WO2023075319A1 - 이차 전지용 전극의 제조방법, 이차 전지용 전극, 및 상기 방법에 사용되는 전극 제조 시스템 - Google Patents

이차 전지용 전극의 제조방법, 이차 전지용 전극, 및 상기 방법에 사용되는 전극 제조 시스템 Download PDF

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Definitions

  • the present invention relates to a method for manufacturing an electrode for a secondary battery, an electrode for a secondary battery, and an electrode manufacturing system used in the method.
  • lithium secondary batteries having high energy density and discharge voltage are commercialized and widely used.
  • lithium secondary batteries there is a demand for prismatic secondary batteries and pouch-type secondary batteries that can be applied to mobile phones and automobiles in terms of the shape of the battery, and in terms of materials, lithium ion batteries with high energy density, discharge voltage, and output stability, lithium There is a high demand for lithium secondary batteries such as ion polymer batteries.
  • Lithium secondary batteries are also classified according to the structure of the electrode assembly of the cathode/separator/cathode structure. Specifically, a jelly-roll (wound type) electrode assembly having a structure in which long sheet-type positive electrodes and negative electrodes are wound with a separator interposed therebetween, and a plurality of positive electrodes and negative electrodes cut in units of a predetermined size with a separator interposed therebetween Stacked (stacked) electrode assemblies sequentially stacked, bi-cells or full cells in which positive and negative electrodes in predetermined units are stacked with a separator interposed therebetween are stacked/folded electrodes Assemblies and the like are known.
  • a pouch type battery having a structure in which a stack type or stack/fold type electrode assembly is embedded in a pouch type battery case of an aluminum laminate sheet has attracted much attention due to low manufacturing cost, low weight, easy shape deformation, etc. Usage is also gradually increasing.
  • the present inventors applied a laser cutting method while studying an efficient notching process of an electrode tab in which an insulating layer was stacked.
  • the line width of the incision line by the laser is very narrow, re-fusion of the melted insulation layer after cutting, dross generation when separating the re-fusion portion, defective electrode tab profile due to re-fusion, melting and curling of the insulation layer
  • the insulating layer was lifted (or widened) due to development, and a problem in which a part of the current collector was exposed due to the insulating layer lifted occurred.
  • the present inventors have made diligent efforts to solve the above problems, and have found a method capable of preventing the occurrence of the above problems by minimizing the melting of the insulating layer during cutting, thereby completing the present invention.
  • An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electrode for a secondary battery capable of manufacturing an electrode including an electrode tab on which an insulating layer is stacked with excellent efficiency and excellent quality by using a specific laser.
  • an object of the present invention is to provide an electrode manufacturing system used in the method.
  • the notching is performed using a laser having a pulse width of 100 ps to 10 -6 ps.
  • It includes a laser cut electrode tab cut in a state in which an insulating layer and a current collector are laminated
  • an electrode for a secondary battery in which the thickness of the cut end surface of the electrode tab is 1 to 1.7 times the thickness before cutting.
  • It includes a laser cut electrode tab cut in a state in which an insulating layer and a current collector are laminated
  • an electrode for a secondary battery in which a length of a current collector protruding from a cutting edge of the electrode tab based on a front end of the insulating layer is less than 20 ⁇ m.
  • an electrode sheet supplying device including a current collector divided into a holding part and a non-coated part, and supplying an electrode sheet in which an insulating layer is laminated to the uncoated part;
  • a laser beam irradiation device having a pulse width of 100 ps to 10 ⁇ 6 ps to form an electrode tab by notching the uncoated portion where the insulating layer is stacked;
  • It provides an electrode manufacturing system including a jig for supporting the laser beam irradiation part for the electrode sheet from a lower surface.
  • a laser having a pulse width of 100 ps to 10 -6 ps is applied to a notching process of an electrode tab in which an insulating layer is stacked, so that after cutting, the insulating layer is re-fused and the re-fused portion is separated. It prevents problems such as occurrence of dross, defective electrode tab profile due to re-fusion, lifting (or widening) of the insulating layer due to melting and curling of the insulating layer, and exposure of the current collector due to the lifting of the insulating layer, so that the electrode It provides an effect of greatly improving manufacturing efficiency and quality of electrodes.
  • the electrode of the present invention provides an excellent insulating layer-laminated electrode tab profile, thereby providing an effect of improving the stability and reliability of the battery.
  • the electrode manufacturing system of the present invention provides an electrode manufacturing system capable of efficiently performing the above method.
  • FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a battery structure in which electrodes including electrode tabs in which insulating layers are laminated are stacked;
  • FIG. 2 is a plan view showing the form of an electrode sheet in a step before the electrode tab notching process in the process of manufacturing an electrode in which an insulating layer is laminated on an electrode tab;
  • FIG. 3 is an enlarged view of part A of Figure 2
  • Figure 4 is a diagram visually showing the characteristics of the laser used in the present invention.
  • Figure 5 is a graph showing the peak power according to the pulse width of the laser
  • FIG. 6 is a diagram schematically showing an electrode manufacturing system according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a photograph of a state in which an insulating layer is spread on a cut surface when an insulating layer-stacked electrode tab is cut using a nanosecond laser;
  • FIG. 8 is a photograph showing a state in which dross in the form of a thread is generated on a cut surface when an insulating layer-stacked electrode tab is cut using a mold.
  • the notching is characterized in that it is performed using a laser having a pulse width of 100 ps to 10 ⁇ 6 ps.
  • the pulse width may be selected from, for example, a range of picoseconds, femtoseconds, and the like, and may be used in a range of 100 ps to 100 fs.
  • the efficiency of the notching process and the quality of the notched electrode tab are greatly deteriorated due to the melting of the insulating layer. That is, when a conventional laser using the heat absorption of the cutting medium and the subsequent cutting mechanism of the medium is applied to the notching of the insulating layer-stacked electrode tab, the characteristics of laser cutting with a very narrow line width of the cutting line and the laser wavelength are absorbed and melted. While the characteristics of the insulating layer being cut act together, a problem occurs in that the molten insulating layer is fused again during cutting.
  • the profile of the cut surface becomes bumpy, and dross such as the molten insulation is lumpy, and the melting and curling of the insulation layer causes the insulation layer to Lifting (or widening) occurs, and a problem in that a part of the current collector is exposed due to the lifting phenomenon also occurs.
  • the profile of the cross section of the electrode tab shows a high defect rate.
  • the present invention is characterized by using a laser having a pulse width of 100 ps to 10 ⁇ 6 ps in order to solve the above problems.
  • the above problem occurs even when a pulse laser as well as a continuous wave (cw) laser conventionally used in a notching process is used.
  • a laser having a pulse width of 100 ps to 10 ⁇ 6 ps among pulse lasers it seems that the above problems can be avoided, and an effect of greatly improving the notching speed is obtained. That is, even when a nanosecond laser outside the scope of the present invention is used, a problem due to melting of the insulating layer occurs, but when a laser having a pulse width of picosecond or less (pulse width of 100 ps or less) is used, the above The same problem does not occur.
  • a laser having a pulse width of 10 ps to 10 ⁇ 3 ps or 5 ps to 10 ⁇ 1 ps may be efficiently used. This is because, since the desired effect can be obtained in the present invention even if the pulse width is not smaller, a laser having a pulse width in the above range can be practical considering cost and the like.
  • IR infrared
  • UV ultraviolet
  • green wavelength light may be used for the laser
  • IR may be preferably used considering the stability and usability of the laser.
  • the laser may have an average output energy of 10W to 200W at an average traveling speed of 100 mm/s to 2,000 mm/s, and 20W to 20W at 500 mm/s to 1,500 mm/s 150W may be used, and 50W to 100W based on 1,000 mm/s may be used.
  • the average traveling (cutting) speed during the notching may be 100 mm/s to 2,000 mm/s, and 500 mm/s to 1,500 mm/s may be preferable in terms of notching efficiency. .
  • the laser average power energy and average traveling speed are examples of one embodiment of the present invention, but the present invention is not limited thereto.
  • the average power may be properly changed according to the environment such as the configuration of the laser optical system and the light collecting ability of the lens, and the average running speed may be appropriately changed according to the environment such as the shape of the notching object.
  • the insulating layer may include a polymer resin.
  • the insulating layer includes boehmite (AlO(OH)), Al 2 O 3 , ⁇ -AlOOH, Al(OH) 3, Mg(OH) 2 , Ti(OH) 4 , MgO, CaO, Cr 2 O 3 , MnO 2 , Fe 2 O 3 , Co 3 O 4 , NiO, ZrO 2 , BaTiO 3 , SnO 2 , CeO 2 , Y 2 O 3 , SiO 2 , silicon carbide (SiC), boron nitride (BN ) It may further include one or more inorganic particles selected from the group consisting of the like.
  • one or more insulating layer materials used in this field may be further included in addition to the above components.
  • the weight ratio of the polymer (binder) and the non-fat particles included in the insulating layer may be 5:95 to 99:1, 5:95 to 50:50, or 10:90 to 50:50. .
  • polymer resin examples include styrene-butadiene rubber, acrylate styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene-styrene rubber, acrylic rubber, butyl rubber, fluoro rubber, polyvinylidene fluoride, Polytetrafluoroethylene, polyethylene, polypropylene, ethylene propylene copolymer, polyethylene oxide, polyvinylpyrrolidone, polyepicrohydrin, polyphosphazene, polyacrylonitrile, polystyrene, ethylenepropylenediene copolymer from the group consisting of polyvinylpyridine, chlorosulfonated polyethylene, latex, polyester resin, acrylic resin, phenol resin, epoxy resin, polyvinyl alcohol, hydroxypropylmethylcellulose, hydroxypropylcellulose, diacetylcellulose, etc. One or more selected species may be used.
  • the electrode sheet may or may not have an active material laminated on the holding portion.
  • the active material is used in a laminated state, but is not limited thereto.
  • the electrode may be an anode or a cathode.
  • the current collector used for the anode or cathode may be a foil made of copper, aluminum, gold, nickel, copper alloy, or a combination thereof, but is not limited thereto.
  • the electrode may be an anode, and an aluminum (Al) foil may be used as a current collector.
  • It includes a laser cut electrode tab cut in a state in which an insulating layer and a current collector are laminated
  • It relates to an electrode for a secondary battery in which the thickness of the cut end surface of the electrode tab is 1 to 1.7 times the thickness before cutting.
  • the laser may be a laser having a pulse width of 100 ps to 10 ⁇ 6 ps.
  • the electrode of the present invention has the feature of minimizing the lifting (or widening) of the insulating layer by solving the above problems.
  • the thickness of the cutting section of the electrode tab may be 1 to 1.6 times the thickness before cutting. Also, the lower limit may be 1.1 times, 1.2 times, 1.3 times, 1.4 times, or 1.5 times.
  • the cut cross section of the electrode tab of the present invention does not include dross in the form of yarn that inevitably occurs during mold cutting.
  • It includes a laser cut electrode tab cut in a state in which an insulating layer and a current collector are laminated
  • It relates to a secondary battery electrode in which the length of a current collector protruding from the cutting end of the electrode tab based on the front end of the insulating layer is less than 20 ⁇ m.
  • the laser may be a laser having a pulse width of 100 ps to 10 ⁇ 6 ps.
  • the insulating layer absorbs laser wavelength and is cut while being melted, as shown in FIG. And the lifting (or spreading) of the insulating layer due to the curling phenomenon occurs very greatly. In addition, the occurrence of such a lifting phenomenon causes exposure of the current collector. The exposed current collector causes a short circuit or the like, resulting in battery failure.
  • the electrode of the present invention is characterized by minimizing the exposure of the current collector by solving the above problems.
  • the length of the protruding current collector may have an upper limit of less than 18 ⁇ m and less than 16 ⁇ m.
  • the lower limit may be 0, 1 ⁇ m, 3 ⁇ m, 5 ⁇ m, 10 ⁇ m, 12 ⁇ m, or 15 ⁇ m.
  • the cut cross section of the electrode tab of the present invention does not include dross in the form of yarn that inevitably occurs during mold cutting.
  • an electrode sheet supplying device 200 including a current collector divided into a holding part and a non-coating part, and supplying an electrode sheet 10 in which an insulating layer 11 is laminated to the uncoated part 12. );
  • a laser beam irradiation device 300 having a pulse width of 100 ps to 10 ⁇ 6 ps to form an electrode tab by notching the uncoated portion where the insulating layer 11 is stacked;
  • It relates to an electrode manufacturing system including a jig 400 supporting a laser beam irradiation part for the electrode sheet from a lower surface.
  • the system of the present invention can be applied to all of the information related to the manufacturing method of the electrode described above. Therefore, descriptions of overlapping contents will be omitted below.
  • the electrode sheet supply device 200 may be a roll-to-roll device.
  • the roll-to-roll device may have the form shown in FIG. 8, and may further include an unwinding roll and a rewinding roll on both sides as a configuration not shown in FIG. 8.
  • the laser beam irradiation device 300 is the same as a general laser device that can be purchased on the market except that it is a device for irradiating a laser beam having a pulse width of 100 ps to 10 ⁇ 6 ps. can have a configuration.
  • the laser beam irradiation device 300 may include a laser source generator, a delivery mirror, a laser beam width controller, and a scanner unit, and the scanner may include a galvano mirror, a theta A lens (eg, ftheta lens) and the like may be included.
  • the scanner may include a galvano mirror, a theta A lens (eg, ftheta lens) and the like may be included.
  • the structure of the jig 400 is not particularly limited as long as it can support the laser beam irradiation part for the electrode sheet on its lower surface.
  • a device designed to support an electrode sheet while rotating a plurality of electrode sheet supporting parts 410 may also be used.
  • the insulating layer was laminated with a composition in which boehmite and SBS were mixed in a weight ratio of 6:4.
  • An electrode tab was formed by performing a notching process on the uncoated portion of the electrode sheet on which the insulating layer was laminated using a laser device having a picosecond pulse width under the conditions shown in Table 1 below.
  • the black portion is the background when photographing with an optical microscope, and the boundary line of the black portion is the cut portion of the electrode tab in which the insulating layer and the current collector are stacked. Since the drawing is a plan view image, the upper insulating layer of the electrode tab is shown, and the current collector positioned under the insulating layer is not exposed or protruded through the cut portion, so it is not visible in the image.
  • the electrode manufactured by the picosecond laser of the present invention has a very excellent cutting profile of the electrode tab in which the insulating layer and the current collector are stacked, and the problems caused by the re-fusion of the insulating layer and the melting of the insulating layer are very good. It was confirmed that the current collector exposure problem did not occur at all.
  • An electrode tab was manufactured by performing the notching process in the same manner as in the above embodiment, except that electrode tab notching was performed using a laser having a nanosecond pulse width under the conditions of Table 2 below. A photograph of the cut portion of the electrode tab is shown in Table 2 below.
  • the drawings in Table 2 are optical micrographs obtained by photographing after nanosecond laser cutting in a state where the cut portion was not completely cut or the removed portion could not be removed due to re-fusion. Since the image corresponds to a plan view, the upper insulating layer and the cut portion of the electrode tab in which the insulating layer and the current collector are stacked are mainly shown, and in Comparative Examples 1 and 2, the current collector is partially exposed due to melting of the insulating layer. (The shiny part in the center) is confirmed.
  • Comparative Example 1 it was confirmed that re-fusion of the insulating layer occurred entirely after cutting, and it was confirmed that the current collector was partially exposed due to the melting of the insulating layer.
  • Comparative Example 2 it was confirmed that re-fusion of the insulating layer partially occurred after cutting, and the white part in the middle was confirmed as a portion where uncutting occurred as the insulation was melted during cutting and then fused and hardened again. In addition, it is confirmed that the current collector is partially exposed (shiny part) due to melting of the insulating layer.
  • the insulating layer was laminated with a composition in which boehmite and SBS were mixed in a weight ratio of 5:5.
  • An electrode tab was formed by performing a notching process on the uncoated portion of the electrode sheet on which the insulating layer was laminated using a laser device having a nanosecond pulse width under the conditions shown in Table 3 below.
  • the upper part of the flat picture (round part and straight part) shown in black is the background when photographing with an optical microscope, and the lower part is the upper insulating layer part of the electrode tab in which the insulating layer and the current collector are stacked.
  • the boundary line of the black portion is the cut portion of the electrode tab.
  • the sandwich shape in the center of the cross-sectional photograph is a cut surface of an electrode tab in which an insulating layer and a current collector are stacked, and the remaining portion is a background portion when photographed under an optical microscope.
  • the cut end is bumpy, the current collector protrudes to the outside (a light-colored part adjacent to the background), and the thickness of the cut surface in the cross-sectional photograph is about 200 ⁇ m compared to the thickness before cutting (45 ⁇ m). It can be seen that it is very thick. The reason for the increase in the thickness is that the insulation layer absorbs heat and melts when irradiated with a nanosecond laser and is separated from the current collector and rolled outward (see FIG. 7). The current collector exposed in this way may deteriorate stability of battery quality such as short circuit and low voltage.
  • the insulating layer was laminated with a composition in which boehmite and PVDF were mixed in a weight ratio of 88:12.
  • a notching process was performed on the uncoated portion of the electrode sheet on which the insulating layer was laminated under the conditions shown in Table 4 below using a laser device having a picosecond pulse width (Example 4) or a laser device having a picosecond pulse width (Comparative Example 8). This was carried out to form a positive electrode tab.
  • the upper part of the flat picture (round part and straight part) shown in black is the background when photographing with an optical microscope, and the lower part is the upper insulating layer part of the electrode tab in which the insulating layer and the current collector are stacked.
  • the boundary line of the black portion is the cut portion of the electrode tab.
  • the sandwich shape in the center of the cross-sectional photograph is a cut surface of an electrode tab in which an insulating layer and a current collector are stacked, and the remaining portion is a background portion when photographed under an optical microscope.
  • the electrode tab in which the insulating layer and the current collector are stacked with the picosecond laser notched of Example 4 has a very excellent cutting profile, and no problem due to re-fusion of the insulating layer has occurred. Confirmed. In addition, it was confirmed that exposure of the current collector due to melting of the insulating layer was minimized to 0 (round portion) and 15.83 ⁇ m (straight portion).
  • the thickness of the cut surface was 69.25 ⁇ m, and it was confirmed that the increase in thickness was minimized compared to the thickness before cutting (45 ⁇ m).
  • the electrode tab of Comparative Example 8 in which the insulating layer and the current collector are stacked with the nanosecond laser notched has an uneven cutting profile, and the exposure of the current collector by melting the insulating layer is 49.68 ⁇ m (round portion) and 23.02 ⁇ m (straight portion), respectively. found to be large.
  • the thickness of the cut surface is 82.71 ⁇ m, and the thickness increase is significantly increased compared to the thickness before cutting (45 ⁇ m).
  • the reason for the increase in the thickness is that the insulation layer absorbs heat and melts when irradiated with a nanosecond laser and is separated from the current collector and rolled outward (see FIG. 7).
  • the stability of battery quality such as short circuit and low voltage may be deteriorated.
  • the upper part of the flat picture (round part and straight part) shown in black is the background when photographing with an optical microscope, and the lower part is the upper insulating layer part of the electrode tab in which the insulating layer and the current collector are stacked.
  • the boundary line of the black portion is the cut portion of the electrode tab.
  • the sandwich shape in the center of the cross-sectional photograph is a cut surface of an electrode tab in which an insulating layer and a current collector are stacked, and the remaining portion is a background portion when photographed under an optical microscope.
  • the thickness of the cut surface was 71.00 ⁇ m, and it was confirmed that the increase in thickness was minimized compared to the thickness before cutting (45 ⁇ m).
  • electrode sheet 11 insulating layer
  • electrode sheet supply device 210 support roller

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Abstract

본 발명은 (a) 유지부와 무지부로 구획된 집전체를 포함하며, 상기 무지부에 절연층이 적층된 전극시트를 준비하는 단계; 및 (b) 상기 절연층이 적층된 무지부를 노칭하여 전극탭을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 노칭은 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저를 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극의 제조방법, 이차 전지용 전극, 및 상기 방법에 사용되는 전극 제조 시스템을 제공한다.

Description

이차 전지용 전극의 제조방법, 이차 전지용 전극, 및 상기 방법에 사용되는 전극 제조 시스템
본 출원은 2021년 10월 25일자 한국 특허 출원 제10-2021-0142521호 및 2022년 10월 21일자 한국 특허 출원 제10-2022-0136351호에 기초한 우선권의 이익을 주장하며, 해당 한국 특허 출원들의 문헌에 개시된 모든 내용을 본 명세서의 일부로서 포함한다.
본 발명은 이차 전지용 전극의 제조방법, 이차 전지용 전극, 및 상기 방법에 사용되는 전극 제조 시스템에 관한 것이다.
자동차 및 휴대용 기기에 대한 수요가 증가함에 따라 에너지원으로서의 이차전지의 수요가 급격히 증가하고 있다. 특히, 이차전지 중 높은 에너지 밀도와 방전 전압을 갖는 리튬 이차전지가 상용화되어 널리 사용되고 있다.
상기 리튬 이차전지 중에서도 전지의 형상 면에서, 휴대폰, 자동차 등에 적용될 수 있는 각형 이차전지와 파우치형 이차전지에 대한 수요가 있고, 재료 면에서 높은 에너지 밀도, 방전 전압, 출력 안정성의 리튬 이온 전지, 리튬이온 폴리머 전지 등과 같은 리튬 이차전지에 대한 수요가 많은 상황이다.
리튬 이차전지는 양극/분리막/음극 구조의 전극조립체가 어떠한 구조로 이루어져 있는지에 따라 분류되기도 한다. 구체적으로, 긴 시트형의 양극들과 음극들을 분리막이 개재된 상태에서 권취한 구조의 젤리-롤(권취형) 전극조립체, 소정 크기의 단위로 절취한 다수의 양극과 음극들을 분리막을 개재한 상태로 순차적으로 적층한 스택형(적층형) 전극조립체, 소정 단위의 양극과 음극들을 분리막을 개재한 상태로 적층한 바이셀(Bi-cell) 또는 풀셀(Full cell)들을 권취한 구조의 스택/폴딩형 전극조립체 등이 알려져 있다.
최근에는, 스택형 또는 스택/폴딩형 전극조립체를 알루미늄 라미네이트 시트의 파우치형 전지케이스에 내장한 구조의 파우치형 전지가, 낮은 제조비, 적은 중량, 용이한 형태 변형 등을 이유로 많은 관심을 모으고 있으며, 사용량도 점차적으로 증가하는 추세이다.
한편, 스택형 전극조립체 또는 스택/폴딩형 전극조립체는 일측에 전극탭이 돌출되어 있는 양극 및 음극 사이에 분리막이 개재된 상태로 적층되는 구조를 갖는데, 이러한 구조는 외부 열원에 대한 노출, 내부 단락 등에 의해 온도가 상승하는 경우, 분리막이 수축하면서 양극 및 음극의 일부가 접촉되어 단락을 발생시키는 경우가 있다. 따라서, 이러한 문제를 예방하기 위하여, 도 1에 도시된 바와 같이, 양극 및/또는 음극 탭 부분에 절연층을 형성하는 기술이 소개되고 있다.
상기 전극탭에 대한 절연층의 형성 기술은 전지의 안전성과 신뢰성을 향상시켰으나, 전극탭 형성의 공정수 증가 및 난이도 증가의 원인을 야기하기도 하였다.
[선행기술문헌]
대한민국 특허공개 제10-2015-0098445호
본 발명자들은 절연층이 적층된 전극탭의 효율적인 노칭 공정을 연구하면서, 레이저 커팅 방식을 적용하였다. 그러나 레이저에 의한 절개선의 선폭이 매우 좁기 때문에, 커팅 후 용융된 절연층의 재융착, 재융착부 분리 시 드로스(dross) 발생, 재융착으로 인한 전극탭 프로파일 불량, 절연층의 용융 및 말림 현상에 의한 절연층 들뜸(또는 벌어짐), 상기 절연층 들뜸에 의한 집전체 일부가 노출되는 문제가 발생됨을 확인하였다.
본 발명자들은 상기 문제를 해소하기 위하여 예의 노력한 바, 커팅시 절연층의 용융을 최소화함으로써, 상기와 같은 문제의 발생을 차단할 수 있는 방법을 발견하여 본 발명을 완성하였다.
본 발명은 특정의 레이저를 사용함으로써, 절연층이 적층된 전극탭을 포함하는 전극을 우수한 효율 및 뛰어난 품질로 제조할 수 있는 이차 전지용 전극의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 절단 프로파일이 우수한 절연층 적층 전극탭을 갖는 이차 전지용 전극을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 방법에 사용되는 전극 제조 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은
(a) 유지부와 무지부로 구획된 집전체를 포함하며, 상기 무지부에 절연층이 적층된 전극시트를 준비하는 단계; 및
(b) 상기 절연층이 적층된 무지부를 노칭하여 전극탭을 형성하는 단계;를 포함하며,
상기 노칭은 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저를 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은,
절연층과 집전체가 적층된 상태로 커팅된 레이저 커팅 전극탭을 포함하며,
상기 전극탭의 커팅 단면 두께가 커팅전 두께를 기준으로 1배 내지 1.7배인 이차 전지용 전극을 제공한다.
또한, 본 발명은
절연층과 집전체가 적층된 상태로 커팅된 레이저 커팅 전극탭을 포함하며,
상기 전극탭의 커팅 단면에서 절연층의 선단부를 기준으로 돌출된 집전체의 길이가 20㎛ 미만인 이차 전지용 전극을 제공한다.
또한, 본 발명은,
유지부와 무지부로 구획된 집전체를 포함하며, 상기 무지부에 절연층이 적층된 전극시트를 공급하는 전극시트 공급 장치;
상기 절연층이 적층된 무지부를 노칭하여 전극탭을 형성하는 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저 빔 조사 장치; 및
상기 전극시트에 대한 레이저 빔 조사부를 하부면에서 지지하는 지그;를 포함하는 전극 제조 시스템을 제공한다.
본 발명의 전극의 제조 방법은, 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저를 절연층이 적층된 전극탭의 노칭공정에 적용함으로써, 커팅 후 절연층의 재융착, 재융착부 분리 시 드로스(dross) 발생, 재융착으로 인한 전극탭 프로파일 불량, 절연층의 용융 및 말림 현상에 의한 절연층 들뜸(또는 벌어짐), 상기 절연층 들뜸에 의한 집전체 노출 등의 문제를 방지하여, 전극의 제조효율 및 전극의 품질을 크게 향상시키는 효과를 제공한다.
또한, 본 발명의 전극은 우수한 절연층 적층 전극탭 프로파일을 제공하며, 이에 따라 전지의 안정성 및 신뢰성을 향상시키는 효과를 제공한다.
또한, 본 발명의 전극 제조 시스템은 효율적으로 상기 방법을 수행할 수 있는 전극 제조 시스템을 제공한다.
도 1은 절연층이 적층된 전극탭을 포함하는 전극을 적층한 전지 구조에 대한 부분 단면도이며,
도 2는 전극탭에 절연층이 적층된 전극을 제조하는 과정 중, 전극탭 노칭공정 전단계의 전극시트 형태를 도시한 평면도이며,
도 3은 도 2의 A부분의 확대도이며,
도 4는 본 발명에서 사용하는 레이저의 특성을 시각적으로 나타낸 도면이며,
도 5는 레이저의 펄스폭에 따르는 피크 파워를 나타낸 그래프이며,
도 6은 본 발명의 일 실시형태에 따르는 전극 제조 시스템을 모식적으로 도시한 도면이며,
도 7은 나노초 레이저를 사용하여 절연층 적층 전극탭을 커팅하는 경우 절단면에 절연층 벌어짐이 발생한 상태를 촬영한 사진이며,
도 8은 금형을 사용하여 절연층 적층 전극탭을 커팅하는 경우 절단면에 실오라기 형태의 드로스(dross)가 발생한 상태를 촬영하여 나타낸 사진이다.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시 예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결된다, 구비된다, 또는 설치된다"고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결 또는 설치될 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 한다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결된다, 구비된다, 또는 설치된다"라고 언급된 때에는 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 “~상부에”와 “상부에 직접” 또는 "∼사이에"와 "바로 ∼사이에" 또는 "∼에 이웃하는"과 "∼에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
본 발명의 이차 전지용 전극의 제조 방법은,
(a) 유지부와 무지부로 구획된 집전체를 포함하며, 상기 무지부에 절연층이 적층된 전극시트를 준비하는 단계; 및
(b) 상기 절연층이 적층된 무지부를 노칭하여 전극탭을 형성하는 단계;를 포함하며,
상기 노칭은 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저를 사용하여 수행하는 것을 특징으로 한다.
상기 펄스폭이 100 ps를 초과할 경우, 열에 의한 부작용이 발생할 수 있으며, 10-6 ps 미만일 경우에는 비용상 바람직하지 않을 수 있다.
상기 펄스폭은 예를 들어, 피코초(picosecond), 펨토초(Femtosecond) 등의 범위에서 선택될 수 있으며, 100 ps 내지 100 fs 범위에서 사용될 수도 있다.
종래의 전극의 제조에서도 절연층이 적층되지 않은 전극탭의 노칭에 레이저 장비를 적용하는 방법이 소개되고 있다. 그러나, 절연층이 적층되지 않은 전극탭의 노칭과 절연층이 적층된 전극탭의 노칭은 노칭 소재에 있어서 큰 차이를 갖는다. 따라서 종래의 레이저 사용 방법을 절연층이 적층된 전극탭의 노칭에 그대로 적용하는 것은 노칭 공정의 효율성 및 제조된 전극탭의 품질 등을 고려할 때 바람직하지 않은 선택으로 보인다. 즉, 절연층 적층 전극탭의 노칭(또는 커팅) 시, 절연층의 소재 특성이 노칭 공정의 효율이나 노칭이 완료된 전극탭의 품질에 매우 큰 영향을 미치므로, 종래의 절연층이 적층되지 않은 전극탭의 노칭 공정을 그대로 적용하는 것은 효율이나 품질면에서 명확한 한계를 갖는다.
구체적으로, 종래의 레이저 적용 기술을 절연층 적층 전극탭의 노칭에 적용하는 경우, 절연층의 용융문제로 노칭 공정의 효율 및 노칭된 전극탭의 품질 저하가 매우 큰 것으로 확인된다. 즉, 커팅 매질의 열흡수 및 이에 따르는 매질의 절단 메커니즘을 이용하는 종래의 레이저를 절연층 적층 전극탭의 노칭에 적용하는 경우, 절개선의 선폭이 매우 좁은 레이저 커팅의 특성과 레이저 파장을 흡수하여 용융되면서 절단되는 절연층의 특성이 함께 작용하면서, 커팅시 용융된 절연층이 다시 융착하는 문제가 발생한다. 또한, 이렇게 재융착된 부분을 분리시킬 때 절단면의 프로파일이 울퉁불퉁해 지며, 용융된 절연체가 몽글몽글하게 뭉치는 등의 드로스(dross)가 발생하며, 절연층의 용융 및 말림 현상으로 인해 절연층 들뜸(또는 벌어짐)이 발생하며, 상기 들뜸 현상으로 인하여 집전체 일부가 노출되는 문제도 발생된다. 또한, 이러한 전극탭 단면의 프로파일은 높은 불량률을 나타낸다.
그러므로, 본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하기 위하여, 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저를 사용하는 것을 특징으로 한다.
본 발명자들이 다양한 실험을 통하여 확인한 바에 의하면, 종래에 노칭 공정에 사용되던 연속파(cw: continuous wave) 레이저는 물론, 펄스 레이저를 사용하는 경우에도 상기와 같은 문제가 발생된다. 다만, 펄스 레이저 중에서도 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저를 사용하는 경우에는 상기와 같은 문제를 피할 수 있는 것으로 보이며, 노칭 속도도 크게 향상되는 효과가 얻어진다. 즉, 본 발명의 범위를 벗어난 나노초(nanosecond) 레이저를 사용하는 경우에도 절연층의 용융에 의한 문제가 발생하지만, 펄스폭이 피코초(펄스폭이 100 ps 이하) 이하인 레이저를 사용하는 경우에는 상기와 같은 문제가 발생하지 않는다.
이러한 차이점은, 도 4에 도시된 바와 같은 레이저의 절단 메커니즘에 기인한 것으로 보인다. 즉 도 4에 도시된 바와 같이, 나노초 레이저의 경우, 커팅 소재에 열흡수에 의한 영향을 받는 영역이 발생되며, 절연층이 이러한 영역에 위치되는 경우 융용되면서 상기와 같은 문제를 야기한다.
그러나, 피코초(펄스폭이 100 ps 이상) 이상의 펄스폭을 갖는 레이저를 사용하는 경우, 충분한 에너지가 원자에게 전달되기 전에 원자 결합이 깨지기 때문에 열 유입이 없는 차가운 상태에서 커팅이 가능하므로 열에 의한 문제를 피할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 펄스폭이 10 ps 내지 10-3 ps, 또는 5 ps 내지 10-1 ps인 레이저가 효율적으로 사용될 수도 있다. 왜냐하면, 펄스폭이 더 작지 않더라도 본 발명에서 목적하는 효과를 얻을 수 있기 때문에, 비용 등을 고려할 때, 상기 범위의 펄스폭을 갖는 레이저가 실용적일 수 있기 때문이다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 레이저에는 Infrared (IR), Ultraviolet(UV), Green 영역대의 파장의 광이 사용될 수 있지만, 레이저의 안정성 및 활용성을 고려할 때 IR이 바람직하게 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 레이저는 평균출력 에너지가 평균주행속도 100 mm/s 내지 2,000 mm/s 기준 10W 내지 200W인 것이 사용될 수 있으며, 500 mm/s 내지 1,500 mm/s 기준 20W 내지 150W인 것이 사용될 수 있으며, 1,000 mm/s 기준 50W 내지 100W인 것이 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 노칭 시 평균주행(절단)속도는 100 mm/s 내지 2,000 mm/s일 수 있으며, 노칭 효율 측면에서 500 mm/s 내지 1,500 mm/s이 바람직할 수 있다.
상기 레이저 평균출력 에너지 및 평균주행속도는 본 발명의 일 실시형태를 예시한 것으로서, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 평균출력은 레이저 광학계 구성, 렌즈의 집광능력 등의 환경에 따라 적절히 변경될 수 있으며, 평균주행속도는 노칭 대상물 형태 등의 환경에 따라 적절히 변경될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 절연층은 고분자 수지를 포함하는 것일 수 있다. 상기 절연층은 상기 고분자 이외에 보헤마이트(boehmite; AlO(OH)), Al2O3, γ-AlOOH, Al(OH)3, Mg(OH)2, Ti(OH)4, MgO, CaO, Cr2O3, MnO2, Fe2O3, Co3O4, NiO, ZrO2, BaTiO3, SnO2, CeO2, Y2O3, SiO2, 실리콘 카바이드(SiC), 보론 나이트라이드(BN) 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 무기질 입자를 더 포함하는 것일 수 있다.
또한, 상기 성분 이외에 이 분야에서 사용되는 1종 이상의 절연층 소재를 더 포함할 수도 있다.
상기에서 절연층에 포함되는 고분자(바인더)와 무지질 입자의 중량비는 5:95 내지 99:1일 수 있으며, 5:95 내지 50:50일 수 있으며, 10:90 내지 50:50일 수 있다.
상기 고분자 수지로는 스티렌-부타딘엔 고무, 아크릴레이트 스티렌-부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 고무, 아크릴 고무, 부틸 고무, 불소 고무, 폴리비닐리덴플루오라이드, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌프로필렌 공중합체, 폴리에틸렌옥시드, 폴리비닐피롤리돈, 폴리에피크로로히드린, 폴리포스파젠, 폴리아크릴로니트릴, 폴리스틸렌, 에틸렌프로필렌디엔 공중합체, 폴리비닐피리딘, 클로로설폰화 폴리에틴렌, 라텍스, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 폴리비닐알코올, 하이드록시프로필메틸셀룰로즈, 하이드록시프로필셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 등로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이 사용될 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 전극시트 특별히 한정되지 않으나, 예를 들어 30 ㎛ 미만의 두께를 갖는 집전체와 40 ㎛ 미만의 편측 두께를 갖는 절연층을 포함하는 것일 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 전극시트는 유지부에 활물질이 적층되거나 적층되지 않은 것일 수 있다. 통상적으로 활물질이 적층된 상태로 사용되나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 전극은 양극 또는 음극일 수 있다. 상기 양극 또는 음극에 사용되는 집전체는 구리, 알루미늄, 금, 니켈, 구리 합금 또는 이들의 조합에 의하여 제조되는 호일 등이 사용될 수 있으나, 이들로 한정되는 것은 아니다. 특히 본 발명에서 상기 전극은 양극일 수 있으며, 집전체로는 알루미늄(Al) 호일이 사용될 수 있다.
상기 이차 전지용 전극의 제조방법에서, 전술된 내용을 제외하고는 이 분야에 공지된 방법이 제한 없이 채용될 수 있다.
또한, 본 발명은,
절연층과 집전체가 적층된 상태로 커팅된 레이저 커팅 전극탭을 포함하며,
상기 전극탭의 커팅 단면 두께가 커팅전 두께를 기준으로 1배 내지 1.7배인 이차 전지용 전극에 관한 것이다.
상기 레이저는 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저일 수 있다.
종래의 절연층과 집전체가 적층된 상태로 커팅된 레이저 커팅 전극탭을 포함하는 전극은 절연층이 레이저 파장을 흡수하여 용융되면서 절단되는 특성 때문에, 도 7에 도시된 바와 같이, 절연층의 용융 및 말림 현상으로 인한 절연층 들뜸(또는 벌어짐)이 매우 크게 발생한다. 이러한 전극탭 단면 프로파일은 쇼트 등을 유발하여 전지 불량을 야기한다.
본 발명의 전극은 상기와 같은 문제가 해소되어 절연층 들뜸(또는 벌어짐)이 최소화되는 특징을 갖는다.
상기에서 전극탭의 커팅 단면 두께는 커팅전 두께를 기준으로 1배 내지 1.6배일 수 있다. 또한, 하한값은 1.1배, 1.2배, 1.3배, 1.4배, 또는 1.5배일 수도 있다.
또한, 상기 본 발명의 전극탭의 커팅 단면은 도 8에 도시된 바와 같이 금형 커팅시 필연적으로 발생하는 실오라기 형태의 드로스(dross)도 포함하지 않는 특징을 갖는다.
또한, 본 발명은
절연층과 집전체가 적층된 상태로 커팅된 레이저 커팅 전극탭을 포함하며,
상기 전극탭의 커팅 단면에서 절연층의 선단부를 기준으로 돌출된 집전체의 길이가 20㎛ 미만인 이차 전지용 전극에 관한 것이다.
상기 레이저는 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저일 수 있다.
종래의 절연층과 집전체가 적층된 상태로 커팅된 레이저 커팅 전극탭을 포함하는 전극은 절연층이 레이저 파장을 흡수하여 용융되면서 절단되는 특성 때문에, 도 7에 도시된 바와 같이, 절연층의 용융 및 말림 현상으로 인한 절연층 들뜸(또는 벌어짐)이 매우 크게 발생한다. 또한, 이러한 들뜸 현상의 발생은 집전체의 노출을 야기한다. 상기 노출된 집전체는 쇼트 등을 유발하여 전지 불량을 야기한다.
본 발명의 전극은 상기와 같은 문제가 해소되어 집전체의 노출이 최소화되는 특징을 갖는다.
본 발명에서 상기 돌출된 집전체의 길이는 상한값이 18㎛ 미만, 16㎛ 미만일 수 있다. 또한, 하한값은 O, 1 ㎛, 3 ㎛, 5 ㎛, 10 ㎛, 12 ㎛, 15 ㎛일 수 있다.
또한, 상기 본 발명의 전극탭의 커팅 단면은 도 8에 도시된 바와 같이 금형 커팅시 필연적으로 발생하는 실오라기 형태의 드로스(dross)도 포함하지 않는 특징을 갖는다.
또한, 본 발명은
도 6에 도시된 바와 같이, 유지부와 무지부로 구획된 집전체를 포함하며, 상기 무지부(12)에 절연층(11)이 적층된 전극시트(10)를 공급하는 전극시트 공급 장치(200);
상기 절연층(11)이 적층된 무지부를 노칭하여 전극탭을 형성하는 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저 빔 조사 장치(300); 및
상기 전극시트에 대한 레이저 빔 조사부를 하부면에서 지지하는 지그(400);를 포함하는 전극 제조 시스템에 관한 것이다.
본 발명의 시스템에는 상기에서 전술된 전극의 제조 방법과 관련된 내용이 모두 적용될 수 있다. 그러므로, 이하에서 중복되는 내용에 대한 설명은 생략한다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 전극시트 공급 장치(200)는 롤투롤(Roll-to-Roll) 장치일 수 있다. 이때, 롤투롤 장치는 도 8에 도시된 형태일 수 있으며, 도 8에 도시되지 않은 구성으로서, 양쪽에 언와인딩롤 및 리와인딩롤을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 레이저 빔 조사 장치(300)는 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저 빔을 조사하는 장치인 것을 제외하고는 시중에서 구입할 수 있는 일반적인 레이저 장치와 동일한 구성을 가질 수 있다.
예를 들어, 상기 레이저 빔 조사 장치(300)은 레이저 소스 생성기, 디리버리 미러(delivery mirror), 레이저 빔 폭 조절기, 및 스캐너 유닛 등을 포함하여 구성될 수 있으며, 상기 스캐너는 갈바노 미러, 세타렌즈(예, 에프세타렌즈) 등을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 지그(400)는 전극시트에 대한 레이저 빔 조사부를 하부면에서 지지할 수 있는 형태라면, 그 구조가 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어 도 8에 도시된 바와 같이, 다수개로 구성된 전극시트 받침부(410)가 회전하면서 전극시트를 지지하도록 설계된 장치도 사용될 수 있다.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나 본 발명에 따른 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있 으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예에 한정되는 것으로 해석되어서는 아니 된다. 본 발명의 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.
실시예 1 내지 3 : 이차 전지용 전극의 제조
두께가 15㎛인 알루미늄 호일 집전체의 양면 유지부에 양극활물질이 적층되고, 무지부의 양면에 각각 절연층(15㎛)이 적층된 전극시트를 준비하였다. 상기 절연층은 보헤마이트와 SBS가 6:4의 중량비로 혼합된 조성으로 적층되었다.
상기 전극시트의 절열층이 적층된 무지부를 피코초 펄스폭을 갖는 레이저 장치를 사용하여 하기 표 1의 조건으로 노칭 공정을 수행하여 전극탭을 형성하였다.
상기 전극탭의 절단부를 촬영하여 하기 표 1에 나타내었다.
Figure PCTKR2022016216-appb-img-000001
상기 표 1의 도면에서 검정색 부분은 광학 현미경 촬영시의 배경이며, 상기 검정색 부분의 경계선이 절연층과 집전체가 적층된 전극탭의 절단부이다. 상기 도면은 평면도에 해당하는 이미지이므로, 상기 전극탭 중의 상부 절연층이 나타나 있으며, 상기 절연층 아래에 위치하는 집전체는 절단부로 노출 또는 돌출되지 않은 상태이므로 상기 이미지에서 보이지 않는다. 상기 표 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 피코초 레이저로 제조된 전극은 절연층과 집전체가 적층된 전극탭의 절단 프로파일이 매우 우수하며, 절연층 재융착에 의한 문제및 절연층 용융에 의한 집전체 노출 문제가 전혀 발생하지 않은 것으로 확인되었다.
비교예 1 내지 4 : 이차 전지용 전극의 제조
나노초 펄스폭을 갖는 레이저를 사용하여 하기 표 2의 조건으로 전극탭 노칭을 실시한 것을 제외하고는 상기 실시예와 동일한 방법으로 노칭 공정을 수행하여 전극탭을 제조하였다. 상기 전극탭의 절단부를 촬영하여 하기 표 2에 나타내었다.
Figure PCTKR2022016216-appb-img-000002
상기 표 2의 도면은 나노초 레이저 절단후, 절단부가 완전히 절단되지 않거나 재융착되어 제거부를 제거하지 못한 상태에서 촬영을 진행하여 얻은 광학 현미경 사진이다. 상기 이미지는 평면도에 해당하는 이미지이므로, 절연층과 집전체가 적층된 전극탭 중의 상부 절연층 및 절단부가 주로 나타나 있으며, 비교예 1 및 2에서는 절연층의 용융에 의해 집전체가 일부 노출된 것(중심부의 반짝거리는 부분)이 확인된다.
상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 나노초 레이저로 노칭된 양극탭의 경우, 다양한 불량형태를 나타내었다. 구체적으로,
비교예 1의 경우, 커팅 후 절연층의 재융착이 전면적으로 발생된 것으로 확인되며, 절연층의 용융에 의해 집전체가 일부 노출된 것으로 확인된다.
비교예 2의 경우, 커팅 후 절연층의 재융착이 부분적으로 발생된 것으로 확인되며, 가운데 흰색 부분은 커팅 시 절연체가 용융된 후 다시 융착되어 굳어지면서 미커팅이 발생된 부분으로 확인된다. 또한, 절연층의 용융에 의해 집전체가 일부 노출(반짝 거리는 부분)된 것으로 확인된다.
비교예 3의 경우, 노칭에 의해 절연체가 용융된 후 재융착된 것이 확인되며, 집전체는 커팅되지 않은 것으로 확인된다.
비교예 4의 경우, 커팅이 정상적으로 이루어진 것으로 확인되나, 절연층의 프로파일이 울퉁불퉁하게 형성된 것으로 확인된다.
비교예 5 내지 7 : 이차 전지용 전극의 제조
두께가 15㎛인 알루미늄 호일 집전체의 양면 유지부에 양극활물질이 적층되고, 무지부의 양면에 각각 절연층(15㎛)이 적층된 전극시트를 준비하였다. 상기 절연층은 보헤마이트와 SBS가 5:5의 중량비로 혼합된 조성으로 적층되었다.
상기 전극시트의 절열층이 적층된 무지부를 나노초 펄스폭을 갖는 레이저 장치를 사용하여 하기 표 3의 조건으로 노칭 공정을 수행하여 전극탭을 형성하였다.
상기 전극탭의 절단부를 촬영하여 하기 표 3에 나타내었다.
Figure PCTKR2022016216-appb-img-000003
상기 표 3에서 평면 사진(라운드부 및 직선부) 중 위쪽에 검정색으로 나타난 부분은 광학 현미경 촬영시의 배경이며, 아래쪽 부분이 절연층과 집전체가 적층된 전극탭의 상부 절연층 부분이며, 상기 검정색 부분의 경계선이 상기 전극탭의 절단부이다.
또한, 단면 사진 중 중심부의 샌드위치 형상이 절연층과 집전체가 적층된 전극탭의 절단면이며, 나머지 부분은 광학 현미경 촬영시의 배경부이다.
상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 나노초 레이저로 노칭된 양극탭의 경우, 다양한 불량형태를 나타내었다. 구체적으로,
비교예 5의 경우, 커팅 단부가 울퉁불퉁하고, 집전체가 외부로 돌출되어 있으며(배경과 인접한 밝은색 부분), 단면 사진에서 절단면 두께는 약 200㎛로 커팅전의 두께(45㎛)와 비교하여 두께가 매우 두꺼워진 것을 확인할 수 있다. 상기 두께가 두꺼워진 이유는 나노초 레이저 조사시 절연층이 열을 흡수하여 녹으면서 집전체로부터 분리되어 바깥쪽으로 말리는 현상(도 7 참조)이 발생했기 때문이다. 이렇게 노출된 집전체는 쇼트 및 저전압 등의 전지 품질의 안정성을 저하시킬 수 있다.
비교예 6 및 7의 경우도, 상기 도 5와 유사한 형태를 나타내며, 단면 사진에서 단면 두께도 약 200㎛로 절단전의 두께(45㎛)와 비교하여 두께가 매우 두꺼워진 것을 확인할 수 있었다.
실시예 4 및 비교예 8 : 이차 전지용 전극의 제조
두께가 15㎛인 알루미늄 호일 집전체의 양면 유지부에 양극활물질이 적층되고, 무지부의 양면에 각각 절연층(15㎛)이 적층된 전극시트를 준비하였다. 상기 절연층은 보헤마이트와 PVDF가 88:12의 중량비로 혼합된 조성으로 적층되었다.
상기 전극시트의 절열층이 적층된 무지부를 피코초 펄스폭을 갖는 레이저 장치(실시예 4) 또는 피코초 펄스폭을 갖는 레이저 장치(비교예 8)을 사용하여 하기 표 4의 조건으로 노칭 공정을 수행하여 양극탭을 형성하였다.
상기 양극탭의 절단부를 촬영하여 하기 표 4에 나타내었다.
Figure PCTKR2022016216-appb-img-000004
상기 표 4에서 평면 사진(라운드부 및 직선부) 중 위쪽에 검정색으로 나타난 부분은 광학 현미경 촬영시의 배경이며, 아래쪽 부분이 절연층과 집전체가 적층된 전극탭의 상부 절연층 부분이며, 상기 검정색 부분의 경계선이 상기 전극탭의 절단부이다.
또한, 단면 사진 중 중심부의 샌드위치 형상이 절연층과 집전체가 적층된 전극탭의 절단면이며, 나머지 부분은 광학 현미경 촬영시의 배경부이다.
상기 표 4에 도시된 바와 같이, 실시예 4의 피코초 레이저로 노칭된 절연층과 집전체가 적층된 전극탭은 절단 프로파일이 매우 우수하며, 절연층 재융착에 의한 문제가 전혀 발생하지 않은 것으로 확인되었다. 또한, 절연층 용융에 의한 집전체 노출도 0(라운드부) 및 15.83㎛(직선부)로 최소화된 것으로 확인되었다.
또한, 단면 사진에서 절단면 두께는 69.25㎛로 절단전의 두께(45㎛)와 비교하여 두께 증가가 최소화된 것을 확인할 수 있었다.
또한, 상기 실시예 4의 실험결과로부터 피코초 레이저를 사용하는 경우, 전극탭의 열손상이 적어 커팅속도를 1000 mm/s 이상으로 높이는 것이 가능한 것을 확인하였다. 즉, 본 발명에서 커팅속도는 500 mm/s 내지 1,500 mm/s로 실시하는 것이 가능하다. 반면, 비교예 8에서처럼 나노초 레이저를 사용하는 경우, 커팅속도를 400 mm/s를 초과하여 높이는 경우, 전극탭의 열손상이 현저히 증가하여 품질이 크게 저하되였다.
반면, 비교예 8의 나노초 레이저로 노칭된 절연층과 집전체가 적층된 전극탭은 절단 프로파일이 울퉁불퉁하며, 절연층 용융에 의한 집전체 노출도 49.68㎛(라운드부) 및 23.02㎛(직선부) 크게 형성된 것으로 확인되었다.
또한, 단면 사진에서 절단면 두께는 82.71㎛로 절단전의 두께(45㎛)와 비교하여 두께 증가가 현저하게 증가된 것을 확인할 수 있다. 상기 두께가 두꺼워진 이유는 나노초 레이저 조사시 절연층이 열을 흡수하여 녹으면서 집전체로부터 분리되어 바깥쪽으로 말리는 현상(도 7 참조)이 발생했기 때문이다. 쇼트 및 저전압 등의 전지 품질의 안정성을 저하시킬 수 있다.
실시예 5 : 이차 전지용 전극의 제조
두께가 15㎛인 알루미늄 호일 집전체의 양면 유지부에 양극활물질이 적층되고, 무지부의 양면에 각각 절연층(15㎛)이 적층된 전극시트를 준비하였다. 상기 절연층은 보헤마이트와 SBS가 6:4의 중량비로 혼합된 조성으로 적층되었다.
상기 전극시트의 절열층이 적층된 무지부를 피코초 펄스폭을 갖는 레이저 장치를 사용하여 하기 표 5의 조건으로 노칭 공정을 수행하여 전극탭을 형성하였다.
상기 전극탭의 절단부를 촬영하여 하기 표 5에 나타내었다.
Figure PCTKR2022016216-appb-img-000005
상기 표 5에서 평면 사진(라운드부 및 직선부) 중 위쪽에 검정색으로 나타난 부분은 광학 현미경 촬영시의 배경이며, 아래쪽 부분이 절연층과 집전체가 적층된 전극탭의 상부 절연층 부분이며, 상기 검정색 부분의 경계선이 상기 전극탭의 절단부이다.
또한, 단면 사진 중 중심부의 샌드위치 형상이 절연층과 집전체가 적층된 전극탭의 절단면이며, 나머지 부분은 광학 현미경 촬영시의 배경부이다.
상기 표 5에 도시된 바와 같이, 실시예 5의 피코초 레이저로 노칭된 절연층과 집전체가 적층된 전극탭은 절단 프로파일이 매우 우수하며, 절연층 재융착에 의한 문제가 전혀 발생하지 않은 것으로 확인되었다. 또한, 절연층 용융에 의한 집전체 노출도 0(라운드부) 및 0(직선부)으로 최소화된 것으로 확인되었다.
또한, 단면 사진에서 절단면 두께는 71.00㎛로 절단전의 두께(45㎛)와 비교하여 두께 증가가 최소화된 것을 확인할 수 있었다.
비록 본 발명이 상기 언급된 바람직한 실시예와 관련되어 설명되었지만, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하다. 따라서, 첨부된 특허청구범위는 본 발명의 요지에 속하는 한 이러한 수정이나 변형을 포함할 것이다.
[부호의 설명]
10: 전극시트 11: 절연층,
12: 무지부
110: 양극 집전체 112: 양극탭
115: 절연층 120: 음극 집전체
122: 음극 집전체 130: 분리막
200: 전극시트 공급 장치 210: 지지 롤러
300: 레이저 빔 조사 장치 400: 지그
410: 전극시트 받침부 420: 모터

Claims (15)

  1. (a) 유지부와 무지부로 구획된 집전체를 포함하며, 상기 무지부에 절연층이 적층된 전극시트를 준비하는 단계; 및
    (b) 상기 절연층이 적층된 무지부를 노칭하여 전극탭을 형성하는 단계;를 포함하며,
    상기 노칭은 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저를 사용하여 수행하는 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 레이저는 평균출력 에너지가 평균주행속도 100 mm/s 내지 2,000 mm/s 기준 10W 내지 200W인 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 노칭 시 주행 평균주행속도는 100 mm/s 내지 2,000 mm/s인 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 절연층은 고분자 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극의 제조방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 고분자 수지는 스티렌-부타딘엔 고무, 아크릴레이트 스티렌-부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 고무, 아크릴 고무, 부틸 고무, 불소 고무, 폴리비닐리덴플루오라이드, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌프로필렌 공중합체, 폴리에틸렌옥시드, 폴리비닐피롤리돈, 폴리에피크로로히드린, 폴리포스파젠, 폴리아크릴로니트릴, 폴리스틸렌, 에틸렌프로필렌디엔 공중합체, 폴리비닐피리딘, 클로로설폰화 폴리에틴렌, 라텍스, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 페놀 수지, 에폭시 수지, 폴리비닐알코올, 하이드록시프로필메틸셀룰로즈, 하이드록시프로필셀룰로오스, 및 디아세틸셀룰로오스로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 전극시트는 유지부에 활물질이 적층된 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극의 제조방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 전극은 양극 또는 음극인 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극의 제조방법.
  8. 절연층과 집전체가 적층된 상태로 커팅된 레이저 커팅 전극탭을 포함하며,
    상기 전극탭의 커팅 단면 두께가 커팅전 두께를 기준으로 1배 내지 1.7배인 이차 전지용 전극.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 레이저는 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저인 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 전극탭의 커팅 단면은 금형 커팅시 발생하는 실오라기 형태의 드로스(dross)를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극.
  11. 절연층과 집전체가 적층된 상태로 커팅된 레이저 커팅 전극탭을 포함하며,
    상기 전극탭의 커팅 단면에서 절연층의 선단부를 기준으로 돌출된 집전체의 길이가 20㎛ 미만인 이차 전지용 전극.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 레이저는 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저인 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 전극탭의 커팅 단면은 금형 커팅시 발생하는 실오라기 형태의 드로스(dross)를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 이차 전지용 전극.
  14. 유지부와 무지부로 구획된 집전체를 포함하며, 상기 무지부에 절연층이 적층된 전극시트를 공급하는 전극시트 공급 장치;
    상기 절연층이 적층된 무지부를 노칭하여 전극탭을 형성하는 펄스폭이 100 ps 내지 10-6 ps인 레이저 빔 조사 장치; 및
    상기 전극시트에 대한 레이저 빔 조사부를 하부면에서 지지하는 지그;를 포함하는 전극 제조 시스템.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 전극시트 공급 장치는 롤투롤(Roll-to-Roll) 장치인 것을 특징으로 하는 전극 제조 시스템.
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