WO2022158172A1 - フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びフレキソ印刷版の製造方法 - Google Patents

フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びフレキソ印刷版の製造方法 Download PDF

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弘貴 秋山
慎二 宮本
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive resin composition for flexographic printing plates and a method for producing flexographic printing plates.
  • a photosensitive resin composition layer, an infrared ablation layer that can be excised by infrared rays, and a cover film are generally formed on a substrate such as PET (polyethylene terephthalate) resin as a master plate for producing a flexographic printing plate. Those laminated in order are used.
  • An infrared-ablative infrared ablation layer generally contains an infrared absorber, which is a material opaque to radiation other than infrared rays, and a resin.
  • a technique of arranging microcells on the surface of a printing plate is known as a technique for further increasing the definition of printed images and improving ink transferability during printing.
  • the resolution of laser drawing equipment used in the manufacturing process of flexographic printing plates has been improved, and the laser resolution has increased from the conventional 2,540 DPI to 4,000, 5,080 DPI, and further to 8,000 DPI. It is predicted that change will continue.
  • Patent Document 1 As a resin, a copolymer of a monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon and a conjugated diene or a copolymer of a monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon and a conjugated diene is hydrogenated. The technique used is proposed. Further, Patent Document 2 proposes a technique of using polyamide as a resin, and Patent Document 3 proposes a partially saponified polyvinyl acetate having a degree of saponification of 60 to 100 mol% and a cationic polymer as a resin. The technique used is proposed. Furthermore, Patent Document 4 proposes a technique of using a modified olefin as a resin.
  • the infrared ablation layer using the binder described above can obtain sufficient energy for ablation in fine patterns (such as 1 ⁇ 1 pixel and 2 ⁇ 2 pixel images) at high resolution such as 8000 DPI. Therefore, it was difficult to form minute microcells.
  • the present invention provides a photosensitive resin composition for a flexographic printing plate having an infrared ablation layer that is excellent in laser sensitivity even when sufficient drawing energy cannot be obtained by increasing the resolution. , and a method for producing a flexographic printing plate using the same.
  • the present inventors have developed a photosensitive resin composition for a flexographic printing plate having a photosensitive resin composition layer and an infrared ablation layer having a specific configuration. The present inventors have found that the problem can be solved and completed the present invention.
  • the present invention is as follows. [1] at least a support (a); a photosensitive resin composition layer (b) laminated on the support (a); and an infrared ablation layer (c) laminated on the photosensitive resin composition layer (b),
  • the infrared ablation layer (c) contains a resin having a structural unit c1 represented by the following general formula (1).
  • a photosensitive resin construction for flexographic printing plates. (Here, in formula (1), R 1 and R 2 each independently represent a nonpolar group, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a nonpolar group.)
  • the content of the structural unit (c1) is 40% by mass or more and 100% by mass or less with respect to the total amount of the resin.
  • R 3 and R 4 in the general formula (1) each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a cycloalkyl group, a phenyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, a silyl group, is a siloxanyl group;
  • R 3 and R 4 in the general formula (1) are hydrogen atoms, [1] The photosensitive resin structure for a flexographic printing plate according to any one of [1] to [3].
  • R 1 and R 2 in the general formula (1) are each independently an alkyl group, an aryl group, a cycloalkyl group, a phenyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, a silyl group, and a siloxanyl group; be, [1] The photosensitive resin structure for a flexographic printing plate according to any one of [1] to [4]. [6] R 1 and R 2 in the general formula (1) are each independently an alkyl group or a phenyl group, [1] The photosensitive resin structure for a flexographic printing plate according to any one of [1] to [5].
  • R 1 and R 2 in the general formula (1) are alkyl groups, [1] The photosensitive resin structure for a flexographic printing plate according to any one of [1] to [6]. [8] The resin further has a structural unit (c2) containing an aromatic group in a side chain, unlike the structural unit (c1). [1] The photosensitive resin structure for a flexographic printing plate according to any one of [1] to [7]. [9] The structural unit (c2) contains a structural unit derived from a monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon, [1] The photosensitive resin structure for a flexographic printing plate according to any one of [1] to [8].
  • the infrared ablation layer (c) contains carbon black, pH of the carbon black is 2.0 or more and 5.0 or less, [1] The photosensitive resin structure for a flexographic printing plate according to any one of [1] to [9]. [11] The infrared ablation layer (c) contains a dispersant, The dispersant has a solubility parameter (SP value) of 9.5 or more and 12.5 or less. [1] The photosensitive resin structure for a flexographic printing plate according to any one of [1] to [10].
  • SP value solubility parameter
  • the compounding ratio (resin/carbon black) of the resin and the carbon black in the infrared ablation layer (c) is in the range of 80/20 to 50/50, [1]
  • a manufacturing method can be provided.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a photosensitive resin structure for a flexographic printing plate according to the present embodiment
  • FIG. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is the schematic which shows the manufacturing method of a flexographic printing plate using the photosensitive resin structure for flexographic printing plates of this embodiment.
  • this embodiment an embodiment of the present invention (hereinafter referred to as “this embodiment”) will be described in detail, but the present invention is not limited to this, and various modifications are possible without departing from the gist thereof. is.
  • the photosensitive resin composition for a flexographic printing plate of the present embodiment comprises at least a support (a), a photosensitive resin composition layer (b) laminated on the support (a), and the photosensitive resin and an infrared ablative layer (c) laminated on the composition layer (b), wherein the infrared ablative layer (c) contains a resin having a structural unit (c1) represented by the following general formula (1): do.
  • R 1 and R 2 each independently represent a nonpolar group
  • R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom and a nonpolar group.
  • FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of the photosensitive resin composition for a flexographic printing plate of this embodiment (hereinafter also simply referred to as "this composition").
  • This structure comprises a support (a), a photosensitive resin composition layer (b) on which the uneven pattern of the flexographic printing plate is formed, and an infrared ablation layer (c) that functions as a mask when the uneven pattern is formed. It is laminated, and another layer may be provided between each layer as needed. This structure will be described in detail below.
  • the support (a) used in this structure is not particularly limited, and examples thereof include polyester films, polyamide films, polyacrylonitrile films, and polyvinyl chloride films.
  • polyester film is preferable as the support (a).
  • the polyester used for the support (a) is not particularly limited, and examples thereof include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate and the like.
  • the thickness of the support (a) is not particularly limited, it is preferably 50 to 300 ⁇ m.
  • an adhesive layer may be provided on the support (a) for the purpose of increasing the adhesive strength between the support (a) and the photosensitive resin composition layer (b) described later.
  • the adhesive layer is not particularly limited, but includes, for example, the adhesive layer described in WO2004/104701.
  • Photosensitive resin composition layer (b) This construct has a photosensitive resin composition layer (b) on a support (a).
  • the photosensitive resin composition layer (b) may be directly laminated on the support (a), or may be indirectly laminated via the adhesive layer or the like.
  • the photosensitive resin composition layer (b) is not particularly limited, but contains, for example, a thermoplastic elastomer (b-1), preferably an ethylenically unsaturated compound (b-2), a photopolymerization initiator (b -3), it may further contain a liquid diene. Moreover, the photosensitive resin composition layer (b) may further contain an auxiliary additive component, if necessary. Each component will be described in detail below.
  • thermoplastic elastomer (b-1) examples include, but are not limited to, copolymers having structural units derived from a monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon and structural units derived from a conjugated diene.
  • the thermoplastic elastomer (b-1) may further have structural units derived from other monomers. The use of such a thermoplastic elastomer tends to further improve the printing durability of the flexographic printing plate produced using the present composition.
  • thermoplastic elastomer (b-1) may be a random copolymer or a block copolymer. and is preferably a block copolymer. The use of such a thermoplastic elastomer tends to further improve the printing durability of the flexographic printing plate produced using the present composition.
  • the monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon constituting the thermoplastic elastomer (b-1) is not particularly limited, but examples include styrene, t-butylstyrene, 1,1-diphenylethylene, N,N-dimethyl-p- aminoethylstyrene, N,N-diethyl-p-aminoethylstyrene, vinylpyridine, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, tertiary butylstyrene, ⁇ -methylstyrene, 1,1-diphenylethylene and the like. . These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
  • styrene is preferable as the monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon from the viewpoint that the photosensitive resin composition layer (b) can be smoothly molded at a relatively low temperature.
  • the conjugated diene constituting the thermoplastic elastomer (b-1) is not particularly limited, but examples include butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-pentadiene, 1 ,3-hexadiene, 4,5-diethyl-1,3-octadiene, 3-butyl-1,3-octadiene, chloroprene and the like. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
  • butadiene is preferable as the conjugated diene from the viewpoint of the printing durability of the flexographic printing plate produced using this composition.
  • the number average molecular weight (Mn) of the thermoplastic elastomer (b-1) is preferably 20,000 or more and 300,000 or less, and 50,000 or more and 200,000 or less, from the viewpoint of viscosity at room temperature. is more preferable.
  • the number average molecular weight can be measured by gel permeation chromatography (GPC) and is represented by polystyrene equivalent molecular weight.
  • thermoplastic elastomer (b-1) is a block copolymer having a polymer block comprising a monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon and a polymer block comprising a conjugated diene
  • the thermoplastic elastomer (b-1) is, for example, a linear block copolymer represented by the following general formula group (I) and/or a linear block copolymer or radial block copolymer represented by the following general formula group (II) Including polymers.
  • A represents a polymer block composed of monovinyl-substituted aromatic hydrocarbons.
  • B represents a polymer block composed of a conjugated diene.
  • X is silicon tetrachloride, tin tetrachloride, epoxidized soybean oil, polyhalogenated hydrocarbon compound, carboxylic acid ester compound, polyvinyl compound, bisphenol type epoxy compound, alkoxysilane compound, halogenated silane compound, ester compound, etc.
  • a residue of a coupling agent or a residue of a polymerization initiator such as a polyfunctional organolithium compound is shown.
  • n, k and m represent integers of 1 or more, for example 1-5.
  • the contents of conjugated dienes and monovinyl-substituted aromatic hydrocarbons in the thermoplastic elastomer (b-1) can be measured using a nuclear magnetic resonance spectrometer ( 1 H-NMR).
  • 1 H-NMR nuclear magnetic resonance spectrometer
  • JNM-LA400 manufactured by JEOL, trade name
  • deuterated chloroform is used as the solvent
  • the sample concentration is 50 mg/mL
  • the observation frequency is 400 MHz
  • the chemical Measurement can be performed by using TMS (tetramethylsilane) as a shift reference, setting the pulse delay to 2.904 seconds, the number of scans to 64, the pulse width to 45°, and the measurement temperature to 25°C.
  • the copolymerization ratio (mass ratio) between the monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon and the conjugated diene is monovinyl Substituted aromatic hydrocarbon/conjugated diene is preferably in the range of 10/80 to 90/20, more preferably in the range of 10/90 to 85/15, and in the range of 10/90 to 60/40. It is even more preferable to have
  • thermoplastic elastomer (b-1) may be introduced with other functional groups, chemically modified by hydrogenation or the like, or copolymerized with other components. .
  • the content of the thermoplastic elastomer (b-1) in the photosensitive resin composition layer (b) is determined, from the viewpoint of the printing durability of the flexographic printing plate obtained using the present construction, in the photosensitive resin composition layer (
  • the total amount of b) is 100% by mass, it is preferably 40% by mass or more, more preferably 40% by mass or more and 80% by mass or less, and further preferably 45% by mass or more and 80% by mass or less. More preferably, it is 45% by mass or more and 75% by mass or less.
  • the photosensitive resin composition layer (b) preferably contains the ethylenically unsaturated compound (b-2) as described above.
  • the ethylenically unsaturated compound (b-2) is a compound having a radically polymerizable unsaturated double bond.
  • Examples of such ethylenically unsaturated compounds (b-2) include, but are not limited to, olefins such as ethylene, propylene, vinyltoluene, styrene, and divinylbenzene; acetylenes; (meth)acrylic acid and/or Unsaturated nitriles such as acrylonitrile; Unsaturated amides such as acrylamide and methacrylamide and derivatives thereof; Unsaturated dicarboxylic acids such as maleic anhydride, maleic acid and fumaric acid and derivatives thereof; Vinyl acetates ; N-vinylpyrrolidone; N-vinylcarbazole; and N-substituted maleimide compounds.
  • olefins such as ethylene, propylene, vinyltoluene, styrene, and divinylbenzene
  • acetylenes acetylenes
  • the ethylenically unsaturated compound (b-2) includes (meth)acrylic acid and/or its Derivatives are preferred.
  • Examples of the above derivatives include, but are not limited to, cycloalkyl, bicycloalkyl, cycloalkenyl, bicycloalkenyl, etc. alicyclic compounds; benzyl, phenyl, phenoxy, naphthalene skeleton, anthracene Aromatic compounds having skeleton, biphenyl skeleton, phenanthrene skeleton, fluorene skeleton, etc.; compounds having alkyl group, halogenated alkyl group, alkoxyalkyl group, hydroxyalkyl group, aminoalkyl group, glycidyl group, etc.; alkylene glycol, polyoxyalkylene ester compounds with polyhydric alcohols such as glycol, polyalkylene glycol and trimethylolpropane; and compounds having a polysiloxane structure such as polydimethylsiloxane and polydiethylsiloxane.
  • the ethylenically unsaturated compound (b-2) may also be a heteroaromatic compound containing elements such as nitrogen and sulfur.
  • the (meth)acrylic acid and/or derivatives thereof are not particularly limited, but examples include diacrylates and dimethacrylates of alkanediols such as hexanediol and nonanediol; ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, butylene glycol diacrylates and dimethacrylates; trimethylolpropane tri(meth)acrylate; dimethyloltricyclodecane di(meth)acrylate; isobornyl (meth)acrylate; phenoxypolyethylene glycol (meth)acrylate; meth)acrylate and the like. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more types.
  • the number average molecular weight (Mn) of the ethylenically unsaturated compound (b-2) is 100 from the viewpoint of improving the nonvolatility of the ethylenically unsaturated compound (b-2) during production and/or storage of the present structure. From the viewpoint of compatibility with other components, it is preferably less than 1000, more preferably 200 or more and 800 or less.
  • the content of the ethylenically unsaturated compound (b-2) in the photosensitive resin composition layer (b) is determined from the viewpoint of the printing durability of the flexographic printing plate obtained using the present construction.
  • the total amount of (b) is 100% by mass, it is preferably 2% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 2% by mass or more and 25% by mass or less, and 2% by mass or more and 20% by mass or less. is more preferable.
  • the photosensitive resin composition layer (b) preferably contains a photopolymerization initiator (b-3).
  • the photopolymerization initiator (b-3) is a compound that absorbs light energy and generates radicals. Examples thereof include compounds having a functioning site and a site functioning as a decaying photopolymerization initiator in the same molecule.
  • photopolymerization initiator (b-3) examples include, but are not limited to, benzophenone, 4,4-bis(diethylamino)benzophenone, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid anhydride. , 3,3′,4,4′-tetramethoxybenzophenone, etc.; anthraquinones, such as t-butylanthraquinone and 2-ethylanthraquinone; 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, etc.
  • the photopolymerization initiator (b-3) is preferably a compound having a carbonyl group, such as benzophenones and thioxanthones. Aromatic carbonyl compounds are more preferred.
  • the content of the photopolymerization initiator (b-3) in the photosensitive resin composition layer (b) is determined, from the viewpoint of the printing durability of the flexographic printing plate produced using the present construction, in the photosensitive resin composition layer (
  • the total amount of b) is 100% by mass, it is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less, and 0.5% by mass. It is more preferable that the content is not less than 5% by mass or less.
  • the photosensitive resin composition layer (b) preferably contains a liquid diene.
  • a liquid diene is a compound having a liquid carbon-carbon double bond.
  • the "liquid state" of the "liquid diene” means a property of being easily flow-deformed and capable of being solidified into the deformed shape by cooling.
  • a liquid diene has elastomeric properties such that when an external force is applied, it instantly deforms in response to the external force, and recovers its original shape in a short period of time when the external force is removed.
  • the liquid diene is not particularly limited, but examples include liquid polybutadiene, liquid polyisoprene, modified liquid polybutadiene, modified liquid polyisoprene, liquid acrylonitrile-butadiene copolymer, and liquid styrene-butadiene copolymer. mentioned.
  • the liquid diene is a copolymer having a diene content of 50% by mass or more.
  • liquid polybutadiene is preferable as the liquid diene from the viewpoint of the mechanical properties of the present composition and the flexographic printing plate using the same.
  • the 1,2-vinyl bond content of the liquid diene is preferably 1% or more and 80% or less from the viewpoint of making the hardness of the present structure and the flexographic printing plate using the same appropriate, 5% or more and 70% or less is more preferable, and 5% or more and 65% or less is even more preferable.
  • 1,2-vinyl bond amount means that 1 , the ratio of those incorporated by 2-bonds.
  • the amount of 1,2-vinyl bonds can be obtained from the peak ratio of 1 H-NMR (magnetic resonance spectrum) of liquid polybutadiene.
  • 1,2-polybutadiene which is a liquid polybutadiene having a 1,2-vinyl bond, has a vinyl double bond as a side chain, so the reactivity of radical polymerization is high, and the photosensitive resin composition layer It is preferable from the viewpoint of increasing the hardness of (b).
  • Liquid polybutadiene is usually a mixture of 1,2-polybutadiene having 1,2-vinyl bonds and 1,4-polybutadiene having 1,4-vinyl bonds. Incorporating 1,4-polybutadiene into the liquid diene is effective in improving the flexibility of the flexographic printing plate.
  • 1,4-polybutadiene includes cis-type 1,4-polybutadiene and trans-type 1,4-polybutadiene.
  • 1,4-Polybutadiene, both cis-type and trans-type has a vinyl group that is a double bond inside, so it has low reactivity in radical polymerization and can form a flexible resin. .
  • the average value is used as the 1,2-vinyl bond amount.
  • a liquid polybutadiene having a 1,2-vinyl bond content of 10% or less and a liquid polybutadiene having a 1,2-vinyl bond content of 80% or more are used. It is preferable to adjust the total amount of 1,2-vinyl bonds by mixing with polybutadiene. More preferably, a liquid polybutadiene having a 1,2-vinyl bond content of 5% or less and a liquid polybutadiene having a 1,2-vinyl bond content of 80% or more are mixed to adjust the total 1,2-vinyl bond content. preferably.
  • the number average molecular weight of the liquid diene is not particularly limited as long as it is liquid at 20° C., but is preferably 500 or more from the viewpoint of the printing durability and handleability of the flexographic printing plate obtained using this composition. It is 60,000 or less, more preferably 500 or more and 50,000 or less, and still more preferably 800 or more and 50,000 or less.
  • the content of the liquid diene in the photosensitive resin composition layer (b) is set so that the total amount of the photosensitive resin composition layer (b) is 100 mass from the viewpoint of the printing durability of the present structure and the flexographic printing plate using the same. %, preferably 10% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 15% by mass or more and 40% by mass or less, and even more preferably 20% by mass or more and 40% by mass or less.
  • the auxiliary additive component is not particularly limited, but includes, for example, a polar group-containing polymer, a plasticizer other than a liquid diene, a thermal polymerization inhibitor other than a stabilizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a dye/pigment, and the like.
  • the polar group-containing polymer is not particularly limited. polymers. More specifically, a carboxyl group-containing acrylonitrile-butadiene rubber, a carboxyl group-containing styrene-butadiene rubber, a polymer of an aliphatic conjugated diene containing a carboxyl group, a phosphoric acid group, or an emulsification of an ethylenically unsaturated compound having a carboxyl group Examples include polymers, sulfonic acid group-containing polyurethanes, and carboxyl group-containing butadiene latexes. These polar group-containing polymers may be used alone or in combination of two or more.
  • carboxyl group-containing butadiene latex is preferable as the polar group-containing polymer from the viewpoint of obtaining high resolution in the flexographic printing plate using this composition.
  • Plasticizers other than liquid dienes are not particularly limited. Examples include hydrocarbon oils such as naphthenic oil and paraffin oil; liquid dienes such as liquid acrylonitrile-butadiene copolymers and liquid styrene-butadiene copolymers. polystyrene having a number average molecular weight of 2000 or less; ester plasticizers such as sebacate and phthalate. These other plasticizers may have hydroxyl groups or carboxyl groups. Further, these other plasticizers may be provided with a photopolymerizable reactive group such as a (meth)acryloyl group. Other plasticizers may be used alone or in combination of two or more.
  • thermal polymerization inhibitor and antioxidant those commonly used in the field of resin materials or rubber materials can be used. Specifically, phenol-based materials are mentioned.
  • phenolic materials include, but are not limited to, vitamin E, tetrakis-(methylene-3-(3′,5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl)propionate)methane, 2,5-di-t-butyl hydroquinone, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 2-t-butyl-6-(3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl)- 4-methylphenyl acrylate and the like.
  • the thermal polymerization inhibitor and the antioxidant may be used alone or in combination of two or more.
  • the ultraviolet absorber is not particularly limited, but includes, for example, known benzophenone-based compounds, salicylate-based compounds, acrylonitrile-based compounds, metal complex-based compounds, and hindered amine-based compounds. Dyes and pigments shown below may also be used as the ultraviolet absorber.
  • ultraviolet absorbers examples include, but are not particularly limited to, 2-ethoxy-2'-ethyloxalic acid bisanilide, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, and the like.
  • Dyes and pigments are effective as coloring means for improving visibility.
  • Dyes are not particularly limited, but examples include water-soluble basic dyes, acid dyes, direct dyes, and water-insoluble sulfur dyes, oil-soluble dyes, disperse dyes, and the like.
  • Anthraquinone dyes, indigoid dyes, and azo dyes are particularly preferred, and azo oil-soluble dyes and the like are more preferred.
  • the pigment is not particularly limited, but includes, for example, natural pigments, synthetic inorganic pigments, synthetic organic pigments, and the like.
  • Synthetic organic pigments include azo-based pigments, triphenylmethane-based pigments, quinoline-based pigments, anthraquinone-based pigments, and phthalocyanine-based pigments.
  • the total amount of the auxiliary additive components described above is preferably 0% by mass or more and 10% by mass or less, and 0% by mass or more and 5% by mass or less when the total amount of the photosensitive resin composition layer (b) is 100% by mass. It is more preferably 0% by mass or more and 3% by mass or less.
  • an infrared ablation layer (c) is laminated on the photosensitive resin composition layer (b) described above.
  • the infrared ablation layer (c) contains a predetermined resin, is ablationable with an infrared laser, and functions as a layer for shielding light rays other than infrared rays.
  • high sensitivity to laser means that when drawing is performed with the same laser energy, the volume to be ablated is larger, especially in the depth direction.
  • the infrared ablation layer instantaneously reaches a high temperature of several hundred degrees due to infrared irradiation. At that time, if the resin is easy to depolymerize, decomposition of the main chain in the resin will occur efficiently even if the ablation is for a short period of time. On the other hand, in the case of a resin that is difficult to depolymerize, for example, a resin having a polar group in the side chain, only the side chain is decomposed during ablation, and the main chain is less likely to be cut. Therefore, the resin remains in the infrared ablation layer even after infrared irradiation.
  • Resins obtained by condensation polymerization are known to undergo cleavage of the main chain after formation of a ring structure during decomposition.
  • infrared ablation which is heat treatment in a short period of time, does not easily reduce the molecular weight, resulting in poor laser sensitivity.
  • the infrared ablation layer (c) contains a resin that is easily depolymerized.
  • cleavage of the main chain tends to initiate from thermally unstable portions such as branches present in the polymer.
  • the side chain corresponding to the branch has polarity, the decomposition of the side chain tends to predominantly occur, and the main chain is less likely to break, which is not preferable.
  • the side chains of the resin contained in the infrared ablation layer (c) are non-polar groups.
  • the contribution of intramolecular or intermolecular chain transfer cannot be ignored when main chain cleavage proceeds. Therefore, it is better not to have a tertiary hydrogen that is easily abstracted by chain transfer. That is, it is important that the portion corresponding to the plane of symmetry of branching is also a non-polar group.
  • the resin contained in the infrared ablation layer (c) of the present embodiment has a structural unit (c1) containing a quaternary carbon atom to which two nonpolar groups are bonded, as represented by the following general formula (1). However, if necessary, it may have other structural units. (Here, in formula (1), R 1 and R 2 each independently represent a nonpolar group, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom and a nonpolar group.)
  • monomer means a compound before polymerization
  • structural unit means a predetermined repeating unit formed by polymerizing a monomer
  • the nonpolar group in general formula (1) is not particularly limited as long as it is a group composed of carbon atoms and/or silicon atoms and hydrogen atoms. Examples include alkyl groups, aryl groups, cycloalkyl groups, and phenyl groups. , an alkenyl group, an aralkyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, a silyl group, a siloxanyl group, and the like. In addition, a hydrogen atom is not included in the non-polar group.
  • the groups represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are preferably alkyl groups and phenyl groups.
  • the indicated group is an alkyl group or a phenyl group
  • the nonpolar groups of R 3 and R 4 are an alkyl group or a phenyl group
  • the groups indicated by R 1 and R 2 are an alkyl group or a phenyl group.
  • R 3 and R 4 are more preferably hydrogen atoms. This tends to further improve developability with a solvent-based developer, which will be described later.
  • the dispersibility of carbon black which will be described later, tends to be further improved, and the developability with an aqueous developer tends to be further improved.
  • the group represented by R 1 is preferably an alkyl group, a phenyl group, or an acyl group.
  • the number of carbon atoms in the nonpolar group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and still more preferably 1 or more and 5 or less.
  • Monomers satisfying the general formula (1) are not particularly limited, but examples include isobutylene, 2-methyl-2-butene, 2,3dimethyl-2-butene, and other substituted with an alkyl group of, modified products thereof; ⁇ -methylstyrene, cis-(1-methyl-1-propenyl)benzene, trans-(1-methyl-1-propenyl)benzene, and these methyl groups
  • Examples include those substituted with other alkyl groups such as ethyl groups, modified products thereof; 1,1-diphenylethylene and the like.
  • the structural unit (c1) in the resin not only does the resin alone have excellent developability in a solvent-based developer, but the highly polar carbon black described later can be dispersed while maintaining high dispersibility. It is thus possible to exhibit high developability with an aqueous developer.
  • R 3 and R 4 in general formula (1) are a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a cycloalkyl group, a phenyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, a silyl group, and a siloxanyl group; are preferred, and both are more preferably hydrogen atoms.
  • the depolymerization property of the resin is further improved, so that the laser sensitivity of the infrared ablative layer (c) tends to be further improved.
  • the developability with a solvent-based developer is further improved, and the dispersibility of carbon black is further improved, so that the developability with an aqueous developer tends to be further improved.
  • isobutylene, ⁇ -methylstyrene, and those in which the methyl group is replaced with another alkyl group such as an ethyl group can be mentioned as those satisfying such a constitution.
  • the use of a monomer having a phenyl group such as ⁇ -methylstyrene tends to further improve the pinhole resistance of the infrared ablation layer (c).
  • the use of such a monomer tends to further improve the developability with water-based developers and solvent-based developers.
  • R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group, an aryl group, a cycloalkyl group, a phenyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, a cycloalkenyl group, an alkynyl group, a silyl group, and a siloxanyl group. is preferred, an alkyl group and a phenyl group are more preferred, and each independently an alkyl group is further preferred. Rubber-like elasticity can be obtained by R 1 and/or R 2 being an alkyl group. Therefore, it can become a soft portion in the elastomer, and tends to further improve the flexibility of the infrared ablative layer (c). In addition, since R 1 and/or R 2 are phenyl groups, the composition tends to be molded smoothly at a relatively low temperature.
  • the structural unit (c1) may be used singly or in combination of two or more.
  • the above resin may contain, as the structural unit (c1), a structural unit in which R 1 and R 2 are alkyl groups, and a structural unit in which one of R 1 and R 2 is an alkyl group and the other is a phenyl group. may have This can improve the properties of both the alkyl group and the phenyl group.
  • isobutylene and those in which the methyl group thereof is substituted with another alkyl group such as an ethyl group can be mentioned as those satisfying such a constitution.
  • the content of the structural unit (c1) is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, still more preferably 60% by mass or more, based on the total amount of the resin. It is preferably 70% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more. In addition, the content of the structural unit (c1) is preferably 100% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, still more preferably 90% by mass or less, based on the total amount of the resin. It is preferably 85% by mass or less, and more preferably 80% by mass or less. Upper and lower limits of these numerical values can be combined arbitrarily.
  • the content of the structural unit (c1) is 40% by mass or more, the laser sensitivity and flexibility of the infrared ablation layer (c) tend to be further improved. Moreover, when the content of the structural unit (c1) is 100% by mass or less, the resistance to pinholes of the infrared ablation layer (c) tends to be further improved.
  • the content of the structural unit (c1) is within the above range, the developability in the solvent-based developer is further improved, and the dispersibility of carbon black is further improved, so that the content in the aqueous developer is improved. Developability tends to be further improved.
  • the resin used in the infrared ablative layer (c) preferably contains a structural unit (c2) containing an aromatic group in its side chain, apart from the structural unit (c1).
  • a structural unit (c2) a structural unit (c2) derived from a monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon is preferred.
  • the monovinyl aromatic hydrocarbon may be chemically bonded to the monomer represented by the general formula (1), or may be added as a separate resin. From the viewpoint of the above, it is preferable that they are chemically bonded to form a copolymer.
  • the resin contains the structural unit (c2) derived from a monovinyl-substituted aromatic hydrocarbon, the pinhole resistance tends to be further improved.
  • Examples of monovinyl aromatic hydrocarbon compounds include, but are not limited to, styrene, t-butylstyrene, N,N-dimethyl-p-aminoethylstyrene, N,N-diethyl-p-aminoethylstyrene, vinylpyridine, Examples include monomers such as p-methylstyrene and tertiary butylstyrene. Among these, styrene is preferable because the structure can be molded smoothly at a relatively low temperature.
  • the structural unit (c2) may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the structural unit (c2) is preferably 0% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, still more preferably 10% by mass or more, and still more preferably It is 15% by mass or more, and more preferably 20% by mass or more.
  • the content of the structural unit (c2) is preferably 60% by mass or less, more preferably 55% by mass or less, still more preferably 50% by mass or less, based on the total amount of the resin. It is preferably 45% by mass or less, and more preferably 40% by mass or less. Upper and lower limits of these numerical values can be combined arbitrarily.
  • the content of the structural unit (c2) is 0% by mass or more, the resistance to pinholes of the infrared ablation layer (c) tends to be further improved. Further, when the content of the structural unit (c2) is 60% by mass or less, the laser sensitivity and flexibility of the infrared ablative layer (c) tend to be further improved.
  • “0% by mass or more” includes both a mode containing the structural unit (c2) and a mode not containing the structural unit (c2). Upper and lower limits of these numerical values can be combined arbitrarily.
  • the contents and ratios of the structural units (c1) and (c2) in the resin used in the infrared ablation layer (c) can be measured using a nuclear magnetic resonance spectrometer ( 1 H-NMR).
  • the infrared ablation layer (c) may contain other resins besides the above resins.
  • the content of the resin is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more and 100% by mass or less, based on the total resin components of the infrared ablative layer (c).
  • the content of the resin is within the above range, the laser sensitivity and flexibility of the infrared ablative layer (c) tend to be further improved.
  • a resin having a polar group in a side chain it is preferable that the above resin is contained in an amount of 70% or more in all resin components from the viewpoint of laser sensitivity.
  • the content of the resin is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and even more preferably 40% by mass or more, relative to the total amount of the infrared ablative layer (c). .
  • the content of the resin is preferably 90% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, and preferably 70% by mass or less, relative to the total amount of the infrared ablation layer (c). More preferred. Upper and lower limits of these numerical values can be combined arbitrarily.
  • the content of the resin is 20% by mass or more, the resistance to pinholes and flexibility of the infrared ablation layer (c) tend to be further improved. Further, when the content of the resin is 90% by mass or less, the laser sensitivity and shielding properties of the infrared ablation layer (c) tend to be further improved.
  • the content of the resin is within the above range, the developability in a solvent-based developer and an aqueous developer and the dispersibility of carbon black tend to be further improved.
  • the infrared-ablable layer (c) may contain an infrared-absorbing substance for performing an ablation process.
  • an infrared-absorbing substance for performing an ablation process.
  • the infrared absorbing substance a single substance or a compound having strong absorption in the range of 750 to 2000 nm is usually used.
  • infrared absorbing substances include, but are not limited to, inorganic pigments such as carbon black, graphite, copper chromite, and chromium oxide; pigments such as polyphthalocyanine compounds, cyanine pigments, and metal thiolate pigments. be done.
  • inorganic pigments such as carbon black, graphite, copper chromite, and chromium oxide
  • pigments such as polyphthalocyanine compounds, cyanine pigments, and metal thiolate pigments. be done.
  • Carbon black in particular, can be used in a wide range of particle sizes from 13 nm to 85 nm, and is therefore preferable as an infrared absorbing substance.
  • Carbon black can also function as a shielding substance described below.
  • the infrared ablative layer (c) plays a role as a mask, it may contain a shielding substance against non-infrared rays such as ultraviolet rays.
  • a substance that reflects or absorbs ultraviolet light can be used as the shielding substance against non-infrared rays. UV absorbers, carbon black, graphite and the like can be mentioned.
  • the total content of the infrared absorbing substance and the shielding substance is preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less, preferably 20% by mass or more and 70% by mass or less, relative to the total amount of the infrared ablation layer (c), It is preferably 30% by mass or more and 60% by mass or less.
  • the total content of the infrared absorbing substance and the shielding substance is within the above range, laser sensitivity and shielding properties tend to be further improved.
  • the infrared ablation layer (c) is excellent for both solvent-based developers and water-based developers. It has been found that the developability is improved.
  • the infrared ablative layer (c) of the present embodiment preferably contains carbon black as an infrared absorbing material for performing ablation processing and as a non-infrared shielding material for serving as a mask.
  • the pH of carbon black is preferably 2.0 or more and 5.5 or less.
  • Low pH carbon black is in a state in which a large number of functional groups are introduced on its surface, and is more hydrophilic than ordinary carbon black. This makes it possible to exhibit excellent developability particularly with respect to an aqueous developer.
  • the pH of carbon black is more preferably 2.5 or more and 5.0 or less, more preferably 2.5 or more and 4.5 or less.
  • the pH of carbon black is a value measured with a glass electrode pH meter after preparing a mixture of carbon black and distilled water according to ASTM D1512.
  • Carbon black is classified into, for example, furnace black, channel black, thermal black, acetylene black, lamp black, etc., depending on the method of production thereof, but furnace black is preferred in order to obtain the desired properties.
  • Furnace black is a method of obtaining carbon black by injecting petroleum- or coal-based oil into high-temperature gas as a raw material for incomplete combustion, and can be produced using a widely known method.
  • Carbon black that has been conventionally used to form a black matrix can be used as long as it satisfies the above requirements.
  • Specific examples include MA7, MA8, MA11, MA14, MA77, MA100, MA100R, MA100S, MA220, MA230, #970, #1000, #2350, #2360 manufactured by Mitsubishi Chemical, Toka Black #8300 manufactured by Tokai Carbon, etc. is mentioned.
  • the film thickness of the infrared ablation layer (c) of this construction is preferably thick from the viewpoint of ensuring the light shielding property against ultraviolet rays in the process of exposing the photosensitive resin construction for printing plates. From the viewpoint of increasing the strength, the thinner the better.
  • the content of carbon black is preferably 10% by mass or more and 70% by mass or less, more preferably 20% by mass or more and 60% by mass or less, and still more preferably 30% by mass, based on the total amount of the infrared ablative layer (c). It is more than mass % and below 50 mass %. When the content of carbon black is within the above range, laser sensitivity and shielding properties tend to be further improved.
  • the compounding ratio of the resin and carbon black (resin/carbon black) in the infrared ablation layer (c) is preferably in the range of 80/20 to 50/50, more preferably 75/25 to 55/45. range, more preferably 70/30 to 60/40.
  • the compounding ratio (resin/carbon black) is within the above range, laser sensitivity and shielding properties tend to be further improved.
  • the infrared ablative layer (c) preferably contains a dispersant for the purpose of assisting the dispersibility of carbon black.
  • the dispersant is preferably a compound having an adsorption portion capable of interacting with the surface functional group of the infrared absorbent and a resin-compatible portion compatible with the binder polymer.
  • the adsorption portion of the dispersant is not particularly limited, but examples include amino groups, amide groups, urethane groups, carboxyl groups, carbonyl groups, sulfone groups, and nitro groups. Among these, an amino group, an amide group, and a urethane group are preferable.
  • the resin-compatible part is not particularly limited, but examples include saturated alkyl, unsaturated alkyl, polyether, polyester, poly(meth)acryl, and polyol.
  • the solubility parameter (SP value) of the dispersant is preferably 9.5 or more and 12.5 or less, more preferably 10.0 or more and 12.0 or less.
  • SP value The solubility parameter (SP value) is within the above range, the dispersibility of carbon black is further improved, and the developability with an aqueous developer tends to be further improved.
  • V is the molar molecular volume of the solvent
  • ⁇ E is the cohesion energy (evaporation energy).
  • the molar molecular volume and cohesive energy of the solvent can also be determined from known values, such as the document "POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE, Vol. 14, 147-154, 1974".
  • solubility parameter SP value
  • a poor solvent with a lower SP value than the good solvent is added dropwise to a solution in which a sample with an unknown SP value is dissolved in a good solvent with a known SP value, and the solute begins to precipitate. Measure the volume of the anti-solvent.
  • a poor solvent with a higher SP value than the good solvent is added dropwise to a solution in which a newly prepared sample with an unknown SP value is dissolved in a good solvent with a known SP value, and the solute begins to precipitate. Measure the volume of the anti-solvent. It can be obtained by applying the volume of each poor solvent obtained here to the following formula (2).
  • Vml is the volume of a poor solvent with a low SP value
  • V mh is the volume of a poor solvent with a high SP value
  • ⁇ ml is the SP value of a poor solvent with a low SP value
  • ⁇ mh is a poor solvent with a high SP value.
  • the content of the dispersing agent in the infrared ablative layer (c) of the present embodiment is within a range that can ensure the strength of the infrared ablative layer (c) while uniformly dispersing the infrared absorber in the infrared ablative layer (c). It is preferred to select and add. If the content of the dispersing agent is too small, the infrared absorbing agent cannot be sufficiently dispersed in the infrared ablative layer (c). .
  • the content of the dispersant is preferably 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less, relative to the entire infrared ablation layer (c). It is more preferably 3% by mass or more and 20% by mass or less.
  • the content of the dispersant is preferably 0.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of carbon black, and 1 part by mass or more. It is more preferable that the amount is 3 parts by mass or more. From the viewpoint of the film strength of the infrared ablation layer, the content of the dispersant is preferably 50 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of carbon black. It is more preferably not more than parts by mass.
  • the dispersant in the infrared ablative layer (c) preferably has a branched structure.
  • high dispersibility can be obtained because the dispersant has low crystallinity.
  • the weight average molecular weight of the dispersant in the infrared ablation layer (c) of the present embodiment is preferably selected within a range in which the dispersant does not bleed out while uniformly dispersing the infrared absorbent in the infrared ablation layer.
  • the dispersing agent When the dispersing agent bleeds out, it cannot interact with the infrared absorbing agent, such as carbon black, resulting in poor dispersion and heavy peeling.
  • the weight average molecular weight of the dispersant measured in terms of standard polystyrene by gel permeation column chromatography is preferably 1000 or more and 10000 or less, more preferably 2000 or more and 7000 or less, and 2500 or more and 5000 or less. More preferred.
  • the film thickness of the infrared ablation layer (c) of this structure is preferably thick from the viewpoint of ensuring the shielding property against ultraviolet rays in the step of performing exposure processing on this structure, and from the viewpoint of increasing the ablation property. Thinner is better.
  • the thickness of the infrared ablation layer (c) is preferably 0.1 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less, more preferably 0.5 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less, and even more preferably 1.0 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less.
  • the optical density of the infrared ablation layer (c) is preferably 2 or more, more preferably 3 or more.
  • the optical density can be measured using a D200-II transmission densitometer (manufactured by GretagMacbeth). Also, the optical density is the so-called visual sensitivity (ISO visual), and the light to be measured is in the wavelength range of about 400 to 750 nm.
  • ISO visual visual sensitivity
  • the method for forming the infrared ablation layer (c) is not particularly limited.
  • a resin solution is prepared using a predetermined solvent.
  • carbon black and a dispersant are added thereto, the carbon black is dispersed in the resin solution, and then coated on a cover film such as a polyester film, and then the cover film is used as a photosensitive resin composition layer.
  • a cover film such as a polyester film
  • the cover film is used as a photosensitive resin composition layer.
  • a method for dispersing carbon black in a resin solution it is effective to use both forced stirring with a stirring blade and stirring using ultrasonic waves and various mills.
  • a method of pre-kneading a resin, carbon black and a dispersant using an extruder or a kneader and then dissolving the mixture in a solvent is also effective for obtaining good dispersibility of carbon black.
  • carbon black may be forcibly dispersed in the resin in the form of a latex solution.
  • Solvents such as solutions and dispersions for forming the infrared ablation layer (c) can be appropriately selected in consideration of the solubility of the resin and infrared absorber used. Only one kind of solvent may be used, or two or more kinds of solvents may be mixed and used.
  • the infrared ablation layer (c) it is effective to improve the film quality of the infrared ablation layer (c) by mixing a solvent with a relatively low boiling point and a solvent with a high boiling point to control the volatilization speed of the solvent.
  • Solvents for forming the infrared ablative layer (c) are not particularly limited, but examples include toluene, xylene, cyclohexane, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, methyl ethyl ketone, acetone, cyclohexanone, Ethylene glycol, propylene glycol, ethanol, water, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, dimethylacetamide, dimethylformamide, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, n- Hexane, n-heptane, n-pentane, acetonitrile, analogues thereof and the like can be mentioned.
  • the cover film for forming the infrared ablation layer (c) of this structure is preferably a film with excellent dimensional stability, such as polyethylene terephthalate film.
  • the cover film may be used in an untreated state, but if necessary, it may be used with functions such as release treatment and antistatic treatment.
  • This construct may further have one or more intermediate layers (d) between the photosensitive resin composition layer (b) and the infrared ablative layer (c).
  • the intermediate layer (d) is not particularly limited, but can be, for example, an oxygen inhibiting layer, an adhesive layer and/or a protective layer. Each layer will be described below.
  • the intermediate layer (d) is preferably an oxygen-blocking layer having oxygen-blocking ability.
  • the photosensitive resin composition layer (b) When the photosensitive resin composition layer (b) is cured by irradiation with ultraviolet rays, curing proceeds by radical polymerization. If oxygen coexists during this radical polymerization, the radical-generating compound reacts with oxygen to suppress the polymerization reaction. When the polymerization reaction is inhibited in this way, there is a possibility that unreacted portions remain in the exposed areas of the photosensitive resin composition layer (b). Since this unreacted portion is removed in the fourth step, which will be described later, the pattern finally formed on the flexographic printing plate has a curved portion at the tip. This is because the portion of the photosensitive resin composition layer (b) on the infrared ablation layer (c) side is particularly susceptible to polymerization inhibition by oxygen, and the photosensitive resin composition layer ( This is because unreacted portions tend to occur in b).
  • the intermediate layer (d) has an oxygen inhibiting ability to reduce the amount of oxygen in contact with the photosensitive resin composition layer (b). .
  • the intermediate layer (d) may be an adhesive layer that improves the adhesion between the photosensitive resin composition layer (b) and the infrared ablation layer (c). This tends to improve handleability.
  • the intermediate layer (d) may also have the function of protecting the infrared ablation layer (c).
  • the infrared ablative layer (c) laminated with the cover film is transported, the infrared ablative layer (c) comes into contact with the roll, and tight winding occurs during transport of the film roll. In the roll, the infrared ablative layer (c) and the cover film laminated thereon may rub against each other. As a result, the infrared ablation layer (c) may be physically chipped and pinholes may occur.
  • the intermediate layer (d) constituting the structure preferably has physical strength and heat resistance as a protective layer.
  • the method for producing a flexographic printing plate of the present embodiment includes, using the present structure, a first step of irradiating ultraviolet rays from the support (a) side, and irradiating the infrared ablation layer (c) with infrared rays. A second step of drawing a pattern, and a third step of pattern exposure by irradiating the photosensitive resin composition layer (b) with ultraviolet rays using the pattern-drawn infrared ablation layer (c) as a mask. and a fourth step of removing the infrared ablation layer (c) and the unexposed portion of the photosensitive resin composition layer (b).
  • a step of post-exposure treatment is performed as necessary, and a flexographic printing plate (letterpress printing plate) is obtained from the cured product of the photosensitive resin composition layer.
  • the surface of the flexographic printing plate may be brought into contact with a liquid containing a silicone compound and/or a fluorine compound.
  • the method of irradiating the photosensitive resin composition layer (b) with ultraviolet rays from the support (a) side is not particularly limited, and a known irradiation unit can be used.
  • the wavelength of the ultraviolet rays irradiated at this time is preferably 150 to 500 nm, more preferably 300 to 400 nm.
  • the ultraviolet light source is not particularly limited, but for example, low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, zirconium lamps, carbon arc lamps, fluorescent lamps for ultraviolet rays, etc. can be used.
  • this first step may be performed before or after the second step, which will be described later.
  • the method of drawing a pattern by irradiating the infrared ablation layer (c) with infrared rays is not particularly limited, and a known irradiation unit can be used.
  • the irradiation of the infrared rays to the infrared ablation layer (c) can be performed from the infrared ablation layer (c) side.
  • this structure has a cover film
  • the cover film is first peeled off before infrared irradiation. Thereafter, the infrared ablation layer (c) is pattern-irradiated with infrared rays to decompose the resin in the infrared-irradiated portions, and the pattern is drawn. Thereby, a mask for the infrared ablation layer (c) can be formed on the photosensitive resin composition layer (b).
  • suitable infrared lasers include, for example, ND/YAG lasers (eg, 1064 nm) or diode lasers (eg, 830 nm).
  • Laser systems suitable for CTP plate making technology are commercially available, for example the diode laser system CDI Spark (ESKO GRAPHICS) can be used.
  • the laser system includes a rotating cylindrical drum that holds the structure, an IR laser illumination device, and a layout computer, with image information transmitted directly from the layout computer to the laser device.
  • the patterned infrared ablation layer (c) is used as a mask to irradiate the photosensitive resin composition layer (b) with ultraviolet rays for pattern exposure.
  • the light passing through the mask accelerates the curing reaction of the photosensitive resin composition layer (b), and the pattern formed on the infrared ablation layer (c) reverses the unevenness, thereby forming the photosensitive resin composition layer.
  • the ultraviolet irradiation may be applied to the entire surface of the structure.
  • the third step can be performed with this structure attached to the laser cylinder, but generally, this structure is removed from the laser device and irradiated using a conventional irradiation unit.
  • a conventional irradiation unit the same units as those exemplified for the ultraviolet irradiation in the first step can be used.
  • the fourth step is to remove the infrared ablation layer (b) and the unexposed portions of the photosensitive resin composition layer (c).
  • the removal method is not particularly limited, and conventionally known methods can be applied.
  • the photosensitive resin composition layer (b) of this structure is exposed, and then the unexposed portion is washed away with a solvent for solvent development or a washing liquid for water development, or 40 C. to 200.degree. C., the unexposed portion is removed by bringing it into contact with a predetermined absorbing layer capable of absorption, and removing the absorbing layer.
  • a flexographic printing plate is manufactured by post-exposure processing as necessary.
  • an intermediate layer (d) is provided between the infrared ablation layer (c) and the photosensitive resin composition layer (b), it may be removed simultaneously in the development step.
  • the developing solvent used for solvent development of the unexposed area is not particularly limited, but examples thereof include esters such as heptyl acetate and 3-methoxybutyl acetate; hydrocarbons such as petroleum fractions, toluene and decalin. and mixtures of alcohols such as propanol, butanol, and pentanol with chlorinated organic solvents such as tetrachlorethylene.
  • esters such as heptyl acetate and 3-methoxybutyl acetate
  • hydrocarbons such as petroleum fractions, toluene and decalin.
  • mixtures of alcohols such as propanol, butanol, and pentanol with chlorinated organic solvents such as tetrachlorethylene.
  • water an alkaline aqueous solution, a neutral detergent, and a surfactant can be suitably used as the washing liquid for water development.
  • surfactants examples include anionic surfactants, amphoteric surfactants, and nonionic surfactants. These may be used individually by 1 type, and may be used in mixture of 2 or more types.
  • anionic surfactants include, but are not limited to, sulfates, higher alcohol sulfates, higher alkyl ether sulfates, sulfated olefins, alkylbenzenesulfonates, ⁇ -olefinsulfonates, and phosphates. salts, dithiophosphate salts, and the like.
  • amphoteric surfactant is not particularly limited, but includes, for example, an amino acid type amphoteric surfactant, a betaine type amphoteric surfactant and the like.
  • nonionic surfactants include, but are not limited to, higher alcohol ethylene oxide adducts, alkylphenol ethylene oxide adducts, fatty acid ethylene oxide adducts, polyhydric alcohol fatty acid ester ethylene oxide adducts, and higher alkylamine ethylene oxide adducts.
  • Polyethylene glycol type surfactants such as fatty acid amide ethylene oxide adducts, polypropylene glycol ethylene oxide adducts, glycerol fatty acid esters, pentaerythritol fatty acid esters, sorbitol and sorbitan fatty acid esters, alkyl esters of polyhydric alcohols, alkanolamines and polyhydric alcohol surfactants such as fatty acid amides of the type.
  • a pH adjuster may be used for the alkaline aqueous solution.
  • the pH adjuster may be either an organic material or an inorganic material, but is preferably one that can adjust the pH to 9 or higher.
  • Examples of pH adjusters include, but are not limited to, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, sodium succinate and the like.
  • the heat-developable absorption layer is not particularly limited, but examples thereof include non-woven fabric materials, paper materials, fiber fabrics, open-cell foams, and porous materials. Among these, nonwoven materials made of nylon, polyester, polypropylene, polyethylene, and combinations of these nonwoven materials are preferred, and nonwoven continuous webs of nylon or polyester are more preferred.
  • the flexographic printing method of the present embodiment comprises a first step of irradiating ultraviolet rays from the support (a) side using the above-described photosensitive resin composition for flexographic printing plates, and irradiating the infrared ablation layer (c) with infrared rays. and a third step of pattern exposure by irradiating the photosensitive resin composition layer (b) with ultraviolet rays using the pattern-drawn infrared ablation layer (c) as a mask.
  • the first to fourth steps in the flexographic printing method are as described above.
  • a fifth step is a step of printing using the flexographic printing plate obtained by the first to fourth steps.
  • the printing method using the flexographic printing plate is not particularly limited as long as it is a method of applying ink to the raised portions of the flexographic printing plate and transferring the ink to the substrate.
  • Tufprene A manufactured by Asahi Kasei, styrene-butadiene-styrene block copolymer 60 parts by weight
  • B-2000 manufactured by Nippon Petrochemicals, liquid polybutadiene
  • 1,9-nonanediol diacrylate 7 parts by weight 2 , 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 0.3 parts by mass of 2,6-di-t-butyl-p-cresol were kneaded with a pressure kneader to prepare a photosensitive resin composition.
  • the photosensitive resin composition is put into an extrusion molding machine, and a support (polyethylene terephthalate film) is attached to one side of the photosensitive resin composition layer extruded from the T-shaped die to form a photosensitive resin composition.
  • a release film (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., Diafoil MRV100) was adhered to the opposite side of the support layer of the support layer to obtain a laminate of the support and the photosensitive resin composition layer.
  • a liquid tube was connected, and the isobutylene monomer was sent into the polymerization vessel by nitrogen pressure.
  • 0.647 g (2.8 mmol) of p-dicumyl chloride and 1.22 g (14 mmol) of N,N-dimethylacetamide were added.
  • 8.67 mL (79.1 mmol) of titanium tetrachloride was further added to initiate polymerization. After stirring at the same temperature for 1.5 hours from the start of polymerization, about 1 mL of the polymerization solution was taken out for sampling.
  • Resins 2 to 9 were obtained in the same manner as Resin 1 except that the types of monomers used and the compounding ratio were changed as shown in Table 1 below. Table 1 below shows constituent materials and physical properties of the resin.
  • the carbon black dispersion obtained as described above was coated on a PET film with a thickness of 100 ⁇ m as a cover film so that the film thickness after drying was 2.5 ⁇ m, and dried at 90 ° C. for 2 minutes. After treatment, an infrared ablative layer laminate 1, which is a laminate of the infrared ablative layer and the cover film, was obtained.
  • Infrared Ablation Layer Laminates 2 to 10 were obtained in the same manner as for infrared ablative layer laminate 1, except that the resins used were changed as shown in Table 2 below.
  • Tufprene 315 (Asahi Kasei, styrene-butadiene block copolymer) 7.8 parts by mass, toluene 70.4 parts by mass, and propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate (PMA) 17.6 parts by mass, mixed. and the Tufprene 315 was dissolved in the solvent. After that, carbon black (MCF-88 manufactured by Mitsubishi Chemical) was further added and mixed in a bead mill for 4 hours to obtain a carbon black dispersion.
  • PMA propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate
  • An infrared ablation layer laminate 11 was obtained in the same manner as the infrared ablation layer laminate 1 except that the carbon black dispersion obtained as described above was used.
  • polyamide Macromelt 6900 manufactured by Henkel
  • toluene 44.0 parts by mass of toluene
  • 2-propanol 2-propanol
  • An infrared ablative layer laminate 12 was obtained in the same manner as the infrared ablative layer laminate 1 except that the carbon black dispersion obtained as described above was used.
  • Carbon black (manufactured by Mitsubishi Chemical, #1000) was mixed with the resulting solution and kneaded and dispersed using a three-roll mill to obtain a carbon black dispersion.
  • An infrared ablation layer laminate 13 was obtained in the same manner as the infrared ablation layer laminate 1 except that the carbon black dispersion obtained as described above was used.
  • An infrared ablation layer laminate 14 was obtained in the same manner as the infrared ablation layer laminate 1 except that the carbon black dispersion obtained as described above was used.
  • An infrared ablative layer laminate 15 was obtained in the same manner as the infrared ablative layer laminate 1 except that the carbon black dispersion obtained as described above was used.
  • Example 1 ((4) Preparation of photosensitive resin structure for flexographic printing plate) ⁇ Example 1>
  • the release film is peeled off from the laminate of the support and the photosensitive resin composition layer, and the infrared ablation layer laminate 1 is placed at a temperature of 25° C. and a humidity of 40% so that the infrared ablation layer is in contact with the photosensitive resin composition layer.
  • Laminate in the environment place the cover film surface on a hot plate set at 120 ° C. so that it is in contact with the heating part of the hot plate, and apply heat for 1 minute to form the photosensitive resin composition for a flexographic printing plate of Example 1. Got 1 body.
  • the photosensitive resin structure 1 for flexographic printing plates of Example 1 produced as described above was evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 3 below. The evaluation was carried out by cutting the photosensitive resin composition for flexographic printing plate into a size of 10 cm ⁇ 15 cm and peeling off the cover film.
  • the ablation portion was observed using a laser microscope (VK-X100, manufactured by Keyence Corporation; objective lens 100x), and the length of the surface of the infrared ablation layer in the longitudinal direction (2 pixels side) that was scraped by the laser,
  • the length of the interface with the photosensitive resin composition layer was measured, and the length of the interface with the photosensitive resin composition layer/surface of the infrared ablation layer was evaluated as an index of laser sensitivity as follows.
  • the hole penetrates and the interface with the photosensitive resin composition/surface of the infrared ablation layer has a length of 0.50 or more
  • D The hole penetrates and the length of the interface with the photosensitive resin composition / the surface of the infrared ablation layer is less than 0.30
  • the photosensitive resin structure for a flexographic printing plate is bent 180° (to the extent that the support contacts) starting from the vicinity of the center so that the support faces inward, and then tested to see if wrinkles occur on the surface of the infrared ablation layer. and evaluated as follows. (Evaluation criteria) A: No wrinkles. B: Wrinkles are generated, but they are very slightly generated only at the ends of the structure. C: Wrinkles are generated, and multiple wrinkles are generated at the ends of the structure. D: Wrinkles are generated, and wrinkles are observed not only at the ends of the structure but also near the center. E: Wrinkles occur on the entire surface of the structure.
  • the infrared ablative layer laminate 1 was laminated at a temperature of 180° C. so that the infrared ablative layer was in contact with the photosensitive resin composition layer to obtain a sample.
  • this sample after removing the cover film of the infrared ablation layer, it was placed on a light table and examined under a microscope.
  • the number of pinholes with a length of 20 ⁇ m or more was counted, the average value was calculated, and the value (number/m 2 ) was calculated and evaluated as follows.
  • evaluation criteria A: The number of pinholes is less than 2 (pieces/m 2 ) on average.
  • B The average number of pinholes is 2 (pieces/m 2 ) or more and less than 5 (pieces/m 2 ).
  • C The average number of pinholes is 5 (pieces/m 2 ) or more and less than 10 (pieces/m 2 ).
  • D The average number of pinholes is 10 (pieces/m 2 ) or more and less than 20 (pieces/m 2 ).
  • E The average number of pinholes is 20 (pieces/m 2 ) or more.
  • Photosensitive resin constituents 2 to 15 for flexographic printing plates of Examples 2 to 15 were prepared in the same manner as in Example 1, except that the types of infrared ablation layer laminates were changed to infrared ablation layer laminates 2 to 12, respectively. It was produced and evaluated. The evaluation results are shown in Table 3 below.
  • the aqueous dispersion of the obtained hydrophilic copolymer was dried in a vacuum dryer at 50°C to remove water and obtain a hydrophilic copolymer.
  • UV transmittance ultraviolet transmittance
  • base film a support having an adhesive layer
  • the UV transmittance of the support is measured using an ultraviolet exposure machine AFP-1500 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., trade name), and a UV illuminance meter MO-2 type machine (manufactured by Oak Manufacturing, trade name, UV-35 filter). was measured and calculated.
  • AFP-1500 manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., trade name
  • MO-2 type machine manufactured by Oak Manufacturing, trade name, UV-35 filter
  • liquid polybutadiene [LBR-352: manufactured by Kuraray Co., Ltd.] 32 parts by weight, 8 parts by weight of 1,9-nonanediol diacrylate, 5 parts by weight of 1,6-hexanediol dimethacrylate, 2 parts by weight of 2,2-dimethoxyphenylacetophenone , 2,6-di-t-butyl-p-cresol 1 part by mass, carbinol-modified silicone oil [KF-6000: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] 1 part by mass of a liquid mixture was added little by little over 15 minutes, and the addition was completed. The mixture was further kneaded for 20 minutes to obtain a photosensitive resin composition.
  • LBR-352 manufactured by Kuraray Co., Ltd.
  • the photosensitive resin composition is put into an extrusion molding machine, and the adhesive layer forming surface of the support is attached to one surface of the photosensitive resin composition layer extruded from the T-shaped die, A release film (Mitsubishi Chemical Co., Ltd., Diafoil MRV100) was attached to the side of the photosensitive resin composition layer opposite to the support lamination side to obtain a laminate of the support and the photosensitive resin composition layer. .
  • a liquid tube was connected, and the isobutylene monomer was sent into the polymerization vessel by nitrogen pressure.
  • 0.647 g (2.8 mmol) of p-dicumyl chloride and 1.22 g (14 mmol) of N,N-dimethylacetamide were added.
  • 8.67 mL (79.1 mmol) of titanium tetrachloride was further added to initiate polymerization. After stirring at the same temperature for 1.5 hours from the start of polymerization, about 1 mL of the polymerization solution was taken out for sampling.
  • Resins 102 to 105 were obtained in the same manner as Resin 101 except that the types of monomers used and the compounding ratio were changed as shown in Table 4 below. Table 4 below shows constituent materials and physical properties of the resin.
  • the carbon black dispersion obtained as described above was coated on a PET film with a thickness of 100 ⁇ m as a cover film so that the film thickness after drying was 3.0 ⁇ m, and dried at 90 ° C. for 2 minutes. After treatment, an infrared ablative layer laminate 101, which is a laminate of the infrared ablative layer and the cover film, was obtained.
  • Infrared Ablation Layer Laminates 102 to 107, 109 to 119, and 129 were obtained in the same manner as the infrared ablative layer laminate 101, except that the resins used were changed as shown in Table 5 below.
  • MA77 manufactured by Mitsubishi Chemical used as carbon black has a pH of 2.5
  • Toka Black #8300 manufactured by Tokai Carbon
  • Toka Black #5500 manufactured by Tokai Carbon
  • pH was 6.0.
  • the SP value of Disparon DA-703-50 (manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd.) used as a dispersant is 11.0
  • the SP value of Solsperse S11200 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.) is 9.5
  • the SP value of S18000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.) was 8.1
  • the SP value of Ajisper PB881 manufactured by Ajinomoto Fine-Techno
  • These SP values were determined by the turbidity point titration method (same below).
  • An infrared ablation layer laminate 108 was obtained in the same manner as the infrared ablation layer laminate 101 except that the carbon black dispersion obtained as described above was used.
  • An infrared ablative layer laminate 121 was obtained in the same manner as the infrared ablative layer laminate 1 except that the obtained carbon black dispersion was used.
  • An infrared ablative layer laminate 123 was obtained in the same manner as the infrared ablative layer laminate 101 except that the obtained carbon black dispersion was used.
  • An infrared ablative layer laminate 125 was obtained in the same manner as the infrared ablative layer laminate 101 except that the obtained carbon black dispersion was used.
  • an acid-modified polymer UC-3510, manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a hydrogenated styrene-butadiene-styrene elastomer manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., Tuftec H1051
  • An infrared ablative layer laminate 127 was obtained in the same manner as the infrared ablative layer laminate 101 except that the obtained carbon black dispersion was used. Table 5 below shows constituent materials.
  • Example 101 ((104) Production of photosensitive resin composition for flexographic printing plate) ⁇ Example 101>
  • the release film is peeled off from the laminate of the support and the photosensitive resin composition layer, and the infrared ablation layer laminate 101 is placed at a temperature of 25° C. and a humidity of 40% so that the infrared ablation layer is in contact with the photosensitive resin composition layer.
  • Laminate in the environment place the cover film surface on a hot plate set at 120 ° C. so that it contacts the heating part of the hot plate, and apply heat for 1 minute to form the photosensitive resin composition for a flexographic printing plate of Example 101.
  • Got body 101 The release film is peeled off from the laminate of the support and the photosensitive resin composition layer, and the infrared ablation layer laminate 101 is placed at a temperature of 25° C. and a humidity of 40% so that the infrared ablation layer is in contact with the photosensitive resin composition layer.
  • Laminate in the environment place the cover film surface on a hot plate set
  • the flexographic printing plate photosensitive resin structure 101 of Example 101 produced as described above was evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 6 below. The evaluation was carried out by cutting the photosensitive resin composition for flexographic printing plate into a size of 10 cm ⁇ 15 cm and peeling off the cover film.
  • a photosensitive resin structure for a flexographic printing plate is fixed by sticking double-sided tape to a rotating drum of an "AFP-1500" developing machine (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., trade name) using 3-methoxybutyl acetate as a developer. , development was carried out at a liquid temperature of 25° C., and drying was carried out at 60° C. for 2 hours. The time required to develop 0.8 mm was measured.
  • the release film was peeled off from the laminate of the support and the photosensitive resin composition layer, and development was carried out.
  • the developability of the infrared ablative layer was evaluated by how much the developing time changed due to the presence of the infrared ablative layer. (Evaluation criteria) A: Development time deteriorates by less than 30 seconds due to the presence of the infrared ablation layer. B: Development time deteriorates from 30 seconds to less than 1 minute due to the existence of the infrared ablation layer. C: Development time deteriorates from 1 minute to less than 2 minutes due to the existence of the infrared ablation layer. D: The presence of the infrared ablation layer deteriorates the development time by 2 minutes or more and less than 3 minutes. E: Due to the existence of the infrared ablation layer, even if 3 minutes or more of time is added, it cannot be washed sufficiently.
  • a developing machine (JOW-A3-P) manufactured by Nippon Denshi Seiki Co., Ltd. was filled with a 1% aqueous solution of Nissan soap, the cover film of the infrared ablative layer of the original printing plate obtained in (2) was peeled off, and development was carried out at a solution temperature of 40°C. It was dried at 60°C for 10 minutes. The time required to develop 0.8 mm was measured.
  • the release film was peeled off from the laminate of the support and the photosensitive resin composition layer, and development was carried out.
  • the developability of the infrared ablative layer was evaluated by how much the developing time changed due to the presence of the infrared ablative layer. (Evaluation criteria) A: Even with the infrared ablative layer, the development time deteriorated by less than 1 minute. B: Development time deteriorates from 1 minute to less than 2 minutes due to the existence of the infrared ablation layer. C: Development time deteriorates from 2 minutes to less than 3 minutes due to the existence of the infrared ablation layer. D: Development time deteriorates from 3 minutes to less than 5 minutes due to the existence of the infrared ablation layer. E: Due to the existence of the infrared ablation layer, even if 5 minutes or more of time is added, it cannot be washed sufficiently.
  • Examples 102 to 119 and Comparative Examples 101 to 110 Photosensitive resins for flexographic printing plates of Examples 102 to 119 and Comparative Examples 101 to 110 in the same manner as in Example 101, except that the types of infrared ablation layer laminates were changed to infrared ablation layer laminates 102 to 129, respectively. Constructs 102 to 129 were produced and evaluated. The evaluation results are shown in Table 6 below.
  • the photosensitive resin composition for flexographic printing plates of the present invention has industrial applicability in a wide range of general commercial printing fields.
  • SYMBOLS 1 Photosensitive resin composition for flexographic printing plates, a... Support, b... Photosensitive resin composition layer, b'... Pattern-exposed photosensitive resin composition layer, c... Infrared ablation layer, c'... Pattern Infrared ablation layer with imaged

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Abstract

少なくとも、支持体（ａ）と、該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、を備え、前記赤外線アブレーション層（ｃ）が、所定の構成単位（ｃ１）を有する樹脂を含有する、フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。

Description

フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びフレキソ印刷版の製造方法
　本発明は、フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びフレキソ印刷版の製造方法に関する。
　近年、印刷画像のさらなる高精細化が求められている。一方、従来から、フレキソ印刷版の製造過程において、ＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ｔｏ　Ｐｌａｔｅ）技術によりネガフィルムを用いず、デジタルイメージを直接レーザーで描画する方法が広く用いられている。
　当該ＣＴＰ技術においては、フレキソ印刷版製造用の原版として、一般的に、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂等の基板上に、感光性樹脂組成物層、赤外線で切除可能な赤外線アブレーション層、カバーフィルムが順に積層されたものが用いられる。
　赤外線で切除可能な赤外線アブレーション層は、一般的に、赤外線以外の放射線に対して不透明の材料である赤外線吸収剤と樹脂とを含有する。
　印刷画像のさらなる高精細化や、印刷時のインキ転写性の向上を図るための技術として、従来から、印刷版の表面にマイクロセルを配置する技術が知られている。また、フレキソ印刷版の製造過程において用いるレーザー描画装置についても高解像度化が図られており、レーザー解像度も従来の２５４０ＤＰＩから４０００、５０８０ＤＰＩと高解像度化が進んでおり、さらには８０００ＤＰＩなどに高解像度化が進んでいくことが予測される。
　上述したことから、より微小なマイクロセルを形成させるために、フレキソ印刷版においては、レーザー描画での微細加工化がより一層必要となる。そのためにはフレキソ印刷版の製造過程において、赤外線レーザー描画性に優れる赤外線アブレーション層を得るための技術が求められている。
　赤外線アブレーション層に関して例えば、特許文献１においては、樹脂としてモノビニル置換芳香族炭化水素と共役ジエンからなる共重合体又はモノビニル置換芳香族炭化水素と共役ジエンからなる共重合体を水素添加処理したものを使用する技術が提案されている。また、特許文献２においては、樹脂としてポリアミドを使用する技術が提案されており、特許文献３においては、樹脂としてケン化度が６０～１００モル％の部分ケン化ポリ酢酸ビニルとカチオン性ポリマーを使用する技術が提案されている。さらに、特許文献４においては、樹脂として変性オレフィンを使用する技術が提案されている。
特許第４０８００６８号公報 特許第２９１６４０８号公報 特開２０１６－１８８９００号公報 特開２０１５－１１３３０号公報
　しかしながら、上述したバインダーを用いた赤外線アブレーション層を用いても８０００ＤＰＩなどの高解像度における微小パターン（１×１ピクセルや２×２ピクセル画像など）においては赤外線アブレーション層がアブレーションに十分なエネルギーを得ることができず、微小なマイクロセルを形成することが困難であった。
　そこで本発明においては、上述した従来技術の問題点に鑑み、高解像度化により十分な描画エネルギーを得られない場合においても、レーザー感度に優れる赤外線アブレーション層を有するフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びそれを用いたフレキソ印刷版の製造方法を提供することを目的とする。
　本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、感光性樹脂組成物層と、特定の構成の赤外線アブレーション層とを有するフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体により、上述した課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は、下記の通りである。
〔１〕
　少なくとも、支持体（ａ）と、
　該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、
　該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、を備え、
　前記赤外線アブレーション層（ｃ）が、下記一般式（１）で表される構成単位ｃ１を有する樹脂を含有する、
　フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
  
（ここで、式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、非極性基を表し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、又は、非極性基を表す。）
〔２〕
　前記構成単位（ｃ１）の含有量が、前記樹脂の総量に対して、４０質量％以上１００質量％以下である、
　〔１〕に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
〔３〕
　前記一般式（１）のＲ３及びＲ４が、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、フェニル基、アルケニル基、アラルキル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シリル基、シロキサニル基である、
　〔１〕又は〔２〕に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
〔４〕
　前記一般式（１）のＲ３及びＲ４が、水素原子である、
　〔１〕～〔３〕のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
〔５〕
　前記一般式（１）のＲ１及びＲ２が、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、フェニル基、アルケニル基、アラルキル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シリル基、シロキサニル基である、
　〔１〕～〔４〕のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
〔６〕
　前記一般式（１）のＲ１及びＲ２が、それぞれ独立に、アルキル基又はフェニル基である、
　〔１〕～〔５〕のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
〔７〕
　前記一般式（１）のＲ１及びＲ２が、アルキル基である、
　〔１〕～〔６〕のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
〔８〕
　前記樹脂は、前記構成単位（ｃ１）とは異なり、側鎖に芳香族基を含む構成単位（ｃ２）をさらに有する、
　〔１〕～〔７〕のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
〔９〕
　前記構成単位（ｃ２）は、モノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位を含む、
　〔１〕～〔８〕のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
〔１０〕
　前記赤外線アブレーション層（ｃ）が、カーボンブラックを含有し、
　前記カーボンブラックのｐＨが、２．０以上５．０以下である、
　〔１〕～〔９〕のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
〔１１〕
　前記赤外線アブレーション層（ｃ）が分散剤を含有し、
　前記分散剤の溶解度パラメータ（ＳＰ値）が、９．５以上１２．５以下である、
　〔１〕～〔１０〕のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
〔１２〕
　前記赤外線アブレーション層（ｃ）における前記樹脂と前記カーボンブラックの配合比（樹脂／カーボンブラック）が、８０／２０～５０／５０の範囲にある、
　〔１〕～〔１１〕のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
〔１３〕
　〔１〕～〔１２〕のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用い、
　前記支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、
　前記赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、
　前記パターンが描画加工された前記赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、前記感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線照射してパターン露光する第三の工程と、
　前記赤外線アブレーション層（ｃ）と前記感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去する第四の工程と、を、有する、
　フレキソ印刷版の製造方法。
〔１４〕
　〔１〕～〔１２〕のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用い、
　前記支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、
　前記赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、
　前記パターンが描画加工された前記赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、前記感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線照射してパターン露光する第三の工程と、
　前記赤外線アブレーション層（ｃ）と前記感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去してフレキソ印刷版を製造する第四の工程と、
　前記フレキソ印刷版を用いて印刷する第五の工程と、を、有する、
　フレキソ印刷方法。
　本発明によれば、高解像度化により十分な描画エネルギーを得られない場合においても、レーザー感度に優れる赤外線アブレーション層を有するフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びそれを用いたフレキソ印刷版の製造方法を提供することができる。
本実施形態のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体の概略断面図である。 本実施形態のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用いたフレキソ印刷版の製造方法を示す概略図である。
　以下、本発明の実施の形態（以下、「本実施形態」という。）について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
〔フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体〕
　本実施形態のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体は、少なくとも、支持体（ａ）と、該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、を備え、赤外線アブレーション層（ｃ）が、下記一般式（１）で表される構成単位（ｃ１）を有する樹脂を含有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
  
（ここで、式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、非極性基を表し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、非極性基を表す。）
　図１に、本実施形態のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体（以下、単に「本構成体」ともいう）の概略断面図を示す。本構成体は、支持体（ａ）と、フレキソ印刷版の凹凸パターンが形成される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、その凹凸パターン形成時にマスクとして機能する赤外線アブレーション層（ｃ）とが積層されたものであり、各層の間には必要に応じて他の層が設けられていてもよい。以下、本構成体について、詳説する。
（支持体（ａ））
　本構成体に用いる支持体（ａ）としては、特に制限されないが、例えば、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム等が挙げられる。
　このなかでも、支持体（ａ）としてはポリエステルフィルムが好ましい。支持体（ａ）に用いるポリエステルとしては、特に制限されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等が挙げられる。
　支持体（ａ）の厚みは、特に制限されないが、好ましくは５０～３００μｍである。
　また、支持体（ａ）と、後述する感光性樹脂組成物層（ｂ）との間の接着力を高める目的で、支持体（ａ）上に接着剤層を設けてもよい。当該接着剤層としては、特に制限されないが、例えば、ＷＯ２００４／１０４７０１号公報に記載の接着剤層が挙げられる。
（感光性樹脂組成物層（ｂ））
　本構成体は、支持体（ａ）上に感光性樹脂組成物層（ｂ）を有する。感光性樹脂組成物層（ｂ）は、支持体（ａ）上に直接積層されていてもよいし、上記接着剤層等を介して間接的に積層されていてもよい。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）は、特に制限されないが、例えば、熱可塑性エラストマー（ｂ－１）を含有し、好ましくは、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）、光重合開始剤（ｂ－３）、液状ジエンをさらに含有していてもよい。また、感光性樹脂組成物層（ｂ）は、必要に応じて、補助添加成分をさらに含有してもよい。以下、各成分について詳説する。
＜熱可塑性エラストマー（ｂ－１）＞
　熱可塑性エラストマー（ｂ－１）としては、特に制限されないが、例えば、モノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位と共役ジエンに由来する構成単位とを有する共重合体が挙げられる。なお、熱可塑性エラストマー（ｂ－１）は、その他の単量体に由来する構成単位をさらに有していてもよい。このような熱可塑性エラストマーを用いることにより、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性がより向上する傾向にある。
　当該熱可塑性エラストマー（ｂ－１）としては、ランダム共重合体であってもブロック共重合体であってもよいが、モノビニル置換芳香族炭化水素からなる重合体ブロックと共役ジエンからなる重合体ブロックと、を有する、ブロック共重合体が好ましい。このような熱可塑性エラストマーを用いることにより、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性がより向上する傾向にある。
　当該熱可塑性エラストマー（ｂ－１）を構成するモノビニル置換芳香族炭化水素としては、特に制限されないが、例えば、スチレン、ｔ－ブチルスチレン、１，１－ジフェニルエチレン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｐ－アミノエチルスチレン、Ｎ，Ｎ－ジエチル－ｐ－アミノエチルスチレン、ビニルピリジン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－メトキシスチレン、第三級ブチルスチレン、α－メチルスチレン、１，１－ジフェニルエチレン等が挙げられる。これらは１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　このなかでも、感光性樹脂組成物層（ｂ）を比較的低温で平滑に成形できる観点から、モノビニル置換芳香族炭化水素としてはスチレンが好ましい。
　熱可塑性エラストマー（ｂ－１）を構成する共役ジエンとしては、特に制限されないが、例えば、ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン、２－メチル－１，３－ペンタジエン、１，３－ヘキサジエン、４，５－ジエチル－１，３－オクタジエン、３－ブチル－１，３－オクタジエン、クロロプレン等が挙げられる。これらは１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 
　このなかでも、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、共役ジエンとしてはブタジエンが好ましい。
　熱可塑性エラストマー（ｂ－１）の数平均分子量（Ｍｎ）は、常温における粘凋性の観点から、２０，０００以上３００，０００以下であることが好ましく、５０，０００以上２００，０００以下であることがより好ましい。数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定することができ、ポリスチレン換算分子量で表される。
　熱可塑性エラストマー（ｂ－１）が、モノビニル置換芳香族炭化水素からなる重合体ブロックと、共役ジエンからなる重合体ブロックと、を有するブロック共重合体である場合、熱可塑性エラストマー（ｂ－１）は、例えば、下記の一般式群（Ｉ）で表される直鎖状ブロック共重合体、及び／又は下記の一般式群（ＩＩ）で表される直鎖状ブロック共重合体若しくはラジアルブロック共重合体を包含する。
　一般式群（Ｉ）：
　（Ａ－Ｂ）ｎ、Ａ－（Ｂ－Ａ）ｎ、Ａ－（Ｂ－Ａ）ｎ－Ｂ、Ｂ－（Ａ－Ｂ）ｎ
　一般式群（ＩＩ）：
　［（Ａ－Ｂ）ｋ］ｍ－Ｘ、［（Ａ－Ｂ）ｋ－Ａ］ｍ－Ｘ、［（Ｂ－Ａ）ｋ］ｍ－Ｘ、［（Ｂ－Ａ）ｋ－Ｂ］ｍ－Ｘ 
　一般式群（Ｉ）及び（ＩＩ）中、Ａは、モノビニル置換芳香族炭化水素からなる重合体ブロックを示す。また、Ｂは、共役ジエンからなる重合体ブロックを示す。Ｘは、四塩化ケイ素、四塩化スズ、エポキシ化大豆油、ポリハロゲン化炭化水素化合物、カルボン酸エステル化合物、ポリビニル化合物、ビスフェノール型エポキシ化合物、アルコキシシラン化合物、ハロゲン化シラン化合物、エステル系化合物等のカップリング剤の残基又は多官能有機リチウム化合物等の重合開始剤の残基を示す。 
　一般式群（Ｉ）及び（ＩＩ）中、ｎ、ｋ及びｍは、１以上の整数を示し、例えば１～５である。 
　熱可塑性エラストマー（ｂ－１）中の共役ジエン及びモノビニル置換芳香族炭化水素の含有量は、核磁気共鳴装置（１Ｈ－ＮＭＲ）を用いて測定することができる。具体的には、１Ｈ－ＮＭＲの測定機器として、ＪＮＭ－ＬＡ４００（ＪＥＯＬ製、商品名）を用い、溶媒に重水素化クロロホルムを用い、サンプル濃度を５０ｍｇ／ｍＬとし、観測周波数を４００ＭＨｚ、化学シフト基準にＴＭＳ（テトラメチルシラン）を用い、パルスディレイを２．９０４秒、スキャン回数を６４回、パルス幅を４５°、測定温度を２５℃に設定し、測定することができる。
　熱可塑性エラストマー（ｂ－１）において、モノビニル置換芳香族炭化水素と共役ジエンとの共重合比率（質量比）は、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、モノビニル置換芳香族炭化水素／共役ジエン＝１０／８０～９０／２０の範囲にあることが好ましく、１０／９０～８５／１５の範囲にあることがより好ましく、１０／９０～６０／４０の範囲にあることがさらに好ましい。 
　上記共重合比率（質量比）において、モノビニル置換芳香族炭化水素の割合が１０以上であると、感光性樹脂組成物層（ｂ）において十分な硬度が得られ、通常の印刷の圧力により適切な印刷を行うことができる。また、上記共重合比率（質量比）においてモノビニル置換芳香族炭化水素の割合が９０以下であると、感光性樹脂組成物層（ｂ）において適切な硬度が得られ、印刷工程においてインキを印刷対象に十分に転移できる。
　熱可塑性エラストマー（ｂ－１）には、必要に応じて、他の官能基が導入されていたり、水素添加等の化学修飾がなされていたり、他の成分が共重合されていたりしてもよい。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）中の熱可塑性エラストマー（ｂ－１）の含有量は、本構成体を用いて得られるフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、４０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましく、４５質量％以上８０質量％以下であることがさらに好ましく、４５質量％以上７５質量％以下であることがさらにより好ましい。
＜エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）＞
　感光性樹脂組成物層（ｂ）は、上述したように、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）を含有することが好ましい。エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）とは、ラジカル重合可能な不飽和二重結合を有する化合物である。
　このようなエチレン性不飽和化合物（ｂ－２）としては、特に制限されないが、例えば、エチレン、プロピレン、ビニルトルエン、スチレン、ジビニルベンゼン等のオレフィン類；アセチレン類；（メタ）アクリル酸及び／又はその誘導体；ハロオレフィン類；アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類；アクリルアミドやメタクリルアミド等の不飽和アミド及びその誘導体；無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等の不飽和ジカルボン酸及びその誘導体；酢酸ビニル類；Ｎ－ビニルピロリドン；Ｎ－ビニルカルバゾール；Ｎ－置換マレイミド化合物等が挙げられる。
　このなかでも、紫外線硬化性や硬化後の感光性樹脂組成物層（ｂ）の耐刷性の観点から、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）としては、（メタ）アクリル酸及び／又はその誘導体が好ましい。
　上記各誘導体としては、特に制限されないが、例えば、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基等を有する脂環族化合物；ベンジル基、フェニル基、フェノキシ基、あるいはナフタレン骨格、アントラセン骨格、ビフェニル骨格、フェナントレン骨格、フルオレン骨格等を有する芳香族化合物；アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基、グリシジル基等を有する化合物；アルキレングリコール、ポリオキシアルキレングリコール、ポリアルキレングリコールやトリメチロールプロパン等の多価アルコールとのエステル化合物；ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン等のポリシロキサン構造を有する化合物等が挙げられる。
　また、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）は、窒素、硫黄等の元素を含有した複素芳香族化合物であってもよい。 
　上記（メタ）アクリル酸及び／又はその誘導体としては、特に制限されないが、例えば、ヘキサンジオール、ノナンジオール等のアルカンジオールのジアクリレート及びジメタクリレート；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ブチレングリコールのジアクリレート及びジメタクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート；ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート；イソボロニル（メタ）アクリレート；フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート；ペンタエリトリットテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは１種のみを単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
　本構成体を用いて得られるフレキソ印刷版の機械強度の観点から、エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）としては、少なくとも１種類以上の（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、少なくとも１種類以上の２官能（メタ）アクリレートを用いることがより好ましい。
　エチレン性不飽和化合物（ｂ－２）の数平均分子量（Ｍｎ）は、本構成体の製造時及び／又は保管時におけるエチレン性不飽和化合物（ｂ－２）の不揮発性を向上する観点から１００以上であることが好ましく、他成分との相溶性の観点から１０００未満であることが好ましく、２００以上８００以下であることがより好ましい。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）におけるエチレン性不飽和化合物（ｂ－２）の含有量は、本構成体を用いて得られるフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、２質量％以上２５質量％以下であることがより好ましく、２質量％以上２０質量％以下であることがさらに好ましい。 
＜光重合開始剤（ｂ－３）＞
　感光性樹脂組成物層（ｂ）は、光重合開始剤（ｂ－３）を含有することが好ましい。光重合開始剤（ｂ－３）とは、光のエネルギーを吸収し、ラジカルを発生する化合物であり、崩壊型光重合開始剤、水素引抜き型光重合開始剤、水素引抜き型光重合開始剤として機能する部位と崩壊型光重合開始剤として機能する部位を同一分子内に有する化合物等が挙げられる。
　このような光重合開始剤（ｂ－３）としては、特に制限されないが、例えば、ベンゾフェノン、４，４－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、３，３’，４，４’－テトラメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；ｔ－ブチルアントラキノン、２－エチルアントラキノン等のアントラキノン類；２，４－ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン等のチオキサントン類；ミヒラーケトン；ジエトキシアセトフェノン、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、１－ヒドロキシシクロヘキシル－フェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルホリノ－プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、トリクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド類；メチルベンゾイルホルメート；１，７－ビスアクリジニルヘプタン；９－フェニルアクリジン；アゾビスイソブチロニトリル、ジアゾニウム化合物、テトラゼン化合物等のアゾ化合物類が挙げられる。これらは１種のみを単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
　このなかでも、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、光重合開始剤（ｂ－３）としては、カルボニル基を有する化合物が好ましく、ベンゾフェノン類、チオキサントン類などの芳香族カルボニル化合物がより好ましい。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）における光重合開始剤（ｂ－３）の含有量は、本構成体を用いて製造したフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、０．１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上５質量％以下であることがより好ましく、０．５質量％以上５質量％以下であることがさらに好ましい。
＜液状ジエン＞
　感光性樹脂組成物層（ｂ）には、液状ジエンを含有することが好ましい。液状ジエンとは液状の炭素・炭素二重結合を有する化合物である。ここで、本明細書中、「液状ジエン」の「液状」とは、容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する性状を意味する。液状ジエンは、外力を加えたときに、その外力に応じて瞬時に変形し、かつ外力を除いたときには、短時間に元の形状を回復する性質を有するエラストマー性を備える。
　液状ジエンとしては、特に制限されないが、例えば、液状ポリブタジエン、液状ポリイソプレン、液状ポリブタジエンの変性物、液状ポリイソプレンの変性物、液状アクリルニトリル－ブタジエンの共重合体、液状スチレン－ブタジエン共重合体が挙げられる。液状ジエンは、ジエン成分が５０質量％以上の共重合体であるものとする。
　このなかでも、本構成体及びこれを用いたフレキソ印刷版の機械物性の観点から、液状ジエンとしては液状ポリブタジエンが好ましい。
　また、液状ジエン、好ましくは液状ポリブタジエンの１，２－ビニル結合量は、本構成体及びこれを用いたフレキソ印刷版の硬度を適切なものとする観点から、１％以上８０％以下が好ましく、５％以上７０％以下がより好ましく、５％以上６５％以下がさらに好ましい。 
　ここで「１，２－ビニル結合量」とは、１，２－結合、３，４－結合、及び１，４－結合の結合様式で組み込まれている共役ジエン単量体の中で、１，２－結合で組み込まれているものの割合である。１，２－ビニル結合量は、液状ポリブタジエンの１Ｈ－ＮＭＲ（磁気共鳴スペクトル）のピーク比から求めることができる。
　なお、１，２－ビニル結合を有する液状ポリブタジエンである１，２－ポリブタジエンは、二重結合であるビニルが側鎖になっているため、ラジカル重合の反応性が高く、感光性樹脂組成物層（ｂ）の硬度を高める観点において好ましい。
　また、液状ポリブタジエンは、通常、１，２－ビニル結合を有する１，２－ポリブタジエンと、１，４－ビニル結合を有する１，４－ポリブタジエンとの混合物であるが、本構成体及びこれを用いたフレキソ印刷版の柔軟性を向上させるためには、液状ジエン中に、１，４－ポリブタジエンを含有させることが有効である。１，４－ポリブタジエンには、シス型の１，４－ポリブタジエンと、トランス型の１，４－ポリブタジエンとがある。１，４－ポリブタジエンは、シス型及びトランス型のいずれにおいても、二重結合であるビニル基が内部に存在するため、ラジカル重合における反応性が低く、柔軟な樹脂を形成することが可能である。
　複数の異なる１，２－ビニル結合量を有する液状ポリブタジエンを混合して用いる場合は、その平均値を、上記１，２－ビニル結合量とする。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）の反応性を容易に調整できるという観点から、１，２－ビニル結合量が１０％以下の液状ポリブタジエンと、１，２－ビニル結合量が８０％以上の液状ポリブタジエンとを混合し、全体の１，２－ビニル結合量を調整することが好ましい。より好ましくは、５％以下の１，２－ビニル結合量の液状ポリブタジエンと、８０％以上の１，２－ビニル結合量の液状ポリブタジエンとを混合し、全体の１，２－ビニル結合量を調整することが好ましい。
　また、液状ジエンの数平均分子量については、２０℃において液状である限り、特に限定されないが、本構成体を用いて得られるフレキソ印刷版の耐刷性、取扱性の観点から、好ましくは５００以上６００００以下であり、より好ましくは５００以上５００００以下であり、さらに好ましくは８００以上５００００以下である。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）における液状ジエンの含有量は、本構成体及びこれを用いたフレキソ印刷版の耐刷性の観点から、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、１０質量％以上４０質量％以下が好ましく、１５質量％以上４０質量％以下がより好ましく、２０質量％以上４０質量％以下がさらに好ましい。
＜補助添加成分＞
　補助添加成分としては、特に制限されないが、例えば、極性基含有ポリマー、液状ジエン以外の可塑剤、安定剤以外の熱重合防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料・顔料等が挙げられる。
　極性基含有ポリマーとしては、特に制限されないが、例えば、カルボキシル基、アミノ基、水酸基、燐酸基、スルホン酸基等の親水性基、それらの塩等の極性基を有する水溶性又は水分散性共重合体が挙げられる。さらに具体的には、カルボキシル基含有アクリロニトリル－ブタジエンゴム、カルボキシル基含有スチレン－ブタジエンゴム、カルボキシル基を含有した脂肪族共役ジエンの重合体、燐酸基、又はカルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物の乳化重合体、スルホン酸基含有ポリウレタン、カルボキシル基含有ブタジエンラテックス等が挙げられる。これらの極性基含有ポリマーは、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
　このなかでも、本構成体を用いたフレキソ印刷版において高い解像度を得る観点から、極性基含有ポリマーとしては、カルボキシル基含有ブタジエンラテックスが好ましい。
　液状ジエン以外の可塑剤としては、特に制限されないが、例えば、ナフテン油、パラフィン油等の炭化水素油；液状アクリルニトリル－ブタジエン共重合体、液状スチレン－ブタジエン共重合体等の液状のジエンを主体とする共役ジエンゴム；数平均分子量２０００以下のポリスチレン；セバシン酸エステル、フタル酸エステル等のエステル系可塑剤が挙げられる。これらその他の可塑剤は、ヒドロキシル基やカルボキシル基を有していてもよい。また、これらその他の可塑剤には（メタ）アクリロイル基等の光重合性の反応基が付与されていてもよい。その他の可塑剤は、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　熱重合防止剤及び酸化防止剤としては、樹脂材料又はゴム材料の分野において通常使用されるものを用いることができる。具体的には、フェノール系の材料が挙げられる。 
　このようなフェノール系の材料としては、特に制限されないが、例えば、ビタミンＥ、テトラキス－（メチレン－３－（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート）メタン、２，５－ジ－ｔ－ブチルハイドロキノン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、２－ｔ－ブチル－６－（３－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシ－５－メチルベンジル）－４－メチルフェニルアクリレート等が挙げられる。熱重合防止剤及び酸化防止剤は、１種のみを単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
　紫外線吸収剤としては、特に制限されないが、例えば、公知のベンゾフェノン系化合物、サルチレート系化合物、アクリロニトリル系化合物、金属錯塩系化合物、ヒンダートアミン系化合物が挙げられる。また下記に示す、染料・顔料を紫外線吸収剤として使用してもよい。
　このような紫外線吸収剤としては、特に制限されないが、例えば、２－エトキシ－２’－エチルオキザリックアシッドビスアニリド、２，２’－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン等が挙げられる。
　染料・顔料は、視認性向上のための着色手段として有効である。
　染料としては、特に制限されないが、例えば、水溶性である塩基性染料、酸性染料、直接染料等や、非水溶性である硫化染料、油溶染料、分散染料等が挙げられる。特にアントラキノン系染料、インジゴイド系染料、アゾ系染料が好ましく、アゾ系油溶染料等がより好ましい。
　顔料としては、特に制限されないが、例えば、天然顔料、合成無機顔料、合成有機顔料等が挙げられる。合成有機顔料としては、アゾ系顔料、トリフェニルメタン系顔料、キノリン系顔料、アントラキノン系顔料、フタロシアニン系顔料が挙げられる。
　上述した補助添加成分の総添加量は、感光性樹脂組成物層（ｂ）の全量を１００質量％としたとき、０質量％以上１０質量％以下が好ましく、０質量％以上５質量％以下がより好ましく、０質量％以上３質量％以下がさらに好ましい。
（赤外線アブレーション層（ｃ））
　本構成体は、上述した感光性樹脂組成物層（ｂ）の上に、赤外線アブレーション層（ｃ）が積層されている。赤外線アブレーション層（ｃ）は、所定の樹脂を含有し、赤外線レーザーで切除可能であり、かつ、赤外線以外の光線遮蔽層としての機能を有している。
　赤外線アブレーション層（ｃ）を高精細に加工するためには、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザーに対する感度を向上させる必要がある。ここで、「レーザーに対する感度が高い」とは、同じレーザーエネルギーで描画した際に、よりアブレーションされる体積、特に深さ方向へ大きくアブレーションされることを意味する。
　検討の結果、本発明者らは、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度を向上させるには、赤外線アブレーション層に含まれる樹脂が解重合しやすいことが重要であることを見出した。「解重合」とは重合反応の逆反応で、重合体が単量体に分解する反応をいう。
　赤外線照射により赤外線アブレーション層は瞬間的に数百度の高温に達する。その際に、解重合しやすい樹脂であると短時間のアブレーションであっても効率よく樹脂中の主鎖の分解が起こり、それにより分子量が急激に下がり、赤外線アブレーション層から除去される。一方で、解重合しにくい樹脂、例えば側鎖に極性基を有する樹脂ではアブレーション時に側鎖の分解のみが起こり主鎖の切断が起こりにくい。そのため、赤外線照射後も樹脂が赤外線アブレーション層に残ってしまう。縮重合により得られた樹脂は、分解時に環構造を形成したのち、主鎖の切断が起こることが知られている。これにより、短時間での熱処理である赤外線アブレーションでは分子量の低下が起こりにくくレーザー感度が悪くなってしまう。
　これらのメカニズムから、赤外線アブレーション層（ｃ）は解重合しやすい樹脂を含有することが重要である。一般に、主鎖の開裂は枝分かれなど高分子中に存在する熱的に不安定な部分から開始しやすいことが分かっている。しかし、この際に上述した様に枝分かれに当たる側鎖が極性を持っていると側鎖の分解が支配的に起こりやすくなり、主鎖の切断が生じにくいので好ましくない。
　そのため、赤外線アブレーション層（ｃ）に含まれる樹脂の側鎖は、非極性基であることが重要である。また、主鎖開裂が進行する際には分子内または分子間での連鎖移動の寄与が無視できない。そのため、連鎖移動により引く抜かれやすい第三級水素を持たない方が良い。すなわち、枝分かれの対称面に当たる部分も非極性基であることが重要である。
（樹脂）
　本実施形態の赤外線アブレーション層（ｃ）に含まれる樹脂は、下記一般式（１）で表されるように、２つの非極性基が結合する４級炭素原子を含む構成単位（ｃ１）を有し、必要に応じて、他の構成単位を有していてもよい。
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（ここで、式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、非極性基を表し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、非極性基を表す。）
　なお、本実施形態において、「単量体」とは、重合前の化合物を意味し、「構成単位」とは、単量体が重合することで構成される所定の繰り返し単位を意味する。
　上記一般式（１）における非極性基としては、炭素原子及び／又はケイ素原子と水素原子により構成される基であれば特に制限されないが、例えば、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、フェニル基、アルケニル基、アラルキル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シリル基、シロキサニル基、などが挙げられる。なお、非極性基には水素原子は含まれない。
　この中でも、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度の観点から、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の示す基としては、アルキル基、フェニル基、が好ましく、また、Ｒ１及びＲ２の示す基が、アルキル基、フェニル基であり、Ｒ３及びＲ４の非極性基が、アルキル基、フェニル基であること、または、Ｒ１及びＲ２の示す基が、アルキル基、フェニル基であり、Ｒ３及びＲ４が、水素原子であることがより好ましい。これにより、後述する溶剤系現像液への現像性がより向上する傾向にある。また、上記構成有することにより、後述するカーボンブラックの分散性がより向上し、水系現像液への現像性がより向上する傾向にある。
　また、この中でも、後述する水系現像液及び溶剤系現像液への現像性の観点から、Ｒ１の示す基としては、アルキル基、フェニル基、アシル基が好ましい。
　上記非極性基の炭素数は、好ましくは１以上２０以下であり、より好ましくは１以上１０以下であり、さらに好ましくは１以上５以下である。
　一般式（１）を満たす単量体としては、特に制限されないが、例えば、イソブチレン、２－メチル－２－ブテン、２，３ジメチル－２－ブテン、及びこれらのメチル基がエチル基などの他のアルキル基に置換したもの、これらの変性物；α－メチルスチレン、シス－（１－メチル－１－プロペニル）ベンゼン、トランス－（１－メチル－１－プロペニル）ベンゼン、及びこれらのメチル基がエチル基などの他のアルキル基に置換したもの、これらの変性物；１，１－ジフェニルエチレン等が挙げられる。
　樹脂が構成単位（ｃ１）を有することにより、樹脂単体で溶剤系現像液に対して優れた現像性を有するだけでなく、後述する高極性カーボンブラックを高い分散性を維持したまま分散することができ、これにより水系現像液に対して高い現像性を発現することができる。
　一般式（１）においてＲ３及びＲ４が、水素原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、フェニル基、アルケニル基、アラルキル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シリル基、シロキサニル基であることが好ましく、共に水素原子であることがより好ましい。これにより、樹脂の解重合性がより向上するため、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度がより向上する傾向にある。また、溶剤系現像液への現像性がより向上するほか、カーボンブラックの分散性がより向上し、水系現像液への現像性がより向上する傾向にある。
　このような構成を満たすものとして、具体的には、イソブチレン、α－メチルスチレン、及びこれらのメチル基がエチル基などの他のアルキル基に置き換わったもの等が挙げられる。なお、α－メチルスチレンなどのフェニル基を有する単量体を用いることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）の耐ピンホール性がさらに向上する傾向にある。また、このような単量体を用いることにより、水系現像液及び溶剤系現像液への現像性がより向上する傾向にある。
　更に、一般式（１）においてＲ１及びＲ２が、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、フェニル基、アルケニル基、アラルキル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シリル基、シロキサニル基であることが好ましく、アルキル基、フェニル基であることがより好ましく、それぞれ独立に、アルキル基であることがさらに好ましい。Ｒ１及び／又はＲ２がアルキル基であることにより、ゴム状弾性を得ることができる。そのため、エラストマーにおけるソフト部となることができ、赤外線アブレーション層（ｃ）の可撓性がより向上する傾向にある。また、Ｒ１及び／又はＲ２がフェニル基であることにより、本構成体を比較的低温で平滑に成形できる傾向にある。
　また、構成単位（ｃ１）は１種単独で用いても、２種以上を併用していてもよい。例えば、上記樹脂は、構成単位（ｃ１）として、Ｒ１及びＲ２がアルキル基である構成単位と、Ｒ１及びＲ２の一方がアルキル基であり、もう一方がフェニル基である構成単位とを有していてもよい。これにより、アルキル基とフェニル基の両方の特性を向上することができる。
　このような構成を満たすものとして、具体的には、イソブチレン、及びこれらのメチル基がエチル基などの他のアルキル基に置換したものが挙げられる。
　また、構成単位（ｃ１）の含有量は、樹脂の総量に対して、好ましくは４０質量％以上であり、より好ましくは５０質量％以上であり、さらに好ましくは６０質量％以上であり、よりさらに好ましくは７０質量％以上であり、さらにより好ましくは８０質量％以上である。また、構成単位（ｃ１）の含有量は、樹脂の総量に対して、好ましくは１００質量％以下であり、より好ましくは９５質量％以下であり、さらに好ましくは９０質量％以下であり、よりさらに好ましくは８５質量％以下であり、さらにより好ましくは８０質量％以下である。これらの数値の上下限は任意に組み合わせられる。
　構成単位（ｃ１）の含有量が４０質量％以上であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度および可撓性がより向上する傾向にある。また、構成単位（ｃ１）の含有量が１００質量％以下であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）の耐ピンホール性がより向上する傾向にある。
　また、構成単位（ｃ１）の含有量が上記範囲内であることにより、溶剤系現像液への現像性がより向上し、また、カーボンブラックの分散性がより向上するため、水系現像液への現像性がより向上する傾向にある。
　赤外線アブレーション層（ｃ）で用いる上記樹脂は、構成単位（ｃ１）とは別に、側鎖に芳香族基を含む構成単位（ｃ２）を含有することが好ましい。構成単位（ｃ２）としては、モノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位（ｃ２）が好ましい。モノビニル芳香族炭化水素は一般式（１）で表される単量体と化学的に結合されていても良いし、別々の樹脂として添加しても良いが、分散性やそれによるレーザー加工均一性の観点で化学的に結合し共重合体となっていることが好ましい。樹脂がモノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位（ｃ２）を含有することで、耐ピンホール性がより向上する傾向にある。
　モノビニル芳香族炭化水素化合物としては、特に制限されないが、例えば、スチレン、ｔ－ブチルスチレン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－ｐ－アミノエチルスチレン、Ｎ，Ｎ－ジエチル－ｐ－アミノエチルスチレン、ビニルピリジン、ｐ－メチルスチレン、第三級ブチルスチレン等の単量体が挙げられる。このなかでも、本構成体を比較的低温で平滑に成形できることからスチレンが好ましい。構成単位（ｃ２）は、１種のみを単独でも２種以上の併用でもよい。
　構成単位（ｃ２）の含有量は、樹脂の総量に対して、好ましくは０質量％以上であり、より好ましくは５質量％以上であり、さらに好ましくは１０質量％以上であり、よりさらに好ましくは１５質量％以上であり、さらにより好ましくは２０質量％以上である。また、構成単位（ｃ２）の含有量は、樹脂の総量に対して、好ましくは６０質量％以下であり、より好ましくは５５質量％以下であり、さらに好ましくは５０質量％以下であり、よりさらに好ましくは４５質量％以下であり、さらにより好ましくは４０質量％以下である。これらの数値の上下限は任意に組み合わせられる。
　構成単位（ｃ２）の含有量が０質量％以上であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）の耐ピンホール性がより向上する傾向にある。また、構成単位（ｃ２）の含有量が６０質量％以下であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度および可撓性がより向上する傾向にある。なお、「０質量％以上」とは、構成単位（ｃ２）を含有している態様と、含有していない態様の両方を含むものである。これらの数値の上下限は任意に組み合わせられる。
　なお、赤外線アブレーション層（ｃ）で用いる上記樹脂における構成単位（ｃ１）及び（ｃ２）等の含有量や比率は、核磁気共鳴装置（１Ｈ－ＮＭＲ）を用いて測定することができる。
　赤外線アブレーション層（ｃ）は、上記樹脂以外にもその他の樹脂を含有してもよい。その場合、上記樹脂の含有量は、赤外線アブレーション層（ｃ）の全樹脂成分に対して、好ましくは５０質量％以上であり、より好ましくは７０質量％以上１００質量％以下である。上記樹脂の含有量が上記範囲内であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度および可撓性がより向上する傾向にある。また、上記その他の樹脂として側鎖に極性基を有する樹脂を使用する場合には、レーザー感度の観点から、上記樹脂を全樹脂成分中で７０％以上含有することが好ましい。
　上記樹脂の含有量は、赤外線アブレーション層（ｃ）の総量に対して、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることがさらに好ましい。また、上記樹脂の含有量は、赤外線アブレーション層（ｃ）の総量に対して、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることがさらに好ましい。これらの数値の上下限は任意に組み合わせられる。
　上記樹脂の含有量が２０質量％以上であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）の耐ピンホール性および可撓性がより向上する傾向にある。また、上記樹脂の含有量が９０質量％以下であることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）のレーザー感度や遮蔽性がより向上する傾向にある。
　また、上記樹脂の含有量が上記範囲内であることにより、溶剤系現像液及び水系現像液への現像性と、カーボンブラックの分散性がより向上する傾向にある。
（赤外線吸収物質）
　赤外線アブレーション層（ｃ）は、アブレーション加工を行うため赤外線吸収物質を含有してもよい。赤外線吸収物質には通常７５０～２０００ｎｍの範囲で強い吸収をもつ単体あるいは化合物が使用される。
　そのような赤外線吸収物質としては、特に制限されないが、例えば、カーボンブラック、グラファイト、亜クロム酸銅、酸化クロムなどの無機顔料；ポリフタロシアニン化合物、シアニン色素、金属チオレート色素などの色素類などが挙げられる。粒径が小さいほど赤外線レーザーに対する感度も高くなるが、特にカーボンブラックは粒径が１３ｎｍ以上８５ｎｍ以下の広い範囲で使用が可能であり、赤外線吸収物質として好ましい。また、カーボンブラックは下記遮蔽物質としても機能し得る。これら赤外線吸収物質は、使用するレーザー光線で切除可能な感度を付与する範囲で添加される。
（遮蔽物質）
　赤外線アブレーション層（ｃ）は、マスクとしての役割を担うため、紫外線などの非赤外線に対する遮蔽物質を含有してもよい。非赤外線に対する遮蔽物質としては紫外光を反射または吸収する物質を用いることができる。紫外線吸収剤やカーボンブラック、グラファイトなどが挙げられる。
　赤外線吸収物質及び遮蔽物質の総含有量は、赤外線アブレーション層（ｃ）の総量に対して、好ましくは１０質量％以上８０質量％以下であり、好ましくは２０質量％以上７０質量％以下であり、好ましくは３０質量％以上６０質量％以下である。赤外線吸収物質及び遮蔽物質の総含有量が上記範囲内であることにより、レーザー感度及び遮蔽性がより向上する傾向にある。
（カーボンブラック）
　赤外線アブレーション層（ｃ）が溶剤系現像液に対して優れた現像性を発現するには、赤外線アブレーション層（ｃ）中の樹脂を低極性にすることが重要である。しかしながら、樹脂が低極性であると水系現像液に対しては現像性が低下してしまう。一方で、赤外線アブレーション層（ｃ）が水系現像液に対して優れた現像性を発現するには、赤外線アブレーション層（ｃ）中の樹脂を高極性にすることが重要であるが、樹脂が高極性であると溶剤系現像液に対して現像性が低下してしまう。
　そこで、検討の結果、ある特定の構造を有した樹脂と、低極性のカーボンブラックを組み合わせることにより、赤外線アブレーション層（ｃ）が溶剤系現像液に対しても、水系現像液に対しても優れた現像性を発現することが分かってきた。
　本実施形態の赤外線アブレーション層（ｃ）は、アブレーション加工を行うための赤外線吸収物質として、またマスクとしての役割を担うための非赤外線の遮蔽物質としてカーボンブラックを含有することが好ましい。
　溶剤系現像液及び水系現像液の双方に対して高い現像性を発現する観点から、カーボンブラックのｐＨは２．０以上５．５以下であることが好ましい。低ｐＨのカーボンブラックは、その表面に官能基が多数導入されている状態であり、通常のカーボンブラックよりも親水性である。これにより、特に水系現像液に対して優れた現像性を発現することができる。
　カーボンブラックのｐＨは、２．５以上５．０以下がより好ましく、２．５以上４．５以下がさらに好ましい。カーボンブラックのｐＨは、ＡＳＴＭ　Ｄ１５１２に準拠して、カーボンブラックと蒸留水の混合液を作製し、ガラス電極ｐＨメーターにより測定する値である。
　カーボンブラックは、その製造方法から、例えばファーネスブラック、チャンネルブラック、サーマルブラック、アセチレンブラック、ランプブラック等に分類されるが、所望の特性を得るためにファーネスブラックが好ましい。
　ファーネスブラックは、高温ガス中に原料として石油系や石炭系の油を吹き込み、不完全燃焼させてカーボンブラックを得る方法であり、広く公知の方法を用いて製造することができる。
　カーボンブラックとしては上記を満たす範囲で、従来からブラックマトリックスを形成するために使用されているカーボンブラックを使用することができる。具体例としては三菱ケミカル製のＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ１４、ＭＡ７７、ＭＡ１００、ＭＡ１００Ｒ、ＭＡ１００Ｓ、ＭＡ２２０、ＭＡ２３０，＃９７０、＃１０００、＃２３５０、＃２３６０等、東海カーボン製のトーカブラック＃８３００等が挙げられる。
　本構成体の赤外線アブレーション層（ｃ）の膜厚は、印刷版用感光性樹脂構成体に対して露光処理を行う工程の際の紫外線に対する遮光性を確保する観点からは厚い方がよく、アブレーション性を高くする観点からは薄い方がよい。
　カーボンブラックの含有量は、赤外線アブレーション層（ｃ）の総量に対して、好ましくは１０質量％以上７０質量％以下であり、より好ましくは２０質量％以上６０質量％以下であり、さらに好ましくは３０質量％以上５０質量％以下である。カーボンブラックの含有量が上記範囲内であることにより、レーザー感度及び遮蔽性がより向上する傾向にある。
　また、赤外線アブレーション層（ｃ）における上記樹脂とカーボンブラックの配合比（樹脂／カーボンブラック）は、好ましくは８０／２０～５０／５０の範囲にあり、より好ましくは７５／２５～５５／４５の範囲にあり、さらに好ましくは７０／３０～６０／４０の範囲にある。配合比（樹脂／カーボンブラック）が上記範囲内であることにより、レーザー感度及び遮蔽性がより向上する傾向にある。
（分散剤）
　赤外線アブレーション層（ｃ）はカーボンブラックの分散性を補助する目的で分散剤を含有することが好ましい。ここで、分散剤としては、赤外線吸収剤の表面官能基と相互作用しうる吸着部と、バインダーポリマーと相溶し得る樹脂相溶部を有する化合物が好ましい。このような分散剤を用いることにより、カーボンブラックの分散性がより向上し、水系現像液への現像性がより向上する傾向にある。
　分散剤の吸着部としては、特に制限されないが、例えば、アミノ基、アミド基、ウレタン基、カルボキシル基、カルボニル基、スルホン基、ニトロ基が挙げられる。このなかでも、アミノ基、アミド基、ウレタン基が好ましい。
　また、樹脂相溶部としては、特に制限されないが、例えば、飽和アルキル、不飽和アルキル、ポリエーテル、ポリエステル、ポリ（メタ）アクリル、ポリオールが挙げられる。
　分散剤の溶解度パラメータ（ＳＰ値）は、９．５以上１２．５以下であることが好ましく、１０．０以上１２．０以下であることがより好ましい。溶解度パラメータ（ＳＰ値）が上記範囲内であることにより、カーボンブラックの分散性がより向上し、水系現像液への現像性がより向上する傾向にある。
　本実施形態における溶解度パラメータＳＰ値δは、下記式（１）のように定義される。
　δ＝（ΔＥ／Ｖ）1/2  [（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2]・・・（１）
　ここで、Ｖは溶媒のモル分子容、ΔＥは凝集エネルギー（蒸発エネルギー）である。
　溶媒のモル分子容と凝集エネルギーは、例えば文献「POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE, Vol. 14, 147-154, 1974」のように公知の値から求めることもできる。
　一方で、上記のパラメータが公知でない場合は、濁点滴定法と呼ばれる手法を用いて溶解度パラメータ（ＳＰ値）を実測することも可能である。
　具体的には、まず、ＳＰ値未知のサンプルをＳＰ値既知の良溶媒に溶解させた溶液に対して、上記良溶媒よりもＳＰ値が低い貧溶媒を滴下していき、溶質が析出し始めた貧溶媒の体積を測定する。続いて、新たに調製したＳＰ値未知のサンプルをＳＰ値既知の良溶媒に溶解させた溶液に対して、上記良溶媒よりもＳＰ値が高い貧溶媒を滴下していき、溶質が析出し始めた貧溶媒の体積を測定する。ここで求めたそれぞれの貧溶媒の体積を下記式（２）に適用することで求めることができる。
　δ＝（Ｖml 1/2・δml＋Ｖmh 1/2・δmh）／（Ｖml 1/2＋Ｖmh 1/2）・・・（２）
　ここで、Ｖmlは、ＳＰ値が低い貧溶媒の体積、ＶmhはＳＰ値が高い貧溶媒の体積、δmlはＳＰ値が低い貧溶媒のＳＰ値、δmhはＳＰ値が高い貧溶媒のＳＰ値である。
　なお、後述する実施例に記載のＳＰ値は全て上記濁点滴定法により実測した値を用いている。
　本実施形態の赤外線アブレーション層（ｃ）の分散剤の含有量は、赤外線アブレーション層（ｃ）中に赤外線吸収剤を均一に分散させつつ、赤外線アブレーション層（ｃ）の強度を確保できる範囲内で選択し、添加することが好ましい。分散剤の含有量が少ないと、赤外線吸収剤を赤外線アブレーション層（ｃ）中に十分に分散させることができないが、分散剤が多すぎると膜の強度が低下しピンホールを多発させるおそれがある。
　このような観点から、分散剤の含有量は、赤外線アブレーション層（ｃ）の全体に対して、０．１質量％以上５０質量％以下が好ましく、１質量％以上３０質量％以下がより好ましく、３質量％以上２０質量％以下がさらに好ましい。
　カーボンブラックとの関係においては、カーボンブラックの分散性の観点から、分散剤の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して、０．５質量部以上であることが好ましく、１質量部以上であることがより好ましく、３質量部以上であることがさらに好ましい。また、赤外線アブレーション層の膜強度の観点から、分散剤の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して、５０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下であることがより好ましく、２０質量部以下であることがさらに好ましい。
　本実施形態のフレキソ印刷原版において、赤外線アブレーション層（ｃ）の分散剤は、分岐構造を有していることが好ましい。分岐構造を有している場合、分散剤の結晶性が低いため、高い分散性が得られる。
　本実施形態の赤外線アブレーション層（ｃ）の分散剤の重量平均分子量は、赤外線アブレーション層中に赤外線吸収剤を均一に分散させつつ、分散剤がブリードアウトしない範囲内で選択することが好ましい。
　分散剤がブリードアウトした場合、赤外線吸収剤、例えばカーボンブラックと相互作用できないため、分散不良が生じ、剥離が重くなり、赤外線吸収剤、例えばカーボンブラックが凝集してピンホールが生じる。
　このような観点から、分散剤のゲル浸透カラムクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による標準ポリスチレン換算で測定された重量平均分子量は、１０００以上１００００以下が好ましく、２０００以上７０００以下がより好ましく、２５００以上５０００以下がさらに好ましい。
（膜厚）
　本構成体の赤外線アブレーション層（ｃ）の膜厚は、本構成体に対して露光処理を行う工程の際の紫外線に対する遮蔽性を確保する観点からは厚い方がよく、アブレーション性を高くする観点からは薄い方がよい。
　以上のような観点から、赤外線アブレーション層（ｃ）の膜厚は０．１μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以上１５μｍ以下がより好ましく、１．０μｍ以上１０μｍ以下がさらに好ましい。
　赤外線アブレーション層（ｃ）の非赤外線遮蔽効果としては、赤外線アブレーション層（ｃ）の光学濃度が２以上となることが好ましく、光学濃度が３以上となることがより好ましい。
　光学濃度は、Ｄ２００－ＩＩ透過濃度計（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）を用いて測定できる。また、光学濃度はいわゆる視感（ＩＳＯ　ｖｉｓｕａｌ）であり、測定対象の光は４００～７５０ｎｍ程度の波長領域である。
　赤外線アブレーション層（ｃ）の形成方法としては、特に制限されないが、例えば、赤外線吸収物質と非赤外線の遮蔽物質の両方をかねてカーボンブラックを使用する場合、まず、所定の溶媒を用いて樹脂溶液を調製し、そこにカーボンブラックと分散剤とを添加し、カーボンブラックを樹脂溶液中に分散させてからポリエステルフィルム等のカバーフィルム上にコーティングし、その後、このカバーフィルムを、感光性樹脂組成物層（ｂ）にラミネート又はプレス圧着して赤外線レーザーで切除可能な非赤外線の遮蔽層を転写させる方法等がある。
　樹脂溶液にカーボンブラックを分散させる方法としては、撹拌羽根による強制撹拌と超音波や各種ミルを利用した撹拌を併用する方法が効果的である。あるいは樹脂とカーボンブラックと分散剤を、押し出し機やニーダーを用いて予備混練してから溶剤に溶解する方法も、カーボンブラックの良好な分散性を得るために有効である。また、ラテックス溶液の状態にある樹脂中に、カーボンブラックを強制分散させてもよい。
　赤外線アブレーション層（ｃ）を製膜するための溶液や分散液等の溶媒は、使用する樹脂や赤外線吸収剤の溶解性を考慮して適宜選択できる。溶媒は一種のみを用いてもよく、二種以上の溶媒を混合して用いてもよい。
　また、例えば、比較的低沸点の溶媒と高沸点の溶媒を混合して、溶媒の揮発速度を制御することで、赤外線アブレーション層（ｃ）の膜質を向上させることも有効である。
　赤外線アブレーション層（ｃ）を製膜するための溶媒としては、特に制限されないが、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸アミル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、エチレングリコール、プロピレングリコール、エタノール、水、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ｎ－プロピルアルコール、ｉ－プロピルアルコール、１，４－ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｎ－ヘキサン、ｎ－ヘプタン、ｎ－ペンタン、アセトニトリルやその類縁体等が挙げられる。
　本構成体の赤外線アブレーション層（ｃ）を製膜するためのカバーフィルムは、寸法安定性に優れたフィルムであることが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム等が好ましい。
　カバーフィルムは未処理の状態で使用してもよいが、必要に応じて離型処理、帯電防止処理等の機能を付与したものを使用してもよい。
（中間層（ｄ））
　本構成体は、感光性樹脂組成物層（ｂ）と、赤外線アブレーション層（ｃ）との間に、１層以上の中間層（ｄ）を、さらに有していてもよい。中間層（ｄ）は、特に制限されないが、例えば、酸素阻害層、接着層、及び／又は保護層とすることができる。以下、各層について説明する。
　高精細かつハイライト領域を有する印刷物を作製するためには、フレキソ印刷版に微小なドットを形成する必要がある。このような微小なドットを形成する観点から、中間層（ｄ）は、酸素阻害能を有する酸素阻害層であることが好ましい。
　感光性樹脂組成物層（ｂ）を紫外線の照射により硬化する際、硬化はラジカル重合によって進行する。このラジカル重合の際に酸素が共存するとラジカル生成化合物と酸素が反応して重合反応が抑制される。このように重合反応が抑制されると、感光性樹脂組成物層（ｂ）の露光部に未反応部分が残るおそれがある。この未反応部分は、後述する第四の工程で除去されてしまうため、最終的にフレキソ印刷版に形成されるパターンは先端に曲線部を有する形状になる。これは、感光性樹脂組成物層（ｂ）の赤外線アブレーション層（ｃ）側の部分が特に酸素による重合阻害の影響を受けやすく、赤外線アブレーション層（ｃ）の直下にあたる感光性樹脂組成物層（ｂ）に未反応部分が生じやすいためである。
　これに対して、紫外線硬化時に酸素の共存量を減少させると重合反応が抑制されにくくなり、最終的に形成されるパターンは先端に平面部を有する形状になる。したがって、先端に平坦部を有するパターンを作製しようとする場合、中間層（ｄ）が酸素阻害能を有することにより、感光性樹脂組成物層（ｂ）に接する酸素を減少させることが有効である。
　また、中間層（ｄ）は、感光性樹脂組成物層（ｂ）と赤外線アブレーション層（ｃ）の接着性を向上する接着層であってもよい。これによって取り扱い性がより向上する傾向にある。
　さらに、中間層（ｄ）は、赤外線アブレーション層（ｃ）を保護する機能も有してもよい。従来のフレキソ印刷版の製造工程においては、カバーフィルムと積層した赤外線アブレーション層（ｃ）をフィルム送りする際、赤外線アブレーション層（ｃ）がロールと接触したり、フィルムロール輸送中に巻き締まりが生じたりすることによって、ロール内において赤外線アブレーション層（ｃ）とそれに積層されるカバーフィルムとがこすれたりする。これにより、赤外線アブレーション層（ｃ）が物理的に欠落し、ピンホールが生じるおそれがある。また、感光性樹脂組成物層（ｂ）を押し出し成型しながら赤外線アブレーション層（ｃ）上に塗設する方法により感光性樹脂組成物層（ｂ）と赤外線アブレーション層（ｃ）を積層させる場合には、加熱溶融した感光性樹脂組成物が赤外線アブレーション層（ｃ）上を流動した際に生じる摩擦よって、ピンホールが生じるおそれがある。
　このような赤外線アブレーション層（ｃ）のピンホールの発生を防ぐために、本構成体を構成する中間層（ｄ）は、保護層としての物理的な強度、耐熱性を有することが好ましい。
〔フレキソ印刷版の製造方法〕
　本実施形態のフレキソ印刷版の製造方法は、本構成体を用いて、まず、支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、パターンが描画加工された赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線を照射してパターン露光する第三の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）と感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去する第四の工程とを有する。
　その後、必要に応じて後露光処理する工程を行い、感光性樹脂組成物層の硬化物によるフレキソ印刷版（凸版印刷版）が得られる。なお、剥離性付与の観点から、フレキソ印刷版の表面をシリコーン化合物及び／又はフッ素化合物を含有する液と接触させてもよい。
　図２に、本実施形態のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用いたフレキソ印刷版の製造方法を示す概略図を示す。以下各工程について詳説する。
（第一の工程）
　第一の工程において、支持体（ａ）側から感光性樹脂組成物層（ｂ）へ紫外線照射する方法は、特に制限されず、公知の照射ユニットを使用して行うことができる。この際に照射する紫外線の波長は、好ましくは１５０～５００ｎｍであり、より好ましくは３００～４００ｎｍである。
　紫外線の光源としては、特に制限されないが、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ジルコニウムランプ、カーボンアーク灯、紫外線用蛍光灯等を使用できる。
　なお、この第一の工程は、後述する第二の工程の前に行っても、第二の工程の後に行ってもよい。
（第二の工程）
　第二の工程において、赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する方法は、特に制限されず、公知の照射ユニットを使用して行うことができる。なお、赤外線アブレーション層（ｃ）への赤外線の照射は、赤外線アブレーション層（ｃ）側から行うことができる。
　本構成体が、カバーフィルムを有している場合には、赤外線照射前にまずカバーフィルムを剥離する。その後、赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線をパターン照射して、赤外線の照射部の樹脂を分解し、パターンを描画加工する。これにより、感光性樹脂組成物層（ｂ）上に赤外線アブレーション層（ｃ）のマスクを形成することができる。
　第一の工程において、好適な赤外線レーザーとしては、例えば、ＮＤ／ＹＡＧレーザー（例えば、１０６４ｎｍ）又はダイオードレーザー（例えば、８３０ｎｍ）が挙げられる。ＣＴＰ製版技術に好適なレーザーシステムは市販されており、例えば、ダイオードレーザーシステムＣＤＩ　Ｓｐａｒｋ（ＥＳＫＯ　ＧＲＡＰＨＩＣＳ社）を使用できる。このレーザーシステムは、本構成体を保持する回転円筒ドラム、ＩＲレーザーの照射装置、及びレイアウトコンピュータを含み、画像情報は、レイアウトコンピュータからレーザー装置に直接送信される。
（第三の工程）
　第三の工程は、パターンが描画加工された赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線を照射してパターン露光する。この際、マスクを通過した光が感光性樹脂組成物層（ｂ）の硬化反応を促進し、赤外線アブレーション層（ｃ）に形成されたパターンが、凹凸が反転して、感光性樹脂組成物層（ｂ）に転写される。紫外線の照射は、本構成体の全面に照射してもよい。
　第三の工程は、本構成体をレーザーシリンダに取り付けた状態で行うことができるが、一般的には、本構成体をレーザー装置から取り外し、慣用の照射ユニットを用いて照射する。照射ユニットは、第一の工程における紫外線照射で例示したものと同様のユニットを使用できる。
（第四の工程）
　第四の工程は、赤外線アブレーション層（ｂ）と感光性樹脂組成物層（ｃ）の未露光部を除去する工程である。第四の工程（現像工程における、除去方法は特に制限されず、従来公知の方法を適用できる。
　具体的には、上記のように、本構成体の感光性樹脂組成物層（ｂ）を露光し、その後、未露光部分を溶剤現像用の溶剤又は水現像用の洗浄液で洗い流すか、あるいは４０℃～２００℃に加熱された未露光部分を吸収可能な所定の吸収層に接触させ、吸収層を除去することで未露光部分を取り除く。
　その後に、必要に応じて後露光処理することによって、フレキソ印刷版が製造される。
　なお、赤外線アブレーション層（ｃ）と感光性樹脂組成物層（ｂ）との間に中間層（ｄ）を有する場合には、現像工程において同時に取り除いてもよい。
　未露光部を溶剤現像するために用いられる現像用の溶剤としては、特に制限されないが、例えば、ヘプチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート等のエステル類；石油留分、トルエン、デカリン等の炭化水素類；やテトラクロルエチレン等の塩素系有機溶剤にプロパノール、ブタノール、ペンタノール等のアルコール類を混合したもの；が挙げられる。未露光部の洗い出しは、ノズルからの噴射によって、またはブラシによるブラッシングで行われる。
　また、水現像用の洗浄液としては、水、アルカリ性水溶液、中性洗剤、界面活性剤を好適に用いることができる。
　界面活性剤とは、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等が挙げられる。これらは、１種のみを単独で用いてもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　アニオン系界面活性剤としては、特に制限されないが、例えば、硫酸エステル塩、高級アルコール硫酸エステル、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩、硫酸化オレフィン、アルキルベンゼンスルホン酸塩、α－オレフィンスルホン酸塩、リン酸エステル塩、ジチオリン酸エステル塩等が挙げられる。
　両性界面活性剤としては、特に制限されないが、例えば、アミノ酸型両性界面活性剤、ベタイン型両性界面活性剤等が挙げられる。
　ノニオン系界面活性剤としては、特に制限されないが、例えば、高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂肪酸エステルエチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、脂肪酸アミドエチレンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレンオキサイド付加物等のポリエチレングリコール型界面活性剤やグリセロール脂肪酸エステル、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、ソルビトール、及びソルビタンの脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエステル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミド等の多価アルコール型界面活性剤等が挙げられる。
　また、アルカリ性水溶液には、ｐＨ調整剤を用いてもよい。ｐＨ調整剤としては、有機材料、無機材料のいずれでもよいが、ｐＨを９以上に調整できるものが好ましい。ｐＨ調整剤としては、特に制限されないが、例えば、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム、琥珀酸ナトリウム等が挙げられる。
　熱現像の吸収層としては、特に制限されないが、例えば、不織布材料、紙素材、繊維織物、連続気泡発泡体、及び多孔質材料が挙げられる。このなかでも、ナイロン、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレンからなる不織布材料、及びこれらの不織布材料の組み合わせが好ましく、ナイロン又はポリエステルの不織布連続ウェブがより好ましい。
〔フレキソ印刷方法〕
　本実施形態のフレキソ印刷方法は、上記フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用い、支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、パターンが描画加工された赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線照射してパターン露光する第三の工程と、赤外線アブレーション層（ｃ）と感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去してフレキソ印刷版を製造する第四の工程と、フレキソ印刷版を用いて印刷する第五の工程と、を、有する。
　フレキソ印刷方法における第一の工程から第四の工程までは、上述のとおりである。
（第五の工程）
　第五の工程は、第一の工程から第四の工程によって得られたフレキソ印刷版を用いて印刷する工程である。フレキソ印刷版を用いた印刷方法は、フレキソ印刷版の凸部に対してインキを付着させ、そのインキを基材に転写させる方法であれば、特に制限されない。
　以下に、具体的な実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。
〔フレキソ印刷版の製造〕
　以下の実施例及び比較例において、フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を製造した。
（（１）支持体と感光性樹脂組成物層の積層体の製造）
　タフプレンＡ（旭化成製、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体）６０質量部と、Ｂ－２０００（日本石油化学製、液状ポリブタジエン）３０質量部、１，９－ノナンジオールジアクリレート７質量部、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン２質量部、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール０．３質量部とを加圧ニーダーで混練し、感光性樹脂組成物を調製した。
　次に、押し出し成型機に感光性樹脂組成物を投入し、Ｔ型ダイスから押し出し成型された感光性樹脂組成物層の片方の面に支持体（ポリエチレンテレフタレートフィルム）を貼り合わせ、感光性樹脂組成物層の支持体積層側とは反対の面に離型フィルム（三菱化学社製、ダイアホイルＭＲＶ１００）を貼り合わせて、支持体と感光性樹脂組成物層の積層体を得た。
（（２）赤外線アブレーション層に用いる樹脂の製造）
＜樹脂１の製造＞
　２Ｌのセパラブルフラスコの重合容器内を窒素置換した後、注射器を用いて、ｎ－ヘキサン（モレキュラーシーブスで乾燥したもの）４５６．１ｍＬ及び塩化ブチル（モレキュラーシーブスで乾燥したもの）６５６．５ｍＬを加え、重合容器を－７０℃のドライアイス／メタノールバス中につけて冷却した後、イソブチレンモノマー１６１．１ｇ（２８７１ｍｍｏｌ）が入っている三方コック付耐圧ガラス製液化採取管にテフロン（登録商標）製の送液チューブを接続し、重合容器内にイソブチレンモノマーを窒素圧により送液した。ｐ－ジクミルクロライド０．６４７ｇ（２．８ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１．２２ｇ（１４ｍｍｏｌ）を加えた。次にさらに四塩化チタン８．６７ｍＬ（７９．１ｍｍｏｌ）を加えて重合を開始した。重合開始から１．５時間同じ温度で撹拌を行った後、重合溶液からサンプリング用として重合溶液約１ｍＬを抜き取った。続いて、あらかじめ－７０℃に冷却しておいたスチレンモノマー７７．９ｇ（７４８ｍｍｏｌ）、ｎ－ヘキサン２３．９ｍＬおよび塩化ブチル３４．３ｍＬの混合溶液を重合容器内に添加した。該混合溶液を添加してから４５分後に、約４０ｍＬのメタノールを加えて反応を終了させた。
　反応溶液から溶剤等を留去した後、トルエンに溶解し２回水洗を行った。さらにトルエン溶液を多量のメタノールに加えて重合体を沈殿させ、得られた重合体を６０℃で２４時間真空乾燥することにより樹脂１を得た。スチレンの含有割合を１Ｈ－ＮＭＲにより求めたところ３０質量％であった。
＜樹脂２～９の製造例＞
　使用するモノマーの種類、配合比を下記表１のように変更した以外は樹脂１と同様にして樹脂２～９を得た。下記表１に、樹脂の構成材料及び物性を示す。
＜樹脂１０の製造例＞
　攪拌機を有する容器に、水２ｋｇ、第三リン酸カルシウム６５ｇ、炭酸カルシウム４０ｇ、ラウリル硫酸ナトリウム０．４０ｇを投入し、混合液を得た。次いで、６０Ｌの反応器に、水２５ｋｇを投入して８０℃に昇温し、混合液及びメタクリル酸メチル２１．５ｋｇ、ラウロイルパーオキサイド１１０ｇ、２－エチルヘキシルチオグリコレート４３０ｇを投入した。その後、約７５℃を保って懸濁重合を行い、発熱ピークを観測後、９２℃に１℃／ｍｉｎの速度で昇温した。そして、６０分間熟成し、重合反応を実質終了した。
　次いで、５０℃まで冷却して懸濁剤を溶解させるために、２０質量％硫酸を投入した。そして、重合反応溶液を、１．６８ｍｍメッシュの篩にかけて凝集物を除去し、得られたビーズ状ポリマーを洗浄脱水乾燥処理し、樹脂１０を得た。 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
  
（（３）赤外線アブレーション層積層体の製造）
＜赤外線アブレーション層積層体１の製造例＞
　樹脂１：６．５質量部と、トルエン：５４．０質量部と、シクロヘキサノン：３６．０質量部と、を混合し、樹脂１を溶剤に溶解させた。その後、カーボンブラック（三菱ケミカル製、＃１０００）を３．５質量部をさらに投入し、ビーズミルで４時間混合しカーボンブラック分散液を得た。
　上記のようにして得られたカーボンブラック分散液をカバーフィルムとなる１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるようにコーティングし、９０℃で２分間の乾燥処理を施して、赤外線アブレーション層とカバーフィルムとの積層体である赤外線アブレーション層積層体１を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体２～１０の製造例＞
　使用する樹脂を、下記表２のように変更した以外は、赤外線アブレーション層積層体１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体２～１０を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１１の製造例＞
　タフプレン３１５（旭化成製、スチレン－ブタジエンブロック共重合体）７．８質量部と、トルエン７０．４質量部と、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセタート（ＰＭＡ）１７．６質量部と、を混合し、タフプレン３１５を溶剤に溶解させた。その後、カーボンブラック（三菱ケミカル製、ＭＣＦ－８８）をさらに投入し、ビーズミルで４時間混合しカーボンブラック分散液を得た。
　上記のようにして得られたカーボンブラック分散液を用いたこと以外は、赤外線アブレーション層積層体１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体１１を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１２の製造例＞
　ポリアミド（ヘンケル社製、マクロメルト６９００）７．８質量部と、トルエン４４．０質量部と、２－プロパノール４４．０質量部と、を混合し、ポリアミドを溶剤に溶解させた。その後、カーボンブラック（三菱ケミカル製、ＭＣＦ－８８）をさらに投入し、ビーズミルで４時間混合しカーボンブラック分散液を得た。
　上記のようにして得られたカーボンブラック分散液を用いたこと以外は、赤外線アブレーション層積層体１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体１２を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１３の製造例＞
　ゴーセノールＫＬ－０５（ケン化度７８～８２モル％のポリ酢酸ビニル、日本合成化学工業（株）製）１０質量部と、ε－カプロラクタム１０質量部、Ｎ－（２－アミノエチル）ピペラジンとアジピン酸のナイロン塩９０質量部、及び水１００質量部を、ステンレス製オートクレーブに入れ、内部の空気を窒素ガスで置換した後に１８０℃で１時間加熱し、水溶性ポリアミドを調製した。次いで水分を除去して得られた水溶性ポリアミド１０質量部を、水４０質量部、メタノール２０質量部、ｎ－プロパノール２０質量部、及びｎ－ブタノール１０質量部に溶解させ、溶液を得た。
　得られた溶液に、カーボンブラック（三菱ケミカル製、＃１０００）を混合し、３本ロールミルを用いて混練分散させ、カーボンブラック分散液を得た。
　上記のようにして得られたカーボンブラック分散液を用いたこと以外は、赤外線アブレーション層積層体１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体１３を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１４の製造例＞
　攪拌装置付き加熱密閉容器にトルエン４１部を仕込み、攪拌しながら変性ポリオレフィンハードレン１３－ＬＰ（東洋紡製）を３．０部添加し、４０℃の条件下で攪拌溶解を行った（第一段階）。常温まで放冷後、赤外線吸収物質としてカーボンブラックである三菱ケミカル製、ＭＣＦ－８８を６部添加し、９０分プレミキシングを行った後に、サンドミルを用いカーボンブラックの分散を行った（第二段階）。その後再度４０℃まで加熱を行い、トルエンを３８．８部、メチルエチルケトンを３部およびハードレン１３－ＬＰを８．２部添加し攪拌溶解を行い（第三段階）、カーボンブラック：樹脂＝３５：６５質量比の赤外線アブレーション層の塗工液を調製した。
　上記のようにして得られたカーボンブラック分散液を用いたこと以外は、赤外線アブレーション層積層体１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体１４を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１５の製造例＞
　セプトン２００５（クラレ社製、スチレン：２０ｗｔ％、プロピレン構造（Ｒ１がメチル基、Ｒ２～Ｒ４が水素原子）：４０ｗｔ％）７．８質量部と、トルエン７０．４質量部と、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセタート（ＰＭＡ）１７．６質量部と、を混合し、セプトン２００５を溶剤に溶解させた。その後、カーボンブラック（三菱ケミカル製、ＭＣＦ－８８）をさらに投入し、ビーズミルで４時間混合しカーボンブラック分散液を得た。
　上記のようにして得られたカーボンブラック分散液を用いたこと以外は、赤外線アブレーション層積層体１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体１５を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
（（４）フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体の作製）
＜実施例１＞
　支持体と感光性樹脂組成物層の積層体から離型フィルムをはがし、赤外線アブレーション層積層体１を、赤外線アブレーション層が感光性樹脂組成物層に接するように、温度２５℃、湿度４０％の環境でラミネートし、１２０℃に設定したホットプレート上でカバーフィルム面をホットプレートの加熱部に接触するように配置して、１分間熱を加えて実施例１のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体１を得た。
　上述のようにして作製した実施例１のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体１を、以下のように評価した。評価結果を下記表３に示す。なお、評価はフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を１０ｃｍ×１５ｃｍの大きさに切り出し、カバーフィルムをはがして行った。
（評価方法）
＜レーザー感度の評価＞
　フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を、Ｅｓｋｏ　ＣＤＩ　ＳＰＡＲＫ２５３０に設置し、解像度８０００ｄｐｉ、レーザー強度３．０Ｊにおいて、２×１ピクセルの計２ピクセルを形成する画像パターンを持つテスト画像でレーザー描画を行った。
　その後、アブレーション部をレーザー顕微鏡（ＶＫ－Ｘ１００、キーエンス（株）製；対物レンズ１００倍）を用いて観察し、レーザーによって削れている長径方向（２ピクセル側）の赤外線アブレーション層表面の長さと、感光性樹脂組成物層との界面の長さを測定し、感光性樹脂組成物層との界面／赤外線アブレーション層表面の長さを、レーザー感度の指標として、下記のように評価した。
（評価基準）
　Ａ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．５０以上
　Ｂ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．４０以上０．５０未満
　Ｃ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．３０以上０．４０未満
　Ｄ：穴は貫通しており感光性樹脂組成物との界面／赤外線アブレーション層表面の長さが０．３０未満
　Ｅ：穴は貫通していない
＜可撓性の評価＞
　フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を、中央付近を起点に、支持体が内側になるように１８０°（支持体が接触する程度）折り曲げ、その後、赤外線アブレーション層表面にしわが発生するか試験を行い、下記のように評価した。
（評価基準）
　Ａ：しわが発生しない。
　Ｂ：しわが発生するが、構成体の端部のみにごくわずかに発生する。
　Ｃ：しわが発生し、構成体の端部に複数発生する。
　Ｄ：しわが発生し、構成体の端部だけでなく中央付近にしわがみられる。
　Ｅ：構成体の全面にしわが発生する。
＜ピンホール評価＞
　赤外線アブレーション層積層体１を、赤外線アブレーション層が感光性樹脂組成物層に接するよう温度１８０℃でラミネートしサンプルを得た。このサンプルにおいて、赤外線アブレーション層のカバーフィルムを除去した後、ライトテーブル上に置き、顕微鏡検査を行った。赤外線アブレーション層において、長径２０μｍ以上のサイズのピンホールの個数を数え、平均値を算出し、（個／ｍ2）の値を算出し、下記のように評価した。
（評価基準）
　Ａ：ピンホールの数が、平均２（個／ｍ2）より少ない。
　Ｂ：ピンホールの数が、平均２（個／ｍ2）以上で５（個／ｍ2）より少ない。
　Ｃ：ピンホールの数が、平均５（個／ｍ2）以上で１０（個／ｍ2）より少ない。
　Ｄ：ピンホールの数が、平均１０（個／ｍ2）以上で２０（個／ｍ2）より少ない。
　Ｅ：ピンホールの数が、平均２０（個／ｍ2）以上である。
＜実施例２～１０及び比較例１～５＞
　それぞれ赤外線アブレーション層積層体の種類を赤外線アブレーション層積層体２～１２に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～１５のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体２～１５を作製し、評価を行った。評価結果を下記表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
（（１０１－１）親水性共重合体の合成）
　撹拌装置と温度調節用ジャケットを取り付けた耐圧反応容器に、水１２５質量部と、反応性乳化剤として（α－スルフォ（１－ノニルフェノキシ）メチル－２－（２－プロペニルオキシ）エトキシ－ポリ（オキシ－１，２－エタンジイル）のアンモニウム塩「アデカリアソープ」（旭電化工業製）２質量部を初期仕込みし、内温を８０℃に昇温し、スチレン１０質量部、ブタジエン６０質量部、ブチルアクリレート２３質量部、メタアクリル酸５質量部、及び、アクリル酸２質量部からなる単量体混合物とｔ－ドデシルメルカプタン２質量部との油性混合液と、水２８質量部、ペルオキソ二硫酸ナトリウム１．２質量部、水酸化ナトリウム０．２質量部、及び、（α－スルフォ（１－ノニルフェノキシ）メチル－２－（２－プロペニルオキシ）エトキシ－ポリ（オキシ－１，２－エタンジイル）のアンモニウム塩２質量部からなる水溶液を、油性混合液を５時間、水溶液を６時間かけて一定の流速で添加した。ついで、８０℃の温度をそのまま１時間保って、重合反応を完了し、共重合体ラテックスを得た後、冷却した。
　さらに、生成した共重合体ラテックスを水酸化ナトリウムでｐＨを７に調整した後、スチームストリッピング法により未反応の単量体を除去し、２００メッシュの金網で濾過し、最終的には、ろ液の固形分濃度が４０質量％になるように調整して親水性共重合体の水分散液を得た。
　得られた親水性共重合体の水分散液を５０℃の真空乾燥機でドライアップすることにより、水を除去し、親水性共重合体を得た。
（（１０１－２）ベースフィルム（支持体）の作製）
　支持体（ベースフィルム）にコートする接着剤層用の溶液として、スチレンと１，３－ブタジエンのブロック共重合体であるタフプレン９１２（旭化成株式会社製、商品名）を５５質量部、パラフィンオイル（平均炭素数３３、平均分子量４７０、１５℃における密度０．８６８）を３８質量部、１，９－ノナンジオールジアクリレートを２．５質量部、２，２－ジメトキシ－フェニルアセトフェノンを１．５質量部、エポキシエステル３０００Ｍ（共栄社化学株式会社製、商品名）を３質量部、及びバリファストイエロー３１５０（オリエント化学工業製、商品名）を１．５質量部の割合で、トルエンに溶解させ固形分２５％の溶液を得た。
　その後、ナイフコーターを用いて厚さ１００μｍポリエステルフィルムの片側に紫外線透過率（ＵＶ透過率）１０％となるように塗布し、８０℃で１分間乾燥して、接着剤層を有する支持体（ベースフィルム）を得た。
　支持体のＵＶ透過率は、紫外線露光機ＡＦＰ－１５００（旭化成株式会社製、商品名）を用い、ＵＶ照度計ＭＯ－２型機（オーク製作所製、商品名、ＵＶ－３５フィルター）で透過強度を測定し計算した。
（（１０１－３）支持体と感光性樹脂組成物層の積層体の製造）
　上記（１０１－１）で調製した親水性共重合体３２質量部と、スチレン－ブタジエン－スチレン共重合体［Ｄ－ＫＸ４０５：クレイトン製］２８質量部を、加圧ニーダーを用いて１４０℃で混合後、液状ポリブタジエン［ＬＢＲ－３５２：クラレ製］３２質量部、１，９－ノナンジオールジアクリレート８質量部、１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート５質量部、２，２－ジメトキシフェニルアセトフェノン２質量部、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール１質量部、カルビノール変性シリコーンオイル［ＫＦ－６０００：信越化学製］１質量部の液状混合物を１５分掛けて少しずつ加えて、加え終えてさらに２０分混練し、感光性樹脂組成物を得た。
　次に、押し出し成型機に感光性樹脂組成物を投入し、Ｔ型ダイスから押し出し成型された感光性樹脂組成物層の片方の面に、上記支持体の接着剤層の形成面を貼り合わせ、感光性樹脂組成物層の支持体積層側とは反対の面に離型フィルム（三菱化学社製、ダイアホイルＭＲＶ１００）を貼り合わせて、支持体と感光性樹脂組成物層の積層体を得た。
（（１０２）赤外線アブレーション層に用いる樹脂の製造）
＜樹脂１０１の製造＞
　２Ｌのセパラブルフラスコの重合容器内を窒素置換した後、注射器を用いて、ｎ－ヘキサン（モレキュラーシーブスで乾燥したもの）４５６．１ｍＬ及び塩化ブチル（モレキュラーシーブスで乾燥したもの）６５６．５ｍＬを加え、重合容器を－７０℃のドライアイス／メタノールバス中につけて冷却した後、イソブチレンモノマー１６１．１ｇ（２８７１ｍｍｏｌ）が入っている三方コック付耐圧ガラス製液化採取管にテフロン（登録商標）製の送液チューブを接続し、重合容器内にイソブチレンモノマーを窒素圧により送液した。ｐ－ジクミルクロライド０．６４７ｇ（２．８ｍｍｏｌ）及びＮ，Ｎ－ジメチルアセトアミド１．２２ｇ（１４ｍｍｏｌ）を加えた。次にさらに四塩化チタン８．６７ｍＬ（７９．１ｍｍｏｌ）を加えて重合を開始した。重合開始から１．５時間同じ温度で撹拌を行った後、重合溶液からサンプリング用として重合溶液約１ｍＬを抜き取った。続いて、あらかじめ－７０℃に冷却しておいたスチレンモノマー７７．９ｇ（７４８ｍｍｏｌ）、ｎ－ヘキサン２３．９ｍＬおよび塩化ブチル３４．３ｍＬの混合溶液を重合容器内に添加した。該混合溶液を添加してから４５分後に、約４０ｍＬのメタノールを加えて反応を終了させた。 
　反応溶液から溶剤等を留去した後、トルエンに溶解し２回水洗を行った。さらにトルエン溶液を多量のメタノールに加えて重合体を沈殿させ、得られた重合体を６０℃で２４時間真空乾燥することにより樹脂１０１を得た。スチレンの含有割合を１Ｈ－ＮＭＲにより求めたところ３０質量％であった。
＜樹脂１０２～１０５の製造例＞
　使用するモノマーの種類、配合比を下記表４のように変更した以外は樹脂１０１と同様にして樹脂１０２～１０５を得た。下記表４に、樹脂の構成材料及び物性を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
（（１０３）赤外線アブレーション層積層体の製造）
＜赤外線アブレーション層積層体１０１の製造例＞
　樹脂１：６．５質量部と、トルエン：５４．０質量部と、シクロヘキサノン：３６．０質量部と、を混合し、樹脂１を溶剤に溶解させた。その後、カーボンブラック（三菱ケミカル製、＃１０００、ｐＨ＝３．５）３．５質量部と、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ３９０００（日本ルーブリゾール株式会社製、ＳＰ値：１１．５）と１．２質量部をさらに投入し、その後、ビーズミルで４時間混合しカーボンブラック分散液を得た。
　上記のようにして得られたカーボンブラック分散液をカバーフィルムとなる１００μｍの厚さのＰＥＴフィルム上に、乾燥後の膜厚が３．０μｍとなるようにコーティングし、９０℃で２分間の乾燥処理を施して、赤外線アブレーション層とカバーフィルムとの積層体である赤外線アブレーション層積層体１０１を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１０２～１０７、１０９～１１９、１２９の製造例＞
　使用する樹脂を、下記表５のように変更した以外は、赤外線アブレーション層積層体１０１と同様にして赤外線アブレーション層積層体１０２～１０７、１０９～１１９、１２９を得た。
　なお、カーボンブラックとして用いたＭＡ７７（三菱ケミカル製）のｐＨは２．５であり、トーカブラック＃８３００（東海カーボン製）のｐＨは５．０であり、トーカブラック＃５５００（東海カーボン製）のｐＨは６．０であった。これらｐＨは、ＡＳＴＭ　Ｄ１５１２に準拠して、カーボンブラックと蒸留水の混合液を作製し、ガラス電極ｐＨメーターにより測定して求めたものである（以下同じ）。
　また、分散剤として用いた、ディスパロンＤＡ－７０３－５０（楠本化成製）のＳＰ値は１１．０であり、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ　Ｓ１１２００（日本ルーブリゾール株式会社製）のＳＰ値は９．５であり、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ　Ｓ１８０００（日本ルーブリゾール株式会社製）のＳＰ値は８．１であり、アジスパーＰＢ８８１（味の素ファインテクノ製）　のＳＰ値は１２．１であった。これらＳＰ値は、濁点滴定法で求めたものである（以下同じ）。
＜赤外線アブレーション層積層体１０８の製造例＞
　攪拌装置付き加熱密閉容器にトルエン４１部を仕込み、攪拌しながら塩素化プロピレンスーパークロンＨＰ－２０５（日本製紙製、塩素化度６８％）を３．０部添加し、４０℃の条件下で攪拌溶解を行った（第一段階）。常温まで放冷後、赤外線吸収物質としてカーボンブラックである三菱ケミカル製、＃１０００を６部、分散剤Ｓ３９０００を１．１部添加し、９０分プレミキシングを行った後に、サンドミルを用いカーボンブラックの分散を行った（第二段階）。その後再度４０℃まで加熱を行い、トルエンを３８．８部、メチルエチルケトンを３部およびスーパークロンＨＰ－２０５を８．２部添加し攪拌溶解を行い（第三段階）、カーボンブラック：樹脂＝３５：６５質量比の赤外線アブレーション層の塗工液を調製した。
　上記のようにして得られたカーボンブラック分散液を用いたこと以外は、赤外線アブレーション層積層体１０１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体１０８を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１２０の製造例＞
　使用するカーボンブラックを、Ｐｒｉｎｔｅｘ３５（デクサ製、ｐＨ＝９．５）に変更した以外は、赤外線アブレーション層積層体８と同様にして赤外線アブレーション層積層体１２０を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１２１の製造例＞
　スチレン－ブタジエン－スチレン共重合体エラストマーの水素添加物（旭化成製、タフテックＨ１０５１）７．８質量部と、トルエン７０．４質量部と、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセタート（ＰＭＡ）１７．６質量部と、を混合し、樹脂を溶解させた。その後、カーボンブラック（三菱ケミカル製、＃３０、ｐＨ＝８．０）を４．２質量部、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ３９０００（日本ルーブリゾール株式会社製）を０．６質量部をさらに投入し、ビーズミルで４時間混合しカーボンブラック分散液を得た。
　得られたカーボンブラック分散液を用いたこと以外は、赤外線アブレーション層積層体１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体１２１を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１２２の製造例＞
　使用するカーボンブラックを、＃１０００（三菱ケミカル製、ｐＨ＝３．５）に変更した以外は、赤外線アブレーション層積層体１２１と同様にして赤外線アブレーション層積層体１２２を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１２３の製造例＞
　ポリアミド（ヘンケル社製、マクロメルト６９００）７．８質量部と、トルエン４４．０質量部と、２－プロパノール４４．０質量部と、を混合し、樹脂を溶解させた。その後、カーボンブラック（三菱ケミカル製、＃３０、ｐＨ＝８．０）４.２質量部、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ３９０００（日本ルーブリゾール株式会社製）０．６質量部をさらに投入し、ビーズミルで４時間混合しカーボンブラック分散液を得た。
　得られたカーボンブラック分散液を用いたこと以外は、赤外線アブレーション層積層体１０１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体１２３を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１２４の製造例＞
　使用するカーボンブラックを、＃１０００に変更した以外は、赤外線アブレーション層積層体１２３と同様にして赤外線アブレーション層積層体１２４を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１２５の製造例＞
　ゴーセノールＫＬ－０５（ケン化度７８～８２モル％のポリ酢酸ビニル、日本合成化学工業（株）製）１０質量部と、ε－カプロラクタム１０質量部、Ｎ－（２－アミノエチル）ピペラジンとアジピン酸のナイロン塩９０質量部、及び水１００質量部を、ステンレス製オートクレーブに入れ、内部の空気を窒素ガスで置換した後に１８０℃で１時間加熱し、水溶性ポリアミドを調製した。次いで水分を除去して得られた水溶性ポリアミド１０質量部を、水４０質量部、メタノール２０質量部、ｎ－プロパノール２０質量部、及びｎ－ブタノール１０質量部に溶解させ、溶液を得た。溶液に、カーボンブラック（三菱ケミカル製、ＭＡ－１００、ｐＨ＝３．５）を混合し、３本ロールミルを用いて混練分散させ、カーボンブラック分散液を得た。
　得られたカーボンブラック分散液を用いたこと以外は、赤外線アブレーション層積層体１０１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体１２５を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１２６の製造例＞
　使用するカーボンブラックを、＃３０に変更した以外は、赤外線アブレーション層積層体１２５と同様にして赤外線アブレーション層積層体１２６を得た。
＜赤外線アブレーション層積層体１２７の製造例＞
　酸変性ポリマー（東亜合成製、ＵＣ－３５１０）０．５質量部と、スチレン－ブタジエン－スチレンエラストマーの水素添加物（旭化成製、タフテックＨ１０５１）１．３質量部と、トルエン４４質量部と、を混合し、樹脂を溶解させた。その後、カーボンブラック（三菱ケミカル製、＃３０、ｐＨ＝８．０）４．２質量部、Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ３９０００（日本ルーブリゾール株式会社製）０．６質量部をさらに投入し、ビーズミルで４時間混合しカーボンブラック分散液を得た。
　得られたカーボンブラック分散液を用いたこと以外は、赤外線アブレーション層積層体１０１と同様にして、赤外線アブレーション層積層体１２７を得た。
下記表５に、構成材料を示す。
＜赤外線アブレーション層積層体１２８の製造例＞
　使用するカーボンブラックを、＃１０００に変更した以外は、赤外線アブレーション層積層体１２７と同様にして赤外線アブレーション層積層体１２８を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
（（１０４）フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体の製造）
＜実施例１０１＞
　支持体と感光性樹脂組成物層の積層体から離型フィルムをはがし、赤外線アブレーション層積層体１０１を、赤外線アブレーション層が感光性樹脂組成物層に接するように、温度２５℃、湿度４０％の環境でラミネートし、１２０℃に設定したホットプレート上でカバーフィルム面をホットプレートの加熱部に接触するように配置して、１分間熱を加えて実施例１０１のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体１０１を得た。
　上述のようにして作製した実施例１０１のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体１０１を、以下のように評価した。評価結果を下記表６に示す。なお、評価はフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を１０ｃｍ×１５ｃｍの大きさに切り出し、カバーフィルムをはがして行った。
（評価方法）
＜溶剤系現像液に対する現像性評価＞
　フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を、３－メトキシブチルアセテートを現像液として、「ＡＦＰ－１５００」現像機（旭化成社製、商品名）の回転するドラムに両面テープを貼り付けて固定を行い、液温２５℃で現像を行い、６０℃で２時間乾燥させた。０．８ｍｍ現像するのに要する時間を測定した。
　同様に支持体と感光性樹脂組成物層の積層体から離型フィルムをはがし、現像を行った。赤外線アブレーション層があることによりどれだけ現像時間が変化するかにより、赤外線アブレーション層の現像性を評価した。
（評価基準）
Ａ：赤外線アブレーション層があることで現像時間が３０秒未満悪化する。
Ｂ：赤外線アブレーション層があることで現像時間が３０秒以上１分未満悪化する。
Ｃ：赤外線アブレーション層があることで現像時間が１分以上２分未満悪化する。
Ｄ：赤外線アブレーション層があることで現像時間が２分以上３分未満悪化する。
Ｅ：赤外線アブレーション層があることで３分以上時間を追加しても十分に洗浄できない。
＜水系現像液に対する現像性評価＞
　日本電子精機製現像機（ＪＯＷ－Ａ３－Ｐ）にニッサン石鹸１％水溶液を充填し、（２）で得られた印刷原版の赤外線アブレーション層のカバーフィルムを剥がして液温４０℃で現像した。６０℃で１０分乾燥させた。０．８ｍｍ現像するのに要する時間を測定した。
　同様に支持体と感光性樹脂組成物層の積層体から離型フィルムをはがし、現像を行った。赤外線アブレーション層があることによりどれだけ現像時間が変化するかにより、赤外線アブレーション層の現像性を評価した。
（評価基準）
Ａ：赤外線アブレーション層があっても現像時間の悪化は１分未満であった。
Ｂ：赤外線アブレーション層があることで現像時間が１分以上２分未満悪化する。
Ｃ：赤外線アブレーション層があることで現像時間が２分以上３分未満悪化する。
Ｄ：赤外線アブレーション層があることで現像時間が３分以上５分未満悪化する。
Ｅ：赤外線アブレーション層があることで５分以上時間を追加しても十分に洗浄できない。
＜カーボンブラック分散性の評価＞
　フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を適切な大きさに切断した後、紫外線硬化樹脂を用いて樹脂包埋した。樹脂包埋後、クライオミクロトーム法により作製した断面をＳＥＭ観察試料とした。
〇断面加工条件
　　　使用装置：ウルトラミクロトーム　ＵＣ６（ＬＥＩＣＡ製）
　　　設定温度：－８０℃
　　　設定切削厚み：１００ｎｍ
〇ＳＥＭ観察条件
　　　測定装置：走査型電子顕微鏡　Ｓ４８００（日立製）
　　　加速電圧：１．０ｋＶ
　　　観察倍率：５．０ｋ
赤外線アブレーション層を観察し、得られた断面ＳＥＭ観察像から下記のように評価した。
（評価基準）
Ａ：カーボンブラックが均一に分散しており凝集塊がみられない。
Ｂ：カーボンブラックが均一に分散しており、凝集塊が一視野に２個未満である。
Ｃ：カーボンブラックが均一に分散しており、凝集塊が一視野に５個未満である。
Ｅ：カーボンブラックが偏在しており、凝集塊が一視野に５個以上存在する、もしくはカーボンブラックが存在しない領域が広く存在する。
＜実施例１０２～１１９及び比較例１０１～１１０＞
　それぞれ赤外線アブレーション層積層体の種類を赤外線アブレーション層積層体１０２～１２９に変更した以外は、実施例１０１と同様にして、実施例１０２～１１９及び比較例１０１～１１０のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体１０２～１２９を作製し、評価を行った。評価結果を、下記表６に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
　本発明のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体は、広く一般商業印刷分野において、産業上の利用可能性を有する。
　１…フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、ａ…支持体、ｂ…感光性樹脂組成物層、ｂ’…パターン露光された感光性樹脂組成物層、ｃ…赤外線アブレーション層、ｃ’…パターンが描画加工された赤外線アブレーション層

Claims (14)

  1. 　少なくとも、支持体（ａ）と、
    　該支持体（ａ）上に積層される感光性樹脂組成物層（ｂ）と、
    　該感光性樹脂組成物層（ｂ）上に積層される赤外線アブレーション層（ｃ）と、を備え、
    　前記赤外線アブレーション層（ｃ）が、下記一般式（１）で表される構成単位ｃ１を有する樹脂を含有する、
    　フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （ここで、式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、非極性基を表し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、又は、非極性基を表す。）
  2. 　前記構成単位（ｃ１）の含有量が、前記樹脂の総量に対して、４０質量％以上１００質量％以下である、
    　請求項１に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
  3. 　前記一般式（１）のＲ３及びＲ４が、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、フェニル基、アルケニル基、アラルキル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シリル基、シロキサニル基である、
    　請求項１又は２に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
  4. 　前記一般式（１）のＲ３及びＲ４が、水素原子である、
    　請求項１～３のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
  5. 　前記一般式（１）のＲ１及びＲ２が、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、フェニル基、アルケニル基、アラルキル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、シリル基、シロキサニル基である、
    　請求項１～４のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
  6. 　前記一般式（１）のＲ１及びＲ２が、それぞれ独立に、アルキル基又はフェニル基である、
    　請求項１～５のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
  7. 　前記一般式（１）のＲ１及びＲ２が、アルキル基である、
    　請求項１～６のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
  8. 　前記樹脂は、前記構成単位（ｃ１）とは異なり、側鎖に芳香族基を含む構成単位（ｃ２）をさらに有する、
    　請求項１～７のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
  9. 　前記構成単位（ｃ２）は、モノビニル置換芳香族炭化水素に由来する構成単位を含む、
    　請求項１～８のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
  10. 　前記赤外線アブレーション層（ｃ）が、カーボンブラックを含有し、
    　前記カーボンブラックのｐＨが、２．０以上５．０以下である、
    　請求項１～９のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
  11. 　前記赤外線アブレーション層（ｃ）が分散剤を含有し、
    　前記分散剤の溶解度パラメータ（ＳＰ値）が、９．５以上１２．５以下である、
    　請求項１～１０のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
  12. 　前記赤外線アブレーション層（ｃ）における前記樹脂と前記カーボンブラックの配合比（樹脂／カーボンブラック）が、８０／２０～５０／５０の範囲にある、
    　請求項１～１１のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体。
  13. 　請求項１～１２のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用い、
    　前記支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、
    　前記赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、
    　前記パターンが描画加工された前記赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、前記感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線照射してパターン露光する第三の工程と、
    　前記赤外線アブレーション層（ｃ）と前記感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去する第四の工程と、を、有する、
    　フレキソ印刷版の製造方法。
  14. 　　請求項１～１２のいずれか一項に記載のフレキソ印刷版用感光性樹脂構成体を用い、
    　前記支持体（ａ）側から紫外線を照射する第一の工程と、
    　前記赤外線アブレーション層（ｃ）に赤外線を照射してパターンを描画加工する第二の工程と、
    　前記パターンが描画加工された前記赤外線アブレーション層（ｃ）をマスクとして、前記感光性樹脂組成物層（ｂ）に紫外線照射してパターン露光する第三の工程と、
    　前記赤外線アブレーション層（ｃ）と前記感光性樹脂組成物層（ｂ）の未露光部を除去してフレキソ印刷版を製造する第四の工程と、
    　前記フレキソ印刷版を用いて印刷する第五の工程と、を、有する、
    　フレキソ印刷方法。
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