AT14986U1 - Komponente einer Metallverarbeitungsmaschine - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung beschreibt eine Komponente einer Metallverarbeitungsmaschine, gefertigt aus einem Refraktärmetall (RM), ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wolfram (W), W-Legierung, Molybdän (Mo) und Mo-Legierung, wobei zumindest eine Oberfläche der Komponente zumindest bereichsweise eine Schicht aufweist, die zumindest bereichsweise aus zumindest einer Verbindung zumindest eines Elements ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Kohlenstoff (C), Bor (B) und Stickstoff (N) mit zumindest einem Element, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus W und Mo, gebildet ist.
Description
Beschreibung
KOMPONENTE EINER METALLVERARBEITUNGSMASCHINE
[0001] Die Erfindung betrifft eine Komponente einer Metallverarbeitungsmaschine, gefertigt aus einem Refraktärmetall (RM), ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wolfram (W), W-Legierung, Molybdän (Mo) und Mo-Legierung. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Komponente.
[0002] Metallverarbeitungsmaschinen, wie beispielsweise Strangpressmaschinen und Umformaggregate, enthalten Komponenten wie beispielsweise Matrizen, Gesenke, Gießereiformen, Dorne etc.
[0003] Diese Komponenten sind während des Betriebs der Metallverarbeitungsmaschine hohen thermischen und abrasiven Belastungen durch die damit verarbeiteten metallischen Schmelzen oder der auf Umformtemperatur erwärmten Metalle ausgesetzt. Eine Beschädigung der Komponenten findet durch thermische Belastung, sowie chemische und mechanische Erosion statt. Darüber hinaus kann es zu Legierungsbildung oder der Bildung von intermetallischen Phasen zwischen den Komponenten und dem verarbeiteten Metall kommen. Dies führt zu Materialabtrag an der Oberfläche der Komponenten und es kann zur Verunreinigung der zu verarbeitenden Metalle oder Beschädigung der Komponenten der Maschine kommen.
[0004] Die Herausforderungen im Betrieb von Metallverarbeitungsmaschinen bestehen in der Reduktion des Verschleißes der Komponenten. Entwicklungen haben daher zum Ziel, die Resistenz der Komponenten gegenüber den vorherrschenden Bedingungen zu erhöhen, um längere Betriebszeiten zu erreichen. Eine Erhöhung der Betriebszeiten senkt unter anderem auch die Betriebskosten einer Metallverarbeitungsmaschine.
[0005] Einige Möglichkeiten, um die Lebensdauer derartiger Komponenten zu erhöhen, wurden schon in der einschlägigen Literatur beschrieben.
[0006] Für die Verarbeitung von Metallen wie Aluminium oder Kupfer werden als Grundmaterial für entsprechende Komponenten oft Stähle, aber auch Refraktärmetalle oder deren Legierungen verwendet. Die Verarbeitung von Metallen wie Aluminium oder Kupfer findet bei Temperaturen von etwa 500- 700'C bzw. 750-1000°C statt und übt daher nicht nur eine rein thermische Belastung, sondern auch eine hohe chemische Belastung auf die verwendeten Materialien aus. Die Lebensdauer von Komponenten von Metallverarbeitungsmaschinen, beispielsweise für Aluminium oder Kupfer ist daher oft stark reduziert.
[0007] Weitere Probleme, die bei der Verarbeitung von Metallen auftreten und häufig zum Versagen von Komponenten von Metallverarbeitungsmaschinen führen sind beispielsweise die Bildung intermetallischer, oft spröder Phasen, die Bildung niedrigschmelzender Eutektika oder Legierungsbildung.
[0008] Die JP2007038251A offenbart beispielsweise ein Verfahren zur Erhöhung der Lebensdauer eines Schmiededorns aus Eisen durch Diffusionsbeschichten mit Kohlenstoff.
[0009] Weiter aus dem Stand der Technik bekannt sind mittels Gasphasenreaktionen, wie Chemical Vapour Deposition (CVD) oder Gasphasennitrieren, auf entsprechenden Grundmaterialien entsprechender Komponenten abgeschiedene Hartstoffschichten, um die Verschleißbeständigkeit der jeweiligen Komponenten zu erhöhen.
[0010] Die aus dem Stand der Technik bekannten Lösungen weisen aber oft eine schlechte Haftung auf dem Grundmaterial auf, was zu Materialabtrag und Verunreinigung der zu verarbeitenden Metalle oder Beschädigung der Komponenten der Maschine führen kann.
[0011] Weiters ist es oft erwünscht nicht die gesamte Oberfläche des Grundmaterials mit einer Verschleißschutzschicht zu versehen, was beispielsweise bei mittels eines CVD Verfahrens abgeschiedenen Schichten nur sehr schlecht möglich ist.
[0012] Aufgabe der Erfindung ist daher, eine Lösung bereitzustellen, wodurch die zuvor geschilderten Nachteile vermieden werden können. Insbesondere ist es Aufgabe der Erfindung eine Lösung bereitzustellen, bei der die Komponenten einer Metallverarbeitungsmaschine eine höhere Resistenz gegenüber den erwähnten Belastungen aufweisen und dadurch die Einsatzdauer der Komponenten und damit der Metallverarbeitungsmaschine erhöht wird. Insbesondere soll die vorliegende Erfindung den Materialabtrag von Komponenten reduzieren, wodurch eine Verunreinigung oder Beschädigung der zu verarbeitenden Metalle vermindert wird.
[0013] Diese Aufgabe wird durch die unabhängigen Ansprüche gelöst. Bevorzugte Ausführungsformen sind in den Unteransprüchen wiedergegeben.
[0014] Eine erfindungsgemäße Komponente einer Metallverarbeitungsmaschine ist aus einem Refraktärmetall (RM), ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wolfram (W), W-Legierung, Molybdän (Mo) und Mo-Legierung gefertigt und ist dadurch gekennzeichnet dass zumindest eine Oberfläche der Komponente zumindest bereichsweise eine Schicht aufweist, die zumindest bereichsweise aus zumindest einer Verbindung zumindest eines Elements ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Kohlenstoff (C), Bor (B) und Stickstoff (N) mit zumindest einem Element, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus W und Mo, gebildet ist.
[0015] Die erfindungsgemäße Komponente ist dabei bevorzugt eine Matrize, ein Gesenk ein Dorn oder eine Gießereiform.
[0016] Die Komponente ist aus einem Refraktärmetall gefertigt, wobei das Refraktärmetall ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Wolfram (W), W-Legierung, Molybdän (Mo) und Mo-Legierung. W, W-Legierungen, Mo und Mo-Legierungen werden im nachfolgenden Text auch mit RM abgekürzt. Eine RM-Komponente ist daher eine Komponente, die aus W, einer W-Legierung, Mo oder einer Mo-Legierung gefertigt ist.
[0017] Eine Oberfläche der RM-Komponente weist zumindest bereichsweise eine Schicht auf, die zumindest bereichsweise aus zumindest einer Verbindung zumindest eines Elements, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Kohlenstoff (C), Bor (B) und Stickstoff (N), mit zumindest einem Element, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus W und Mo, gebildet ist.
[0018] Bei der erfindungsgemäßen Lösung weist sowohl der Grundkörper/das Grundmaterial, als auch die Schicht ein RM auf. Als Grundkörper werden im Zusammenhang mit der Erfindung die Bereiche der Komponente, die keine / oder noch keine Schicht aufweisen, bezeichnet.
[0019] Es hat sich nun gezeigt, dass durch die erfindungsgemäße Ausführung Schichthaftungsprobleme, wie diese beim Stand der Technik zu beobachten sind, nicht auftreten. Die erfindungsgemäßen Komponenten sind weiters auch deutlich resistenter gegenüber einem breiten Feld von Einsatzbedingungen, verglichen mit unbeschichteten Komponenten aus W, W-Legierungen, Mo oder Mo-Legierungen.
[0020] Als besonders vorteilhafte Verbindungen sind die Karbide, Boride und Nitride zu erwähnen. Es eignen sich jedoch auch ausgezeichnet Verbindungen, die neben W und/oder Mo zumindest zwei Elemente der Gruppe, bestehend aus C, B und N enthalten. So konnten beispielsweise mit Verbindungen, die sowohl C als auch B enthalten, ausgezeichnete Standzeitergebnisse erzielt werden.
[0021] In bevorzugter Weise weist die Schicht als RM jenes Element auf, das auch mehrheitlich den Grundkörper bildet. So ist es vorteilhaft, wenn beispielsweise der Grundkörper aus Molybdän oder einer Molybdänlegierung gefertigt ist, dass auch die Schicht durch eine Verbindung des Molybdäns gebildet ist. So konnten beispielsweise ausgezeichnete Ergebnisse erzielt werden, wenn der Grundkörper der Komponente aus Mo gefertigt ist und die Schicht M02B, MoB, MoC, M02C, M02N oder MoN umfasst.
[0022] Besonders vorteilhaft ist es, wenn bei der Herstellung der Schicht die Verbindungsbildung durch Reaktion von C, B und/oder N mit dem W und/oder Mo des Grundkörpers erfolgt, da dadurch eine ausgezeichnete Schichthaftung erzielt werden kann.
[0023] Die Schicht kann den Grundkörper vollständig bedecken oder kann auch nur an Stellen höchster Beanspruchung aufgebracht sein. Zudem kann die Schicht ein- oder mehrlagig und/oder aus gemischten Phasen mit variierender Zusammensetzung ausgeführt sein. Wird als Grundkörper für die Komponente eine Mo-W-Legierung venwendet, was eine vorteilhafte Ausführungsform darstellt, so kann die Verbindung als metallische Bestandteile Mo und W aufweisen. In der Liste der nachfolgend angeführten vorteilhaften Boriden, Karbiden und Nitriden kann daher, ohne dass die Eigenschaften nachteilig beeinflusst werden, W teilweise durch Mo bzw. Mo teilweise durch W ersetzt sein.
[0024] Als besonders vorteilhafte binäre Verbindungen sind W2B, WB, W2B5, Wi xBa, WB4, WC, W2C, WN, W2N, W3N2, M02B, MoB, M03B2, M0B4, MoC, M02C, MoN, M02N und M03N2 zu nennen. Bei besonders vorteilhaften ternären und quaternären Verbindungen ist der nichtmetallische Bestandteil der zuvor angeführten binären Verbindungen teilweise durch ein (für ternäre Verbindungen) oder zwei (für quaternäre Verbindungen) weitere(s) Element(e) aus der Gruppe C, B und N ersetzt. So ergeben sich beispielsweise für WC die ternäre Verbindungen W(C,N) und W(C,B) und als quaternäre Verbindung W(C,B,N).
[0025] Neben den jeweiligen stöchiometrischen Zusammensetzungen der Verbindung kann diese zusätzlich auch weitere Elemente, beispielsweise C, B, N, W und/oder Mo, in gelöster Form enthalten.
[0026] Eine weitere vorteilhafte Ausführungsform stellt eine Composite-Schicht dar. Als Com-posite-Schicht ist eine Schicht zu verstehen, die aus zumindest zwei Phasenbereichen aufgebaut ist. Als besonders vorteilhafte Ausführungsform der Erfindung ist hervorzuheben, wenn die Schicht die Phasen WC und/oder W2C enthält. Eine weitere besonders vorteilhafte Ausführungsform ist gegeben, wenn die Schicht WB und/oder W2B enthält. Auch die Kombination von WC und/oder W2C und WB und/oder W2B stellt eine besonders vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung dar. So kann beispielsweise der äußerste Bereich der Schicht aus WC und/oder WB gebildet sein, woran ein Bereich anschließt, der W2B- und/oder W2C Phase aufweist. W2B und/oder W2C sind dabei benachbart zum Grundkörper aus W oder einer W-Legierung. In analoger Weise kann beispielsweise der äußerste Bereich der Schicht aus MoC und/oder MoB gebildet sein, woran ein Bereich anschließt, der M02B- und/oder M02C Phase aufweist. M02B und/oder M02C sind dabei benachbart zum Grundkörper aus Mo oder einer Mo-Legierung.
[0027] In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltungsform ist die Schicht mit dem daran anschließenden Bereich des Grundkörpers verzahnt. Dieser Verzahnungseffekt wird in einfacher Weise durch die Reaktion von C, B und/oder N mit Mo und/oder W des Grundkörpers erzielt. Dazu werden C und/oder B und/oder Verbindungen von C, B und/oder N auf der Oberfläche des Grundkörpers aufgebracht. Durch Erwärmen diffundieren nun C, B und/oder N in den Grundkörper hinein, wo es zur Verbindungsbildung kommt. Die Verzahnung wird dabei vorteilhaft durch Körner der Schicht gebildet (beispielsweise und vorteilhaft durch W2B, W2C, M02B und/oder M02C Körner). Bei Aufbringen von C und B auf Wolfram oder Molybdän bildet sich beispielsweise als oberste Schichtlage ein Karbid, das besonders verschleißbeständig. Das Einbringen von N in die Schicht erfolgt vorzugsweise durch Glühung in einer N-haltigen Atmosphäre (Reaktionsglühung). Vorzugsweise kommen NH3 oder eine Mischung aus zumindest zwei Gasen der Gruppe bestehend aus NH3, H2 und N2 sowie Glühtemperaturen beispielsweise im Bereich 700 bis 1.300°C zum Einsatz.
[0028] Die vorteilhafte mittlere Schichtdicke kann in einem weiten Bereich gewählt werden, wobei als bevorzugter Bereich 1 bis 300 pm, vorzugsweise 3 bis 200 pm zu nennen ist.
[0029] Als vorteilhafte Werkstoffe für den Grundkörper sind Rein-W, W - 0,1 bis 3 Ma% Seltenerdoxid, W-Schwermetall, Rein-Mo, Mo - Titan (Ti) - Zirkon (Zr) - C (übliche Bezeichnung: TZM), Mo - Hafnium (Hf) - C (übliche Bezeichnung: MHC) oder Mo-W Legierungen zu nennen. Als besonders geeignetes Seltenerdoxid ist La203 herauszustreichen. W - La203 weist dabei ein deutlich verbessertes Zerspanungsverhalten im Vergleich zu Rein-W auf, wodurch die Herstellungskosten der Komponente deutlich reduziert werden können. Unter Rein-W bzw. Rein-Mo sind dabei die Metalle mit der üblichen technischen Reinheit zu verstehen.
[0030] In vorteilhafter Weise weist die Komponente zumindest eine der nachfolgenden Eigenschaften auf: [0031] - Die Verbindung ist aus der Gruppe a oder b gewählt, mit:
Gruppe a: Karbide, Boride und Nitride;
Gruppe b: Verbindung enthaltend W und/oder Mo und zumindest zwei Elemente der Gruppe, bestehend aus C, B und N.
[0032] - Die Verbindung ist aus der Gruppe, bestehend aus WgB, WB, W2B5, Wi-xBa, WB4, WC, W2C, WN, W2N, W3N2; M02B, MoB, M03B2, M0B4, MoC, M02C, MoN, M02N und M03N2 gewählt.
[0033] - Die Schicht ist als Composite-Schicht ausgeführt.
[0034] - Die Composite-Schicht weist zumindest einen Bereich aus einem Borid und zumin dest einem Bereich aus einem Karbid auf.
[0035] - Die äußerste Schichtlage ist durch WC oder WB zumindest teilweise gebildet.
[0036] - Die Schicht ist mit dem daran anschließenden Grundkörper verzahnt.
[0037] - Die Verzahnung ist durch Körner der Schicht gebildet.
[0038] - Die RM-Komponente weist an Stellen hoher Beanspruchung die Schicht auf.
[0039] - Zumindest eine Verbindung enthält zumindest ein Element ausgewählt aus der Grup pe bestehend aus B, C, N, W und Mo in gelöster Form.
[0040] - Die RM-Komponente ist aus Rein-W, W- 0,1 bis 3 Ma% Seltenerdoxid, W-Schwer- metall, Rein-Mo Mo-Ti-Zr-C (TZM), Mo-Hf-C (MHC) oder einer Mo-W-Legierung gefertigt.
[0041] Die erfindungsgemäße Aufgabenstellung wird auch durch ein Verfahren zur Herstellung einer RM-Komponente gelöst.
[0042] Das Verfahren weist dabei zumindest die folgenden Schritte auf: [0043] - Herstellung der Geometrie der RM-Komponente durch übliche Verfahren; [0044] - Aufbringen zumindest eines Elements und/oder zumindest einer Verbindung eines
Elements ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus C, B und N vorzugsweise in Pulver- oder Slurryform; [0045] - Wärmebehandlung zur Bildung einer Verbindung mit zumindest einem RM in Vaku um, Schutzgas oder Reaktivgas.
[0046] Als übliche Verfahren zur Herstellung der RM-Komponente sind Press- / Sinterverfahren mit anschließender mechanischer Bearbeitung, Near-Net-Shape Press- / Sinterverfahren, Heißpressen, heißisostatisches Pressen, Spark-Plasma-Sintern oder Metallpulverspritzguss zu nennen.
[0047] Nach Herstellung der Geometrie wird in den Bereichen, die im Einsatz die Schicht aufweisen sollen, zumindest ein Element oder zumindest eine Verbindung eines Elements ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus C, B und N, aufgebracht. Das Aufbringen kann beispielsweise durch Aufschütten, durch Aufpinseln, durch Tauchen oder durch Aufsprühen erfolgen. Als besonders geeignet ist das Aufbringen eines Slurrys zu erwähnen, da es hiermit auch möglich ist, Teile mit komplexen Geometrien in einfacher und vorteilhafter Weise zu beschichten. Nach dem Aufbringen von C und/oder B und/oder einer C-, B und/oder N-haltigen Verbindung wird die Komponente in Vakuum, Schutzgas oder Reaktivgas wärmebehandelt. Als Reaktivgase eignen sich insbesondere Gase oder Gasgemische, die N (zum Beispiel NH3 oder eine Mischung aus zumindest zwei Gasen der Gruppe bestehend aus NH3, H2 und N2), C (zum Beispiel CH4) und/oder B (zum Beispiel BH3) enthalten. Die Temperatur liegt dabei vorteilhaft bei 700 bis 2.000Ό (Glühung in Vakuum) bzw. 700 bis 1.300°C (Glühung in Reaktivgas), wobei sich der für die jeweilige Verbindung am besten geeignete Bereich durch einfache Versuche ermitteln lässt. Bei der Wärmebehandlung diffundieren / diffundiert nun C, B und/oder N in das Grundmaterial ein und bildet mit diesem die erfindungsgemäße Verbindung.
[0048] Bei üblichen CVD Verfahren wird eine Schicht außen auf das Grundmaterial abgeschieden. Dadurch kann es sein, dass Toleranzen der Komponenten nicht mehr eingehalten werden können und die Bauteile nachbearbeitet werden müssen. Bei erfindungsgemäßer Beschichtung ist dies nicht notwendig, da bei diesem Verfahren die Maßhaltigkeit gewährleistet ist.
[0049] Im Gegensatz beispielsweise zu einer Gasphasennitrierung, bei der die Oberfläche der gesamten Komponente, d.h. alle Bereiche, die durch die Gasströmung erreicht werden, nitriert werden und es nicht möglich ist, bestimmte Bereiche gezielt auszusparen, können durch das erfindungsgemäße Verfahren Bereiche maskiert werden, wodurch es möglich ist, die Beschichtung beispielsweise nur in tribologisch belasteten Zonen aufzubringen. Durch diese gezielte Maskierung der Komponenten können sowohl harte bzw. beständige als auch weiche bzw. zähe Bereiche an derselben Komponente realisiert werden.
[0050] Ein weiterer Vorteil im Vergleich zum Gasphasennitrieren ist, dass mit dem erfindungsgemäßen Verfahren Schichtdicken in einem weiten Bereich von 1 bis 300 pm erzielt werden können. Beim Gasphasennnitrieren sind nur Dicken von 1 bis 15 pm erzielbar. Durch die höheren Schichtdicken kann der Einsatzbereich, beziehungsweise die Einsatzdauer der beschichteten Komponenten signifikant enweitert werden.
[0051] Auch die Größe der Bauteile, welche beschichtet werden können, stellt ein weiteres Unterscheidungsmerkmal zum Gasphasennitrieren dar. Beim Gasphasennitrieren ist nicht nur die Größe der Anlage, sondern auch die Gasführung in dieser entscheidend. Bei ungleichmäßiger Gasführung, wie es vermehrt bei großen Bauteilen vorkommt, kann es dazu kommen, dass die Bauteile nur teilweise oder unzulänglich beschichtet werden. Die erfindungsgemäße Beschichtung kann weitestgehend geometrieunabhängig durchgeführt werden, wobei nur die Größe der Anlage für die erforderliche Wärmebehandlung limitierend ist.
[0052] Beim erfindungsgemäßen Verfahren ist eine Automatisierung in großem Maßstab mit überschaubarem Aufwand durchführbar. Dies ist bei einer Gasphasennitrierung nur schwierig durchführbar, da neben dem hohen manuellen Aufwand für die Chargierung auch die Anlagengröße stark limitierend wirkt. Durch eine entsprechende Automatisierung ist es möglich, die Herstellungskosten pro Stück zu reduzieren und gleichzeitig eine Verbesserung der Eigenschaften wie Härte und Verschleißeigenschaften zu erzielen.
[0053] Neben den oben beschriebenen Verfahren kann die Schicht auch durch andere übliche Verfahren wie beispielsweise PVD, CVD, thermische Spritzverfahren oder Glühung in Reaktivgas (zum Beispiel in den zuvor genannten Gasen / Gasmischungen) aufgebracht werden.
[0054] Im Folgenden wird die Erfindung beispielhaft näher beschrieben und mit dem Stand der Technik verglichen.
[0055] Figur 1 zeigt dabei eine zweilagige Molybdänborid/diborid Schicht auf Mo.
[0056] Figur 2 zeigt eine mehrlagige Composite-Schicht, die Bereiche aus Molybdänkarbid und Bereiche aus Molybdänborid umfasst.
[0057] Figur 3 zeigt ein GDOES Profil der Schicht in Figur 2 [0058] Figur 4 zeigt eine Skizze einer Matrize mit partieller Beschichtung (dicke Linien).
[0059] Figur 5 zeigt einen beschichteten Teil einer Matrize.
[0060] Figur 6 zeigt eine EBSD Aufnahme einer zweilagigen Wolframborid/Wolframcarbid
Schicht auf W.
[0061] Beispiel 1 [0062] Es wurden Grundkörper aus W, W - 1 Ma% La203 (WL) und Mo durch Diffusionsprozesse mit unterschiedlichen Schichten versehen. Dazu wurde ein Slurry, der Kohlenstoff und/oder Bor enthielt, durch Tauchen auf der Oberfläche des Grundkörpers aufgebracht. Die jeweiligen C- und B-Anteile können den Tabellen 1 und 2 entnommen werden. Danach wurden die Proben einer Glühung bei ISGOO/lOh in Vakuum unterzogen. Die beteiligten Bestandteile C, B bzw. N bildeten bei der Wärmebehandlung die entsprechenden Verbindungen aus. Exemplarisch ist dies für die Probe 19 gemäß Tabelle 2 in Figur 2 wiedergeben.
[0063] Die EBSD-Messung wurde wie folgt durchgeführt.
[0064] - 120 pm Elektronenstrahlblende [0065] - Hochstrommodus, 20kV Beschleunigungsspannung [0066] - Scanfläche 57 x 24 pm2 [0067] - Vergrößerung 1500x [0068] - Schrittweite 0,05 pm [0069] - Binning 4x4 [0070] - Kamera-Gain 17,06 [0071] - Kamera-Exposure 4,50 [0072] - Untergrundkorrektur: Statischer Untergrundabzug kombiniert mit normalisiertem In tensitätshistogramm [0073] - System: FEG-REM Zeiss Ultra plus 55 mit EDAX Trident XM4 Analytik Paket, Hikari- EBSD Kamera [0074] Tabelle 1 und 2 zeigen eine Übersicht der Proben.
[0075] Tabelle 1
[0076] Tabelle 2
[0077] Beispiel 2
[0078] Beschichtete Matrize aus MHC
[0079] Eine Matrize aus MHC wurde im Ultraschallbad alkalisch gereinigt. Anschließend wurden Teile der Matrize mit Klebeband abgedeckt. Die so vorbereitete Matrize wurde in eine wässerige Suspension mit Graphit und Bor (im Verhältnis 20:80 nach Gewicht) getaucht und an Luft getrocknet. Noch im Grünzustand wurde das Klebeband entfernt. Durch diese Maskierung wurde sichergestellt, dass die Beschichtung nur an den gewünschten Stellen der Matrize erfolgt. Eine Skizze mit den beschichteten Stellen einer derartig beschichteten Matrize (dicke Linien) ist in der Abbildung 4 dargestellt.
[0080] Die Wärmebehandlung erfolgte unter Vakuum bei 1500°C für 4h, wobei sich eine mehrlagige Schicht aus Molybdänkarbiden und Molybdänboriden ausbildete. Eine rasterelektronenmikroskopische Aufnahme eines Bereichs der so behandelten Matrize ist in Figur 5 gezeigt.
Claims (12)
- Ansprüche1. Komponente einer Metallverarbeitungsmaschine, gefertigt aus einem Refraktärmetall (RM), ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Wolfram (W), W-Legierung, Molybdän (Mo) und Mo-Legierung, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine Oberfläche der Komponente zumindest bereichsweise eine Schicht aufweist, die zumindest bereichsweise aus zumindest einer Verbindung zumindest eines Elements ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Kohlenstoff (C), Bor (B) und Stickstoff (N) mit zumindest einem Element, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus W und Mo, gebildet ist.
- 2. Komponente nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung aus der Gruppe a oder b gewählt ist, mit: - Gruppe a: Karbide, Boride und Nitride; - Gruppe b: Verbindungen enthaltend W und/oder Mo und zumindest zwei Elemente der Gruppe bestehend aus C, B und N.
- 3. Komponente nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung aus der Gruppe bestehend aus W2B, WB, W2B5, Wi_xBa, WB4, WC, W2C, WN, W2N, W3N2, M02B, MoB, M03B2, M0B4, MoC, M02C, MoN, M02N und M03N2 gewählt ist.
- 4. Komponente nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht eine Composite-Schicht ist, die zumindest einen Bereich aus einem Borid und zumindest einen Bereich aus einem Karbid aufweist.
- 5. Komponente nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass WC oder WB zumindest teilweise die äußerste Schichtlage bildet.
- 6. Komponente nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schicht mit dem daran anschließenden Bereich aus RM verzahnt ist.
- 7. Komponente nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Verzahnung durch Körner der Schicht gebildet ist.
- 8. Komponente nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die RM-Komponente an Stellen hoher Beanspruchung die Schicht aufweist.
- 9. Komponente nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine Verbindung zumindest ein Element ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus B, C, N, W und Mo in gelöster Form enthält.
- 10. Komponente nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die RM-Komponente aus Rein-W, W - 0,1 bis 3 Ma% Seltenerdoxid, W-Schwermetall, Rein-Mo, einer Mo - Titan (Ti) - Zirkon (Zr) - C Legierung (TZM), einer Mo - Hafnium (Hf) -C Legierung (MHC) oder einer Mo-W Legierung gefertigt ist.
- 11. Komponente nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass diese eine Matrize, ein Gesenk, ein Dorn oder eine Gießereiform ist.
- 12. Verfahren zur Herstellung einer Komponente nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass dieses die folgenden Schritte umfasst: - Herstellung der Geometrie der RM-Komponente durch übliche Verfahren; - Aufbringen zumindest eines Elements und/oder zumindest einer Verbindung eines Elements, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus C, B und N, vorzugsweise in Pulveroder Slurryform; - Wärmebehandlung zur Bildung einer Verbindung mit zumindest einem RM.
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