC power to the load. In this case, the inverter 230 may provide the second AC power to the load using the switching signal received from the controller 240 .
  • the inverter 230 may include at least one switch element that is controlled by a switching signal, and the second AC power supplied from the inverter 230 to the load is the inverter 230 is provided by the controller 240 . It may have a driving frequency set based on the switch signal.
  • the inverter 230 may be provided as a half-bridge type or a full-bridge type controlled by a pulse width modulation (PWM) method.
  • PWM pulse width modulation
  • a capacitive element may be disposed between the rectifier 220 and the inverter 230 .
  • the RF power source 200 includes a capacitor connected in parallel with the rectifier 220 and the inverter 230 , and the capacitor discharges an AC component of the power applied to the inverter 230 to the ground node GND. can do.
  • the controller 240 may receive sensing data from the sensor module 250 to generate a switching signal.
  • the controller 240 may include an FPGA and may generate a switch signal by acquiring data related to a resonant frequency of a load from the sensor module 250 .
  • the sensor module 250 may acquire data about the resonant frequency of the load or data about the power supplied to the load from the controller 240 . To this end, the sensor module 250 may sense the magnitude and phase of current flowing through the load or inverter 230 , the magnitude and phase of applied voltage, and the relative potential or power magnitude.
  • the RF power source 200 may control the driving frequency of the second AC power provided to the load based on data related to the resonant frequency of the load.
  • the RF power source 200 may set the driving frequency of the second AC power to be similar to the resonant frequency of the load by tracking the resonant frequency of the load that changes according to the generation of plasma. Accordingly, unnecessary power consumption can be prevented and durability of the plasma system can be improved.
  • 5 and 6 are diagrams of a method in which an antenna segment is disposed according to an embodiment of the present specification.
  • the antenna structure 1000 may include a plurality of antenna segments.
  • the antenna structure 1000 may be composed of a plurality of antenna segments according to the intensity, density, or generation range of plasma required in the field of plasma application.
  • the antenna structure 1000 may be disposed in a wide area to provide plasma in a wide range, in which case the length of the antenna structure 1000 is excessively increased to increase the potential in the antenna structure 1000 . It may be divided into multiple antenna segments to prevent
  • the antenna segment is described as including the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 , but the antenna structure 1000 includes m antenna segments (m is a natural number). may be included, and the following descriptions may be commonly applied to each case.
  • the antenna segment may be provided as an antenna, part of an induction coil or inductor, copper wire, or the like. Physical properties such as cross-sectional shape, cross-sectional area, thickness, and thickness of the antenna segment are based on electrical properties required for the antenna structure 1000 or antenna segment, such as inductance, mutual inductance, parasitic inductance, capacitance, parasitic capacitance, resistance or parasitic resistance. can be decided.
  • the antenna segment has an arc shape for convenience of explanation, but the technical idea of the present specification is not limited thereto, and the antenna segment may be a straight line, a curved line, a bent straight line, a bent curve, a circle or It may have a specific geometric shape such as a polygon, a donut, or a solenoid, and is generally implemented as a three-dimensional three-dimensional shape, but may be implemented as a two-dimensional shape such as a thin film or plating.
  • the antenna segment may be disposed on the first plane P1 with a predetermined distance based on the central axis CA. Specifically, the antenna segment is disposed on the first plane P1, and may be spaced apart from the central axis CA by a preset distance.
  • the central axis CA may mean a virtual axis.
  • the central axis CA may be understood as a virtual straight line passing through the center of plasma generated in the plasma system 10 .
  • the first plane P1 may mean a virtual plane on which the antenna segment is disposed.
  • the first plane P1 may mean a virtual plane perpendicular to the central axis CA.
  • the first plane P1 may mean a virtual plane that intersects the central axis CA.
  • all of the antenna segments may be disposed on the first plane P1 , at least some of them may be disposed on the first plane P1 , and other parts may be disposed on a different plane from the first plane P1 .
  • Antenna segments may have a specific curvature or a specific radius of curvature.
  • the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 may be implemented in an arc shape having a first radius of curvature RC1 .
  • the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 may have curvatures or radii of curvature corresponding to each other.
  • the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 may have different curvatures or radii of curvature.
  • the radius of curvature or the curvature may be set based on the size of the antenna structure 1000 . For example, as the size or volume of the antenna structure 1000 increases, the radius of curvature may increase and the curvature may decrease.
  • Antenna segments may extend to a specific length.
  • the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 may be arranged to extend in lengths corresponding to each other or extend to different lengths.
  • the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 may have the same first length or different lengths.
  • the total length of the antenna segment may be set to be less than or equal to a preset value.
  • the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 have a first radius of curvature RC1 with respect to the central axis CA in the first plane P1 and extend by a first length.
  • the sum of the lengths of each of the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 may be smaller than the length of the circumference having the first radius of curvature RC1 as the radius.
  • the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 has a first radius of curvature RC1 with respect to the central axis CA in the first plane P1 and the first
  • the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 are the sum of the lengths of each of the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 when arranged to extend by a length, and the other part has a second radius of curvature RC2 and is extended by a second length may be smaller than the length of the circumference having the first radius of curvature RC1 or the second radius of curvature RC2 as the radius.
  • the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 may be disposed so as not to physically contact each other.
  • an electrical element may be disposed between the antenna segments.
  • a capacitive element may be disposed between the antenna segments, and the capacitive element may electrically couple the antenna segments. The arrangement of the electrical elements will be described in detail later.
  • the antenna segment included in the antenna structure 1000 may be arranged in a plurality of turns.
  • the antenna segment may be arranged in two turns on the first plane P1 with respect to the central axis CA.
  • the first turn includes first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , 1140
  • the second turn includes fifth to eighth antenna segments 1210 , 1220 , 1230 , 1240 .
  • the antenna segment of the first turn may have a first radius of curvature RC1
  • the antenna segment of the second turn may have a second radius of curvature RC2 greater than the first radius of curvature RC1 .
  • Each of the antenna segments of the second turn may be arranged to correspond to each of the antenna segments of the first turn.
  • the fifth to eighth antenna segments 1210 , 1220 , 1230 , and 1240 may be respectively disposed in the first to fourth quadrants of the first plane P1 .
  • the first antenna segment 1110 is adjacent to the second antenna segment 1120 and the fourth antenna segment 1140 in an arc direction, and in a direction perpendicular to the fifth antenna segment 1210 and the central axis CA. can be adjacent.
  • the second antenna segment 1120 is adjacent to the first antenna segment 1110 and the third antenna segment 1130 in an arc direction, and is adjacent to the sixth antenna segment 1220 in a direction perpendicular to the central axis CA.
  • the third antenna segment 1130 is adjacent to the second antenna segment 1120 and the fourth antenna segment 1140 in an arc direction, and adjacent to the seventh antenna segment 1230 in a direction perpendicular to the central axis CA.
  • the fourth antenna segment 1140 is adjacent to the first antenna segment 1110 and the third antenna segment 1130 in an arc direction, and adjacent to the eighth antenna segment 1240 in a direction perpendicular to the central axis CA.
  • the antenna segment of the second turn may extend a longer length than the antenna segment of the first turn.
  • the fifth antenna segment 1210 may extend to a second length longer than the first length.
  • the ratio of the second length to the first length may correspond to the ratio of the second radius of curvature RC2 of the fifth antenna segment 1110 to the first radius of curvature RC1 of the first antenna segment 1110 .
  • the central angle formed by the first antenna segment 1110 extending to the first length to be corresponded with the central axis CA is the central angle formed by the fifth antenna segment 1210 extending to the second length with the central axis CA.
  • the central angle of the sector having the first antenna segment 1110 extending to the first length as an arc may correspond to the size of the central angle of the sector having the fifth antenna segment 1210 extending to the second length as an arc.
  • an extension line connecting one end of the first antenna segment 1110 and one end of the fifth antenna segment 1210 may meet the central axis CA.
  • the central angle may be set according to the number of antenna segments disposed per turn. For example, when there are x antenna segments arranged per turn (x is a natural number), a central angle formed by each antenna segment with the central axis CA may be less than or equal to about 360/x ⁇ . Specifically, referring back to FIG. 5 , the antenna segment includes a first antenna segment 1110 to a fourth antenna segment 1140 , and in this case, the central angle formed by each antenna segment with the central axis CA is about 90°. may be less than or equal to
  • a distance between the first turn and the second turn may be set based on electrical properties of the antenna structure 1000 .
  • the distance between the first turn and the second turn may be set based on a parasitic capacitance that may occur between the antenna segments.
  • the distance between the first turn and the second turn is a distance at which parasitic capacitance effects are minimized between the first antenna segment 1110 and the fifth antenna segment 1210 when power is applied to the antenna structure 1000 . can be set.
  • the distance between the first turn and the second turn may be set in consideration of the total volume of the antenna structure 1000 .
  • the distance between the first turn and the second turn may be set within 1 mm or within a range of 0.5 mm to 3.5 mm.
  • the distance between the first turn and the second turn may be set to a distance at which arcing between turns does not occur when the plasma system 10 is driven at a specific driving frequency.
  • the distance between the first turn and the second turn may be set in consideration of elasticity of the plasma generator 2000 .
  • the above-described method in which the distance between the first turn and the second turn is set may also be used to set the distance between turns in the antenna structure 1000, such as the distance between the second turn and the third turn. .
  • the inductance of the antenna segment of the second turn may be set based on the inductance of the antenna segment of the first turn.
  • the inductance of the fifth antenna segment 1210 may correspond to the inductance of the first antenna segment 1110 .
  • the inductance of the fifth antenna segment 1210 may be set to be greater than the inductance of the first antenna segment 1110 .
  • the antenna segments of the first turn and the second turn may be disposed on different planes.
  • the antenna segment of the first turn is disposed on the first plane P1
  • the antenna segment of the second turn is parallel to the first plane P1 or a predetermined angle with the first plane P1. It may be arranged on a plane forming.
  • first turn and the second turn may include the same number of antenna segments or may include different numbers of antenna segments.
  • first turn includes four first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140
  • the second turn includes a fifth antenna symmetrically disposed with respect to the central axis CP. It may include only the segment 1210 and the seventh antenna segment 1230 .
  • the antenna structure 1000 is implemented with two turns, but the technical idea of the present specification is not limited thereto, and the antenna structure 1000 has n turns (n is a natural number). , and further, the antenna structure 1000 may include n turns including m antenna segments. In this way, in the case of the antenna structure 1000 having multiple segments and multiple turns, the above-described antenna segment arrangement method may be similarly applied.
  • the first turn comprises six antenna segments having a first radius of curvature RC1 and a first length
  • a second a turn comprising six antenna segments having a second radius of curvature RC2 and a second length
  • a third turn comprising six antenna segments having a third radius of curvature and a third length, each turn comprising an antenna segment
  • the sum of the lengths of may be shorter than the circumference having the radius of curvature of each turn antenna segment as the radius.
  • FIG. 7 to 10 are diagrams of an antenna structure 1000 including an antenna segment and a capacitive element according to an embodiment of the present specification.
  • the antenna structure 1000 is implemented in a planar shape and may include an antenna segment, a first main capacitive element 1500 , a second main capacitive element 1600 , and an auxiliary capacitive element. Since the antenna structure 1000 includes an auxiliary capacitive element, a plurality of antenna segments may be electrically or physically connected, and an RF power source ( 200) can be connected.
  • the auxiliary capacitive element electrically or physically connects the first to sixth auxiliary capacitive elements 1711 , 1712 , 1713 , 1721 , 1722 , 1723 for electrically or physically connecting the antenna segments within a turn and different turns.
  • a first inter-turn capacitive element 1731 for connecting may be included.
  • the main capacitive elements 1500 and 1600 and the auxiliary capacitive elements are elements expressed as capacitors or equivalent circuits of capacitors, and may refer to elements having a predetermined capacitance or capacitive reactance.
  • the main capacitive elements 1500 and 1600 and the auxiliary capacitive elements are a ceramic capacitor having good high frequency characteristics or a multilayer ceramic capacitor (MLCC) in which a plurality of capacitors are connected in series and/or in parallel.
  • MLCC multilayer ceramic capacitor
  • Layer Ceramic Capacitor or a capacitor array may be included.
  • the auxiliary capacitive element may electrically or physically connect the plurality of antenna segments.
  • one end of the first auxiliary capacitive element 1711 is connected to one end of the first antenna segment 1110
  • the other end of the first auxiliary capacitive element 1711 is the second antenna. It may be connected to one end of the segment 1120 .
  • the first antenna segment 1110 has a first radius of curvature RC1 from one end of the first auxiliary capacitive element 1711 and extends by a first length
  • the second antenna segment 1120 is a first auxiliary capacitive element It has a first radius of curvature RC1 from the other end of 1711 and may extend by a first length.
  • the first antenna segment 1110 extends from one end of the first auxiliary capacitive element 1711 by a first length with a first radius of curvature RC1
  • the second antenna segment 1120 includes the first auxiliary capacitive element 1711
  • a second radius of curvature RC2 may extend from the other end of the capacitive element 1711 by a first length.
  • the first radius of curvature RC1 and the second radius of curvature RC2 may be the same or different from each other.
  • the first antenna segment 1110 has a first radius of curvature RC1 from one end of the first auxiliary capacitive element 1711 and extends by a first length
  • the second antenna segment 1120 is the first It may extend from the other end of the auxiliary capacitive element 1711 by a second length with a first radius of curvature RC1 .
  • the first length and the second length may be the same or different from each other.
  • An auxiliary capacitive element may be disposed between the antenna segments.
  • the first to third auxiliary capacitive elements 1711 between the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 in the first turn of the antenna structure 1000 . , 1712, 1713) may be disposed.
  • the first auxiliary capacitive element 1711 may be disposed between the first antenna segment 1110 and the second antenna segment 1120 .
  • a second auxiliary capacitive element 1712 may be disposed between the second antenna segment 1120 and the third antenna segment 1130 .
  • a third auxiliary capacitive element 1713 may be disposed between the third antenna segment 1130 and the fourth antenna segment 1140 .
  • fourth to sixth auxiliary capacitive elements 1721 , 1722 , and 1723 may be disposed between the fifth to eighth antenna segments 1210 , 1220 , 1230 , and 1240 .
  • the fourth auxiliary capacitive element 1721 may be disposed between the fifth antenna segment 1210 and the sixth antenna segment 1220 .
  • a fifth auxiliary capacitive element 1722 may be disposed between the sixth antenna segment 1220 and the seventh antenna segment 1230 .
  • a sixth auxiliary capacitive element 1723 may be disposed between the seventh antenna segment 1230 and the eighth antenna segment 1240 .
  • the first storage capacitive element 1711 is disposed adjacent to the second storage capacitor 1712 in an arc direction and adjacent to the fourth storage capacitor 1721 in a direction perpendicular to the central axis CA.
  • the second storage capacitive element 1712 is adjacent to the first storage capacitive element 1711 and the third storage capacitive element 1713 in an arc direction, and is adjacent to the fifth storage capacitive element 1722 and the central axis CA. may be disposed adjacent to each other in a direction perpendicular to the .
  • the third storage capacitive element 1713 may be disposed adjacent to the second storage capacitor 1712 in an arc direction and adjacent to the sixth storage capacitor 1723 in a direction perpendicular to the central axis CA. have.
  • the auxiliary capacitive element may be arranged to have a specific positional relationship with the antenna segment.
  • the first auxiliary capacitive element 1711 may be disposed to pass through an imaginary line connecting the other end of the first antenna segment 1110 and one end of the second antenna segment 1120 .
  • the first auxiliary capacitive element 1711 is connected to the first antenna segment 1110 and the second antenna segment 1120 through an electrical connection member such as a wire, and compared to the connected antenna segment, the central axis ( CA) may be further spaced apart.
  • the first storage capacitive element 1711 may be disposed between the first turn and the second turn. Specifically, the first storage capacitive element 1711 may be disposed at a distance greater than the first radius of curvature RC1 and smaller than the second radius of curvature RC2 from the central axis CA.
  • the auxiliary capacitive element may be disposed in a plane different from the plane in which the antenna segment is disposed.
  • at least one of the first to sixth storage capacitive elements 1711 , 1712 , 1713 , 1721 , 1722 , and 1723 may be disposed to be spaced apart from the first plane P1 by a preset distance.
  • the preset distance may consider the volume or size of the auxiliary capacitive element.
  • the auxiliary capacitive element may be disposed to have a predetermined positional relationship between the antenna segments.
  • at least two of the first to sixth storage capacitive elements 1711 , 1712 , 1713 , 1721 , 1722 , and 1723 may be arranged to be symmetrical with respect to the central axis CA.
  • the first storage capacitive element 1711 and the third storage capacitive element 1713 may be symmetrical with respect to the central axis CA.
  • the storage capacitor of the first turn and the storage capacitor of the second turn may be disposed at positions corresponding to each other.
  • an extension line connecting the first storage capacitive element 1711 and the fourth storage capacitive element 1721 may meet the central axis CA.
  • an extension line connecting the first storage capacitive element 1711 and the fourth storage capacitive element 1721 may pass through the third storage capacitive element 1713 and the sixth storage capacitive element 1723 .
  • the extension line connecting the first storage capacitive element 1711 and the fourth storage capacitive element 1721 and the extension line connecting the second storage capacitive element 1712 and the fifth storage capacitive element 1722 are It may meet within a preset range from the central axis CA, or may be in a twisted position.
  • the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 may be electrically connected to each other through the first to third auxiliary capacitive elements 1711 , 1712 , and 1713 in a manner similar to that described above.
  • the fifth to eighth antenna segments 1210 , 1220 , 1230 , and 1240 may be electrically connected through fourth to sixth auxiliary capacitive elements 1721 , 1722 , and 1723 .
  • the number of auxiliary capacitive elements may be set based on the number of layers, the number of turns, and the number of antenna segments of the antenna structure 1000 .
  • the antenna structure 1000 may include seven auxiliary capacitive elements.
  • a plurality of turns constituting the antenna structure 1000 may each include a different number of antenna segments.
  • the antenna structure 1000 includes a first turn including first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 , and fifth to tenth antenna segments 1210 , 1220 , 1230 . , 1240, 1250, 1260) may include a second turn.
  • each antenna segment in the antenna structure 1000 may have substantially the same length or different lengths.
  • both the antenna segment of the first turn and the antenna segment of the second turn may have the same length.
  • each of the antenna segments of the first turn may have a first length
  • each of the antenna segments of the second turn may have a second length that is shorter than the first length.
  • the first length and the second length may be set based on the radius of curvature of each turn.
  • the antenna segments constituting each turn of the antenna structure 1000 do not necessarily extend to the same length.
  • each turn in the antenna structure 1000 may include a different number of auxiliary capacitive elements.
  • the first turn of the antenna structure 1000 includes first to third storage capacitors 1711 , 1712 , and 1713
  • the second turn includes fourth to eighth storage capacitors. It may include sexual elements 1721 , 1722 , 1723 , 1724 , and 1725 .
  • the auxiliary capacitive element included in the first turn and the auxiliary capacitive element included in the second turn of the antenna structure 1000 may have a preset positional relationship.
  • at least one of the storage capacitive elements included in the first turn and at least one of the storage capacitor elements included in the second turn may be positioned in a straight line.
  • the second auxiliary capacitive element 1712 of the first turn and the sixth auxiliary capacitive element 1723 of the second turn of the antenna structure 1000 have a central axis CA. It may be disposed within a preset area from a straight line perpendicular to and passing through the center of the antenna structure 100 .
  • the positional relationship between the auxiliary capacitive elements in the antenna structure 1000 is not limited to the above-described case, and the auxiliary capacitive elements in the antenna structure 1000 may be arbitrarily disposed regardless of a specific positional relationship with each other.
  • Each of the plurality of layers constituting the antenna structure 1000 may include a different number of antenna segments and a different number of auxiliary capacitive elements.
  • the number of antenna segments and the number of auxiliary capacitive elements included in different layers may be set in a similar manner to the above-described method in which the number of antenna segments and auxiliary capacitive elements included in different turns is set.
  • Auxiliary capacitive elements may be placed between the turns to electrically or physically connect the antenna segments.
  • the auxiliary capacitive element may be disposed between the first turn and the second turn to electrically connect the first turn and the second turn.
  • the first inter-turn capacitive element 1731 may connect the fourth antenna segment 1140 constituting the first turn and the fifth antenna segment 1210 constituting the second turn in series.
  • the first inter-turn capacitive element 1731 may be connected to the antenna segment directly or through a separate connection portion such as a conducting wire, whereby the antenna segment connected to the first inter-turn capacitive element 1731 is connected to another antenna segment It may have a shorter or longer length.
  • the first inter-turn capacitive element 1731 may connect the first antenna segment 1110 constituting the first turn and the eighth antenna segment 1240 constituting the second turn in series.
  • the antenna structure 1000 may be wound from an inner turn to an outer turn in a counterclockwise direction based on a direction from the first plane P1 to the second plane P2 .
  • the inter-turn capacitive element may have a shape different from that of other auxiliary capacitive elements or may have a separate connection part to connect the turns.
  • one end and the other end of the first inter-turn capacitive element 1731 may be spaced apart from each other by different distances from the central axis CA.
  • one end of the first inter-turn capacitive element 1731 connected to the fourth antenna segment 1140 of the first turn has a first inter-turn capacitive element connected to the fifth antenna segment 1210 of the second turn ( 1731) may have a shorter separation distance from the central axis CA than the other end.
  • the first inter-turn capacitive element 1731 includes a first connector extending from one end of the first inter-turn capacitive element 1731 to the fourth antenna segment 1140 and the other end of the first inter-turn capacitive element 1731 .
  • the first connection part and the second connection part may include straight or curved conducting wires and may be spaced apart from each other by different distances from the central axis CA.
  • the antenna structure 1000 includes an inter-turn capacitive element, all antenna segments in the antenna structure 1000 can be electrically connected.
  • the main capacitive elements 1500 and 1600 may physically or electrically connect the antenna segment and the RF power source 200 .
  • the first main capacitive element 1500 electrically connects the first antenna segment 1110 and the first terminal of the inverter 230
  • the second main capacitive element ( 1600 may electrically connect the eighth antenna segment 1240 and the second terminal of the inverter 230 .
  • the first main capacitive element 1500 electrically connects the fourth antenna segment 1140 and the first terminal of the inverter 230 to the second main capacitive element 1600 .
  • the antenna structure 1000 when the antenna structure 1000 is implemented in a first turn including the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 , the first antenna segment 1110 and the fourth antenna segment 1140 .
  • One of them is electrically connected to the first terminal of the inverter 230 through the first main capacitive element 1500 and the other is the second terminal of the inverter 230 through the second main capacitive element 1600 . can be electrically connected to.
  • the main capacitive elements 1500 and 1600 may have a specific shape or have a separate connection part to connect the RF power source 200 and the antenna structure 1000 .
  • the first main capacitive element 1500 may extend from one end of the first antenna segment 1110 in a direction parallel to the central axis CA.
  • the first main capacitive element 1500 may extend from one end of the first antenna segment 1110 in a direction away from the central axis CA.
  • at least a portion of the first main capacitive element 1500 when viewed in a direction perpendicular to the first plane P1 , at least a portion of the first main capacitive element 1500 includes the first inter-turn capacitive element 1731 and the antenna. It may be arranged to overlap at least a portion of the segment.
  • the second main capacitive element 1600 may extend parallel to the first plane P1 from the other end of the eighth antenna segment 1240 .
  • the second main capacitive element 1600 may extend from the other end of the eighth antenna segment 1240 in a direction parallel to the central axis CA.
  • the RF power source 200 may provide electrical elements corresponding to the main capacitive elements 1500 and 1600 . Also, at least some of the auxiliary capacitive elements may be omitted.
  • the main capacitive elements 1500 and 1600 and the auxiliary capacitive elements may be disposed to be spaced apart from the antenna segment by a predetermined distance.
  • the auxiliary capacitive element may be connected to the antenna segment through a separate connection part such as a conductor or a conductive wire while being spaced apart from the antenna segment by a predetermined distance.
  • a direction in which current flows in the antenna structure 1000 may be determined according to a method in which the main capacitive elements 1500 and 1600 and the auxiliary capacitive elements are connected to the antenna segment.
  • the first main capacitive element 1500 is connected in series with the first antenna segment 1110 and the fourth antenna segment 1140 and the fifth antenna segment 1210 are connected to the first It is connected in series through the inter-turn capacitive element 1731, and when power is applied to the antenna structure 1000 when the second main capacitive element 1600 is connected in series with the eighth antenna segment 1240, the first turn and the second turn In both turns, current can flow in the same direction (clockwise or counterclockwise).
  • the first main capacitive element 1500 is connected in series with the fourth antenna segment 1140 , and the first antenna segment 1110 and the eighth antenna segment 1210 are connected to the first It is connected in series through the inter-turn capacitive element 1731, and when power is applied to the antenna structure 1000 when the second main capacitive element 1600 is connected in series with the fifth antenna segment 1210, the first turn and the second turn In both turns, current can flow in the same direction (clockwise or counterclockwise).
  • the intensity of the induced electric field for plasma generation may be increased compared to the case in which current flows in different directions in the first turn and the second turn, and the antenna segment As the potential difference between them is reduced, the effect of the parasitic capacitor can be reduced.
  • the antenna structure 1000 may generate plasma by receiving an AC signal having a variable driving frequency from the RF power source 200 through the main capacitive elements 1500 and 1600 .
  • the driving frequency of the AC signal applied to the antenna structure 1000 may vary with time based on the resonance frequency of the antenna structure 1000 and a load including the plasma.
  • the auxiliary capacitive element may have a predetermined capacitance or capacitance.
  • the capacitance of the auxiliary capacitive element may be set based on at least one of the driving frequency range of the RF power source 200 , the resonant frequency that the antenna structure 1000 must have, the number of antenna segments, and the inductance of the antenna segment. have.
  • the antenna structure 1000 has a resonance frequency f_r and the total inductance of the antenna inductance in the antenna structure 1000 is L_tot
  • the capacitance of the auxiliary capacitive element may be set such that the total capacitance C_tot satisfies Equation (1) below.
  • the capacitance C_a of each of the auxiliary capacitive elements is equivalent to the capacitance due to the series connection of the first main capacitive element 1500 and the second main capacitive element 1600 is equivalent to one auxiliary capacitive element It may be set to a value obtained by multiplying C_tot satisfying Equation (1) by the number of antenna segments included in the antenna structure 1000 .
  • the capacitance C_a of each auxiliary capacitive element may be set to satisfy the following equation (2) when the resonance frequency of the antenna structure 1000 is set to f_r and the inductance of each antenna segment is L_a.
  • the capacitance of each auxiliary capacitive element can be set to about 1 nF. have.
  • the antenna structure 1000 may perform a resonance condition at a driving frequency of about 3.3 MHz. satisfies and can be driven.
  • each antenna segment of the antenna structure 1000 has a potential value within a predetermined range, so that the potential difference between the antenna segments can be reduced.
  • the electrostatic electric field due to capacitive coupling is reduced, so that power consumption of the antenna structure 1000 is reduced, and durability of the plasma system 10 or safety of plasma can be improved.
  • the auxiliary capacitive element is disposed between the antenna segments in the antenna structure 1000 , the potential of each antenna segment will be described later.
  • the main capacitive elements 1500 and 1600 may have a predetermined electric capacity or an electrostatic capacity.
  • the capacitance of the main capacitive elements 1500 and 1600 is the driving frequency range of the RF power source 200 , the resonant frequency that the antenna structure 1000 must have, the number of antenna segments, the inductance of the antenna segment, and the auxiliary capacitance. It may be set based on at least one of the capacitance of each element. Specifically, when the capacitance of the first main capacitive element 1500 is C1, the capacitance of the second main capacitive element 1600 is C2, and the capacitance of each auxiliary capacitive element is C_a, C1 and C2 are It can be set to satisfy a specific condition. More specifically, C1 and C2 may be set to satisfy the following Equation (3).
  • the maximum voltage applied to the antenna segment in the antenna structure 1000 is lowered and the resonance effect is improved to improve the stability and efficiency of the plasma system 10 . This can be increased.
  • the antenna structure 1000 is implemented with four antenna segments arranged in two turns has been described as the main embodiment, but the technical idea of the present specification is not limited thereto, and a plurality of antenna segments each having a plurality of antenna segments are described as a main embodiment.
  • the main capacitive elements 1500 and 1600 and the auxiliary capacitive elements may be disposed similarly to the above-described method in the antenna structure 1000 implemented with a turn of .
  • the antenna structure 1000 is implemented in a tubular shape and may include an antenna segment, a first main capacitive element 1500 , a second main capacitive element 1600 , and an auxiliary capacitive element. have.
  • a tubular antenna structure may be understood as a plurality of antenna structures disposed on different planes and physically or electrically connected to each other.
  • the antenna segment included in the tubular antenna structure 1000 may be arranged in a plurality of layers.
  • the antenna segment may be disposed in two layers on the first plane P1 and the second plane P2 based on the central axis CA.
  • the first layer may include first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 and 1140
  • the second layer may include ninth to twelfth antenna segments 1310 , 1320 , 1330 , 1340 .
  • the antenna segment of the first layer may have a first radius of curvature RC1
  • the antenna segment of the second layer may have a radius of curvature corresponding to the first radius of curvature RC1 .
  • the second plane P2 may mean a virtual plane perpendicular to the central axis CA or meeting at a point.
  • the second plane P2 may mean a plane parallel to the first plane P1 .
  • Each of the antenna segments of the second layer may be disposed to correspond to each of the antenna segments of the first layer.
  • the ninth to twelfth antenna segments 1310 , 1320 , 1330 , and 1340 may be respectively disposed in the first to fourth quadrants of the second plane P1 .
  • the antenna segment of the second layer may extend to a length corresponding to the length of the antenna segment of the first layer.
  • the ninth antenna segment 1310 may extend to the first length.
  • the central angle between the first antenna segment 1110 extending to the first length and the central axis CA is similarly the ninth antenna segment 1310 extending to the first length in the second plane P2 is the central axis ( CA) and may correspond to the central angle formed.
  • the distance between the first layer and the second layer may be set based on a parasitic capacitance that may occur between the antenna segments.
  • the distance between the first layer and the second layer is a distance at which parasitic capacitance effects are minimized between the first antenna segment 1110 and the ninth antenna segment 1310 when power is applied to the antenna structure 1000 .
  • the distance between the first layer and the second layer may be set within a range of 0.5 mm to 1.5 mm.
  • the distance between the first layer and the second layer may be set to a distance for preventing interlayer arc discharge from occurring when the plasma system 10 is driven at a specific driving frequency.
  • the inductance of the antenna segment of the second layer may be set based on the inductance of the antenna segment of the first layer.
  • the inductance of the ninth antenna segment 1310 may correspond to the inductance of the first antenna segment 1110 .
  • the inductance of the ninth antenna segment 1310 may be set to be greater than the inductance of the first antenna segment 1110 .
  • the antenna structure 1000 implemented in a tubular shape may be disposed around the plasma generator 2000 .
  • the antenna segment may be disposed around the plasma generator 2000 .
  • the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 and the ninth to twelfth antenna segments 1310 , 1320 , 1330 , and 1340 may be disposed to contact the plasma generator 2000 . .
  • the antenna structure 1000 implemented in a tubular shape may include an auxiliary capacitive element.
  • the first to third auxiliary capacitive elements 1711 between the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , and 1140 in the first layer of the antenna structure 1000 . , 1712, 1713) may be disposed.
  • the first auxiliary capacitive element 1711 may be disposed between the first antenna segment 1110 and the second antenna segment 1120 .
  • a second auxiliary capacitive element 1712 may be disposed between the second antenna segment 1120 and the third antenna segment 1130 .
  • a third auxiliary capacitive element 1713 may be disposed between the third antenna segment 1130 and the fourth antenna segment 1140 .
  • Seventh to ninth auxiliary capacitive elements 1751 , 1752 , and 1753 may be disposed between the ninth to twelfth antenna segments 1310 , 1320 , 1330 , and 1340 in the second layer of the antenna structure 1000 .
  • the seventh auxiliary capacitive element 1751 may be disposed between the ninth antenna segment 1310 and the tenth antenna segment 1320 .
  • An eighth auxiliary capacitive element 1752 may be disposed between the tenth antenna segment 1320 and the eleventh antenna segment 1330 .
  • the ninth auxiliary capacitive element 1753 may be disposed between the eleventh antenna segment 1330 and the twelfth antenna segment 1340 .
  • the seventh storage capacitive element 1751 is disposed adjacent to the eighth storage capacitive element 1752 in an arc direction and adjacent to the first storage capacitive element 1711 in a direction parallel to the central axis CA.
  • the eighth storage capacitive element 1752 is adjacent to the seventh storage capacitive element 1751 and the ninth storage capacitive element 1753 in a circular arc direction, and has a central axis CA with the second storage capacitive element 1712 . may be disposed adjacent to in a direction parallel to .
  • the ninth storage capacitive element 1753 may be disposed adjacent to the eighth storage capacitive element 1752 in an arc direction and adjacent to the third storage capacitive element 1713 in a direction parallel to the central axis CA. have.
  • the auxiliary capacitive elements may be arranged to have a predetermined positional relationship with each other between the layers.
  • at least two of the first to third storage capacitive elements 1711 , 1712 , and 1713 and seventh to ninth storage capacitive elements 1751 , 1752 and 1753 are central axes. It may be arranged on an imaginary line parallel to (CA).
  • an imaginary extension line connecting the first storage capacitive element 1711 and the seventh storage capacitive element 1751 may be parallel to the central axis CA.
  • the storage capacitor of the first layer and the storage capacitor of the second layer may be disposed at positions corresponding to each other.
  • An imaginary extension line connecting the other one of the first to third storage capacitive elements 1711, 1712, and 1713 and the other one of the seventh to ninth storage capacitive elements 1751, 1752, and 1753 is the central axis CA. Alternatively, they may be in a location where they meet within a preset area from the central axis CA or are twisted with each other.
  • the auxiliary capacitive element may be attached to or spaced apart from the plasma generator 2000 .
  • the first storage capacitive element 1711 may be disposed to be spaced apart from the central axis CA by the first radius of curvature RC1 to contact the plasma generator 2000 .
  • the first storage capacitive element 1711 may be spaced apart from the central axis CA by a distance greater than the first radius of curvature RC1 so as not to contact the plasma generator 2000 .
  • the auxiliary capacitive element disposed in the tubular antenna structure 1000 may include an interlayer capacitive element.
  • the first layer and the second layer may be electrically connected in series via a first interlayer capacitive element 1741 .
  • the first interlayer capacitive element 1741 may connect the fourth antenna segment 1140 constituting the first layer and the ninth antenna segment 1310 constituting the second layer in series.
  • the first interlayer capacitive element 1741 connects the first antenna segment 1110 constituting the first layer and the twelfth antenna segment 1340 constituting the second layer in series.
  • the interlayer capacitive element may have a shape different from that of other auxiliary capacitive elements to connect the layers, or may have a separate connection part.
  • one end and the other end of the first interlayer capacitive element 1741 may be located on different planes.
  • one end of the first interlayer capacitive element 1741 connected to the fourth antenna segment 1140 of the first layer is located on the first plane P1
  • the ninth antenna segment 1310 of the second layer and The other end of the connected first interlayer capacitive element 1741 may be located on the second plane P2 .
  • the first interlayer capacitive element 1741 includes a third connection part extending from one end of the first interlayer capacitive element 1741 to the fourth antenna segment 1140 and the other end of the first interlayer capacitive element 1741 .
  • the third connection part and the fourth connection part may include a straight or curved conducting wire, and may be attached to the plasma generator 2000 or may be spaced apart from each other by a predetermined distance.
  • the antenna segment connected to the first interlayer capacitive element 1741 may have a shorter or longer length than other antenna segments.
  • the antenna structure 1000 includes an interlayer capacitive element, all antenna segments in the antenna structure 1000 may be electrically connected.
  • the tubular antenna structure 1000 may be physically or electrically connected to the RF power source 200 through the main capacitive elements 1500 and 1600 .
  • the first antenna segment 1110 is electrically connected to a first terminal of the inverter 230 through a first main capacitive element 1500 and a twelfth antenna segment 1340 . may be electrically connected to the second terminal of the inverter 230 through the second main capacitive element 1600 .
  • the fourth antenna segment 1140 is electrically connected to the first terminal of the inverter 230 through the first main capacitive element 1500
  • the ninth antenna segment 1310 is connected to the second main capacitive element 1600 .
  • a direction in which current flows in the antenna structure 1000 may be determined according to a method in which the main capacitive elements 1500 and 1600 and the auxiliary capacitive elements are connected to the antenna segment.
  • the first main capacitive element 1500 is connected in series with the first antenna segment 1110 and the fourth antenna segment 1140 and the ninth antenna segment 1310 are connected to the first It is connected in series through the interlayer capacitive element 1741, and when power is applied to the antenna structure 1000 when the second main capacitive element 1600 is connected in series with the twelfth antenna segment 1340, the first layer and the second In the second layer, current can flow in the same direction (clockwise or counterclockwise).
  • the intensity of the induced electric field for plasma generation may increase compared to when current flows in different directions in the first layer and the second layer, and the antenna segment As the potential difference between them is reduced, the effect of the parasitic capacitor can be reduced.
  • the antenna structure 1000 implemented in a tubular shape may include a plurality of turns and antenna segments disposed in a plurality of layers.
  • the antenna structure 1000 implemented in a tubular shape is disposed in the first to fourth antenna segments 1110 , 1120 , 1130 , 1140 disposed in the first turn of the first layer, and in the second turn of the first layer.
  • It may include thirteenth to sixteenth antenna segments 1410 , 1420 , 1430 , and 1440 , main capacitive elements 1500 and 1600 , and auxiliary capacitive elements disposed in the .
  • antenna segments may be arranged in a plurality of turns and a plurality of layers in the same/similar manner to those described in FIGS. 7 to 9 .
  • the auxiliary capacitive element disposed in the antenna structure 1000 implemented in the above-described multi-turn and multi-layer structure may include an inter-turn capacitive element and an interlayer capacitive element.
  • the antenna structure 1000 implemented as a multi-turn, multi-layer is a first inter-turn capacitive element 1731 that connects turns in a first layer, and a capacitive element 1731 that connects turns in a second layer. It may include a second inter-turn capacitive element 1733 and a first interlayer capacitive element 1741 connecting the first layer and the second layer.
  • the antenna structure 1000 may include a plurality of interlayer capacitive elements or interlayer connections.
  • the plurality of interlayer capacitive elements or interlayer connections may be arranged to have a predetermined positional relationship with each other.
  • the interlayer capacitive elements may be disposed to be rotated by a predetermined angle with respect to the central axis CA.
  • the first interlayer capacitive element 1741 connecting the first layer and the second layer connects the second interlayer capacitive element (not shown) connecting the second layer and the third layer to the central axis CA. It may be arranged to have a predetermined angle as a reference.
  • the plurality of interlayer capacitive elements or interlayer connection units may connect the antenna segments so that the inter-turn connection region where turns are connected to each other in each layer has a predetermined angle with respect to the central axis CA.
  • the first interlayer capacitive element 1741 when the fourth antenna segment 1140 of the first turn and the fifth antenna segment 1210 of the second turn are connected via an auxiliary capacitive element. may connect the eighth antenna segment 1240 and the tenth antenna segment 1320
  • the second inter-turn capacitive element 1733 may connect the ninth antenna segment 1310 and the fourteenth antenna segment 1420 .
  • the inter-turn connection region is a region where two different turns are connected in each layer, the plasma generator 2000 does not come into contact with the antenna segment in the inter-turn connection region, so it may be difficult to obtain a cooling effect by the coolant flowing in the antenna segment. .
  • the inter-turn connection region where the turns are connected to each other in the plurality of layers forms a predetermined angle, the region in which the plasma generator 2000 is not cooled may be differently dispersed for each layer.
  • the direction of the current flowing in each turn of each layer may be determined according to the method in which the main capacitive elements 1500 and 1600 and the auxiliary capacitive elements and the antenna segment are connected. have. For example, referring back to FIG.
  • the first main capacitive element 1500 is connected in series with the first antenna segment 1110 and the fourth antenna segment 1140 and the fifth antenna segment 1210 are connected to the first It is connected in series through an inter-turn capacitive element 1731 , an eighth antenna segment 1240 and a ninth antenna segment 1310 are connected in series through a first interlayer capacitive element 1741 , and a twelfth antenna segment 1340 is connected in series through a first interlayer capacitive element 1741 .
  • the first main capacitive element 1500 is connected in series with the first antenna segment 1110 and the fourth antenna segment 1140 and the fifth antenna segment 1210 are connected to the first inter-turn capacitive element 1731 .
  • the eighth antenna segment 1240 and the thirteenth antenna segment 1410 are connected in series through the first interlayer capacitive element 1741, and the sixteenth antenna segment 1440 and the ninth antenna segment ( When power is applied to the antenna structure 1000 when the 1310 is serially connected through the second inter-turn capacitive element 1733 and the second main capacitive element 1600 is connected in series with the twelfth antenna segment 1340 Current may flow in the same direction (clockwise or counterclockwise) in the first turn of the first layer, the second turn of the first layer, the first turn of the second layer, and the second turn of the second layer.
  • the intensity of the induced electric field for plasma generation can be increased compared to when the current flows in different directions, and the potential difference between the antenna segments is reduced, so that the parasitic capacitor can reduce the impact.
  • the antenna structure 1000 implemented in multi-turn, multi-layer includes four antenna segments per turn, includes two turns per layer, and is implemented in a total of two layers has been described as the main embodiment, but the technical The concept is not limited thereto, and the antenna structure 1000 includes p antenna segments per turn, includes q turns per layer, and may be implemented as a total of r layers (p, q, and r are natural numbers). It goes without saying that the same/similar content may be applied.
  • the antenna structure 1000 includes a plurality of antenna segments extending from one end to the other end in one direction along a circular arc as shown in FIGS. 7 to 10 and storage capacity. It is assumed that a sexual element is included, but the technical spirit of the present specification is not limited thereto.
  • FIG. 11 is a diagram of an equivalent circuit of the antenna structure 1000 according to an embodiment of the present specification.
  • the equivalent circuit of the antenna structure 1000 may include a circuit in which a capacitor and an inductor are alternately connected in series.
  • the voltage or potential difference of any one node in the antenna structure 1000 equivalent circuit may be set based on AC power or an AC signal applied from the RF power source 200 to the antenna structure 1000 .
  • a potential difference at one node in the antenna structure 1000 may vibrate with an amplitude of V or less.
  • the voltage for each position may mean a voltage with respect to the reference node at the position of the antenna segment in the antenna structure 1000 .
  • the voltage for each position may mean a voltage with respect to the reference node at one end, the other end, or a specific node between one end and the other end of each antenna segment at a point in time after AC power is applied to the antenna structure 1000 . .
  • the reference node may mean a point serving as a reference for calculating the voltage for each location.
  • the reference node may include a ground node, a first terminal or a second terminal of the RF power source 200 , one end or the other end, and a point in the antenna structure 1000 .
  • the case where the reference node is one end of the RF power source 200 is calculated and described for convenience of explanation, but the technical spirit of the present specification is not limited thereto, and even if the reference node is set differently, the same/similar application may be applied. .
  • FIG. 12 is a view related to a graph showing a potential according to a position within the antenna structure 1000 according to an embodiment of the present specification.
  • the antenna segments in the antenna structure 1000 when antenna segments in the antenna structure 1000 are connected in series without a capacitive element, the antenna segments may have voltages in different ranges at any point in time.
  • the first antenna segment 1110 and the fifth antenna segment 1210 adjacent to each other have different sizes as AC power is applied. voltage can be applied. In this case, the effect of the parasitic capacitor between the first and fifth antenna segments 1110 and 1210 may increase, which may be undesirable for plasma induction.
  • FIG. 13 is a diagram illustrating a graph showing a voltage according to a position in the antenna structure 1000 including a capacitive element according to an embodiment of the present specification.
  • the antenna structure 1000 includes a first node N1 to which a first main capacitive element 1500 and a first antenna segment 1110 are connected, a first antenna segment 1110 , and a first auxiliary element.
  • FIG. 13 is a graph showing the maximum voltage applied to the antenna segment when AC power is applied to the antenna structure 1000, and the illustrated symbols may mean phase differences.
  • the voltage of FIG. 13 may mean a voltage at a time point having a maximum voltage for each position in the antenna structure 1000 .
  • the maximum voltage in the AC waveform can be divided into a positive value and a negative value, and the graph of FIG. 13 shows the antenna structure ( 1000) can be interpreted as indicating the voltage for each location within the range.
  • the first node N1 and the second node N2 having the maximum voltages of -V' and +V' have the maximum voltage as much as V', which is an absolute value, and AC voltages with opposite signs are applied.
  • voltages of nodes corresponding to each other in the antenna structure 1000 may correspond to each other.
  • voltages of the first node N1 and the third node N3 may correspond to each other.
  • the maximum voltages of the first node N1 and the third node N3 may correspond to each other.
  • Voltages of the second node N2 and the fourth node N4 may correspond to each other.
  • the maximum voltages of the second node N2 and the fourth node N4 may correspond to each other.
  • a voltage at one end of the first antenna segment 1110 and a voltage at one end of the second antenna segment 1120 may correspond to each other.
  • the voltage at one end of the first storage capacitive element 1711 and the voltage at one end of the second storage capacitive element 1712 may correspond to each other.
  • the voltage at one end of the first antenna segment 1110 and the voltage at one end of the fifth antenna segment 1210 or the ninth antenna segment 1310 adjacent to the first antenna segment 1110 may correspond to each other.
  • the effective values of the voltages of the nodes corresponding to each other may correspond to each other.
  • the effective values of the voltages of the first node N1 and the third node N3 and the effective values of the voltages of the second node N2 and the fourth node N4 may correspond to each other, respectively.
  • the voltages of the plurality of nodes correspond to each other or the plurality of nodes have voltages corresponding to each other means that the plurality of nodes have the same voltage or maximum voltage with respect to the reference node, or the voltages of the plurality of nodes with respect to the reference node or This may mean a case in which the difference between the maximum voltages is within a preset range.
  • the plurality of antenna segments may include points corresponding to each other.
  • a first point Pt1 positioned between one end and the other end of the first antenna segment 1110 may correspond to a second point Pt1 positioned between one end and the other end of the second antenna segment 1120 .
  • the first point Pt1 in the first antenna segment 1110 is spaced apart from one end of the first antenna segment 1110 and the second point Pt2 is spaced apart from one end of the second antenna segment 1120 .
  • the distances may correspond to each other.
  • the first point Pt1 in the first antenna segment 1110 may correspond to a third point (not shown) in the fifth antenna segment 1210 .
  • the angle formed by one end of the first antenna segment 1110 , the central axis CA and the first point Pt1 and the angle formed by the one end of the fifth antenna segment 1210 , the central axis CA and the third point are can correspond to each other.
  • the extension line connecting the first point Pt1 and the third point may meet or be twisted with the central axis CA.
  • the first point Pt1 in the first antenna segment 1110 may correspond to a fourth point (not shown) in the ninth antenna segment 1310 .
  • the extension line connecting the first point Pt1 and the fourth point may be parallel to or twisted with the central axis CA.
  • Points corresponding to each other in the plurality of antenna segments described above may have voltages corresponding to each other.
  • points corresponding to each other in the plurality of antenna segments may have effective voltages corresponding to each other.
  • the influence of the parasitic capacitance may be reduced by having voltages corresponding to each other at points corresponding to each other.
  • the voltages of the plurality of points correspond to each other or the plurality of points have voltages corresponding to each other means that the plurality of points have the same voltage or maximum voltage with respect to the reference node, or the voltages of the plurality of nodes with respect to the reference node or This may mean a case in which the difference between the maximum voltages is within a preset range.
  • the angles formed by the plurality of points with one end of each antenna segment and the central axis CA correspond to each other, the plurality of points rotate by the same or different angles from one end of each antenna segment with respect to the central axis CA. It may mean a case where the location is
  • the magnitude of the voltage at any point in the antenna segment may be smaller than the magnitude of the voltage at the node to which the antenna segment and the capacitive element are connected.
  • the maximum voltage at the first point Pt1 and the second point Pt2 may be smaller than that of the second node N2 or the fourth node N4 .
  • Voltages at any node or location within the antenna structure 1000 may have different phases or different signs at any point in time. For example, at one point in time, voltages of the first node N1 and the third node N2 have the same phase, and the first node N1 and the second node N2 have the same magnitude but have the same phase or sign. can have opposite voltages. As another example, the second node N2 and the third node N3 may have the same voltage but opposite in phase or sign.
  • the voltage for each position in the antenna structure 1000 may decrease as the number of auxiliary capacitive elements included in the antenna structure 1000 increases.
  • the voltage for each position in the antenna structure 1000 may be determined based on the inductance of the antenna segment included in the antenna structure 1000 or the capacitance of the auxiliary capacitive element.
  • the magnitude of the voltage applied to each antenna segment is determined to correspond to each other, thereby reducing the influence of the parasitic capacitor between adjacent antenna segments. can do it
  • the auxiliary capacitive element is disposed in the antenna structure 1000 , the magnitude of the voltage applied to the antenna segment decreases, so that power consumption by the antenna structure 1000 is reduced, and the safety of the plasma system 10 is improved. can
  • the main capacitive elements 1500 and 1600 may reduce the amplitude of the voltage applied to the antenna structure 1000 .
  • the main capacitive elements 1500 and 1600 may lower the maximum amplitude of a voltage that can be applied to each antenna segment.
  • the maximum voltage at the node in the antenna structure 1000 with respect to the reference node may not become zero.
  • the first to fourth nodes N1 , N2 , N3 , and N4 may have a non-zero maximum voltage.
  • a voltage having the same amplitude may be applied at nodes within the antenna structure 1000 by the main capacitive elements 1500 and 1600 .
  • the first node N1 and the second node N2 may have a voltage having the same amplitude with respect to the reference node.
  • voltages having the same amplitude and different signs may be applied to the first node N1 and the second node N2 by the main capacitive elements 1500 and 1600 .
  • the main capacitive elements 1500 and 1600 may reduce a voltage or a maximum voltage applied to components in the antenna structure 1000 , thereby improving electrical durability of the antenna structure 1000 .
  • the temperature may increase while inductively coupled plasma is induced in the plasma generator 2000 by the antenna structure 1000 . Accordingly, the plasma generator 2000 may be damaged.
  • the antenna structure 1000 may include a coolant flow path to absorb heat from the plasma generator 2000 . At this time, the degree of absorbing heat generated by the plasma generator 2000 may vary according to the structure and shape of the antenna structure 1000 .
  • an antenna structure ( 1000) will be described with respect to the structure and shape.
  • FIG 14 is a view of the antenna structure 1000 having a rectangular cross-section according to an embodiment of the present specification.
  • A-A' is a view of a cross-section (A-A') of the antenna structure 1000 according to an embodiment of the present specification.
  • the antenna structure 1000 may include a turn antenna, an antenna end, an inter-turn connection part, and a tightening part 3400 .
  • the first to third turn antennas (3110, 3120, 3130), the first and second antenna ends (3310, 3320), the first and second inter-turn connection parts (3210, 3220) and the tightening part (3400) may include
  • the turn antenna may refer to an antenna forming one turn in the antenna structure 1000 .
  • the turn antenna may include first to third turn antennas 3110 , 3120 , and 3130 .
  • the first to third turn antennas 3110 , 3120 , and 3130 may be implemented in a circular shape or a ring shape having different radii of curvature based on the central axis CA.
  • the second turn antenna 3120 may be disposed to surround the first turn antenna 3110
  • the third turn antenna 3130 may be disposed to surround the second turn antenna 3120 .
  • the first to third turn antennas 3110 , 3120 , and 3130 may be disposed on a horizontal axis HA perpendicular to the central axis CA.
  • the first to third turn antennas 3110 , 3120 , and 3130 may be disposed to be spaced apart from each other by different distances from the horizontal axis HA.
  • the turn antenna may have a rectangular cross-section.
  • the technical spirit of the present specification is not limited thereto, and the cross-section of the turn antenna may be a polygonal shape, a circular shape, an elliptical shape, or a figure shape made of curved lines and straight lines in addition to a square shape.
  • the turn antenna may be physically or electrically connected to the RF power source 200 through an end antenna.
  • the first turn antenna 3110 may be physically or electrically connected to the first antenna end 3310
  • the first antenna end 3310 may be physically or electrically connected to one end of the RF power source 200 .
  • the third turn antenna 3130 may be physically or electrically connected to the second antenna end 3320
  • the second antenna end 3320 may be physically or electrically connected to the other end of the RF power source 200 . .
  • the turn antenna may be electrically or physically connected to another turn antenna through an inter-turn connection unit.
  • the first turn antenna 3110 may be electrically or physically connected to one end of the first inter-turn connection unit 3210
  • the second turn antenna 3120 may be electrically or physically connected to the other end of the first inter-turn connection unit 3210 .
  • the second turn antenna 3120 may be electrically or physically connected to one end of the second inter-turn connection unit 3220
  • the third turn antenna 3130 may be electrically or physically connected to the other end of the second inter-turn connection unit 3220 .
  • the antenna end may physically or electrically connect the turn antenna and the RF power source 200 .
  • the antenna end may include conductors extending in any direction.
  • the first antenna end 3310 extends in a direction parallel to the central axis CA and the second antenna end 3320 extends in a direction perpendicular to the central axis CA.
  • the technical spirit of the present specification is not limited thereto, and it goes without saying that the first and second antenna ends 3310 and 3320 may extend in any direction based on an inter-turn connection method.
  • the turn-to-turn connection part may be formed in various shapes.
  • the turn-to-turn connection part may have a curved or straight shape. The connection between turns will be described in detail later.
  • the tightening unit 3400 may prevent at least a portion of the antenna structure 1000 from being expanded or deformed.
  • the plasma generating unit 2000 may be deformed in shape, such as expanding by high-temperature thermal energy generated as plasma is induced, and accordingly, the antenna structure 1000 in close contact with the plasma generating unit 2000 also expands.
  • the shape of the back may be deformed, and the tightening part 3400 may prevent the antenna structure 1000 from being deformed.
  • the elastic tightening unit 3400 may be coupled to the first turn antenna 3110 adjacent to the plasma generating unit 2000 .
  • the antenna structure 1000 may be in close contact with the plasma generating unit 2000 by including the tightening unit 3400, and furthermore, even if plasma is induced, the antenna structure 1000 maintains a close contact state to increase the cooling efficiency performed by the antenna structure 1000 to be described later. can be increased
  • the tightening unit 3400 may provide a tightening force equal to or greater than a preset value to the antenna structure 1000 .
  • the tightening unit 3400 may include an object having elasticity or elasticity.
  • the tightening unit 3400 may include a metal having a length shorter than the length of the object to be tightened.
  • the antenna structure 1000 may cool the plasma generator 2000 using cooling water.
  • the turn antenna in the antenna structure 1000 may have a preset shape and include a coolant flow path.
  • the first to third turn antennas 3110 , 3120 , and 3130 include first to third cooling water passages CFP_1 , CFP_2 , and CFP_3 , respectively, and the first turn antenna 3110 is the plasma generator 2000 .
  • the cooling water moving through the first to third cooling water passages CFP_1 , CFP_2 , and CFP_3 may be used to absorb heat generated in the plasma generating unit 2000 .
  • the cooling water may include a fluid below a preset temperature.
  • the turn antenna may include an inner-diameter surface and an outer-diameter surface.
  • the first to third turn antennas 3110 , 3120 , and 3130 have first to third inner diameter surfaces 3111 , 3121 , 3131 and first to third outer diameter surfaces 3112 , 3122 , 3132 , respectively.
  • the inner and outer surfaces may be one of a plurality of surfaces forming the turn antenna.
  • the inner and outer surfaces may refer to the inner and outer surfaces of the turn antenna surrounding the central axis CA.
  • it may mean a facing surface disposed in a direction away from the central axis CA in the turn antenna, and the inner surface may be closer to the central axis CA of the antenna structure 1000 than the outer surface.
  • the cross-sectional shape of the turn antenna may be formed based on at least an inner diameter surface and an outer diameter surface.
  • the turn antenna may include an upper surface and a lower surface in addition to the inner and outer surfaces.
  • the cooling water passage may include surfaces corresponding to the inner and outer surfaces of the turn antenna, respectively.
  • the first coolant flow path CFP_1 may include a first surface S11 corresponding to the first inner diameter surface 3111 and a second surface S12 corresponding to the first outer diameter surface 3112 .
  • the cross-sectional shape of the first coolant flow path CFP_1 may be formed based on at least the first surface S11 and the second surface S12 .
  • the second coolant flow path CFP_2 may include a third surface S21 corresponding to the second inner diameter surface 3121 and a fourth surface S22 corresponding to the second outer diameter surface 3122 .
  • the cross-sectional shape of the second coolant flow path CFP_2 may be formed based on at least the third surface S21 and the fourth surface S22 .
  • the cooling water flow path may include an upper surface and a lower surface in addition to surfaces corresponding to the inner and outer diameter surfaces.
  • the cooling water flow path may be interpreted as being defined by the inner surface of the turn antenna.
  • one surface of the cooling water passage may be interpreted as being substantially the same as the inner surface of the turn antenna.
  • the first surface S11 and the second surface S12 of the first coolant flow path CFP_1 are the inner surfaces of the first turn antenna 3110, and the third surface S21 of the second coolant CFP_2. and the fourth surface S22 may be interpreted as an inner surface of the second turn antenna 3120 .
  • the antenna structure 1000 may absorb heat from the plasma generating unit 2000 through an inner diameter surface of the turn antenna in contact with the plasma generating unit 2000 and one surface of the cooling water passage corresponding thereto.
  • the antenna structure 1000 may be in surface contact with the plasma generator 2000 .
  • the first inner diameter surface 3111 of the first turn antenna 3110 is formed parallel to the outer wall or central axis CA of the plasma generator 2000 , and the first turn The antenna 3110 may make surface contact with the plasma generator 2000 through the first inner diameter surface 3111 .
  • the first surface S11 of the first coolant flow path CFP_1 corresponding to the first inner diameter surface 3111 is on the first inner diameter surface 3111 and the outer wall or the central axis CA of the plasma generator 2000 . It may be parallel, and the antenna structure 1000 may absorb heat from the plasma generator 2000 through the first inner diameter surface 3111 and the first surface S11 .
  • the cross section of the antenna structure 1000 that increases the cooling efficiency of the plasma generator 2000 may have a rectangular shape.
  • the cross-sections of the first to third turn antennas 3110 , 3120 , and 3130 are rectangular, and accordingly, the first to third inner diameter surfaces 3111 , 3121 , 3131 are The first to third outer diameter surfaces 3112 , 3122 , and 3132 may be parallel to each other.
  • the cross section of the coolant flow path may also have a rectangular shape.
  • the first inner surface 3111 , the first surface S11 , the second surface S12 , and the first outer surface 3112 may be parallel to each other. Accordingly, the distance between the first inner diameter surface 3111 and the first surface S11 may be the same within a certain range from the horizontal axis HA, and the distance between the second surface S12 and the first outer diameter surface 3112 . It may also be the same within a certain range from the horizontal axis HA.
  • the second inner diameter surface 3121 of the second turn antenna 3120 and the third surface S21 of the second cooling water passage CFP_2 are the first outer diameter surface 3112 of the first turn antenna 3110 and It may be parallel to the second surface S12 of the first coolant flow path CFP_1. Accordingly, the distance between the second surface S12 and the third surface S21 may be the same within a predetermined range from the horizontal axis HA.
  • the cross-section of the antenna structure 1000 has a rectangular shape
  • energy loss may occur between the turn antennas due to parasitic capacitors.
  • the first outer diameter surface 3112 of the first turn antenna 3110 and the second inner diameter surface 3121 of the second turn antenna 3120 are parallel to each other, the Energy loss may occur.
  • Energy loss due to the parasitic capacitor between the turn antennas may be changed according to the distance between the turns between the turn antennas.
  • the effect of the parasitic capacitor in the antenna structure 1000 is the first inter-turn distance TD_1 and the second turn antenna 3120 between the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 . and the second inter-turn distance TD_2 between the third turn antennas 3130 .
  • the antenna structure 1000 may reduce the effect of the parasitic capacitor by setting the inter-turn distance between the turn antennas within a preset range.
  • the preset range may be set in consideration of the influence of the parasitic capacitor and the entire width of the antenna structure 1000 .
  • the distance between turns may be set within a range of 0.5 mm to 3.5 mm.
  • the distance between turns can all be the same or have different values.
  • the first inter-turn distance TD_1 and the second inter-turn distance TD_2 may have the same value within a preset range.
  • the first inter-turn distance TD_1 and the second inter-turn distance TD_2 may have different lengths.
  • the first inter-turn distance TD_1 may have a greater or smaller value than the second inter-turn distance TD_2 .
  • 16 is a view of the antenna structure 1000 having a rectangular cross-section and a circular cross-section according to an embodiment of the present specification.
  • FIG 17 and 18 are views of cross-sections A-A' of the antenna structure 1000 having at least two types of cross-sectional shapes according to an embodiment of the present specification.
  • the antenna structure 1000 may include turn antennas having different shapes.
  • the antenna structure 1000 may include a first turn antenna 3110 having a rectangular cross-section and second and third turn antennas 3120 and 3130 having a circular cross-section.
  • the antenna structure 1000 may include a turn antenna in surface contact with the plasma generator 2000 .
  • the antenna structure 1000 may include a first turn antenna 3110 that makes surface contact with the plasma generator 2000 through the first inner diameter surface 3111 .
  • Turn antennas in the antenna structure 1000 may have surfaces that are not parallel to each other in order to reduce the effect of parasitic capacitors between the turn antennas.
  • the first inner diameter surface 3111 and the first outer diameter surface 3112 of the first turn antenna 3110 are parallel to the outer wall of the plasma generator 2000 , but the second turn antenna
  • the second inner diameter surface 3121 and the second outer diameter surface 3122 of 3120 may not be parallel to the plasma generator 2000 and the first inner diameter surface 3111 .
  • the antenna structure 1000 may include turn antennas having different cross sections in order to reduce the effect of parasitic capacitors between the turn antennas.
  • the antenna structure 1000 may include a first turn antenna 3110 having a rectangular cross section and a second turn antenna 3120 having a circular cross section.
  • the first cooling water passage CFP_1 has a rectangular cross section corresponding to the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120, respectively
  • the second cooling water passage CFP_2 has a circular cross section.
  • the cross section of the turn antenna is not limited to a rectangular shape or a circular shape, and may be a polygonal shape, a circular shape, an elliptical shape, or a figure shape made of curved lines and straight lines.
  • the effect of the parasitic capacitor may be reduced.
  • the distance between turns is the same, but the distance between the surfaces of the turn antenna may not be constant.
  • the first inter-turn distance TD_1 and the second inter-turn distance TD_2 are the same with respect to the horizontal axis HA. can be arranged to do so.
  • the distance between the first outer diameter surface 3112 of the first turn antenna 3110 and the first inner diameter surface 3121 of the second turn antenna 3120 may not be constant. have. Specifically, in FIG.
  • the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 As the distance increases in a direction parallel to the central axis CA or in the longitudinal direction of the plasma generator 2000 with respect to the horizontal axis HA, the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 . As the distance between them increases, the effect of the parasitic capacitor may be reduced compared to the case where the distance is constant. Alternatively, when the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 are disposed on the same plane, they are farther apart in a direction parallel to the central axis CA or in a longitudinal direction of the plasma generator 2000 on a plane basis. As the distance increases, the distance between the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 increases, so that the effect of the parasitic capacitor may be reduced compared to the case where the distance is constant.
  • the antenna structure 1000 may include a turn antenna including an inner surface and an outer surface having different shapes in order to reduce the effect of a parasitic capacitor between the turn antennas.
  • the first turn antenna 3110 in contact with the plasma generator 2000 includes a first inner diameter surface 3111 parallel to the outer wall of the plasma generator 2000 and an outer wall of the plasma generator 2000 . It may include a first outer diameter surface 3112 that is not parallel to .
  • the first turn antenna 3110 has a first inner diameter surface 3111 parallel to the outer wall of the plasma generator 2000 and a first outer diameter surface 3112 curved in a direction away from the central axis CA along the longitudinal direction. may include.
  • the first turn antenna 3110 may have a cross section made of a straight line and a curved line.
  • the first turn antenna 3110 may have a cross section of a combination of a quadrangle and a semicircle, a semicircle or a semiellipse shape.
  • the antenna structure 1000 including the turn antenna having the inner and outer surfaces or cross sections as described above can effectively reduce energy loss due to the parasitic capacitor internally while efficiently cooling the plasma generator 2000 .
  • the antenna structure 1000 in which the turn antenna is formed in three layers has been mainly described, but the technical idea of the present specification is not limited thereto, and one It can be similarly applied to the antenna structure 1000 having the above turn antenna. Furthermore, it may be similarly applied to the antenna structure 1000 having a plurality of layers, and may be similarly applied to the antenna structure 1000 having a plurality of antenna segments as described above.
  • 19 to 22 are diagrams of a method in which antennas having different cross-sections are connected in the antenna structure according to an embodiment of the present specification.
  • the inter-turn connection part may mean a part in which different turn antennas are connected to each other or a part in which different turn antennas are connected.
  • the first inter-turn connection unit 3210 shown in FIG. 15 as a representative example is mainly described, but the technical spirit of the present specification The present invention is not limited thereto.
  • the first inter-turn connector 3210 may be formed to have a curve.
  • the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 may be electrically or physically connected in a curved state.
  • the first inter-turn connection part 3210 may be formed linearly.
  • the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 may be electrically or physically connected on the same straight line.
  • the first inter-turn connector 3210 may include one end connected to the first turn antenna 3110 and the other end connected to the second turn antenna 3120 .
  • one end and the other end of the first inter-turn connection part 3210 may have different cross-sections.
  • a cross-section of one end of the first inter-turn connection unit 3210 has a cross-section of the first turn antenna 3110
  • a cross-section of the other end of the first inter-turn connection unit 3210 may have a cross-section of the second turn antenna 3120.
  • a cross-section of one end of the first inter-turn connection part 3210 may have a rectangular shape
  • a cross-section of the other end of the first inter-turn connection part 3210 may have a circular shape.
  • the first inter-turn connection part 3210 may be formed by connecting at least one of the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 by deforming the shape.
  • the first inter-turn connection part 3210 may be formed by expanding or expanding the distal end of the first turn antenna 3110 and coupling the second turn antenna 3120 .
  • the cross-section of the first inter-turn connection part 3210 may change in size or shape as it goes from one end to the other.
  • the cross-sectional area of the first inter-turn connection part 3210 may gradually increase from one end to the other end and then decrease.
  • the cross-sectional area of the first inter-turn connection part 3210 may be changed from a square shape to a square shape with rounded corners and a circular shape as going from one end to the other end.
  • the first inter-turn connector 3210 is formed by coupling the end of the second turn antenna 3120 to the end of the first turn antenna 3110 and expanding or expanding the second turn antenna 3120 .
  • cross sections of the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 may be set to correspond to each other.
  • the width of the cross-section of the first turn antenna 3110 may be set equal to or different from the width of the cross-section of the second turn antenna 3120 .
  • the cross-sectional width of the first turn antenna 3110 may be greater than the width of the second turn antenna 3120 so that the second turn antenna 3120 can be easily inserted into the first turn antenna 3110 .
  • the width of the cross section of the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 is the same, but as shown in FIGS. 20 and 21 , any one turn antenna may be interconnected through expansion, expansion, reduction, etc. may be
  • the cross-sectional size of each turn antenna as described above may be set in consideration of the smooth flow of cooling water.
  • the first inter-turn connector 3210 may be provided in a modular form.
  • the first inter-turn connection part 3210 may include an insertion part having a size corresponding to the cross-sectional size of each of the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 .
  • the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120 may be detachable from the first inter-turn connection part 3210 .
  • the first inter-turn connector 3210 electrically or physically connects the first turn antenna 3110 and the second turn antenna 3120, but may perform a specific function.
  • the first inter-turn connection part 3210 may include a capacitive element.
  • the first inter-turn connection unit 3210 may function as the above-described inter-turn capacitive element.
  • the shape of the coolant flow path may be deformed at the inter-turn connection part.
  • the coolant flow path in the first inter-turn connection part 3210 may be gradually narrowed.
  • the coolant flow path in the first inter-turn connection part 3210 may be gradually widened.
  • the coolant flow path may gradually widen and then narrow. At this time, as the shape of the cooling water flow path is deformed, the flow rate of the cooling water may be changed.
  • FIG. 23 is a view showing the heat transfer member 300 according to an embodiment of the present specification.
  • the heat transfer member 300 may transfer heat between the antenna structure 1000 and the plasma generator 2000 .
  • the heat transfer member 300 may absorb heat generated by the plasma generator 2000 according to plasma induction and provide it to the antenna structure 1000 .
  • the heat transfer member 300 may be made of a material having high thermal conductivity.
  • the heat transfer member 300 may be formed of at least one of aluminum, gold, silver, tungsten, and/or copper.
  • the heat transfer member 300 may have various shapes.
  • the heat transfer member 300 may have a shape corresponding to the plasma generator 2000 .
  • the heat transfer member 300 may also have a hollow cylindrical shape.
  • the heat transfer member 300 may have a shape for surface contact with the outer surface of the plasma generating unit 2000 .
  • at least a portion of the heat transfer member 300 may be curved or flat.
  • the heat transfer member 300 may be composed of a plurality of physically separated plates.
  • the shape of the heat transfer member 300 is not limited to the above-described shape, and the heat transfer member 300 can be in surface contact with the plasma generating unit 2000 or the antenna structure 1000 as described below. It can also be implemented in a form.
  • the heat transfer member 300 may be disposed between the antenna structure 1000 and the plasma generator 2000 .
  • the heat transfer member 300 may be disposed to surround the plasma generator 2000
  • the antenna structure 1000 may be disposed to surround the heat transfer member 300 .
  • the heat transfer member 300 is in surface contact with the outer wall of the plasma generator 2000, and the innermost turn antenna (eg, the first turn antenna) of the antenna structure 1000 with respect to the central axis CA. 3110)) and may be arranged to make an interview.
  • the plasma generator 2000 and the antenna structure 1000 may be thermally coupled through the heat transfer member 300 .
  • the heat transfer member 300 is made of a material with high thermal conductivity, heat generated in the plasma generator 2000 according to plasma induction can move more quickly to the antenna structure 1000 through the heat transfer member 300, Plasma induction and maintenance efficiency may be improved, and durability of the plasma generator 2000 may be improved.
  • the antenna structure 1000 is composed of a plurality of turn antennas has been mainly described, but the technical spirit of the present specification is not limited thereto, and the antenna structure 1000 is composed of a single turn antenna or a single turn multiple layers. Of course, the same may be applied to a case in which antennas are configured or a plurality of antenna segments are configured.
  • the method according to the embodiment may be implemented in the form of program instructions that can be executed through various computer means and recorded in a computer-readable medium.
  • the computer-readable medium may include program instructions, data files, data structures, etc. alone or in combination.
  • the program instructions recorded on the medium may be specially designed and configured for the embodiment, or may be known and available to those skilled in the art of computer software.
  • Examples of the computer-readable recording medium include magnetic media such as hard disks, floppy disks and magnetic tapes, optical media such as CD-ROMs and DVDs, and magnetic such as floppy disks.
  • - includes magneto-optical media, and hardware devices specially configured to store and execute program instructions, such as ROM, RAM, flash memory, and the like.
  • Examples of program instructions include not only machine language codes such as those generated by a compiler, but also high-level language codes that can be executed by a computer using an interpreter or the like.
  • the hardware devices described above may be configured to operate as one or more software modules to perform the operations of the embodiments, and vice versa.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Details Of Aerials (AREA)
  • Support Of Aerials (AREA)

Abstract

본 발명은 교류 전원을 인가 받아 챔버에 플라즈마를 유도하는 안테나 구조체로, 가상의 중심축과 교차하는 제1 평면 상에서 상기 중심축을 기준으로 제1 곡률 반경 및 제2 곡률 반경을 가지도록 배치되는 제1 및 제2 안테나 세그먼트; 및 상기 제1 및 제2 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결시키는 제1 용량성 부하;를 포함하되, 상기 제1 안테나 세그먼트가 상기 제1 곡률 반경을 가지면서 상기 제1 용량성 부하의 일단으로부터 제1 길이만큼 연장될 때, 상기 제2 안테나 세그먼트는 상기 제2 곡률 반경을 가지면서 상기 제1 용량성 부하의 타단으로부터 상기 제1 길이에 대응하는 제2 길이만큼 연장되고, 상기 제1 길이 및 상기 제2 길이의 합은 상기 제1 곡률 반경 또는 상기 제2 곡률 반경을 반지름으로 하는 원주보다 짧은 안테나 구조체에 관한 것이다.

Description

안테나 구조체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치
본 발명은 안테나 구조체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 복수의 안테나 세그먼트 및 복수의 용량성 소자를 포함하는 안테나 구조체를 이용하여 유도 전기장 및 유도 자기장을 발생시켜 플라즈마 발생을 유도하는 장치에 관한 것이다.
플라즈마를 활용하는 기술은 반도체, 디스플레이, 의료 장비 기술 분야뿐만 아니라 공기, 물, 토양 정화 등의 환경 기술 분야 및 태양 전지, 수소 에너지 등의 에너지 기술 분야 등 다양한 산업 분야에서 이용되고 있다.
이러한 플라즈마를 발생시키는 방법은 코로나 방전, 글로우 방전, 아크 방전 등의 직류 방전, 축전 결합 방전, 유도 결합 방전 등의 교류 방전, 충격파, 고에너지 빔 등 매우 다양하며, 그 중 간단한 구조를 이용함으로써 활용도가 높은 유도 결합 방식이 각광 받고 있다.
한편, 기존의 유도 결합 방식의 플라즈마 발생 장치는 내/외부 압력, 공급 가스의 종류나 성질, 장치에 인가되는 전력, 구성 요소에 흐르는 전류/전압 및 소모전력 등의 요인들로 인하여 플라즈마 제어가 불안정하거나 또는 장치의 내구성이 손상되는 등의 문제점을 가지고 있었다. 나아가, 이러한 문제점들은 플라즈마 발생 장치의 부피, 면적 등이 커질수록 심각해져 이에 대한 해결 방안이 요구되고 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 일 과제는, 복수의 세그먼트 및 용량성 소자로 구성되는 안테나 구조체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 일 과제는, 넓은 면적에서 플라즈마를 발생시키기 위해 큰 부피 또는 넓은 면적을 갖는 안테나 구조체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 일 과제는, 높은 구동 주파수 또는 큰 입력 전류에 의하여 인덕터에 형성되는 높은 전압에서 안전하게 플라즈마를 발생시키기 위해 전압이 분배되는 구조를 갖는 안테나 구조체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 일 과제는, 플라즈마가 유도되면서 발생하는 열에 의해 플라즈마 발생 장치가 손상되는 것을 막기 위한 플라즈마 발생 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 일 과제는, 플라즈마가 유도되면서 발생하는 열을 냉각수를 이용하여 효과적으로 흡수하는 플라즈마 발생 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제가 상술한 과제로 제한되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 과제들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 명세서의 일 양상에 따르면, 교류 전원을 인가 받아 챔버에 플라즈마를 유도하는 안테나 구조체에 있어서, 가상의 중심축과 교차하는 제1 평면 상에서 상기 중심축을 기준으로 제1 곡률 반경 및 제2 곡률 반경을 가지도록 배치되는 제1 및 제2 안테나 세그먼트 및 상기 제1 및 제2 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결시키는 제1 용량성 부하를 포함하되, 상기 제1 안테나 세그먼트가 상기 제1 곡률 반경을 가지면서 상기 제1 용량성 부하의 일단으로부터 제1 길이만큼 연장될 때, 상기 제2 안테나 세그먼트는 상기 제2 곡률 반경을 가지면서 상기 제1 용량성 부하의 타단으로부터 상기 제1 길이에 대응하는 제2 길이만큼 연장되고, 상기 제1 길이 및 상기 제2 길이의 합은 상기 제1 곡률 반경 또는 상기 제2 곡률 반경을 반지름으로 하는 원주보다 짧은 안테나 구조체가 제공될 수 있다.
본 명세서의 또 다른 양상에 따르면, 교류 전원을 인가 받아 챔버에 플라즈마를 유도하는 플라즈마 발생 장치에 있어서, 가상의 중심축을 기준으로 제1 곡률 반경을 갖도록 배치되는 제1 안테나 구조체를 포함하되, 상기 제1 안테나 구조체는 상기 제1 곡률 반경을 갖는 복수의 제1 안테나 세그먼트 및 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트가 전기적으로 직렬 연결되도록 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트 사이에 배치되는 적어도 하나의 제1 용량성 부하를 포함하고, 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트들은 상기 중심축에 수직인 가상의 제1 평면과 적어도 일부 중첩되며, 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트 각각은 제1 길이를 가지되, 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트 길이의 합은 상기 제1 곡률 반경을 반지름으로 하는 원주보다 짧은 플라즈마 발생 장치가 제공될 수 있다.
본 명세서의 또 다른 양상에 따르면, 플라즈마 발생부 외부에 배치되어 상기 플라즈마 발생부 내부에 플라즈마를 유도하기 위해 유도 전기장을 제공하는 안테나 구조체에 있어서, 상기 플라즈마 발생부 외벽면을 따라 형성되어 전기장을 유도하는 제1 안테나를 포함하고, 상기 제1 안테나의 내부에는 냉각수를 이동시키는 제1 냉각수 유로가 형성되고, 상기 제1 안테나는 상기 플라즈마 발생부의 외벽과 평행한 제1 내경면을 포함하고, 상기 제1 내경면을 통해 상기 플라즈마 발생부와 면접촉하며, 상기 제1 안테나는 상기 제1 냉각수 유로와 접촉를 정의하고 상기 플라즈마 발생부의 외벽 및 상기 제1 내경면과 평행하는 제1 면을 포함하고, 상기 안테나 구조체는 상기 플라즈마 발생부가 상기 플라즈마에 의해 온도가 증가하는 것을 방지하기 위해 상기 내경면 및 상기 제1 면을 통해 상기 플라즈마 발생부의 열을 흡수하는 안테나 구조체가 제공될 수 있다.
본 발명의 과제의 해결 수단이 상술한 해결 수단들로 제한되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 해결 수단들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명에 의하면, 플라즈마 발생 장치 구동 시 안테나 구조체 내의 용량성 소자에 의하여 안테나에 걸리는 최대 전압이 감소할 수 있다.
본 발명에 의하면, 플라즈마 발생 장치 구동 시 안테나 구조체에 의해 높은 기전력이 유도되어 플라즈마가 보다 오래 유지될 수 있다.
본 발명에 의하면, 플라즈마 발생 장치 구동 시 안테나 구조체에 인가되는 전압을 감소시켜 플라즈마에서 발생되는 에너지 손실이 줄어들 수 있다.
본 발명에 의하면, 넓은 면적의 플라즈마 유도를 통해 대면적 디스플레이 또는 다수의 반도체 공정을 수행할 수 있다.
본 발명에 의하면, 플라즈마 발생 장치 내 안테나 구조체에서 발생되는 소비전력을 감소시킬 수 있다.
본 발명에 의하면, 안테나 구조체 내 안테나 사이의 전위차가 감소하여 보다 안전하게 고밀도의 플라즈마를 발생시킬 수 있다.
본 발명에 의하면, 안테나 구조체가 고출력 고주파 전원으로 구동되더라도 그로 인한 챔버 또는 유전체 튜브의 손상이 방지될 수 있다.
본 발명에 의하면, 플라즈마에 의해 열이 발생하더라도 안테나 구조체의 효과적인 흡열 기능으로 인하여 플라즈마 발생 장치의 열 손상이 방지될 수 있다.
본 발명에 의하면, 안테나 구조체가 효과적인 냉각 기능을 수행하면서 기생 커패시터의 영향을 감소시킬 수 있다.
본 발명에 의하면, 안테나 구조체가 효과적인 냉각 기능을 수행하면서 플라즈마 발생 장치 내 아크 방전이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 제한되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 명세서의 일 실시예에 따른 플라즈마 시스템에 관한 도면이다.
도 2는 본 명세서의 일 실시예에 따른 플라즈마 시스템의 구현예들에 관한 도면이다.
도 3은 본 명세서의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생부를 나타내는 도면이다.
도 4는 본 명세서의 일 실시예에 따른 RF 전원에 관한 도면이다.
도 5 및 도 6은 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 세그먼트가 배치되는 방법에 관한 도면이다.
도 7 내지 도 10은 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 세그먼트 및 용량성 소자를 포함하는 안테나 구조체에 관한 도면이다.
도 11은 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 구조체의 등가 회로에 관한 도면이다.
도 12는 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 구조체 내 위치에 따른 전압을 나타내는 그래프에 관한 도면이다.
도 13은 본 명세서의 일 실시예에 따른 용량성 소자를 포함하는 안테나 구조체 내 위치에 따른 전압을 나타내는 그래프에 관한 도면이다.
도 14는 본 명세서의 일 실시예에 따른 사각 단면을 갖는 안테나 구조체에 관한 도면이다.
도 15는 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 구조체의 단면에 관한 도면이다.
도 16은 본 명세서의 일 실시예에 따른 사각 단면 및 원형 단면을 갖는 안테나 구조체에 관한 도면이다.
도 17 및 도 18은 본 명세서의 일 실시예에 따른 적어도 두 종류 이상의 단면 모양을 갖는 안테나 구조체의 단면에 관한 도면이다.
도 19 내지 도 22는 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 구조체 내 서로 다른 단면을 갖는 안테나가 연결되는 방법에 관한 도면이다.
도 23은 본 명세서의 일 실시예에 따른 열전달 부재를 나타내는 도면이다.
본 명세서의 일 양상에 따르면, 교류 전원을 인가 받아 챔버에 플라즈마를 유도하는 안테나 구조체에 있어서, 가상의 중심축과 교차하는 제1 평면 상에서 상기 중심축을 기준으로 제1 곡률 반경 및 제2 곡률 반경을 가지도록 배치되는 제1 및 제2 안테나 세그먼트 및 상기 제1 및 제2 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결시키는 제1 용량성 부하를 포함하되, 상기 제1 안테나 세그먼트가 상기 제1 곡률 반경을 가지면서 상기 제1 용량성 부하의 일단으로부터 제1 길이만큼 연장될 때, 상기 제2 안테나 세그먼트는 상기 제2 곡률 반경을 가지면서 상기 제1 용량성 부하의 타단으로부터 상기 제1 길이에 대응하는 제2 길이만큼 연장되고, 상기 제1 길이 및 상기 제2 길이의 합은 상기 제1 곡률 반경 또는 상기 제2 곡률 반경을 반지름으로 하는 원주보다 짧은 안테나 구조체가 제공될 수 있다.
본 발명의 상술한 목적, 특징들 및 장점은 첨부된 도면과 관련된 다음의 상세한 설명을 통해 보다 분명해질 것이다. 다만, 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예들을 가질 수 있는 바, 이하에서는 특정 실시예들을 도면에 예시하고 이를 상세히 설명하고자 한다.
본 명세서에 기재된 실시예는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상을 명확히 설명하기 위한 것이므로, 본 발명이 본 명세서에 기재된 실시예에 의해 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 범위는 본 발명의 사상을 벗어나지 아니하는 수정예 또는 변형예를 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
본 명세서에 첨부된 도면은 본 발명을 용이하게 설명하기 위한 것으로 도면에 도시된 형상은 본 발명의 이해를 돕기 위하여 필요에 따라 과장되어 표시된 것일 수 있으므로 본 발명이 도면에 의해 한정되는 것은 아니다.
본 발명과 관련된 공지 기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 본 명세서의 설명 과정에서 이용되는 숫자(예를 들어, 제1, 제2 등)는 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구분하기 위한 식별기호에 불과하다.
또한, 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "유닛", "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다.
본 명세서의 일 양상에 따르면, 교류 전원을 인가 받아 챔버에 플라즈마를 유도하는 안테나 구조체에 있어서, 가상의 중심축과 교차하는 제1 평면 상에서 상기 중심축을 기준으로 제1 곡률 반경 및 제2 곡률 반경을 가지도록 배치되는 제1 및 제2 안테나 세그먼트 및 상기 제1 및 제2 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결시키는 제1 용량성 부하를 포함하되, 상기 제1 안테나 세그먼트가 상기 제1 곡률 반경을 가지면서 상기 제1 용량성 부하의 일단으로부터 제1 길이만큼 연장될 때, 상기 제2 안테나 세그먼트는 상기 제2 곡률 반경을 가지면서 상기 제1 용량성 부하의 타단으로부터 상기 제1 길이에 대응하는 제2 길이만큼 연장되고, 상기 제1 길이 및 상기 제2 길이의 합은 상기 제1 곡률 반경 또는 상기 제2 곡률 반경을 반지름으로 하는 원주보다 짧은 안테나 구조체가 제공될 수 있다.
여기서, 상기 제1 및 제2 곡률 반경이 서로 동일하고, 상기 제1 및 제2 길이가 서로 동일하며, 상기 제1 안테나 세그먼트 및 상기 제2 안테나 세그먼트는 동일한 인덕턴스를 가질 수 있다.
또 여기서, 안테나 구조체는 상기 제1 평면 상에서 상기 제1 곡률 반경 보다 큰 제3 곡률 반경을 가지도록 배치되는 제3 안테나 세그먼트, 상기 제1 평면 상에서 상기 제2 곡률 반경 보다 큰 제4 곡률 반경을 가지도록 배치되는 제4 안테나 세그먼트 및 상기 제3 및 제4 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결시키는 제2 용량성 부하를 포함하고, 상기 제3 안테나 세그먼트는 상기 제2 용량성 부하의 일단으로부터 상기 제1 길이보다 긴 제3 길이만큼 연장되고, 상기 제4 안테나 세그먼트는 상기 제2 용량성 부하의 타단으로부터 상기 제2 길이보다 긴 제4 길이만큼 연장될 수 있다.
또 여기서, 상기 제1 및 제2 용량성 부하를 지나는 직선은 상기 중심축을 지날 수 있다.
또 여기서, 상기 제1 안테나 세그먼트를 호로 갖는 부채꼴의 중심각은 상기 제3 안테나 세그먼트를 호로 갖는 부채꼴의 중심각과 동일할 수 있다.
또 여기서, 안테나 구조체는 상기 제2 안테나 세그먼트 및 상기 제3 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결하는 턴간 용량성 부하를 포함할 수 있다.
또 여기서, 상기 제1 및 제2 용량성 부하 및 턴간 용량성 부하는 동일한 정전 용량을 가질 수 있다.
또 여기서, 안테낙 구조체는 상기 중심축을 기준으로 상기 제1 곡률 반경을 갖는 제5 안테나 세그먼트, 상기 제2 곡률 반경을 갖는 제6 안테나 세그먼트 및 상기 제5 및 제6 안테나 세그먼트 사이에 배치되어 상기 제5 및 제6 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결시키는 제3 용량성 부하를 포함하되, 상기 제5 안테나 세그먼트 및 제6 안테나 세그먼트는 상기 중심축과 교차하는 제2 평면에 배치되며, 상기 제1 평면 및 상기 제2 평면은 서로 다른 평면일 수 있다.
또 여기서, 상기 제2 안테나 세그먼트 및 상기 제5 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결하는 제1 층간 용량성 부하를 포함할 수 있다.
또 여기서, 안테나 구조체는 상기 중심축을 기준으로 상기 제1 곡률 반경을 갖는 제7 안테나 세그먼트, 상기 제2 곡률 반경을 갖는 제8 안테나 세그먼트, 상기 제7 및 제8 안테나 세그먼트 사이에 배치되어 상기 제7 및 제8 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결시키는 제4 용량성 부하 및 상기 제6 안테나 세그먼트 및 제7 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결하는 제2 층간 용량성 부하를 포함하되, 상기 제7 안테나 세그먼트 및 제8 안테나 세그먼트는 상기 중심축과 교차하며 상기 제1 평면 및 상기 제2 평면과 다른 제3 평면에 배치되며, 상기 제1 층간 용량성 부하 및 제2 층간 용량성 부하는 상기 중심축을 기준으로 미리 설정된 사이각을 가질 수 있다.
또 여기서, 상기 제1 안테나 세그먼트는 일단에서 타단으로 연장되되 상기 제1 안테나 세그먼트 타단은 상기 제1 용량성 부하의 일단과 전기적으로 연결되며, 상기 제2 안테나 세그먼트는 일단에서 타단으로 연장되되 상기 제2 안테나 세그먼트의 일단은 상기 제1 용량성 부하의 타단과 전기적으로 연결될 수 있다.
또 여기서, 상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가될 때, 기준 노드에 대한 제1 안테나 세그먼트 타단에서의 최대 전압은 상기 기준 노드에 대한 제2 안테나 세그먼트 타단에서의 최대 전압에 대응될 수 있다.
또 여기서, 상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가될 때, 상기 제2 안테나 세그먼트 일단에 대한 상기 제2 안테나 세그먼트 타단의 전압은 상기 제1 안테나 세그먼트 일단에 대한 상기 제1 안테나 세그먼트 타단의 전압에 대응될 수 있다.
또 여기서, 상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가될 때, 기준 노드에 대한 상기 제1 안테나 세그먼트 타단의 최대 전압의 크기는 상기 기준 노드에 대한 상기 제2 안테나 세그먼트 일단의 최대 전압의 크기에 대응될 수 있다.
또 여기서, 상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가된 후 임의의 시점에서 기준 노드에 대한 상기 제1 안테나 세그먼트 타단의 전압과 상기 기준 노드에 대한 상기 제2 안테나 세그먼트 일단의 전압은 서로 반대 부호를 가질 수 있다.
또 여기서, 안테나 구조체는 상기 제1 안테나 세그먼트 일단 및 타단 사이에 위치하는 제1 지점 및 상기 제2 안테나 세그먼트 일단 및 타단 사이에 위치하는 제2 지점을 포함하고, 상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가될 때, 기준 노드에 대한 상기 제1 지점의 최대 전압은 상기 기준 노드에 대한 상기 제2 지점의 최대 전압에 대응할 수 있다.
또 여기서, 상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가된 후 임의의 시점에서 기준 노드에 대한 상기 제1 안테나 세그먼트 타단의 전압과 상기 기준 노드에 대한 상기 제2 안테나 세그먼트 타단의 전압은 서로 대응될 수 있다
또 여기서, 상기 안테나 구조체는 상부 또는 하부에 플라즈마를 유도하는 평판형 및 중심부에 플라즈마를 유도하는 튜브형 중 적어도 하나로 구현될 수 있다.
본 명세서의 또 다른 양상에 따르면, 교류 전원을 인가 받아 챔버에 플라즈마를 유도하는 플라즈마 발생 장치에 있어서, 가상의 중심축을 기준으로 제1 곡률 반경을 갖도록 배치되는 제1 안테나 구조체를 포함하되, 상기 제1 안테나 구조체는 상기 제1 곡률 반경을 갖는 복수의 제1 안테나 세그먼트 및 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트가 전기적으로 직렬 연결되도록 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트 사이에 배치되는 적어도 하나의 제1 용량성 부하를 포함하고, 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트들은 상기 중심축에 수직인 가상의 제1 평면과 적어도 일부 중첩되며, 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트 각각은 제1 길이를 가지되, 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트 길이의 합은 상기 제1 곡률 반경을 반지름으로 하는 원주보다 짧은 플라즈마 발생 장치가 제공될 수 있다.
여기서, 플라즈마 발생 장치는 상기 제1 평면에 상기 중심축을 기준으로 상기 제1 곡률 반경 보다 큰 제2 곡률 반경을 갖도록 배치되는 제2 안테나 구조체를 포함하되, 상기 제2 안테나 구조체는 상기 제2 곡률 반경을 갖는 복수의 제2 안테나 세그먼트 및 복수의 상기 제2 안테나 세그먼트가 전기적으로 직렬 연결되도록 복수의 상기 제2 안테나 세그먼트 사이에 배치되는 적어도 하나의 제2 용량성 부하를 포함하고, 복수의 상기 제2 안테나 세그먼트 각각은 제1 길이를 가지되, 복수의 상기 제2 안테나 세그먼트 길이의 합은 상기 제2 곡률 반경을 반지름으로 하는 원주보다 짧을 수 있다.
한편, 이상에서 서술하는 제1 내지 제8 안테나 세그먼트는 순서에 상관 없이 각각 안테나 구조체 내 어느 한 안테나 세그먼트를 지시하는 것으로 해석될 수 있다. 예를 들어, 제1 안테나 세그먼트 및 제2 안테나 세그먼트는 동일 평면에 배치되는 안테나 세그먼트를 의미할 수 있다.
또한, 이상에서 서술한 직렬 연결은 소자 간에 직접적으로 연결되어 있는 경우뿐만 아니라 소자 사이에 다른 소자를 포함함으로써 간접적으로 연결되는 경우도 포함할 수 있다.
본 명세서의 또 다른 양상에 따르면, 플라즈마 발생부 외부에 배치되어 상기 플라즈마 발생부 내부에 플라즈마를 유도하기 위해 유도 전기장을 제공하는 안테나 구조체에 있어서, 상기 플라즈마 발생부 외벽면을 따라 형성되어 전기장을 유도하는 제1 안테나를 포함하고, 상기 제1 안테나의 내부에는 냉각수를 이동시키는 제1 냉각수 유로가 형성되고, 상기 제1 안테나는 상기 플라즈마 발생부의 외벽과 평행한 제1 내경면을 포함하고, 상기 제1 내경면을 통해 상기 플라즈마 발생부와 면접촉하며, 상기 제1 안테나는 상기 제1 냉각수 유로와 접촉를 정의하고 상기 플라즈마 발생부의 외벽 및 상기 제1 내경면과 평행하는 제1 면을 포함하고, 상기 안테나 구조체는 상기 플라즈마 발생부가 상기 플라즈마에 의해 온도가 증가하는 것을 방지하기 위해 상기 내경면 및 상기 제1 면을 통해 상기 플라즈마 발생부의 열을 흡수하는 안테나 구조체가 제공될 수 있다.
여기서, 상기 제1 턴 안테나는 상기 제1 내경면과 연결되는 제1 외경면을 포함하고, 상기 제1 외경면은 세로 방향을 따라 상기 플라즈마 발생부로부터 멀어지는 방향으로 휘어질 수 있다.
또 여기서, 상기 제1 안테나와 전기적으로 연결되며 상기 제1 안테나를 감싸도록 배치되는 제2 안테나 및 상기 제2 안테나와 전기적으로 연결되며 상기 제2 안테나를 감싸도록 배치되는 제3 안테나를 포함하되, 상기 제2 안테나 및 상기 제3 안테나는 상기 제1 안테나 및 상기 제2 안테나 사이의 거리가 상기 제2 안테나 및 상기 제3 안테나 사이의 거리보다 길도록 배치될 수 있다.
또 여기서, 상기 제1 안테나와 전기적으로 연결되며 상기 제1 안테나를 감싸도록 배치되며 적어도 제2 내경면 및 제2 외경면으로 형성되는 제2 안테나를 포함하고, 상기 제2 내경면은 상기 제2 외경면보다 상기 플라즈마 발생부에 가까이 배치되되, 상기 제2 안테나의 상기 제2 내경면은 상기 제1 안테나의 상기 제1 내경면과 평행하지 않을 수 있다.
또 여기서, 상기 제1 안테나와 전기적으로 연결되며 상기 제1 안테나를 감싸도록 상기 제1 안테나와 동일한 평면 상에 배치되며 적어도 제2 내경면 및 제2 외경면으로 형성되는 제2 안테나를 포함하고, 상기 제2 내경면은 상기 제2 외경면보다 상기 플라즈마 발생부에 가까이 배치되되, 상기 제2 내경면 및 상기 제1 외경면 사이의 거리는 상기 평면으로부터 상기 플라즈마 발생부의 길이 방향으로 멀어질수록 증가할 수 있다.
또 여기서, 상기 제1 안테나와 전기적으로 연결되며 상기 제1 안테나를 감싸도록 배치되는 제2 안테나를 포함하고, 상기 제2 안테나의 단면은 상기 제1 안테나의 단면과 다를 수 있다.
또 여기서, 상기 제1 안테나와 전기적으로 연결되며 상기 제1 안테나를 감싸도록 배치되는 제2 안테나 및 상기 제1 안테나 및 상기 제2 안테나를 연결하는 연결부를 포함하되, 상기 제1 안테나 및 상기 제2 안테나는 서로 다른 단면을 가지며, 상기 연결부의 일단의 단면은 상기 제1 안테나의 단면에 대응되고, 상기 연결부의 타단의 단면은 상기 제2 안테나의 단면과 대응될 수 있다.
또 여기서, 상기 연결부는 상기 제1 안테나 말단의 적어도 일부 및 상기 제2 안테나의 팽창된 말단의 적어도 일부를 포함할 수 있다.
또 여기서, 상기 연결부는 용량성 소자를 포함할 수 있다.
또 여기서, 상기 제1 안테나에 결합되어 상기 제1 안테나에 조임력을 제공하는 조임부를 포함할 수 있다.
본 명세서의 또 다른 실시예에 따르면, 플라즈마가 유도되는 내부 공간을 포함하는 플라즈마 발생부; 및 상기 플라즈마 발생부 외부에 배치되어 상기 플라즈마 발생부의 내부 공간에 플라즈마를 유도하기 위해 유도 전기장을 제공하는 안테나 구조체;를 포함하고, 상기 안테나 구조체는 상기 플라즈마 발생부 외벽면을 따라 형성되어 전기장을 유도하는 제1 안테나를 포함하고, 상기 제1 안테나의 내부에는 냉각수를 이동시키는 제1 냉각수 유로가 형성되고, 상기 제1 안테나는 상기 플라즈마 발생부의 외벽과 평행한 제1 내경면을 포함하고, 상기 제1 내경면을 통해 상기 플라즈마 발생부와 면접촉하며, 상기 제1 안테나는 상기 제1 냉각수 유로를 정의하고 상기 플라즈마 발생부의 외벽 및 상기 제1 내경면과 평행하는 제1 면을 포함하고, 상기 안테나 구조체는 상기 플라즈마 발생부가 상기 플라즈마에 의해 온도가 증가하는 것을 방지하기 위해 상기 내경면 및 상기 제1 면을 통해 상기 플라즈마 발생부의 열을 흡수하는 플라즈마 발생 장치가 제공될 수 있다.
여기서, 상기 플라즈마 발생부의 두께는 0.5mm 이상 30mm 이하일 수 있다.
또 여기서, 상기 플라즈마 발생부의 직경은 10mm 이상 300mm 이하일 수 있다.
또 여기서, 플라즈마 발생 장치는 상기 플라즈마 발생부 및 상기 안테나 구조체와 각각 열적으로 결합하는 열전달 부재;를 더 포함하고, 상기 플라즈마 발생부 및 상기 안테나 구조체는 이격되어 위치하고, 상기 열전달 부재는 상기 플라즈마 발생부 및 상기 안테나 구조체 사이에 배치될 수 있다.
또 여기서, 상기 플라즈마 발생부의 적어도 일부는 산화 알루미늄, 실리콘 질화물, 질화 규소, 이산화 규소, 이트륨 산화물, 세라믹, 실리콘 카바이드, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나의 재질로 이루어질 수 있다.
또 여기서, 상기 플라즈마 발생부 중 상기 내부 공간을 정의하는 내측면은 실리콘 카바이드 재질로 이루어질 수 있다.
본 명세서는 안테나 구조체(antenna structure) 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치에 관한 것이다.
여기서, 플라즈마는 물질이 고에너지를 인가받아 음전하를 가진 전자와 양전하를 띤 이온으로 분리된 상태(phase)로, 다양한 방식에 의해 유도되거나 발생될 수 있다. 그 중에서도 유도 결합 플라즈마(ICP: Inductively Coupled Plasma)는 코일(coil) 또는 안테나(antenna) 등에 전력이 공급되어 특정 공간에 유도 전기장 또는 축전 전기장이 형성되고, 이에 의해 발생되는 플라즈마로, 일반적으로 무선주파수(RF: Radio Frequency)와 같은 고주파 전원에 의해 구동될 수 있다. 한편, 이하에서는 설명의 편의를 위해 플라즈마 발생 장치에 의해 발생되는 플라즈마는 유도 결합 플라즈마인 것을 전제로 설명하나, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니다.
여기서, 안테나는 전압 또는 전류를 인가하면 주위에 전기장 또는 자기장을 형성시키는 유도성 소자 또는 부하로, 코일 또는 인덕터 등을 의미할 수 있으며, 나아가 유도성 소자 외의 소자로 구현된 등가 회로를 의미할 수도 있다.
여기서, 안테나 구조체는 적어도 하나 이상의 안테나를 포함하는 구조체를 의미할 수 있다. 나아가, 안테나 구조체는 적어도 하나 이상의 용량성 소자 또는 부하를 포함하고, 적어도 하나 이상의 안테나 또는 용량성 소자가 특정 방법으로 연결되거나 배치된 형태로 구현될 수 있다.
한편, 본 명세서의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생 장치는 반도체, 디스플레이 가공, 환경, 에너지 등 여러 분야에서 광범위하게 이용될 수 있으며 이하에서 서술하는 플라즈마 발생 장치가 어느 특정 분야에만 이용되는 것으로 한정되는 것은 아니며, 플라즈마가 활용되는 분야에서 공통적으로 이용될 수 있음을 미리 밝혀둔다.
이하에서는 본 명세서의 일 실시예에 따른 유도 결합 플라즈마 시스템(ICP system)(10)에 관하여 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한다.
도 1은 본 명세서의 일 실시예에 따른 플라즈마 시스템(10)에 관한 도면이다. 플라즈마 시스템(10)은 RF 전원을 이용하여 안테나 구조체에 RF 전력을 공급하여 플라즈마 발생부에 유도 결합 플라즈마 발생을 유도할 수 있다.
도 1을 참조하면, 플라즈마 시스템(10)은 안테나 구조체(1000) 및 플라즈마 발생부(2000)를 포함하는 플라즈마 발생 장치(100) 및 RF 전원(200)을 포함할 수 있다.
플라즈마 발생 장치(100)는 RF 전원(200)으로부터 RF 전력을 공급받아 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 구체적으로, 안테나 구조체(1000)는 RF 전력이 공급되면 시변하는 전류가 흐르고, 이에 기초하여 플라즈마 발생부(2000)에 유도 전기장을 발생시켜 플라즈마를 유도할 수 있다.
안테나 구조체(1000)는 RF 전원(200)과 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 안테나 구조체(1000)는 RF 전원(200)과 도선으로 직렬 또는 병렬 연결되거나 전기적 소자를 통해 직렬 또는 병렬로 연결될 수 있다.
안테나 구조체(1000)는 플라즈마 발생부(2000)와 물리적 또는 전기적으로 연결될 수 있다. 안테나 구조체(1000) 및 플라즈마 발생부(2000)의 연결관계에 대한 구체적인 내용은 후술하도록 한다.
플라즈마 발생부(2000)는 플라즈마 발생이 유도되는 영역을 포함할 수 있다. 예를 들어, 플라즈마 발생부(2000)는 챔버 또는 튜브 등 플라즈마가 발생되어 유지될 수 있는 공간을 의미할 수 있다.
도 2는 본 명세서의 일 실시예에 따른 플라즈마 시스템(10)의 구현예들에 관한 도면이다.
도 2를 참조하면, 플라즈마 시스템(10)은 플라즈마가 활용되는 방식에 따라 다양하게 구현될 수 있다. 구체적으로, 플라즈마가 활용되는 방식에 따라 RF 전원(200), 안테나 구조체(1000) 및 플라즈마 발생부(2000)의 위치 관계가 설정될 수 있다.
도 2a를 참조하면, 플라즈마 시스템(10)은 안테나 구조체(1000) 상방 또는 하방에 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 예를 들어, 안테나 구조체(1000)는 평판형으로 구현되어 플라즈마 발생부(2000) 상단에 배치되고, 플라즈마 발생부(2000)는 반도체 웨이퍼(wafer), 실리콘 기판, 디스플레이 등의 공정 대상체를 포함하는 챔버로 제공되어 플라즈마 발생부(2000)에 유입되는 공정 가스 및 유도되는 플라즈마를 이용하여 반도체 공정 또는 디스플레이 공정을 수행할 수 있다. 다른 예로, 안테나 구조체(1000)는 평판형으로 구현되어 플라즈마 발생부(2000) 하단에 배치되고, 플라즈마 발생부(2000)는 반도체 웨이퍼, 실리콘 기판, 디스플레이 등의 공정 대상체를 포함하는 챔버로 제공되어 플라즈마 발생부(2000)에 유입되는 공정 가스 및 유도되는 플라즈마를 이용하여 반도체 공정 또는 디스플레이 공정을 수행할 수도 있다.
도 2b를 참조하면, 플라즈마 시스템(10)은 안테나 구조체(1000) 중심부에 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 예를 들어, 안테나 구조체(1000)는 튜브형으로 구현되어 플라즈마 발생부(2000)를 둘러싸거나 감는 형태로 제공되고, 플라즈마 발생부(2000)는 유전체 튜브로 제공되며, 플라즈마 발생부(2000)에 공급되는 공정 가스 및 플라즈마를 이용하여 활성종(radical)을 발생시키고 이를 별도의 공정 챔버에 제공할 수 있다.
한편, 안테나 구조체(1000)의 형상이 도 2에서 도시된 바와 같이 평판형 또는 튜브형으로 한정되는 것은 아니며, 안테나 구조체(1000)가 도 2a에서 튜브형으로 구현되고 도 2b에서 평판형으로 구현될 수 있음은 물론이다.
이하에서는, 도 3을 참조하여 플라즈마 시스템(10)에서 이용될 수 있는 플라즈마 발생부(2000)에 대해서 구체적으로 서술한다.
도 3은 본 명세서의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생부(2000)를 나타내는 도면이다.
플라즈마 발생부(2000)는 다양한 형상으로 구현될 수 있다. 예를 들어, 도 3을 참조하면 플라즈마 발생부(2000)는 플라즈마가 유도되는 내부 공간을 포함하는 형상으로 구현될 수 있다. 구체적으로, 플라즈마 발생부(2000)는 속이 빈 원기둥 형상, 링 형상 또는 튜브 형상 등의 형상을 가질 수 있다.
플라즈마 발생부(2000)는 특정 두께(t)를 가질 수 있다. 예를 들어, 도 3을 참조하면, 플라즈마 발생부(2000)가 튜브 형상으로 구현되는 경우, 플라즈마 발생부(2000)의 두께(t)는 0.5mm 내지 30mm 이내로 결정될 수 있다. 여기서, 플라즈마 발생부(2000)의 두께(t)가 0.5mm 미만인 경우 안테가 구조체(1000)에 의해 플라즈마 발생부(2000) 내부에 부산물이 생성되기 쉽고 물리적 내구도가 약해질 수 있다. 또 여기서, 플라즈마 발생부(2000)의 두께(t)가 30mm 초과인 경우 플라즈마 발생부(2000) 주변에 배치되는 안테나 구조체(1000)와 플라즈마 발생부(2000) 내부에 유도되는 플라즈마 사이의 유도 결합이 약해져 플라즈마 유도 또는 유지가 어려울 수 있고 후술하는 안테나 구조체(1000)에 의한 플라즈마 발생부(2000) 냉각 효율이 낮아질 수 있다. 따라서, 상술한 플라즈마 발생부(2000)의 두께(t) 범위는, 안테나 구조체(1000)가 후술하는 바와 같이 플라즈마 발생부(2000)와 전기적으로 결합할 때, 안정적으로 플라즈마 발생부(2000) 내부에 플라즈마를 유도 및 유지하며 플라즈마 발생부(2000)의 내구성을 향상시킬 수 있는 점에서 임계적 의의를 가질 수 있다.
플라즈마 발생부(2000)는 특정 직경(d)을 가질 수 있다. 예를 들어, 도 3을 참조하면 플라즈마 발생부(2000)가 튜브 형상을 가지는 경우 직경(d)은 10mm 내지 300mm 이내에서 결정될 수 있다. 여기서, 직경(d)은 플라즈마 발생부(2000)의 내측면의 직경, 외측면의 직경, 또는 내측면과 외측면 직경의 평균 직경을 의미할 수 있다. 여기서, 플라즈마 발생부(2000)의 직경(d)이 10mm 미만인 경우 플라즈마 발생부(2000) 내부에 유도되는 플라즈마의 형태가 부피에 비하여 표면적이 상대적으로 커져 에너지 손실이 야기될 수 있다. 또 여기서, 플라즈마 발생부(2000)의 직경(d)이 300mm를 초과하는 경우 플라즈마 유도에 필요한 유도 전력 밀도가 매우 낮아져 안테나 구조체(1000) 또는 RF 전원(200) 등의 제작이 어려워질 수 있다. 따라서, 상술한 플라즈마 발생부(2000)의 직경(d) 범위는, 플라즈마 시스템(10)의 RF 전원(200) 및 안테나 구조체(1000)의 제작을 보다 용이하게 하고 플라즈마 에너지 손실을 방지함으로써 플라즈마 유도 효율을 증대시키는 점에서 임계적 의의를 가질 수 있다.
이상에서는 플라즈마 발생부(2000)의 형상이 속이 빈 원기둥 형상 또는 튜브 형상인 경우에 대해 주로 서술하였으나, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 플라즈마 발생부(2000)는 플라즈마가 유도될 수 있는 내부 공간을 포함하는 다각형 형상을 가질 수도 있으며 이 때에도 상술한 두께(t) 및 직경(d)에 대한 내용이 적용될 수 있음은 물론이다.
플라즈마 발생부(2000)는 다양한 재질로 만들어질 수 있다. 예를 들어, 플라즈마 발생부(2000)는 비전도체로 제작될 수 있다. 다른 예를 들어, 플라즈마 발생부(2000)는 열전도도가 높은 물질로 제작될 수 있다. 구체적으로, 플라즈마 발생부(2000)는 알루미늄 질화물(AlN), 산화 알루미늄(Al2O3), 실리콘 질화물(SiN), 질화 규소(Si3N4), 이산화 규소(SiO2), 이트륨 산화물(Y2O3), 또는 실리콘 카바이드(SiC)로 제작될 수 있다.
나아가, 플라즈마 발생부(2000)는 플라즈마 유도를 위해 플라즈마 발생부(2000)에 유입되는 가스(ex. NF3, Ar, CO2, CH4, NF3, O2, H2 등)와 반응하여 불순물(particle)을 발생시키지 않는 물질로 제작될 수 있다. 예를 들어, 플라즈마 발생부(2000)는 실리콘 카바이드(SiC)로 제작될 수 있다.
이하에서는 도 4를 참조하여 RF 전원에 대하여 구체적으로 서술한다.
도 4는 본 명세서의 일 실시예에 따른 RF 전원(200)에 관한 도면이다.
도 4를 참조하면, RF 전원(200)은 교류 전원(210), 정류기(220), 인버터(230), 제어기(240) 및 센서 모듈(250)을 포함할 수 있다. RF 전원(200)은 교류 전원(210)에서 공급되는 제1 교류 전원을 제2 교류 전원으로 변환하여 부하(load)에 공급할 수 있다. 예를 들어, RF 전원(200)은 통상적인 가정 또는 산업에서 사용되는 제1 교류 전원을 수백kHz 내지 수십MHz의 주파수 및 수kW 이상의 전력을 가지는 제2 교류 전원으로 변환하여 안테나 구조체(1000)에 제공할 수 있다.
여기서 부하는 안테나 구조체(1000) 및 안테나 구조체(1000)에 의해 발생되는 플라즈마를 포함할 수 있다.
정류기(220)는 교류 전원(210)의 출력을 직류 전원으로 변환할 수 있다. 예를 들어, 정류기(220)는 교류 전원(210)에서 공급되는 제1 교류 전원을 직류 전원으로 변환하여 인버터(230) 양단에 인가할 수 있다.
인버터(230)는 정류기(220)로부터 직류 전원을 전달받아 부하에 제2 교류 전원을 공급할 수 있다. 이 때, 인버터(230)는 제어기(240)로부터 수신한 스위칭 신호를 이용하여 제2 교류 전원을 부하에 제공할 수 있다. 여기서, 인버터(230)는 스위칭 신호에 의해 제어되는 적어도 하나의 스위치 소자를 포함할 수 있으며, 인버터(230)에서 부하로 공급되는 제2 교류 전원은 인버터(230)가 제어기(240)로부터 제공받는 스위치 신호에 기초하여 설정된 구동 주파수를 가질 수 있다. 이를 위해, 인버터(230)는 펄스 폭 변조 방식(PWM: Pulse Width Moudlation)으로 제어되는 하프 브릿지 타입 또는 풀 브릿지 타입으로 제공될 수 있다.
한편, 정류기(220)와 인버터(230) 사이에 용량성 소자가 배치될 수 있다. 예를 들어, RF 전원(200)은 정류기(220) 및 인버터(230)와 병렬로 연결되는 커패시터를 포함하며, 커패시터는 인버터(230)에 인가되는 전원의 교류 성분을 접지 노드(GND)로 방전할 수 있다.
제어기(240)는 센서 모듈(250)로부터 센싱 데이터를 수신하여 스위칭 신호를 생성할 수 있다. 예를 들어, 제어기(240)는 FPGA를 포함하고 센서 모듈(250)로부터 부하의 공진 주파수와 관련된 데이터를 획득하여 스위치 신호를 생성할 수 있다.
센서 모듈(250)은 제어기(240)에 부하의 공진 주파수에 관한 데이터 또는 부하에 공급되는 전력에 관한 데이터를 획득할 수 있다. 이를 위해, 센서 모듈(250)은 부하 또는 인버터(230)에 흐르는 전류 크기 및 위상, 인가되는 전압 크기 및 위상, 상대적 전위 또는 전력 크기 등을 감지할 수 있다.
상술한 바와 같이, RF 전원(200)은 부하의 공진 주파수에 관한 데이터에 기초하여 부하에 제공되는 제2 교류 전원의 구동 주파수를 제어할 수 있다. 다시 말해, RF 전원(200)은 플라즈마 발생에 따라 변화하는 부하의 공진 주파수를 추적하여 제2 교류 전원의 구동 주파수를 부하의 공진 주파수와 유사하게 설정할 수 있다. 이로써, 불필요한 전력 소모를 방지하고 플라즈마 시스템의 내구성을 향상시킬 수 있다.
이하에서는 도 5 및 도 6을 참조하여 안테나 구조체(1000)의 구성 및 배치 방법에 대해 서술한다.
도 5 및 도 6은 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 세그먼트(antenna segment)가 배치되는 방법에 관한 도면이다.
도 5를 참조하면, 안테나 구조체(1000)는 복수의 안테나 세그먼트를 포함할 수 있다. 안테나 구조체(1000)는 플라즈마 활용 분야에서 필요한 플라즈마의 세기, 밀도 또는 생성 범위 등에 따라 다수의 안테나 세그먼트로 구성될 수 있다. 예를 들어, 안테나 구조체(1000)는 넓은 범위에서 플라즈마를 제공하기 위해 넓은 영역에 배치될 수 있고, 이 때 안테나 구조체(1000)의 길이가 과도하게 늘어나 안테나 구조체(1000)에서의 전위가 증가하는 것을 방지하기 위해 다수의 안테나 세그먼트로 나뉘어질 수 있다.
이하에서는 설명의 편의를 위해 안테나 세그먼트는 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)를 포함하는 것으로 서술하나, 안테나 구조체(1000)는 m개(m은 자연수)의 안테나 세그먼트를 포함할 수 있으며, 이하의 설명들이 각각의 경우에 공통적으로 적용될 수 있다.
안테나 세그먼트는 안테나, 유도 코일 또는 인덕터의 일부, 구리 도선 등으로 제공될 수 있다. 안테나 세그먼트의 단면 모양, 단면적, 두께, 굵기 등의 물리적 성질은 인덕턴스, 상호 인덕턴스, 기생 인덕턴스, 캐패시턴스, 기생 캐패시턴스, 저항 또는 기생 저항 등 안테나 구조체(1000) 또는 안테나 세그먼트에 요구되는 전기적 성질에 기초하여 결정될 수 있다.
또한, 이하에서는 설명의 편의를 위해 안테나 세그먼트가 호 형상을 갖는 것으로 가정하나, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니며, 안테나 세그먼트는 호 형상 외에도 직선, 곡선, 꺾인 직선, 꺾인 곡선, 원 또는 다각형이나 도넛, 솔레노이드 등 특정 도형 형상을 가질 수 있으며, 일반적으로 3차원 입체 형상으로 구현되나 박막, 도금 등의 2차원 형상으로 구현될 수 있음은 물론이다.
안테나 세그먼트는 중심축(CA)을 기준으로 일정 거리를 갖고 제1 평면(P1)에 배치될 수 있다. 구체적으로, 안테나 세그먼트는 제1 평면(P1)에 배치되되, 중심축(CA)으로부터 미리 설정된 거리만큼 이격될 수 있다.
여기서, 중심축(CA)은 가상의 축을 의미할 수 있다. 예를 들어, 중심축(CA)은 플라즈마 시스템(10)에서 발생되는 플라즈마의 중심부를 지나는 가상의 직선으로 이해될 수 있다.
여기서, 제1 평면(P1)은 안테나 세그먼트가 배치되는 가상의 평면을 의미할 수 있다. 예를 들어, 제1 평면(P1)은 중심축(CA)에 수직인 가상의 평면을 의미할 수 있다. 또 다른 예로, 제1 평면(P1)은 중심축(CA)과 교차하는 가상의 평면을 의미할 수 있다. 한편, 안테나 세그먼트는 모두 제1 평면(P1)에 배치될 수도 있고 적어도 일부는 제1 평면(P1)에 배치되고 다른 일부는 제1 평면(P1)과 다른 평면에 배치될 수 있다.
안테나 세그먼트는 특정 곡률 또는 특정 곡률 반경을 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)는 제1 곡률 반경(RC1)을 갖는 호 형상으로 구현될 수 있다. 또 다른 예로, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)는 상호 대응되는 곡률 또는 곡률 반경을 가질 수 있다. 또 다른 예로, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)는 서로 다른 곡률 또는 곡률 반경을 가질 수 있다.
여기서 곡률 반경 또는 곡률은 안테나 구조체(1000)의 크기에 기초하여 설정될 수 있다. 예를 들어, 안테나 구조체(1000)의 크기 또는 부피가 커질수록 곡률 반경이 커지고 곡률이 작아질 수 있다.
안테나 세그먼트는 특정 길이로 연장될 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)는 상호 대응되는 길이로 연장되거나 서로 다른 길이로 연장되어 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)는 동일한 제1 길이를 갖거나 서로 다른 길이를 가질 수 있다.
안테나 세그먼트의 총 길이는 미리 설정된 값 이하로 설정될 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)가 제1 평면(P1)에서 중심축(CA)을 기준으로 제1 곡률 반경(RC1)을 가지고 제1 길이만큼 연장되어 배치될 때, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140) 각각의 길이의 총합은 제1 곡률 반경(RC1)을 반지름으로 하는 원주의 길이보다 작을 수 있다. 또 다른 예로, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)가 제1 평면(P1)에서 중심축(CA)을 기준으로 적어도 일부는 제1 곡률 반경(RC1)을 가지고 제1 길이만큼 연장되어 배치되고, 다른 일부는 제2 곡률 반경(RC2)을 가지고 제2 길이만큼 연장되어 배치될 때, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140) 각각의 길이의 총합은 제1 곡률 반경(RC1) 또는 제2 곡률 반경(RC2)을 반지름으로 하는 원주의 길이보다 작을 수 있다. 이 때, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)는 서로 물리적으로 접촉하지 않도록 배치될 수 있다.
한편, 안테나 세그먼트 사이에는 전기적 소자가 배치될 수 있다. 예를 들어, 안테나 세그먼트 사이에 용량성 소자가 배치되고, 용량성 소자는 안테나 세그먼트를 전기적으로 연결시킬 수 있다. 전기적 소자의 배치에 관하여는 추후 구체적으로 서술하도록 한다.
안테나 구조체(1000)가 포함하는 안테나 세그먼트는 복수의 턴(turn)으로 배치될 수 있다. 도 6을 참조하면, 안테나 세그먼트는 중심축(CA)을 기준으로 제1 평면(P1)에 두 턴으로 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 턴은 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)를 포함하고, 제2 턴은 제5 내지 제8 안테나 세그먼트(1210, 1220, 1230, 1240)를 포함할 수 있다. 여기서, 제1 턴의 안테나 세그먼트는 제1 곡률 반경(RC1)을 가지고, 제2 턴의 안테나 세그먼트는 제1 곡률 반경(RC1) 보다 큰 제2 곡률 반경(RC2)을 가질 수 있다.
제2 턴의 안테나 세그먼트 각각은 제1 턴의 안테나 세그먼트 각각에 대응되도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)가 제1 평면(P1)의 제1 내지 제4 사분면에 각각 배치될 때, 제5 내지 제8 안테나 세그먼트(1210, 1220, 1230, 1240)는 제1 평면(P1)의 제1 내지 제4 사분면에 각각 배치될 수 있다.
여기서, 제1 안테나 세그먼트(1110)는 제2 안테나 세그먼트(1120) 및 제4 안테나 세그먼트(1140)와 원호 방향으로 인접하고, 제5 안테나 세그먼트(1210)와 중심축(CA)에 수직하는 방향으로 인접할 수 있다. 제2 안테나 세그먼트(1120)는 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 제3 안테나 세그먼트(1130)와 원호 방향으로 인접하고, 제6 안테나 세그먼트(1220)와 중심축(CA)에 수직하는 방향으로 인접할 수 있다. 제3 안테나 세그먼트(1130)는 제2 안테나 세그먼트(1120) 및 제4 안테나 세그먼트(1140)와 원호 방향으로 인접하고, 제7 안테나 세그먼트(1230)와 중심축(CA)에 수직하는 방향으로 인접할 수 있다. 제4 안테나 세그먼트(1140)는 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 제3 안테나 세그먼트(1130)와 원호 방향으로 인접하고, 제8 안테나 세그먼트(1240)와 중심축(CA)에 수직하는 방향으로 인접할 수 있다.
제2 턴의 안테나 세그먼트는 제1 턴의 안테나 세그먼트 보다 긴 길이로 연장될 수 있다. 예를 들어, 제1 안테나 세그먼트(1110)가 제1 길이로 연장되어 배치될 때, 제5 안테나 세그먼트(1210)는 제1 길이보다 긴 제2 길이로 연장될 수 있다. 여기서, 제1 길이에 대한 제2 길이의 비율은 제1 안테나 세그먼트(1110)의 제1 곡률 반경(RC1)에 대한 제5 안테나 세그먼트(1110)의 제2 곡률 반경(RC2)의 비율과 대응될 수 있다. 또 여기서, 대응될제1 길이로 연장되는 제1 안테나 세그먼트(1110)가 중심축(CA)과 이루는 중심각은 제2 길이로 연장되는 제5 안테나 세그먼트(1210)가 중심축(CA)과 이루는 중심각과 대응될 수 있다. 또는, 제1 길이로 연장되는 제1 안테나 세그먼트(1110)를 호로 갖는 부채꼴의 중심각은 제2 길이로 연장되는 제5 안테나 세그먼트(1210)를 호로 갖는 부채꼴의 중심각의 크기와 대응될 수 있다. 또는, 제1 안테나 세그먼트(1110)의 일단 및 제5 안테나 세그먼트(1210)의 일단을 연결하는 연장선은 중심축(CA)과 만날 수 있다.
여기서, 중심각은 턴 당 배치되는 안테나 세그먼트의 수에 따라 설정될 수 있다. 예를 들어, 한 턴 당 배치되는 안테나 세그먼트가 x개인 경우(x는 자연수) 각 안테나 세그먼트가 중심축(CA)과 이루는 중심각은 약 360/x˚보다 작거나 같을 수 있다. 구체적으로, 다시 도 5를 참조하면, 안테나 세그먼트는 제1 안테나 세그먼트(1110) 내지 제4 안테나 세그먼트(1140)를 포함하며, 이 경우 각 안테나 세그먼트가 중심축(CA)와 이루는 중심각은 약 90˚보다 작거나 같을 수 있다.
제1 턴 및 제2 턴 사이의 거리는 안테나 구조체(1000)의 전기적 성질에 기초하여 설정될 수 있다. 일 예로, 제1 턴과 제2 턴 사이의 거리는 안테나 세그먼트 사이에 발생할 수 있는 기생 커패시턴스에 기초하여 설정될 수 있다. 예를 들어, 제1 턴과 제2 턴 사이의 거리는 안테나 구조체(1000)에 전원이 인가될 때 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 제5 안테나 세그먼트(1210) 사이에 기생 커패시턴스 영향이 최소화되는 거리로 설정될 수 있다. 또 다른 예로, 제1 턴과 제2 턴 사이의 거리는 안테나 구조체(1000)의 전체 부피를 고려하여 설정될 수 있다. 예를 들어, 제조상 허용 범위내에서 안테나 구조체(1000)의 폭을 줄이기 위해 제1 턴 및 제2 턴 사이의 거리는 1mm 내외 또는 0.5mm 내지 3.5mm 범위 내에서 설정될 수 있다. 이 때, 제1 턴 및 제2 턴 사이의 거리는 특정 구동 주파수로 플라즈마 시스템(10)이 구동될 때, 턴 사이의 아킹(arcing)이 발생하지 않는 거리로 설정될 수 있다. 또 다른 예로, 제1 턴 및 제2 턴 사이의 거리는 플라즈마 발생부(2000)의 신축성을 고려하여 설정될 수도 있다. 상술한 제1 턴 및 제2 턴 사이의 거리가 설정되는 방법은 제2 턴 및 제3 턴 사이의 거리 등 안테나 구조체(1000) 내 턴 사이의 거리를 설정하는 데에도 이용될 수 있음은 물론이다.
제2 턴의 안테나 세그먼트의 인덕턴스는 제1 턴의 안테나 세그먼트의 인덕턴스에 기초하여 설정될 수 있다. 예를 들어, 제5 안테나 세그먼트(1210)의 인덕턴스는 제1 안테나 세그먼트(1110)의 인덕턴스와 대응될 수 있다. 또 다른 예로, 제5 안테나 세그먼트(1210)의 인덕턴스는 제1 안테나 세그먼트(1110)의 인덕턴스보다 크게 설정될 수 있다.
한편, 제1 턴 및 제2 턴의 안테나 세그먼트는 서로 다른 평면에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 턴의 안테나 세그먼트는 제1 평면(P1)에 배치되고, 제2 턴의 안테나 세그먼트는 제1 평면(P1)과 평행하는 평면 또는 제1 평면(P1)과 소정의 각도를 이루는 평면에 배치될 수 있다.
또한, 제1 턴 및 제2 턴은 같은 수의 안테나 세그먼트를 포함하거나 서로 다른 수의 안테나 세그먼트를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 턴은 4개의 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)를 포함하고, 제2 턴은 중심축(CP)을 기준으로 대칭적으로 배치되는 제5 안테나 세그먼트(1210) 및 제7 안테나 세그먼트(1230)만을 포함할 수 있다.
이상에서는 설명의 편의를 위해 안테나 구조체(1000)가 두 턴으로 구현된 것을 기초로 서술하였으나, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니며, 안테나 구조체(1000)는 n개의 턴(n은 자연수)으로 구현될 수 있으며 나아가 안테나 구조체(1000)는 m개의 안테나 세그먼트를 포함하는 턴을 n개 포함할 수 있다. 이와 같이 복수 세그먼트, 복수 턴의 안테나 구조체(1000)의 경우 상술한 안테나 세그먼트 배치 방법이 유사하게 적용될 수 있다. 예를 들어, 안테나 구조체(1000)가 6개의 안테나 세그먼트를 포함하는 3개의 턴으로 구현되는 경우, 제1 턴은 제1 곡률 반경(RC1) 및 제1 길이를 갖는 6개의 안테나 세그먼트를, 제2 턴은 제2 곡률 반경(RC2) 및 제2 길이를 갖는 6개의 안테나 세그먼트를, 그리고 제3 턴은 제3 곡률 반경 및 제3 길이를 갖는 6개의 안테나 세그먼트를 포함하며, 각각의 턴에서 안테나 세그먼트의 길이의 합은 각 턴 안테나 세그먼트의 곡률 반경을 반지름으로 하는 원주보다 짧을 수 있다.
이하에서는 도 7 내지 도 10을 참조하여 안테나 구조체(1000)에서 안테나 세그먼트가 연결되는 방법에 대하여 서술한다.
도 7 내지 도 10은 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 세그먼트 및 용량성 소자를 포함하는 안테나 구조체(1000)에 관한 도면이다.
도 7을 참조하면, 안테나 구조체(1000)는 평판형으로 구현되며 안테나 세그먼트, 제1 메인 용량성 소자(1500), 제2 메인 용량성 소자(1600) 및 보조 용량성 소자를 포함할 수 있다. 안테나 구조체(1000)는 보조 용량성 소자를 포함함으로써 복수의 안테나 세그먼트가 전기적 또는 물리적으로 연결될 수 있고, 제1 메인 용량성 소자(1500) 및 제2 메인 용량성 소자(1600)를 통해 RF 전원(200)과 연결될 수 있다.
여기서, 보조 용량성 소자는 턴 내에서 안테나 세그먼트를 전기적 또는 물리적으로 연결하는 제1 내지 제6 보조 용량성 소자(1711, 1712, 1713, 1721, 1722, 1723) 및 서로 다른 턴을 전기적 또는 물리적으로 연결하는 제1 턴간 용량성 소자(1731)를 포함할 수 있다.
여기서, 메인 용량성 소자(1500, 1600) 및 보조 용량성 소자는 축전기 또는 축전기의 등가회로로 표현되는 소자로, 소정의 커패시턴스(capacitance) 또는 용량 리액턴스를 갖는 소자를 의미할 수 있다. 예를 들어, 메인 용량성 소자(1500, 1600) 및 보조 용량성 소자는 고주파 특성이 양호한 세라믹 커패시터(ceramic capacitor) 또는 다수의 축전기를 직렬 및/또는 병렬로 연결한 적층 세라믹 커패시터(MLCC: Multi-Layer Ceramic Capacitor) 또는 커패시터 어레이(capacitor array)를 포함할 수 있다.
보조 용량성 소자는 복수의 안테나 세그먼트를 전기적 또는 물리적으로 연결할 수 있다. 예를 들어, 다시 도 7을 참조하면, 제1 보조 용량성 소자(1711)의 일단은 제1 안테나 세그먼트(1110)의 일단과 연결되고 제1 보조 용량성 소자(1711)의 타단은 제2 안테나 세그먼트(1120)의 일단과 연결될 수 있다. 제1 안테나 세그먼트(1110)는 제1 보조 용량성 소자(1711)의 일단으로부터 제1 곡률 반경(RC1)을 가지고 제1 길이만큼 연장되고, 제2 안테나 세그먼트(1120)는 제1 보조 용량성 소자(1711)의 타단으로부터 제1 곡률 반경(RC1)을 가지고 제1 길이만큼 연장될 수 있다.
다른 예로, 제1 안테나 세그먼트(1110)는 제1 보조 용량성 소자(1711)의 일단으로부터 제1 곡률 반경(RC1)을 가지고 제1 길이만큼 연장되고, 제2 안테나 세그먼트(1120)는 제1 보조 용량성 소자(1711)의 타단으로부터 제2 곡률 반경(RC2)을 가지고 제1 길이만큼 연장될 수 있다. 이 때, 제1 곡률 반경(RC1) 및 제2 곡률 반경(RC2)은 동일하거나 서로 다를 수 있다.
또 다른 예로, 제1 안테나 세그먼트(1110)는 제1 보조 용량성 소자(1711)의 일단으로부터 제1 곡률 반경(RC1)을 가지고 제1 길이만큼 연장되고, 제2 안테나 세그먼트(1120)는 제1 보조 용량성 소자(1711)의 타단으로부터 제1 곡률 반경(RC1)을 가지고 제2 길이만큼 연장될 수 있다. 이 때, 제1 길이 및 제2 길이는 동일하거나 서로 다를 수 있다.
보조 용량성 소자는 안테나 세그먼트 사이에 배치될 수 있다. 예를 들어, 다시 도 7을 참조하면, 안테나 구조체(1000)의 제1 턴에서 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140) 사이에 제1 내지 제3 보조 용량성 소자(1711, 1712, 1713)가 배치될 수 있다. 제1 보조 용량성 소자(1711)는 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 제2 안테나 세그먼트(1120) 사이에 배치될 수 있다. 제2 보조 용량성 소자(1712)는 제2 안테나 세그먼트(1120) 및 제3 안테나 세그먼트(1130) 사이에 배치될 수 있다. 제3 보조 용량성 소자(1713)는 제3 안테나 세그먼트(1130) 및 제4 안테나 세그먼트(1140) 사이에 배치될 수 있다. 안테나 구조체(1000)의 제2 턴에서 제5 내지 제8 안테나 세그먼트(1210, 1220, 1230, 1240) 사이에 제4 내지 제6 보조 용량성 소자(1721, 1722, 1723)가 배치될 수 있다. 제4 보조 용량성 소자(1721)는 제5 안테나 세그먼트(1210) 및 제6 안테나 세그먼트(1220) 사이에 배치될 수 있다. 제5 보조 용량성 소자(1722)는 제6 안테나 세그먼트(1220) 및 제7 안테나 세그먼트(1230) 사이에 배치될 수 있다. 제6 보조 용량성 소자(1723)는 제7 안테나 세그먼트(1230) 및 제8 안테나 세그먼트(1240) 사이에 배치될 수 있다.
여기서, 제1 보조 용량성 소자(1711)는 제2 보조 용량성 소자(1712)와 원호 방향으로 인접하고 제4 보조 용량성 소자(1721)와 중심축(CA)에 수직하는 방향으로 인접하게 배치될 수 있다. 제2 보조 용량성 소자(1712)는 제1 보조 용량성 소자(1711) 및 제3 보조 용량성 소자(1713)와 원호 방향으로 인접하고 제5 보조 용량성 소자(1722)와 중심축(CA)에 수직하는 방향으로 인접하게 배치될 수 있다. 제3 보조 용량성 소자(1713)는 제2 보조 용량성 소자(1712)와 원호 방향으로 인접하고 제6 보조 용량성 소자(1723)와 중심축(CA)에 수직하는 방향으로 인접하게 배치될 수 있다.
보조 용량성 소자는 안테나 세그먼트와 특정 위치 관계를 갖도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 보조 용량성 소자(1711)는 제1 안테나 세그먼트(1110)의 타단 및 제2 안테나 세그먼트(1120)의 일단을 연결하는 가상의 선을 지나도록 배치될 수 있다. 또 다른 예로, 제1 보조 용량성 소자(1711)는 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 제2 안테나 세그먼트(1120)와 도선 등의 전기적 연결부재를 통해 연결되되, 연결되는 안테나 세그먼트에 비해 중심축(CA)으로부터 더 이격되어 배치될 수 있다. 또 다른 예로, 제1 보조 용량성 소자(1711)는 제1 턴 및 제2 턴 사이에 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 보조 용량성 소자(1711)는 중심축(CA)으로부터 제1 곡률 반경(RC1) 보다 크고 제2 곡률 반경(RC2) 보다 작은 거리에 배치될 수 있다.
또는, 보조 용량성 소자는 안테나 세그먼트가 배치된 평면과 다른 평면에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제6 보조 용량성 소자(1711, 1712, 1713, 1721, 1722, 1723) 중 적어도 하나는 제1 평면(P1)으로부터 미리 설정된 거리만큼 이격되어 배치될 수 있다. 여기서, 미리 설정된 거리는 보조 용량성 소자의 부피 또는 크기 등을 고려할 수 있다.
보조 용량성 소자는 안테나 세그먼트 사이에서 상호 간에 미리 설정된 위치 관계를 갖도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 다시 도 7을 참조하면, 제1 내지 제6 보조 용량성 소자(1711, 1712, 1713, 1721, 1722, 1723) 중 적어도 둘은 중심축(CA)을 기준으로 대칭되도록 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 보조 용량성 소자(1711) 및 제3 보조 용량성 소자(1713)는 중심축(CA)을 기준으로 대칭을 이룰 수 있다. 또 다른 예로, 제1 턴의 보조 용량성 소자 및 제2 턴의 보조 용량성 소자는 서로 대응되는 위치에 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 보조 용량성 소자(1711) 및 제4 보조 용량성 소자(1721)를 연결하는 연장선은 중심축(CA)과 만날 수 있다. 또는, 제1 보조 용량성 소자(1711) 및 제4 보조 용량성 소자(1721)를 연결하는 연장선은 제3 보조 용량성 소자(1713) 및 제6 보조 용량성 소자(1723)를 지날 수 있다. 또는, 제1 보조 용량성 소자(1711) 및 제4 보조 용량성 소자(1721)를 연결하는 연장선과 제2 보조 용량성 소자(1712) 및 제5 보조 용량성 소자(1722)를 연결하는 연장선은 중심축(CA)으로부터 미리 설정된 범위 내에서 만나거나, 꼬인 위치에 있을 수 있다.
상술한 바와 유사한 방법으로 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)는 제1 내지 제3 보조 용량성 소자(1711, 1712, 1713)를 통해 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 제5 내지 제8 안테나 세그먼트(1210, 1220, 1230, 1240)는 제4 내지 제6 보조 용량성 소자(1721, 1722, 1723)를 통해 전기적으로 연결될 수 있다.
보조 용량성 소자의 개수는 안테나 구조체(1000)의 층 수, 턴 수 및 안테나 세그먼트의 수에 기초하여 설정될 수 있다. 예를 들어, 다시 도 7을 참조하면, 안테나 구조체(1000)가 각각 4개의 안테나 세그먼트를 갖는 두 턴을 포함하는 한 층으로 구성되는 경우 안테나 구조체(1000)는 7개의 보조 용량성 소자를 포함할 수 있다.
한편, 안테나 구조체(1000)를 구성하는 복수의 턴은 각각 서로 다른 개수의 안테나 세그먼트를 포함할 수 있다. 일 예로, 도 8을 참조하면 안테나 구조체(1000)는 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)를 포함하는 제1 턴 및 제5 내지 제10 안테나 세그먼트(1210, 1220, 1230, 1240, 1250, 1260)를 포함하는 제2 턴을 포함할 수 있다.
여기서, 안테나 구조체(1000) 내 각각의 안테나 세그먼트는 실질적으로 동일하거나 서로 다른 길이를 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 턴의 안테나 세그먼트 및 제2 턴의 안테나 세그먼트는 모두 동일한 길이를 가질 수 있다. 또 다른 예로, 제1 턴의 안테나 세그먼트 각각은 제1 길이를 가지고, 제2 턴의 안테나 세그먼트 각각은 제1 길이보다 짧은 제2 길이를 가질 수 있다. 이 때, 제1 길이 및 제2 길이는 각 턴의 곡률 반경에 기초하여 설정될 수 있다. 이 때, 안테나 구조체(1000)의 각 턴을 구성하는 안테나 세그먼트가 반드시 동일한 길이로 연장되어야 하는 것은 아니다.
한편, 안테나 구조체(1000)를 구성하는 복수의 턴이 각각 서로 다른 개수의 안테나 세그먼트를 포함하는 경우, 안테나 구조체(1000) 내 각 턴은 서로 다른 개수의 보조 용량성 소자를 포함할 수 있다. 일 예로, 다시 도 8을 참조하면 안테나 구조체(1000)의 제1 턴은 제1 내지 제3 보조 용량성 소자(1711, 1712, 1713)을 포함하고, 제2 턴은 제4 내지 제8 보조 용량성 소자(1721, 1722, 1723, 1724, 1725)를 포함할 수 있다.
여기서, 안테나 구조체(1000)의 제1 턴에 포함되는 보조 용량성 소자 및 제2 턴에 포함되는 보조 용량성 소자는 미리 설정된 위치 관계를 가질 수 있다. 구체적으로, 제1 턴에 포함되는 보조 용량성 소자 중 적어도 하나와 제2 턴에 포함되는 보조 용량성 소자 중 적어도 하나는 일직선 상에 위치할 수 있다. 예를 들어, 다시 도 8을 참조하면, 안테나 구조체(1000)의 제1 턴의 제2 보조 용량성 소자(1712) 및 제2 턴의 제6 보조 용량성 소자(1723)는 중심축(CA)에 수직이고 안테나 구조체(100)의 중심을 지나는 직선으로부터 미리 설정된 영역 내에 배치될 수 있다. 다만, 안테나 구조체(1000) 내 보조 용량성 소자 사이의 위치 관계가 상술한 경우로 한정되는 것은 아니며, 안테나 구조체(1000) 내 보조 용량성 소자는 상호간에 특정 위치 관계 없이 임의로 배치될 수도 있다.
안테나 구조체(1000)를 구성하는 복수의 층은 각각 서로 다른 개수의 안테나 세그먼트 및 서로 다른 개수의 보조 용량성 소자를 포함할 수 있다. 서로 다른 층이 포함하는 안테나 세그먼트 수 및 보조 용량성 소자 수는 앞서 서술한 서로 다른 턴이 포함하는 안테나 세그먼트 및 보조 용량성 소자 수가 설정되는 방법과 유사한 방법으로 설정될 수 있다.
보조 용량성 소자는 턴 사이에 배치되어 안테나 세그먼트를 전기적 또는 물리적으로 연결할 수 있다. 예를 들어, 다시 도 7을 참조하면, 보조 용량성 소자는 제1 턴 및 제2 턴 사이에 배치되어 제1 턴 및 제2 턴을 전기적으로 연결할 수 있다. 구체적으로, 제1 턴간 용량성 소자(1731)는 제1 턴을 구성하는 제4 안테나 세그먼트(1140)와 제2 턴을 구성하는 제5 안테나 세그먼트(1210)를 직렬 연결할 수 있다. 이 때, 제1 턴간 용량성 소자(1731)는 직접 또는 도선 등의 별도의 연결부를 통해 안테나 세그먼트와 연결될 수 있으며, 이로 인해 제1 턴간 용량성 소자(1731)와 연결되는 안테나 세그먼트는 다른 안테나 세그먼트 보다 짧거나 긴 길이를 가질 수도 있다. 도시하지는 않았으나, 제1 턴간 용량성 소자(1731)는 제1 턴을 구성하는 제1 안테나 세그먼트(1110)와 제2 턴을 구성하는 제8 안테나 세그먼트(1240)를 직렬 연결할 수도 있다. 이 때, 안테나 구조체(1000)는 제1 평면(P1)에서 제2 평면(P2)을 바라보는 방향을 기준으로 반시계 방향으로 안쪽 턴에서 바깥쪽 턴으로 감길 수 있다.
여기서, 턴간 용량성 소자는 턴 사이를 연결하기 위해 다른 보조 용량성 소자와 다른 형상을 갖거나 별도의 연결부를 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 턴간 용량성 소자(1731)의 일단과 타단은 중심축(CA)으로부터 서로 다른 거리로 이격될 수 있다. 구체적으로, 제1 턴의 제4 안테나 세그먼트(1140)와 연결되는 제1 턴간 용량성 소자(1731)의 일단은 제2 턴의 제5 안테나 세그먼트(1210)와 연결되는 제1 턴간 용량성 소자(1731)의 타단보다 중심축(CA)으로부터 짧은 이격 거리를 가질 수 있다. 또 다른 예로, 제1 턴간 용량성 소자(1731)는 제1 턴간 용량성 소자(1731)의 일단에서 제4 안테나 세그먼트(1140)로 연장되는 제1 연결부 및 제1 턴간 용량성 소자(1731) 타단에서 제5 안테나 세그먼트(1210)로 연장되는 제2 연결부를 포함할 수 있다. 이 때, 제1 연결부 및 제2 연결부는 직선 또는 곡선의 도선을 포함할 수 있고 중심축(CA)으로부터 서로 다른 거리로 이격될 수 있다.
안테나 구조체(1000)가 턴간 용량성 소자를 포함함으로써, 안테나 구조체(1000) 내 모든 안테나 세그먼트는 전기적으로 연결될 수 있다.
메인 용량성 소자(1500, 1600)는 안테나 세그먼트와 RF 전원(200)을 물리적 또는 전기적으로 연결시킬 수 있다. 예를 들면, 다시 도 7을 참조하면, 제1 메인 용량성 소자(1500)는 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 인버터(230)의 제1 단자를 전기적으로 연결하고, 제2 메인 용량성 소자(1600)는 제8 안테나 세그먼트(1240) 및 인버터(230)의 제2 단자를 전기적으로 연결할 수 있다.
또는, 도 7에서 도시된 바와 다르게 제1 메인 용량성 소자(1500)는 제4 안테나 세그먼트(1140) 및 인버터(230)의 제1 단자를 전기적으로 연결하고, 제2 메인 용량성 소자(1600)는 제5 안테나 세그먼트(1240) 및 인버터(230)의 제2 단자를 전기적으로 연결할 수 있다.
한편, 안테나 구조체(1000)가 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)를 포함하는 제1 턴으로 구현되는 경우, 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 제4 안테나 세그먼트(1140) 중 어느 하나는 제1 메인 용량성 소자(1500)을 통해 인버터(230)의 제1 단자와 전기적으로 연결되고 다른 하나는 제2 메인 용량성 소자(1600)를 통해 인버터(230)의 제2 단자와 전기적으로 연결될 수 있다.
메인 용량성 소자(1500, 1600)는 RF 전원(200)과 안테나 구조체(1000)를 연결하기 위해 특정 형상을 갖거나 별도의 연결부를 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 메인 용량성 소자(1500)는 제1 안테나 세그먼트(1110) 일단에서 중심축(CA)에 평행하는 방향으로 연장될 수 있다. 또는, 제1 메인 용량성 소자(1500)는 제1 안테나 세그먼트(1110) 일단에서 중심축(CA)으로부터 멀어지는 방향으로 연장될 수 있다. 또는, 제1 메인 용량성 소자(1500)는 제1 평면(P1)에 수직인 방향에서 바라볼 때 제1 메인 용량성 소자(1500)의 적어도 일부가 제1 턴간 용량성 소자(1731) 및 안테나 세그먼트의 적어도 일부와 중첩되도록 배치될 수 있다. 제2 메인 용량성 소자(1600)는 제8 안테나 세그먼트(1240) 타단에서 제1 평면(P1)에 평행하게 연장될 수 있다. 또는, 제2 메인 용량성 소자(1600)는 제8 안테나 세그먼트(1240) 타단에서 중심축(CA)에 평행하는 방향으로 연장될 수 있다.
한편, 제1 메인 용량성 소자(1500) 및 제2 메인 용량성 소자(1600) 중 적어도 하나는 안테나 구조체(1000)에서 생략될 수 있다. 이 경우, RF 전원(200)은 메인 용량성 소자(1500, 1600)에 대응되는 전기적 소자를 제공할 수 있다. 또한, 보조 용량성 소자 중 적어도 일부가 생략될 수도 있다.
또한, 메인 용량성 소자(1500, 1600) 및 보조 용량성 소자는 안테나 세그먼트로부터 일정 거리 이격되어 배치될 수도 있다. 예를 들어, 보조 용량성 소자는 그 크기나 부피가 큰 경우, 안테나 세그먼트에서 일정 거리 이격된 상태에서 전도체 또는 도선 등의 별도의 연결부를 통해 안테나 세그먼트와 연결될 수 있다.
메인 용량성 소자(1500, 1600) 및 보조 용량성 소자와 안테나 세그먼트가 연결되는 방법에 따라 안테나 구조체(1000)에서 전류가 흐르는 방향이 결정될 수 있다. 예를 들어, 다시 도 7을 참조하면, 제1 메인 용량성 소자(1500)가 제1 안테나 세그먼트(1110)와 직렬 연결되고 제4 안테나 세그먼트(1140) 및 제5 안테나 세그먼트(1210)가 제1 턴간 용량성 소자(1731)를 통해 직렬 연결되며, 제2 메인 용량성 소자(1600)가 제8 안테나 세그먼트(1240)와 직렬 연결되는 경우 안테나 구조체(1000)에 전원이 인가되면 제1 턴 및 제2 턴은 같은 방향(시계 방향 또는 반시계 방향)으로 전류가 흐를 수 있다. 또 다른 예로, 도 6에 도시된 바와 달리 제1 메인 용량성 소자(1500)가 제4 안테나 세그먼트(1140)와 직렬 연결되고 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 제8 안테나 세그먼트(1210)가 제1 턴간 용량성 소자(1731)를 통해 직렬 연결되며, 제2 메인 용량성 소자(1600)가 제5 안테나 세그먼트(1210)와 직렬 연결되는 경우 안테나 구조체(1000)에 전원이 인가되면 제1 턴 및 제2 턴은 같은 방향(시계 방향 또는 반시계 방향)으로 전류가 흐를 수 있다. 이 때, 제1 턴 및 제2 턴에 같은 방향으로 전류가 흐르는 경우 제1 턴 및 제2 턴에 서로 다른 방향으로 전류가 흐르는 경우보다 플라즈마 발생을 위한 유도 전기장의 세기가 증가할 수 있으며 안테나 세그먼트 사이의 전위차가 줄어 들어 기생 커패시터의 영향을 줄일 수 있다.
안테나 구조체(1000)는 메인 용량성 소자(1500, 1600)을 통해 RF 전원(200)으로부터 가변 구동 주파수를 갖는 교류 신호를 인가 받아 플라즈마를 발생시킬수 있다.
여기서, 안테나 구조체(1000)에 인가되는 교류 신호의 구동 주파수는 안테나 구조체(1000) 및 플라즈마를 포함하는 부하의 공진 주파수에 기초하여 시변할 수 있다.
보조 용량성 소자는 소정의 전기 용량 또는 정전 용량(capacity or capacitance)을 가질 수 있다. 예를 들어, 보조 용량성 소자의 정전 용량은 RF 전원(200)의 구동 주파수 범위, 안테나 구조체(1000)가 가져야 하는 공진 주파수, 안테나 세그먼트 개수 및 안테나 세그먼트의 인덕턴스 중 적어도 하나에 기초하여 설정될 수 있다. 구체적으로, 안테나 구조체(1000)가 공진 주파수 f_r를 가지고, 안테나 구조체(1000) 내 안테나 인덕턴스의 총 인덕턴스가 L_tot일 때, 안테나 세그먼트와 연결된 메인 용량성 소자(1500, 1600) 및 보조 용량성 소자의 총 정전 용량 C_tot이 아래의 식(1)을 만족하도록 보조 용량성 소자의 정전 용량이 설정될 수 있다.
Figure PCTKR2021002139-appb-I000001
이 때, 보조 용량성 소자 각각의 전기 용량 C_a는 제1 메인 용량성 소자(1500) 및 제2 메인 용량성 소자(1600)의 직렬 연결에 의한 정전 용량이 하나의 보조 용량성 소자와 등가인 경우 상기 식(1)을 만족하는 C_tot에 안테나 구조체(1000)가 포함하는 안테나 세그먼트의 개수를 곱한 값으로 설정될 수 있다. 또는, 보조 용량성 소자 각각의 전기 용량 C_a는 안테나 구조체(1000)의 공진 주파수가 f_r로 설정되고 안테나 세그먼트 각각의 인덕턴스가 L_a 일 때, 다음의 식(2)를 만족하도록 설정될 수도 있다.
Figure PCTKR2021002139-appb-I000002
구체적으로, 안테나 구조체(1000) 내 안테나 세그먼트 각각이 약 1uH의 인덕턴스를 가지고 안테나 구조체(1000)의 공진 주파수가 5.03MHz 주파수로 특정된 경우 보조 용량성 소자 각각의 정전 용량은 약 1nF으로 설정될 수 있다. 또는, 안테나 구조체(1000) 내 안테나 세그먼트 각각이 약 0.7uH의 인덕턴스를 가지고 보조 용량성 소자 각각의 정전 용량이 약 3.32nF으로 설정되는 경우 안테나 구조체(1000)는 약 3.3MHz의 구동 주파수에서 공진 조건을 만족하며 구동될 수 있다.
보조 용량성 소자의 정전 용량이 상술한 조건을 만족하도록 설정되는 경우, 안테나 구조체(1000)의 각 안테나 세그먼트는 일정 범위의 전위값을 갖게 되어 안테나 세그먼트 사이의 전위차가 감소할 수 있다. 이로써 축전 결합에 의한 정전 전기장이 축소되어 안테나 구조체(1000)의 소비전력이 줄어들고 플라즈마 시스템(10)의 내구성 또는 플라즈마의 안전성 등이 향상될 수 있다. 안테나 구조체(1000) 내 안테나 세그먼트 사이에 보조 용량성 소자가 배치됨에 따라 각 안테나 세그먼트가 갖는 전위에 관하여는 후술하도록 한다.
메인 용량성 소자(1500, 1600)는 소정의 전기 용량 또는 정전 용량을 가질 수 있다. 예를 들어, 메인 용량성 소자(1500, 1600)의 정전 용량은 RF 전원(200)의 구동 주파수 범위, 안테나 구조체(1000)가 가져야 하는 공진 주파수, 안테나 세그먼트 개수, 안테나 세그먼트의 인덕턴스 및 보조 용량성 소자 각각의 정전 용량 중 적어도 하나에 기초하여 설정될 수 있다. 구체적으로, 제1 메인 용량성 소자(1500)의 정전 용량이 C1, 제2 메인 용량성 소자(1600)의 정전 용량이 C2, 보조 용량성 소자 각각의 정전 용량이 C_a 일 때, C1 및 C2는 특정 조건을 만족하도록 설정될 수 있다. 보다 구체적으로, C1 및 C2는 다음의 식(3)을 만족하도록 설정될 수 있다.
Figure PCTKR2021002139-appb-I000003
메인 용량성 소자(1500, 1600)가 상술한 식(3)를 만족하는 경우, 안테나 구조체(1000) 내 안테나 세그먼트에 인가되는 최대 전압을 낮추고 공진 효과를 향상시켜 플라즈마 시스템(10)의 안정성 및 효율이 증대될 수 있다.
이상에서는 안테나 구조체(1000)가 각각 네 개의 안테나 세그먼트가 두 턴으로 배치되어 구현된 경우를 주된 실시예로 서술하였으나, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니며, 각각 복수의 안테나 세그먼트를 갖는 복수의 턴으로 구현되는 안테나 구조체(1000)에서도 상술한 방식과 유사하게 메인 용량성 소자(1500, 1600) 및 보조 용량성 소자가 배치될 수 있다.
도 9 및 도 10을 참조하면, 안테나 구조체(1000)는 튜브형으로 구현되며 안테나 세그먼트, 제1 메인 용량성 소자(1500), 제2 메인 용량성 소자(1600) 및 보조 용량성 소자를 포함할 수 있다.
이하에서는 별도의 설명이 없는 경우 도 5 내지 도 8을 참조하여 서술한 내용이 동일하게 적용될 수 있으며 중복되는 내용은 생략하도록 한다. 예를 들어, 튜브형 안테나 구조체는 복수의 안테나 구조체가 서로 다른 평면에 배치되되 상호 물리적 또는 전기적으로 연결된 것으로 이해될 수 있다.
튜브형으로 구현된 안테나 구조체(1000)가 포함하는 안테나 세그먼트는 복수의 층(layer)으로 배치될 수 있다.
다시 도 9를 참조하면, 안테나 세그먼트는 중심축(CA)을 기준으로 제1 평면(P1) 및 제2 평면(P2)에 두 층으로 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 층은 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)를 포함하고, 제2 층은 제9 내지 제12 안테나 세그먼트(1310, 1320, 1330, 1340)를 포함할 수 있다. 여기서, 제1 층의 안테나 세그먼트는 제1 곡률 반경(RC1)을 가지고, 제2 층의 안테나 세그먼트는 제1 곡률 반경(RC1)에 대응되는 곡률 반경을 가질 수 있다.
여기서, 제2 평면(P2)은 중심축(CA)에 수직하거나 한 점에서 만나는 가상의 평면을 의미할 수 있다. 또는, 제2 평면(P2)은 제1 평면(P1)과 평행하는 평면을 의미할 수도 있다.
제2 층의 안테나 세그먼트 각각은 제1 층의 안테나 세그먼트 각각에 대응되도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140)가 제1 평면(P1)의 제1 내지 제4 사분면에 각각 배치될 때, 제9 내지 제12 안테나 세그먼트(1310, 1320, 1330, 1340)는 제2 평면(P1)의 제1 내지 제4 사분면에 각각 배치될 수 있다.
제2 층의 안테나 세그먼트는 제1 층의 안테나 세그먼트의 길이에 대응되는 길이로 연장될 수 있다. 예를 들어, 제1 안테나 세그먼트(1110)가 제1 길이로 연장되어 배치될 때, 제9 안테나 세그먼트(1310)는 제1 길이로 연장될 수 있다. 여기서, 제1 길이로 연장되는 제1 안테나 세그먼트(1110)가 중심축(CA)과 이루는 중심각은 마찬가지로 제2 평면(P2)에서 제1 길이로 연장되는 제9 안테나 세그먼트(1310)가 중심축(CA)과 이루는 중심각과 대응될 수 있다.
제1 층과 제2 층 사이의 거리는 안테나 세그먼트 사이에 발생할 수 있는 기생 커패시턴스에 기초하여 설정될 수 있다. 예를 들어, 제1 층과 제2 층 사이의 거리는 안테나 구조체(1000)에 전원이 인가될 때 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 제9 안테나 세그먼트(1310) 사이에 기생 커패시턴스 영향이 최소화되는 거리로 설정될 수 있다. 구체적으로, 제1 층과 제2 층 사이의 거리는 0.5mm 내지 1.5mm 범위 내에서 설정될 수 있다. 이 때, 제1 층 및 제2 층 사이의 거리는 특정 구동 주파수에서 플라즈마 시스템(10)가 구동될 때, 층간 아크 방전이 발생하는 것을 방지하기 위한 거리로 설정될 수 있다.
제2 층의 안테나 세그먼트의 인덕턴스는 제1 층의 안테나 세그먼트의 인덕턴스에 기초하여 설정될 수 있다. 예를 들어, 제9 안테나 세그먼트(1310)의 인덕턴스는 제1 안테나 세그먼트(1110)의 인덕턴스와 대응될 수 있다. 또 다른 예로, 제9 안테나 세그먼트(1310)의 인덕턴스는 제1 안테나 세그먼트(1110)의 인덕턴스보다 크게 설정될 수 있다.
튜브형으로 구현된 안테나 구조체(1000)는 플라즈마 발생부(2000) 주위에 배치될 수 있다. 예를 들어, 다시 도 9를 참조하면, 안테나 세그먼트는 플라즈마 발생부(2000) 주위에 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140) 및 제9 내지 제12 안테나 세그먼트(1310, 1320, 1330, 1340)는 플라즈마 발생부(2000)에 접촉되도록 배치될 수 있다.
튜브형으로 구현된 안테나 구조체(1000)는 보조 용량성 소자를 포함할 수 있다. 예를 들어, 다시 도 9를 참조하면, 안테나 구조체(1000)의 제1 층에서 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140) 사이에 제1 내지 제3 보조 용량성 소자(1711, 1712, 1713)가 배치될 수 있다. 제1 보조 용량성 소자(1711)는 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 제2 안테나 세그먼트(1120) 사이에 배치될 수 있다. 제2 보조 용량성 소자(1712)는 제2 안테나 세그먼트(1120) 및 제3 안테나 세그먼트(1130) 사이에 배치될 수 있다. 제3 보조 용량성 소자(1713)는 제3 안테나 세그먼트(1130) 및 제4 안테나 세그먼트(1140) 사이에 배치될 수 있다. 안테나 구조체(1000)의 제2 층에서 제9 내지 제12 안테나 세그먼트(1310, 1320, 1330, 1340) 사이에 제7 내지 제9 보조 용량성 소자(1751, 1752, 1753)가 배치될 수 있다. 제7 보조 용량성 소자(1751)는 제9 안테나 세그먼트(1310) 및 제10 안테나 세그먼트(1320) 사이에 배치될 수 있다. 제8 보조 용량성 소자(1752)는 제10 안테나 세그먼트(1320) 및 제11 안테나 세그먼트(1330) 사이에 배치될 수 있다. 제9 보조 용량성 소자(1753)는 제11 안테나 세그먼트(1330) 및 제12 안테나 세그먼트(1340) 사이에 배치될 수 있다.
여기서, 제7 보조 용량성 소자(1751)는 제8 보조 용량성 소자(1752)와 원호 방향으로 인접하고 제1 보조 용량성 소자(1711)와 중심축(CA)에 평행하는 방향으로 인접하게 배치될 수 있다. 제8 보조 용량성 소자(1752)는 제7 보조 용량성 소자(1751) 및 제9 보조 용량성 소자(1753)와 원호 방향으로 인접하고 제2 보조 용량성 소자(1712)와 중심축(CA)에 평행하는 방향으로 인접하게 배치될 수 있다. 제9 보조 용량성 소자(1753)는 제8 보조 용량성 소자(1752)와 원호 방향으로 인접하고 제3 보조 용량성 소자(1713)와 중심축(CA)에 평행하는 방향으로 인접하게 배치될 수 있다.
보조 용량성 소자는 층 사이에서 상호 간에 미리 설정된 위치 관계를 갖도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 다시 도 9를 참조하면, 제1 내지 제3 보조 용량성 소자(1711, 1712, 1713) 및 제7 내지 제9 보조 용량성 소자(1751, 1752, 1753) 중 적어도 둘은 중심축(CA)에 평행하는 가상선상에 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 보조 용량성 소자(1711) 및 제7 보조 용량성 소자(1751)를 연결하는 가상의 연장선은 중심축(CA)과 평행할 수 있다. 또 다른 예로, 제1 층의 보조 용량성 소자 및 제2 층의 보조 용량성 소자는 서로 대응되는 위치에 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 내지 제3 보조 용량성 소자(1711, 1712, 1713) 중 어느 하나와 제7 내지 제9 보조 용량성 소자(1751, 1752, 1753) 중 어느 하나를 연결하는 가상의 연장선과 제1 내지 제3 보조 용량성 소자(1711, 1712, 1713) 중 다른 하나와 제7 내지 제9 보조 용량성 소자(1751, 1752, 1753) 중 다른 하나를 연결하는 가상의 연장선은 중심축(CA) 또는 중심축(CA)으로부터 미리 설정된 영역 내에서 만나거나 서로 꼬인 위치에 있을 수 있다.
보조 용량성 소자는 플라즈마 발생부(2000)에 부착되거나 이격되어 배치될 수 있다. 예를 들어, 다시 도 8을 참조하면, 제1 보조 용량성 소자(1711)는 중심축(CA)으로부터 제1 곡률 반경(RC1)만큼 이격되어 배치되어 플라즈마 발생부(2000)와 접촉할 수 있다. 또 다른 예로, 제1 보조 용량성 소자(1711)는 중심축(CA)으로부터 제1 곡률 반경(RC1) 보다 긴 거리만큼 이격되어 배치되어 플라즈마 발생부(2000)와 접촉하지 않을 수 있다.
튜브형으로 구현된 안테나 구조체(1000) 내 배치되는 보조 용량성 소자는 층간 용량성 소자를 포함할 수 있다. 예를 들어, 다시 도 9를 참조하면, 제1 층 및 제2 층은 제1 층간 용량성 소자(1741)을 통해 전기적으로 직렬 연결될 수 있다. 구체적으로, 제1 층간 용량성 소자(1741)는 제1 층을 구성하는 제4 안테나 세그먼트(1140)와 제2 층을 구성하는 제9 안테나 세그먼트(1310)를 직렬 연결할 수 있다. 또는, 도 9에 도시된 바와 다르게, 제1 층간 용량성 소자(1741)는 제1 층을 구성하는 제1 안테나 세그먼트(1110)와 제2 층을 구성하는 제12 안테나 세그먼트(1340)를 직렬 연결할 수 있다.
여기서, 층간 용량성 소자는 층 사이를 연결하기 위해 다른 보조 용량성 소자와 다른 형상을 갖거나 별도의 연결부를 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 층간 용량성 소자(1741)의 일단과 타단은 서로 다른 평면에 위치할 수 있다. 구체적으로, 제1 층의 제4 안테나 세그먼트(1140)와 연결되는 제1 층간 용량성 소자(1741)의 일단은 제1 평면(P1)에 위치하고, 제2 층의 제9 안테나 세그먼트(1310)와 연결되는 제1 층간 용량성 소자(1741)의 타단은 제2 평면(P2)에 위치할 수 있다. 또 다른 예로, 제1 층간 용량성 소자(1741)는 제1 층간 용량성 소자(1741)의 일단에서 제4 안테나 세그먼트(1140)로 연장되는 제3 연결부 및 제1 층간 용량성 소자(1741) 타단에서 제9 안테나 세그먼트(1310)로 연장되는 제4 연결부를 포함할 수 있다. 이 때, 제3 연결부 및 제4 연결부는 직선 또는 곡선의 도선을 포함할 수 있고 플라즈마 발생부(2000)에 부착되거나 일정 거리 이격될 수 있다. 이 때, 제1 층간 용량성 소자(1741)와 연결되는 안테나 세그먼트는 다른 안테나 세그먼트 보다 짧거나 긴 길이를 가질 수도 있다.
안테나 구조체(1000)가 층간 용량성 소자를 포함함으로써, 안테나 구조체(1000) 내 모든 안테나 세그먼트는 전기적으로 연결될 수 있다.
튜브형으로 구현된 안테나 구조체(1000)는 메인 용량성 소자(1500, 1600)를 통해 RF 전원(200)과 물리적 또는 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들면, 다시 도 9를 참조하면, 제1 안테나 세그먼트(1110)는 제1 메인 용량성 소자(1500)을 통해 인버터(230)의 제1 단자와 전기적으로 연결되고 제12 안테나 세그먼트(1340)는 제2 메인 용량성 소자(1600)를 통해 인버터(230)의 제2 단자와 전기적으로 연결될 수 있다. 또는, 제4 안테나 세그먼트(1140)는 제1 메인 용량성 소자(1500)을 통해 인버터(230)의 제1 단자와 전기적으로 연결되고 제9 안테나 세그먼트(1310)는 제2 메인 용량성 소자(1600)를 통해 인버터(230)의 제2 단자와 전기적으로 연결될 수 있다.
메인 용량성 소자(1500, 1600) 및 보조 용량성 소자와 안테나 세그먼트가 연결되는 방법에 따라 안테나 구조체(1000)에서 전류가 흐르는 방향이 결정될 수 있다. 예를 들어, 다시 도 9를 참조하면, 제1 메인 용량성 소자(1500)가 제1 안테나 세그먼트(1110)와 직렬 연결되고 제4 안테나 세그먼트(1140) 및 제9 안테나 세그먼트(1310)가 제1 층간 용량성 소자(1741)를 통해 직렬 연결되며, 제2 메인 용량성 소자(1600)가 제12 안테나 세그먼트(1340)와 직렬 연결되는 경우 안테나 구조체(1000)에 전원이 인가되면 제1 층 및 제2 층은 같은 방향(시계 방향 또는 반시계 방향)으로 전류가 흐를 수 있다. 이 때, 제1 층 및 제2 층에 같은 방향으로 전류가 흐르는 경우 제1 층 및 제2 층에 서로 다른 방향으로 전류가 흐르는 경우보다 플라즈마 발생을 위한 유도 전기장의 세기가 증가할 수 있으며 안테나 세그먼트 사이의 전위차가 줄어 들어 기생 커패시터의 영향을 줄일 수 있다.
튜브형으로 구현된 안테나 구조체(1000)는 복수의 턴 및 복수의 층에 배치된 안테나 세그먼트를 포함할 수 있다.
도 10을 참조하면, 튜브형으로 구현된 안테나 구조체(1000)는 제1 층 제1 턴에 배치되는 제1 내지 제4 안테나 세그먼트(1110, 1120, 1130, 1140), 제1 층 제2 턴에 배치되는 제5 내지 제8 안테나 세그먼트(1210, 1220, 1230, 1240), 제2 층 제1 턴에 배치되는 제9 내지 제12 안테나 세그먼트(1310, 1320, 1330, 1340), 제2 층 제2 턴에 배치되는 제13 내지 제16 안테나 세그먼트(1410, 1420, 1430, 1440), 메인 용량성 소자(1500, 1600) 및 보조 용량성 소자를 포함할 수 있다.
도 10에 도시된 튜브형으로 구현된 안테나 구조체(1000)는 도 7 내지 도 9에서 서술된 것과 동일/유사하게 안테나 세그먼트가 복수의 턴 및 복수의 층에 배치될 수 있다.
상술한 멀티 턴(multi-turn), 멀티 층(multi-layer)으로 구현되는 안테나 구조체(1000) 내 배치되는 보조 용량성 소자는 턴간 용량성 소자 및 층간 용량성 소자를 포함할 수 있다. 예를 들어, 다시 도 10을 참조하면, 멀티 턴, 멀티 층으로 구현되는 안테나 구조체(1000)는 제1 층에서 턴들을 연결하는 제1 턴간 용량성 소자(1731), 제2 층에서 턴들을 연결하는 제2 턴간 용량성 소자(1733) 및 제1 층 및 제2 층을 연결하는 제1 층간 용량성 소자(1741)를 포함할 수 있다.
한편, 안테나 구조체(1000)에서 안테나 세그먼트가 세 층 이상의 층에 배치되는 경우 안테나 구조체(1000)는 복수의 층간 용량성 소자 또는 층간 연결부를 포함할 수 있다.
여기서, 복수의 층간 용량성 소자 또는 층간 연결부는 상호 미리 설정된 위치 관계를 갖도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 층간 용량성 소자들은 중심축(CA)을 기준으로 소정의 각도 회전되어 배치될 수 있다. 구체적으로, 제1 층 및 제2 층을 연결하는 제1 층간 용량성 소자(1741)는 제2 층 및 제3 층을 연결하는 제2 층간 용량성 소자(미도시)와 중심축(CA)을 기준으로 소정의 각도를 갖도록 배치될 수 있다.
또 여기서, 복수의 층간 용량성 소자 또는 층간 연결부는 각 층에서 턴들이 서로 연결되는 턴간 연결 영역이 중심축(CA)을 기준으로 소정의 각도를 갖도록 안테나 세그먼트를 연결할 수 있다. 예를 들어, 제1 층에서 제1 턴의 제4 안테나 세그먼트(1140) 및 제2 턴의 제5 안테나 세그먼트(1210)가 보조 용량성 소자를 통해 연결되는 경우 제1 층간 용량성 소자(1741)는 제8 안테나 세그먼트(1240) 및 제10 안테나 세그먼트(1320)를 연결하고, 제2 턴간 용량성 소자(1733)는 제9 안테나 세그먼트(1310) 및 제14 안테나 세그먼트(1420)를 연결할 수 있다. 이 때, 턴간 연결 영역은 각 층에서 서로 다른 두 턴이 연결되는 영역이므로 플라즈마 발생부(2000)는 턴간 연결 영역에서 안테나 세그먼트와 접촉하지 않아 안테나 세그먼트 내 흐르는 냉각수에 의해 냉각 효과를 얻기 어려울 수 있다. 다만, 상술한 바와 같이 복수의 층에서 턴들이 서로 연결되는 턴간 연결 영역이 소정의 각도를 이룸으로써, 플라즈마 발생부(2000)가 냉각되지 않는 영역을 층마다 다르게 분산시킬 수 있다.
멀티 턴, 멀티 층으로 구현되는 안테나 구조체(1000)에서 각 층의 각 턴에서 흐르는 전류의 방향은 메인 용량성 소자(1500, 1600) 및 보조 용량성 소자와 안테나 세그먼트가 연결되는 방법에 따라 결정될 수 있다. 예를 들어, 다시 도 10을 참조하면, 제1 메인 용량성 소자(1500)가 제1 안테나 세그먼트(1110)와 직렬 연결되고 제4 안테나 세그먼트(1140) 및 제5 안테나 세그먼트(1210)가 제1 턴간 용량성 소자(1731)를 통해 직렬 연결되며, 제8 안테나 세그먼트(1240) 및 제9 안테나 세그먼트(1310)가 제1 층간 용량성 소자(1741)를 통해 직렬 연결되며, 제12 안테나 세그먼트(1340) 및 제13 안테나 세그먼트(1410)가 제2 턴간 용량성 소자(1733)를 통해 직렬 연결되고, 제2 메인 용량성 소자(1600)가 제16 안테나 세그먼트(1440)와 직렬 연결되는 경우 안테나 구조체(1000)에 전원이 인가되면 제1 층 제1 턴, 제1 층 제2 턴, 제2 층 제1 턴 및 제2 층 제2 턴은 같은 방향(시계 방향 또는 반시계 방향)으로 전류가 흐를 수 있다. 또 다른 예로, 제1 메인 용량성 소자(1500)가 제1 안테나 세그먼트(1110)와 직렬 연결되고 제4 안테나 세그먼트(1140) 및 제5 안테나 세그먼트(1210)가 제1 턴간 용량성 소자(1731)를 통해 직렬 연결되며, 제8 안테나 세그먼트(1240) 및 제13 안테나 세그먼트(1410)가 제1 층간 용량성 소자(1741)를 통해 직렬 연결되며, 제16 안테나 세그먼트(1440) 및 제9 안테나 세그먼트(1310)가 제2 턴간 용량성 소자(1733)를 통해 직렬 연결되고, 제2 메인 용량성 소자(1600)가 제12 안테나 세그먼트(1340)와 직렬 연결되는 경우 안테나 구조체(1000)에 전원이 인가되면 제1 층 제1 턴, 제1 층 제2 턴, 제2 층 제1 턴 및 제2 층 제2 턴은 같은 방향(시계 방향 또는 반시계 방향)으로 전류가 흐를 수 있다.
상술한 바와 같이 각 층의 각 턴이 같은 방향으로 전류가 흐르는 경우 서로 다른 방향으로 전류가 흐르는 경우보다 플라즈마 발생을 위한 유도 전기장의 세기가 증가할 수 있으며 안테나 세그먼트 사이의 전위차가 줄어 들어 기생 커패시터의 영향을 줄일 수 있다.
이상에서는 멀티 턴, 멀티 층 구현되는 안테나 구조체(1000)가 턴 당 네 개의 안테나 세그먼트를 포함하고, 층당 두 턴을 포함하며, 총 두 층으로 구현된 경우를 주된 실시예로 서술하였으나 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니며 안테나 구조체(1000)는 턴 당 p개의 안테나 세그먼트를 포함하고, 층당 q개의 턴을 포함하며, 총 r층으로 구현될 수도 있으며(p, q, r은 자연수), 상술한 내용이 동일/유사하게 적용될 수 있음은 물론이다.
이하에서는 도 11 내지 도 13을 참조하여 안테나 구조체(1000)에 전원이 인가되는 경우에 대하여 서술한다.
한편, 이하에서는 설명의 편의를 위해 별도의 설명이 없는 한 안테나 구조체(1000)는 도 7 내지 도 10에서 도시된 바와 같이 원호를 따라 일 방향으로 일단에서 타단으로 연장되는 복수의 안테나 세그먼트 및 보조 용량성 소자를 포함하는 것으로 가정하나, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니다.
도 11은 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 구조체(1000)의 등가회로에 관한 도면이다.
도 11을 참조하면, 안테나 구조체(1000)의 등가 회로는 커패시터(capacitor)와 인덕터(inductor)가 교번적으로 직렬 연결되어 배치되는 회로를 포함할 수 있다.
안테나 구조체(1000) 등가 회로에서 어느 한 노드의 전압 또는 전위차는 RF 전원(200)에서 안테나 구조체(1000)에 인가하는 교류 전원 또는 교류 신호에 기초하여 설정될 수 있다. 예를 들어, RF 전원(200)이 안테나 구조체(1000)에 진폭 V를 갖는 교류 전압을 인가하면, 안테나 구조체(1000) 내 일 노드에서의 전위차는 V 이하의 진폭으로 진동할 수 있다.
이하에서는, 안테나 구조체(1000)에 교류 전원이 인가되는 경우 용량성 소자 유무에 따른 안테나 구조체(1000) 내 위치별 전압에 대하여 설명한다.
여기서, 위치별 전압은 안테나 구조체(1000) 내 안테나 세그먼트의 위치에서 기준 노드에 대해 갖는 전압을 의미할 수 있다. 예를 들어, 위치별 전압은 안테나 구조체(1000)에 교류 전원이 인가된 후 일 시점에서 각 안테나 세그먼트의 일단, 타단 또는 일단과 타단 사이의 특정 노드에서 기준 노드에 대해 갖는 전압을 의미할 수 있다.
여기서, 기준 노드는 위치별 전압을 산출하기 위한 기준이 되는 지점을 의미할 수 있다. 예를 들어, 기준 노드는 접지 노드, RF 전원(200)의 제1 단자 또는 제2 단자, 일단 또는 타단 및 안테나 구조체(1000) 내의 일 지점을 포함할 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위해 기준 노드가 RF 전원(200)의 일단인 경우를 산정하여 서술하나, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니며, 기준 노드가 다르게 설정되더라도 동일/유사하게 적용될 수 있다.
도 12는 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 구조체(1000) 내 위치에 따른 전위를 나타내는 그래프에 관한 도면이다.
도 12를 참조하면, 안테나 구조체(1000) 내 안테나 세그먼트가 용량성 소자 없이 직렬로 연결되는 경우, 안테나 세그먼트는 임의의 시점에서 서로 다른 범위의 전압을 가질 수 있다. 예를 들어, 안테나 세그먼트가 도 6에 도시된 바와 같이 배치된 상태에서 직렬 연결되는 경우, 교류 전원이 인가됨에 따라 서로 인접한 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 제5 안테나 세그먼트(1210)는 서로 다른 크기의 전압이 인가될 수 있다. 이 경우, 제1 및 제5 안테나 세그먼트(1110, 1210) 사이의 기생 커패시터의 영향이 커져 플라즈마 유도에 바람직하지 않을 수 있다.
다시 도 12를 참조하면, 안테나 구조체(1000) 내 안테나 세그먼트가 용량성 소자 없이 직렬로 연결되는 경우, 용량성 소자에 의한 전압 분배가 불가능하여 안테나 세그먼트 각각에 인가되는 전압의 크기가 커질 수 있다. 이와 같이, 안테나 세그먼트 각각에 인가되는 전압의 크기가 커지면 불필요한 소비전력이 발생하여 플라즈마 시스템(10)이 불안정해질 수 있다.
도 13은 본 명세서의 일 실시예에 따른 용량성 소자를 포함하는 안테나 구조체(1000) 내 위치에 따른 전압을 나타내는 그래프에 관한 도면이다.
도 13을 참조하면, 안테나 구조체(1000)는 제1 메인 용량성 소자(1500) 및 제1 안테나 세그먼트(1110)가 연결되는 제1 노드(N1), 제1 안테나 세그먼트(1110) 및 제1 보조 용량성 소자(1711)가 연결되는 제2 노드(N2), 제1 보조 용량성 소자(1711) 및 제2 안테나 세그먼트(1120)가 연결되는 제3 노드(N3), 제2 안테나 세그먼트(1120) 및 제2 보조 용량성 소자(1712)가 연결되는 제4 노드(N4), 제1 안테나 세그먼트(1110) 내 임의의 위치를 지시하는 제1 지점(Pt1) 및 제2 안테나 세그먼트(1120) 내 임의의 위치를 지시하는 제2 지점(Pt2)을 포함할 수 있다.
여기서, 도 13은 안테나 구조체(1000)에 교류 전원이 인가되는 경우 안테나 세그먼트에 인가되는 최대 전압을 나타내는 그래프이며, 도시된 부호는 위상차를 의미할 수 있다. 또한, 도 13의 전압은 안테나 구조체(1000) 내의 위치별로 최대 전압을 가지는 시점에서의 전압을 의미할 수 있다. 한편, 교류 파형에서 최대 전압은 양의 값을 가질 때와 음의 값을 가질 때로 나뉠 수 있고, 도 13의 그래프는 제1 노드(N1)가 음의 최대 전압을 가지는 시점을 기준으로 안테나 구조체(1000) 내의 위치별 전압을 나타낸 것으로 해석될 수 있다. 예를 들어, -V'와 +V'의 최대 전압을 가지는 제1 노드(N1)와 제2 노드(N2)는 절대 값인 V'만큼의 최대 전압을 가지며, 서로 부호가 반대되는 교류 전압이 인가되었음을 의미할 수 있다. 즉, 제1 노드(N1)와 제2 노드(N2)에는 진폭이 V'이고 서로 반주기만큼 위상차를 가지는 교류 전압이 인가되었음을 의미할 수 있다. 다시 말해, 제1 노드(N1)를 통해 -V'라는 전압 값이 측정되는 시점에는 제2 노드(N2)를 통해 +V'라는 전압 값이 측정될 수 있다.
다시 도 13을 참조하면, 안테나 구조체(1000)에서 서로 대응되는 노드의 전압은 서로 대응될 수 있다. 예를 들어, 제1 노드(N1) 및 제3 노드(N3)의 전압은 서로 대응될 수 있다. 또는, 제1 노드(N1) 및 제3 노드(N3)의 최대 전압은 서로 대응될 수 있다. 제2 노드(N2) 및 제4 노드(N4)의 전압은 서로 대응될 수 있다. 또는, 제2 노드(N2) 및 제4 노드(N4)의 최대 전압은 서로 대응될 수 있다. 제1 안테나 세그먼트(1110)의 일단의 전압과 제2 안테나 세그먼트(1120)의 일단의 전압은 서로 대응될 수 있다. 제1 보조 용량성 소자(1711)의 일단의 전압과 제2 보조 용량성 소자(1712)의 일단의 전압은 서로 대응될 수 있다. 제1 안테나 세그먼트(1110)의 일단의 전압과 제1 안테나 세그먼트(1110)와 인접한 제5 안테나 세그먼트(1210) 또는 제9 안테나 세그먼트(1310)의 일단의 전압은 서로 대응될 수 있다.
한편, 서로 대응되는 노드의 전압의 실효값은 서로 대응될 수 있다. 예를 들어, 제1 노드(N1) 및 제3 노드(N3) 전압의 실효값, 제2 노드(N2) 및 제4 노드(N4) 전압의 실효값은 각각 서로 대응될 수 있다.
여기서, 복수의 노드의 전압이 서로 대응되되거나 복수의 노드가 서로 대응되는 전압을 가지는 것은 복수의 노드가 기준 노드에 대해 동일한 전압 또는 최대 전압을 가지거나 기준 노드에 대해 복수의 노드가 가지는 전압 또는 최대 전압의 차이가 미리 설정된 범위 이내인 경우를 의미할 수 있다.
복수의 안테나 세그먼트는 서로 대응되는 지점을 포함할 수 있다. 예를 들어 제1 안테나 세그먼트(1110) 일단 및 타단 사이에 위치하는 제1 지점(Pt1)은 제2 안테나 세그먼트(1120) 일단 및 타단 사이에 위치하는 제2 지점(Pt1)과 대응될 수 있다. 구체적으로, 제1 안테나 세그먼트(1110) 내 제1 지점(Pt1)이 제1 안테나 세그먼트(1110)의 일단에서 이격된 거리와 제2 지점(Pt2)이 제2 안테나 세그먼트(1120)의 일단에서 이격된 거리는 서로 대응될 수 있다. 다른 예로, 제1 안테나 세그먼트(1110) 내 제1 지점(Pt1)은 제5 안테나 세그먼트(1210) 내 제3 지점(미도시)과 대응될 수 있다. 이 때, 제1 안테나 세그먼트(1110) 일단, 중심축(CA) 및 제1 지점(Pt1)이 이루는 각도와 제5 안테나 세그먼트(1210) 일단, 중심축(CA) 및 제3 지점이 이루는 각도는 서로 대응될 수 있다. 구체적으로, 제1 지점(Pt1) 및 제3 지점을 연결하는 연장선은 중심축(CA)과 만나거나 꼬인 위치에 있을 수 있다. 또 다른 예로, 제1 안테나 세그먼트(1110) 내 제1 지점(Pt1)은 제9 안테나 세그먼트(1310) 내 제4 지점(미도시)과 서로 대응될 수 있다. 구체적으로, 제1 지점(Pt1) 및 제4 지점을 연결하는 연장선은 중심축(CA)과 평행하거나 꼬인 위치에 있을 수 있다.
상술한 복수의 안테나 세그먼트 내 서로 대응되는 지점은 서로 대응되는 전압을 가질 수 있다. 또는, 복수의 안테나 세그먼트 내 서로 대응되는 지점은 서로 대응되는 실효전압을 가질 수 있다. 이와 같이, 안테나 세그먼트는 서로 인접한 경우 서로 대응되는 지점에서 서로 대응되는 전압을 가짐으로써 기생 커패시턴스의 영향을 감소시킬 수 있다.
여기서, 복수의 지점의 전압이 서로 대응되되거나 복수의 지점이 서로 대응되는 전압을 가지는 것은 복수의 지점이 기준 노드에 대해 동일한 전압 또는 최대 전압을 가지거나 기준 노드에 대해 복수의 노드가 가지는 전압 또는 최대 전압의 차이가 미리 설정된 범위 이내인 경우를 의미할 수 있다. 또 여기서, 복수의 지점이 각 안테나 세그먼트의 일단 및 중심축(CA)과 이루는 각도가 서로 대응되는 것은 복수의 지점이 중심축(CA)을 기준으로 각 안테나 세그먼트 일단으로부터 동일하거나 서로 다른 각도만큼 회전된 위치인 경우를 의미할 수 있다.
한편, 다시 도 13을 참조하면, 안테나 세그먼트 내 임의의 지점에서의 전압의 크기는 안테나 세그먼트 및 용량성 소자가 연결되는 노드에서의 전압의 크기보다 작을 수 있다. 예를 들어, 제1 지점(Pt1) 및 제2 지점(Pt2)의 최대 전압은 제2 노드(N2) 또는 제4 노드(N4) 보다 작을 수 있다.
안테나 구조체(1000) 내 임의의 노드 또는 위치에서의 전압은 임의의 시점에서 서로 다른 위상 또는 서로 다른 부호를 가질 수 있다. 예를 들어, 일 시점에서 제1 노드(N1) 및 제3 노드(N2)의 전압은 같은 위상을 가지며, 제1 노드(N1) 및 제2 노드(N2)는 크기는 같되 서로 위상 또는 부호가 반대인 전압을 가질 수 있다. 또 다른 예로, 제2 노드(N2) 및 제3 노드(N3)는 크기는 같되 서로 위상 또는 부호가 반대인 전압을 가질 수 있다.
이상에서는 설명의 편의를 위해 안테나 구조체(1000) 내 특정 안테나 세그먼트를 기준으로 노드 및 지점에서의 전압에 대하여 서술하였으나, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니며, 안테나 구조체(1000) 내 안테나 세그먼트 각각에 대해 동일/유사하게 적용될 수 있다.
안테나 구조체(1000) 내 위치별 전압은 안테나 구조체(1000)가 포함하는 보조 용량성 소자가 많을수록 감소할 수 있다. 또는, 안테나 구조체(1000) 내 위치별 전압은 안테나 구조체(1000)가 포함하는 안테나 세그먼트의 인덕턴스 또는 보조 용량성 소자의 정전 용량에 기초하여 결정될 수 있다. 구체적으로, 도 13에 도시된 것과 달리, 안테나 세그먼트 사이에 보조 용량성 소자가 배치됨에 따라 각각의 안테나 세그먼트에 인가되는 전압의 크기가 상호 대응되도록 결정되어 인접한 안테나 세그먼트 사이의 기생 커패시터의 영향을 감소시킬 수 있다. 또한, 안테나 구조체(1000) 내에 보조 용량성 소자가 배치됨에 따라 안테나 세그먼트에 인가되는 전압의 크기가 감소하여 안테나 구조체(1000)에 의한 소모전력이 감소하고, 플라즈마 시스템(10)의 안전성이 향상될 수 있다.
메인 용량성 소자(1500, 1600)는 안테나 구조체(1000)에 인가되는 전압의 진폭을 감소시킬 수 있다. 또는, 메인 용량성 소자(1500, 1600)는 각각의 안테나 세그먼트에 인가될 수 있는 전압의 최대 진폭을 낮출 수 있다.
또는, 메인 용량성 소자(1500, 1600)이 안테나 세그먼트에 연결됨으로써, 기준 노드에 대한 안테나 구조체(1000) 내 노드에서의 최대 전압이 0이 되지 않을 수 있다. 예를 들어, 메인 용량성 소자(1500, 1600)에서 기준 노드에 대한 전압 강하가 이루어짐에 따라 제1 내지 제4 노드(N1, N2, N3, N4)는 0이 아닌 최대 전압을 가질 수 있다.
또는, 메인 용량성 소자(1500, 1600)에 의해 안테나 구조체(1000) 내 노드에서 동일한 진폭의 전압이 인가될 수 있다. 예를 들어, 메인 용량성 소자(1500, 1600)에 의해 제1 노드(N1) 및 제2 노드(N2)는 기준노드에 대해 동일한 진폭의 전압을 가질 수 있다. 또 다른 예로, 메인 용량성 소자(1500, 1600)에 의해 제1 노드(N1) 및 제2 노드(N2)는 서로 동일한 진폭을 가지며 서로 다른 부호를 갖는 전압을 인가받을 수 있다. 이와 같이, 메인 용량성 소자(1500, 1600)는 안테나 구조체(1000) 내 구성들에 인가되는 전압 또는 최대 전압을 감소시킬 수 있고, 이로써 안테나 구조체(1000)의 전기적인 내구성이 향상될 수 있다.
한편, 플라즈마 시스템(10)이 구동되면 안테나 구조체(1000)에 의해 플라즈마 발생부(2000)에 유도 결합 플라즈마가 유도되면서 온도가 상승할 수 있다. 이에 따라 플라즈마 발생부(2000)가 손상될 수 있는데, 이를 방지하기 위해 안테나 구조체(1000)는 냉각수 유로를 포함하여 플라즈마 발생부(2000)의 열을 흡수할 수 있다. 이 때, 안테나 구조체(1000)의 구조 및 형상에 따라 플라즈마 발생부(2000)에서 발생되는 열을 흡수하는 정도가 달라질 수 있다.
이하에서는, 도 14 및 도 15를 참조하여 본 명세서의 일 실시예에 따라 플라즈마 시스템(10) 구동 시 플라즈마가 유도됨에 따라 플라즈마 발생부(2000)에 발생하는 열을 효율적으로 흡수하기 위한 안테나 구조체(1000)의 구조 및 형상에 대하여 서술한다.
도 14는 본 명세서의 일 실시예에 따른 사각 단면을 갖는 안테나 구조체(1000)에 관한 도면이다.
도 15는 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 구조체(1000)의 단면(A-A')에 관한 도면이다.
도 14를 참조하면, 안테나 구조체(1000)는 턴 안테나, 안테나 말단, 턴간 연결부 및 조임부(3400)를 포함할 수 있다. 구체적으로, 제1 내지 제3 턴 안테나(3110, 3120, 3130), 제1 및 제2 안테나 말단(3310, 3320), 제1 및 제2 턴간 연결부(3210, 3220) 및 조임부(3400)를 포함할 수 있다.
턴 안테나는 안테나 구조체(1000) 내에서 하나의 턴을 이루는 안테나를 의미할 수 있다. 예를 들어, 도 14에 도시된 것과 같이 턴 안테나는 제1 내지 제3 턴 안테나(3110, 3120, 3130)를 포함할 수 있다. 구체적으로, 제1 내지 제3 턴 안테나(3110, 3120, 3130)는 중심축(CA)을 기준으로 서로 다른 곡률 반경을 갖는 원 형상 또는 고리 형상으로 구현될 수 있다. 보다 구체적으로, 제2 턴 안테나(3120)는 제1 턴 안테나(3110)를 감싸도록 배치되고, 제3 턴 안테나(3130)는 제2 턴 안테나(3120)를 감싸도록 배치될 수 있다. 이 때, 제1 내지 제3 턴 안테나(3110, 3120, 3130)는 중심축(CA)에 수직하는 수평축(HA) 상에 배치될 수 있다. 또는, 제1 내지 제3 턴 안테나(3110, 3120, 3130)는 수평축(HA)으로부터 서로 다른 거리만큼 각각 이격되어 배치될 수도 있다.
턴 안테나는 사각 형상의 단면을 가질 수 있다. 다만 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니며, 턴 안테나의 단면은 사각 형상 외에 다각형 형상, 원 형상, 타원 형상 또는 곡선 및 직선으로 이루어진 도형 형상일 수 있다.
턴 안테나는 말단 안테나를 통해 RF 전원(200)과 물리적 또는 전기적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 제1 턴 안테나(3110)는 제1 안테나 말단(3310)과 물리적 또는 전기적으로 연결되고 제1 안테나 말단(3310)은 RF 전원(200)의 일단에 물리적 또는 전기적으로 연결될 수 있다. 또 예를 들어, 제3 턴 안테나(3130)는 제2 안테나 말단(3320)과 물리적 또는 전기적으로 연결되고 제2 안테나 말단(3320)은 RF 전원(200)의 타단에 물리적 또는 전기적으로 연결될 수 있다.
턴 안테나는 턴간 연결부를 통해 다른 턴 안테나와 전기적 또는 물리적으로 연결될 수 있다. 예를 들어, 제1 턴 안테나(3110)는 제1 턴간 연결부(3210)의 일단에, 제2 턴 안테나(3120)는 제1 턴간 연결부(3210)의 타단에 전기적 또는 물리적으로 연결될 수 있다. 또 예를 들어, 제2 턴 안테나(3120)는 제2 턴간 연결부(3220)의 일단에, 제3 턴 안테나(3130)는 제2 턴간 연결부(3220)의 타단에 전기적 또는 물리적으로 연결될 수 있다.
안테나 말단은 턴 안테나 및 RF 전원(200)을 물리적 또는 전기적으로 연결할 수 있다.
안테나 말단은 임의의 방향으로 연장되는 도전체를 포함할 수 있다. 예를 들어, 다시 도 14를 참조하면, 제1 안테나 말단(3310)은 중심축(CA)에 평행하는 방향으로 연장되고 제2 안테나 말단(3320)은 중심축(CA)에 수직하는 방향으로 연장될 수 있다. 다만, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니며, 제1 및 제2 안테나 말단(3310, 3320)은 턴간 연결방식 등에 기초하여 어느 방향으로도 연장될 수 있음은 물론이다.
턴간 연결부는 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 턴간 연결부는 곡선 또는 직선 형상을 가질 수 있다. 턴간 연결부에 대하여는 구체적으로 후술하도록 한다.
조임부(3400)는 안테나 구조체(1000)의 적어도 일부가 팽창되거나 변형되는 것을 방지할 수 있다. 구체적으로, 플라즈마 발생부(2000)는 플라즈마가 유도됨에 따라 발생하는 고온의 열에너지에 의해 팽창하는 등 형상이 변형될 수 있고 이에 따라 플라즈마 발생부(2000)에 밀착된 안테나 구조체(1000) 역시 팽창하는 등 형상이 변형될 수 있으며, 조임부(3400)는 이러한 안테나 구조체(1000)의 변형을 방지할 수 있다. 예를 들어, 다시 도 14를 참조하면, 탄성을 갖는 조임부(3400)가 플라즈마 발생부(2000)에 인접한 제1 턴 안테나(3110)에 결합될 수 있다. 안테나 구조체(1000)는 조임부(3400)를 포함함으로써 플라즈마 발생부(2000)에 밀착될 수 있고 나아가 플라즈마가 유도되더라도 밀착된 상태를 유지하여 후술하는 안테나 구조체(1000)가 수행하는 냉각의 효율을 증대시킬 수 있다.
여기서, 조임부(3400)는 미리 설정된 값 이상의 조임력을 안테나 구조체(1000)에 제공할 수 있다. 예를 들어, 조임부(3400)는 신축성 또는 탄성을 갖는 물체를 포함할 수 있다. 또 예를 들어, 조임부(3400)는 조이는 대상의 길이 보다 짧은 길이를 갖는 금속을 포함할 수 있다.
한편, 안테나 구조체(1000)는 냉각수를 이용하여 플라즈마 발생부(2000)를 냉각시킬 수 있다. 이를 위해, 도 14를 참조하면, 안테나 구조체(1000) 내 턴 안테나는 미리 설정된 형상을 가지며 냉각수 유로를 포함할 수 있다. 구체적으로, 제1 내지 제3 턴 안테나(3110, 3120, 3130)는 각각 제1 내지 제3 냉각수 유로(CFP_1, CFP_2, CFP_3)을 포함하고, 제1 턴 안테나(3110)는 플라즈마 발생부(2000)와 접촉하여 제1 내지 제3 냉각수 유로(CFP_1, CFP_2, CFP_3)를 통해 이동하는 냉각수를 이용하여 플라즈마 발생부(2000)에 발생되는 열을 흡수할 수 있다.
여기서, 냉각수는 미리 설정된 온도 이하의 유체를 포함할 수 있다.
턴 안테나는 내경면 및 외경면을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 내지 제3 턴 안테나(3110, 3120, 3130)는 각각 제1 내지 제3 내경면(3111, 3121, 3131) 및 제1 내지 제3 외경면(3112, 3122, 3132)을 포함할 수 있다. 여기서, 내경면 및 외경면은 턴 안테나를 형성하는 복수의 면 중 하나일 수 있다. 또 여기서, 내경면 및 외경면은 중심축(CA)을 감싸는 턴 안테나의 안쪽면 및 바깥쪽면을 의미할 수 있다. 또 여기서, 턴 안테나에서 중심축(CA)에서 멀어지는 방향으로 배치되는 마주보는 면을 의미할 수 있으며, 내경면은 외경면에 비하여 안테나 구조체(1000) 중심축(CA)에 가까울 수 있다. 이 때, 턴 안테나의 단면 모양은 적어도 내경면 및 외경면에 기초하여 형성될 수 있다. 한편, 턴 안테나는 내경면 및 외경면 외에 상면 및 하면 등을 포함할 수 있다.
냉각수 유로는 턴 안테나의 내경면 및 외경면에 각각 대응하는 면을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 냉각수 유로(CFP_1)는 제1 내경면(3111)에 대응하는 제1 면(S11) 및 제1 외경면(3112)에 대응하는 제2 면(S12)를 포함할 수 있다. 여기서, 제1 냉각수 유로(CFP_1)의 단면 모양은 적어도 제1 면(S11) 및 제2 면(S12)에 기초하여 형성될 수 있다. 또 다른 예를 들어, 제2 냉각수 유로(CFP_2)는 제2 내경면(3121)에 대응하는 제3 면(S21) 및 제2 외경면(3122)에 대응하는 제4 면(S22)를 포함할 수 있다. 여기서, 제2 냉각수 유로(CFP_2)의 단면 모양은 적어도 제3 면(S21) 및 제4 면(S22)에 기초하여 형성될 수 있다. 한편, 냉각수 유로는 내경면 및 외경면에 대응하는 면 외에 상면 및 하면 등을 포함할 수 있다.
이상에서 냉각수 유로는 턴 안테나의 내부면에 의해 정의되는 것으로 해석될 수도 있다. 예를 들어, 냉각수 유로의 일면은 턴 안테나 내부면과 실질적으로 동일한 것으로 해석될 수 있다. 구체적으로, 제1 냉각수 유로(CFP_1)의 제1 면(S11) 및 제2 면(S12)은 제1 턴 안테나(3110)의 내부면으로, 제2 냉각수(CFP_2)의 제3 면(S21) 및 제4 면(S22)은 제2 턴 안테나(3120)의 내부면으로 해석될 수 있다.
안테나 구조체(1000)는 플라즈마 발생부(2000)와 접촉하는 턴 안테나의 내경면 및 이에 대응하는 냉각수 유로의 일면을 통해 플라즈마 발생부(2000)의 열을 흡수할 수 있다.
냉각 효율을 증가시키기 위해 또는 열 전도를 보다 활발하게 하기 위해 안테나 구조체(1000)는 플라즈마 발생부(2000)와 면접촉할 수 있다. 예를 들어, 다시 도 15를 참조하면, 제1 턴 안테나(3110)의 제1 내경면(3111)은 플라즈마 발생부(2000)의 외벽 또는 중심축(CA)과 평행하게 형성되고, 제1 턴 안테나(3110)는 제1 내경면(3111)을 통해 플라즈마 발생부(2000)와 면접촉할 수 있다. 이 때, 제1 내경면(3111)에 대응하는 제1 냉각수 유로(CFP_1)의 제1 면(S11)은 제1 내경면(3111) 및 플라즈마 발생부(2000) 외벽 또는 중심축(CA)에 평행할 수 있고, 안테나 구조체(1000)는 제1 내경면(3111) 및 제1 면(S11)을 통해 플라즈마 발생부(2000)로부터 열을 흡수할 수 있다.
플라즈마 발생부(2000)에 대한 냉각 효율을 증대시키는 안테나 구조체(1000)의 단면은 사각 형상일 수 있다. 예를 들어, 다시 도 15를 참조하면, 제1 내지 제3 턴 안테나(3110, 3120, 3130)의 단면은 사각 형상이며, 이에 따라 제1 내지 제3 내경면(3111, 3121, 3131)은 제1 내지 제3 외경면(3112, 3122, 3132)과 각각 평행할 수 있다. 이 때, 냉각수 유로의 단면 역시 사각 형상일 수 있다.
여기서, 제1 내경면(3111), 제1 면(S11), 제2 면(S12) 및 제1 외경면(3112)은 서로 평행할 수 있다. 따라서, 제1 내경면(3111) 및 제1 면(S11) 사이의 거리는 수평축(HA)으로부터 일정 범위 내에서 동일할 수 있으며, 제2 면(S12) 및 제1 외경면(3112) 사이의 거리 역시 수평축(HA)으로부터 일정 범위 내에서 동일할 수 있다.
또 여기서, 제2 턴 안테나(3120)의 제2 내경면(3121) 및 제2 냉각수 유로(CFP_2)의 제3 면(S21)은 제1 턴 안테나(3110)의 제1 외경면(3112) 및 제1 냉각수 유로(CFP_1)의 제2 면(S12)와 평행할 수 있다. 따라서, 제2 면(S12) 및 제3 면(S21) 사이의 거리는 수평축(HA)으로부터 일정 범위 내에서 동일할 수 있다.
한편, 안테나 구조체(1000)의 단면이 사각 형상인 경우, 턴 안테나 사이에 기생 커패시터에 의한 에너지 손실이 발생할 수 있다. 예를 들어, 도 15에 도시된 바와 같이 제1 턴 안테나(3110)의 제1 외경면(3112) 및 제2 턴 안테나(3120)의 제2 내경면(3121)이 평행하는 경우 기생 커패시터에 의한 에너지 손실이 발생할 수 있다.
턴 안테나 사이의 기생 커패시터에 따른 에너지 손실은 턴 안테나 사이의 턴간 거리에 따라 변경될 수 있다. 예를 들어, 도 15에서 안테나 구조체(1000) 내 기생 커패시터의 영향은 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120) 사이의 제1 턴간 거리(TD_1) 및 제2 턴 안테나(3120) 및 제3 턴 안테나(3130) 사이의 제2 턴간 거리(TD_2)에 따라 변경될 수 있다.
따라서, 안테나 구조체(1000)는 턴 안테나 사이의 턴간 거리를 미리 설정된 범위 내로 설정하여 기생 커패시터의 영향을 줄일 수 있다. 이 때, 미리 설정된 범위는 기생 커패시터의 영향 및 안테나 구조체(1000)의 전체 폭을 고려하여 설정될 수 있다. 예를 들어, 턴간 거리는 0.5mm 내지 3.5mm 이내의 범위에서 설정될 수 있다.
턴간 거리는 모두 동일하거나 서로 다른 값을 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 턴간 거리(TD_1) 및 제2 턴간 거리(TD_2)는 미리 설정된 범위 내에서 동일한 값을 가질 수 있다. 또 다른 예로, 제1 턴간 거리(TD_1) 및 제2 턴간 거리(TD_2)는 서로 다른 길이를 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 턴간 거리(TD_1)는 제2 턴간 거리(TD_2) 보다 크거나 작은 값을 가질 수 있다.
이상에서는, 냉각 기능을 수행하는 안테나 구조체(1000)와 관련하여 사각 단면을 갖는 턴 안테나 및 그에 따른 기생 커패시터의 영향을 줄이는 안테나 구조체(1000)의 구조 및 형상에 대하여 서술하였다.
이하에서는, 도 16 내지 도 19를 참조하여 냉각 기능을 수행하면서 기생 커패시터의 영향을 줄이는 안테나 구조체(1000)의 구조 및 형상에 관한 다른 실시예에 대하여 서술한다.
도 16은 본 명세서의 일 실시예에 따른 사각 단면 및 원형 단면을 갖는 안테나 구조체(1000)에 관한 도면이다.
도 17 및 도 18은 본 명세서의 일 실시예에 따른 적어도 두 종류 이상의 단면 모양을 갖는 안테나 구조체(1000)의 단면(A-A')에 관한 도면이다.
도 16 및 도 17을 참조하면, 안테나 구조체(1000)는 서로 다른 형상을 가지는 턴 안테나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 안테나 구조체(1000)는 단면이 사각 형상인 제1 턴 안테나(3110) 및 단면이 원 형상인 제2 및 제3 턴 안테나(3120, 3130)를 포함할 수 있다.
이하에서는 별도의 설명이 없는 한 앞서 도 14를 참조하여 서술한 안테나 구조체(1000)에 관한 내용이 유사하게 적용될 수 있다.
안테나 구조체(1000)는 플라즈마 발생부(2000)와 면접촉하는 턴 안테나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 안테나 구조체(1000)는 플라즈마 발생부(2000)와 제1 내경면(3111)을 통해 면접촉하는 제1 턴 안테나(3110)를 포함할 수 있다.
안테나 구조체(1000) 내 턴 안테나는 턴 안테나간의 기생 커패시터의 영향을 줄이기 위해 서로 평행하지 않는 면을 가질 수 있다. 예를 들어, 다시 도 17을 참조하면 제1 턴 안테나(3110)의 제1 내경면(3111) 및 제1 외경면(3112)은 플라즈마 발생부(2000)의 외벽에 평행하되, 제2 턴 안테나(3120)의 제2 내경면(3121) 및 제2 외경면(3122)은 플라즈마 발생부(2000) 및 제1 내경면(3111)와 평행하지 않을 수 있다.
안테나 구조체(1000)는 턴 안테나 사이의 기생 커패시터의 영향을 줄이기 위해 서로 다른 단면을 갖는 턴 안테나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 다시 도 17을 참조하면, 안테나 구조체(1000)는 사각 형상의 단면을 갖는 제1 턴 안테나(3110) 및 원 형상의 단면을 갖는 제2 턴 안테나(3120)를 포함할 수 있다. 이 때, 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120)에 각각 대응하여 제1 냉각수 유로(CFP_1)는 사각 형상의 단면을 가지고, 제2 냉각수 유로(CFP_2)는 원 형상의 단면을 가질 수 있다. 다만, 턴 안테나의 단면이 사각 형상 또는 원 형상으로 한정되는 것은 아니며, 다각형 형상, 원 형상, 타원 형상 또는 곡선 및 직선으로 이루어진 도형 형상일 수도 있다.
상술한 바와 같이 안테나 구조체(1000)가 서로 평행하지 않는 면 또는 서로 다른 단면을 갖는 턴 안테나를 포함하는 경우, 기생 커패시터의 영향이 감소할 수 있다.
서로 다른 단면을 갖는 턴 안테나는 턴간 거리는 동일하나, 턴 안테나의 면 사이의 거리는 일정하지 않을 수 있다. 예를 들어, 다시 도 17을 참조하면, 제1 내지 제3 턴 안테나(3110, 3120, 3130)는 제1 턴간 거리(TD_1) 및 제2 턴간 거리(TD_2)가 수평축(HA)을 기준으로 동일하도록 배치될 수 있다. 또 예를 들어, 다시 도 17을 참조하면, 제1 턴 안테나(3110)의 제1 외경면(3112) 및 제2 턴 안테나(3120)의 제1 내경면(3121) 사이의 거리는 일정하지 않을 수 있다. 구체적으로, 도 17에서 수평축(HA) 기준으로 중심축(CA)과 평행하는 방향 또는 플라즈마 발생부(2000)의 길이 방향으로 멀어질수록 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120) 사이의 거리가 증가하여 그 거리가 일정한 경우보다 기생 커패시터의 영향이 줄어들 수 있다. 또는, 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120)가 동일 평면 상에 배치될 때, 평면 기준으로 중심축(CA)과 평행하는 방향 또는 플라즈마 발생부(2000)의 길이 방향으로 멀어질수록 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120) 사이의 거리가 증가하여 그 거리가 일정한 경우보다 기생 커패시터의 영향이 줄어들 수 있다.
한편, 안테나 구조체(1000)는 턴 안테나 사이의 기생 커패시터의 영향을 감소시키기 위해 서로 다른 형상을 갖는 내경면 및 외경면을 포함하는 턴 안테나를 포함할 수 있다.
도 18을 참조하면, 플라즈마 발생부(2000)에 접촉하는 제1 턴 안테나(3110)는 플라즈마 발생부(2000)의 외벽에 평행하는 제1 내경면(3111) 및 플라즈마 발생부(2000)의 외벽에 평행하지 않는 제1 외경면(3112)을 포함할 수 있다. 또는, 제1 턴 안테나(3110)는 플라즈마 발생부(2000)의 외벽에 평행하는 제1 내경면(3111) 및 세로 방향을 따라 중심축(CA)에서 멀어지는 방향으로 휘어진 제1 외경면(3112)을 포함할 수 있다. 이 때, 제1 턴 안테나(3110)는 직선 및 곡선으로 이루어진 단면을 가질 수 있다. 구체적으로, 제1 턴 안테나(3110)는 사각형 및 반원의 결합, 반원 또는 반타원 형상의 단면을 가질 수 있다.
상술한 바와 같은 내경면 및 외경면 또는 단면을 갖는 턴 안테나를 포함하는 안테나 구조체(1000)는 효율적으로 플라즈마 발생부(2000)를 냉각시키면서 내부적으로 기생 커패시터에 의한 에너지 손실을 효과적으로 감소시킬 수 있다.
이상에서는, 냉각 기능을 수행하는 안테나 구조체(1000)의 구조 및 형상에 관련하여 턴 안테나가 세 겹으로 이루어진 안테나 구조체(1000)를 위주로 서술하였으나, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니며, 하나 이상의 턴 안테나를 갖는 안테나 구조체(1000)에서 유사하게 적용될 수 있다. 나아가, 복수의 층을 가지는 안테나 구조체(1000)에서도 유사하게 적용될 수 있으며, 앞서 서술한 복수의 안테나 세그먼트를 갖는 안테나 구조체(1000)에서도 유사하게 적용될 수 있음은 물론이다.
이하에서는, 도 16, 도 19 내지 도 22를 참조하여 안테나 구조체(1000) 내 턴 안테나를 연결하는 턴간 연결부에 대하여 구체적으로 서술한다.
도 19 내지 도 22는 본 명세서의 일 실시예에 따른 안테나 구조체 내 서로 다른 단면을 갖는 안테나가 연결되는 방법에 관한 도면이다.
턴간 연결부는 서로 다른 턴 안테나가 상호 연결되는 부분 또는 서로 다른 턴 안테나를 연결시키는 부분을 의미할 수 있다. 이하에서는, 턴간 연결부 중 서로 다른 단면을 가지는 턴 안테나를 연결시키는 턴간 연결부에 대하여 서술하기 위해, 대표적인 예로 도 15에 도시된 제1 턴간 연결부(3210)를 중심으로 서술하되, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니다.
제1 턴간 연결부(3210)는 굴곡을 갖도록 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 16 및 도 19를 참조하면, 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120)는 굴곡을 가진 상태로 전기적 또는 물리적으로 연결될 수 있다.
제1 턴간 연결부(3210)는 선형으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 20 및 도 21을 참조하면 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120)는 동일 직선 상에서 전기적 또는 물리적으로 연결될 수 있다.
제1 턴간 연결부(3210)는 제1 턴 안테나(3110)와 연결되는 일단 및 제2 턴 안테나(3120)와 연결되는 타단을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 턴간 연결부(3210)의 일단 및 타단은 서로 다른 단면을 가질 수 있다. 구체적으로 제1 턴간 연결부(3210)의 일단의 단면은 제1 턴 안테나(3110)의 단면을 가지며, 제1 턴간 연결부(3210)의 타단의 단면은 제2 턴 안테나(3120)의 단면을 가질 수 있다. 예를 들어, 제1 턴간 연결부(3210)의 일단의 단면은 사각 형상이고 제1 턴간 연결부(3210)의 타단의 단면은 원 형상일 수 있다.
제1 턴간 연결부(3210)는 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120) 중 적어도 하나의 형상을 변형시켜 연결함으로써 형성될 수 있다.
일 예로, 다시 도 20을 참조하면 제1 턴간 연결부(3210)는 제1 턴 안테나(3110) 말단을 팽창하거나 확장시키고 제2 턴 안테나(3120)를 결합시킴으로써 형성될 수 있다.
여기서, 제1 턴간 연결부(3210)의 단면은 일단에서 타단으로 갈수록 그 크기나 모양이 변경될 수 있다. 예를 들어, 제1 턴간 연결부(3210)의 단면적은 일단에서 타단으로 갈수록 점차 증가하다가 감소할 수 있다. 또 다른 예로, 제1 턴간 연결부(3210)의 단면적은 일단에서 타단으로 갈수록 사각 형상에서 모서리가 둥근 사각 형상, 원 형상 순서로 변경될 수 있다.
다른 예로, 다시 도 21을 참조하면 제1 턴간 연결부(3210)는 제2 턴 안테나(3120) 말단을 제1 턴 안테나(3110) 말단에 결합하고 제2 턴 안테나(3120)를 팽창하거나 확장시킴으로써 형성될 수도 있다.
제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120)가 연결됨에 따라 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120)의 단면은 서로 대응되도록 설정될 수 있다. 예를 들어, 제1 턴 안테나(3110) 단면의 폭은 제2 턴 안테나(3120) 단면의 폭과 동일하거나 다르게 설정될 수 있다. 구체적으로, 제2 턴 안테나(3120)가 제1 턴 안테나(3110)에 용이하게 삽입될 수 있도록, 제1 턴 안테나(3110)의 단면 폭이 제2 턴 안테나(3120)의 폭보다 클 수 있다. 또는, 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120)의 단면의 폭이 동일하되, 도 20 및 도 21에 도시된 것처럼 어느 하나의 턴 안테나가 팽창, 확장, 축소 등을 통해 상호 연결될 수도 있다. 이와 같은 각 턴 안테나의 단면 크기는 냉각수의 원활한 흐름을 고려하여 설정될 수도 있다.
제1 턴간 연결부(3210)는 모듈형으로 제공될 수 있다. 예를 들어, 도 22를 참도하면, 제1 턴간 연결부(3210)는 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120) 각각의 단면 크기에 대응되는 크기의 삽입부를 포함할 수 있다. 이 경우, 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120)는 제1 턴간 연결부(3210)에 대해 탈착이 가능할 수 있다. 또 예를 들어, 제1 턴간 연결부(3210)는 제1 턴 안테나(3110) 및 제2 턴 안테나(3120)를 전기적 또는 물리적으로 연결하되, 특정 기능을 수행할 수 있다. 구체적으로, 제1 턴간 연결부(3210)는 용량성 소자를 포함할 수 있다. 이 경우, 제1 턴간 연결부(3210)는 상술한 턴간 용량성 소자로 기능할 수 있다.
한편, 턴간 연결부에서 냉각수 유로의 형상이 변형될 수 있다. 예를 들어, 제1 턴간 연결부(3210)에서 냉각수 유로는 점진적으로 좁아질 수 있다. 또 다른 예로, 제1 턴간 연결부(3210)에서 냉각수 유로는 점진적으로 넓어질 수 있다. 또 다른 예로, 제1 턴간 연결부(3210)에서 냉각수 유로는 점진적으로 넓어지다가 좁아질 수 있다. 이 때, 냉각수 유로의 형상이 변형됨에 따라 냉각수의 유동 속도가 변경될 수 있다.
이하에서는, 도 23을 참조하여 플라즈마 유도에 의해서 플라즈마 발생부(2000)에 발생하는 열을 효율적으로 냉각시키기 위한 또 다른 방법에 대해서 서술한다.
도 23은 본 명세서의 일 실시예에 따른 열전달 부재(300)를 나타내는 도면이다.
도 23을 참조하면, 열전달 부재(300)는 안테나 구조체(1000) 및 플라즈마 발생부(2000) 사이에서 열을 전달할 수 있다. 예를 들어, 열전달 부재(300)는 플라즈마 유도에 따라 플라즈마 발생부(2000)에서 발생하는 열을 흡수하여 안테나 구조체(1000)에 제공할 수 있다.
열전달 부재(300)는 열 전도도가 높은 물질로 구성될 수 있다. 예를 들어, 열전달 부재(300)는 알루미늄, 금, 은, 텅스텐, 및/또는 구리 중 적어도 하나로 이루어질 수 있다.
열전달 부재(300)는 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 열전달 부재(300)는 플라즈마 발생부(2000)에 대응되는 형상을 가질 수 있다. 구체적으로, 플라즈마 발생부(2000)가 속이 빈 원기둥 형상을 가지는 경우 열전달 부재(300)도 속이 빈 원기둥 형상으로 구현될 수 있다. 다른 예를 들어, 열전달 부재(300)는 플라즈마 발생부(2000) 외면과 면접촉하기 위한 형상을 가질 수 있다. 구체적으로, 열전달 부재(300)는 적어도 일부가 만곡되거나 평판할 수 있다. 또 다른 예를 들어, 열전달 부재(300)는 물리적으로 분리되는 복수 개의 판으로 구성될 수 있다. 한편, 열전달 부재(300)의 형상이 상술한 형상으로 한정되는 것은 아니며, 열전달 부재(300)는 후술하는 바와 같이 플라즈마 발생부(2000) 또는 안테나 구조체(1000)와 면접촉할 수 있는 형태이면 어떠한 형태로도 구현될 수 있다.
열전달 부재(300)는 안테나 구조체(1000) 및 플라즈마 발생부(2000) 사이에 배치될 수 있다. 예를 들어, 열전달 부재(300)는 플라즈마 발생부(2000)를 감싸도록 배치되고, 안테나 구조체(1000)는 열전달 부재(300)를 감싸도록 배치될 수 있다. 구체적으로, 열전달 부재(300)는 플라즈마 발생부(2000)의 외벽과 면접촉하고, 중심축(CA)를 기준으로 안테나 구조체(1000)의 가장 안쪽 턴 안테나(예를 들어, 제1 턴 안테나(3110))와 면접촉하도록 배치될 수 있다.
상술한 바와 같이, 플라즈마 발생부(2000) 및 안테나 구조체(1000)는 열전달 부재(300)를 통해 열적으로 결합될 수 있다. 이 때, 열전달 부재(300)가 열전도도가 높은 물질로 구성됨으로써 플라즈마 유도에 따라 플라즈마 발생부(2000)에서 발생한 열이 열전달 부재(300)를 통해 안테나 구조체(1000)로 보다 빠르게 이동할 수 있어, 플라즈마 유도 및 유지 효율이 향상되고 플라즈마 발생부(2000)의 내구성이 향상될 수 있다.
이상에서는 안테나 구조체(1000)가 복수의 턴 안테나로 구성되는 경우를 주로 서술하였으나, 본 명세서의 기술적 사상이 이에 한정되는 것은 아니며, 안테나 구조체(1000)가 단일 턴 안테나로 구성되거나 단일 턴 복수의 층 안테나들로 구성되거나 복수의 안테나 세그먼트로 구성되는 경우 등에도 유사하게 적용될 수 있음은 물론이다.
실시예에 따른 방법은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시예를 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다. 상기된 하드웨어 장치는 실시예의 동작을 수행하기 위해 하나 이상의 소프트웨어 모듈로서 작동하도록 구성될 수 있으며, 그 역도 마찬가지이다.
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.

Claims (22)

  1. 교류 전원을 인가 받아 챔버에 플라즈마를 유도하는 안테나 구조체에 있어서,
    가상의 중심축과 교차하는 제1 평면 상에서 상기 중심축을 기준으로 제1 곡률 반경 및 제2 곡률 반경을 가지도록 배치되는 제1 및 제2 안테나 세그먼트; 및
    상기 제1 및 제2 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결시키는 제1 용량성 부하;를 포함하되,
    상기 제1 안테나 세그먼트가 상기 제1 곡률 반경을 가지면서 상기 제1 용량성 부하의 일단으로부터 제1 길이만큼 연장될 때, 상기 제2 안테나 세그먼트는 상기 제2 곡률 반경을 가지면서 상기 제1 용량성 부하의 타단으로부터 상기 제1 길이에 대응하는 제2 길이만큼 연장되고,
    상기 제1 길이 및 상기 제2 길이의 합은 상기 제1 곡률 반경 또는 상기 제2 곡률 반경을 반지름으로 하는 원주보다 짧은,
    안테나 구조체.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 곡률 반경이 서로 동일하고, 상기 제1 및 제2 길이가 서로 동일하며,
    상기 제1 안테나 세그먼트 및 상기 제2 안테나 세그먼트는 동일한 인덕턴스를 갖는,
    안테나 구조체.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 평면 상에서 상기 제1 곡률 반경 보다 큰 제3 곡률 반경을 가지도록 배치되는 제3 안테나 세그먼트;
    상기 제1 평면 상에서 상기 제2 곡률 반경 보다 큰 제4 곡률 반경을 가지도록 배치되는 제4 안테나 세그먼트; 및
    상기 제3 및 제4 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결시키는 제2 용량성 부하;를 포함하고,
    상기 제3 안테나 세그먼트는 상기 제2 용량성 부하의 일단으로부터 상기 제1 길이보다 긴 제3 길이만큼 연장되고,
    상기 제4 안테나 세그먼트는 상기 제2 용량성 부하의 타단으로부터 상기 제2 길이보다 긴 제4 길이만큼 연장되는
    안테나 구조체.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 용량성 부하를 지나는 직선은 상기 중심축을 지나는
    안테나 구조체.
  5. 제3 항에 있어서,
    상기 제1 안테나 세그먼트를 호로 갖는 부채꼴의 중심각은 상기 제3 안테나 세그먼트를 호로 갖는 부채꼴의 중심각과 동일한
    안테나 구조체.
  6. 제3 항에 있어서,
    상기 제2 안테나 세그먼트 및 상기 제3 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결하는 턴간 용량성 부하를 포함하는
    안테나 구조체.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 용량성 부하 및 턴간 용량성 부하는 동일한 정전 용량을 가지는,
    안테나 구조체.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 중심축을 기준으로 상기 제1 곡률 반경을 갖는 제5 안테나 세그먼트;
    상기 제2 곡률 반경을 갖는 제6 안테나 세그먼트;및
    상기 제5 및 제6 안테나 세그먼트 사이에 배치되어 상기 제5 및 제6 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결시키는 제3 용량성 부하;를 포함하되,
    상기 제5 안테나 세그먼트 및 제6 안테나 세그먼트는 상기 중심축과 교차하는 제2 평면에 배치되며,
    상기 제1 평면 및 상기 제2 평면은 서로 다른 평면인,
    안테나 구조체.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 제2 안테나 세그먼트 및 상기 제5 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결하는 제1 층간 용량성 부하를 포함하는
    안테나 구조체.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 중심축을 기준으로 상기 제1 곡률 반경을 갖는 제7 안테나 세그먼트;
    상기 제2 곡률 반경을 갖는 제8 안테나 세그먼트;
    상기 제7 및 제8 안테나 세그먼트 사이에 배치되어 상기 제7 및 제8 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결시키는 제4 용량성 부하;및
    상기 제6 안테나 세그먼트 및 제7 안테나 세그먼트를 전기적으로 직렬 연결하는 제2 층간 용량성 부하;를 포함하되,
    상기 제7 안테나 세그먼트 및 제8 안테나 세그먼트는 상기 중심축과 교차하며 상기 제1 평면 및 상기 제2 평면과 다른 제3 평면에 배치되며,
    상기 제1 층간 용량성 부하 및 제2 층간 용량성 부하는 상기 중심축을 기준으로 미리 설정된 사이각을 가지는
    안테나 구조체.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 안테나 세그먼트는 일단에서 타단으로 연장되되 상기 제1 안테나 세그먼트 타단은 상기 제1 용량성 부하의 일단과 전기적으로 연결되며,
    상기 제2 안테나 세그먼트는 일단에서 타단으로 연장되되 상기 제2 안테나 세그먼트의 일단은 상기 제1 용량성 부하의 타단과 전기적으로 연결되는,
    안테나 구조체.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가될 때, 기준 노드에 대한 제1 안테나 세그먼트 타단에서의 최대 전압은 상기 기준 노드에 대한 제2 안테나 세그먼트 타단에서의 최대 전압에 대응되는,
    안테나 구조체.
  13. 제11 항에 있어서,
    상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가될 때, 상기 제2 안테나 세그먼트 일단에 대한 상기 제2 안테나 세그먼트 타단의 전압은 상기 제1 안테나 세그먼트 일단에 대한 상기 제1 안테나 세그먼트 타단의 전압에 대응되는,
    안테나 구조체.
  14. 제11 항에 있어서,
    상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가될 때, 기준 노드에 대한 상기 제1 안테나 세그먼트 타단의 최대 전압의 크기는 상기 기준 노드에 대한 상기 제2 안테나 세그먼트 일단의 최대 전압의 크기에 대응되는,
    안테나 구조체.
  15. 제11 항에 있어서,
    상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가된 후 임의의 시점에서 기준 노드에 대한 상기 제1 안테나 세그먼트 타단의 전압과 상기 기준 노드에 대한 상기 제2 안테나 세그먼트 일단의 전압은 서로 반대 부호를 가지는,
    안테나 구조체.
  16. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 안테나 세그먼트 일단 및 타단 사이에 위치하는 제1 지점;및
    상기 제2 안테나 세그먼트 일단 및 타단 사이에 위치하는 제2 지점;을 포함하고,
    상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가될 때, 기준 노드에 대한 상기 제1 지점의 최대 전압은 상기 기준 노드에 대한 상기 제2 지점의 최대 전압에 대응하는,
    안테나 구조체.
  17. 제11 항에 있어서,
    상기 안테나 구조체에 상기 교류 전원이 인가된 후 임의의 시점에서 기준 노드에 대한 상기 제1 안테나 세그먼트 타단의 전압과 상기 기준 노드에 대한 상기 제2 안테나 세그먼트 타단의 전압은 서로 대응되는,
    안테나 구조체.
  18. 제1 항에 있어서,
    상기 안테나 구조체는 상부 또는 하부에 플라즈마를 유도하는 평판형 및 중심부에 플라즈마를 유도하는 튜브형 중 적어도 하나로 구현되는,
    안테나 구조체.
  19. 플라즈마가 유도되는 내부 공간을 포함하는 플라즈마 발생부; 및
    상기 플라즈마 발생부 외부에 배치되고 가상의 중심축을 기준으로 제1 곡률 반경을 갖는 제1 안테나 구조체를 포함하되,
    상기 제1 안테나 구조체는 상기 제1 곡률 반경을 갖는 복수의 제1 안테나 세그먼트 및 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트가 전기적으로 직렬 연결되도록 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트 사이에 배치되는 적어도 하나의 제1 용량성 부하를 포함하고,
    복수의 상기 제1 안테나 세그먼트들은 상기 중심축에 수직인 가상의 제1 평면과 적어도 일부 중첩되며,
    복수의 상기 제1 안테나 세그먼트 각각은 제1 길이를 가지되, 복수의 상기 제1 안테나 세그먼트 길이의 합은 상기 제1 곡률 반경을 반지름으로 하는 원주보다 짧은,
    플라즈마 발생 장치.
  20. 제19 항에 있어서,
    상기 제1 평면에 상기 중심축을 기준으로 상기 제1 곡률 반경 보다 큰 제2 곡률 반경을 갖도록 배치되는 제2 안테나 구조체를 포함하되,
    상기 제2 안테나 구조체는 상기 제2 곡률 반경을 갖는 복수의 제2 안테나 세그먼트 및 복수의 상기 제2 안테나 세그먼트가 전기적으로 직렬 연결되도록 복수의 상기 제2 안테나 세그먼트 사이에 배치되는 적어도 하나의 제2 용량성 부하를 포함하고,
    복수의 상기 제2 안테나 세그먼트 각각은 제1 길이를 가지되, 복수의 상기 제2 안테나 세그먼트 길이의 합은 상기 제2 곡률 반경을 반지름으로 하는 원주보다 짧은,
    플라즈마 발생 장치.
  21. 제19 항에 있어서,
    상기 플라즈마 발생부의 두께는 0.5mm 이상 30mm 이하이고,
    상기 플라즈마 발생부의 폭은 10mm 이상 300mm 이하인,
    플라즈마 발생 장치.
  22. 제19 항에 있어서,
    제19 항에 있어서,
    상기 플라즈마 발생부의 적어도 일부는 산화 알루미늄, 실리콘 질화물, 질화 규소, 이산화 규소, 이트륨 산화물, 세라믹, 실리콘 카바이드, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나의 재질로 이루어진,
    플라즈마 발생 장치.
PCT/KR2021/002139 2020-02-19 2021-02-19 안테나 구조체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치 Ceased WO2021167408A1 (ko)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP21756465.7A EP4064324A4 (en) 2020-02-19 2021-02-19 ANTENNA STRUCTURE AND PLASMA GENERATION DEVICE USING SAME
US17/759,987 US12205794B2 (en) 2020-02-19 2021-02-19 Antenna structure and plasma generating device using same
CN202180010823.0A CN115039196B (zh) 2020-02-19 2021-02-19 天线结构以及使用其的电感耦合等离子体产生装置
JP2022549548A JP7676424B2 (ja) 2020-02-19 2021-02-19 アンテナ構造体およびそれを用いたプラズマ発生装置
US18/975,986 US20250104968A1 (en) 2020-02-19 2024-12-10 Antenna structure and plasma generating device using the same
JP2025075764A JP2025114669A (ja) 2020-02-19 2025-04-30 アンテナ構造体およびそれを用いたプラズマ発生装置

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2020-0020705 2020-02-19
KR20200020705 2020-02-19
KR1020200020704A KR102324789B1 (ko) 2020-02-19 2020-02-19 안테나 구조체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치
KR10-2020-0020704 2020-02-19

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US17/759,987 A-371-Of-International US12205794B2 (en) 2020-02-19 2021-02-19 Antenna structure and plasma generating device using same
US18/975,986 Continuation US20250104968A1 (en) 2020-02-19 2024-12-10 Antenna structure and plasma generating device using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2021167408A1 true WO2021167408A1 (ko) 2021-08-26

Family

ID=77391599

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2021/002139 Ceased WO2021167408A1 (ko) 2020-02-19 2021-02-19 안테나 구조체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치

Country Status (6)

Country Link
US (2) US12205794B2 (ko)
EP (1) EP4064324A4 (ko)
JP (2) JP7676424B2 (ko)
CN (1) CN115039196B (ko)
TW (2) TWI816087B (ko)
WO (1) WO2021167408A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10896806B2 (en) * 2016-11-03 2021-01-19 En2Core Technology, Inc. Inductive coil structure and inductively coupled plasma generation system
CN111785605A (zh) * 2020-06-23 2020-10-16 北京北方华创微电子装备有限公司 一种线圈结构及半导体加工设备
CN114833045B (zh) * 2021-02-01 2023-07-25 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 Pecvd镀膜系统和镀膜方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5436528A (en) * 1992-04-15 1995-07-25 Texas Instruments Incorporated Plasma source employing spiral RF coil and method for using same
KR20020007155A (ko) * 2000-06-23 2002-01-26 마스다 노부유키 전력 공급 안테나와, 전력 공급 장치 및 방법과, 반도체제조 장치
KR20020096259A (ko) * 2001-06-19 2002-12-31 주성엔지니어링(주) 초단파 병렬 공명 안테나를 구비하는 플라즈마 공정장치
JP2004532506A (ja) * 2001-04-23 2004-10-21 東京エレクトロン株式会社 誘導結合プラズマにおいてプラズマ分布と性能とを改良するための装置および方法
KR20090027479A (ko) * 2007-09-12 2009-03-17 한양대학교 산학협력단 플라즈마 발생용 안테나 장치

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6238588B1 (en) * 1991-06-27 2001-05-29 Applied Materials, Inc. High pressure high non-reactive diluent gas content high plasma ion density plasma oxide etch process
KR19990049877A (ko) 1997-12-15 1999-07-05 윤종용 카메라시스템의 자동 초점조정장치 및 그에 따른 초점조정방법
JP4122467B2 (ja) 1998-02-17 2008-07-23 株式会社東芝 高周波放電装置及び高周波処理装置
US6331754B1 (en) 1999-05-13 2001-12-18 Tokyo Electron Limited Inductively-coupled-plasma-processing apparatus
JP3609985B2 (ja) * 1999-05-13 2005-01-12 東京エレクトロン株式会社 誘導結合プラズマ処理装置
US6441555B1 (en) 2000-03-31 2002-08-27 Lam Research Corporation Plasma excitation coil
JP3787079B2 (ja) * 2001-09-11 2006-06-21 株式会社日立製作所 プラズマ処理装置
KR100486724B1 (ko) * 2002-10-15 2005-05-03 삼성전자주식회사 사행 코일 안테나를 구비한 유도결합 플라즈마 발생장치
US6876155B2 (en) * 2002-12-31 2005-04-05 Lam Research Corporation Plasma processor apparatus and method, and antenna
KR100964398B1 (ko) 2003-01-03 2010-06-17 삼성전자주식회사 유도결합형 안테나 및 이를 채용한 플라즈마 처리장치
EP1480250A1 (en) * 2003-05-22 2004-11-24 HELYSSEN S.à.r.l. A high density plasma reactor and RF-antenna therefor
US7837826B2 (en) 2006-07-18 2010-11-23 Lam Research Corporation Hybrid RF capacitively and inductively coupled plasma source using multifrequency RF powers and methods of use thereof
KR100926706B1 (ko) 2008-02-21 2009-11-17 (주)플러스텍 반구형 나선 안테나를 구비한 반도체용 플라즈마 가공장치
JP5554099B2 (ja) 2010-03-18 2014-07-23 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP5723130B2 (ja) 2010-09-28 2015-05-27 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
JP5916044B2 (ja) * 2010-09-28 2016-05-11 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP5781349B2 (ja) * 2011-03-30 2015-09-24 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
KR101256962B1 (ko) * 2011-05-31 2013-04-26 세메스 주식회사 안테나 유닛 및 상기 유닛을 포함하는 기판 처리 장치, 그리고 상기 장치를 이용한 기판 처리 방법
KR101765233B1 (ko) 2011-10-19 2017-08-16 주식회사 원익아이피에스 유도결합 플라즈마 처리장치
US9378928B2 (en) 2014-05-29 2016-06-28 Applied Materials, Inc. Apparatus for treating a gas in a conduit
US10249511B2 (en) 2014-06-27 2019-04-02 Lam Research Corporation Ceramic showerhead including central gas injector for tunable convective-diffusive gas flow in semiconductor substrate processing apparatus
CN105491780B (zh) 2014-10-01 2018-03-30 日新电机株式会社 等离子体产生用的天线及具备该天线的等离子体处理装置
GB201603581D0 (en) * 2016-03-01 2016-04-13 Spts Technologies Ltd Plasma processing apparatus
KR101826883B1 (ko) * 2016-11-03 2018-02-08 인투코어테크놀로지 주식회사 유도 코일 구조체 및 유도 결합 플라즈마 발생 장치
CN115735260A (zh) * 2020-06-26 2023-03-03 源多可股份有限公司 等离子体产生装置
KR102386814B1 (ko) * 2020-06-30 2022-04-15 인투코어테크놀로지 주식회사 플라즈마 생성 장치 및 그 제어 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5436528A (en) * 1992-04-15 1995-07-25 Texas Instruments Incorporated Plasma source employing spiral RF coil and method for using same
KR20020007155A (ko) * 2000-06-23 2002-01-26 마스다 노부유키 전력 공급 안테나와, 전력 공급 장치 및 방법과, 반도체제조 장치
JP2004532506A (ja) * 2001-04-23 2004-10-21 東京エレクトロン株式会社 誘導結合プラズマにおいてプラズマ分布と性能とを改良するための装置および方法
KR20020096259A (ko) * 2001-06-19 2002-12-31 주성엔지니어링(주) 초단파 병렬 공명 안테나를 구비하는 플라즈마 공정장치
KR20090027479A (ko) * 2007-09-12 2009-03-17 한양대학교 산학협력단 플라즈마 발생용 안테나 장치

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP4064324A4 *

Also Published As

Publication number Publication date
EP4064324A4 (en) 2023-12-06
CN115039196B (zh) 2026-04-21
JP2025114669A (ja) 2025-08-05
CN115039196A (zh) 2022-09-09
JP2023515445A (ja) 2023-04-13
US12205794B2 (en) 2025-01-21
TWI816087B (zh) 2023-09-21
EP4064324A1 (en) 2022-09-28
US20250104968A1 (en) 2025-03-27
TW202402105A (zh) 2024-01-01
TWI876490B (zh) 2025-03-11
TW202135603A (zh) 2021-09-16
US20230139675A1 (en) 2023-05-04
JP7676424B2 (ja) 2025-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2021225411A1 (ko) 정밀하게 주파수를 제어하기 위한 주파수 제어 방법 및 이를 이용하는 주파수 제어 장치
WO2021167408A1 (ko) 안테나 구조체 및 이를 이용한 플라즈마 발생 장치
WO2018016803A1 (en) Case for electric motor
WO2012134199A2 (ko) 플라즈마 발생 장치 및 기판 처리 장치
WO2020141806A2 (ko) 플라즈마 발생 장치 및 그 동작 방법
WO2023128627A1 (ko) 멀티 스테이션에 대한 플라즈마 공정 시스템
WO2014200247A1 (en) Wireless power transfer method, wireless power transmitter and wireless charging system
WO2021261963A1 (ko) 플라즈마 발생 장치
WO2022231065A1 (ko) 유도 가열 방식의 쿡탑
WO2022005150A1 (ko) 플라즈마 생성 장치 및 그 제어 방법
WO2021225376A1 (ko) 유도 가열 장치 및 유도 가열 장치의 제어 방법
EP3488514A1 (en) Case for electric motor
WO2019182388A1 (ko) 무선 충전 패드 및 무선 충전 장치
WO2015119456A1 (en) Wireless power transfer method, apparatus and system
WO2021141196A1 (ko) 회전 전기 기기의 스테이터
WO2021194111A1 (ko) 열전 장치
WO2022231131A1 (ko) 유도 가열 방식의 쿡탑
WO2020076096A1 (ko) 전열 포트
WO2025084790A1 (ko) 상쇄 코일을 포함하는 플라즈마 유도 장치
WO2020050549A1 (ko) 전기장을 이용한 전류 경로 범위 제어 방법 및 전자 회로
WO2024136245A1 (ko) 전자기파 필터 및 이를 구비하는 플라즈마 기판 처리 장치
WO2025089815A1 (ko) 정밀하게 주파수를 제어하기 위한 주파수 제어 방법 및 이를 이용하는 주파수 제어 장치
WO2025178456A1 (ko) 부하에 제공되는 전력을 제어하는 방법 및 이를 위한 장치
WO2023287121A1 (ko) 쉴드 장치, 유도 가열 방식의 쿡탑 및 이들을 포함하는 유도 가열 방식의 쿡탑 시스템
WO2023063474A1 (ko) 극저온 정전척 시스템 및 이의 제어 방법

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21756465

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2021756465

Country of ref document: EP

Effective date: 20220622

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2022549548

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE