WO2024010066A1

WO2024010066A1 - 化粧シート及び化粧シートの製造方法

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Publication number: WO2024010066A1
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Inventors: 英士青木
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Abstract

低光沢で、耐指紋性、耐傷性、耐汚染性、耐候性、曲げ加工性を両立した化粧シートを提供する。そのため、化粧シート（１）は、原反層（２）、透明賦形層（５）及び表面保護層（６）がこの順に積層され、透明賦形層（５）は、畝状に突出した畝状部を有する凹凸形状が形成されており、前記透明賦形層（５）の凸部上の表面保護層（６）の膜厚ＴＡと、透明賦形層（５）の凹部上の表面保護層（６）の膜厚ＴＢとの関係が、０．１≦ＴＡ／ＴＢ≦２．０である。

Description

化粧シート及び化粧シートの製造方法

　本発明は、建築物の内外装、建具、家具、造作材、床材等の表面化粧等に使用される化粧シート、及びその化粧シートの製造方法に関する。

　近年、特許文献１に示すとおり、環境保護上の問題が懸念されているポリ塩化ビニル製の化粧シートに替わる化粧シートとして、オレフィン系樹脂を使用した化粧シート（例えば、ポリプロピレンシート）が数多く提案されている。これらの化粧シートは、塩化ビニル樹脂を使用しないため、焼却時における有毒ガス等の発生が抑制される。

　化粧シートは建築物において、その表面に意匠性や耐久性を付与するため、木材、木質ボード、金属板、不燃ボード、紙質基板、あるいは樹脂基板等の表面に接着剤等を介して貼り合わせて化粧板とすることで、一般に広く用いられている。意匠性の付与については、木目や石目といった柄を、各種印刷方法を用いて形成したものから、柄の無い無地表面まで、要求や用途に応じて選択される。また同様に、表面の光沢感も意匠性として重要な項目であり、鏡面のような高光沢から映り込みの全くない低光沢まで、要求や用途に応じて選択されるものである。また、意匠性と並んで重要な化粧シートの機能として、耐久性の付与が挙げられる。耐久性とは耐傷性や耐汚染性、更にそれらが長期間継続して担保されるかを総合的に評価したものである。化粧シートは、住宅や公共施設の建築内装材、玄関ドア等の建築外装部材、建具の表面材、家電品の表面材に用いられる。そのため、日々直射日光や風雨に曝されることになり、極めて高い耐候性が要求される。例えば、特許文献２～５に記載の化粧シートでは、光安定剤や紫外線吸収剤等を含有させることで、耐候性の向上を図っている。

　耐久性の付与には、化粧シートにおける再表面に表面保護層を形成するのが一般的である。また、前述の光沢感を調整するため、特に低光沢を達成するために、表面保護層中に艶調整剤（艶消し添加剤）を添加することが一般的である。このように、意匠性（低光沢）、耐傷性、耐汚染性が考慮された化粧シートとして、例えば特許文献６に記載の化粧シートがある。近年、化粧シートを用いた化粧板の用途の拡大や、消費者の品質に対する益々の高度化のため、低光沢で、耐指紋性、耐傷性、曲げ加工性の両立が求められているが、艶調整剤を高濃度で添加し表面を粗くする方法は、多量に添加することで、以下に示すような不具合が生じる。
（１）指紋汚れが落ちにくくなり、耐指紋性が低下する。
（２）耐傷性試験で艶調整剤が脱離してしまい、耐傷性が低下する。
（３）汚れが落ちにくくなり、耐汚染性が低下する。
（４）曲げ加工する際に艶調整剤をきっかけとして白化が起き、曲げ加工性が低下する。

　このような課題に対して、特許文献７、８には、波長２００ｎｍ未満のエキシマ光を用いてシワを形成させることで、艶調整剤を高濃度に添加せずに低光沢の化粧シートを製造する方法が提案されている。しかしながら、最表層をエキシマ光によりシワを形成する樹脂材料では、充分な耐傷性を担保することが困難であり、また、光安定剤はエキシマ光によるシワ形成を阻害するため、充分な耐候性を担保することは不可能である。

特許第３２７１０２２号公報国際公開第２０１８／１０１３４９号国際公開第２０１８／２２１６１０号国際公開第２０１９／２４４９８６号国際公開第２０２０／０２２３８４号特開２０１９－１１９１３８号公報国際公開第２０２１／２０１１０５号特開２０２２－００８０２４号公報

　従来にあっては、低光沢化のために艶調整剤を高濃度で添加すると耐指紋性、耐傷性、耐汚染性、耐白化性が低下し、エキシマ光を用いてシワを形成させると光安定剤を充分な量添加できずに耐候性が低下するため、低光沢と諸物性の両立が求められている。

　本発明は、上記のような点に着目してなされたもので、低光沢であり優れた意匠性を有し、かつ、耐指紋性と高度な耐久性(特に耐傷性や耐汚染性、耐候性)と加工性とを有する化粧シートを提供することを目的とする。

　本発明者は、低光沢を達成するために透明賦形層の凹凸形状を最適化し、更に表面保護層と合わせることで、低光沢かつ耐指紋性と高度な耐久性(特に耐傷性や耐汚染性、耐候性)と加工性とが発現される化粧シートを提供できることを見出した。

　課題を達成するべく、本発明の一態様に係る化粧シートは、原反層、透明賦形層及び表面保護層がこの順に積層され、前記透明賦形層は、前記表面保護層側の面に畝状に突出した畝状部を有する凹凸形状が形成され、前記透明賦形層の凸部上の前記表面保護層の膜厚ＴＡと、前記透明賦形層の凹部上の前記表面保護層の膜厚ＴＢとの関係が、０．１≦ＴＡ／ＴＢ≦２．０であることを特徴としている。
　また、本発明の他の態様に係る化粧シートの製造方法は、原反層の上に塗布された電離放射線硬化性樹脂の表面に対して、波長２００ｎｍ以下の光を照射した後、電離放射線またはＵＶ光を照射することで、畝状に突出した畝状部を有する透明賦形層を形成することを特徴としている。

　本発明の一態様によれば、低光沢で、耐指紋性、耐傷性、耐汚染性、耐候性、曲げ加工性を両立した化粧シートを提供することができる。

本発明の一実施形態に係る化粧シートの構成の一例を説明する概略断面図である。本発明の他の実施形態に係る化粧シートの構成の一例を説明する概略断面図である。本発明に係る化粧シートの透明賦形層の構成の一例を説明する概略断面図である。本発明の一実施形態に係る化粧シートの透明賦形層の表面構成例を示す平面写真である。本発明の一実施形態に係る化粧シートの透明賦形層及び表面保護層の一構成例を説明する概略断面図である。

　以下に、本発明の一実施形態に係る化粧シートについて図面を参照して説明する。
　ここで、図面は模式的なものであり、厚さと平面寸法との関係、各層の厚さの比率等は現実のものとは異なる。また、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状及び構造等を下記のものに特定するものでない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることができる。

「構成」
　本発明の一実施形態に係る化粧シート１は、図１に示すように、原反層(基材層)２の一方の面である表面側に、透明賦形層５が積層されて構成される。化粧シート１は、必要に応じて、原反層２の表面側に絵柄層３を形成しその上に透明賦形層５を形成することで、意匠性を向上させてもよい。また、化粧シート１は、図２に示すように原反層２の表面側の、絵柄層３と透明賦形層５との間に透明樹脂層４が積層されていてもよく、さらに透明賦形層５の上に表面保護層６が積層されていてもよい。

　ここで、透明樹脂層４には、意匠性の要求によっては、エンボスによる凹凸模様（エンボス模様４ａ）を付与してもよい。エンボス模様４ａには、インキを埋め込み、更に意匠性を向上させることも可能である。また、絵柄層３と透明樹脂層４との密着性に問題があれば接着性樹脂層４ｂを適宜設けても構わない。接着性樹脂層４ｂを設ける場合、透明樹脂層４と接着性樹脂層４ｂとの共押出法で形成する。接着性樹脂層４ｂは、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、アクリル系等の樹脂に酸変性を施したものとする。接着性樹脂層４ｂの厚さは、接着力向上の目的から２μｍ以上であることが望ましい。更に、耐傷性等の要求から、透明樹脂層４、透明賦形層５及び表面保護層６の少なくとも一つの層を複数層積層することも可能であり、各層間の密着性を考慮して、その他公知の他の層を配置する構成としてもよい。

　図１中、符号Ｂは、基板を表している。基板Ｂは、化粧シート１が貼り合わせられる基板である。基板Ｂとしては、特に限定は無いが、例えば、木質ボード類、無機系ボード類、金属板、複数の材料からなる複合板等が例示できる。化粧シート１と基板Ｂとの間に、適宜、プライマー層７や隠蔽層（不図示）等を設けてもよい。

　次に、化粧シート１を構成する各層について説明する。
（原反層２）
　原反層２としては、例えば紙、合成樹脂、あるいは合成樹脂の発泡体、ゴム、不織布、合成紙、金属箔等から任意に選択したものが使用可能である。紙としては、薄葉紙、チタン紙、樹脂含侵紙等が例示できる。合成樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、アクリル等が例示できる。ゴムとしては、エチレン－プロピレン共重合ゴム、エチレン－プロピレン－ジエン共重合ゴム、スチレン－ブタジエン共重合ゴム、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合ゴム、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合ゴム、ポリウレタン等が例示できる。不織布としては、有機系や無機系の不織布が使用できる。金属箔の金属としては、アルミニウム、鉄、金、銀等が例示できる。また、原反層２は、透明樹脂層４と同一の樹脂組成物からなるシートでもよい。この場合、原反層２は、樹脂材料や樹脂組成物を膜状に成形することにより得られる。成形方法としては、例えば、カレンダー成形、押出成形等が挙げられる。

　原反層２は、無機顔料を合成樹脂に混合してなる着色層と、合成樹脂からなるスキン層とを有することが望ましい。スキン層の厚さは３μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、スキン層と着色層の厚さの比が１：６から１：５０であることが望ましい。原反層２を、共押出法で形成する場合、着色層が最外層にあると、着色層に含まれる顔料成分がブリードし、押出機のＴダイや搬送中のロールが汚染するため、最外層は顔料を含まないスキン層であることが望ましい。着色層の両面にスキン層を設けることが望ましい。スキン層を厚くし、着色層に対する比率を大きくすると、着色層の比率が低下するため、隠蔽性が低下するので好ましくない。

　また、原反層２の厚さは、５０μｍ以上１５０μｍ以下であることが重要である。原反層２が５０μｍ未満の場合、下地の凹凸をカバーする性能(不陸性)が悪く、好ましくない。更に弾性率を向上させてもフィルム強度が不足してしまうため、印刷加工時の不具合や耐傷性の悪化を抑制することが困難である。一方、原反層２の厚さが１５０μｍを超える場合、曲げ加工において白化や割れといった不具合が生じてしまうおそれがある。

（無機顔料）
　無機顔料は、隠蔽性を付与するための酸化チタンに代表される公知の無機顔料を用いることができる。原反層２は基材Ｂの模様を隠蔽する役割を担う。化粧シート１の意匠性の観点から要求される隠蔽性を得るために、光透過率が４０％以下であることが好ましい。隠蔽性が低いと絵柄層３の模様と基材Ｂの模様とが混在し、好ましくない。無機顔料を含有することにより、隠蔽性が良好な化粧シート１を得ることができる。無機顔料の混合量は、樹脂材料を１００質量部として、５質量部以上５０質量部以下とすることが好ましい。無機顔料の混合量が少ないと隠蔽性が悪く、また、混合量が５０質量部以上の場合は原反層２の脆化が起こり好ましくない。含有する無機顔料としては、特に限定されないが、例えば天然無機顔料、合成無機顔料が挙げられる。天然無機顔料としては、例えば、土系顔料、焼成土、鉱物性顔料等が挙げられる。合成無機顔料としては、酸化物顔料、水酸化物顔料、硫化物顔料、珪酸塩顔料、燐酸塩顔料、炭酸塩顔料、金属粉顔料、炭素顔料等が挙げられる。また、合成無機顔料として、天然無機顔料、合成無機顔料の中から、一種類もしくは二種類以上を混合した混合顔料を用いてもよい。また、合成無機顔料として、カーボンブラックのような有機顔料を併用しても構わない。
　更に、無機顔料には、分散性の向上や、押出適性を改善するために脂肪酸金属塩等の添加剤を加えても構わない。

（絵柄層３）
　原反層２の表面には、化粧シート１に柄模様を付加するための絵柄層３を設けることができる。柄模様としては、木目模様、石目模様、砂目模様、タイル貼模様、煉瓦積模様、布目模様、皮絞模様、幾何学図形等を用いることができる。
　原反層２として、オレフィン系のような表面が不活性な基材を用いる場合は、原反層２の表裏にコロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理、電子線処理、紫外線処理、重クロム酸処理等を行うことが望ましい。

　更に、原反層２と絵柄層３との間には、目的とする意匠の程度に応じて下地ベタインキ層（不図示）を設けるようにしてもよい。下地ベタインキ層は、原反層２の全面を被覆するようにして設けられる。また、下地ベタインキ層は、隠蔽性等、必要に応じて２層以上の多層としてもよい。更に、絵柄層３は、求められる意匠を表現するために必要な分版の数だけ積層して形成してもよい。このように、絵柄層３と下地ベタインキ層とは、求められる意匠、つまり、表現したい意匠に応じて様々な組み合わせとなるが、特に限定されるものではない。

　下地ベタインキ層及び絵柄層３の構成材料は、特に限定されるものではない。下地ベタインキ層及び絵柄層３の構成材料としては、例えば、マトリックスと、染料、顔料等の着色剤とを溶剤中に溶解、分散してなる印刷インキやコーティング剤を用いることができる。マトリックスとしては、油性の硝化綿樹脂、２液ウレタン樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニル系樹脂、アルキド樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ゴム系樹脂等の各種合成樹脂類、またはこれらの混合物、共重合体等を用いることができる。また、着色剤としては、カーボンブラック、チタン白、亜鉛華、弁柄、黄鉛、紺青、カドミウムレッド等の無機顔料や、アゾ顔料、レーキ顔料、アントラキノン顔料、フタロシアニン顔料、イソインドリノン顔料、ジオキサジン顔料等の有機顔料、またはこれらの混合物を用いることができる。また、溶剤としては、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、水等、もしくはこれらの混合物等を用いることができる。

　また、下地ベタインキ層及び絵柄層３には、各種機能を付与するために、体質顔料、可塑剤、分散剤、界面活性剤、粘着付与剤、接着助剤、乾燥剤、硬化剤、硬化促進剤及び硬化遅延剤等の機能性添加剤を添加してもよい。

　ここで、下地ベタインキ層及び絵柄層３は、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷方法によって形成することができる。また、下地ベタインキ層は、原反層２の全面を被覆しているため、ロールコート法、ナイフコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法等の各種コーティング方法によっても形成することができる。これらの印刷方法、コーティング方法は、形成する層によって別々に選択してもよいが、同じ方法を選択して一括加工することが効率的である。

　絵柄層３の厚さは、３μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。絵柄層３の厚さがこの範囲である場合、印刷を明瞭にすることができるとともに、化粧シート１を製造する際の印刷作業性が向上し、かつ製造コストを抑制することができる。

（透明樹脂層４）
　透明樹脂層４の主成分として用いる樹脂材料は、オレフィン系樹脂からなることが好適であり、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の他に、αオレフィン（例えば、プロピレン、１－ブテン、１－ペンテン、１－ヘキセン、１－ヘプテン、１－オクテン、１－ノネン、１－デセン、１－ウンデセン、１－ドデセン、トリデセン、１－テトラデセン、１－ペンタデセン、１－ヘキサデセン、１－ヘプタデセン、１－オクタデセン、１－ノナデセン、１－エイコセン、３－メチル－１－ブテン、３－メチル－１－ペンテン、３－エチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ペンテン、４－メチル－１－ヘキセン、４、４－ジメチル－１－ペンテン、４－エチル－１－ヘキセン、３－エチル－１－ヘキセン、９－メチル－１－デセン、１１－メチル－１－ドデセン、１２－エチル－１－テトラデセン等）を単独重合あるいは２種類以上を共重合させたものや、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体、エチレン・メチルメタクリレート共重合体、エチレン・エチルメタクリレート共重合体、エチレン・ブチルメタクリレート共重合体、エチレン・メチルアクリレート共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体、エチレン・ブチルアクリレート共重合体等のように、エチレンまたはαオレフィンとそれ以外のモノマーとを共重合させたものが挙げられる。また、化粧シート１の表面強度の向上を図る場合には、高結晶性のポリプロピレンを用いることが好ましい。
　ここで、本明細書で主成分とは、特に特定が無い場合には、対象とする材料の９０質量％以上を指す。

　透明樹脂層４を設ける場合、透明樹脂層４の層厚は５０μｍ以上１００μｍ以下が好ましい。５０μｍ未満の場合、透明樹脂層４表面の耐傷性の向上効果が低く、透明樹脂層４を設ける意義が少なくなってしまう。透明樹脂層４の層厚が１００μｍを超える場合、化粧シート１の剛性が高すぎて、曲げ加工において白化や割れといった不具合が生じてしまうおそれがある。
　もっとも、透明樹脂層４の上に表面保護層６を設ける場合には、透明樹脂層４の層厚は５０μｍ未満としてもよい。
　なお、透明樹脂層４を構成する樹脂組成物には、必要に応じて熱安定剤、光安定剤、ブロッキング防止剤、触媒捕捉剤、着色剤、光散乱剤及び艶調整剤等の各種機能性添加剤を含有させてもよい。これらの各種機能性添加剤は、周知のものから適宜選択して用いることができる。

　また、絵柄層３と透明樹脂層４を密着させるために用いる接着剤は、接着方法として任意の材料選定が可能で、熱ラミネート、押出ラミネート、ドライラミネート等による積層方法があり、接着剤はアクリル系、ポリエステル系、ポリウレタン系等の材料から選定できる。通常はその凝集力から、イソシアネートとポリオールとの反応を利用した２液硬化タイプのウレタン系材料が望ましい。なお、透明樹脂層４の積層方法にも特に規制はないが、熱圧を応用した方法、押出ラミネート法、ドライラミネート法等が一般的である。また、エンボス模様４ａを施す場合には、一旦各種方法でラミネートしたシートに後から熱圧によりエンボスを入れる方法や、冷却ロールに凹凸模様を設け押出ラミネートと同時にエンボスを施す方法がある。
　また、押出と同時にエンボスを施した絵柄層３と透明樹脂層４とを熱あるいはドライラミネートで貼り合わせる方法等を用いることができる。

　また、押出ラミネート法でさらなるラミネート強度を求める場合、透明樹脂層４と接着剤との間に接着性樹脂層４ｂを設けてもよい。接着性樹脂層４ｂを設ける場合、透明樹脂層４と接着性樹脂層４ｂとの共押出法でラミネートを行う。接着性樹脂層４ｂは、ポリプロピレン、ポリエチレン、アクリル系等の樹脂に酸変性を施したものとする。接着性樹脂層４ｂの厚さは、接着力向上の目的から２μｍ以上であることが望ましい。

（透明賦形層５）
　透明賦形層５は、図３に示すようにコア部５Ａと、コア部５Ａの一方の面から畝状に突出して設けられた畝状部５Ｂとを有している。これにより、透明賦形層５には凹凸形状が形成されている。ここで、本発明の一実施形態に係る化粧シート１において、「畝状」とは、細長く盛り上がり、平面視で線状に連なった形状であることをいう。畝状部５Ｂは、平面視で曲線状であっても直線状であってもよいが、化粧シート１の耐指紋性の観点から曲線状であることが好ましい。また、本実施形態において、畝状部５Ｂは、例えば、透明賦形層５の凹凸形状の最も低い部分から最も高い部分までの部分を言い、コア部５Ａは透明賦形層５の畝状部５Ｂを除く部分を言うものとする。

　図３は、透明賦形層５の畝状部５Ｂの断面（透明賦形層５の厚さ方向における断面）を模式的に示す断面図であり、図４は、透明賦形層５の表面の構成を示す平面写真である。ここで、図４は、レーザー顕微鏡（オリンパス株式会社製ＯＬＳ－４０００）により得た平面写真である。
　畝状部５Ｂは、図４の平面写真に示すように、細長く盛り上がり、平面視で線状に連なった形状となっている。畝状部５Ｂは、後述するように、電離放射線硬化性樹脂の表面に対して特定波長の光を照射して、電離放射線硬化性樹脂の表面を収縮させることにより形成される。

　このような畝状部５Ｂの形状は、横方向（透明賦形層５の平面方向であって、図３においては左右方向）の表面粗さの指標ＲＳｍ（μｍ）と縦方向（畝状部５Ｂの深さ方向、透明賦形層５の厚さ方向であって、図３においては上下方向）の表面粗さの指標Ｒａ（μｍ）との比ＲＳｍ／Ｒａで示すことができ、ＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下であることが好ましい。より好ましくは、ＲＳｍ／Ｒａは、１０以上２５０以下である。ＲＳｍ／Ｒａが１０未満の場合、畝状部５Ｂの形状が細かすぎるため、汚れをふき取りにくくなり、耐汚染性が悪くなる。ＲＳｍ／Ｒａが３００より大きい場合、畝形状の間隔が広すぎるため、低光沢にならない。

　ここで、表面粗さの指標Ｒａ及びＲＳｍは、線粗さ計を用いて測定した場合の測定値であり、ＪＩＳ　Ｂ０６０１に準拠して測定した測定値である。
　なお、畝状部５Ｂの透明賦形層５の厚さ方向における断面形状は、正弦波形状であってもよい。ここでいう正弦波形状とは、畝状部５Ｂの最も低い位置から最も高い位置に至る線を正弦波で表現可能な形状をいう。

　以下、畝状部５Ｂが形成されるメカニズムについて説明する。
　アクリレート樹脂に２００ｎｍ以下の光を照射すると、アクリレート樹脂は自己励起することが可能である。したがって、アクリレート樹脂に２００ｎｍ以下の光を照射することにより、アクリレート樹脂を架橋させることが可能となる。２００ｎｍ以下の光はアクリレート樹脂において数十～数百ｎｍ程度の深さまで到達する。そのため、表面のみ架橋し、その下の部分が流動性を持つため、折畳みシワの様な波状に連なる微細な凹凸形状が生じる。

　２００ｎｍ以下の光は、大気中の酸素に吸収され大きく減衰する。そのため、アクリレート樹脂を処理する際には、窒素ガスを導入して反応雰囲気を制御する必要がある。反応雰囲気中の残留酸素濃度は、２０００ｐｐｍ以下に抑えることが好ましい。より好ましくは、反応雰囲気中の残留酸素濃度が１０００ｐｐｍ以下である。

　２００ｎｍ以下の光により凹凸形状を生じさせるためには、積算光量を０．１ｍＪ／ｃｍ^２以上２００ｍＪ／ｃｍ^２以下とすることが好ましい。より好ましくは、積算光量が０．５ｍＪ／ｃｍ^２以上１００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。積算光量が０．１ｍＪ／ｃｍ^２より少ない場合、硬化収縮反応が弱く、凹凸形状が充分に形成されないため、光沢が下がらない。積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２より多い場合、硬化収縮反応が強くなり過ぎて表面状態が悪くなる。

　２００ｎｍ以下の光は、エキシマＶＵＶ光により取り出すことができる。エキシマＶＵＶ光は希ガスや希ガスハライド化合物のランプから生み出すことができる。希ガスや希ガスハライド化合物のガスが封じられたランプに外部から高いエネルギーを有する電子を与えると放電プラズマ（誘電体バリア放電）が多数発生する。このプラズマ放電により、放電ガス（希ガス）の原子が励起され、瞬間的にエキシマ状態となる。このエキシマ状態から基底状態に戻るときに、そのエキシマ特有の波長領域の光を発する。

　エキシマランプに用いるガスは、２００ｎｍ以下の光を発するものであれば、従来用いられたいずれのガスであってもよい。ガスとしては、Ｘｅ、Ａｒ、Ｋｒ等の希ガスや、ＡｒＢｒ、ＡｒＦ等の希ガスとハロゲンガスとの混合ガスを用いることができる。エキシマランプは、ガスによって中心波長が異なり、例えば約１７２ｎｍ（Ｘｅ）、約１２６ｎｍ（Ａｒ）、約１４６ｎｍ（Ｋｒ）、約１６５ｎｍ（ＡｒＢｒ）、約１９３ｎｍ（ＡｒＦ）等の波長を有する。

　しかしながら、得られる光子エネルギーの大きさや、波長と有機物の結合エネルギーとの差を考慮すると、中心波長が１７２ｎｍのエキシマ光を発光するキセノンランプを光源として用いることが好ましい。また、設備維持にかかるコストや材料の入手等も合わせて考慮すると、キセノンランプを光源として用いることが好ましい。

　２００ｎｍ以下の光は、アクリレート樹脂において、最表面から数十～数百ｎｍ程度の深さにしか到達しないため、２００ｎｍ以下の光が照射されて形成された畝状部５Ｂを有する透明賦形層５の内部は流動性があり、更に硬化反応を進めなくてはならない。２００ｎｍ以下の光を照射した後に透明賦形層５を硬化するには、電離放射線やＵＶ光を用いることができる。

　２００ｎｍ以下の光照射により形成された畝状部５Ｂは、透明賦形層５の表面にエンボス加工等の機械的な加工により形成された凹凸形状と比較して、微細な構造となっている。透明賦形層５の表面にこのような微細な凹凸形状が形成されることにより、化粧シート１表面のマット感を維持しながら耐指紋性を向上させることが可能となる。

　透明賦形層５の層厚は、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲とすることが好ましい。より好ましくは、透明賦形層５の層厚が５μｍ以上２０μｍ以下の範囲である。透明賦形層５の層厚を２μｍ未満とした場合、真空紫外光による賦形が深く入らず、低光沢化できない。また、透明賦形層５の層厚を２０μｍより厚くした場合、加工性が低下し折り曲げ時に白化してしまう。

　ここで、透明賦形層５は、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷方法によって形成することができる。また、透明賦形層５は、原反層２の表面側の面の全面を被覆しているため、例えば、ロールコート法、ナイフコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法等の各種コーティング法によっても形成することができる。これらの印刷方法、あるいはコーティング方法は、形成する層によって別々に選択してもよいし、同じ方法を選択して一括加工してもよい。

　絵柄層３と透明賦形層５は、意匠性の観点から同調させてもよい。同調させる場合は、絵柄層３を形成した後に透明賦形層５を一括形成する必要があるため、グラビア印刷法を用いることが好ましい。また、グラビア印刷法は比較的高速対応が可能なことから、コスト面でも有利であり好ましい。ここで、同調とは、透明賦形層５が形成された部分の５０％以上、好ましくは７０％以上、最も好ましくは９０％以上が絵柄層３の絵柄部分と平面視で重なっていることを意味する。

　透明賦形層５の層厚を調整するには、前述の印刷方法及びコーティング方法において塗布量を調整すればよい。塗布量は、各種印刷方法及びコーティング方法において、基材（原反層）に透明賦形層を形成したものと、しないものとを作製し、その質量差から算出することができる。

　透明賦形層５は、主材料が電離放射線硬化性樹脂である。ここで、主材料とは、１００質量部の透明賦形層５に対し６０質量部以上、より好ましくは、７０質量部以上、最も好ましくは８０質量部以上含むことを指す。透明賦形層５を構成する電離放射線硬化性樹脂としては、各種モノマーや市販されているオリゴマー等、公知のものを用いることができ、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂を使用できる。電離放射線硬化性樹脂は、水系樹脂または非水系（有機溶剤系）樹脂の何れであってもよく、単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて使用してもよい。

　透明賦形層５を構成する電離放射線硬化性樹脂の主成分として、繰り返し構造を含む３官能のアクリレート樹脂（アクリル樹脂）を用いることができる。３官能のアクリレート樹脂としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリセリントリアクリレート、イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を用いることができる。ここで、主成分とは、構成する樹脂成分１００質量部に対し６０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、最も好ましくは８０質量部以上含むことを指す。電離放射線硬化性樹脂は、塗工方式としてグラビア印刷法を用いる場合、最適粘度範囲は１０～５００ｍＰa・sである。そのため、３官能のアクリレート樹脂としては、トリメチロールプロパントリアクリレートや、グリセリントリアクリレートを用いると、最適粘度範囲に収めることが可能であり好ましい。水素結合やπ‐πスタッキングを引き起こす骨格を有する樹脂は、５００ｍＰa・s以上の高粘度である場合が多く好ましくない。また、粘度調整をするために、有機溶剤や粘度の低い２官能アクリレート樹脂を添加することができる。しかし、有機溶剤は環境負荷の観点から、使用しない方が好ましい。２官能アクリレート樹脂は、添加量が多いと耐傷性が低下するため好ましくない。そのため、２官能アクリレート樹脂の添加量は、３官能アクリレート樹脂の含有量（質量）の１０質量％以上３０質量％以下の範囲内が好ましい。

　上記３官能アクリレート樹脂の繰り返し構造は、エチレンオキサイド（ＥＯ）構造、プロピレンオキサイド（ＰＯ）構造、及びε－カプロラクトン（ＣＬ）構造のうちいずれかである。より好ましくは、繰り返し構造がエチレンオキサイド、または、プロピレンオキサイドである。エチレンオキサイド構造、プロピレンオキサイド構造、及び、ε－カプロラクトン構造は、分子が自由回転可能で柔軟性が高いため、２００ｎｍ以下の光により分子が折りたたまれやすく、微細な凹凸形状が形成されやすいため好ましい。また、この繰り返し構造の繰り返し回数は、３以上とする。より好ましくは、３以上３０以下、最も好ましくは、３以上２０以下である。繰り返し回数が２以下の場合、真空紫外光（ＶＵＶ光）を照射した場合に、透明賦形層５を構成する電離放射線硬化性樹脂が十分に収縮せず、透明賦形層５が低光沢にならない。繰り返し回数が３０より大きい場合、架橋密度が低下し透明賦形層５の耐傷性が悪くなる。

　上記繰り返し構造の繰り返し回数は、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳ分析を利用することで分析可能である。電離放射線硬化性樹脂は、分子量分布を持つ場合がある。分子量分布がある場合、前記繰り返し回数は、ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ－ＭＳ分析のマススペクトルの最も強いピークを持つ分子量に相当する繰り返し回数とする。

　透明賦形層５を構成する電離放射線硬化性樹脂の主成分として、繰り返し構造を含む４官能アクリレート樹脂を用いることができる。４官能のアクリレート樹脂としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等を用いることができる。ここで主成分とは、構成する樹脂成分１００質量部に対し６０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、最も好ましくは８０質量部以上含むことを指す。電離放射線硬化性樹脂は、塗工方式としてグラビア印刷法を用いる場合、最適粘度範囲は１０～５００ｍＰa・sである。粘度調整をするために、有機溶剤や粘度の低い２官能アクリレート樹脂を添加することができる。しかし、有機溶剤は環境負荷の観点から、使用しない方が好ましい。２官能アクリレート樹脂は、添加量が多いと耐傷性が低下するため好ましくない。そのため、２官能アクリレート樹脂は、４官能アクリレート樹脂の含有量（質量）の１０質量％以上３０質量％以下の範囲内が好ましい。

　上記４官能アクリレート樹脂の繰り返し構造は、エチレンオキサイド構造、プロピレンオキサイド構造、及びε－カプロラクトン構造のうちいずれかである。より好ましくは、繰り返し構造が、エチレンオキサイド、または、プロピレンオキサイドである。エチレンオキサイド構造、プロピレンオキサイド構造、及びε－カプロラクトン構造は、分子が自由回転可能で柔軟性が高いため、２００ｎｍ以下の光により分子が折りたたまれやすく、微細な凹凸形状が形成されやすいため好ましい。また、この繰り返し構造の繰り返し回数は、１２以上とする。より好ましくは、１２以上５０以下、最も好ましくは、２０以上５０以下である。繰り返し回数が１１以下の場合、真空紫外光（ＶＵＶ光）を照射した場合に、透明賦形層５を構成する電離放射線硬化性樹脂が十分に収縮せず、透明賦形層５が低光沢にならない。繰り返し回数が５０より大きい場合、架橋密度が低下し透明賦形層５の耐傷性が悪くなる。

　透明賦形層５を構成する電離放射線硬化性樹脂の主成分として、繰り返し構造を含むジペンタエリスリトール骨格を有するアクリレート樹脂（アクリル樹脂）を用いることができる。アクリレート樹脂がジペンタエリスリトール骨格を有するため、アクリレート樹脂の架橋度が高まり、３次元構造が容易に得られる。その結果、透明賦形層５の強度を向上させることができる。

　ジペンタエリスリトール骨格を有するアクリレート樹脂としては、例えばジペンタエリスリトールペンタアクリレートやジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を用いることができる。ここで主成分とは、構成する樹脂成分１００質量部に対し６０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、最も好ましくは８０質量部以上含むことを指す。
　ジペンタエリスリトール骨格を有するアクリル樹脂は、５官能または６官能であることが好ましい。より具体的には、ジペンタエリスリトール骨格に備わるアクリロイル基の数は、５または６であることが好ましい。４官能以下の樹脂の場合、架橋度が低下し、耐傷性が低下するため好ましくない。つまり、ジペンタエリスリトール骨格に備わるアクリロイル基の数が４以下であると、アクリレート樹脂（アクリル樹脂）の架橋度が低下し、耐傷性が低下するため好ましくない。

　電離放射線硬化性樹脂は、塗工方式としてグラビア印刷法を用いる場合、最適粘度範囲は１０～５００ｍＰa・sである。粘度調整をするために、有機溶剤や粘度の低い２～４官能アクリレート樹脂を添加することができる。しかし、有機溶剤は環境負荷の観点から、使用しない方が好ましい。２～４官能アクリレート樹脂は、添加量が多いと耐傷性が低下するため好ましくない。そのため、２～４官能アクリレート樹脂の含有量は、ジペンタエリスリトール骨格を有するアクリレート樹脂の含有量（質量）の１０質量％以上３０質量％以下の範囲内が好ましく、１５質量％以上２５質量％以下の範囲内がより好ましい。なお、上述した２～４官能アクリレート樹脂とは、アクリロイル基の数が２～４であるアクリレート樹脂を指す。

　上記ジペンタエリスリトール骨格を有するアクリレート樹脂の繰り返し構造は、エチレンオキサイド（ＥＯ）構造、プロピレンオキサイド（ＰＯ）構造、及びε－カプロラクトン（ＣＬ）構造のうちいずれかである。より好ましくは、繰り返し構造が、エチレンオキサイド、または、プロピレンオキサイドである。エチレンオキサイド構造、プロピレンオキサイド構造、及びε－カプロラクトン構造は、分子が自由回転可能で柔軟性が高いため、２００ｎｍ以下の光により分子が折りたたまれやすく、微細な凹凸形状が形成されやすいため好ましい。また、この繰り返し構造の繰り返し回数は、１２以上とする。この繰り返し回数は、より好ましくは、１２以上５０以下、最も好ましくは、１６以上５０以下である。繰り返し回数が１１以下の場合、真空紫外光（ＶＵＶ光）を照射した場合に、透明賦形層５を構成する電離放射線硬化性樹脂が十分に収縮せず、透明賦形層５が低光沢にならない。繰り返し回数が５０より大きい場合、架橋密度が低下し透明賦形層５の耐傷性が悪くなる。

　透明賦形層５は、粒子を含んでいてもよい。最適な粒径及び最適な含有量の粒子を添加することで、均一な面を形成することができる。粒子としては、例えば、ＰＥワックス、ＰＰワックス、樹脂ビーズ等の有機材料、あるいは、シリカ、ガラス、アルミナ、チタニア、ジルコニア、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の無機材料を用いることができる。粒子の平均粒径（Ｄ５０）は、１０μｍ以下であることが好ましい。この平均粒径は、より好ましくは、１μｍ以上８μｍ以下である。平均粒径が１０μｍより大きい場合、粒子脱落による耐傷性の低下が起きるため好ましくない。平均粒径が１μｍ未満の場合、面を均一化する効果が小さいため好ましくない。また、粒子の添加量は、電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して０．５質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。より好ましくは、粒子の添加量が２質量部以上８質量部以下である。透明賦形層５は、上述した添加量の粒子を含有することにより、均一な面状態を形成することができ、好ましい。

　透明賦形層５全体をＵＶ光により硬化させる場合には、透明賦形層５に光開始剤を添加する必要がある。光開始剤としては、特に限定されるものはないが、例えば、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、ベンゾインエーテル系、チオキサントン系等があげられる。

　透明賦形層５は要求される機能を付与するために抗菌剤、防カビ剤等の機能性添加剤の添加も任意に行うことができる。また、必要に応じて紫外線吸収剤、光安定剤を添加することもできる。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、ベンゾフェノン系、トリアジン系等を、また光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系等を、任意の組み合わせで添加するのが一般的である。

　ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、ビス（１、２、２、６、６－ペンタメチル―４－ピペリジル）[[３，５－ビス（１、１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート（代表例としては、ＢＡＳＦ社製の商品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ１４４」）、ＢＡＳＦ社製の商品名「Ｔｉｎｕｖｉｎ１２３」、デカン二酸ビス（２、２、６、６－テトラメチル－１－（オクチルオキシ）－４－ピペリジニル）エステル（１、１－ジメチルエチルヒドロペルオキシド）と、オクタンとの反応生成物等を用いることができる。

　ヒンダードアミン系光安定剤を透明賦形層５へ添加する場合、構成する電離放射線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．０５質量部以上５質量部以下の範囲内で添加することが好ましい。より好ましくは、０．２質量部以上３質量部以下の範囲内である。ヒンダードアミン系光安定剤の添加量が０．０５質量部よりも少ないと紫外線に対する樹脂の安定性の効果が低いおそれがある。一方、５質量部よりも多いとブリードアウトが生じる可能性が高くなる。
　また、透明賦形層５は２００ｎｍ以下の光を照射して表面近傍を硬化収縮させて微細な凹凸形状を形成するが、ヒンダードアミン系光安定剤を３質量部以上含有すると、該表面近傍の硬化を阻害してしまう。低光沢と耐候性を両立させるためには、ヒンダードアミン系光安定剤を３質量部以下の範囲内で含有することが望ましい。

（表面保護層６）
　更なる耐傷性の向上や耐候性の向上のために、透明賦形層５の表面に表面保護層６を設けることができる。表面保護層６の層厚は、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲とすることが好ましい。より好ましくは、表面保護層６の層厚が５μｍ以上２０μｍ以下の範囲である。表面保護層６の層厚を２μｍ未満とした場合、耐傷性や耐候性を向上させることができない。また、表面保護層６の層厚を２０μｍより厚くした場合、加工性が低下し折り曲げ時に白化してしまう。なお、ここでいう表面保護層６の膜厚とは、透明賦形層５の畝状部５Ｂの最も高い部分の上における表面保護層の膜厚ＴＡと、透明賦形層５の凹部上の表面保護層６の膜厚、すなわち、透明賦形層５のコア部５Ａの上における表面保護層の膜厚ＴＢとの平均値（ＴＡ＋ＴＢ）／２のことをいう。

　ここで、表面保護層６は、例えば、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、静電印刷法、インクジェット印刷法等の各種印刷方法によって形成することができる。また、表面保護層６は、透明賦形層５の表面側の面の全面を被覆しているため、例えば、ロールコート法、ナイフコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法等の各種コーティング法によっても形成することができる。これらの印刷方法、あるいはコーティング方法は、形成する層によって別々に選択してもよいし、同じ方法を選択して一括加工してもよい。

　表面保護層６は、図５に示すように、透明賦形層５の上に、その凹凸形状を損なわないように、且つ透明賦形層５の畝状部５Ｂが形成された面全体を覆うように連続して形成される。透明賦形層５の凸部上の表面保護層６の膜厚、すなわち透明賦形層５の畝状部５Ｂの最も高い部分の上における表面保護層の膜厚ＴＡと、透明賦形層５の凹部上の表面保護層６の膜厚、すなわち、透明賦形層５のコア部５Ａの上における表面保護層の膜厚ＴＢとが０．１≦ＴＡ／ＴＢ≦２．０を満足することが好ましい。ＴＡ／ＴＢが０．１より小さい場合、表面保護層６により透明賦形層５の凹凸形状は消失し、所望の低光沢を得ることができない。ＴＡ／ＴＢが２．０より大きい場合、透明賦形層５上に凹凸形状を損なわないように均一に表面保護層６を形成することが困難で、不均一部分の耐傷性や耐候性が担保できない。

　透明賦形層５の凸部上の表面保護層６の膜厚ＴＡと、透明賦形層５の凹部上の表面保護層６の膜厚ＴＢとの関係が１．０≦ＴＡ／ＴＢ≦１．９であることがより好ましい。透明賦形層５の凸部上の膜厚と凹部上の膜厚とを、ほぼ同一にすることにより、均一な膜厚の表面保護層６が形成され、耐傷性や耐候性を大きく向上させることができる。特に、膜厚ＴＡと膜厚ＴＢとの関係が、ＴＡ／ＴＢ＜１の場合、化粧シート１の凹凸形状が消滅する方向に表面保護層６が形成されることになり、逆に、１．０≦ＴＡ／ＴＢの場合は、化粧シート１の凹凸形状が拡大する方向に表面保護層６が形成されることになる。そのため、１．０≦ＴＡ／ＴＢとすることによって、触感を付与することができる。また、１．０≦ＴＡ／ＴＢの場合、ＴＡ／ＴＢが大きくなるほど化粧シート１全体の膜厚が大きくなり、コスト増加につながるため、１．０≦ＴＡ／ＴＢ≦１．９とすることによって、コスト増加を抑制しつつ、触感を付与することができる。

　このように形成された表面保護層６は、透明賦形層５の凹凸形状を反映している。すなわち、表面保護層６の横方向（表面保護層６の平面方向であって、図５においては左右方向）の表面粗さの指標ＲＳｍ（μｍ）と縦方向（表面保護層６の厚さ方向であって、図５においては上下方向）の表面粗さの指標Ｒa（μｍ）の比ＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下であることが好ましい。より好ましくは、ＲＳｍ／Ｒａは１０以上２５０以下である。ＲＳｍ／Ｒａが１０未満の場合、畝状部の形状が細かすぎるため、汚れを拭き取りにくくなり、耐汚染性が悪くなる。ＲＳｍ／Ｒａが３００より大きい場合、畝形状の間隔が広すぎるため、低光沢にならない。

　表面保護層６の主成分の樹脂材料としては、ポリウレタン系、アクリルシリコン系、フッ素系、エポキシ系、ビニル系、ポリエステル系、メラミン系、アミノアルキッド系、尿素系等の樹脂材料から適宜選択して用いることができる。樹脂材料の形態は、水性、エマルジョン、溶剤系等特に限定されるものではない。硬化法についても１液タイプ、２液タイプ、紫外線硬化法等適宜選択して行うことができる。

　表面保護層６の主成分として用いる樹脂材料としては、イソシアネートを用いたウレタン系のものが作業性、価格、樹脂自体の凝集力等の観点から好適である。イソシアネートには、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、リジンジイソシアネート（ＬＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン（ＨＸＤＩ）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤＩ）等の誘導体であるアダクト体、ビュレット体、イソシアヌレート体等の硬化剤より適宜選定して用いることができるが、耐候性を考慮すると、直鎖状の分子構造を有するヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）もしくはイソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）をベースとする硬化剤が好適である。この他にも、表面硬度の向上を図る場合には、紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する樹脂を用いることが好ましい。なお、これらの樹脂は相互に組み合わせて用いることが可能であり、例えば、熱硬化型と光硬化型とのハイブリッド型とすることにより、表面硬度の向上、硬化収縮の抑制及び密着性の向上を図ることができる。

　また、表面保護層６に各種機能を付与するために、艶調整剤、抗菌剤、防カビ剤等の機能性添加剤を添加してもよい。また、必要に応じて紫外線吸収剤、光安定化剤を添加してもよい。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、シアノアクリレート系を用いることができる。また、光安定化剤としては、ヒンダードアミン系を用いることができる。

（プライマー層７）
　プライマー層７の材料としては、基本的に絵柄層３と同じ材料を用いることができるが、化粧シート１の裏面に施され、ウエブ状で巻取りを行うことを考慮すると、ブロッキングを避け、接着剤との密着を高めるために、シリカ、アルミナ、マグネシア、酸化チタン、硫酸バリウム等の無機充填剤を添加させてもよい。プライマー層７の塗布厚さは、基材Ｂとの密着を確保することが目的であるので、０．１μｍ以上３．０μｍ以下が好ましい。なお、プライマー層７は、原反層２がオレフィン系材料のように表面が不活性なものである場合には必要であるが、表面が活性なものである場合には特に必要なものではない。

　＜製造方法＞
　化粧シート１の製造方法の一例について説明する。
　原反層２として樹脂フィルムを用い、原反層２の上面に透明賦形層５を印刷によって成形する。透明賦形層５は、塗布された電離放射線硬化性樹脂の表面に対して２００ｎｍ以下の光を照射して電離放射線硬化性樹脂の表面を収縮させる。続いて、収縮させた電離放射線硬化性樹脂を硬化させるため、電離放射線またはＵＶ光を照射する。以上により、コア部５Ａとコア部５Ａの一方の面（上面）から畝状に突出して設けられた畝状部５Ｂとを有する透明賦形層５が形成される。

　更に、必要に応じて、透明賦形層５の上面に表面保護層６を印刷によって形成する。このとき、表面保護層６を形成する樹脂の粘度を制御し、公知の印刷方法によって、透明賦形層５の凸部上の表面保護層６の膜厚ＴＡと、透明賦形層５の凹部上の表面保護層６の膜厚ＴＢとの関係が０．１≦ＴＡ／ＴＢ≦２．０となるような化粧シート１を形成する。

　＜作用その他＞
（１）本実施形態の化粧シート１は、凹凸形状が形成された透明賦形層５と、透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと、透明賦形層５の凹部上の膜厚ＴＢとの関係が０．１≦ＴＡ／ＴＢ≦２．０である表面保護層６を備えている。
　この構成によれば、表面保護層６に艶調整剤（艶消し添加剤）を含まなくても、化粧シート１の艶（光沢度）を調整することができる。艶調整剤は、樹脂材料により形成した層の撥油性を低下させるため、艶調整剤を含有する表面保護層は、指紋が付きやすくなる。

　本実施形態に係る表面保護層６は、艶調整剤を含まないため、油を吸収せず相対的に撥油性が向上する。このため、現場施工時や家具組立て時、居住者の日常生活時の様々な場面において、表面保護層６を有する化粧シート１には指紋が付着しにくくなる。さらに、表面への油染みや汚染物質の吸着を抑制することが可能となる。また、艶調整剤を含んでいないため、化粧シート１の表面を引っ掻いた際に艶調整剤の粒子が脱落せず、化粧シート１表面の艶変化や引っ掻き傷を生じにくくすることが可能である。

（２）本実施形態の化粧シート１は、凹凸形状が形成された透明賦形層５と、透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと、透明賦形層の凹部上の膜厚ＴＢとの関係が１．０≦ＴＡ／ＴＢ≦１．９である表面保護層６を備えている。
　この構成によれば、より確実に指紋が付着しにくくなり、耐汚染性や耐傷性も向上する。
（３）本実施形態の化粧シート１は、透明賦形層、表面保護層のいずれか一方、または両方にヒンダードアミン系光安定剤を含有することが好ましい。
　この構成によれば、耐候性も向上させることができる。

（４）本実施形態の化粧シート１は、凹凸形状が形成された透明賦形層５を備え、ヒンダードアミン系光安定剤を、透明賦形層５に含まれる樹脂１００質量部に対し、０．０５質量部以上５質量部以下の範囲内で含有している。
　この構成によれば、光安定剤のブリードアウトがなく、安定した耐候性を得ることができる。

（５）本実施形態の化粧シート１は、凹凸形状が形成された透明賦形層５を備え、ヒンダードアミン系光安定剤を、透明賦形層５に含まれる樹脂１００質量部に対し、０．２質量部以上３質量部以下の範囲内で含有している。
　この構成によれば、凹凸形状と耐候性とを両立した化粧シート１を得ることができる。

　以下に、本実施形態の化粧シート１の具体的な実施例について説明する。
［実施例］
　＜実施例１＞
　厚さ５５μｍのオレフィンフィルム（リケンテクノス株式会社製）を原反層とし、原反層の一方の面にコロナ処理を施し、その一方の面に対して、下記の透明賦形層用塗液を塗布した。透明賦形層用塗液の層厚は、５μｍとした。その後、透明賦形層用塗液の表面に対して波長１７２ｎｍのエキシマＶＵＶ光を照射して表面を収縮させた。続いて、電離放射線を照射し、透明賦形層５を形成し、総厚６０μｍからなる実施例１の化粧シートを得た。

（透明賦形層用塗液）
　透明賦形層用塗液は、下記の電離放射線硬化性樹脂に、下記の添加剤(粒子、光安定剤、紫外線吸収剤）を配合して構成した。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ６モル付加）
　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１６０（Ｍｉｗｏｎ社製）
　配合：１００質量部
・粒子
　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学株式会社製）
　粒径：５μｍ
　配合：０．５質量部
・光安定剤
品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ１２３（ＢＡＳＦ社製）
　配合：３質量部
・紫外線吸収剤
　品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ３２９（ＢＡＳＦ社製）
　配合：２．５質量部

　＜実施例２＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例２の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ１５モル付加）
　品名：ＳＲ９０３５（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社製）

　＜実施例３＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例３の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ＥＯ３モル付加）
　品名：Ｍｉｒａｍｅｒ　Ｍ３１３０（Ｍｉｗｏｎ社製）

　＜実施例４＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例４の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート（ＰＯ６モル付加）
　品名：ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ－６ＰＯ（新中村化学工業株式会社製）

　＜実施例５＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例５の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：カプロラクトン変性トリスー（２－アクリロキシエチル）イソシアヌレート（カプロラクトン３モル付加）
　品名：ＮＫエステルＡ－９３００－３ＣＬ（新中村化学工業株式会社製）

　＜実施例６＞
　実施例１の透明賦形層用塗液の層厚を１μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚５６μｍからなる実施例６の化粧シートを得た。
　＜実施例７＞
　実施例１の透明賦形層用塗液の層厚を２μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚５７μｍからなる実施例７の化粧シートを得た。

　＜実施例８＞
　実施例１の透明賦形層用塗液の層厚を２０μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚７５μｍからなる実施例８の化粧シートを得た。
　＜実施例９＞
　実施例１の透明賦形層用塗液の層厚を２５μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚８０μｍからなる実施例９の化粧シートを得た。

　＜実施例１０＞
　実施例１の粒子を「配合なし」とした以外は、全て実施例１と同様にして実施例１０の化粧シートを得た。
　＜実施例１１＞
　実施例１の光安定剤の配合量を０．０５質量部とした以外は、全て実施例１と同様にして実施例１１の化粧シートを得た。
　＜実施例１２＞
　実施例１の光安定剤の配合量を５質量部とした以外は、全て実施例１と同様にして実施例１２の化粧シートを得た。

　＜実施例１３＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例１３の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＥＯ３５モル付加）
　品名：ＮＫエステル　ＡＴＭ－３５Ｅ（新中村化学工業株式会社製）

　＜実施例１４＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例１４の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＥＯ５０モル付加）
　＜実施例１５＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例１５の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＥＯ２０モル付加）

　＜実施例１６＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例１６の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＥＯ３０モル付加）
　＜実施例１７＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例１７の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＥＯ３０モル付加）

　＜実施例１８＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして実施例１８の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＥＯ５０モル付加）

　＜実施例１９＞
　実施例１において透明賦形層５を形成した後、下記の表面保護層用塗液を塗布した。表面保護層用塗液の層厚は５μｍとし、総厚６５μｍからなる実施例１９の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。

（表面保護層用塗液）
　表面保護層用塗液は、ＤＩＣグラフィックス社製の２液硬化型ウレタン樹脂（Ｗ１８４）に、下記添加剤（粒子、光安定剤、紫外線吸収剤）を配合して構成した。
・粒子
　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学株式会社製）
　粒径：５μｍ
　配合：０．５質量部
・光安定剤
品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ１２３（ＢＡＳＦ社製）
　配合：３質量部
・紫外線吸収剤
　品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ３２９（ＢＡＳＦ社製）
　配合：２．５質量部

　＜実施例２０＞
　実施例１９における表面保護層の粒子を配合なしとした以外は、全て実施例１９と同様にして実施例２０の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。
　＜実施例２１＞
　実施例２０における表面保護層の層厚を１μｍとした以外は、全て実施例２０と同様にして実施例２１の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、２．０であった。

　＜実施例２２＞
　実施例２０における表面保護層の層厚を２μｍとした以外は、全て実施例２０と同様にして実施例２１の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．６であった。
　＜実施例２３＞
　実施例２０における表面保護層の層厚を２０μｍとした以外は、全て実施例２０と同様にして実施例２３の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、０．５であった。
　＜実施例２４＞
　実施例２０における表面保護層の層厚を２５μｍとした以外は、全て実施例２０と同様にして実施例２４の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、０．１であった。

　＜実施例２５＞
　実施例１における、透明賦形層の光安定剤をなしとした以外は、全て実施例１と同様にして透明賦形層を形成した。その後、実施例２０における表面保護層の光安定剤をなしとした以外は、全て実施例２０と同様に表面保護層を形成し、実施例２５の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。

　＜実施例２６＞
　実施例２５における表面保護層の光安定剤の配合量を１質量部とした以外は、全て実施例２５と同様に表面保護層を形成し、実施例２６の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。
　＜実施例２７＞
　実施例２５における表面保護層の光安定剤の配合量を５質量部とした以外は、全て実施例２５と同様に表面保護層を形成し、実施例２７の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。

　＜実施例２８＞
　実施例２５における表面保護層の光安定剤の配合量を１０質量部とした以外は、全て実施例２５と同様に表面保護層を形成し、実施例２８の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。
　＜実施例２９＞
　実施例２７における透明賦形層の光安定剤の配合量を０．０５質量部とした以外は、全て実施例２７と同様に透明賦形層を形成し、実施例２９の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。

　＜実施例３０＞
　実施例２７における透明賦形層の光安定剤の配合量を０．２質量部とした以外は、全て実施例２７と同様に透明賦形層を形成し、実施例３０の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。
　＜実施例３１＞
　実施例２７における透明賦形層の光安定剤の配合量を１質量部とした以外は、全て実施例２７と同様に透明賦形層を形成し、実施例３１の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。

　＜実施例３２＞
　実施例２７における透明賦形層の光安定剤の配合量を３質量部とした以外は、全て実施例２７と同様に透明賦形層を形成し、実施例３２の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。
　＜実施例３３＞
　実施例２７における透明賦形層の光安定剤の配合量を５質量部とした以外は、全て実施例２７と同様に透明賦形層を形成し、実施例３３の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。

　＜実施例３４＞
　実施例３において、透明賦形層を形成するに先立って、コロナ処理を施した後の原反層の一方の面に結晶性ポリプロピレン樹脂とポリエチレン系の接着性樹脂とを溶融押出機を用いて共押出しして、厚さ８０μｍの透明樹脂層と厚さ１０μｍの接着性樹脂とを製膜した。
　続いて、製膜した接着性樹脂層を介して、接着剤層として芳香族エステル系アンカー剤（三井化学株式会社製「Ａ３２１０；塗布量１ｇ／ｍ^２」）を塗布した原反層と透明樹脂層とを押出ラミネート法により貼り合わせた。貼り合わせて形成したシートの透明樹脂層側の面に、エンボス形成用の金型ロールを用いてプレスして凹凸模様（エンボス模様）を施した。
　さらに、透明樹脂層の、凹凸模様が形成された面の上に透明賦形層を形成した。透明賦形層は実施例３と同じ電離放射線硬化性樹脂を用い、これ以外は、全て実施例１と同様にして、実施例３４の化粧シートを得た。

　＜実施例３５＞
　実施例３４における透明賦形層の電離放射線硬化性樹脂を、実施例４と同じものに置き換えた以外は、全て実施例３４と同様にして実施例３５の化粧シートを得た。
　＜実施例３６＞
　実施例３４における透明賦形層の電離放射線硬化性樹脂を、実施例９と同じものに置き換えた以外は、全て実施例３４と同様にして実施例３６の化粧シートを得た。

　＜実施例３７＞
　実施例３４における透明賦形層を形成した後、実施例２７と同じ表面保護層塗液を塗布した。表面保護層用塗液の層厚は５μｍとし、総厚１５５μｍからなる実施例３７の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。
　＜実施例３８＞
　実施例３５における透明賦形層を形成した後、実施例２７と同じ表面保護層塗液を塗布した。表面保護層用塗液の層厚は５μｍとし、総厚１５５μｍからなる実施例３８の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。

　＜実施例３９＞
　実施例３６における透明賦形層を形成した後、実施例２７と同じ表面保護層塗液を塗布した。表面保護層用塗液の層厚は２５μｍとし、総厚１７５μｍからなる実施例３９の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。

　＜実施例４０＞
　実施例６において透明賦形層５を形成した後、表面保護層用塗液を塗布した。表面保護層用塗液の層厚は５μｍとし、総厚６５μｍからなる実施例４０の化粧シートを得た。表面保護総用塗液の透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。
　なお、表面保護層用塗液として、実施例１９と同じ下記の表面保護層用塗液を用いた。

　＜実施例４１＞
　実施例４０において、透明賦形層用塗液の層厚を２μｍとした以外は、全て実施例１と同様にして、総厚６６μｍからなる実施例４１の化粧シートを得た。表面保護総用塗液の透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。
　＜実施例４２＞
　実施例４０において、透明賦形層用塗液の層厚を２０μｍとした以外は、全て実施例４０と同様にして、総厚８５μｍからなる実施例４０の化粧シートを得た。表面保護総用塗液の透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．２であった。
　＜実施例４３＞
　実施例４０において、透明賦形層用塗液の層厚を２５μｍとした以外は、全て実施例４０と同様にして、総厚９０μｍからなる実施例４３の化粧シートを得た。

［比較例］
　＜比較例１＞
　実施例１におけるエキシマＶＵＶ光を照射する工程をなくし、粒子の配合量を１５質量部とした以外は、全て実施例１と同様にして比較例１の化粧シートを得た。
　＜比較例２＞
　実施例１３におけるエキシマＶＵＶ光を照射する工程をなくし、粒子の配合量を１５質量部とした以外は、全て実施例１３と同様にして比較例２の化粧シートを得た。
　＜比較例３＞
　実施例１６におけるエキシマＶＵＶ光を照射する工程をなくし、粒子の配合量を１５質量部とした以外は、全て実施例１６と同様にして比較例３の化粧シートを得た。

　＜比較例４＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして比較例４の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：トリメチロールプロパントリアクリレート
　品名：ＮＫエステルＡ－ＴＭＰＴ（新中村化学工業株式会社製）

　＜比較例５＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして比較例５の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：ペンタエリスリトールテトラアクリレート
　品名：ＮＫエステル　Ａ－ＴＭＭＴ（新中村化学工業株式会社製）
　＜比較例６＞
　実施例１の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て実施例１と同様にして比較例６の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート

　＜比較例７＞
　実施例１９におけるエキシマＶＵＶ光の照射をなくし、粒子の配合量を１５質量部とした以外は、全て実施例１９と同様にして比較例７の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．０５であった。
　＜比較例８＞
　比較例７の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て比較例７と同様にして比較例８の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＥＯ３５モル付加）
　品名：ＮＫエステル　ＡＴＭ－３５Ｅ（新中村化学工業株式会社製）

　＜比較例９＞
　比較例７の電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て比較例７と同様にして比較例９の化粧シートを得た。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＥＯ３０モル付加）
　＜比較例１０＞
　比較例４において透明賦形層５を形成した後、下記の表面保護層用塗液を塗布した。表面保護層用塗液は５μｍとし、総厚６５μｍからなる比較例１０の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢとの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．０であった。

（表面保護層用塗液）
　表面保護層用塗液は、ＤＩＣグラフィックス株式会社製の２液硬化型ウレタン樹脂（Ｗ１８４）に、下記添加剤（粒子、光安定剤、紫外線吸収剤）を配合して構成した。
・粒子
　品名：サイリシア２５０Ｎ（富士シリシア化学株式会社製）
　粒径：５μｍ
　配合：０．５質量部
・光安定剤
　品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ１２３（ＢＡＳＦ社製）
　配合：５質量部
・紫外線吸収剤
　品名：Ｔｉｎｕｖｉｎ３２９（ＢＡＳＦ社製）
　配合：２．５質量部

　＜比較例１１＞
　比較例１０における透明賦形層５を形成する電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て比較例１０と同様にして比較例１１の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．０であった。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：ペンタエリスリトールテトラアクリレート
　品名：ＮＫエステル　Ａ－ＴＭＭＴ（新中村化学工業株式会社製）

　＜比較例１２＞
　比較例１０における透明賦形層５を形成する電離放射線硬化性樹脂を下記に置き換えた以外は、全て比較例１０と同様に比較例１１の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、１．０であった。
・電離放射線硬化性樹脂
　種類：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
　＜比較例１３＞
　実施例２０における表面保護層の層厚を０．５μｍとした以外は、全て実施例２０と同様にして比較例１３の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、４．０であった。

　＜比較例１４＞
　実施例２０における表面保護層の層厚を３０μｍとした以外は、全て実施例２０と同様にして比較例１４の化粧シートを得た。透明賦形層５の凸部上の膜厚ＴＡと凹部上の膜厚ＴＢの関係式ＴＡ／ＴＢは、０．０５であった。
［評価］
　以上の実施例１～４３、比較例１～１４について、評価を行った。本実施例において「〇」及び「△」の評価であれば、実際に使用する上で問題がないため、合格とした。

　＜面状態＞
　面状態は、目視にて、面の均一性を評価した。
　評価基準は下記のとおりとした。
　　〇：均一な面状態
　　△：一部に不均一な部分あり
　　×：全面不均一な面状態
　＜６０°光沢度＞
　光沢値はＲｈｏｐｏｉｎｔＩＱ（コニカミノルタ株式会社製）を用いて、６０°光沢度を測定した。

　＜耐指紋性：拭き取り性評価＞
　耐指紋性評価として、指紋の拭き取り性評価を実施した。各化粧シートの表面の６０°光沢度を測定して、「初期光沢度」とした。続いて、最表層に耐指紋評価液を付着させた後、化粧シート表面に付着した耐指紋評価液を拭き取った。その後、耐指紋評価液を拭き取った部分の６０°光沢度を測定して、「拭き取り後光沢度」とした。ここで、耐指紋評価液として、高級脂肪酸を用いた。
　指紋拭き取り率は、下記のとおり算出した。
　指紋拭き取り率（％）＝（拭き取り後光沢度／初期光沢度）×１００
　評価基準は、下記のとおりとした。
　　〇：７０％以上２５０％未満
　　△：５０％以上７０％未満、もしくは２５０％以上３００％未満
　　×：５０％未満、もしくは３００％以上

　＜耐汚染性＞
　耐汚染性評価として、日本農林規格（JAS：Japanese Agricultural Standards）に規定する汚染Ａ試験により、青色インキ、黒色速乾性インキ及び赤色クレヨンでそれぞれ幅１０ｍｍの線を引き、４時間放置した後、エタノールを布に含ませて青色インキ、黒色速乾性インキ及び赤色クレヨンの線を拭き取り、インキによる耐汚染性を評価した。
　評価基準は、下記の通りとした。
　　〇：各色の線を容易に拭き取ることができた
　　△：各色の線の一部を拭き取ることができるが、一部に汚れが残る
　　×：各色の線を拭き取ることができない

　＜耐傷性：スチールウールラビング試験＞
　得られた化粧シートをウレタン系の接着剤を用いて木質基板Ｂに貼り付けた後、耐傷性評価として、スチールウールラビング試験を実施した。具体的には、スチールウールに１００ｇの荷重をかけて２０往復擦り、化粧シート表面に生じた傷や光沢の変化を目視にて確認した。
　評価基準は、下記の通りとした。
　　〇：表面に傷や光沢の変化が発生しない
　　△：表面に軽微な傷や光沢の変化が発生した
　　×：表面に著しい傷や光沢の変化が発生した

　＜曲げ加工適性＞
　曲げ加工適性試験においては、木質基板Ｂに各シートを貼り付け、基板Ｂの他方の面に対して、反対側の化粧シート１にキズが付かないようにＶ型の溝を基板Ｂと化粧シート１とを貼り合わせている境界まで入れる。次に、化粧シート１の面が山折りとなるように基板Ｂを当該Ｖ型の溝に沿って９０度まで曲げ、化粧シート１の表面の折れ曲がった部分に白化や亀裂等が生じていないかを光学顕微鏡を用いて観察し、曲げ加工性の状態について評価を行った。
　評価基準は、下記の通りとした。「△」以上の評価であれば、実用上問題ないとした。
　　○：白化や亀裂等が見られない
　　△：一部に白化が見える
　　×：全面に白化が見えるか、一部に亀裂が見える

　＜耐候性：スーパーＵＶテスター＞
　化粧シートの耐候促進試験後の外観を以下の基準により目視評価した。耐候促進試験はアイスーパーＵＶテスター（ＳＵＶーＷ１６１；岩崎電気株式会社製）を用い、ブラックパネル温度６３℃、照度６５ｍＷ／ｃｍ^２にて、（ＵＶ照射２０時間＋結露４時間）を１サイクルとし、３０サイクル（７２０時間）実施した後の化粧シートの外観を目視評価した。
　評価基準は、下記の通りとした。
　　〇：化粧シートに外観変化なし
　　△：化粧シートに白化が認められる
　　×：化粧シートにワレが認められる
　これらの評価結果を表１及び表２に示す。

　表１の実施例１～３は、透明賦形層を形成する電離放射線硬化性樹脂に、繰り返し構造を含む３官能のアクリレート樹脂を用いた実施例である。繰り返し回数が増加するにつれて耐汚染性及び耐傷性が若干悪化する傾向にあるが、実用上差し支えないレベルであった。
　表１の実施例１、４～５は、透明賦形層を形成する電離放射線硬化性樹脂に、繰り返し構造を含む３官能のアクリレート樹脂を用いた実施例で、繰り返し構造が異なる。ε－カプロラクトン（ＣＬ）構造（実施例５)で若干６０°光沢度が高くなるが、実用上差し支えないレベルであった。

　表１の実施例１、６～９は、透明賦形層の厚みが異なる実施例である。厚みが１μｍで最も薄い実施例６では賦形が安定せず面状態が悪化し、厚みが２０μｍ、２５μｍと厚くなると賦形が強く６０°光沢度が低下するため耐汚染性及び耐傷性が若干悪化するが、実用上差し支えないレベルであった。
　表１の実施例１０は、透明賦形層に粒子を添加しない実施例である。粒子がないと賦形が安定せず、面状態が若干悪化したが、実用上差し支えないレベルであった。

　表１の実施例１、１１～１２は、透明賦形層に添加する光安定剤の添加量が異なる実施例である。添加量が０．０５質量部と少ない実施例１１では耐候性が若干悪化し、添加量が５質量部と多い実施例１２では光安定剤が賦形を阻害するため６０°光沢度が若干上昇しているが、実用上差し支えないレベルであった。
　表１の実施例１３～１５は、透明賦形層を形成する電離放射線硬化性樹脂に、繰り返し構造を含む４官能のアクリレート樹脂を用いた実施例である。繰り返し回数が少ない程６０°光沢度が高く、繰り返し回数が多い程６０°光沢度が低いが、実用上差し支えないレベルであった。

　表１の実施例１６～１８は、透明賦形層を形成する電離放射線硬化性樹脂に、繰り返し構造を含む５官能及び６官能のアクリレート樹脂を用いた実施例である。架橋度が高いため加工性が若干低下するが、実用上差し支えないレベルであった。
　表１の実施例１９～３３、実施例３７～４３は、透明賦形層の上に表面保護層が積層された実施例である。
　実施例１９～２０は、表面保護層に粒子を含むか否かの違いはあるが、どちらも良好な物性を示した。

　表１の実施例２１～２４は、表面保護層の膜厚が異なる実施例である。膜厚が１μｍ、２μｍと薄い実施例２１～２２はＴＡ／ＴＢが２．０、１．６と大きく、膜厚が２０μｍ、２５μｍと厚い実施例２３～２４はＴＡ／ＴＢが０．５、０．１と小さくなるが、いずれも良好な物性を示した。膜厚が最も薄い１μｍと厚膜の厚い２０μｍ、２５μｍとでは若干膜厚バラツキにより面状態が悪化したが、実用上差し支えないレベルであった。

　表１の実施例２５～２８は、透明賦形層に光安定剤を含まず、表面保護層の光安定剤の量が異なる実施例である。表面保護層の光安定剤を５質量部、１０質量部含む実施例２７～２８は良好な物性を示した。表面保護層の光安定剤を含まない実施例２５と、１質量部のみ含む実施例２６は、若干耐候性が悪化するが、実用上差し支えないレベルであった。表面保護層の光安定剤を１０質量部含む実施例２８は、添加量が多過ぎてブリードアウトしてくるので面状態が悪化するが、実用上差し支えないレベルであった。

　表１の実施例２９～３３は、表面保護層の光安定剤を５質量部含み、透明賦形層の光安定剤の量が異なる実施例である。表面保護層に光安定剤を５質量部含むため、概ね良好な耐候性を示すが、実施例２９は、透明賦形層の光安定剤の量が０．０５質量部であるため耐候性が低下するが、実用上差し支えないレベルであり、透明賦形層の光安定剤の量が０．２質量部以上である実施例３０～３３は、良好な耐候性を示した。また、透明賦形層の光安定剤を１質量部以上含む実施例３１～３３は若干６０°光沢度が高くなり、光安定剤の量が多いほど６０°光沢度が高くなったが実用上差し支えないレベルであった。

　表１の実施例３４～４３は、表面粗さの指標ＲＳｍと表面粗さの指標Ｒａとの比ＲＳｍ／Ｒａが異なる実施例であり、原反層と透明賦形層との間に透明樹脂層を設けたものである。つまり、透明樹脂層を設け、その膜厚を異ならせることで上下方向の表面粗さの指標（上下方向）Ｒａを変化させ、表面粗さの指標ＲＳｍと表面粗さの指標Ｒａとの比ＲＳｍ／Ｒａを異ならせたものである。表面保護層を有するか否かの違い、また、透明樹脂層の膜厚の違いはあるが、いずれも良好な物性を示した。

　次に、表２の比較例１～３は、エキシマＶＵＶ光を照射する工程をなくし、粒子による凹凸を形成した比較例である。粒子による凹凸はエキシマＶＵＶ光により形成される凹凸より大きいため、耐指紋性が悪化した。また、実施例に対して粒子を大量に含むため、耐汚染性と耐傷性が大幅に悪化した。
　表２の比較例４～６は、繰り返し構造を持たないアクリレート樹脂を用いた比較例である。６０°光沢度が９０と、実施例と比較して凹凸を付与できておらず、耐指紋性が大幅に悪化した。

　表２の比較例７～１２は、比較例１～６に表面保護層を積層した比較例である。耐汚染性や耐傷性は若干良化するが、実施例と比較して耐指紋性が悪く、実用上使用できないレベルであった。
　さらに、表２の比較例１３は実施例２１において、表面保護層をより薄膜にしたものである。比較例１４は実施例２４において、表面保護層をより厚膜にしたものである。表面保護層をより薄膜にすると、ＴＡ／ＴＢは２．０を上回り、透明賦形層の凸部上の表面保護層の膜厚ＴＡが厚くなり過ぎて、透明賦形層の凹部上の表面保護層の膜厚ＴＢとの差が広がり、面状態が不均一となった。逆に、表面保護層をより厚膜にすると、ＴＡ／ＴＢは０．１を下回り、透明賦形層の賦形が概ね消滅してしまうため、６０°光沢値が１５に上がってしまい、耐指紋性が悪化した。また、透明賦形層の上に厚膜を塗布するため、面状態も悪化した。

　以上から、実施例１～４３の化粧シートは、低光沢で、耐指紋性、耐傷性、耐汚染性、耐候性、曲げ加工性を両立した化粧シートであることが明らかとなった。
　なお、本発明の化粧シートは、上記の実施形態及び実施例に限定されるものではなく、発明の特徴を損なわない範囲において種々の変更が可能である。

　また、本発明は、例えば以下のような構成をとることができる。
（１）
　原反層、透明賦形層及び表面保護層がこの順に積層され、
　前記透明賦形層は、畝状に突出した畝状部を有する凹凸形状が形成されており、
　前記透明賦形層の凸部上の前記表面保護層の膜厚ＴＡと、前記透明賦形層の凹部上の前記表面保護層の膜厚ＴＢとの関係が、０．１≦ＴＡ／ＴＢ≦２．０であることを特徴とする化粧シート。
（２）
　前記透明賦形層の前記凸部上の前記表面保護層の膜厚ＴＡと、前記透明賦形層の前記凹部上の前記表面保護層の膜厚ＴＢとの関係が、１．０≦ＴＡ／ＴＢ≦１．９であることを特徴とする上記（１）に記載の化粧シート。

（３）
　前記透明賦形層は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、
　前記電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含むアクリル樹脂であり、
　前記繰り返し構造は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、及びε－カプロラクトンの各構造のうちいずれかであり、
　前記表面保護層の前記凹凸形状の表面粗さの指標ＲＳｍと表面粗さの指標Ｒａとの比ＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下の範囲内であることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の化粧シート。
（４）
　前記透明賦形層及び前記表面保護層の少なくともいずれか一方は、ヒンダードアミン系光安定剤を含有することを特徴とする上記（１）から（３）のいずれか一項に記載の化粧シート。

（５）
　原反層及び透明賦形層がこの順に積層され、
　前記透明賦形層は最上層をなし、前記透明賦形層の前記原反層とは逆側の面に畝状に突出した畝状部からなる凹凸形状が形成され、
　当該凹凸形状の表面粗さの指標ＲＳｍと表面粗さの指標Ｒａとの比ＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下の範囲内であり、
　前記透明賦形層は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、
　前記電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含むアクリル樹脂であり、
　前記繰り返し構造は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、及びε－カプロラクトンの各構造のうちいずれかであり、
　前記透明賦形層は、ヒンダードアミン系光安定剤を、前記透明賦形層に含まれる樹脂１００質量部に対して０．０５質量部以上５質量部以下の範囲内で含有していることを特徴とする化粧シート。

（６）
　前記ヒンダードアミン系光安定剤を、前記透明賦形層に含まれる樹脂１００質量部に対して、０．２質量部以上３質量部以下の範囲内で含有していることを特徴とする上記（５）に記載の化粧シート。
（７）
　前記繰り返し構造を含むアクリル樹脂が３官能であり、
　前記繰り返し構造の繰り返し回数は、３以上であることを特徴とする上記（１）から（６）のいずれか一項に記載の化粧シート。
（８）
　前記繰り返し構造を含むアクリル樹脂は、４官能のアクリル樹脂であるか、または、ジペンタエリスリトール骨格を有し、
　前記繰り返し構造の繰り返し回数は、１２以上であることを特徴とする上記（１）から（６）のいずれか一項に記載の化粧シート。

（９）
　前記透明賦形層の膜厚は、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲内であることを特徴とする上記（１）から（８）のいずれか一項に記載の化粧シート。
（１０）
　前記表面保護層の膜厚は、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲内であることを特徴とする上記（１）から（９）のいずれか一項に記載の化粧シート。

（１１）
　原反層の上に塗布された電離放射線硬化性樹脂の表面に対して、波長２００ｎｍ以下の光を照射した後、電離放射線またはＵＶ光を照射することで、畝状に突出した畝状部を有する透明賦形層を形成することを特徴とする化粧シートの製造方法。
（１２）
　前記ＵＶ光の波長は１７２ｎｍであることを特徴とする上記（１１）に記載の化粧シートの製造方法。

　１…化粧シート
　２…原反層
　３…絵柄層
　４…透明樹脂層
　４ａ…エンボス模様
　４ｂ…接着性樹脂層
　５…透明賦形層
　６…表面保護層
　７…プライマー層
　Ｂ…基材

Claims

　原反層、透明賦形層及び表面保護層がこの順に積層され、
　前記透明賦形層は、前記表面保護層側の面に畝状に突出した畝状部を有する凹凸形状が形成され、
　前記透明賦形層の凸部上の前記表面保護層の膜厚ＴＡと、前記透明賦形層の凹部上の前記表面保護層の膜厚ＴＢとの関係が、０．１≦ＴＡ／ＴＢ≦２．０を満足することを特徴とする化粧シート。
　前記透明賦形層の前記凸部上の前記表面保護層の膜厚ＴＡと、前記透明賦形層の前記凹部上の前記表面保護層の膜厚ＴＢとの関係が、１．０≦ＴＡ／ＴＢ≦１．９を満足することを特徴とする請求項１に記載の化粧シート。
　前記透明賦形層は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、
　前記電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含むアクリル樹脂であり、
　前記繰り返し構造は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、及びε－カプロラクトンの各構造のうちいずれかであり、
　前記表面保護層の前記凹凸形状の表面粗さの指標ＲＳｍと表面粗さの指標Ｒａとの比ＲＳｍ／Ｒａは、１０以上３００以下の範囲内であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の化粧シート。
　前記透明賦形層及び前記表面保護層の少なくともいずれか一方は、ヒンダードアミン系光安定剤を含有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の化粧シート。
　原反層と透明賦形層とがこの順に積層され、
　前記透明賦形層は最上層をなし、上面に畝状に突出した畝状部からなる凹凸形状が形成されており、当該凹凸形状の表面粗さの指標ＲＳｍと表面粗さの指標Ｒａとの比ＲＳｍ／Ｒａは１０以上３００以下の範囲内であり、
　前記透明賦形層は、主材料が電離放射線硬化性樹脂であり、
　当該電離放射線硬化性樹脂は、主成分が繰り返し構造を含むアクリル樹脂であり、
　当該繰り返し構造は、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、及びε－カプロラクトンの各構造のうちいずれかであり、
　前記透明賦形層は、ヒンダードアミン系光安定剤を、前記透明賦形層に含まれる樹脂１００質量部に対して０．０５質量部以上５質量部以下の範囲内で含有していることを特徴とする化粧シート。
　前記ヒンダードアミン系光安定剤を、前記透明賦形層に含まれる樹脂１００質量部に対して、０．２質量部以上３質量部以下の範囲内で含有していることを特徴とする請求項５に記載の化粧シート。
　前記繰り返し構造を含むアクリル樹脂が３官能であり、
　前記繰り返し構造の繰り返し回数は、３以上であることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の化粧シート。
　前記繰り返し構造を含むアクリル樹脂は、４官能のアクリル樹脂であるか、または、ジペンタエリスリトール骨格を有するアクリル樹脂であり、
　前記繰り返し構造の繰り返し回数は、１２以上であることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の化粧シート。
　前記透明賦形層の膜厚は、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲内であることを特徴とする請求項１、請求項２、請求項５及び請求項６のいずれか一項に記載の化粧シート。
　前記表面保護層の膜厚は、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲内であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の化粧シート。
　請求項１、請求項２、請求項５及び請求項６のいずれか一項に記載の化粧シートの製造方法であって、
　原反層の上に電離放射線硬化性樹脂を塗布する工程と、
　塗布された前記電離放射線硬化性樹脂の表面に対して、波長２００ｎｍ以下の光を照射する工程と、
　前記波長２００ｎｍ以下の光を照射した後、前記電離放射線硬化性樹脂の表面に、電離放射線またはＵＶ光を照射して、前記畝状に突出した畝状部を有する前記透明賦形層を形成する工程と、を備えることを特徴とする化粧シートの製造方法。
　前記ＵＶ光の波長は１７２ｎｍであることを特徴とする請求項１１に記載の化粧シートの製造方法。