WO2023135904A1 - 基板処理装置管理システム、基板処理装置管理方法および基板処理装置管理プログラム - Google Patents

基板処理装置管理システム、基板処理装置管理方法および基板処理装置管理プログラム Download PDF

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高明 生和
大 稲木
智宏 上野
佑太 中野
滉樹 吉原
拓也 大野
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Definitions

  • the present invention relates to a substrate processing apparatus management system, a substrate processing apparatus management method, and a substrate processing apparatus management program used for managing a plurality of substrate processing apparatuses.
  • FPD Fluorescence Plate
  • substrate processing apparatuses are used to perform various types of processing on various types of substrates such as substrates for solar cells.
  • substrates are subjected to a series of processes according to, for example, a predetermined processing procedure (recipe). 2.
  • a data processing system for determining an abnormality in a substrate processing apparatus has been proposed in order to prevent the occurrence of defective substrate processing caused by an abnormality in the substrate processing apparatus (see, for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-100001).
  • multiple physical quantities relating to the substrate processing apparatus are measured during substrate processing, and multiple time series data are generated by arranging the measurement results in time series.
  • the plurality of time-series data includes, for example, physical quantity data such as the flow rate of the processing liquid discharged from the nozzles and the pressure inside the chamber.
  • An evaluation value is calculated by comparing each piece of time-series data with predetermined reference data. Whether or not there is an abnormality in the time-series data is determined based on the calculated evaluation value.
  • multiple substrate processing apparatuses are installed in multiple locations around the world.
  • Maintenance work for each substrate processing apparatus is performed by a local maintenance worker in charge of the substrate processing apparatus.
  • a maintenance worker can grasp whether or not an abnormality has occurred in the substrate processing apparatus based on the result of abnormality determination by the data processing system.
  • the maintenance worker When an abnormality occurs in a substrate processing apparatus, maintenance workers may not be able to identify the cause of the abnormality.
  • the maintenance worker requests a manager who manages a plurality of substrate processing apparatuses to conduct a detailed investigation of the substrate processing apparatus under his/her charge.
  • the administrator Upon receiving the investigation request, the administrator conducts various investigations on the substrate processing apparatus to be investigated.
  • the manager gives specific work instructions based on the results of the investigation to the maintenance worker who requested the investigation.
  • the manager determines the order of priority of investigation for a plurality of substrate processing apparatuses.
  • This primary research includes, for example, analysis of past time-series data and interviews with maintenance workers.
  • the primary survey is complicated. Therefore, after receiving a plurality of investigation requests, the administrator needs a long time to start the actual investigation for each investigation request.
  • An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus management method and a substrate processing apparatus management program.
  • a substrate processing apparatus management system is a substrate processing apparatus management system used for managing a plurality of substrate processing apparatuses, wherein each substrate processing apparatus performs an operation or operation related to processing of a substrate.
  • an information collecting unit that collects a plurality of pieces of processing information indicating the state of each substrate processing apparatus; a score calculation unit that calculates the degree of abnormality of the processing apparatus as an abnormality score; a request reception unit that receives an investigation request regarding abnormality from each substrate processing apparatus; a score acquisition unit that acquires the calculated two or more abnormality scores; and priority order information regarding priority to respond to the two or more investigation requests based on the two or more abnormality scores acquired by the score acquisition unit. and a priority order presenting unit for presenting.
  • the degree of abnormality of the substrate processing apparatus is calculated as an abnormality score for each of the plurality of substrate processing apparatuses.
  • priority information based on the abnormality scores of the two or more substrate processing apparatuses requested for investigation is presented.
  • An anomaly score is calculated based on an invariant relationship between multiple pieces of processing information. Therefore, the manager of a plurality of substrate processing apparatuses can easily and appropriately grasp the order of priority of investigation in a short time for a plurality of substrate processing apparatuses for which an investigation request has been made.
  • the priority information includes two or more abnormality scores acquired by the score acquisition unit, and the priority presentation unit transmits the two or more abnormality scores acquired by the score acquisition unit to the two or more substrate processing apparatuses. They may be presented in association with each other. In this case, the managers of the plurality of substrate processing apparatuses can easily grasp the degree of abnormality of the two or more substrate processing apparatuses requested for investigation based on the presented abnormality scores.
  • the substrate processing apparatus management system may further include a score transmission section that transmits the abnormality score calculated by the score calculation section to the substrate processing apparatus corresponding to the abnormality score.
  • the abnormality score can be stored in each substrate processing apparatus. Thereby, in each substrate processing apparatus, it becomes possible to analyze anomalies based on the anomaly scores.
  • the substrate processing apparatus management system determines whether or not the abnormality score calculated for each substrate processing apparatus exceeds a predetermined threshold.
  • An alarm transmission unit that transmits an alarm to the substrate processing apparatus corresponding to the score may be further provided. In this case, in each substrate processing apparatus, it is possible to easily grasp the occurrence of an abnormality exceeding a predetermined degree.
  • the information collecting unit repeats integration and resetting of a plurality of pieces of processing information collected each time a certain period of time elapses, and the score calculating unit calculates an invariant relationship between the pieces of processing information for each substrate processing apparatus. and a plurality of pieces of processing information generated by the substrate processing apparatus and accumulated by the information collecting unit, the degree of abnormality of the substrate processing apparatus may be calculated as an abnormality score. In this case, it is possible to reduce the influence of noise or the like that occurs when each piece of processing information is collected on the abnormality score.
  • a plurality of combinations of two pieces of processing information that are different from each other are determined, each combination including first processing information and second processing information, and the score calculation unit, for each combination, Based on second processing information collected under predetermined conditions, first processing information predicted under predetermined conditions is generated as first prediction processing information, and the generated first processing information The degree of divergence between the predicted processing information and the first processing information actually collected by the data collection unit is calculated as a first degree of divergence, and the first processing collected under predetermined conditions for each combination Based on the information, the second processing information predicted under a predetermined condition is generated as the second prediction processing information, and the generated second prediction processing information and the information actually collected by the data collection unit are combined.
  • the score calculation unit may calculate, as the abnormality score, the sum of the plurality of first degrees of deviation and the plurality of second degrees of deviation calculated for each of the plurality of combinations. In this case, the degree of abnormality of each substrate processing apparatus can be easily calculated.
  • Each of the plurality of combinations is assigned a predetermined weight according to the relationship between the combination and the plurality of types of abnormal states of the substrate processing apparatus, and the score calculation unit calculates the plurality of combinations and the plurality of A plurality of first degrees of deviation and a plurality of second degrees of deviation may be calculated based on the weight.
  • the plurality of pieces of processing information include the amount of fluid supplied to the substrate, the temperature of the fluid supplied to the substrate, the concentration of the processing liquid supplied to the substrate, the temperature in the processing chamber in which the substrate is accommodated, and the temperature of the substrate. It may include at least one physical quantity selected from the pressure in the processing chamber containing the substrate, the pressure of the gas discharged from the processing chamber containing the substrate, and the moving speed of the substrate transported by the robot. In this case, the abnormality score is calculated based on one or more physical quantities acquired in the substrate processing apparatus.
  • the plurality of pieces of processing information are information relating to at least one of a drive pulse signal for driving the robot that transports the substrate, an output signal from a detector provided in the robot that transports the substrate, and an opening/closing signal that is given to the control valve.
  • the abnormality score is calculated based on one or more signals used in the substrate processing apparatus.
  • Each substrate processing apparatus is a substrate cleaning apparatus that cleans a substrate using a cleaning liquid
  • the plurality of processing information includes the amount of cleaning liquid supplied to the substrate, the temperature of the cleaning liquid supplied to the substrate, and the temperature of the cleaning liquid supplied to the substrate. It may include at least one of the concentration of the cleaning liquid supplied. In this case, when a plurality of investigation requests are received for a plurality of substrate cleaning apparatuses, the order of priority of investigation is appropriately determined.
  • a substrate processing apparatus management method is a substrate processing apparatus management method used to manage a plurality of substrate processing apparatuses, wherein each substrate processing apparatus performs an operation related to substrate processing. or a step of collecting a plurality of processing information indicating a state; and for each substrate processing apparatus, the substrate processing based on an invariant relationship between the plurality of processing information and the plurality of processing information collected from the substrate processing apparatus. a step of calculating the degree of abnormality of the apparatus as an abnormality score; a step of receiving an abnormality investigation request from each substrate processing apparatus; and presenting priority information regarding the priority of responding to the two or more investigation requests based on the two or more anomaly scores obtained by the obtaining step.
  • the degree of abnormality of the substrate processing apparatus is calculated as an abnormality score for each of the plurality of substrate processing apparatuses.
  • priority information based on the abnormality scores of the two or more substrate processing apparatuses requested for investigation is presented.
  • An anomaly score is calculated based on an invariant relationship between multiple pieces of processing information. Therefore, the manager of a plurality of substrate processing apparatuses can easily and appropriately grasp the order of priority of investigation in a short time for a plurality of substrate processing apparatuses for which an investigation request has been made.
  • a substrate processing apparatus management program is a substrate processing apparatus management program that causes a computer to execute processing for managing a plurality of substrate processing apparatuses using an information analysis apparatus, the information analysis apparatus comprising: comprises an information collecting unit for collecting a plurality of pieces of processing information indicating operations or states related to substrate processing from each substrate processing apparatus; and a score calculation unit for calculating the degree of abnormality of the substrate processing apparatus as an abnormality score based on the plurality of processing information collected from the apparatus, wherein the processing for managing the plurality of substrate processing apparatuses is performed from each substrate processing apparatus.
  • a process of accepting an investigation request regarding an abnormality a process of acquiring two or more anomaly scores calculated for two or more substrate processing apparatuses that have sent an investigation request, and a process of acquiring two or more anomaly scores based on the acquisition process. and a process of presenting priority order information relating to the order of priority to respond to two or more survey requests.
  • the substrate processing apparatus management program when two or more investigation requests are made for two or more substrate processing apparatuses, priority information based on the abnormality scores of the two or more substrate processing apparatuses requested for investigation is presented. be. An anomaly score is calculated based on an invariant relationship between multiple pieces of processing information. Therefore, the manager of a plurality of substrate processing apparatuses can easily and appropriately grasp the order of priority of investigation in a short time for a plurality of substrate processing apparatuses for which an investigation request has been made.
  • the administrator when a plurality of investigation requests are made for a plurality of substrate processing apparatuses, the administrator can easily and appropriately grasp the order of priority of investigation in a short time.
  • FIG. 1 is a diagram for explaining the configuration of a substrate processing apparatus management system according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a block diagram for explaining the functional configuration of the substrate processing apparatus management system according to the first embodiment.
  • FIG. 3 is a diagram for explaining a specific calculation example of the degree of divergence.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining a specific calculation example of an abnormality score.
  • FIG. 5 is a flow chart showing an example of processing executed in each of the plurality of substrate processing apparatuses of FIG.
  • FIG. 6 is a flow chart showing an example of processing executed in the information analysis apparatus of FIG.
  • FIG. 7 is a flow chart showing an example of processing executed by the management apparatus of FIG.
  • FIG. 8 is a diagram for explaining the functional configuration of a substrate processing apparatus management system according to the second embodiment.
  • 9 is a diagram showing an example of a plurality of weights stored in the weight storage unit of FIG. 8.
  • the substrate means a semiconductor substrate, a substrate for FPD (Flat Panel Display) such as a liquid crystal display device or an organic EL (Electro Luminescence) display device, an optical disk substrate, a magnetic disk substrate, a magneto-optical disk substrate, A photomask substrate, a ceramic substrate, a solar cell substrate, or the like.
  • FPD Fluorescence Panel Display
  • OLED Electro Luminescence
  • FIG. 1 is a diagram for explaining the configuration of a substrate processing apparatus management system according to the first embodiment.
  • a substrate processing apparatus management system 2 according to the present embodiment is mainly composed of an information analysis apparatus 3 and a management apparatus 4, and manages a plurality of (five in this example) substrate processing apparatuses 1. used for In the following description, when distinguishing the five substrate processing apparatuses 1 shown in FIG. 1, the five substrate processing apparatuses 1 are called substrate processing apparatuses 1A, 1B, 1C, 1D, and 1E, respectively. In this embodiment, substrate processing apparatuses 1A to 1E have the same configuration.
  • the substrate processing apparatus 1A is a so-called batch-type substrate cleaning apparatus, and includes a processing tank 11, a substrate holding section 12, an elevating apparatus 13, and a cleaning liquid generating apparatus. 14, densitometer 20, transfer robot 30 and controller 40.
  • the substrate processing apparatus 1A is provided with a display device, an audio output device, and an operation section (not shown) in addition to the plurality of components described above.
  • the substrate holding part 12 is configured to be able to hold a plurality of substrates W.
  • the processing bath 11 is configured to accommodate a plurality of substrates W held by the substrate holding part 12 .
  • a cleaning liquid for cleaning the substrates W is stored in the processing bath 11 .
  • the lifting device 13 supports the substrate holding portion 12 so as to be vertically movable, and moves the substrate holding portion 12 vertically under the control of the control device 40 .
  • the lifting device 13 immerses the plurality of substrates W held by the substrate holder 12 in the cleaning liquid stored in the processing tank 11 and pulls up the plurality of substrates W immersed in the cleaning liquid from the processing tank 11. be able to.
  • a plurality of substrates W are cleaned by being immersed in the cleaning liquid.
  • the lifting device 13 is provided with a motor (not shown) as a power source for vertically moving the substrate holder 12 .
  • the cleaning liquid generation device 14 includes a storage tank 14a and a stirring device (a bubbling device, etc.) (not shown).
  • a chemical solution supply pipe 91, a pure water supply pipe 92, an additional chemical solution supply pipe 93 and a drain pipe 94 are connected to the storage tank 14a.
  • Each of the plurality of pipes (91-94) is provided with a valve.
  • Each valve is a control valve whose opening degree can be adjusted under the control of the control device 40 .
  • the chemical solution supply pipe 91 guides the chemical solution supplied from the chemical solution supply system (not shown) to the storage tank 14a by opening the valve provided in the chemical solution supply pipe 91 .
  • the flow rate (supply amount per unit time) of the chemical solution supplied to the storage tank 14 a through the chemical solution supply pipe 91 changes according to the opening degree of the valve provided on the chemical solution supply pipe 91 .
  • the pure water supply pipe 92 guides pure water supplied from a pure water supply system (not shown) to the storage tank 14a by opening a valve provided in the pure water supply pipe 92 .
  • the flow rate (supply amount per unit time) of pure water supplied to the storage tank 14 a through the pure water supply pipe 92 changes according to the opening of the valve provided in the pure water supply pipe 92 .
  • FIG. BHF buffered hydrofluoric acid
  • DHF dilute hydrofluoric acid
  • hydrofluoric acid hydrochloric acid
  • sulfuric acid nitric acid
  • phosphoric acid acetic acid
  • oxalic acid ammonia, or the like
  • the additional chemical supply pipe 93 guides the chemical supplied from the chemical supply system (not shown) to the storage tank 14a by opening the valve provided in the chemical supply pipe 91 .
  • the supply of the chemical solution to the storage tank 14a through the additional chemical solution supply pipe 93 will be described later.
  • the liquid drain pipe 94 discharges part or all of the cleaning liquid stored in the cleaning liquid generating device 14 to the outside of the substrate processing apparatus 1A by opening a valve provided in the liquid drain pipe 94 .
  • a liquid supply pipe 15 is further connected to the storage tank 14a.
  • the liquid supply pipe 15 is provided so as to connect the processing tank 11 and the cleaning liquid generator 14 .
  • a pump 16 and a valve 17 are also provided in the liquid supply pipe 15 .
  • the valve 17 is a control valve whose opening can be adjusted under the control of the control device 40 . By opening the valve 17 while the pump 16 is in operation, the cleaning liquid stored in the storage tank 14 a is supplied into the processing bath 11 .
  • the flow rate (supply amount per unit time) of the cleaning liquid supplied from the storage tank 14 a to the processing bath 11 changes according to the opening degree of the valve 17 .
  • a liquid discharge pipe 18 is connected to the bottom of the processing tank 11 .
  • a valve 19 is provided in the liquid discharge pipe 18 .
  • the valve 19 is a control valve whose opening degree can be adjusted under the control of the control device 40 .
  • By opening the valve 19 part of the cleaning liquid stored in the processing bath 11 is discharged from the substrate processing apparatus 1A through the liquid discharge pipe 18.
  • FIG. The flow rate (amount of discharge per unit time) of the cleaning liquid discharged from the processing bath 11 changes according to the degree of opening of the valve 19 .
  • the cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid generator 14 to the processing tank 11 and the cleaning liquid inside the processing tank 11 is discharged through the liquid discharge pipe 18 .
  • the densitometer 20 detects the chemical solution concentration in the cleaning liquid stored in the storage tank 14 a in response to a command from the control device 40 and gives the detection result to the control device 40 .
  • the transport robot 30 transports a plurality of substrates W held by the substrate holding part 12 at a position above the processing bath 11 .
  • the control device 40 is composed of, for example, a CPU (Central Processing Unit) and memory, and controls the operation of the lifting device 13, the operation of the transfer robot 30, the opening degrees of the valves 17 and 19, and the like.
  • the memory of the control device 40 stores a first management program, which will be described later.
  • the control device 40 supplies the cleaning liquid to the storage tank 14a so that the concentration of the cleaning liquid stored in the storage tank 14a is within a predetermined range. Feedback control of the amount of chemical solution applied. For example, when the chemical solution concentration of the cleaning solution detected by the concentration meter 20 is lower than a predetermined range, the controller 40 supplies additional chemical solution to the cleaning solution generating device 14 through the additional chemical solution supply pipe 93 from a chemical solution supply system (not shown). supply.
  • control device 40 controls the substrate when a person enters a predetermined space inside the substrate processing apparatus 1A or when a predetermined detector (for example, the densitometer 20) provided in the substrate processing apparatus 1A does not function. It has an emergency stop function for stopping the operation of the processing device 1A.
  • a predetermined detector for example, the densitometer 20
  • Each substrate processing apparatus 1 is provided with a plurality of pieces of processing information indicating the operation or state of processing of substrates W in the substrate processing apparatus 1 as information for managing abnormalities in the substrate processing apparatus 1. . These pieces of processing information are transmitted from the controller 40 of each substrate processing apparatus 1 to the information analysis apparatus 3 of the substrate processing apparatus management system 2 at predetermined intervals, as indicated by the thick solid line arrows in FIG.
  • the processing information transmitted from the substrate processing apparatus 1A to the information analysis apparatus 3 includes "a. chemical solution concentration”, “b. chemical solution supply amount”, and “c. concentration detection input signal”. , “d. Concentration detection output signal”, “e. Motor rotation speed”, “f. including “exhaust valve opening”.
  • Chemical concentration indicates the chemical concentration of the cleaning liquid in the storage tank 14a detected by the densitometer 20.
  • Chemical solution supply amount indicates the flow rate (supply amount per unit time) of the cleaning solution supplied from the chemical solution supply pipe 91 to the storage tank of the cleaning solution generating device 14 .
  • Chemical solution supply amount can be detected by, for example, providing a flow meter in the chemical solution supply pipe 91 .
  • the chemical concentration of the cleaning liquid is detected by commanding the densitometer 20 from the control device 40 to detect the concentration.
  • “c. Density detection input signal” is a command signal for density detection given from the controller 40 to the densitometer 20 .
  • “d. Concentration detection output signal” is a signal indicating the detection result of the chemical solution concentration output from the densitometer 20 in response to a command from the control device 40 .
  • Motor rotation speed is the rotation speed of the motor provided in the lifting device 13, and can be calculated by detecting the rotation speed of the motor using, for example, a rotation speed sensor.
  • Power supplied to motor is the amount of power supplied to the motor provided in the lifting device 13, and can be calculated by detecting the current supplied to the motor using an ammeter, for example.
  • g. Additional amount of chemical solution is the amount of the chemical solution additionally supplied from the additional chemical solution supply pipe 93 to the storage tank 14a so that the concentration of the cleaning solution in the cleaning solution stored in the storage tank 14a is within a predetermined range. Indicates the supply amount per unit time. “g. Added amount of chemical solution” can be detected by, for example, providing a flow meter in the additional chemical solution supply pipe 93 . “h. chemical supply valve opening” indicates the opening of the valve provided in the chemical supply pipe 91 . “i. Opening of cleaning liquid drain valve” indicates the opening of the valve provided in the drain pipe 94 .
  • the information analysis apparatus 3 is, for example, a server, and includes a CPU and a memory.
  • the information analysis device 3 collects a plurality of processing information transmitted from each substrate processing device 1 .
  • a plurality of combinations of two mutually different processing information are predetermined for a plurality of processing information transmitted from each substrate processing device 1 to the information analysis device 3 .
  • the substrate processing apparatus 1 ideally operates according to a predetermined processing procedure (recipe).
  • a predetermined invariant (invariant) relationship (hereinafter referred to as an invariant relationship) is maintained between the two pieces of processing information forming each combination.
  • the information analysis device 3 calculates the degree of divergence between a plurality of combinations of actually collected processing information and a plurality of invariant relations predetermined for the plurality of processing information. Calculate as degrees. Further, the information analysis device 3 calculates the degree of abnormality of the substrate processing apparatus 1 as an abnormality score based on the plurality of degrees of divergence that have been calculated. A specific example of the method of calculating the anomaly score will be described later.
  • the information analysis device 3 transmits the calculated abnormality score to each substrate processing device 1, as indicated by the thick dashed-dotted arrow in FIG. Transmission of the anomaly score is performed each time an anomaly score is calculated by the information analysis device 3 . At this time, each substrate processing apparatus 1 stores the abnormality score transmitted from the information analysis apparatus 3 .
  • the information analysis device 3 also determines whether or not the abnormality score exceeds a predetermined first threshold for each substrate processing device 1 . When the abnormality score exceeds the first threshold, the information analysis device 3 sends an alarm to the substrate processing apparatus 1 corresponding to the abnormality score. In the example of FIG. 1, the information analysis device 3 sends an alarm to the substrate processing apparatuses 1D and 1E among the substrate processing apparatuses 1A to 1E, as indicated by the wavy dotted line arrows. At this time, an alarm is output in the substrate processing apparatuses 1D and 1E that have received the alarm.
  • the abnormality score (degree of abnormality) is lower for items that do not require prompt response by maintenance workers, and higher for items that require prompt response by maintenance workers.
  • a state in which the abnormality score is low includes a state in which all of the plurality of processing conditions fall within a range predicted to be normal from the invariant relationships corresponding to the plurality of combinations.
  • a state with a high abnormality score is, for example, a state in which the temporal change in “a. chemical concentration” is significantly larger than the temporal change predicted based on the temporal change in “b. , referred to as the first abnormal state).
  • the continuation of the first abnormal state causes defective processing of the substrate W, generation of harmful gas, and damage to components of the substrate processing apparatus 1 due to the inability to adjust the chemical concentration of the cleaning liquid.
  • a state in which the abnormality score is high is, for example, a state in which the time from when the concentration detection command is given to the densitometer 20 to when the concentration of the chemical solution is output from the densitometer 20 is extremely long (hereinafter referred to as a second abnormal state). including.
  • the continuation of the second abnormal state causes defective processing of the substrate W, generation of harmful gas, and damage to components of the substrate processing apparatus 1 due to inability to perform appropriate feedback control of the concentration of the chemical solution.
  • a state with a high abnormality score includes, for example, a state in which "f. power supplied to the motor" is significantly larger than the predicted value (hereinafter referred to as a third abnormal state).
  • a third abnormal state there is a high possibility that an unexpected load is acting on the motor. Therefore, the continuation of the third abnormal state causes failure of the operating parts including the motor, defective transport of the substrate W, and damage to the constituent parts of the substrate processing apparatus 1 .
  • a state with a high abnormality score includes, for example, a state in which "g. Addition amount of chemical solution” fluctuates beyond the expected range (hereinafter referred to as a fourth abnormal state).
  • a fourth abnormal state a state in which "g. Addition amount of chemical solution” fluctuates beyond the expected range.
  • the fourth state it is difficult to keep the cleaning liquid concentration constant. Therefore, continuation of the fourth abnormal state causes processing failure of the substrate W.
  • a state with a high abnormality score is, for example, when changes over time in "h. chemical supply valve opening" and “i. cleaning liquid discharge valve opening” are the same as “a. chemical concentration” and “b. chemical supply amount”. (hereinafter referred to as a fifth abnormal state).
  • a state with a high abnormality score is, for example, when changes over time in "h. chemical supply valve opening” and “i. cleaning liquid discharge valve opening” are the same as “a. chemical concentration” and “b. chemical supply amount”.
  • the management apparatus 4 is, for example, a personal computer, and includes a CPU and a memory.
  • the management device 4 includes a display section 4a and an operation section 4b, and is used by an administrator who manages a plurality of substrate processing apparatuses 1.
  • FIG. 1 A block diagram illustrating an exemplary computing environment in accordance with the present disclosure.
  • a plurality of maintenance workers in charge of the plurality of substrate processing apparatuses 1 can easily grasp the degree of abnormality in the substrate processing apparatuses 1 under their charge by confirming the abnormality score transmitted from the information analysis device 3. be able to. Further, each maintenance worker can recognize that a serious abnormality has occurred in the substrate processing apparatus 1 by receiving the alarm in the substrate processing apparatus 1 under his/her charge.
  • a survey request is sent to the management device 4 .
  • the abnormal score is sent from one or a plurality of substrate processing apparatuses 1 (substrate processing apparatuses 1A, 1C, and 1E in this example) that have sent the investigation request to the management apparatus 4. sent.
  • the management device 4 can easily and quickly determine the priority of investigation based on the abnormality score received together with the investigation request. can be done.
  • the administrator can determine the order of priority for investigation based on a plurality of abnormality scores of substrate processing apparatuses 1A, 1C, and 1E for which investigation requests have been made.
  • each investigation request received from one or a plurality of substrate processing apparatuses 1 is prioritized each time a detailed investigation of the substrate processing apparatus 1 corresponding to the investigation request is performed.
  • FIG. 2 is a block diagram for explaining the functional configuration of the substrate processing apparatus management system 2 according to the first embodiment.
  • the information analysis device 3 includes an information collection unit 31, a score calculation unit 32, a score transmission unit 33, and an alarm transmission unit .
  • a second management program for managing a plurality of substrate processing apparatuses 1 is stored in the memory of the information analysis apparatus 3 .
  • the components (31 to 34) of the information analysis device 3 in FIG. 2 are implemented by the CPU of the information analysis device 3 executing the second management program stored in the memory. Some or all of the components (31 to 34) of the information analysis device 3 may be realized by hardware such as electronic circuits.
  • the management device 4 also includes a request reception unit 41 , a score acquisition unit 42 and a score presentation unit 43 .
  • a memory of the management device 4 stores a third management program for managing the plurality of substrate processing apparatuses 1 .
  • the components (41 to 43) of the management device 4 in FIG. 2 are implemented by the CPU of the management device 4 executing the third management program stored in the memory. Some or all of the components (41 to 43) of the management device 4 may be realized by hardware such as electronic circuits.
  • a plurality of pieces of processing information are transmitted from each of the plurality of substrate processing apparatuses 1 to the information analysis apparatus 3 at predetermined intervals (see thick solid line arrows in FIG. 2).
  • the information collection unit 31 of the information analysis device 3 collects a plurality of pieces of processing information transmitted from each substrate processing apparatus 1 and gives the information to the score calculation unit 32 .
  • the score calculation unit 32 of the information analysis device 3 calculates the abnormality score of the substrate processing apparatus 1 based on a plurality of pieces of processing information corresponding to each substrate processing apparatus 1, and transmits the calculated abnormality score to the score transmission unit 33 and an alarm. It is given to the transmission unit 34 .
  • the score transmission unit 33 of the information analysis device 3 transmits the abnormality score calculated by the score calculation unit 32 to the substrate processing apparatus 1 corresponding to the abnormality score (see the thick dashed-dotted arrow in FIG. 2).
  • the abnormality score transmitted from the score transmission unit 33 is stored in a state of being associated with time such as calculation time, transmission time, or reception time of the abnormality score.
  • the alarm transmission unit 34 of the information analysis device 3 determines whether or not the abnormality score calculated for each substrate processing apparatus 1 exceeds the first threshold. Further, when the abnormality score exceeds the first threshold value, the alarm transmission unit 34 issues an alarm to the substrate processing apparatus 1 (the substrate processing apparatuses 1D and 1E in the example of FIG. 2) corresponding to the abnormality score. transmit (see wavy dotted arrow in FIG. 2).
  • each substrate processing apparatus 1 an investigation request regarding an abnormality of the substrate processing apparatus 1 is sent to the management device 4 based on the operation by the maintenance worker. Also, the abnormality score stored in the substrate processing apparatus 1 is transmitted to the management apparatus 4 .
  • the request reception unit 41 of the management device 4 receives an investigation request transmitted from one or more substrate processing apparatuses 1 (the substrate processing apparatuses 1A, 1C, and 1E in the example of FIG. arrow).
  • the score acquisition unit 42 of the management device 4 acquires an abnormality score transmitted together with an investigation request from one or a plurality of substrate processing apparatuses 1 (the substrate processing apparatuses 1A, 1C, and 1E in the example of FIG. 2). (see dotted arrow).
  • the score presentation unit 43 of the management device 4 causes the display unit 4a to display each of the one or more abnormality scores acquired by the score acquisition unit 42 in association with the substrate processing apparatus 1 corresponding to the abnormality score.
  • the abnormality scores of the substrate processing apparatuses 1A, 1C, and 1E requested for investigation are "264,” “210,” and “322.” This allows the administrator to easily grasp the degree of abnormality in the substrate processing apparatuses 1E, 1A, and 1C. Also, it can be understood that the administrator should proceed with the detailed investigation in order of the substrate processing apparatuses 1E, 1A, and 1C.
  • the score presenting unit 43 determines the order of priority of investigation based on the abnormality scores.
  • the priority order may be displayed on the display unit 4a.
  • FIG. 3 is a diagram for explaining a specific calculation example of the degree of divergence.
  • a calculation example of the degree of divergence corresponding to the combination of "e. motor rotation speed” and “f. power supply to motor” in FIG. 1 will be described.
  • the data of "e. Motor rotation speed” will be referred to as “e” data
  • the data of "f. Power supply to motor” will be referred to as "f” data.
  • ideal "e” data and "f” data are obtained, for example, based on a plurality of pieces of processing information transmitted from each substrate processing apparatus 1 when each substrate processing apparatus 1 is actually operating normally. be done.
  • the ideal 'e' data and 'f' data may be generated by simulation or the like.
  • the score calculator 32 predicts the "f” data based on pre-stored correlation information. Also, when the actual "f” data is collected, the score calculator 32 predicts the "e” data based on pre-stored correlation information.
  • the graph at the bottom of FIG. 3 shows an example of temporal changes in the "e” data and the "f” data predicted based on the correlation information. In the lower graph of FIG. 3, predicted “e” data and “f” data are indicated by solid lines, and actually collected “e” data and "f” data are indicated by dotted lines.
  • the actual "e” data and the predicted “e” data match or nearly match.
  • the actual "f” data and the predicted “f” data will match or nearly match.
  • an abnormality occurs in the substrate processing apparatus 1
  • the degree of this divergence is considered to increase as the degree of abnormality occurring in the substrate processing apparatus 1 increases, and to decrease as the degree of abnormality occurring in the substrate processing apparatus 1 decreases.
  • the difference value between the actually collected processing information data and the predicted processing information data is calculated as the degree of divergence.
  • the score calculation unit 32 calculates the difference value between the actual "e” data and the predicted “e” data as the degree of divergence when calculating the degree of divergence at a certain time.
  • the score calculation unit 32 also calculates the difference value between the actual "f" data and the predicted "f" data as the degree of divergence.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining a specific calculation example of an anomaly score.
  • the score calculation unit 32 calculates the degree of divergence for all combinations of pieces of processing information.
  • FIG. 4 shows a plurality of divergence degrees calculated for all combinations of a plurality of pieces of processing information.
  • the score calculation unit 32 calculates the sum of the calculated plurality of deviation degrees as an abnormality score.
  • FIG. 5 is a flow chart showing an example of processing executed in each of the plurality of substrate processing apparatuses 1 of FIG. A series of processes shown in FIG. 5 are started when each substrate processing apparatus 1 is powered on and the CPU of the control device 40 executes the first management program.
  • the control device 40 transmits a plurality of pieces of processing information acquired inside the substrate processing apparatus 1 to the information analysis device 3 at predetermined intervals (step S10).
  • the process of transmitting a plurality of pieces of processing information, which is started in step S10, is repeated at a predetermined cycle until the power of the substrate processing apparatus 1 is turned off.
  • the control device 40 may store the transmitted pieces of processing information in association with their transmission times.
  • control device 40 determines whether or not an abnormality score has been received from the information analysis device 3 (step S11). When the control device 40 does not receive the abnormality score, the control device 40 proceeds to the processing of step S13, which will be described later. On the other hand, when receiving an anomaly score, the control device 40 stores the received anomaly score in association with the reception time (step S12).
  • control device 40 determines whether or not an alarm has been received from the information analysis device 3 (step S13). When the control device 40 does not receive the warning, the control device 40 proceeds to the processing of step S15, which will be described later. On the other hand, when receiving the alarm, the control device 40 outputs the alarm from the display device or the audio output device of the substrate processing apparatus 1 (step S14). The processes of steps S11 and S12 may be performed after the process of step S14.
  • the control device 40 determines whether or not it has received a command to send an investigation request to the management device 4 (step S15).
  • a command to transmit an investigation request is given to the control device 40 by, for example, a maintenance worker operating the operation unit of the substrate processing apparatus 1 .
  • the control device 40 proceeds to the processing of step S17, which will be described later.
  • the control device 40 transmits the investigation request and the abnormality score stored at the time closest to the current time to the management device 4 (step S16).
  • the control device 40 may transmit to the management device 4 a plurality of abnormality scores stored up to a predetermined time (for example, several hours) before the current time, along with their reception times.
  • control device 40 determines whether or not a work instruction to perform a specific work on the substrate processing apparatus 1 has been received from the management device 4 (step S17). When the control device 40 does not receive the work instruction, the process proceeds to step S19, which will be described later. On the other hand, when the work instruction is received, the control device 40 presents the received work instruction to the maintenance worker using, for example, a display device provided in the substrate processing apparatus 1 (step S18).
  • control device 40 determines whether or not it has received an end command to stop the operation of the substrate processing apparatus 1 (step S19). If the control device 40 does not receive the end command, the process proceeds to step S11. On the other hand, when the control device 40 receives the end command, it ends the series of processes.
  • FIG. 6 is a flow chart showing an example of processing executed in the information analysis apparatus 3 of FIG. A series of processes shown in FIG. 6 are started when the power of the information analysis device 3 is turned on and the CPU of the information analysis device 3 executes the second management program.
  • the information collecting unit 31 in FIG. 2 starts collecting a plurality of pieces of processing information transmitted from each of the plurality of substrate processing apparatuses 1 (step S20).
  • the process of collecting a plurality of pieces of processing information started in step S20 is repeated at a predetermined cycle until the power of the information analysis device 3 is turned off.
  • the score calculation unit 32 in FIG. 2 selects one substrate processing apparatus 1 for which no abnormality score has been calculated from among the one or a plurality of substrate processing apparatuses 1 for which a plurality of pieces of processing information have been collected in the process of step S20. (step S21).
  • the score calculation unit 32 calculates a plurality of deviation degrees from a plurality of pieces of collected processing information for the selected substrate processing apparatus 1 (step S22). Further, the score calculation unit 32 calculates the abnormality score of one substrate processing apparatus 1 based on the plurality of calculated degrees of deviation, and transmits the calculated abnormality score to the one substrate processing apparatus 1 (step S23). ).
  • the alarm transmission unit 34 in FIG. 2 determines whether or not the abnormality score calculated in step S23 exceeds the first threshold (step S24). If the abnormality score does not exceed the first threshold value, the alarm transmission unit 34 proceeds to the process of step S26, which will be described later. On the other hand, when the abnormality score exceeds the first threshold value, the alarm transmission unit 34 transmits an alarm to one substrate processing apparatus 1 (step S25).
  • the score calculation unit 32 determines whether or not there is a substrate processing apparatus 1 for which a plurality of pieces of processing information have been collected and for which an abnormality score has not been calculated (step S26). If there is a substrate processing apparatus 1 for which an abnormality score has not been calculated, the score calculation unit 32 proceeds to the process of step S21. On the other hand, if there is no substrate processing apparatus 1 for which an abnormality score has not been calculated, the score calculation unit 32 determines whether or not an end command to stop the operation of the information analysis apparatus 3 has been received (step S27). If the score calculation unit 32 does not receive the end command, the process proceeds to step S21. On the other hand, the score calculation unit 32 ends the series of processes when receiving the end command.
  • FIG. 7 is a flowchart showing an example of processes executed in the management apparatus 4 of FIG. A series of processes shown in FIG. 7 are started when the management device 4 is powered on and the CPU of the management device 4 executes the third management program.
  • the request receiving unit 41 in FIG. 2 determines whether or not a survey request has been received from at least one substrate processing apparatus 1 among the plurality of substrate processing apparatuses 1 (step S30). If the request receiving unit 41 does not receive a survey request, the process proceeds to step S33, which will be described later. On the other hand, when receiving an investigation request from at least one substrate processing apparatus 1, the request reception unit 41 accepts the received investigation request (step S31).
  • the substrate processing apparatus 1 transmits an investigation request to the management apparatus 4, the substrate processing apparatus 1 transmits the abnormality score to the management apparatus 4 together with the investigation request.
  • the score acquiring unit 42 in FIG. 2 receives and acquires the abnormality score transmitted together with the investigation request (step S32).
  • the investigation request and abnormality score acquired at this time are stored in the memory of the management device 4 .
  • the score presenting unit 43 in FIG. 2 determines whether or not it has received a command to start investigating the substrate processing apparatus 1 (step S33).
  • a command to start investigation is given to the score presenting unit 43 by, for example, the administrator operating the operation unit 4b of the management device 4.
  • FIG. If the score presentation unit 43 does not receive a command to start the survey, the process proceeds to step S30.
  • the score presentation unit 43 determines whether or not there are a plurality of substrate processing apparatuses 1 to be investigated (step S34).
  • the score presenting section 43 proceeds to the process of step S36, which will be described later.
  • the score presenting unit 43 assigns the abnormality score of each substrate processing apparatus 1 to be investigated to the substrate processing apparatus 1. and display it on the display unit 4a (step S35).
  • the score presentation unit 43 may display the abnormality score of the substrate processing apparatus 1 on the display unit 4a.
  • the score presenting unit 43 may determine the order of priority of investigation based on a plurality of abnormality scores for a plurality of uninvestigated substrate processing apparatuses 1 for which an investigation request has been received. In this case, the score presentation unit 43 may display the determined priority on the display unit 4a.
  • the CPU of the management device 4 performs the investigation processing for one substrate processing apparatus 1 among the one or more substrate processing apparatuses 1 to be investigated in response to the operation of the operation unit 4b by the administrator (step S36). Further, the CPU of the management device 4 transmits a work instruction to the maintenance worker to one substrate processing device 1 based on the result of the investigation process (step S37).
  • the CPU of the management device 4 determines whether or not it has received an end command to stop the operation of the management device 4 (step S38). When the CPU of the management device 4 does not receive the end command, the process proceeds to step S30. On the other hand, the CPU of the management device 4 ends the series of processes when receiving the end command.
  • step S36 the investigation request and abnormality score for the substrate processing apparatus 1 for which investigation processing has been performed are erased from the memory of the management device 4 when the investigation processing ends.
  • step S36 the substrate processing apparatus 1 on which the investigation process has been performed is removed from the investigation target candidates.
  • step S38 if there is a substrate processing apparatus 1 that has not been investigated among the one or more substrate processing apparatuses 1 to be investigated, the investigation request is stored in the memory of the management device 4. retained. Alternatively, in step S38, the substrate processing apparatus 1 that has been targeted for investigation and has not undergone the investigation process remains as a candidate for investigation.
  • the two or more substrate processing devices 1 requested for investigation is displayed on the display unit 4a as an abnormality score.
  • the administrator can easily grasp the degree of abnormality of two or more substrate processing apparatuses 1 requested for investigation based on the displayed abnormality score.
  • the anomaly score is calculated based on the invariant relationship between multiple pieces of processing information. Therefore, the administrator can easily and appropriately grasp the order of priority of investigation in a short time for a plurality of substrate processing apparatuses 1 for which an investigation request has been made.
  • the abnormality score calculated by the information analysis apparatus 3 is transmitted to the substrate processing apparatus 1 corresponding to the abnormality score.
  • an abnormality score corresponding to the substrate processing apparatus 1 is stored in chronological order. Thereby, the maintenance worker in charge of each substrate processing apparatus 1 can easily check the temporal change of the abnormality score stored in the substrate processing apparatus 1 .
  • Second Embodiment Among the plurality of combinations of the plurality of pieces of processing information described above, there are combinations that should be particularly emphasized when grasping the degree of abnormality in the substrate processing apparatus 1 and combinations that do not need to be emphasized.
  • the combination of “a. Chemical concentration” and “b.” it can be said that it is a highly related combination.
  • the combination of "c. concentration detection input signal” and “d. concentration detection output signal” calculates the abnormality score in order to avoid the continuation of the second abnormal state. It can be said that it is a highly related combination.
  • a combination of processing information that does not require consideration of the first to fifth abnormal states is a combination that has a low relationship in calculating the abnormality score.
  • the degree of divergence is the difference value between actually collected processing information data and predicted processing information data. Therefore, the degree of divergence calculated in the above-described embodiment does not take into account multiple types of abnormal states of the substrate processing apparatus 1 that should be emphasized when calculating the abnormality score. Therefore, a substrate processing apparatus management system according to the second embodiment has the following configuration.
  • FIG. 8 is a diagram for explaining the functional configuration of a substrate processing apparatus management system according to the second embodiment.
  • the information analysis device 3 has, as a functional unit, in addition to the components (31 to 34) described in the first embodiment, , a weight storage unit 39 is included.
  • the weight storage unit 39 is realized by executing the second management program stored in the memory by the CPU of the information analysis device 3 according to the second embodiment.
  • the weight storage unit 39 may be realized by hardware such as an electronic circuit.
  • the weight storage unit 39 stores a plurality of weights respectively corresponding to a plurality of combinations of a plurality of pieces of processing information.
  • FIG. 9 is a diagram showing an example of multiple weights stored in the weight storage unit 39 of FIG.
  • six abnormality levels from “first level” to “sixth level” are set for a plurality of types of abnormal states that can occur in the substrate processing apparatus 1.
  • FIG. The six abnormal levels are "first level”, “second level”, “third level”, “fourth level”, “fifth level” and “sixth level” in order of increasing degree of abnormality. and
  • a weight having a magnitude corresponding to the abnormality level of the abnormal state is assigned to a combination of processing information highly relevant to each abnormal state.
  • the highest “sixth level” is set for the fifth abnormal state.
  • Chemical solution concentration “b. Chemical solution supply amount”, “h. Chemical solution supply valve opening” and “i. A weight of "6" is assigned to combinations between (8 combinations).
  • the second highest “fifth level” is set for the first abnormal state.
  • a weight of "5" is assigned to a combination (two combinations) of "a. chemical concentration” and “b. chemical supply amount” that are highly relevant to the first abnormal state.
  • the third highest “fourth level” is set for the third abnormal state.
  • a weight of "4" is assigned to the mutual combination (two combinations) of "e. motor rotation speed” and “f. power supplied to the motor” that are highly relevant to the third abnormal state.
  • the fourth highest “third level” is set for the second abnormal state.
  • a weight of "3" is assigned to the combination (two combinations) of "c. concentration detection input signal” and “d. concentration detection output signal” that are highly related to the second abnormal state.
  • the fifth highest “second level” is set for the fourth abnormal state.
  • the combination (four combinations) of "a. Chemical concentration”, “b. Chemical supply amount” and “g. ” is assigned.
  • the lowest “first level” is set for the abnormal states other than the first to fifth abnormal states. Then, a weight of "1" is assigned to a plurality of combinations of a plurality of pieces of processing information with low relevance for a plurality of abnormal states including the first to fifth abnormal states.
  • the score calculation unit 32 in FIG. 8 calculates the calculated difference value and the weight assigned to the combination for each combination of the plurality of pieces of processing information based on the plurality of weights stored in the weight storage unit 39.
  • the multiplied value is calculated as the degree of divergence.
  • the score calculation unit 32 in FIG. 8 calculates the sum of the calculated plurality of deviation degrees as an abnormality score.
  • the abnormality score is calculated based on the deviation including the weighting amount according to the abnormality level.
  • the administrator of the plurality of substrate processing apparatuses 1 can more appropriately grasp the degree of abnormality of each substrate processing apparatus 1 by referring to the calculated abnormality score.
  • the information collection unit 31 integrates and resets the collected processing information every time a predetermined time elapses. You can repeat. Further, the information collecting section 31 may provide the score calculating section 32 with the processing information accumulated up to immediately before being reset every time a predetermined period of time elapses. In this case, the score calculation unit 32 calculates an abnormality score based on the accumulated plural pieces of processing information. In this case, it is possible to reduce the influence of noise or the like that occurs when each piece of processing information is collected on the abnormality score.
  • a series of processes performed by the information analysis device 3 may be performed by the management device 4 . Also, a series of processes performed by the information analysis device 3 may be performed by any one of the plurality of substrate processing apparatuses 1 . In this case, the information analysis device 3 becomes unnecessary.
  • the information analysis apparatus 3 receives the investigation requests from the plurality of substrate processing apparatuses 1, and detects the received investigation request and the abnormality corresponding to the investigation request. You may transmit a score to the management apparatus 4.
  • FIG. 1 the information analysis apparatus 3 receives the investigation requests from the plurality of substrate processing apparatuses 1, and detects the received investigation request and the abnormality corresponding to the investigation request. You may transmit a score to the management apparatus 4.
  • the abnormality score does not have to be transmitted from the information analysis apparatus 3 to the plurality of substrate processing apparatuses 1 .
  • the management device 4 that has received an investigation request from one of the plurality of substrate processing apparatuses 1 may acquire the abnormality score of the substrate processing apparatus 1 that has received the investigation request from the information analysis device 3 .
  • the plurality of substrate processing apparatuses 1A to 1E have the same configuration, but the present invention is not limited to this. Some or all of the plurality of substrate processing apparatuses 1A to 1E may have different configurations. At least one of the plurality of substrate processing apparatuses 1A to 1E may be a single substrate cleaning apparatus instead of a batch type substrate cleaning apparatus, and may have a configuration for performing processing other than cleaning processing.
  • the plurality of processing information includes the temperature of the fluid supplied to the substrate W, the processing in which the substrate W is stored, At least one physical quantity selected from the temperature in the chamber, the pressure in the processing chamber in which the substrate W is accommodated, the pressure of the gas discharged from the processing chamber in which the substrate W is accommodated, and the movement speed of the substrate conveyed by the robot may be included. good.
  • the plurality of pieces of processing information may include information relating to at least one of a driving pulse signal for driving the robot that transports the substrate W and an output signal of a detector provided in the robot that transports the substrate W.
  • the score calculator 32 repeatedly accumulates and resets the abnormality score each time a predetermined time elapses, thereby calculating the integrated value of the abnormality score. may be further calculated.
  • the alarm transmission unit 34 may determine whether or not the integrated value of the abnormality score exceeds a predetermined second threshold. Further, when the integrated value of the abnormality score exceeds the second threshold value, the alarm transmission unit 34 may transmit an alarm to the substrate processing apparatus 1 corresponding to the integrated value of the abnormality score. In this case, the maintenance worker of each substrate processing apparatus 1 can grasp with higher accuracy the occurrence of an abnormality in the substrate processing apparatus 1 that he or she is in charge of.
  • the substrate processing apparatuses 1 and 1A to 1E are examples of a plurality of substrate processing apparatuses
  • the substrate processing apparatus management system 2 is an example of a substrate processing apparatus management system
  • the information collection unit 31 collects information.
  • the score calculation unit 32 is an example of the score calculation unit
  • the request reception unit 41 is an example of the request reception unit.
  • the score acquiring unit 42 is an example of a score acquiring unit
  • the score presenting unit 43 is an example of a priority presenting unit
  • the plurality of abnormality scores of the plurality of substrate processing apparatuses 1 and the priority of investigation are priority information.
  • the score transmission unit 33 is an example of a score transmission unit
  • the alarm transmission unit 34 is an example of an alarm transmission unit
  • the information analysis device 3 is an example of an information analysis device.

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Abstract

基板処理装置管理システムにおいては、複数の基板処理装置の各々から基板の処理に関連する動作または状態を示す複数の処理情報が収集される。各基板処理装置について、複数の処理情報間のインバリアントな関係と当該基板処理装置から収集される複数の処理情報とに基づいて当該基板処理装置の異常の度合いが異常スコアとして算出される。管理装置においては、各基板処理装置から異常に関する調査依頼が受け付けられる。２以上の調査依頼が受け付けられたときに、それらの調査依頼に対応する基板処理装置の異常スコアが取得される。取得された複数の異常スコアに基づいて、２以上の調査依頼に対して応答すべき優先順位に関する優先順位情報が管理者に提示される。

Description

基板処理装置管理システム、基板処理装置管理方法および基板処理装置管理プログラム
　本発明は、複数の基板処理装置を管理するために用いられる基板処理装置管理システム、基板処理装置管理方法および基板処理装置管理プログラムに関する。
　液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等の各種基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられている。基板処理装置においては、例えば予め定められた処理手順（レシピ）に従って基板に一連の処理が施される。基板処理装置の異常に起因する基板の処理不良の発生を防止するために、基板処理装置の異常を判定するデータ処理システムが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
　そのデータ処理システムにおいては、基板の処理中に基板処理装置に関する複数の物理量が測定され、それらの測定結果が時系列に並べられることにより複数の時系列データが生成される。複数の時系列データには、例えばノズルから吐出される処理液の流量、およびチャンバ内の圧力等の物理量のデータが含まれる。各時系列データが予め定められた基準データと比較されることにより、評価値が算出される。算出された評価値に基づいて時系列データに異常があるか否かが判定される。
特開２０２０－４７８４７号公報
　複数の基板処理装置は、例えば世界における複数の場所にそれぞれ設置される。各基板処理装置の保守作業は、当該基板処理装置を担当する現地の保守作業者によって行われる。保守作業者は、上記のデータ処理システムによる異常の判定結果に基づいて基板処理装置に異常が発生しているか否かを把握することができる。
　保守作業者は、基板処理装置における異常の発生時に、異常の発生原因を特定することができない場合がある。この場合、保守作業者は、複数の基板処理装置を管理する管理者に、自己の担当する基板処理装置について詳細な調査を依頼する。調査依頼を受けた管理者は、調査対象となる基板処理装置について各種調査を行う。また、管理者は、調査を依頼した保守作業者に調査結果に基づく具体的な作業指示を与える。
　複数の保守作業者から複数の基板処理装置について複数の調査依頼があると、管理者は複数の基板処理装置の調査を並行して行うことが難しい。この場合、管理者は、複数の基板処理装置について調査の優先順位を決定する。調査の優先順位を適切に決定するためには、調査対象となる複数の基板処理装置の異常の程度を把握する必要がある。複数の基板処理装置の異常の程度を把握するためには、複数の基板処理装置についてそれぞれ一次調査を行わなければならない。この一次調査には、例えば過去の時系列データの分析および保守作業者に対するヒアリング等が含まれる。このように、一次調査は煩雑である。したがって、管理者は、複数の調査依頼があった後、各調査依頼について、実際の調査を開始するまでの間に長時間を要する。
　本発明の目的は、複数の基板処理装置について複数の調査依頼があった場合に、管理者が調査の優先順位を容易かつ適切に短時間で把握することを可能にする基板処理装置管理システム、基板処理装置管理方法および基板処理装置管理プログラムを提供することである。
　（１）本発明の一局面に従う基板処理装置管理システムは、複数の基板処理装置を管理するために用いられる基板処理装置管理システムであって、各基板処理装置から基板の処理に関連する動作または状態を示す複数の処理情報を収集する情報収集部と、各基板処理装置について、複数の処理情報間のインバリアントな関係と当該基板処理装置から収集される複数の処理情報とに基づいて当該基板処理装置の異常の度合いを異常スコアとして算出するスコア算出部と、各基板処理装置から異常に関する調査依頼を受け付ける依頼受付部と、依頼受付部に調査依頼を送信した２以上の基板処理装置についてそれぞれ算出された２以上の異常スコアを取得するスコア取得部と、スコア取得部により取得された２以上の異常スコアに基づいて、２以上の調査依頼に対して応答すべき優先順位に関する優先順位情報を提示する優先順位提示部とを備える。
　その基板処理装置管理システムにおいては、複数の基板処理装置の各々について、基板処理装置の異常の度合いが異常スコアとして算出される。２以上の基板処理装置について２以上の調査依頼があった場合に、調査依頼のあった２以上の基板処理装置の異常スコアに基づく優先順位情報が提示される。異常スコアは、複数の処理情報間のインバリアントな関係に基づいて算出される。したがって、複数の基板処理装置の管理者は、調査依頼があった複数の基板処理装置について、調査の優先順位を容易かつ適切に短時間で把握することができる。
　（２）優先順位情報は、スコア取得部により取得された２以上の異常スコアを含み、優先順位提示部は、スコア取得部により取得された２以上の異常スコアを２以上の基板処理装置にそれぞれ対応付けて提示してもよい。この場合、複数の基板処理装置の管理者は、提示された異常スコアに基づいて、調査依頼のあった２以上の基板処理装置の異常の度合いを容易に把握することができる。
　（３）基板処理装置管理システムは、スコア算出部により算出された異常スコアを当該異常スコアに対応する基板処理装置に送信するスコア送信部をさらに備えてもよい。この場合、各基板処理装置に異常スコアを記憶させることができる。それにより、各基板処理装置において、異常スコアに基づく異常の分析が可能になる。
　（４）基板処理装置管理システムは、各基板処理装置について算出された異常スコアが予め定められたしきい値を超えるか否かを判定し、異常スコアがしきい値を超える場合に、当該異常スコアに対応する基板処理装置に警報を送信する警報送信部をさらに備えてもよい。この場合、各基板処理装置において、予め定められた程度を超える異常の発生を容易に把握することができる。
　（５）情報収集部は、一定時間が経過するごとに収集される複数の処理情報の積算およびリセットを繰り返し、スコア算出部は、各基板処理装置について、複数の処理情報間のインバリアントな関係と当該基板処理装置により生成されかつ情報収集部により積算された複数の処理情報とに基づいて当該基板処理装置の異常の度合いを異常スコアとして算出してもよい。この場合、異常スコアに各処理情報の収集時に発生するノイズ等の影響が及ぶことが低減される。
　（６）複数の処理情報について、互いに異なる２つの処理情報の複数の組み合わせが定められ、各組み合わせは、第１の処理情報および第２の処理情報を含み、スコア算出部は、各組み合わせについて、予め定められた条件で収集された第２の処理情報に基づいて、予め定められた条件で予測される第１の処理情報を、第１の予測処理情報として生成し、生成された第１の予測処理情報とデータ収集部により実際に収集された第１の処理情報との乖離の度合いを第１の乖離度として算出し、各組み合わせについて、予め定められた条件で収集された第１の処理情報に基づいて、予め定められた条件で予測される第２の処理情報を、第２の予測処理情報として生成し、生成された第２の予測処理情報とデータ収集部により実際に収集された第２の処理情報との乖離の度合いを第２の乖離度として算出し、複数の組み合わせについてそれぞれ算出された複数の第１の乖離度および複数の第２の乖離度に基づいて異常スコアを算出してもよい。この場合、実際に収集された各処理情報について、他の処理情報との間のインバリアントな関係に基づく異常スコアの算出が可能になる。
　（７）スコア算出部は、複数の組み合わせについてそれぞれ算出された複数の第１の乖離度および複数の第２の乖離度の合計を異常スコアとして算出してもよい。この場合、各基板処理装置の異常の度合いを容易に算出することができる。
　（８）複数の組み合わせの各々には、当該組み合わせと基板処理装置の複数種類の異常状態との関連性に応じて予め定められた重みが割り当てられ、スコア算出部は、複数の組み合わせと複数の重みとに基づいて複数の第１の乖離度および複数の第２の乖離度を算出してもよい。
　この場合、複数の第１の乖離度および複数の第２の乖離度に基づいて算出される異常スコアを参照することにより、各基板処理装置の異常の度合いをより適切に把握することができる。
　（９）複数の処理情報は、基板に供給される流体の供給量、基板に供給される流体の温度、基板に供給される処理液の濃度、基板が収容される処理室内の温度、基板が収容される処理室内の圧力、基板が収容される処理室から排出される気体の圧力、およびロボットにより搬送される基板の移動速度のうち少なくとも１つの物理量を含んでもよい。この場合、基板処理装置において取得される１または複数の物理量に基づいて異常スコアが算出される。
　（１０）複数の処理情報は、基板を搬送するロボットを駆動する駆動パルス信号、基板を搬送するロボットに設けられる検出器の出力信号、および制御バルブに与えられる開閉信号のうち少なくとも１つに関する情報を含んでもよい。この場合、基板処理装置において用いられる１または複数の信号に基づいて異常スコアが算出される。
　（１１）各基板処理装置は、洗浄液を用いて基板を洗浄する基板洗浄装置であり、複数の処理情報は、基板に供給される洗浄液の供給量、基板に供給される洗浄液の温度、基板に供給される洗浄液の濃度のうち少なくとも１つを含んでもよい。この場合、複数の基板洗浄装置について、複数の調査依頼があった場合に、調査の優先順位が適切に決定される。
　（１２）本発明の他の局面に従う基板処理装置管理方法は、複数の基板処理装置を管理するために用いられる基板処理装置管理方法であって、各基板処理装置から基板の処理に関連する動作または状態を示す複数の処理情報を収集するステップと、各基板処理装置について、複数の処理情報間のインバリアントな関係と当該基板処理装置から収集される複数の処理情報とに基づいて当該基板処理装置の異常の度合いを異常スコアとして算出するステップと、各基板処理装置から異常に関する調査依頼を受け付けるステップと、調査依頼を送信した２以上の基板処理装置についてそれぞれ算出された２以上の異常スコアを取得するステップと、取得するステップにより取得された２以上の異常スコアに基づいて、２以上の調査依頼に対して応答すべき優先順位に関する優先順位情報を提示するステップとを含む。
　その基板処理装置管理方法においては、複数の基板処理装置の各々について、基板処理装置の異常の度合いが異常スコアとして算出される。２以上の基板処理装置について２以上の調査依頼があった場合に、調査依頼のあった２以上の基板処理装置の異常スコアに基づく優先順位情報が提示される。異常スコアは、複数の処理情報間のインバリアントな関係に基づいて算出される。したがって、複数の基板処理装置の管理者は、調査依頼があった複数の基板処理装置について、調査の優先順位を容易かつ適切に短時間で把握することができる。
　（１３）本発明のさらに他の局面に従う基板処理装置管理プログラムは、情報分析装置を用いて複数の基板処理装置を管理する処理をコンピュータに実行させる基板処理装置管理プログラムであって、情報分析装置は、各基板処理装置から基板の処理に関連する動作または状態を示す複数の処理情報を収集する情報収集部と、各基板処理装置について、複数の処理情報間のインバリアントな関係と当該基板処理装置から収集される複数の処理情報とに基づいて当該基板処理装置の異常の度合いを異常スコアとして算出するスコア算出部とを含み、複数の基板処理装置を管理する処理は、各基板処理装置から異常に関する調査依頼を受け付ける処理と、調査依頼を送信した２以上の基板処理装置についてそれぞれ算出された２以上の異常スコアを取得する処理と、取得する処理により取得された２以上の異常スコアに基づいて、２以上の調査依頼に対して応答すべき優先順位に関する優先順位情報を提示する処理とを含む。
　その基板処理装置管理プログラムによれば、２以上の基板処理装置について２以上の調査依頼があった場合に、調査依頼のあった２以上の基板処理装置の異常スコアに基づく優先順位情報が提示される。異常スコアは、複数の処理情報間のインバリアントな関係に基づいて算出される。したがって、複数の基板処理装置の管理者は、調査依頼があった複数の基板処理装置について、調査の優先順位を容易かつ適切に短時間で把握することができる。
　本発明によれば、複数の基板処理装置について複数の調査依頼があった場合に、管理者は調査の優先順位を容易かつ適切に短時間で把握することができる。
図１は第１の実施の形態に係る基板処理装置管理システムの構成を説明するための図である。 図２は第１の実施の形態に係る基板処理装置管理システムの機能的な構成を説明するためのブロック図である。 図３は乖離度の具体的な算出例を説明するための図である。 図４は異常スコアの具体的な算出例を説明するための図である。 図５は図１の複数の基板処理装置の各々において実行される処理の一例を示すフローチャートである。 図６は図１の情報分析装置において実行される処理の一例を示すフローチャートである。 図７は図１の管理装置において実行される処理の一例を示すフローチャートである。 図８は第２の実施の形態に係る基板処理装置管理システムの機能的な構成を説明するための図である。 図９は図８の重み記憶部に記憶される複数の重みの一例を示す図である。
　以下、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置管理システム、基板処理装置管理方法および基板処理装置管理プログラムについて図面を用いて説明する。以下の説明において、基板とは、半導体基板、液晶表示装置もしくは有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等をいう。
　１．第１の実施の形態
　＜１＞基板処理装置管理システムの構成および動作
　（１）全体構成
　図１は、第１の実施の形態に係る基板処理装置管理システムの構成を説明するための図である。図１に示すように、本実施の形態に係る基板処理装置管理システム２は、主として情報分析装置３および管理装置４から構成され、複数（本例では５つ）の基板処理装置１を管理するために用いられる。以下の説明では、図１に示される５つの基板処理装置１を区別する場合に、５つの基板処理装置１をそれぞれ基板処理装置１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ，１Ｅと呼ぶ。本実施の形態では、基板処理装置１Ａ～１Ｅは同じ構成を有するものとする。
　（２）基板処理装置１Ａの一構成例
　図１に示すように、基板処理装置１Ａは、いわゆるバッチ式の基板洗浄装置であり、処理槽１１、基板保持部１２、昇降装置１３，洗浄液生成装置１４、濃度計２０、搬送ロボット３０および制御装置４０を含む。なお、基板処理装置１Ａには、上記の複数の構成要素の他、図示しない表示装置、音声出力装置および操作部が設けられる。
　基板保持部１２は、複数の基板Ｗを保持可能に構成されている。処理槽１１は、基板保持部１２により保持された複数の基板Ｗを収容可能に構成されている。処理槽１１内には、基板Ｗを洗浄するための洗浄液が貯留される。
　昇降装置１３は、基板保持部１２を上下方向に移動可能に支持するとともに、制御装置４０の制御により基板保持部１２を上下方向に移動させる。それにより、昇降装置１３は、基板保持部１２に保持された複数の基板Ｗを処理槽１１に貯留された洗浄液に浸漬させること、および洗浄液に浸漬された複数の基板Ｗを処理槽１１から引き上げることができる。複数の基板Ｗは、洗浄液に浸漬されることにより洗浄される。また、昇降装置１３には、基板保持部１２を上下方向に移動させるための動力源として図示しないモータが設けられている。
　洗浄液生成装置１４は、貯留タンク１４ａおよび図示しない攪拌装置（バブリング装置等）を備える。貯留タンク１４ａには、薬液供給管９１、純水供給管９２、追加薬液供給管９３および排液管９４が接続されている。複数の配管（９１～９４）の各々には、バルブが設けられている。各バルブは、制御装置４０の制御により開度を調整可能な制御バルブである。
　薬液供給管９１は、当該薬液供給管９１に設けられたバルブが開かれることにより、図示しない薬液供給系から供給される薬液を貯留タンク１４ａに導く。薬液供給管９１を通して貯留タンク１４ａに供給される薬液の流量（単位時間当たりの供給量）は、薬液供給管９１に設けられたバルブの開度に応じて変化する。
　純水供給管９２は、当該純水供給管９２に設けられたバルブが開かれることにより、図示しない純水供給系から供給される純水を貯留タンク１４ａに導く。純水供給管９２を通して貯留タンク１４ａに供給される純水の流量（単位時間当たりの供給量）は、純水供給管９２に設けられたバルブの開度に応じて変化する。
　このようにして、洗浄液生成装置１４の貯留タンク１４ａ内に、所定量の薬液および純水が貯留される。さらに、貯留タンク１４ａ内では、図示しない攪拌機構により貯留された薬液と純水とが混合され、処理槽１１に貯留されるべき洗浄液が生成される。薬液としては、ＢＨＦ（バッファードフッ酸）、ＤＨＦ（希フッ酸）、フッ酸、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢酸、シュウ酸またはアンモニア等が用いられる。
　追加薬液供給管９３は、当該薬液供給管９１に設けられたバルブが開かれることにより、図示しない薬液供給系から供給される薬液を貯留タンク１４ａに導く。追加薬液供給管９３を通した貯留タンク１４ａへの薬液の供給については後述する。排液管９４は、当該排液管９４に設けられたバルブが開かれることにより、洗浄液生成装置１４に貯留された洗浄液の一部または全てを基板処理装置１Ａの外部に排出する。
　貯留タンク１４ａには、さらに、液供給管１５が接続されている。液供給管１５は、処理槽１１と洗浄液生成装置１４とつなぐように設けられている。また、液供給管１５には、ポンプ１６およびバルブ１７が設けられている。バルブ１７は、制御装置４０の制御により開度を調整可能な制御バルブである。ポンプ１６の作動中にバルブ１７が開かれることにより、貯留タンク１４ａに貯留された洗浄液が処理槽１１内に供給される。貯留タンク１４ａから処理槽１１に供給される洗浄液の流量（単位時間当たりの供給量）は、バルブ１７の開度に応じて変化する。
　処理槽１１の底部には、液排出管１８が接続されている。液排出管１８には、バルブ１９が設けられている。バルブ１９は、制御装置４０の制御により開度を調整可能な制御バルブである。バルブ１９が開かれることにより、処理槽１１内に貯留された洗浄液の一部が液排出管１８を通して基板処理装置１Ａから排出される。処理槽１１から排出される洗浄液の流量（単位時間当たりの排出量）は、バルブ１９の開度に応じて変化する。複数の基板Ｗの洗浄処理時には、洗浄液生成装置１４から処理槽１１に洗浄液が供給されるとともに、処理槽１１内部の洗浄液が液排出管１８を通して排出される。
　濃度計２０は、制御装置４０からの指令に応答して貯留タンク１４ａに貯留される洗浄液中の薬液濃度を検出し、検出結果を制御装置４０に与える。搬送ロボット３０は、処理槽１１よりも上方の位置で、基板保持部１２により保持される複数の基板Ｗを搬送する。制御装置４０は、例えばＣＰＵ（中央演算処理装置）およびメモリからなり、昇降装置１３の動作、搬送ロボット３０の動作およびバルブ１７，１９の開度等を制御する。制御装置４０のメモリには、後述する第１の管理プログラムが記憶されている。
　また、制御装置４０は、濃度計２０から与えられる薬液濃度の検出結果に基づいて、貯留タンク１４ａに貯留される洗浄液の薬液濃度が予め定められた範囲内となるように貯留タンク１４ａに供給される薬液の量をフィードバック制御する。例えば、制御装置４０は、濃度計２０により検出される洗浄液の薬液濃度が予め定められた範囲よりも低い場合、図示しない薬液供給系から追加薬液供給管９３を通して洗浄液生成装置１４に追加の薬液を供給する。
　さらに、制御装置４０は、基板処理装置１Ａ内部の所定空間に人が進入したり、基板処理装置１Ａ内に設けられる所定の検出器（例えば、濃度計２０）が機能していない場合に、基板処理装置１Ａの動作を停止させる緊急停止機能を有する。
　（３）処理情報
　各基板処理装置１には、当該基板処理装置１の異常を管理するための情報として、当該基板処理装置における基板Ｗの処理に関する動作または状態を示す複数の処理情報が定められる。これらの処理情報は、図１に太い実線の矢印で示すように、各基板処理装置１の制御装置４０から基板処理装置管理システム２の情報分析装置３に所定周期で送信される。
　図１の吹き出し内に示すように、基板処理装置１Ａから情報分析装置３に送信される処理情報は、「ａ．薬液濃度」、「ｂ．薬液供給量」、「ｃ．濃度検出入力信号」、「ｄ．濃度検出出力信号」、「ｅ．モータ回転数」、「ｆ．モータへの供給電力」、「ｇ．薬液追加量」、「ｈ．薬液供給バルブ開度」および「ｉ．洗浄液排出バルブ開度」を含む。
　「ａ．薬液濃度」は、濃度計２０により検出される貯留タンク１４ａ内の洗浄液の薬液濃度を示す。「ｂ．薬液供給量」は、薬液供給管９１から洗浄液生成装置１４の貯留タンクに供給される洗浄液の流量（単位時間当たりの供給量）を示す。「ｂ．薬液供給量」は、例えば薬液供給管９１に流量計を設けることにより検出することができる。
　基板処理装置１Ａにおいては、制御装置４０から濃度計２０に濃度検出が指令されることにより洗浄液の薬液濃度が検出される。「ｃ．濃度検出入力信号」は、制御装置４０から濃度計２０に与えられる濃度検出の指令信号である。「ｄ．濃度検出出力信号」は、制御装置４０からの指令に応答して濃度計２０から出力される薬液濃度の検出結果を示す信号である。
　「ｅ．モータ回転数」は、昇降装置１３に設けられるモータの回転数であり、例えば回転速度センサを用いてモータの回転速度を検出することにより算出することができる。「ｆ．モータへの供給電力」は、昇降装置１３に設けられるモータに供給される電力量であり、例えば電流計を用いてモータに供給される電流を検出することにより算出することができる。
　「ｇ．薬液追加量」は、貯留タンク１４ａに貯留される洗浄液の薬液濃度が予め定められた範囲内となるように、追加薬液供給管９３から当該貯留タンク１４ａに追加で供給される薬液の単位時間当たりの供給量を示す。「ｇ．薬液追加量」は、例えば追加薬液供給管９３に流量計を設けることにより検出することができる。「ｈ．薬液供給バルブ開度」は、薬液供給管９１に設けられるバルブの開度を示す。「ｉ．洗浄液排出バルブ開度」は、排液管９４に設けられるバルブの開度を示す。
　（４）情報分析装置３における基本動作
　情報分析装置３は、例えばサーバであり、ＣＰＵおよびメモリを含む。情報分析装置３は、各基板処理装置１から送信される複数の処理情報を収集する。情報分析装置３においては、各基板処理装置１から情報分析装置３に送信される複数の処理情報について、互いに異なる２つの処理情報の複数の組み合わせが予め定められている。
　ここで、基板処理装置１が予め定められた処理手順（レシピ）に従って理想的に動作している場合を想定する。この場合、各組み合わせを構成する２つの処理情報の間で、予め定められたインバリアント（不変）な関係（以下、インバリアント関係と呼ぶ。）が維持される。
　一方、基板処理装置１に異常が発生した状態で基板処理が実行されることにより、意に反した基板処理が実行されている場合を想定する。この場合、複数の組み合わせのうち少なくとも一の組み合わせを構成する２つの処理情報の間の関係がインバリアント関係から乖離する。
　そこで、情報分析装置３は、実際に収集された複数の処理情報の複数の組み合わせの関係と、それらの複数の処理情報について予め定められた複数のインバリアント関係との乖離の度合いを複数の乖離度として算出する。また、情報分析装置３は、算出された複数の乖離度に基づいて、当該基板処理装置１の異常の度合いを異常スコアとして算出する。異常スコアの算出方法の具体例は後述する。
　また、情報分析装置３は、図１に太い一点鎖線の矢印で示すように、算出した異常スコアを各基板処理装置１に送信する。異常スコアの送信は、情報分析装置３における異常スコアの算出ごとに行われる。このとき、各基板処理装置１においては、情報分析装置３から送信された異常スコアが記憶される。
　また、情報分析装置３は、各基板処理装置１について、異常スコアが予め定められた第１のしきい値を超えるか否かを判定する。異常スコアが第１のしきい値を超えている場合、情報分析装置３は、当該異常スコアに対応する基板処理装置１に警報を送信する。図１の例では、情報分析装置３は、波状の点線矢印で示すように、基板処理装置１Ａ～１Ｅのうち基板処理装置１Ｄ，１Ｅに警報を送信している。このとき、警報を受けた基板処理装置１Ｄ，１Ｅにおいては、警報が出力される。
　本実施の形態においては、異常スコア（異常の度合い）は、保守作業者による迅速な対応が要求されないものほど低く、保守作業者による迅速な対応が要求されるものほど高い。異常スコアが低い状態としては、複数の処理条件の全てが上記の複数の組み合わせにそれぞれ対応するインバリアント関係から正常と予測される範囲内に収まる状態が挙げられる。
　一方、異常スコアが高い状態は、例えば、「ａ．薬液濃度」の時間的変化が「ｂ．薬液供給量」の時間的変化に基づいて予測される時間的変化に比べて著しく大きい状態（以下、第１の異常状態と呼ぶ。）を含む。第１の異常状態の継続は、洗浄液の薬液濃度が調整できないことによる基板Ｗの処理不良、有害ガスの発生および基板処理装置１の構成部品の損傷を引き起こす。
　また、異常スコアが高い状態は、例えば、濃度計２０に対する濃度検出の指令時点から濃度計２０からの薬液濃度の出力時点までの時間が著しく大きい状態（以下、第２の異常状態と呼ぶ。）を含む。第２の異常状態の継続は、薬液濃度について適切なフィードバック制御ができないことによる基板Ｗの処理不良、有害ガスの発生および基板処理装置１の構成部品の損傷を引き起こす。
　また、異常スコアが高い状態は、例えば、「ｆ．モータへの供給電力」が予測される値に比べて著しく大きい状態（以下、第３の異常状態と呼ぶ。）を含む。第３の異常状態においては、モータに想定外の負荷が作用している可能性が高い。そのため、第３の異常状態の継続は、モータを含む動作部の故障、基板Ｗの搬送不良、基板処理装置１の構成部品の損傷を引き起こす。
　また、異常スコアが高い状態は、例えば、「ｇ．薬液追加量」が予測される範囲を超えて変動している状態（以下、第４の異常状態と呼ぶ。）を含む。第４の状態においては、洗浄液の濃度を一定に保つことが難しい。そのため、第４の異常状態の継続は、基板Ｗの処理不良を引き起こす。
　さらに、異常スコアが高い状態は、例えば、「ｈ．薬液供給バルブ開度」および「ｉ．洗浄液排出バルブ開度」の時間的変化が、「ａ．薬液濃度」および「ｂ．薬液供給量」から予測される時間的変化に比べて著しく異なる状態（以下、第５の異常状態と呼ぶ。）を含む。基板処理装置１Ａが第５の異常状態にある場合、基板処理装置１Ａは、緊急停止機能による停止状態にあるか、または本体的に停止されるべき状態にあると考えられる。
　（５）管理装置４における基本動作
　管理装置４は、例えばパーソナルコンピュータであり、ＣＰＵおよびメモリを含む。また、管理装置４は、表示部４ａおよび操作部４ｂを備え、複数の基板処理装置１を管理する管理者により使用される。
　複数の基板処理装置１をそれぞれ担当する複数の保守作業者は、情報分析装置３から送信される異常スコアを確認することにより、自己の担当する基板処理装置１の異常の度合いを容易に把握することができる。また、各保守作業者は、自己の担当する基板処理装置１が警報を受信することにより、当該基板処理装置１に重大な異常が発生していることを把握することができる。
　しかしながら、各保守作業者は、基板処理装置１の異常の度合いを把握することができても、当該基板処理装置１について異常の発生原因を特定することができない場合がある。この場合、保守作業者は、管理者に基板処理装置１の詳細な調査を依頼する。
　それにより、図１に太い二点鎖線の矢印で示すように、例えば複数の基板処理装置１のうち一部（本例では、基板処理装置１Ａ，１Ｃ，１Ｅ）または全ての基板処理装置１から管理装置４に調査依頼が送信される。さらに、図１に太い点線の矢印で示すように、調査依頼を送信した１または複数の基板処理装置１（本例では、基板処理装置１Ａ，１Ｃ，１Ｅ）から管理装置４に、異常スコアが送信される。
　これにより、管理装置４においては、例えば同時期に複数の基板処理装置１から調査依頼があった場合でも、調査依頼とともに受信した異常スコアに基づいて調査の優先順位を容易かつ迅速に決定することができる。すなわち、管理者は、調査依頼があった基板処理装置１Ａ，１Ｃ，１Ｅの複数の異常スコアに基づいて調査の優先順位を決定することができる。
　なお、管理装置４においては、１または複数の基板処理装置１から受信した調査依頼の各々は、当該調査依頼に対応する基板処理装置１の詳細な調査が行われるごとに、優先順位を決めるための対象から除外される。
　＜２＞基板処理装置管理システム２の機能的な構成
　図２は、第１の実施の形態に係る基板処理装置管理システム２の機能的な構成を説明するためのブロック図である。図２に示すように、情報分析装置３は、情報収集部３１、スコア算出部３２、スコア送信部３３および警報送信部３４を含む。情報分析装置３のメモリには、複数の基板処理装置１を管理するための第２の管理プログラムが記憶されている。図２の情報分析装置３の構成要素（３１～３４）は、情報分析装置３のＣＰＵがメモリに記憶される第２の管理プログラムを実行することにより実現される。なお、情報分析装置３の構成要素（３１～３４）の一部または全てが電子回路等のハードウェアにより実現されてもよい。
　また、管理装置４は、依頼受付部４１、スコア取得部４２およびスコア提示部４３を含む。管理装置４のメモリには、複数の基板処理装置１を管理するための第３の管理プログラムが記憶されている。図２の管理装置４の構成要素（４１～４３）は、管理装置４のＣＰＵがメモリに記憶される第３の管理プログラムを実行することにより実現される。なお、管理装置４の構成要素（４１～４３）の一部または全てが電子回路等のハードウェアにより実現されてもよい。
　上記のように、複数の基板処理装置１の各々から複数の処理情報が情報分析装置３に所定周期で送信される（図２の太い実線の矢印参照）。情報分析装置３の情報収集部３１は、各基板処理装置１から送信される複数の処理情報を収集し、スコア算出部３２に与える。
　情報分析装置３のスコア算出部３２は、各基板処理装置１に対応する複数の処理情報に基づいて当該基板処理装置１の異常スコアを算出し、算出された異常スコアをスコア送信部３３および警報送信部３４に与える。
　情報分析装置３のスコア送信部３３は、スコア算出部３２により算出された異常スコアを当該異常スコアに対応する基板処理装置１に送信する（図２の太い一点鎖線の矢印参照）。各基板処理装置１においては、スコア送信部３３から送信される異常スコアが、例えば当該異常スコアの算出時刻、送信時刻または受信時刻等の時間に対応付けられた状態で記憶される。
　情報分析装置３の警報送信部３４は、各基板処理装置１について算出された異常スコアが上記の第１のしきい値を超えるか否かを判定する。また、警報送信部３４は、異常スコアが第１のしきい値を超えている場合に、当該異常スコアに対応する基板処理装置１（図２の例では基板処理装置１Ｄ，１Ｅ）に警報を送信する（図２の波状の点線矢印参照）。
　各基板処理装置１においては、保守作業者による操作に基づいて、当該基板処理装置１の異常に関する調査依頼が管理装置４に送信される。また、当該基板処理装置１に記憶された異常スコアが管理装置４に送信される。
　管理装置４の依頼受付部４１は、１または複数の基板処理装置１（図２の例では基板処理装置１Ａ，１Ｃ，１Ｅ）から送信される調査依頼を受け付ける（図２の太い二点鎖線の矢印参照）。管理装置４のスコア取得部４２は、１または複数の基板処理装置１（図２の例では基板処理装置１Ａ，１Ｃ，１Ｅ）から調査依頼とともに送信される異常スコアを取得する（図２の太い点線の矢印参照）。管理装置４のスコア提示部４３は、スコア取得部４２により取得された１または複数の異常スコアの各々を、当該異常スコアに対応する基板処理装置１にそれぞれ対応付けて表示部４ａに表示させる。
　図２の例では、調査依頼があった基板処理装置１Ａ，１Ｃ，１Ｅのそれぞれの異常スコアが、「２６４」、「２１０」および「３２２」となっている。これにより、管理者は、基板処理装置１Ｅ，１Ａ，１Ｃの異常の度合いを容易に把握することができる。また、管理者は、基板処理装置１Ｅ，１Ａ，１Ｃの順に詳細な調査を進めればよいことがわかる。
　なお、スコア提示部４３は、調査依頼を送信した未調査の複数の基板処理装置１について複数の異常スコアが算出された場合、それらの異常スコアに基づいて調査の優先順位を決定し、決定した優先順位を表示部４ａに表示させてもよい。
　＜３＞異常スコアの算出の具体例
　上記のように、基板処理装置管理システム２においては、互いに異なる２つの処理情報の複数の組み合わせが定められている。異常スコアを算出するために、各組み合わせごとに乖離度が算出される。図３は、乖離度の具体的な算出例を説明するための図である。ここでは、図１の「ｅ．モータ回転数」と「ｆ．モータへの供給電力」との組み合わせに対応する乖離度の算出例を説明する。以下の説明では、「ｅ．モータ回転数」のデータを適宜「ｅ」データと呼び、「ｆ．モータへの供給電力」のデータを適宜「ｆ」データと呼ぶ。
　乖離度を算出するためには、「ｅ．モータ回転数」と「ｆ．モータへの供給電力」との間のインバリアント関係に基づく基準のデータが必要となる。そこで、情報分析装置３には、各基板処理装置１における実際の基板Ｗの処理前に、当該基板処理装置１がレシピに従って理想的に動作しているときの「ｅ」データおよび「ｆ」データが保持される。
　これらの理想的な「ｅ」データおよび「ｆ」データは、例えば実際に各基板処理装置１が正常に動作しているときに当該基板処理装置１から送信される複数の処理情報に基づいて取得される。あるいは、理想的な「ｅ」データおよび「ｆ」データは、シミュレーション等により生成されてもよい。
　図３の上段に、理想的な「ｅ」データおよび「ｆ」データの経時変化の一例がグラフにより示される。「ｅ」データのグラフにおいては、横軸は時間を表し、縦軸はモータの回転数を表す。「ｆ」データのグラフにおいては、横軸は時間を表し、縦軸は図１の昇降装置１３に設けられるモータに供給される電力量（供給電力）を表す。「ｅ」データのグラフと「ｆ」データのグラフとの間では、横軸（時間軸）は共通している。
　図３の上段の２つのグラフによれば、モータの回転数が大きくなるにつれて、モータへの供給電力も略一定の割合で大きくなることがわかる。これらの関係は、基板処理装置１が理想的に動作するという条件のもとでインバリアントに維持される。そこで、情報分析装置３には、これらの関係（インバリアント関係）が相関情報として予め記憶される。
　この状態で、各基板処理装置１において、基板Ｗの処理が行われ、実際の「ｅ」データおよび「ｆ」データが情報分析装置３の情報収集部３１により収集される。図３の中段に、実際に収集された「ｅ」データおよび「ｆ」データの経時変化の一例がグラフにより示される。
　実際の「ｅ」データが収集されると、スコア算出部３２は予め記憶された相関情報に基づいて「ｆ」データを予測する。また、実際の「ｆ」データが収集されると、スコア算出部３２は予め記憶された相関情報に基づいて「ｅ」データを予測する。図３の下段に、相関情報に基づいて予測された「ｅ」データおよび「ｆ」データの経時変化の一例がグラフにより示される。なお、図３の下段のグラフにおいては、予測された「ｅ」データおよび「ｆ」データが実線で示され、実際に収集された「ｅ」データおよび「ｆ」データが点線で示される。
　基板処理装置１が理想的に動作している場合には、実際の「ｅ」データと予測された「ｅ」データとが一致するかまたはほぼ一致することになる。また、実際の「ｆ」データと予測された「ｆ」データとが一致するかまたはほぼ一致することになる。しかしながら、基板処理装置１に異常が発生している場合には、実際の「ｅ」データと予測された「ｅ」データとが乖離する可能性が高い。また、実際の「ｆ」データと予測された「ｆ」データとが乖離する可能性が高い。この乖離の度合いは、基板処理装置１に発生する異常の程度が大きいほど大きく、基板処理装置１に発生する異常の程度が小さいほど小さいと考えられる。
　そこで、本実施の形態では、実際に収集された処理情報のデータと予測された処理情報のデータとの差分値が乖離度として算出される。図３の例では、スコア算出部３２は、ある時点における乖離度の算出時に、実際の「ｅ」データと予測された「ｅ」データとの差分値を乖離度として算出する。また、スコア算出部３２は、実際の「ｆ」データと予測された「ｆ」データとの差分値を乖離度として算出する。
　図４は、異常スコアの具体的な算出例を説明するための図である。スコア算出部３２は、複数の処理情報の全ての組み合わせに関して、上記の乖離度を算出する。図４では、複数の処理情報の全ての組み合わせに関して算出された複数の乖離度が示される。スコア算出部３２は、全ての乖離度が算出されると、算出された複数の乖離度の合計を異常スコアとして算出する。
　＜４＞複数の基板処理装置１の各々において実行される一連の処理
　図５は、図１の複数の基板処理装置１の各々において実行される処理の一例を示すフローチャートである。図５に示される一連の処理は、各基板処理装置１の電源がオンし、制御装置４０のＣＰＵが第１の管理プログラムを実行することにより開始される。
　まず、制御装置４０は、基板処理装置１内部で取得される複数の処理情報を所定周期で情報分析装置３に送信する（ステップＳ１０）。ステップＳ１０で開始される複数の処理情報の送信処理は、基板処理装置１の電源がオフされるまで所定周期で繰り返される。複数の処理情報の送信時に、制御装置４０は、送信した複数の処理情報をその送信時刻に対応付けて記憶してもよい。
　次に、制御装置４０は、情報分析装置３から異常スコアを受信したか否かを判定する（ステップＳ１１）。制御装置４０は、異常スコアを受信しない場合、後述するステップＳ１３の処理に進む。一方、制御装置４０は、異常スコアを受信した場合、受信した異常スコアをその受信時刻に対応付けて記憶する（ステップＳ１２）。
　次に、制御装置４０は、情報分析装置３から警報を受信したか否かを判定する（ステップＳ１３）。制御装置４０は、警報を受信しない場合、後述するステップＳ１５の処理に進む。一方、制御装置４０は、警報を受信した場合、基板処理装置１の表示装置または音声出力装置により警報を出力する（ステップＳ１４）。上記のステップＳ１１，Ｓ１２の処理は、ステップＳ１４の処理後に行われてもよい。
　次に、制御装置４０は、管理装置４に対して調査依頼を送信すべき指令を受けたか否かを判定する（ステップＳ１５）。調査依頼を送信すべき指令は、例えば、保守作業者が基板処理装置１の操作部を操作することにより制御装置４０に与えられる。制御装置４０は、調査依頼を送信すべき指令を受けない場合、後述するステップＳ１７の処理に進む。一方、制御装置４０は、調査依頼を送信すべき指令を受けた場合、調査依頼と現時点から最も近い時点で記憶された異常スコアとを管理装置４に送信する（ステップＳ１６）。ステップＳ１６においては、制御装置４０は、現時点から予め定められた時間（例えば数時間）前までに記憶された複数の異常スコアをそれらの受信時刻とともに管理装置４に送信してもよい。
　次に、制御装置４０は、管理装置４から基板処理装置１についての特定の作業を行うべき作業指示を受信したか否かを判定する（ステップＳ１７）。制御装置４０は、作業指示を受信しない場合、後述するステップＳ１９の処理に進む。一方、制御装置４０は、作業指示を受信した場合、受信した作業指示を、例えば基板処理装置１が備える表示装置により保守作業者に提示する（ステップＳ１８）。
　その後、制御装置４０は、基板処理装置１の動作を停止させる終了指令を受けたか否かを判定する（ステップＳ１９）。制御装置４０は、終了指令を受けない場合、ステップＳ１１の処理に進む。一方、制御装置４０は、終了指令を受けた場合、一連の処理を終了する。
　＜５＞情報分析装置３において実行される一連の処理
　図６は、図１の情報分析装置３において実行される処理の一例を示すフローチャートである。図６に示される一連の処理は、情報分析装置３の電源がオンし、情報分析装置３のＣＰＵが第２の管理プログラムを実行することにより開始される。
　まず、図２の情報収集部３１は、複数の基板処理装置１の各々から送信される複数の処理情報の収集を開始する（ステップＳ２０）。ステップＳ２０で開始される複数の処理情報の収集処理は、情報分析装置３の電源がオフされるまで所定周期で繰り返される。
　次に、図２のスコア算出部３２は、ステップＳ２０の処理で複数の処理情報が収集された１または複数の基板処理装置１のうち異常スコアが算出されていない一の基板処理装置１を選択する（ステップＳ２１）。
　次に、スコア算出部３２は、選択された一の基板処理装置１について、収集された複数の処理情報から複数の乖離度を算出する（ステップＳ２２）。また、スコア算出部３２は、算出された複数の乖離度に基づいて一の基板処理装置１の異常スコアを算出し、算出された異常スコアを当該一の基板処理装置１に送信する（ステップＳ２３）。
　次に、図２の警報送信部３４は、ステップＳ２３で算出された異常スコアが第１のしきい値を超えているか否かを判定する（ステップＳ２４）。警報送信部３４は、異常スコアが第１のしきい値を超えていない場合、後述するステップＳ２６の処理に進む。一方、警報送信部３４は、異常スコアが第１のしきい値を超えている場合、一の基板処理装置１に警報を送信する（ステップＳ２５）。
　次に、スコア算出部３２は、複数の処理情報が収集されかつ異常スコアが算出されていない基板処理装置１がないか否かを判定する（ステップＳ２６）。スコア算出部３２は、異常スコアが算出されていない基板処理装置１がある場合、ステップＳ２１の処理に進む。一方、スコア算出部３２は、異常スコアが算出されていない基板処理装置１がない場合、情報分析装置３の動作を停止させる終了指令を受けたか否かを判定する（ステップＳ２７）。スコア算出部３２は、終了指令を受けない場合、ステップＳ２１の処理に進む。一方、スコア算出部３２は、終了指令を受けた場合、一連の処理を終了する。
　＜６＞管理装置４において実行される一連の処理
　図７は、図１の管理装置４において実行される処理の一例を示すフローチャートである。図７に示される一連の処理は、管理装置４の電源がオンし、管理装置４のＣＰＵが第３の管理プログラムを実行することにより開始される。
　まず、図２の依頼受付部４１は、複数の基板処理装置１のうち少なくとも１の基板処理装置１から調査依頼を受信したか否かを判定する（ステップＳ３０）。依頼受付部４１は、調査依頼を受信しない場合、後述するステップＳ３３の処理に進む。一方、依頼受付部４１は、少なくとも１の基板処理装置１から調査依頼を受信した場合、受信した調査依頼を受け付ける（ステップＳ３１）。
　上記のように、基板処理装置１から管理装置４への調査依頼の送信時には、基板処理装置１から管理装置４に調査依頼とともに異常スコアが送信される。それにより、図２のスコア取得部４２は、調査依頼とともに送信される異常スコアを受信し、取得する（ステップＳ３２）。このとき取得された調査依頼および異常スコアは、管理装置４のメモリに記憶される。
　次に、図２のスコア提示部４３は、基板処理装置１の調査を開始すべき指令を受けたか否かを判定する（ステップＳ３３）。調査を開始すべき指令は、例えば、管理者が管理装置４の操作部４ｂを操作することによりスコア提示部４３に与えられる。スコア提示部４３は、調査を開始すべき指令を受けない場合、ステップＳ３０の処理に進む。一方、スコア提示部４３は、調査を開始すべき指令を受けた場合、調査対象となる基板処理装置１が複数であるか否かを判定する（ステップＳ３４）。
　スコア提示部４３は、調査対象となる基板処理装置１が１つである場合、後述するステップＳ３６の処理に進む。一方、スコア提示部４３は、調査対象となる基板処理装置１（未調査の基板処理装置１）が複数である場合、調査対象の各基板処理装置１の異常スコアを当該基板処理装置１に対応付けて表示部４ａに表示させる（ステップＳ３５）。なお、スコア提示部４３は、調査対象となる基板処理装置１が１つである場合に、当該基板処理装置１の異常スコアを表示部４ａに表示させてもよい。また、スコア提示部４３は、調査依頼を受けた未調査の複数の基板処理装置１について複数の異常スコアに基づいて調査の優先順位を決定してもよい。この場合、スコア提示部４３は、決定した優先順位を表示部４ａに表示させてもよい。
　その後、管理装置４のＣＰＵは、管理者による操作部４ｂの操作に応答して、調査対象である１または複数の基板処理装置１のうち一の基板処理装置１についての調査処理を行う（ステップＳ３６）。また、管理装置４のＣＰＵは、調査処理の結果に基づいて、保守作業者への作業指示を一の基板処理装置１に送信する（ステップＳ３７）。
　次に、管理装置４のＣＰＵは、管理装置４の動作を停止させる終了指令を受けたか否かを判定する（ステップＳ３８）。管理装置４のＣＰＵは、終了指令を受けない場合、ステップＳ３０の処理に進む。一方、管理装置４のＣＰＵは、終了指令を受けた場合、一連の処理を終了する。
　なお、ステップＳ３６においては、調査処理が行われた基板処理装置１についての調査依頼および異常スコアは、調査処理の終了とともに管理装置４のメモリから消去される。あるいは、ステップＳ３６においては、調査処理が行われた基板処理装置１は、調査対象の候補から外される。
　また、ステップＳ３８においては、調査対象とされた１または複数の基板処理装置１のうち調査されていない基板処理装置１が存在する場合、その調査依頼は管理装置４のメモリに記憶された状態で保持される。あるいは、ステップＳ３８においては、調査対象とされかつ調査処理が行われていない基板処理装置１は、調査対象の候補に残る。
　＜７＞第１の実施の形態の効果
　上記の管理装置４においては、２以上の基板処理装置１について２以上の調査依頼があった場合に、調査依頼のあった２以上の基板処理装置１の異常の度合いが異常スコアとして表示部４ａに表示される。この場合、管理者は、表示された異常スコアに基づいて、調査依頼のあった２以上の基板処理装置１の異常の度合いを容易に把握することができる。また、異常スコアは、複数の処理情報間のインバリアント関係に基づいて算出される。したがって、管理者は、調査依頼があった複数の基板処理装置１について、調査の優先順位を容易かつ適切に短時間で把握することができる。
　また、上記の基板処理装置管理システム２においては、情報分析装置３において算出された異常スコアが、当該異常スコアに対応する基板処理装置１に送信される。各基板処理装置１においては、当該基板処理装置１に対応する異常スコアが時系列で記憶される。これにより、各基板処理装置１を担当する保守作業者は、当該基板処理装置１に記憶された異常スコアの経時変化を容易に確認することができる。
　２．第２の実施の形態
　上記の複数の処理情報の複数の組み合わせには、基板処理装置１の異常の程度を把握する場合に特に重視すべき組み合わせと、重視する必要がない組み合わせとが存在する。
　例えば、第１の異常状態を考慮すると、「ａ．薬液濃度」と「ｂ．薬液供給量」との組み合わせは、第１の異常状態の継続を回避するために、異常スコアを算出する上で関係性が高い組み合わせといえる。また、第２の異常状態を考慮すると、「ｃ．濃度検出入力信号」と「ｄ．濃度検出出力信号」との組み合わせは、第２の異常状態の継続を回避するために、異常スコアを算出する上で関係性が高い組み合わせといえる。一方、第１の異常状態～第５の異常状態を考慮する必要がない処理情報の組み合わせは、異常スコアを算出する上で関係性が低い組み合わせといえる。
　第１の実施の形態に係る基板処理装置管理システム２においては、乖離度は、実際に収集された処理情報のデータと予測された処理情報のデータとの差分値である。そのため、上記実施の形態で算出される乖離度には、異常スコアを算出する際に本来的に重視されるべき基板処理装置１の複数種類の異常状態について考慮されていない。そこで、第２の実施の形態に係る基板処理装置管理システムは、以下の構成を有する。
　第２の実施の形態に係る基板処理装置管理システムが第１の実施の形態に係る図２の基板処理装置管理システム２と異なる点について説明する。図８は、第２の実施の形態に係る基板処理装置管理システムの機能的な構成を説明するための図である。図８に示すように、本実施の形態に係る基板処理装置管理システム２においては、情報分析装置３は、機能部として、第１の実施の形態で説明した構成要素（３１～３４）に加えて重み記憶部３９を含む。重み記憶部３９は、第２の実施の形態に係る情報分析装置３のＣＰＵがメモリに記憶される第２の管理プログラムを実行することにより実現される。なお、重み記憶部３９は電子回路等のハードウェアにより実現されてもよい。
　重み記憶部３９には、複数の処理情報の複数の組み合わせにそれぞれ対応する複数の重みが記憶される。図９は、図８の重み記憶部３９に記憶される複数の重みの一例を示す図である。本実施の形態では、基板処理装置１に発生し得る複数種類の異常状態について「第１レベル」～「第６レベル」までの６つの異常レベルが設定される。６つの異常レベルは、「第１レベル」、「第２レベル」、「第３レベル」、「第４レベル」、「第５レベル」および「第６レベル」の順に、異常の程度が大きいものとする。また、各異常状態との関連性が高い処理情報の組み合わせに、当該異常状態の異常レベルに対応する大きさの重みが割り当てられる。
　具体的には、第５の異常状態に、最も高い「第６レベル」が設定される。その上で、第５の異常状態について関連性が高い「ａ．薬液濃度」、「ｂ．薬液供給量」、「ｈ．薬液供給バルブ開度」および「ｉ．洗浄液排出バルブ開度」の相互間の組み合わせ（８つの組み合わせ）に重み「６」が割り当てられる。
　また、第１の異常状態に、２番目に高い「第５レベル」が設定される。その上で、第１の異常状態について関連性が高い「ａ．薬液濃度」および「ｂ．薬液供給量」の相互間の組み合わせ（２つの組み合わせ）に重み「５」が割り当てられる。
　また、第３の異常状態に、３番目に高い「第４レベル」が設定される。その上で、第３の異常状態について関連性が高い「ｅ．モータ回転数」および「ｆ．モータへの供給電力」の相互間の組み合わせ（２つの組み合わせ）に重み「４」が割り当てられる。
　また、第２の異常状態に、４番目に高い「第３レベル」が設定される。その上で、第２の異常状態について関連性が高い「ｃ．濃度検出入力信号」および「ｄ．濃度検出出力信号」の相互間の組み合わせ（２つの組み合わせ）に重み「３」が割り当てられる。
　また、第４の異常状態に、５番目に高い「第２レベル」が設定される。その上で、第４の異常状態について関連性の高い「ａ．薬液濃度」、「ｂ．薬液供給量」および「ｇ．薬液追加量」の相互間の組み合わせ（４つの組み合わせ）に重み「２」が割り当てられる。
　さらに、第１～第５の異常状態以外の異常状態に、最も低い「第１レベル」が設定される。その上で、第１～第５の異常状態を含む複数の異常状態について関連性の低い複数の処理情報の相互間の複数の組み合わせに重み「１」が割り当てられる。
　図８のスコア算出部３２は、図２のスコア算出部３２と同様に、複数の処理情報の複数の組み合わせの各々について、実際に収集された処理情報のデータと予測された処理情報のデータとの差分値を算出する。また、図８のスコア算出部３２は、重み記憶部３９に記憶された複数の重みに基づいて、複数の処理情報の各組み合わせについて、算出された差分値と当該組み合わせに割り当てられた重みとを掛け合わせた値（乗算値）を乖離度として算出する。さらに、図８のスコア算出部３２は、全ての乖離度が算出されると、算出された複数の乖離度の合計を異常スコアとして算出する。
　このように、第２の実施の形態に係る基板処理装置管理システム２においては、異常スコアが、異常レベルに応じた重み付け量を含む乖離度に基づいて算出される。それにより、複数の基板処理装置１の管理者は、算出された異常スコアを参照することにより、各基板処理装置１の異常の度合いをより適切に把握することができる。
　３．他の実施の形態
　（１）上記実施の形態に係る基板処理装置管理システム２においては、情報収集部３１は、予め定められた時間が経過するごとに、収集される処理情報の積算およびリセットを繰り返してもよい。また、情報収集部３１は、予め定められた時間が経過するごとに、リセットされる直前まで積算された処理情報をスコア算出部３２に与えてもよい。この場合、スコア算出部３２においては、積算された複数の処理情報に基づいて異常スコアが算出される。この場合、異常スコアに各処理情報の収集時に発生するノイズ等の影響が及ぶことが低減される。
　（２）上記実施の形態に係る基板処理装置管理システム２においては、情報分析装置３で行われる一連の処理が、管理装置４で行われてもよい。また、情報分析装置３で行われる一連の処理が、複数の基板処理装置１のうちいずれかの基板処理装置１で行われてもよい。この場合、情報分析装置３が不要となる。
　（３）上記実施の形態に係る基板処理装置管理システム２においては、情報分析装置３が、複数の基板処理装置１からの調査依頼を受信し、受信した調査依頼およびその調査依頼に対応する異常スコアを管理装置４に送信してもよい。
　（４）上記実施の形態に係る基板処理装置管理システム２においては、情報分析装置３から複数の基板処理装置１に異常スコアが送信されなくてもよい。この場合、複数の基板処理装置１のうちいずれかから調査依頼を受けた管理装置４は、調査依頼を受けた基板処理装置１の異常スコアを情報分析装置３から取得してもよい。
　（５）上記実施の形態においては、複数の基板処理装置１Ａ～１Ｅは同じ構成を有するが、本発明はこれに限定されない。複数の基板処理装置１Ａ～１Ｅのうち一部または全てが互いに異なる構成を有してもよい。また、複数の基板処理装置１Ａ～１Ｅのうち少なくとも１つは、バッチ式ではなく枚葉式の基板洗浄装置であってもよいし、洗浄処理以外の処理を行う構成を有してもよい。
　（６）複数の処理情報は、上記実施の形態に記載された複数の具体例に加えてまたは複数の具体例に代えて、基板Ｗに供給される流体の温度、基板Ｗが収容される処理室内の温度、基板Ｗが収容される処理室内の圧力、基板Ｗが収容される処理室から排出される気体の圧力、およびロボットにより搬送される基板の移動速度のうち少なくとも１つの物理量を含んでもよい。
　また、複数の処理情報は、基板Ｗを搬送するロボットを駆動する駆動パルス信号、および基板Ｗを搬送するロボットに設けられる検出器の出力信号のうち少なくとも１つに関する情報を含んでもよい。
　（７）上記実施の形態に係る基板処理装置管理システム２においては、スコア算出部３２は、予め定められた時間が経過するごとに、異常スコアの積算およびリセットを繰り返すことにより異常スコアの積分値をさらに算出してもよい。この場合、警報送信部３４は、異常スコアの積分値が予め定められた第２のしきい値を超えるか否かを判定してもよい。また、警報送信部３４は、異常スコアの積分値が第２のしきい値を超えている場合、当該異常スコアの積分値に対応する基板処理装置１に警報を送信してもよい。この場合、各基板処理装置１の保守作業者は、自己の担当する基板処理装置１における異常の発生をより高い精度で把握することができる。
　４．請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
　以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
　上記実施の形態においては、基板処理装置１，１Ａ～１Ｅが複数の基板処理装置の例であり、基板処理装置管理システム２が基板処理装置管理システムの例であり、情報収集部３１が情報収集部の例であり、スコア算出部３２がスコア算出部の例であり、依頼受付部４１が依頼受付部の例である。
　また、スコア取得部４２がスコア取得部の例であり、スコア提示部４３が優先順位提示部の例であり、複数の基板処理装置１の複数の異常スコアおよび調査の優先順位が優先順位情報の例であり、スコア送信部３３がスコア送信部の例であり、警報送信部３４が警報送信部の例であり、情報分析装置３が情報分析装置の例である。

Claims (13)

  1. 複数の基板処理装置を管理するために用いられる基板処理装置管理システムであって、
    　各基板処理装置から基板の処理に関連する動作または状態を示す複数の処理情報を収集する情報収集部と、
    　各基板処理装置について、前記複数の処理情報間のインバリアントな関係と当該基板処理装置から収集される複数の処理情報とに基づいて当該基板処理装置の異常の度合いを異常スコアとして算出するスコア算出部と、
    　各基板処理装置から異常に関する調査依頼を受け付ける依頼受付部と、
    　前記依頼受付部に調査依頼を送信した２以上の基板処理装置についてそれぞれ算出された２以上の異常スコアを取得するスコア取得部と、
    　前記スコア取得部により取得された２以上の異常スコアに基づいて、前記２以上の調査依頼に対して応答すべき優先順位に関する優先順位情報を提示する優先順位提示部とを備える、基板処理装置管理システム。
  2. 前記優先順位情報は、前記スコア取得部により取得された２以上の異常スコアを含み、
    　前記優先順位提示部は、前記スコア取得部により取得された２以上の異常スコアを前記２以上の基板処理装置にそれぞれ対応付けて提示する、請求項１記載の基板処理装置管理システム。
  3. 前記スコア算出部により算出された異常スコアを当該異常スコアに対応する基板処理装置に送信するスコア送信部をさらに備える、請求項１または２記載の基板処理装置管理システム。
  4. 各基板処理装置について算出された異常スコアが予め定められたしきい値を超えるか否かを判定し、前記異常スコアが前記しきい値を超える場合に、当該異常スコアに対応する基板処理装置に警報を送信する警報送信部をさらに備える、請求項１～３のいずれか一項に記載の基板処理装置管理システム。
  5. 前記情報収集部は、一定時間が経過するごとに収集される複数の処理情報の積算およびリセットを繰り返し、
    　前記スコア算出部は、各基板処理装置について、前記複数の処理情報間のインバリアントな関係と当該基板処理装置により生成されかつ前記情報収集部により積算された複数の処理情報とに基づいて当該基板処理装置の異常の度合いを前記異常スコアとして算出する、請求項１～４のいずれか一項に記載の基板処理装置管理システム。
  6. 前記複数の処理情報について、互いに異なる２つの処理情報の複数の組み合わせが定められ、
    　各組み合わせは、第１の処理情報および第２の処理情報を含み、
    　前記スコア算出部は、
    　各組み合わせについて、予め定められた条件で収集された前記第２の処理情報に基づいて、前記予め定められた条件で予測される前記第１の処理情報を、第１の予測処理情報として生成し、生成された第１の予測処理情報と前記データ収集部により実際に収集された前記第１の処理情報との乖離の度合いを第１の乖離度として算出し、
    　各組み合わせについて、前記予め定められた条件で収集された前記第１の処理情報に基づいて、前記予め定められた条件で予測される前記第２の処理情報を、第２の予測処理情報として生成し、生成された第２の予測処理情報と前記データ収集部により実際に収集された前記第２の処理情報との乖離の度合いを第２の乖離度として算出し、
    　前記複数の組み合わせについてそれぞれ算出された複数の第１の乖離度および複数の第２の乖離度に基づいて前記異常スコアを算出する、請求項１～５のいずれか一項に記載の基板処理装置管理システム。
  7. 前記スコア算出部は、前記複数の組み合わせについてそれぞれ算出された複数の第１の乖離度および複数の第２の乖離度の合計を前記異常スコアとして算出する、請求項６記載の基板処理装置管理システム。
  8. 前記複数の組み合わせの各々には、当該組み合わせと基板処理装置の複数種類の異常状態との関連性に応じて予め定められた重みが割り当てられ、
    　前記スコア算出部は、前記複数の組み合わせと前記複数の重みとに基づいて前記複数の第１の乖離度および複数の第２の乖離度を算出する、請求項６または７記載の基板処理装置管理システム。
  9. 前記複数の処理情報は、基板に供給される流体の供給量、基板に供給される流体の温度、基板に供給される処理液の濃度、基板が収容される処理室内の温度、基板が収容される処理室内の圧力、基板が収容される処理室から排出される気体の圧力、およびロボットにより搬送される基板の移動速度のうち少なくとも１つの物理量を含む、請求項１～８のいずれか一項に記載の基板処理装置管理システム。
  10. 前記複数の処理情報は、基板を搬送するロボットを駆動する駆動パルス信号、基板を搬送するロボットに設けられる検出器の出力信号、および制御バルブに与えられる開閉信号のうち少なくとも１つに関する情報を含む、請求項１～９のいずれか一項に記載の基板処理装置管理システム。
  11. 各基板処理装置は、洗浄液を用いて基板を洗浄する基板洗浄装置であり、
    　前記複数の処理情報は、基板に供給される洗浄液の供給量、基板に供給される洗浄液の温度、基板に供給される洗浄液の濃度のうち少なくとも１つを含む、請求項１～１０のいずれか一項に記載の基板処理装置管理システム。
  12. 複数の基板処理装置を管理するために用いられる基板処理装置管理方法であって、
    　各基板処理装置から基板の処理に関連する動作または状態を示す複数の処理情報を収集するステップと、
    　各基板処理装置について、前記複数の処理情報間のインバリアントな関係と当該基板処理装置から収集される複数の処理情報とに基づいて当該基板処理装置の異常の度合いを異常スコアとして算出するステップと、
    　各基板処理装置から異常に関する調査依頼を受け付けるステップと、
    　調査依頼を送信した２以上の基板処理装置についてそれぞれ算出された２以上の異常スコアを取得するステップと、
    　前記取得するステップにより取得された２以上の異常スコアに基づいて、前記２以上の調査依頼に対して応答すべき優先順位に関する優先順位情報を提示するステップとを含む、基板処理装置管理方法。
  13. 情報分析装置を用いて複数の基板処理装置を管理する処理をコンピュータに実行させる基板処理装置管理プログラムであって、
    　前記情報分析装置は、
    　各基板処理装置から基板の処理に関連する動作または状態を示す複数の処理情報を収集する情報収集部と、
    　各基板処理装置について、前記複数の処理情報間のインバリアントな関係と当該基板処理装置から収集される複数の処理情報とに基づいて当該基板処理装置の異常の度合いを異常スコアとして算出するスコア算出部とを含み、
    　前記複数の基板処理装置を管理する処理は、
    　各基板処理装置から異常に関する調査依頼を受け付ける処理と、
    　調査依頼を送信した２以上の基板処理装置についてそれぞれ算出された２以上の異常スコアを取得する処理と、
    　前記取得する処理により取得された２以上の異常スコアに基づいて、前記２以上の調査依頼に対して応答すべき優先順位に関する優先順位情報を提示する処理とを含む、基板処理装置管理プログラム。
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