WO2023204087A1 - マイクロ流路デバイス及びその製造方法 - Google Patents

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毅 山本
啓司 宮▲崎▼
慎 深津
淳 三浦
晴信 前田
風花 榎戸
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Definitions

  • the present disclosure relates to a microchannel device in which a microchannel is formed inside a porous base material and a method for manufacturing the same.
  • microchannel devices that utilize micro-sized microchannels to efficiently perform biochemical analyzes (small amounts, quickly, and easily) within a single chip has attracted attention in a wide range of fields. ing. Specifically, it is attracting attention in various fields such as biochemistry research, medicine, drug discovery, health care, the environment, and food. Among these, paper-based microanalysis chips have the advantage of being lighter and lower in cost than conventional devices, not requiring the use of a power source, and also being easily discarded. For this reason, it is expected to be used as a testing device for medical activities in developing countries and remote areas where medical facilities are lacking, as well as at disaster sites, as well as at airports and other locations where the spread of infectious diseases must be stopped at the border. Furthermore, because it is inexpensive and easy to handle, it is attracting attention as a healthcare device that can manage and monitor one's own health condition.
  • the microchannels fabricated using these photolithography techniques have extremely high precision, their manufacturing costs are extremely high, and they are also difficult to incinerate, making them difficult to dispose of. .
  • ancillary equipment such as a syringe pump is required to send the test solution into the flow path, it is limited to use in well-equipped environments and is mainly used at biochemical research institutions. It's here.
  • paper microanalysis chips use inexpensive materials such as paper and cloth as the base material, and can drive specimens and test solutions by utilizing the capillary phenomenon of the material itself. Therefore, it can be used at low cost and in an environment without electricity. In addition, it is easy to carry (distribute) and is highly disposable (disposal can be completed by simply burning it). Furthermore, since no maintenance is required for the equipment, anyone (even elderly people or children with no knowledge) can easily perform point-of-care diagnosis at low cost, anywhere (even in places without power). It becomes possible to realize this. Therefore, research and development of paper microchannel devices for various infectious diseases, specific diseases, and healthcare (chronic disease management, health management) is currently underway at research institutions around the world.
  • the flow channels are designed to prevent liquid from seeping into the channel walls and to suppress swelling of the channel walls due to water absorption when the device is used in a high humidity environment.
  • High hydrophobicity is required for the material that forms it.
  • the hydrophobicity of the side surface of the channel wall on the channel side is important, and has a large effect on the flow rate of the sample and the bleeding into the channel wall.
  • Patent Document 1 proposes a microchannel device in which channel walls are formed in a porous layer (paper, etc.) using a wax printer using phase change ink.
  • ink when using ink, it tends to smear, making it difficult to form fine channels that provide a stable flow rate.
  • microchannel devices without a protective layer are susceptible to cracking and may cause sample leakage, and therefore cannot be used in devices with curvature, such as roll-shaped devices.
  • One aspect of the present disclosure aims to provide a microchannel device in which channel walls have high hydrophobicity and high cracking resistance.
  • Another aspect of the present disclosure aims to provide a method for manufacturing a microchannel device in which channel walls have high hydrophobicity and high cracking resistance.
  • a microchannel device in which a channel sandwiched between channel walls is formed inside a porous base material,
  • the channel wall forming material forming the channel wall contains a thermoplastic resin and wax,
  • the abundance ratio of wax on the surface side of the porous base material in the channel wall is X
  • the abundance ratio of wax inside the porous base material is Y
  • X ⁇ Y In the entire channel wall forming material, the content ratio of the wax is 13.1% by mass or more and 70.0% by mass or less
  • the SP value of the wax is SP (W) [cal/cm 3 ] 1/2
  • the SP value of the thermoplastic resin is SP (B) [cal/cm 3 ] 1/2
  • SP(B)-SP(W) ⁇ 0.6 A microchannel device is provided.
  • a method for manufacturing a microchannel device in which a channel sandwiched between channel walls is formed inside a porous base material comprising: a step of placing a channel wall forming material containing a thermoplastic resin and wax on the surface of the porous base material using an electrophotographic method to form a channel pattern on the surface of the porous base material; melting the wax contained in the channel pattern by heat and allowing the wax to penetrate into the porous base material to form a channel wall inside the porous base material; has In the entire channel wall forming material, the content ratio of the wax is 13.1% by mass or more and 70.0% by mass or less, When the SP value of the wax is SP (W) [cal/cm 3 ] 1/2 , and the SP value of the thermoplastic resin is SP (B) [cal/cm 3 ] 1/2 , SP(B)-SP(W) ⁇ 0.6 A method for manufacturing a microchannel device is provided.
  • microchannel device in which channel walls have high hydrophobicity and high cracking resistance. According to another aspect of the present disclosure, it is possible to provide a microchannel device in which channel walls have high hydrophobicity and high cracking resistance.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a state in which flow path wall forming particles T in Example 1 are placed on the surface of a porous base material S1 (before heating).
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a state in which molten wax has penetrated into the inside of the porous base material S1 (after heating).
  • FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of a microchannel device formed by penetration of molten wax.
  • 1 is a configuration diagram of an image forming unit 100 in Example 1.
  • FIG. 3 is a configuration diagram of a process cartridge P in Example 1.
  • FIG. 2 is a block diagram showing a schematic control mode of the image forming unit 100 in Example 1.
  • FIG. 3 is a flow path pattern diagram in Example 1.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a state in which molten wax has penetrated into the inside of the porous base material S1 (after heating).
  • FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of a microchannel device formed by penetration of molten wax.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a state in which colored water is dropped into a channel of a device in which a channel wall is formed.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a state in which colored water is dropped into a channel of a device with a channel wall removed.
  • a channel sandwiched between channel walls is formed inside a porous base material.
  • the channel wall contains a thermoplastic resin and wax.
  • the channel wall includes an inner part of the porous base material formed by the components that have soaked into the porous base material, and a part on the surface of the porous base material that is formed by the components present on the surface of the porous base material. This includes both formed parts.
  • the SP value of the wax is lower than the SP value of the thermoplastic resin.
  • the abundance ratio of the wax is higher inside the porous base material than on the surface side of the porous base material.
  • Existence ratio of wax means the area ratio occupied by wax in the channel wall forming material portion when observing the cross section of the microchannel device.
  • the surface side of the porous base material means the outside (air layer side) from the outermost surface of the porous base material (the interface between the porous base material and the air layer).
  • the porous base material when in contact with something, it means the interface between the porous base material and the member that is in contact with it.
  • “Inside the porous base material” means the inside from the outermost surface of the porous base material (the porous base material side).
  • the abundance ratio of the wax is higher inside the porous base material than on the surface side of the porous base material means that the abundance ratio of wax on the surface side of the porous base material is X, and When the abundance ratio of wax existing in the pores inside the material is Y, X ⁇ Y It means that.
  • a channel pattern formed by placing particles for forming channel walls on the surface of a porous base material using an electrophotographic method is melted by heat and infiltrated into the inside of the porous base material. As a result, a channel wall is formed inside the porous base material.
  • the channel wall forming material contains a thermoplastic resin and wax (oil).
  • a channel pattern is formed on the surface of a porous substrate using channel wall forming particles made of a channel wall forming material, and the channel pattern is melted by heat to form the channel wall forming material into the porous pores. permeate into the interior of the solid base material to form channel walls.
  • the content ratio of wax is 13.1% by mass or more and 70.0% by mass or less.
  • the content ratio of wax in the channel wall forming material means the mass ratio of wax contained in the entire channel wall forming material. That is, it is the mass ratio of wax in the entire channel wall forming material existing in the pores inside the porous base material and the channel wall forming material existing on the surface of the porous base material.
  • the wax content ratio is set to the above range is that if the wax content ratio is less than 13.1% by mass, the amount of wax W supplied to the porous base material S1 is insufficient, making it impossible to form a channel wall. It is from. Further, if the wax content exceeds 70.0% by mass, it is difficult to form a channel pattern in an electrophotographic image forming process.
  • the content ratio of wax in the channel wall forming material can be measured as follows. A channel portion where a channel wall is not formed, that is, a portion of the porous substrate S1 itself, and a portion where a channel wall is formed are each cut out into 1 cm square pieces, and 10 sheets are prepared. Next, hexane is dropped onto the portion where the channel wall is formed and suctioned, and the wax is dissolved in hexane and removed. The mass of wax is calculated from the difference in mass before and after this hexane cleaning. Next, the mass of the thermoplastic resin is calculated from the mass difference between the mass after removing the wax and the mass of the porous base material S1 itself. The content ratio can be calculated from the calculated mass of wax and the mass of thermoplastic resin.
  • the channel wall can have good hydrophobicity.
  • thermoplastic resin B and wax W become more compatible with each other, making it difficult for wax W to separate from the channel wall forming material. This is because a sufficient amount of wax W cannot reach inside the porous base material S1, and the flow channel wall cannot be formed.
  • the wax W melted by heat is liberated and comes out to the outside of the channel wall forming particles T. This is because wax W with a lower SP value is more likely to exist on the outermost surface side of channel wall forming particles T due to the difference in surface free energy between thermoplastic resin B and wax W. Therefore, by heating, the wax W is separated from the thermoplastic resin B and actively penetrates into the porous base material S1, while forming a thermoplastic resin layer on the surface of the porous base material S1. becomes possible.
  • the channel walls made of wax W formed inside the porous base material S1 have higher water repellency due to the characteristics of the wax W, and liquids such as specimens are kept outside the channel 82 (channel Reduces the risk of leakage (inside the wall).
  • thermoplastic resin is not particularly limited, and the following known thermoplastic resins can be used. Polyester resin, vinyl resin, acrylic resin, styrene acrylic resin, polyethylene, polypropylene, polyolefin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, ethylene-acrylic acid copolymer resin, etc.
  • thermoplastic resins polyester resins or styrene-acrylic resins are preferred, and styrene-acrylic resins are more preferred.
  • polyester resin a known polyester resin can be used.
  • polyester resin examples include the following methods. Dibasic acids and their derivatives and dihydric alcohols are essential, and trivalent or higher polybasic acids and their derivatives (carboxylic acid halides, esters, acid anhydrides), monobasic acids, trivalent or higher valences are optionally required. A method of dehydrating and condensing alcohol, monohydric alcohol, etc.
  • dibasic acids include the following. Aliphatic dibasic acids such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, dodecylsuccinic acid, dodecenylsuccinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, decane-1,10-dicarboxylic acid; phthalate acids, aromatic dibasic acids such as tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, tetrabromophthalic acid, tetrachlorophthalic acid, het acid, hymic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid; etc. .
  • Aliphatic dibasic acids such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, dodecylsuccinic acid, do
  • examples of derivatives of dibasic acids include carboxylic acid halides, esterification products, and acid anhydrides of the above aliphatic dibasic acids and aromatic dibasic acids.
  • dihydric alcohols include the following. Ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, neopentyl Acyclic aliphatic diols such as glycols; bisphenols such as bisphenol A and bisphenol F; alkylene oxide adducts of bisphenol A such as ethylene oxide adducts of bisphenol A and propylene oxide adducts of bisphenol A; xylylene diglycol Aralkylene glycols such as; etc.
  • trivalent or higher polybasic acids and their anhydrides examples include trimellitic acid, trimellitic anhydride, pyromellitic acid, and pyromellitic anhydride.
  • polymerizable monomers that can form the styrene acrylic resin include the following.
  • Styrenic monomers such as styrene, ⁇ -methylstyrene, and divinylbenzene; such as methyl acrylate, butyl acrylate, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, t-butyl methacrylate, and 2-ethylhexyl methacrylate.
  • unsaturated carboxylic acid esters unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid; unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid; unsaturated dicarboxylic acid anhydrides such as maleic anhydride; nitrites such as acrylonitrile Vinyl monomers; halogen-containing vinyl monomers such as vinyl chloride; nitro vinyl monomers such as nitrostyrene; etc. These can be used alone or in combination.
  • a crosslinking agent may be added to the styrene-acrylic resin when forming a copolymer of a styrene-based polymerizable monomer and an acrylic ester or a methacrylic ester. Examples include:
  • polyfunctional crosslinking monomers include the following. Pentaerythritol triacrylate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, oligoester acrylate and its methacrylate, 2,2-bis(4-methacryloxy polyethoxyphenyl)propane, diacryl phthalate, Triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, triallyl trimellitate, diarylchlorendate.
  • the preferable range of the weight average molecular weight (Mw) of the binder resin is 3,000 or more and 500,000 or less, more preferably 5,000 or more and 300,000 or less, and still more preferably 7,500 or more and 100,000 or more. ,000 or less.
  • the storage elastic modulus G' is as follows at the heating process temperature: G'>14Pa (160°C in Example 1) It is preferable that
  • the storage modulus G' represents the elasticity of an object, and the lower it is, the greater the deformation against a constant load.
  • a low storage modulus G' means that the porous substrate S1 is more easily permeated when a permeation force due to capillarity acts on the porous base material S1.
  • wax -Wax (oil)-
  • the material used as the wax in the present disclosure is not particularly limited, and the following known waxes used in toners can be used.
  • Esters of monohydric alcohols and aliphatic carboxylic acids such as behenyl behenate, stearyl stearate, palmityl palmitate, or esters of monohydric carboxylic acids and aliphatic alcohols; dibehenyl sebacate, hexanediol dibehenate.
  • esters of dihydric alcohols and aliphatic carboxylic acids or esters of dihydric carboxylic acids and aliphatic alcohols; esters of trihydric alcohols and aliphatic carboxylic acids, such as glycerin tribehenate; Esters of trivalent carboxylic acids and aliphatic alcohols; esters of tetravalent alcohols and aliphatic carboxylic acids such as pentaerythritol tetrastearate and pentaerythritol tetrapalmitate, or esters of tetravalent carboxylic acids and aliphatic alcohols.
  • Ester ester of hexavalent alcohol and aliphatic carboxylic acid such as dipentaerythritol hexastearate and dipentaerythritol hexapalmitate, or ester of hexavalent carboxylic acid and aliphatic alcohol; of polyglycerol behenate esters of polyhydric alcohols and aliphatic carboxylic acids, or esters of polyhydric carboxylic acids and aliphatic alcohols; natural ester waxes such as carnauba wax and rice wax; petroleum waxes such as paraffin wax, microcrystalline wax, and petrolatum.
  • ester waxes such as carnauba wax and rice wax
  • petroleum waxes such as paraffin wax, microcrystalline wax, and petrolatum.
  • hydrocarbon waxes and their derivatives by the Fischer-Tropsch process hydrocarbon waxes and their derivatives by the Fischer-Tropsch process; polyolefin waxes such as polyethylene wax and polypropylene wax and their derivatives; higher aliphatic alcohols; fatty acids such as stearic acid and palmitic acid; acid amide waxes.
  • waxes may be used alone or in combination.
  • the weight average molecular weight of the wax is preferably 300 or more and 10,000 or less.
  • the weight average molecular weight of the wax is less than 300, the permeability of the wax becomes too large, and the bleeding from the surface side of the channel wall becomes large, the channel wall is formed inside the channel, and the channel There is a risk that it will narrow itself down.
  • the wax tends to remain inside the channel wall forming material, and the wax may not come out on the side of the channel wall facing the channel.
  • ⁇ ei and ⁇ vi are based on the evaporation energy and molar volume of atoms and atomic groups (25°C )” as a reference.
  • ⁇ ei Evaporation energy of the atom or atomic group of the i component
  • ⁇ vi Molar volume of the atom or atomic group of the i component
  • Image forming unit> The overall configuration of the image forming unit will be described with reference to FIGS. 2, 3, and 4.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a schematic configuration of an image forming unit 100 according to an embodiment of the present disclosure, and each configuration is briefly illustrated.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a process cartridge P according to an embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 4 is a block diagram showing a schematic control mode of the main parts of the image forming unit 100 in the embodiment of the present disclosure.
  • the image forming unit 100 can accommodate a process cartridge P, and by replacing the entire process cartridge, maintenance is easy and convenient.
  • the process cartridge P includes a photosensitive drum 11 as an image carrier.
  • a charging roller 12 , a developing device 20 , and a cleaning member 14 are provided around the photosensitive drum 11 .
  • the charging roller 12 charges the surface of the photosensitive drum 11.
  • the developing device 20 develops the electrostatic latent image formed on the surface of the photosensitive drum 11 using a developer (channel wall forming particles).
  • the cleaning member 14 cleans the surface of the photosensitive drum 11.
  • Voltages required for image formation can be applied by a charging high-voltage power source 71, a developing high-voltage power source 72, and a transfer high-voltage power source 74, and are controlled by a control unit 202 (FIG. 4). Further, the image forming unit 100 can drive the photosensitive drum 11 of the process cartridge P with a motor M1 (not shown), and can drive the developing device 20 of the process cartridge P with a motor M2 (not shown).
  • the charging high voltage 71 which is a voltage application unit, applies a voltage of -946V to the charging roller 12 for image formation, so that the surface of the photosensitive drum 11 is uniformly charged to -460V. be done.
  • a DC (direct current) voltage is applied to the charging roller 12, and the photosensitive drum 11 is uniformly charged with a charging potential Vd by discharge. Vd at this time is called the dark potential and is -460V.
  • the surface of the photosensitive drum 11 is charged by the charging roller 12, the surface of the photosensitive drum 11 is irradiated with laser light 9 from the exposure unit 73.
  • the surface potential of the photosensitive drum 11 irradiated with the laser beam 9 changes to -100V as the bright area potential Vl, and an electrostatic latent image is formed.
  • the exposure unit 73 receives time-series electric digital pixel signals of image information that are input from the controller 200 to the control unit 202 via the interface 201 and subjected to image processing.
  • the exposure unit 73 includes a laser output section that outputs a laser beam 9 modulated in accordance with input time-series electric digital pixel signals, a rotating polygon mirror, an f ⁇ lens, a reflecting mirror, etc.
  • the surface of the photosensitive drum 11 is exposed with light 9 in the main scanning direction. By this main scanning exposure and sub-scanning by rotation of the photosensitive drum 11, an electrostatic latent image corresponding to image information is formed.
  • the image forming unit 100 includes a contact/separation unit 75 that controls the position of the developing device 20, and can control the developing device 20 to different positions during image formation and when not forming an image.
  • the operation of the approaching/separating means 75 is controlled by the control section 202 shown in FIG.
  • the developing roller 23 which serves as a developer carrier and has been spaced apart from the photosensitive drum 11, is moved so as to come into contact with the photosensitive drum 11 by the contact/separation means 75.
  • the developing roller 23 is moved in the direction of arrow C in FIG. 3, and the supply roller 24 as a developer (flow path wall forming particles) feeding member is moved in the direction of arrow D in FIG.
  • Rotation is started by driving M2 (not shown).
  • a voltage of -300V as a developing voltage from the developing high voltage 72 for the developing roller 23 to the developing roller 23 the electrostatic latent image formed on the photosensitive drum 11, that is, the above-mentioned Vl portion.
  • developer is supplied by the developing roller 23 and the image is developed.
  • the ratio of the moving speed of the surface of the photosensitive drum 11 and the moving speed of the surface of the developing roller 23 at this time is called a developing circumferential speed ratio.
  • the amount of developer developed on the photosensitive drum 11 can be controlled. For example, if the developing circumferential speed ratio is 2.5, if all the developer on the developing roller 23 is used to develop the electrostatic latent image on the photosensitive drum 11, the developer per unit area of the surface of the photosensitive drum 11 The amount is 2.5 times the amount of developer per unit area of the surface of the developing roller 23.
  • the developing circumferential speed ratio is controlled by the speed of the motor M2 so that the amount of developer suitable for forming the microchannel wall inside the porous substrate S1 can be developed.
  • a porous base material S1 serving as a recording medium is placed on a paper feed tray 1, and is picked up one by one by a pickup roller 2.
  • the developed developer image is transferred to the porous base material S1 as a recording medium due to the potential difference between the transfer roller 4 and the transfer roller 4 to which +2000V is applied by the transfer high voltage 74.
  • the porous base material S1 is a porous sheet-like medium.
  • the transfer roller 4 uses a semi-conductive sponge whose main component is NBR hydrin rubber, which is an elastic material, for the conductive shaft body (hereinafter also referred to as core metal) and the part that is pressed against the photosensitive drum 11. Electrical resistance is adjusted using ion conductive material.
  • the outer diameter is 12.5 mm, and the core diameter is 6 mm.
  • the resistance value when 2kV is applied is 1.0 to 3.0 ⁇ 10 8 ⁇ under normal temperature and humidity environment of 23°C/50% relative humidity, 0.5 ⁇ 10 8 ⁇ in a high temperature and high humidity environment of 32°C/80% relative humidity, 8.0 ⁇ 10 8 ⁇ in a low temperature and low humidity environment of 15°C/10% relative humidity Therefore, the resistance changes depending on the environment.
  • the porous substrate S1 onto which the developer image has been transferred is discharged to the outside of the image forming unit with the developer image facing upward in the direction of gravity. Note that after the photosensitive drum 11 has passed the transfer roller 4, the untransferred developer is scraped off by the cleaning member 14 that is in contact with the photosensitive drum 11, and the process from charging by the charging roller 12 is repeated again, so that the photosensitive drum 11 is continuously charged. image formation.
  • the channel repels the liquid such as the sample in the porous layer by the channel wall (details are described below), confines the liquid in a predetermined area surrounded by the channel wall, and prevents capillary action in the porous layer.
  • the sample solution can be flowed by
  • a channel pattern 80 shown in FIG. 5A was formed on the porous substrate S1 using the image forming unit 100.
  • FIG. 5B shows a schematic cross-sectional view at the position of the broken line 80a in FIG. 5A.
  • FIG. 5C is an enlarged view of a portion of FIG. 5B.
  • particle images 81 for forming channel walls were formed to surround the reagent section 83, test liquid section 84, and channel 82, respectively.
  • the reagent part 83 is for attaching a reagent
  • the test liquid part 84 is for attaching a test liquid (sample liquid)
  • the flow path 82 is for connecting the reagent part 83 and the test liquid part 84. It is.
  • the width L1 of the channel wall forming particle image 81 at the portion sandwiching the channel 82 was 4 mm, and the width L2 of the channel 82 was 1.5 mm. Further, the diameter L3 of the reagent section 83 and the test liquid section 84 was 7 mm, and the longest part L4 of the flow path was 40 mm.
  • the test liquid passes through the channel 82. It is possible to inspect whether or not the color reaction occurs by diffusing into the reagent portion 83.
  • the shape and size of the flow path pattern are of course not limited to these, and may be a combination of straight lines or curved lines, or shapes using branches, and the width of the flow path may be changed in the middle of the flow path. .
  • the channel wall is made of the channel wall forming material and has high hydrophobicity.
  • the hydrophobicity of the side surface of the channel wall on the channel side is important, and has a large effect on the flow rate of the sample and the bleeding into the channel wall.
  • highly hydrophobic wax is actively infiltrated into the porous base material S1 to form the channel wall.
  • porous base material S1 one that exhibits appropriate porosity and hydrophilicity is suitable.
  • the porous structure is preferably one with an open cell structure or a network (nanofiber, etc.) structure, such as filter paper, plain paper, high-quality paper, watercolor paper, Kent paper, synthetic paper, synthetic resin porous film, fabric, and textile products. , etc.
  • filter paper is preferred because it has high porosity and good hydrophilicity.
  • the porosity can be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 20% to 90%. If the porosity exceeds 90%, the strength as a base material may not be maintained, and if it is less than 20%, the permeability of the sample liquid may deteriorate.
  • Hydrophilicity is a necessary property to enable biological fluids containing water, such as blood, urine, and saliva, to diffuse into the base material as sample liquids.
  • Table 1 shows the basis weight, etc. of the porous base material S1 used in the examples of the present disclosure.
  • the apparent density (g/cm 3 ) is (basis weight (g/m 2 )/thickness (mm) x 1000), and the porosity (%) is ((true density - apparent density)/true density x 100) It was calculated as
  • a channel pattern is formed on the above-mentioned Whatman qualitative filter paper grade 1, which is the porous substrate S1, using channel wall forming particles T. At that time, the amount of the flow path wall forming particles T applied was 5.6 g/m 2 .
  • the optimal conditions differ depending on the thickness of the porous base material S1 and the method and time of the heating process, so it is not limited to this value.
  • the porous base material S1 on which the channel pattern 80 is printed is subjected to a heating process using a heating unit (not shown). Through the heating process, the channel wall forming material is melted, the thermoplastic resin B and wax W in the channel wall forming material are separated, and the separated wax permeates into the porous base material S1.
  • a microchannel device is formed having a channel surrounded by hydrophobic walls.
  • the heating temperature needs to be a temperature at which the channel wall forming material melts and the wax W separated from the thermoplastic resin B permeates into the porous base material S1.
  • the channel wall forming material began to melt at 140° C. or higher, and the wax W penetrated into the porous material S1.
  • the heating time is required to allow the melted and separated wax to completely permeate the porous base material S1 in the thickness direction.
  • An oven can be used as the heating unit.
  • the heating method is not limited to this, and a far-infrared heater, a hot plate, or the like may be used.
  • the heating conditions can also be appropriately selected depending on the channel wall forming material and the physical properties of the porous substrate S1.
  • FIGS. 1A to 1C are schematic cross-sectional views taken at the position of the broken line 80a in FIG. 5A as diagrams representing the channel wall forming material before and after heating.
  • FIG. 1A is a sectional view before heating
  • FIG. 1B is a sectional view after heating.
  • FIG. 1C is an enlarged view of a part of FIG. 1B.
  • the channel wall forming particles T before heating are in a state where they are merely attached to the surface of the porous base material S1.
  • the flow path wall forming particles T are melted by the subsequent heating, and the wax W and the thermoplastic resin B are separated.
  • the thermoplastic resin B remains on the surface of the porous base material S1, and the wax W permeates into the inside of the porous base material S1 by capillary action with the porous base material S1.
  • the hydrophobic wax W penetrates into the porous base material S1 in the thickness direction, and a channel 82 sandwiched between the wax W is formed in the porous base material S1. .
  • the channel wall forming particles T include a thermoplastic resin B and a wax W.
  • the channel wall forming particles T are melted by the heating process as described above, the thermoplastic resin B and the wax W are separated, and the wax is allowed to penetrate into the porous base material S1.
  • a channel wall is formed inside the porous base material S1.
  • the storage modulus G' of the thermoplastic resin B is set to the above-mentioned value so as not to penetrate into the base material.
  • Example 1 In Example 1, a microchannel device was produced using channel wall forming particles T1 containing thermoplastic resin B1 and wax W1.
  • the channel wall forming particles T1 were produced as particles with a weight average particle diameter of 7 ⁇ m by a known suspension polymerization method.
  • Styrene acrylic resin was used as the thermoplastic resin B1
  • FNP90 was used as the wax W1.
  • Particles T1 for forming channel walls were produced.
  • the above material was kept warm at 65°C, and T. K. Using a homomixer (manufactured by Tokushu Kika Kogyo Co., Ltd.), the mixture was uniformly dissolved and dispersed at 500 rpm to prepare a polymerizable monomer composition.
  • the polymerizable monomer composition was introduced into the aqueous dispersion medium and granulated for 15 minutes while maintaining the rotational speed of 12,000 rpm. After that, the stirrer was changed from the high-speed stirrer to a propeller stirring blade, and the internal temperature was raised and maintained at 60°C to continue the polymerization reaction for 5 hours, and then the internal temperature was raised to and maintained at 80°C. , and the polymerization reaction was continued for an additional 3 hours. After the polymerization reaction was completed, residual monomers were distilled off at 80°C under reduced pressure, and the mixture was cooled to 30°C to obtain a polymer fine particle dispersion.
  • FIGS. 5A to 5C A channel pattern shown in FIGS. 5A to 5C was formed on the porous substrate S1 using the channel wall forming particles T1, and a microchannel device (sample A) was produced through a heating process.
  • an oven (Yamato Kagaku Co., Ltd., constant temperature constant temperature incubator DN610H) was used.
  • the heating conditions were 15 minutes in a 160°C environment.
  • the cross section of the channel wall of the formed microchannel device was observed.
  • the wax abundance ratio X on the surface side of the porous base material was 5%, and the wax abundance ratio Y inside the porous base material was 95%.
  • channel walls within the porous substrate were formed of wax and were effectively functioning as channel walls.
  • thermoplastic resin does not dissolve in hexane and only the wax dissolves in hexane, only the wax can be removed.
  • FIGS. 6A and 6B The state of the device before cleaning with hexane and the state of the device after cleaning are shown in FIGS. 6A and 6B.
  • Figures 6A (a-1) and 6A (a-2) show the state before wax removal with hexane.
  • a coloring agent such as food coloring
  • FIG. 6A (a-1) when colored water 87 mixed with a coloring agent such as food coloring is dropped into the channel 82 of the device (FIG. 6A (a-1)), if there is a channel wall formed of wax W, the colored water 87 will drop due to its hydrophobicity. No bleeding occurs toward the channel wall side (below the thermoplastic resin B) (FIG. 6A (a-2)). It was confirmed that the colored water did not ooze into the channel wall side (below the thermoplastic resin B) in the created microchannel device as well.
  • FIG. 6B (b-1) and FIG. 6B (b-2) show the state after wax removal with hexane.
  • Figure 6B (b-1) when colored water was dropped into the flow path ( Figure 6B (b-1)), the flow path wall formed by the wax W had been removed, so it was found that the flow path wall was formed.
  • the colored water 87 also oozes in the portion (below the thermoplastic resin B) (FIG. 6B (b-2)). It was confirmed that even when wax was removed from the created microchannel device, colored water oozed out to the channel wall side (below thermoplastic resin B).
  • a device in which a thermoplastic resin is present in the channel wall material has better crack resistance than a device in which the channel wall is formed only of wax.
  • the formed microchannel device was wrapped around a cylindrical rod with a diameter of 10 mm to check its breakability.
  • the device was wrapped so that the surface of the device was on the outside. "OK” indicates that no visible cracks occurred, and "NG” indicates that one or more visible cracks occurred.
  • a microchannel device (sample B) was produced in the same manner as in Example 1, except that the channel wall forming particles T2 were used and the heating time was changed to 60 minutes.
  • Example 2 Similarly to Example 1, a dropping test and a test to evaluate cracking resistance were conducted. The results are shown in Table 2.
  • a microchannel device (sample C) was produced in the same manner as in Example 2 except that the channel wall forming particles T3 were used, and the sample was subjected to a dropping test and a test to evaluate cracking resistance. .
  • the results are shown in Table 2.
  • Example 3 In this example, a microchannel device was produced using channel wall forming particles T4 containing thermoplastic resin B2 and wax W4.
  • Thermoplastic resin B2 is a polyester synthesized using the following monomers. ⁇ Bisphenol A-PO (propylene oxide) 2 mol adduct 50 parts by mass ⁇ Bisphenol A-EO (ethylene oxide) 2 mol adduct 30 parts by mass ⁇ Ethylene glycol 5 parts by mass ⁇ Terephthalic acid 40 parts by mass
  • Wax W4 is FNP90 (manufactured by Nippon Seiro Co., Ltd., hydrocarbon wax, weight average molecular weight 771).
  • the above materials were put into a twin-screw kneader (PCM-30 model, manufactured by Ikegai Co., Ltd.) set at a temperature of 120°C and kneaded to obtain a kneaded product.
  • PCM-30 model manufactured by Ikegai Co., Ltd.
  • the obtained kneaded product was cooled and coarsely ground to 1 mm or less using a hammer mill to obtain a coarsely ground product.
  • the obtained coarse material was pulverized using a mechanical pulverizer (T-250, manufactured by Turbo Kogyo Co., Ltd.). Further, classification was performed using a rotary classifier (200TSP, manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd.) to obtain particles T4 for forming channel walls with a weight average particle diameter of 7.0 ⁇ m.
  • the operating conditions of the rotary classifier (200TSP, manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd.) were such that classification was performed at a classification rotor rotation speed of 50.0 s -1 .
  • a microchannel device (sample D) was prepared in the same manner as in Example 1, except that particles T4 for forming channel walls were used and the heating time was changed to 5 minutes, and a drop test and crack resistance were performed. We conducted an evaluation test. The results are shown in Table 2.
  • a microchannel device (sample F) was produced in the same manner as in Example 1 except for using channel wall forming particles T6.
  • Example 2 A drip test and a test to evaluate cracking resistance were conducted in the same manner as in Example 1, except that microchannel devices (samples E and F) were used. The results are shown in Table 2.
  • Example 4 In Example 4, a microchannel device was produced using channel wall forming particles T7 containing thermoplastic resin B1 and wax W1.
  • Example 1 The difference from Example 1 is that channel wall forming particles T7 were used in which the content of wax W1 was changed from 20.0 parts by mass to 15.0 parts by mass.
  • Example G A microchannel device (sample G) was produced in the same manner as in Example 1, and a dropping test and a test to evaluate cracking resistance were conducted. The results are shown in Table 2.
  • Example 5 In Example 5, a microchannel device was produced using channel wall forming particles T8 containing thermoplastic resin B1 and wax W5.
  • Example 1 The difference from Example 1 is that FNP90 wax was changed to diotadecyl terephthalate.
  • a microchannel device (sample H) was prepared in the same manner as in Example 1, and a dropping test and a test to evaluate cracking resistance were conducted. The results are shown in Table 2.

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Abstract

流路壁が高い疎水性を有し、かつ高い耐割れ性を有するマイクロ流路デバイスを提供する。多孔質基材の内部に流路壁で挟まれた流路が形成されたマイクロ流路デバイスであって、該流路壁を形成する流路壁形成材料は熱可塑性樹脂およびワックスを含有しており、前記流路壁における前記多孔質基材の表面側のワックスの存在比率をＸとし、前記多孔質基材の内部の孔中に存在するワックスの存在比率をＹとしたとき、Ｘ＜Ｙであり、前記流路壁形成材料の全体において、前記ワックスの含有比率が１３．１質量％以上７０．０質量％以下であり、前記ワックスのＳＰ値をＳＰ（Ｗ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２とし、前記熱可塑性樹脂のＳＰ値をＳＰ（Ｂ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２としたとき、ＳＰ（Ｂ）－ＳＰ（Ｗ）≧０．６であるマイクロ流路デバイス。

Description

マイクロ流路デバイス及びその製造方法
　本開示は、多孔質基材の内部にマイクロ流路を形成したマイクロ流路デバイス及びその製造方法に関するものである。
　近年、マイクロサイズの微細流路を利用して、生化学における分析を１つのチップ内で効率的（微量、迅速、簡便）に行うことができるマイクロ流路デバイスの開発が、幅広い分野で注目されている。具体的には、生化学の研究はもとより医療、創薬、ヘルスケア、環境、食品などの各分野において注目されている。その中でも、紙をベースとしたペーパーマイクロ分析チップは、従来のデバイスと比べて軽量かつ低コストであり、又、電源も使う必要がなく、さらには廃棄性も高いという利点を有する。このため、医療設備の整っていない途上国や僻地ならびに災害現場での医療活動や、感染症の広がりを水際で食い止めなければならない空港等での検査デバイスとして期待されている。又、安価でかつ取り扱いが容易なことから、自身の健康状態を管理・モニタリングできるヘルスケアデバイスとしても注目を集めている。
　１９９０年代前半にフォトリソグラフィ法や金型等を用いてガラスやシリコン上にミクロンサイズの微細流路を形成し、サンプルの前処理、攪拌、混合、反応、検出を１チップ上で行うマイクロ分析チップが開発された。その結果、検査システムの小型化や迅速分析、ならびに検体や試薬や廃液の低減を実現した。しかし、これらフォトリソグラフィの技術を使って作製されたマイクロ流路は非常に高い精度を持つ一方、その製造コストは非常に高くなり、又、焼却も難しいため、廃棄性が低いものとなっていた。又、検査液を流路内に送る際、シリンジポンプ等の付帯装置が必要であるため、設備が整った環境での使用に限られており、主に生化学系の研究機関にて使用されてきた。
　これらの課題に対しペーパーマイクロ分析チップは、基材として紙や布のような安価な材料を用いてかつ、材料自体の毛細血管現象を利用することで、検体や検査液を駆動させることができるため、低コストでかつ無電環境での使用が可能となる。又、持ち運び（流通）が容易で、廃棄性も高い（燃やすだけで廃棄完了）。さらに装置のメンテナンスも不要であるため、誰でも（知識がない老人や子供でも）、何処でも（電源が無い場所でも場所を問わず）、簡単にＰＯＣ（ｐｏｉｎｔ　ｏｆ　ｃａｒｅ）による診断を低コストで実現することが可能となる。よって現在、様々な感染症や特定疾病ならびにヘルスケア（持病管理、健康管理）を対象としたペーパーマイクロ流路デバイスの研究・開発が、世界中の研究機関で進められている。
　マイクロ流路デバイスは検体や検査液として液体を使用するため、液体の流路壁への染み出し抑制や高湿度環境下でのデバイス使用時の吸水による流路壁の膨潤抑制のために流路を形成する材料には高い疎水性が求められる。特に、流路壁の流路側の側面部の疎水性が重要であり、検体の流速や、流路壁への滲みに大きな影響がある。
　特許文献１では、相変化インクを用いたワックスプリンタを用いて、多孔質層（紙など）に流路壁を形成したマイクロ流路デバイスが提案されている。しかし、インクを用いる場合、滲みやすいため、安定した流速が得られる微細な流路の形成が困難である。
　また、作製したマイクロ流路デバイスを保護するために、例えばラミネートフィルムといった保護層を形成しようとした場合、ワックスとラミネートフィルムの接着層とが相溶せず、接着効果が得られずに剥離してしまう場合があった。また、保護層を有しないマイクロ流路デバイスは、割れが生じやすく検体が漏れてしまうおそれがあるため、例えばロール形状といった曲率がつくようなデバイスには採用できない場合があった。
特開２０１２－３７５１１号公報
　本開示の一態様は、流路壁が高い疎水性を有し、かつ高い耐割れ性を有するマイクロ流路デバイスを提供することを目的とする。本開示の他の態様は、流路壁が高い疎水性を有し、かつ高い耐割れ性を有するマイクロ流路デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
　本発明の一態様によれば、多孔質基材の内部に、流路壁で挟まれた流路が形成されたマイクロ流路デバイスであって、
　前記流路壁を形成する流路壁形成材料は、熱可塑性樹脂およびワックスを含有しており、
　前記流路壁における前記多孔質基材の表面側のワックスの存在比率をＸとし、前記多孔質基材の内部のワックスの存在比率をＹとしたとき、
　　Ｘ＜Ｙ
　であり、
　前記流路壁形成材料の全体において、前記ワックスの含有比率が１３．１質量％以上７０．０質量％以下であり、
　前記ワックスのＳＰ値をＳＰ（Ｗ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２とし、前記熱可塑性樹脂のＳＰ値をＳＰ（Ｂ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２としたとき、
　　ＳＰ（Ｂ）－ＳＰ（Ｗ）≧０．６
　であることを特徴とするマイクロ流路デバイスが提供される。
　本発明の他の態様によれば、多孔質基材の内部に、流路壁で挟まれた流路が形成されたマイクロ流路デバイスの製造方法であって、
　前記多孔質基材の表面に、電子写真方式で、熱可塑性樹脂およびワックスを含有する流路壁形成材料を載せて、前記多孔質基材の表面に流路パターンを形成する工程、および
　前記流路パターンに含有される前記ワックスを熱により溶融させて、前記ワックスを前記多孔質基材の内部に浸透させて、前記多孔質基材の内部に流路壁を形成する工程、
　を有し、
　前記流路壁形成材料の全体において、前記ワックスの含有比率が１３．１質量％以上７０．０質量％以下であり、
　前記ワックスのＳＰ値をＳＰ（Ｗ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２とし、前記熱可塑性樹脂のＳＰ値をＳＰ（Ｂ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２としたとき、
　　ＳＰ（Ｂ）－ＳＰ（Ｗ）≧０．６
　であることを特徴とするマイクロ流路デバイスの製造方法が提供される。
　本開示の一態様によれば、流路壁が高い疎水性を有し、かつ高い耐割れ性を有するマイクロ流路デバイスを提供することができる。本開示の他の態様によれば、流路壁が高い疎水性を有し、かつ高い耐割れ性を有するマイクロ流路デバイスを提供することができる。
実施例１における流路壁形成用粒子Ｔが多孔質基材Ｓ１の表面に載せられた状態（加熱前）を示す概略断面図である。 溶融したワックスが多孔質基材Ｓ１の内部に浸透した状態（加熱後）を示す概略断面図である。 溶融したワックスが浸透することにより形成されたマイクロ流路デバイスの一部拡大断面図である。 実施例１における画像形成ユニット１００の構成図である。 実施例１におけるプロセスカートリッジＰの構成図である。 実施例１における画像形成ユニット１００の概略制御態様を示すブロック図である。 実施例１における流路パターン図である。 溶融したワックスが多孔質基材Ｓ１の内部に浸透した状態（加熱後）を示す概略断面図である。 溶融したワックスが浸透することにより形成されたマイクロ流路デバイスの一部拡大断面図である。 流路壁が形成されたデバイスの流路に着色水を滴下した状態を示す概略断面図である。 流路壁が除去されたデバイスの流路に着色水を滴下した状態を示す概略断面図である。
　以下、本開示の例示的な実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の実施形態は例示であり、本開示を実施形態の内容に限定するものではない。また、以下の各図においては、実施形態の説明に必要ではない構成要素については図から省略する。
　本開示に係るマイクロ流路デバイスは、多孔質基材の内部に、流路壁で挟まれた流路が形成されている。
　前記流路壁は、熱可塑性樹脂およびワックスを含有している。また、前記流路壁は、多孔質基材中に染み込んだ成分によって形成される多孔質基材内部の部分と、多孔質基材表面に存在する成分によって形成される多孔質基材表面上に形成された部分との両方を含む。
　前記ワックスのＳＰ値は、前記熱可塑性樹脂のＳＰ値よりも低い。
　前記ワックスの存在比率は、多孔質基材の表面側よりも多孔質基材の内部の方が高い。
　「ワックスの存在比率」とは、マイクロ流路デバイスの断面を観察したときに、流路壁形成材料部分中にワックスが占める面積比率を意味する。
　「多孔質基材の表面側」とは、多孔質基材の最表面（多孔質基材と空気層との界面）から外側（空気層側）を意味する。尚、多孔質基材が何かと当接している場合には、多孔質基材と当接する部材との界面を意味する。
　「多孔質基材の内部」とは、多孔質基材の最表面から内側（多孔質基材側）のことを意味する。
　「前記ワックスの存在比率は、多孔質基材の表面側よりも多孔質基材の内部の方が高い」とは、多孔質基材の表面側におけるワックスの存在比率をＸとし、多孔質基材の内部の孔中に存在するワックスの存在比率をＹとしたとき、
　Ｘ＜Ｙ
　であることを意味する。
　本開示においては、電子写真方式で多孔質基材の表面に流路壁形成用粒子を載せることにより形成した流路パターンを、熱により溶融させて、多孔質基材の内部に、浸透させることにより、多孔質基材の内部に流路壁を形成する。
　＜流路壁形成材料＞
　流路壁形成材料は、熱可塑性樹脂とワックス（油脂）とを含有している。
　流路壁形成材料からなる流路壁形成用粒子を用いて多孔質基材の表面に流路パターンを形成し、該流路パターンを熱により溶融することによって前記流路壁形成材料を前記多孔質基材の内部に浸透させて流路壁を形成する。
　流路壁形成材料の全体において、ワックスの含有比率は１３．１質量％以上７０．０質量％以下とする。
　「流路壁形成材料中のワックスの含有比率」とは、流路壁形成材料全体に含まれるワックスの質量比率を意味する。即ち、多孔質基材の内部の孔中に存在する流路壁形成材料および多孔質基材の表面上に存在する流路壁形成材料の全体におけるワックスの質量比率である。
　ワックスの含有比率を上記範囲とする理由は、ワックスの含有比率が１３．１質量％より少ないと、多孔質基材Ｓ１へと供給するワックスＷの量が足りず、流路壁が形成できなくなるからである。また、ワックスの含有比率が７０．０質量％を超えると、電子写真方式での画像形成プロセスでの流路パターン形成が難しいからである。
　「流路壁形成材料中のワックスの含有比率」は、以下のようにして測定することができる。流路壁が形成されていない流路部分、すなわち多孔質基材Ｓ１そのものの部分と、流路壁が形成されている部分とをそれぞれ１ｃｍ角で切り出し、１０枚用意する。次に流路壁が形成されている部分に、ヘキサンを滴下しながら吸引し、ワックス分をヘキサンに溶解して除去する。このヘキサン洗浄の前後の質量差からワックスの質量を算出する。次にワックスを除去した後の質量と、多孔質基材Ｓ１そのものの部分の質量との質量差から熱可塑性樹脂の質量を算出する。これら算出したワックスの質量と熱可塑性樹脂の質量とから含有比率を算出できる。
　また、ワックスＷのＳＰ値をＳＰ（Ｗ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２とし、熱可塑性樹脂ＢのＳＰ値をＳＰ（Ｂ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２としたとき下記式を満たすものを使用する。
　ＳＰ（Ｂ）－ＳＰ（Ｗ）≧０．６
　ＳＰ値が相対的に低いワックスを多孔質基材の内部に存在させることによって、良好な疎水性を有する流路壁とすることができる。
　また、ＳＰ（Ｂ）とＳＰ（Ｗ）との差が０．６未満では、熱可塑性樹脂ＢとワックスＷが相溶しやすくなるため、流路壁形成材料中からワックスＷが分離しにくくなり、多孔質基材Ｓ１内に十分な量のワックスＷが到達できず、流路壁を形成できないからである。
　また熱可塑性樹脂ＢのＳＰ値とワックスＷのＳＰ値との差が大きいほど、流路壁形成材料からワックスＷが分離しやすくなり、多孔質基材Ｓ１内部へと浸透しやすくなるため、下記式を満たすものを使用することが好ましい。
　ＳＰ（Ｂ）－ＳＰ（Ｗ）≧１．０
　後述する加熱プロセスの中で熱により溶融したワックスＷが遊離して流路壁形成用粒子Ｔの外側に出てくる。これは、熱可塑性樹脂ＢとワックスＷとの表面自由エネルギーの違いにより、ＳＰ値が低いワックスＷの方が、流路壁形成用粒子Ｔの最表面側に存在しやすくなるためである。そのため、加熱することで、熱可塑性樹脂ＢからワックスＷを分離させ、かつ多孔質基材Ｓ１の内部へと積極的に浸透させつつ、多孔質基材Ｓ１の表面に熱可塑性樹脂層を形成させることが可能となる。
　図１Ｃに示すように多孔質基材Ｓ１内部に形成されたワックスＷによる流路壁は、そのワックスＷの特性からより高い撥水性をもち、検体などの液体が流路８２の外側（流路壁の内側）へ滲んでしまうリスクを軽減できる。
　－熱可塑性樹脂－
　熱可塑性樹脂は、特に限定されることはなく、以下に挙げる公知の熱可塑性樹脂を用いることができる。ポリエステル樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、スチレンアクリル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリオレフィン、エチレン－酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン－アクリル酸共重合樹脂など。
　熱可塑性樹脂の中でも、ポリエステル樹脂またはスチレンアクリル系樹脂が好ましく、スチレンアクリル系樹脂がより好ましい。
　該ポリエステル樹脂としては、公知のポリエステル樹脂を用いることができる。
　ポリエステル樹脂を製造する方法の具体例として、以下の方法が挙げられる。二塩基酸やその誘導体と２価のアルコールとを必須として、必要に応じて３価以上の多塩基酸及びその誘導体（カルボン酸ハロゲン化物、エステル、酸無水物）、一塩基酸、３価以上のアルコール、一価のアルコールなどを脱水縮合する方法。
　二塩基酸としては、例えば、以下のものが挙げられる。マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、蓚酸、マロン酸、コハク酸、ドデシルコハク酸、ドデセニルコハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカン－１，１０－ジカルボン酸などの脂肪族二塩基酸；フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラブロモフタル酸、テトラクロルフタル酸、ヘット酸、ハイミック酸、イソフタル酸、テレフタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸などの芳香族の二塩基酸；など。
　また、二塩基酸の誘導体としては、上記脂肪族二塩基酸及び芳香族二塩基酸のカルボン酸ハロゲン化物、エステル化物及び酸無水物などが挙げられる。
　一方、２価のアルコールとしては、例えば、以下のものが挙げられる。エチレングリコール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコールなどの非環式の脂肪族ジオール類；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦなどのビスフェノール類；ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物などのビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物；キシリレンジグリコールなどのアラルキレングリコール類；など。
　３価以上の多塩基酸やその無水物としては、例えば、トリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリット酸、無水ピロメリット酸などが挙げられる。
　該スチレンアクリル系樹脂を形成し得る重合性単量体としては、以下のものが挙げられる。スチレン、α－メチルスチレン、ジビニルベンゼンのようなスチレン系単量体；アクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル、メタクリル酸ｔ－ブチル、メタクリル酸２－エチルヘキシルのような不飽和カルボン酸エステル；アクリル酸、メタクリル酸のような不飽和カルボン酸；マレイン酸のような不飽和ジカルボン酸；マレイン酸無水物のような不飽和ジカルボン酸無水物；アクリロニトリルのようなニトリル系ビニル単量体；塩化ビニルのような含ハロゲン系ビニル単量体；ニトロスチレンのようなニトロ系ビニル単量体；など。これらは単独で又は複数種を組み合わせて用いることができる。
　該スチレンアクリル系樹脂は必要に応じて、スチレン系重合性単量体とアクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルとの共重合体を形成する際に、架橋剤を添加してもよい。例えば、以下のものが挙げられる。
　ジビニルベンゼン、ビス（４－アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、エチレングリコールジアクリレート、１，３－ブチレングリコールジアクリレート、１，４－ブタンジオールジアクリレート、１，５－ペンタンジオールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール＃２００ジアクリレート（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＯＣＣＨ＝ＣＨ２、ｎ＝４　分子量３０８）、ポリエチレングリコール＃４００ジアクリレート（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＯＣＣＨ＝ＣＨ２、ｎ＝９　分子量５０８）、ポリエチレングリコール＃６００の各ジアクリレート（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＯＣＣＨ＝ＣＨ２、ｎ＝１４　分子量７０８）、ジプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエステル型ジアクリレート（ＭＡＮＤＡ　日本化薬）、及び以上のアクリレートをメタクリレートに変えたもの。
　多官能の架橋性単量体としては以下のものが挙げられる。ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート及びそのメタクリレート、２，２－ビス（４－メタクリロキシ・ポリエトキシフェニル）プロパン、ジアクリルフタレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジアリールクロレンデート。
　結着樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）の好ましい範囲は、３，０００以上５００，０００以下であり、より好ましくは５，０００以上３００，０００以下であり、さらにより好ましくは、７，５００以上１００，０００以下である。
　また、後述する基材への浸透との関係から、貯蔵弾性率Ｇ’について本開示の実施例では加熱プロセス温度において、
　Ｇ’　＞　１４Ｐａ　（実施例１では１６０℃）
　であることが好ましい。
　貯蔵弾性率Ｇ’は、物体の弾性を表しており、低い程一定荷重に対する変形が大きいことを表す。つまり、貯蔵弾性率Ｇ’が低いということは、多孔質基材Ｓ１に対して毛細管現象による浸透力が働いた時に、より浸透しやすいことを表している。
　－ワックス（油脂）－
　本開示のワックスとして用いられる材料としては、特に限定されるものではなく、下記のようなトナーに用いられる公知のワックスを用いることができる。
　ベヘン酸ベヘニル、ステアリン酸ステアリル、パルミチン酸パルミチルのような１価のアルコールと脂肪族カルボン酸のエステル、又は、１価のカルボン酸と脂肪族アルコールのエステル；セバシン酸ジベヘニル、ヘキサンジオールジベヘネートのような２価のアルコールと脂肪族カルボン酸のエステル、又は、２価のカルボン酸と脂肪族アルコールのエステル；グリセリントリベヘネートのような３価のアルコールと脂肪族カルボン酸のエステル、又は、３価のカルボン酸と脂肪族アルコールのエステル；ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラパルミテートのような４価のアルコールと脂肪族カルボン酸のエステル、又は、４価のカルボン酸と脂肪族アルコールのエステル；ジペンタエリスリトールヘキサステアレート、ジペンタエリスリトールヘキサパルミテートのような６価のアルコールと脂肪族カルボン酸のエステル、又は、６価のカルボン酸と脂肪族アルコールのエステル；ポリグリセリンベヘネートのような多価アルコールと脂肪族カルボン酸のエステル、又は、多価カルボン酸と脂肪族アルコールのエステル；カルナバワックス、ライスワックスのような天然エステルワックス；パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ペトロラタムのような石油系ワックス及びその誘導体；フィッシャートロプシュ法による炭化水素ワックス及びその誘導体；ポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックスのようなポリオレフィンワックス及びその誘導体；高級脂肪族アルコール；ステアリン酸、パルミチン酸のような脂肪酸；酸アミドワックス。
　これらのワックスを単独で用いても良いし、複数の種類を用いても良い。
　ワックスの重量平均分子量は３００以上１０，０００以下であることが好ましい。
　ワックスの重量平均分子量が、３００未満であると、ワックスの浸透性が大きくなりすぎて、流路壁部の表面側からの滲みが大きくなり、流路壁が流路内側に形成され、流路自体を狭くしてしまう恐れがある。
　ワックスの重量平均分子量が、１０，０００を超えると、ワックスが流路壁形成材料の内部に留まりやすく、流路壁の流路と対向する面側にワックスが出てこない可能性がある。
　＜溶解度パラメータ（ＳＰ値）の計算方法＞
　溶解度パラメータ（ＳＰ値）は、Ｆｅｄｏｒｓの式（１）を用いて求める。
　下記Δｅｉ、及び、Δｖｉの値は、「コーティングの基礎科学、５４～５７頁、１９８６年（槇書店）の表３～９に記載された、原子及び原子団の蒸発エネルギーとモル体積（２５℃）」を参考にする。
　なお、ＳＰ値の単位は、［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２であるが、１［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２＝２．０４６×１０３［Ｊ／ｍ３］１／２によって［Ｊ／ｍ３］１／２の単位に換算することができる。
　δｉ＝（Ｅｖ／Ｖ）１／２＝（Δｅｉ／Δｖｉ）１／２　　　式（１）
　　Ｅｖ：蒸発エネルギー
　　　Ｖ：モル体積
　Δｅｉ：ｉ成分の原子又は原子団の蒸発エネルギー
　Δｖｉ：ｉ成分の原子又は原子団のモル体積
　＜画像形成ユニット＞
　図２、図３および図４を参照して、画像形成ユニット全体の構成について説明する。
　図２は本開示の実施例に係る画像形成ユニット１００の概略構成を断面的に示したものであり、各構成について簡略的に示している。
　図３は本開示の実施例に係るプロセスカートリッジＰの模式的断面図である。
　図４は本開示の実施例における画像形成ユニット１００の要部の概略制御態様を示すブロック図である。
　はじめに、画像形成ユニットの構成、画像形成プロセスと各部材について説明する。図２を用いて、画像形成プロセスに係わる各部材に関して画像形成プロセスの順番に則して説明する。
　画像形成ユニット１００には、プロセスカートリッジＰが収容でき、プロセスカートリッジごと交換することでメンテナンスが容易であり利便性が良い。プロセスカートリッジＰは像担持体として感光ドラム１１を備えている。感光ドラム１１の周囲には、帯電ローラ１２、現像装置２０、クリーニング部材１４が設けられている。帯電ローラ１２は、感光ドラム１１の表面を帯電する。現像装置２０は、感光ドラム１１の表面に形成された静電潜像を現像剤（流路壁形成用粒子）により現像する。クリーニング部材１４は、感光ドラム１１の表面をクリーニングする。画像形成に際して必要となる電圧は、帯電高圧電源７１、現像高圧電源７２、転写高圧電源７４によって印加することができ、制御部２０２（図４）によって制御されている。また、画像形成ユニット１００は、モータＭ１（不図示）によってプロセスカートリッジＰの感光ドラム１１を駆動し、モータＭ２（不図示）により、プロセスカートリッジＰの現像装置２０を駆動できる。
　画像形成が始まると、電圧印加部である帯電高圧７１によって、帯電ローラ１２に画像形成用である帯電として－９４６Ｖの電圧を印加することで、感光ドラム１１の表面は－４６０Ｖに一様に帯電される。帯電ローラ１２にはＤＣ（直流）電圧が印加されており、放電によって感光ドラム１１上を帯電電位Ｖｄで一様に帯電する。このときのＶｄを暗部電位といい、－４６０Ｖである。
　帯電ローラ１２によって感光ドラム１１の表面を帯電した後、感光ドラム１１の表面には露光ユニット７３からレーザ光９が照射される。レーザ光９が照射された感光ドラム１１の表面は明部電位であるＶｌとして－１００Ｖへと表面電位が変化し、静電潜像が形成される。
　図４に示したように、露光ユニット７３には、コントローラ２００からインターフェース２０１を介して制御部２０２に入力し、画像処理された画像情報の時系列電気デジタル画素信号が入力する。
　露光ユニット７３は、入力する時系列電気デジタル画素信号に対応して変調したレーザ光９を出力するレーザ出力部、回転多面鏡（ポリゴンミラー）、ｆθレンズ、反射鏡等を有しており、レーザ光９で感光ドラム１１の表面を主走査露光する。この主走査露光と、感光ドラム１１の回転による副走査により、画像情報に対応した静電潜像を形成する。
　＜画像（流路パターン）形成プロセス＞
　画像形成ユニット１００は、現像装置２０の位置を制御する接離手段７５を有しており、画像形成時と非画像形成時とで現像装置２０の位置を異なる位置に制御することができる。接離手段７５は、図４に示した制御部２０２によって動作を制御される。
　現像装置２０は感光ドラム１１の回転開始後に、感光ドラム１１から離間していた現像剤担持体としての現像ローラ２３が、接離手段７５により感光ドラム１１と当接するように移動する。
　続いて、現像ローラ２３は図３中の矢印Ｃ方向に、現像剤（流路壁形成用粒子）の供給部材としての供給ローラ２４は図３中の矢印Ｄ方向に、それぞれ接続されているモータＭ２（不図示）の駆動によって回転を始める。そして、現像ローラ２３用の現像高圧７２から現像ローラ２３へ、現像電圧として－３００Ｖの電圧が印加されることで、感光ドラム１１上に形成された静電潜像、すなわち、上記のＶｌ部に対して現像ローラ２３によって現像剤が供給されて現像される。なお、このときの感光ドラム１１表面の移動速度と現像ローラ２３表面の移動速度の比（現像ローラ２３表面の移動速度／感光ドラム１１表面の移動速度）を現像周速比と呼ぶ。この現像周速比を制御することで、感光ドラム１１上に現像される現像剤の量を制御することができる。例えば現像周速比が２．５であれば、現像ローラ２３上の現像剤が全て感光ドラム１１上の静電潜像の現像に使用された場合、感光ドラム１１表面の単位面積当たりの現像剤量は、現像ローラ２３表面の単位面積当たりの現像剤量に比べて２．５倍になる。後述の実施例では多孔質基材Ｓ１内部にマイクロ流路壁を形成するために適した現像剤量を現像できるように現像周速比をモータＭ２の速度で制御している。
　記録媒体としての多孔質基材Ｓ１は給紙トレイ１に載置されており、ピックアップローラ２によって一枚ずつピックアップされる。現像された現像剤像は、転写高圧７４によって＋２０００Ｖが印加された転写ローラ４との電位差により、記録媒体としての多孔質基材Ｓ１に転写される。多孔質基材Ｓ１は後述するように、多孔質からなるシート状上媒体である。転写ローラ４は、導電性の軸心体（以下、芯金とも記載する。）と感光ドラム１１への圧接部分が弾性体であるＮＢＲヒドリンゴムを主成分とした半導電性スポンジを用いており、イオン導電材を用いて電気抵抗の調整を行っている。外径φ１２．５ｍｍで、芯金径φ６ｍｍである。
　また、２ｋＶ印加時の抵抗値は、
　２３℃／相対湿度５０％の常温常湿環境下で１．０～３．０×１０８Ω、
　３２℃／相対湿度８０％の高温高湿環境下で０．５×１０８Ω、
　１５℃／相対湿度１０％の低温低湿環境下で８．０×１０８Ω
　となり、環境による抵抗変化がある。
　現像剤像を転写された多孔質基材Ｓ１は、現像剤像を重力方向上側としたまま画像形成ユニットの外部に排出される。なお、転写ローラ４を通過した後の感光ドラム１１は、当接しているクリーニング部材１４によって、転写されなかった現像剤を掻き取られ、再度帯電ローラ１２による帯電からのプロセスを繰り返すことで、連続的に像形成を行っている。
　＜流路＞
　流路は、流路壁（詳細は以下に記載する。）によって多孔質層内の検体などの液体をはじき、液体を流路壁によって囲まれた所定の領域に閉じ込め、多孔質層の毛細管現象によって試料液を流すことができる。
　本開示の実施例においては、画像形成ユニット１００を用いて多孔質基材Ｓ１に対し、図５Ａに示す流路パターン８０を形成した。
　図５Ｂは図５Ａ中の破線８０ａの位置における断面概略図を示す。図５Ｃは図５Ｂ中の一部を拡大した図である。
　マイクロ流路デバイスとして使用するにあたり、試薬部８３、検査液部８４及び流路８２をそれぞれ囲う流路壁形成用粒子像８１を形成した。試薬部８３は試薬を付着させるためのものであり、検査液部８４は検査液（試料液）を付着させるためのものであり、流路８２は試薬部８３と検査液部８４とを結ぶものである。流路８２を挟む部分の流路壁形成用粒子像８１の幅Ｌ１は４ｍｍ、流路８２の幅Ｌ２は１．５ｍｍとした。また、試薬部８３及び検査液部８４の直径Ｌ３は７ｍｍ、流路の最長部Ｌ４は４０ｍｍとした。マイクロ流路デバイスとしての使用例として、例えば試薬部８３へ呈色反応を示す薬品を付着させておき、その後に検査液部８４へ検査液を付着させることで、検査液が流路８２を通って試薬部８３まで拡散し、呈色反応が起こるかを検査することができる。ただし、流路パターンの形状やサイズ等はもちろんこれに限るものではなく、直線や曲線の組み合わせ、分岐を用いた形状であっても良く、流路の幅を流路の途中で変えても良い。
　＜流路壁＞
　流路壁は、前記流路壁形成材料から構成されており、高い疎水性を有している。特に、流路として機能させるには、流路壁の流路側の側面部の疎水性が重要であり、検体の流速や、流路壁への滲みに大きな影響がある。
　そのため、本開示の実施例においては、高い疎水性をもつワックスを多孔質基材Ｓ１に積極的に浸透させて、流路壁としている。
　＜多孔質基材＞
　多孔質基材Ｓ１としては、適度な空隙率と親水性を示すものが好適である。多孔質構造としては、連泡並びに網目（ナノファイバー等）状の構造等のものが良く、濾紙、普通紙、上質紙、水彩紙、ケント紙、合成紙、合成樹脂多孔質フィルム、布地、繊維製品、などが挙げられる。これらの中でも、高い空隙率と良好な親水性を有する点から、濾紙が好ましい。
　空隙率は、目的に応じて適宜選択することができるが、２０％～９０％が好ましい。前記空隙率が、９０％を超えると、基材としての強度が保てなくなることがあり、２０％未満であると、試料液の浸透性が悪くなることがある。
　親水性は、試料液として血液、尿、唾液のような、水を含む生体液が、基材内に拡散することを可能にするために必要な性質である。
　本開示の実施例においては、多孔質基材Ｓ１としてＷｈａｔｍａｎ　定性濾紙　グレード１を用いた。
　本開示の実施例中に使用した多孔質基材Ｓ１の坪量等を表１に示す。
　見掛け密度（ｇ／ｃｍ３）は、（坪量（ｇ／ｍ２）／厚さ（ｍｍ）×１０００）、空隙率（％）は、（（真密度－見掛け密度）／真密度×１００）として計算した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　＜流路壁形成材料の載り量＞
　多孔質基材Ｓ１である前述のＷｈａｔｍａｎ　定性濾紙　グレード１の上に、流路壁形成用粒子Ｔを用いて流路パターンを形成する。そのときの流路壁形成用粒子Ｔの載り量は５．６ｇ／ｍ２とした。
　この載り量に関しては、多孔質基材Ｓ１の厚みや、加熱プロセスの方法・時間によって最適な条件が異なるため、この値に限るものではない。
　＜加熱プロセス＞
　流路パターン８０が印刷された多孔質基材Ｓ１は、加熱ユニット（不図示）による加熱プロセスを経る。加熱プロセスを経ることによって流路壁形成材料が溶融し、流路壁形成材料中の熱可塑性樹脂ＢとワックスＷとが分離し、分離したワックスが多孔質基材Ｓ１へと浸透することによって、疎水性の壁に囲まれた流路を有するマイクロ流路デバイスが形成される。
　よって、加熱温度としては、流路壁形成材料が溶融し、熱可塑性樹脂Ｂから分離したワックスＷが多孔質基材Ｓ１に対して浸透する温度にする必要がある。後述の実施例の構成においては１４０℃以上において流路壁形成材料は溶融し始めてワックスＷが多孔質材Ｓ１へ浸透した。
　加熱時間は、溶融・分離したワックスが多孔質基材Ｓ１の厚さ方向に完全に浸透しきる時間が必要である。
　加熱ユニットとしては、オーブンが採用しうる。ただし、加熱方式はこれに限らず、遠赤外線ヒータやホットプレート等を用いても良い。加熱条件も流路壁形成材料や多孔質基材Ｓ１の物性に合わせて適宜選択しうる。
　上記の条件における加熱プロセスを図１Ａ、図１Ｂを用いて説明する。
　加熱前後の流路壁形成材料を表す図として、図５Ａ中の破線８０ａの位置における断面概略図を図１Ａ～図１Ｃに示す。図１Ａは加熱前の断面図、図１Ｂは加熱後の断面図である。図１Ｃは図１Ｂ中の一部を拡大した図である。
　図１Ａに示すように、加熱前の流路壁形成用粒子Ｔは、多孔質基材Ｓ１の表面に付着しただけの状態である。
　この後の加熱によって流路壁形成用粒子Ｔが溶融し、ワックスＷと熱可塑性樹脂Ｂとが分離する。熱可塑性樹脂Ｂは多孔質基材Ｓ１の表面に残り、ワックスＷが多孔質基材Ｓ１との毛細管現象によって多孔質基材Ｓ１の内部に浸透する。
　図１Ｂに示すように、加熱後には、疎水性のワックスＷが多孔質基材Ｓ１の厚さ方向に浸透し、ワックスＷに挟まれた流路８２が多孔質基材Ｓ１内に形成される。
　以上の様に、画像形成ユニット１００と、加熱ユニットとを合わせることで、多孔質基材Ｓ１内に流路壁に囲まれた流路を有した、マイクロ流路デバイスの製造装置となる。
　＜流路壁の断面＞
　流路壁形成用粒子Ｔには、熱可塑性樹脂ＢとワックスＷとが含まれている。本開示の実施例の場合、上記のように加熱プロセスにより流路壁形成用粒子Ｔを溶融し、熱可塑性樹脂ＢとワックスＷとを分離して、ワックスを多孔質基材Ｓ１へ浸透させることによって、多孔質基材Ｓ１の内部に流路壁を形成する。流路壁は疎水性の観点からワックスＷのみを多孔質基材Ｓ１の内部に浸透させることが好ましく、またデバイスの表面の保護の観点から、熱可塑性樹脂Ｂが多孔質基材Ｓ１の表面に残っていることが好ましい。そのため、熱可塑性樹脂Ｂの貯蔵弾性率Ｇ’は基材への浸透がないように前述するような値にしておくことが好ましい。
　以下、実施例及び比較例を挙げて、本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、文中「部」及び「％」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。
　［実施例１］
　実施例１においては、熱可塑性樹脂Ｂ１と、ワックスＷ１とを含む流路壁形成用粒子Ｔ１を用いて、マイクロ流路デバイスを作製した。
　流路壁形成用粒子Ｔ１は、公知の懸濁重合法により、重量平均粒径７μｍの粒子として作製した。熱可塑性樹脂Ｂ１としてはスチレンアクリル樹脂を、ワックスＷ１としてはＦＮＰ９０を使用した。流路壁形成材料のワックスのＳＰ値（ＳＰ（Ｗ））が熱可塑性樹脂のＳＰ値（ＳＰ（Ｂ））より低く、ΔＳＰ値（＝ＳＰ（Ｂ）－ＳＰ（Ｗ））が１．４１である流路壁形成用粒子Ｔ１を作製した。
　＜流路壁形成用粒子Ｔ１の製造＞
　［重合性単量体組成物調製工程］
　下記組成を混合後、ボールミルで３時間分散させた。
スチレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７０．０質量部
ｎ－ブチルアクリレート　　　　　　　　　　　　　　　　３０．０質量部
ジビニルベンゼン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
ポリエステル樹脂　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．０質量部
（プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡとイソフタル酸との重縮合物（ガラス転移点６５℃、重量平均分子量（Ｍｗ）１００００、数平均分子量（Ｍｎ）６０００））
ＦＮＰ９０ワックス（日本精蝋（株）、炭化水素ワックス、重量平均分子量７７１）　２０．０質量部
　上記材料を６５℃に保温し、Ｔ．Ｋ．ホモミクサー（特殊機化工業（株）製）を用いて、５００ｒｐｍにて均一に溶解、分散し、重合性単量体組成物を調製した。
　［分散安定剤調製工程］
　高速撹拌装置Ｔ．Ｋ．ホモミクサー（プライミクス（株）製）を取り付けた２Ｌ用四つ口フラスコ中にイオン交換水７１０部と０．１ｍｏｌ／Ｌ－リン酸ナトリウム水溶液４５０部を添加し、回転数１２０００ｒｐｍで撹拌しながら、６０℃に加熱した。ここに１．０ｍｏｌ／Ｌ－塩化カルシウム水溶液６８．０部を添加し、微小な難水溶性分散安定剤としてリン酸カルシウムを含む水系分散媒体を調製した。
　［造粒・重合工程］
　上記水系分散媒体中に前記重合性単量体組成物を投入し、回転数１２０００ｒｐｍを維持しつつ１５分間造粒した。その後、高速撹拌機からプロペラ撹拌羽根に撹拌機を交換し、内温を６０℃に昇温し維持して重合反応を５時間継続させた後、内温を８０℃に昇温し維持して、さらに３時間重合反応を継続させた。重合反応終了後、８０℃、減圧下で残存単量体を留去した後、３０℃まで冷却し、重合体微粒子分散液を得た。
　［洗浄工程］
　上記重合体微粒子分散液を洗浄容器に移し、撹拌しながら、希塩酸を添加し、ｐＨ１．５に調整した。分散液を２時間撹拌後、ろ過器で固液分離し、重合体微粒子を得た。これをイオン交換水１２００部中に投入して撹拌し、再び分散液とした後、ろ過器で固液分離した。この操作を３回行い流路壁形成用粒子Ｔ１の母粒子を得た。
　［流動性向上剤付着工程］
　さらに、得られた母粒子１００．０部に対し、ヘキサメチルジシラザンで表面処理された流動性向上剤（一次粒子の個数平均粒径７ｎｍのシリカ）１．０部を加えて、ヘンシェルミキサーで５分間乾式混合した。そして、重量平均粒径（Ｄ４）が６．８μｍの流路壁形成用粒子Ｔ１を得た。
　［流路壁形成工程］
　流路壁形成用粒子Ｔ１を用いて、多孔質基材Ｓ１に図５Ａ～図５Ｃに示す流路パターンを形成し、加熱プロセスを経て、マイクロ流路デバイス（サンプルＡ）を作製した。
　加熱ユニットとしては、オーブン（ヤマト科学（株）　送風定温恒温器　ＤＮ６１０Ｈ）を用いた。加熱条件は、１６０℃環境において１５分間とした。
　形成されたマイクロ流路デバイスの流路壁の断面を観察した。多孔質基材の表面側におけるワックスの存在比率Ｘは５％、多孔質基材の内部におけるワックスの存在比率Ｙは９５％であった。
　作成したマイクロ流路デバイスに対して、以下の滴下試験および耐割れ性を評価する試験を行った。評価結果を表２に示す。
　また、多孔質基材内の流路壁がワックスによって形成されており、流路壁として有効に作用していることを、以下のようにして確認した。
　作成したマイクロ流路デバイスにヘキサンを滴下しながら吸引し、ワックスを除去する。ここで、熱可塑性樹脂はヘキサンには溶けず、ワックスのみがヘキサンに溶けだすため、ワックスのみを取り除くことができる。ヘキサンを用いて洗浄する前のデバイスの状態及び洗浄した後のデバイスの状態を図６Ａ、図６Ｂに示す。
　図６Ａ（ａ－１）及び図６Ａ（ａ－２）はヘキサンによるワックス除去前の状態を示す。例えば食紅などの色剤を混ぜた着色水８７をデバイスの流路８２に滴下すると（図６Ａ（ａ－１））、ワックスＷにより形成された流路壁がある場合、その疎水性により着色水の流路壁側（熱可塑性樹脂Ｂの下）への滲みが生じない（図６Ａ（ａ－２））。作成したマイクロ流路デバイスにおいても、着色水の流路壁側（熱可塑性樹脂Ｂの下）への滲みが生じないことが確認できた。
　図６Ｂ（ｂ－１）及び図６Ｂ（ｂ－２）はヘキサンによるワックス除去後の状態を示す。ワックス除去前と同様に、着色水を流路部に滴下すると（図６Ｂ（ｂ－１））、ワックスＷにより形成された流路壁が取り除かれているため、流路壁を形成していた部分（熱可塑性樹脂Ｂの下）にも着色水８７の滲みが生じる（図６Ｂ（ｂ－２））。作成したマイクロ流路デバイスにおいてワックスを除去した場合も、着色水の流路壁側（熱可塑性樹脂Ｂの下）への滲みが生じることが確認できた。
　これらの観察結果から、ワックスによる流路壁が形成されており、それが流路壁として有効に作用していることが確認できた。
　＜滴下試験＞
　検査液部８４に以下の検体を滴下して流路壁への検体の滲みが発生しないか試験した。
検体：下記組成を混合して作製した食紅水を検体として使用した。
純水（オルガノ製純水装置ＲＯ－ＨＰ１５０にて作成）：４０ｍＬ
共立食品株式会社　食用色素　赤：０．０８ｇ
　マイクロピペットを用いて、６０μＬの食紅水を滴下した。「ＯＫ」は滲みが目視で確認できなかったことを示し、「ＮＧ」は滲みが目視で確認できたことを示す。
　＜耐割れ性＞
　流路壁がワックスのみで形成されているデバイスより、流路壁材料内に熱可塑性樹脂が存在するデバイスの方がデバイスの耐割れ性が向上する。
　形成されたマイクロ流路デバイスを、直径１０ｍｍの円柱形状の棒に巻き付けて割れ性を確認した。ここで、巻きつける際はデバイスの表面が外側になるように巻き付けた。「ＯＫ」は目視可能な割れが１つも生じなかったことを示し、「ＮＧ」は目視可能な割れが１つ以上発生したことを示す。
　［実施例２］
　ワックスをエチレングリコールジベヘネート（重量平均分子量７０７）に変えたこと以外は流路壁形成用粒子Ｔ１と同様にして、ΔＳＰ値（＝ＳＰ（Ｂ）－ＳＰ（Ｗ））が０．９９である流路壁形成用粒子Ｔ２を形成した。
　流路壁形成用粒子Ｔ２を用いたこと、及び加熱時間を６０分に変更したこと以外は実施例１と同様にして、マイクロ流路デバイス（サンプルＢ）を作製した。
　実施例１と同様に、滴下試験、耐割れ性を評価する試験を行った。結果を表２に示す。
　［比較例１］
　ワックスをテレフタル酸ジテトラデカン（重量平均分子量５８７）に変えたこと以外は流路壁形成用粒子Ｔ１と同様にして、ΔＳＰ値（＝ＳＰ（Ｂ）－ＳＰ（Ｗ））が０．５８である流路壁形成用粒子Ｔ３を形成した。
　流路壁形成用粒子Ｔ３を用いたこと以外は実施例２と同様にして、マイクロ流路デバイス（サンプルＣ）を作製し、サンプルに対して滴下試験、耐割れ性を評価する試験を行った。結果を表２に示す。
　［実施例３］
　本実施例では、熱可塑性樹脂Ｂ２と、ワックスＷ４とを含む流路壁形成用粒子Ｔ４を用いて、マイクロ流路デバイスを作製した。
　熱可塑性樹脂Ｂ２は、以下のモノマーを用いて合成したポリエステルである。
・ビスフェノールＡ－ＰＯ（プロピレンオキシド）２モル付加物　　　　　　５０質量部
・ビスフェノールＡ－ＥＯ（エチレンオキシド）２モル付加物　　　　　　　３０質量部
・エチレングリコール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５質量部
・テレフタル酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０質量部
　ワックスＷ４は、ＦＮＰ９０（日本精蝋（株）、炭化水素ワックス、重量平均分子量７７１）である。
・熱可塑性樹脂Ｂ２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５２質量部
・ワックスＷ４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４８質量部
　上記材料を温度１２０℃に設定した二軸混練機（ＰＣＭ－３０型、（株）池貝製）に、投入し混練して、混練物を得た。
　得られた混練物を冷却し、ハンマーミルにて１ｍｍ以下に粗粉砕し、粗砕物を得た。得られた粗砕物を、機械式粉砕機（Ｔ－２５０、ターボ工業（株）製）にて微粉砕した。さらに回転型分級機（２００ＴＳＰ、ホソカワミクロン（株）製）を用いて分級を行い、重量平均粒径７．０μｍの流路壁形成用粒子Ｔ４を得た。回転型分級機（２００ＴＳＰ、ホソカワミクロン（株）製）の運転条件は、分級ローター回転数５０．０ｓ－１で分級を行った。
　流路壁形成用粒子Ｔ４を用いたこと、加熱時間を５分に変更したこと以外は実施例１と同様にして、マイクロ流路デバイス（サンプルＤ）を作製し、滴下試験、耐割れ性を評価する試験を行った。結果を表２に示す。
　［比較例２、３］
　流路壁形成用粒子Ｔ５として、上記ワックスＷ４のみを含有する粒子を用意した。流路壁形成用粒子Ｔ５を用いる以外は、実施例１と同様にして、マイクロ流路デバイス（サンプルＥ）を作製した。
　また、流路壁形成用粒子Ｔ６として、流路壁形成用粒子Ｔ１の組成からワックスＦＮＰ９０を除いて、樹脂粒子を作成した。流路壁形成用粒子Ｔ６を用いる以外は実施例１と同様にして、マイクロ流路デバイス（サンプルＦ）を作製した。
　マイクロ流路デバイス（サンプルＥ、Ｆ）を用いたこと以外は実施例１と同様にして、滴下試験、耐割れ性を評価する試験を行った。結果を表２に示す。
　［実施例４］
　実施例４においては、熱可塑性樹脂Ｂ１と、ワックスＷ１とを含む流路壁形成用粒子Ｔ７を用いて、マイクロ流路デバイスを作製した。
　実施例１との差異は、ワックスＷ１の含有量を２０．０質量部から１５．０質量部に変更した流路壁形成用粒子Ｔ７を用いた点である。
　実施例１と同様にして、マイクロ流路デバイス（サンプルＧ）を作製し、滴下試験、耐割れ性を評価する試験を行った。結果を表２に示す。
　［実施例５］
　実施例５においては、熱可塑性樹脂Ｂ１と、ワックスＷ５とを含む流路壁形成用粒子Ｔ８を用いて、マイクロ流路デバイスを作製した。
　実施例１との差異は、ＦＮＰ９０ワックスをテレフタル酸ジオクタデシルに変更した点である。
　実施例１と同様にして、マイクロ流路デバイス（サンプルＨ）を作製し、滴下試験、耐割れ性を評価する試験を行った。結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　本発明は上記実施の形態に制限されるものではなく、本発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、本発明の範囲を公にするために以下の請求項を添付する。
　本願は、２０２２年４月２３日提出の日本国特許出願特願２０２２－０７１２０８と２０２３年３月１５日提出の日本国特許出願特願２０２３－０４０８１１を基礎として優先権を主張するものであり、その記載内容の全てをここに援用する。
　４　転写ローラ
　５　中間転写体
　６　１次転写ローラ
　７　２次転写ローラ
　Ｐ　プロセスカートリッジ
　１１　感光ドラム
　１２　帯電ローラ
　１４　クリーニングブレード
　１５　メモリ
　２０　現像装置
　２１　現像容器
　２３　現像ローラ
　２４　樹脂粒子供給ローラ
　２５　現像ブレード
　７１　帯電高圧
　７２　現像高圧
　７３　露光ユニット
　７４　転写高圧
　７５　接離手段
　８０　流路パターン
　８１　保護層
　８２　流路
　８３　試薬部
　８４　検査液部
　１００　画像形成ユニット
　Ｔ　流路壁形成用粒子
　Ｂ　熱可塑性樹脂
　Ｗ　ワックス

Claims (4)

  1. 　多孔質基材の内部に、流路壁で挟まれた流路が形成されたマイクロ流路デバイスであって、
    　前記流路壁を形成する流路壁形成材料は、熱可塑性樹脂およびワックスを含有しており、
    　前記流路壁における前記多孔質基材の表面側のワックスの存在比率をＸとし、前記多孔質基材の内部の孔中に存在するワックスの存在比率をＹとしたとき、
    　　Ｘ＜Ｙ
    　であり、
    　前記流路壁形成材料の全体において、前記ワックスの含有比率が１３．１質量％以上７０．０質量％以下であり、
    　前記ワックスのＳＰ値をＳＰ（Ｗ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２とし、前記熱可塑性樹脂のＳＰ値をＳＰ（Ｂ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２としたとき、
    　　ＳＰ（Ｂ）－ＳＰ（Ｗ）≧０．６
    　であることを特徴とするマイクロ流路デバイス。
  2. 　前記ＳＰ（Ｗ）及び前記ＳＰ（Ｂ）が下記式を満たす
    　　ＳＰ（Ｂ）－ＳＰ（Ｗ）≧１．０
    　請求項１に記載のマイクロ流路デバイス。
  3. 　前記ワックスの重量平均分子量が３００以上１０，０００以下である請求項１又は２に記載のマイクロ流路デバイス。
  4. 　多孔質基材の内部に、流路壁で挟まれた流路が形成されたマイクロ流路デバイスの製造方法であって、
    　前記多孔質基材の表面に、電子写真方式で、熱可塑性樹脂およびワックスを含有する流路壁形成材料を載せて、前記多孔質基材の表面に流路パターンを形成する工程、および
    　前記流路パターンに含有される前記ワックスを熱により溶融させて、前記ワックスを前記多孔質基材の内部に浸透させて、前記多孔質基材の内部に流路壁を形成する工程、
    　を有し、
    　前記流路壁形成材料の全体において、前記ワックスの含有比率が１３．１質量％以上７０．０質量％以下であり、
    　前記ワックスのＳＰ値をＳＰ（Ｗ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２とし、前記熱可塑性樹脂のＳＰ値をＳＰ（Ｂ）［ｃａｌ／ｃｍ３］１／２としたとき、
    　　ＳＰ（Ｂ）－ＳＰ（Ｗ）≧０．６
    　であることを特徴とするマイクロ流路デバイスの製造方法。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012037511A (ja) 2010-08-05 2012-02-23 Xerox Corp バイオメディカル用途のための非極性固体インク
JP2017045042A (ja) * 2015-08-28 2017-03-02 キヤノン株式会社 トナーおよびトナーの製造方法
WO2018043237A1 (ja) * 2016-09-05 2018-03-08 東レ株式会社 色変換組成物、色変換シート、それを含む発光体、照明装置、バックライトユニットおよびディスプレイ
JP2021037612A (ja) * 2019-08-29 2021-03-11 キヤノン株式会社 マイクロ流路デバイスの製造方法
JP2021039095A (ja) * 2019-08-29 2021-03-11 キヤノン株式会社 マイクロ流路デバイス
JP2022071208A (ja) 2020-10-13 2022-05-13 パイオニア株式会社 パルスオキシメータ
JP2023040811A (ja) 2021-09-10 2023-03-23 サンデン株式会社 スクロール型流体機械

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4718738B2 (ja) * 2001-09-21 2011-07-06 株式会社リコー 静電荷像現像用トナー
JP3946518B2 (ja) * 2001-12-28 2007-07-18 株式会社リコー 画像形成用カラートナー、画像形成装置及びトナー容器
JP2015131257A (ja) * 2014-01-10 2015-07-23 株式会社リコー 流体デバイス及びその製造方法、並びに流体デバイス製造用熱転写媒体
JP6798203B2 (ja) * 2016-09-08 2020-12-09 株式会社リコー 電子写真用トナー、電子写真用現像剤、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012037511A (ja) 2010-08-05 2012-02-23 Xerox Corp バイオメディカル用途のための非極性固体インク
JP2017045042A (ja) * 2015-08-28 2017-03-02 キヤノン株式会社 トナーおよびトナーの製造方法
WO2018043237A1 (ja) * 2016-09-05 2018-03-08 東レ株式会社 色変換組成物、色変換シート、それを含む発光体、照明装置、バックライトユニットおよびディスプレイ
JP2021037612A (ja) * 2019-08-29 2021-03-11 キヤノン株式会社 マイクロ流路デバイスの製造方法
JP2021039095A (ja) * 2019-08-29 2021-03-11 キヤノン株式会社 マイクロ流路デバイス
JP2022071208A (ja) 2020-10-13 2022-05-13 パイオニア株式会社 パルスオキシメータ
JP2023040811A (ja) 2021-09-10 2023-03-23 サンデン株式会社 スクロール型流体機械

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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