AT511318A1 - Zieleinrichtung - Google Patents

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ermittlung einer Ersatzdistanz beim Anvisieren eines Ziels (2) mit einer Zieldistanz D (6) und einem Höhenwinkel a (5) zwischen einer Sichtlinie (4) zum Ziel (2) und einer Horizontalebene (3) mit einer Waffe (9) zum Abfeuern von Geschossen mit einer annähernd gestreckten Flugbahn. Die Ersatzdistanz wird mittels einer Korrekturfunktion aus der Zieldistanz D (6) bestimmt, wobei die Korrekturfunktionausschließlich aus nicht ballistischen Kennwerten und zumindest abhängig von der Zieldistanz D (6) und der Winkeldifferenz zwischen dem Höhenwinkel a (5) und dem Einschießwinkel ermittelt wird.

Description

14:58:53 06-04-2011 5/31 25 »»*» * · t · • »* « * ··* ··* · * 4 · I « * · I < » «·««» « I · t -1 -

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Bestimmung einer anstelle der Zieldistanz zu berücksichtigenden Ersatzdistanz zum Anvisieren eines Ziels mit einer Zieleinrichtung einer Schusswaffe entsprechend den Oberbegriffen der Ansprüche 1, 2, 3, 17,23 und 27.

Zieleinrichtungen, insbesondere Zielfernrohre, werden üblicherweise auf der Waffe montiert und in Verbindung mit dieser eingeschossen. Unter Waffen sind solche Waffen zu verstehen, welche ein Projektil unter einer gestreckten bzw. leicht gekrümmten Flugbahn direkt auf ein Ziel abfeuem. Dieses Einschießen erfolgt bei einer festen Schussentfernung von beispielsweise 100 m mit einer horizontal ausgerichteten Visieriinie auf ein Ziel und unter Verwendung einer für die Waffe typischen Munition (Laborierung). Zur Kompensation des Geschoßabfalls auf ihrer Flugbahn zwischen der Schusswaffe und dem Ziel ist die Laufachse der Schusswaffe um einen Aufsatzwinkel relativ zu der Visierlinie der Zielfeinrichtung geneigt Beim Einschießen der Schusswaffe wird dieser Aufsatzwinkel so eingestellt, dass der tatsächliche Auftreffpunkt des Geschoßes mit dem gewünschten Auftreffpunkt, das heißt dem anvisierten Ziel zusammenfällt. Bei einem realen Schuss in der praktischen Anwendung müssen Abweichungen zu diesen Einschießbedingungen berücksichtigt werden. Einflussfaktoren, die eine Veränderung der Ballistik bewirken, sind beispielsweise Luftdruck und Lufttemperatur, die Anfangsgeschwindigkeit und der Wider-standsbeiwert bzw. ballistische Koeffizient des Geschoßes, seitliches Verkanten der Schusswaffe oder ein Winkelschuss nach oben oder nach unten.

Die Abweichung bei einem Winkelschuss entsteht durch die veränderte Richtung der Geschoßbewegung relativ zur Richtung der auf das Geschoß wirkenden Schwerkraft. Ein Vergleich der Geschoßflugbahn beim Winkelschuss mit der Geschoßflugbahn bei einem horizontalen Schuss zeigt, dass die Geschoßflugbahn bei einem Winkelschuss relativ zur Visierlinie etwas flacher verläuft. Bliebe die Visierlinie bzw. der Haltepunkt auf das Ziel wie bei einem horizontalen Schuss gerichtet, würde es zu einem sogenannten Hochschuss N2010/25600 I Λ Λ -4 1 r> λ M .. nn η h r> 25 14:59:32 06-04-2011 6/31

• · * I -2-kommen. Ein solcher kann verhindert werden, indem der Abgangswinkel (Erhöhung), das heißt der Winkel zwischen der Laufachse und einer horizontalen Ebene verringert wird. Dies kann entweder durch Verringerung des Aufsatzwinkels (Visierwinkel) oder des Höhenwinkels (Geländewinkel) erfolgen. Diese Korrektur des Werts des Abgangswinkels, mit dem die Zieleinrichtung relativ zum Ziel bzw. die Korrektur, mit dem die Visierlinie auf das Ziel ausgerichtet wird, ist gleichbedeutend mit der Berücksichtigung einer Ersatzdistanz, die anstelle der tatsächlichen Zieldistanz für das Anvisieren des Ziels verwendet wird.

Dies kann auch ausgedrückt werden durch den Begriff der äquivalenten horizontalen Entfernung E. Diese ist beispielsweise bei Verwendung eines sogenannten ballistischen Absehens (Fadenkreuz) von Bedeutung, wobei in dem Absehen unterschiedliche vertikale Markierungen vorgesehen sind, die unterschiedlichen Fleckschussentfemungen entsprechen. Wird nun bei einem Winkelschuss die Zieleinrichtung so eingestellt, als ob sich das Ziel nicht in der tatsächlichen Entfernung D sondern in einer gemeinsamen Horizontalebene mit der Schusswaffe unter einer Zieldistanz mit einem Weit entsprechend der äquivalenten horizontalen Entfernung befinden würde, so ist nun auch ein Fleckschuss gewährleistet. Eine andere Möglichkeit der Berücksichtigung der erforderlichen Korrektur der Ausrichtung der Schusswaffe bzw. der Zieleinrichtung zum Anvisieren des Ziels besteht darin, über den Höhenturm der Zieleinrichtung das Absehen (Fadenkreuz) der Höhe nach entsprechend der äquivalenten horizontalen Entfernung zu justieren. Andererseits sind auch moderne Zieleinrichtungen bekannt, die integrierte ballistische Rechner aufweisen und notwendige Korrekturen entweder numerisch oder in Form von variablen Haltepunkten anzeigen.

Allen diesen Möglichkeiten gemeinsam ist das Erfordernis durch irgendein Verfahren in möglichst zuverlässiger Weise das Ausmaß der erforderlichen Korrektur bei einem Winkelschuss zu bestimmen bzw. zu berechnen. Es ist somit die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren bzw. eine Vorrichtung anzugeben, mit dem/der bei Ausführung eines Winkelschusses mit einer Schusswaffe auf vereinfachte Weise eine hohe Treffsicherheit erreicht werden kann.

Zum besseren Verständnis der Erfindung wird diese anhand der nachfolgenden Figuren näher erläutert.

Es zeigen jeweils in stark schematisch vereinfachter Darstellung:

Fig. 1 eine relative räumliche Anordnung bei einem Winkelschuss eines Schützten auf ein in erhöhter Lage angeordnetes Ziel; AMäAnn λπ i r\ λ f r\r> + 4 η r , λ Ί kl - noöi p nnR/mi 25 15:00:15 06-04-2011 7 /31 Φ Φ » · · · * 4« • « 4 · Φ · ΦΙ ««· · Φ | Φ ( « « · ·« « φ « « φ * φ · φ -3-

Fig. 2 eine Gegenüberstellung der Trajektorien eines Geschoßes beim Anvisieren des Ziels bei einem Winkelschuss und bei einem horizontaler Schuss;

Fig. 3 ein Bild beim Blick durch eine Zieleinrichtung beim Anvisieren des Ziels gemäß Fig. 2;

Fig. 4 eine Vorrichtung zur Bestimmung der äquivalenten horizontalen Entfernung E mit dem Blick durch eine Zieleinrichtung gemäß Fig. 3;

Fig. 5 ein Flussdiagramm der Verfahrensschritte des Verfahrens zur Bestimmung der äquivalenten horizontalen Entfernung E;

Fig. 6 das Anvisieren eines Ziels mit der Zieleinrichtung einer Schusswaffe;

Fig. 7 das Anvisieren des Ziels gemäß Fig. 6 unter Berücksichtigung der erfindungsgemäßen Korrektur.

Einführend sei festgehalten, dass in den unterschiedlich beschriebenen Ausführungsformen gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen versehen werden, wobei die in der gesamten Beschreibung enthaltenen Offenbarungen sinngemäß auf gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen übertragen werden können. Auch sind die in der Beschreibung gewählten Lageangaben, wie z.B. oben, unten, seitlich usw. auf die unmittelbar beschriebene sowie dargestellte Figur bezogen und sind bei einer Lageänderung sinngemäß auf die neue Lage zu übertragen. Weiters können auch Einzelmerkmale oder Merkmalskombinationen aus den gezeigten und beschriebenen unterschiedlichen Ausführungsbeispielen für sich eigenständige, erfinderische oder erfindungsgemäße Lösungen darstellen. Sämtliche Angaben zu Wertebereichen in gegenständlicher Beschreibung sind so zu verstehen, dass diese beliebige und alle Teilbereiche daraus mit umfassen, z.B. ist die Angabe 1 bis 10 so zu verstehen, dass sämtliche Teilbereiche, ausgehend von der unteren Grenze 1 und der oberen Grenze 10 mitumfasst sind, d.h. sämtliche Teilbereich beginnen mit einer unteren Grenze von 1 oder größer und enden bei einer oberen Grenze von 10 oder weniger, z.B. 1 bis 1,7, oder 3,2 bis 8,1 oder 5,5 bis 10.

Die Fig. 1 zeigt die relative räumliche Anordnung bei einem Winkelschuss nach oben von einem Schützten 1 auf ein Ziel 2. Das Ziel 2 befindet sich dabei in einer relativ zu einer dem Schützen 1 zugeordneten Horizontalebene 3 erhöhten Position. Eine Sichtlinie 4

M „ Λπίηηοηιΐ ιε«γμ Ο Ο Ο 1 nn7 /fm D 25 15:00:55 06-04-2011 B /31 -4-bzw. Visierlinie zwischen dem Schützen 1 und dem Ziel 2 schließt demnach mit der Horizontalebene 3 einen sogenannten Höhenwinkel {Geländewinkel) α 5 ein. Durch die Länge der Sichtiinie 4 bzw. den Abstand zwischen dem Schützen 1 und dem Ziel 2 ist weiters eine Zieldistanz D 6 definiert. Beim Anvisieren des Ziels 2 mit einer Schusswaffe Θ (Fig. 2) muss der Schütze 1 nun neben der Zieldistanz D 6 auch den Höhenwinkel α 5 mitberücksichtigen. Dies ist aber nicht schon dadurch in ausreichender Weise erfüllt, dass der Schütze die Schusswaffe lediglich um den Höhenwinkel α 5 nach oben verschwenkt und eine Zielmarke (Fig. 3) mit dem Ziel 2 zur Deckung bringt, die gerade dem Wert der Zieldistanz D 6 entspricht Hs muss nämlich außerdem noch eine Korrektur berücksichtigt werden, die darin ihre Ursache hat, dass eine Trajektorie 7 eines Geschoßes bei einem Winkelschuss relativ zur Visieriinie weniger gekrümmt ist als bei einem horizontalen Schuss.

Die Fig. 2 zeigt die Trajektorie 7 eines Geschoßes beim Anvisieren des Ziels 2 mit einer Zieleinrichtung 8 einer Schusswaffe 9 bei einem Winkeischuss nach oben unter dem Höhenwinkel α 5. Zur Veranschaulichung des Einflusses des Höhenwinkels α 5 auf die Trajektorie 7 ist in Fig. 2 auch ein horizontaler Schuss auf ein Ziel 2' dargestellt. Dabei soll der Einfachheit halber angenommen werden, dass der Wert der Zieldistanz D 6 zu dem Ziel 2' bzw. zu dem Ziel 2 gleich ist der Einschießdistanz der Schusswaffe 9.

Eine Laufachse 1Π Her Schusswaffe 9 ist relativ zu der Vieierlinic bzw. Siohtünie 4 der Zieleinrichtung 8 um einen Aufsatzwinkel 11 verschwenkt angeordnet Dieser Aufsatzwinkel 11 ist beim Einschießen der Schusswaffe 9 derart justiert, dass die Trajektorie 7' des Geschoßes die Horizontalebene 3 in der Einschießdistanz schneidet. Damit wird gerade die Einschießbedingung erfüllt, dass der tatsächliche Auftreffpunkt des Geschoßes mit dem gewünschten Auftreffpunkt des in der Einschießdistanz angeordneten Ziels 2‘ zusammenfällt.

Das Einschießen der Schusswaffe 9 erfolgt in üblicher Weise dadurch, dass eine Folge von Schüssen auf ein sich in der Einschießdistanz befindliches Ziel Z ausgeführt wird.

Das heißt die Entfernung zwischen dem Standort des Schützen 1 bzw. der Mündung der Schusswaffe 9 und dem Ziel Z wird gleich der Einschießdistanz gewählt, wobei sich außerdem die Mündung der Schusswaffe 9 und das Ziel Z in der gemeinsamen Horizontalebene 3 befinden. Wird nun nach einem Schuss auf das Ziel Z eine Abweichung des Auftreffpunkts des Geschoßes von dem Ziel Z festgestellt, so wird eine Veränderung der Relativstellung zwischen der Sichtlinie 4 und der Laufachse 10 der Schusswaffe 9 voige- MTflinounn ΛΛ t r, Λ / ΠΛΧ-1-1 ΊΓ.ΛΟ kl ^ DO Ö 1 p nna/rrn 15:01:39 06-04-2011 9/31 25 • · -5-nommen, mit der erreicht werden soll, dass der Auftreffpunkt des Geschoßes bei Ausführung eines weiteren Schusses näher an dem Ziel Z zu liegen kommt. Eine solche Veränderung der Relativstellung der Sichtlinie 4 relativ zu der Laufachse 10 der Waffe d wird üblicherweise dadurch vorgenommen, dass an einem Höhenturm 16 der Zieleinrichtung 8 bzw. eines Zielfernrohrs eine Verstellung vorgenommen wird, durch die der Verlauf der Sichtlinie 4 durch den visuellen Strahlengang der Zieleinrichtung 8 hindurch verändert wird. Durch eine solche Veränderung können sowohl Abweichungen des Auftreffpunktes des Geschoßes von dem Ziel Z in horizontaler als auch in vertikaler Richtung kompensiert werden. Zur Verringerung einer Abweichung in vertikaler Richtung wird bei einer solchen Einstellung an dem Höhenturm 16 der Aufsatzwinkel 11 verändert. Zum Einschießen der Schusswaffe 9 wird die Folge von Probeschüssen und Neueinstellungen der Relativstellung der Sichtlinie 4 relativ zu der Laufachse 10 der Waffe 9 so lange fortgesetzt bis eine ausreichend hohe Treffsicherheit erreicht wird.

Gemäß einer verallgemeinerten Vorgehensweiee erfolgt das Einschießen der Schusswaffe 9 unter einem gegenüber der Horizontalebene 3 geneigten Einschießwinkel mit einem vordefinierten Wert. Dies kann für eine Schusswaffe 9 günstig sein, die beispielsweise regelmäßig von einem Hochsitz über einem sonst ebenen, horizontalen Gelände abgefeuert wird. Für eine solche Anwendung kann das Einschießen der Schusswaffe 9 unter einem vorgewählten Einschießwinkel mit einem negativen Wert erfolgen. Dies erfolgt wiederum dadurch, dass mit der Schusswaffe 9 eine Folge von Probeschüssen und Neuein-stellungen der Reiativstellung der Sichtlinie 4 relativ zu der Laufachse 10 der Waffe 9 solange fortgesetzt wird, bis eine ausreichend hohe Treffsicherheit erreicht Ist.

Wird nun die Schusswaffe 9 auf das Ober der Horizontalebene 3 erhöht angeordnete Ziel 2 gerichtet und dazu die Visierlinie bzw. Sichtlinie 4 der Zieleinrichtung 8 auf das Ziel 2 ausgerichtet, so muss eine Veränderung der Flugbahn eines mit der Schusswaffe 9 abgeschossenen Geschoßes berücksichtigt werden, wobei die Trajektorie 7 des Geschoßes nun relativ zur Visieriinie etwas flacher verläuft, das heißt eine geringere Krümmung aufweist als im Fall des Horizontalschuss mit der Trajektorie 7‘. Das Ziel 2 wird durch die Trajektorie 7 somit oberhalb verfehlt. Dieser Fehler kann dadurch korrigiert werden, dass die Schusswaffe 9 etwas zur Horizontatebene 3 hin verschwenkt wird, sodass die ursprüngliche Visieriinie bzw. Sichtlinie 4 auf einen unterhalb des Ziels 2 liegenden Punkt ausgerichtet Ist und die Sichtlinie 4 einen Winkel mit der Horizontalebene 3 einschließt dessen Wert kleiner ist als der Wert des Höhenwinkels α 5. Eine solche Korrektur wird anhand der nachfolgend beschriebenen Fig. 3 veranschaulicht. Ν?ηιιν?Μ)ηη i η. λ mm 1 1 c Π O M >. DO Q 1 ό nno/rm 25 15:02:24 06-04-2011 10/31 -6-lm Falle der Verwendung einer auf einen - gegenüber der Horizontalebene 3 geneigten -Einschießwinkel eingeschossenen Schusswaffe Θ ist für diese Korrektur bzw. Korrekturfunktion anstelle des Höhenwinkels α 5 die Winkeldifferenz zwischen dem Höhenwinkel α 5 und dem Einschießwinkel zu berücksichtigen.

Oie Fig. 3 zeigt ein Bild beim Blick durch die Zieleinrichtung 8 beim Anvisieren des Ziels 2 gemäß Fig. 2.

Bei diesem Ausf ührungs bei spiel weist die Zieleinrichtung 8 eine Zielmarkenanordnung mit einem Fadenkreuz 12 und zusätzlichen Zielmarken 13,14 und 15 auf. Die Anordnung des Bilds des Ziels 2 relativ zu dem Fadenkreuz 12 bzw. den Zielmaiken 13,14,15 entspricht jener Situation in der die vorstehend erläuterte Korrektur bereits berücksichtigt ist Die Sichtlinie 4 der Zieleinrichtung 8 - sie entspricht dem Kreuzungspunkt des Fadenkreuzes 12 - ist auf einen Punkt unterhalb des Ziels 2 ausgerichtet. Demgemäß erscheint das Bild des Ziels 2 oberhalb des Fadenkreuzes 12 - in diesem Fall zur Deckung gebracht mit der Zielmarke 13.

Das Bild gemäß Fig. 3 kann andererseits auch interpretiert werden im Zusammenhang mit der Ausführung eines Horizontalschuss bei dem sich das Ziel 2 mit der Schusswaffe 9 in derselben Horizontalebene 3 befindet Ist, wie dargestellt, die oberhalb des Fadenkreuzes 12 angeordrete Zielmarke 13 auf das Zie12 ausgerichtet, so kann dieses nur dann von dem Geschoß getroffen werden, wenn seine Entfernung von der Schusswaffe 9 kleiner ist als die Einschießdistanz (entsprechend Fadenkreuz 12). Für Horizontalschüsse können somit der Zielmarke 13, dem Fadenkreuz 12, der Zielmarke 14 und der Ziolmarke 15 unterschiedliche Werte der Zieldistanz D 5 zugeordnet werden. Und zwar sind die Werte der Zieldistanz D 6 in der gleichen Reihenfolge ansteigend (Zielmarke 13, Fadenkreuz 12, Zielmarke 14 und Zrelmarite 15). Dies könnte beispielsweise im Rahmen einer Kalibrierung der Zielmarkenanordnung mit entsprechenden Zieldistanzen D 6 erfolgen.

Die den Zielmarken 13,14,15 und dem Fadenkreuz 12 zugeordneten Werte der Zieldistanz D 6 für Horizontalschüsse sind nun aber auch bei WinkelsChÜssen unter einem Höhenwinkei α 5 von Bedeutung, in dem sie als sogenannte äquivalente horizontale Entfernung E zur Berücksichtigung der vorbeschriebenen Korrektur der Ausrichtung der Schusswaffe 9 bzw. der Sichtlinie 4 der Zieleinrichtung 8 auf das Ziel 2 verwendet werden. Auf diese Weise wird von dem Schützen 1 anstelle des Werts der tatsächlichen Zieldistanz D 6 eine Ersatzdistanz für das Anvisieren verwendet. ΟΟΰ Λ ΛΡ/ΛΑ/θηΐ1 1Ε.ΛΟ 25 15:03:07 06-04-2011 11 /31

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Von entscheidender Bedeutung ist nun, die erforderliche Korrektur quantitativ bestimmen zu können. Dazu ist seit langem eine als „Rifleman's Rule“ bezeichnete Faustregel be-kannt, nach der die Zieldistanz D 6 mit dem Kosinus des Höhenwinkels α 5 zu multiplizieren ist, um den Wert der äquivalenten horizontalen Entfernung E zu erhalten. E = D x cos(a) Gl. 1

Wird nun bei einem Winkelschuss unter einem Höhenwinkel α 5 die Zieleinrichtung 6 so eingestellt, als ob sich das Ziel 2 in derselben Horizontalebene 3 wie die Schusswaffe 9 und in der äquivalenten horizontalen Entfernung E befinden würde, so ist nun das Treffen des Ziels 2 (ein Fleckschuss) gewährleistet.

Die Berechnung der äquivalenten horizontalen Entfernung E nach der Rifleman's Rule entsprechend vorstehend angegebener Gleichung 1 ist jedoch nur eine Näherung, die nur bei relativ kurzen Zieldistanzen D 6 und kleinen Weiten des Höhenwinkels α 5 ausreichend genaue Ergebnisse liefert.

Die Berechnung der äquivalenten horizontalen Entfernung E nach Gleichung 1 kann auch interpretiert werden als eine Modifikation der Zieldistanz D 6 mit einem Korrekturfaktor KF, der im Falle der Rifleman's Rufe nur vom Höhenwinkel α 5 abhängt. E = D x KF Gl. 2 KF = KF(a) = cos(a) Gl. 3

Im Stand der Technik sind bereits ballistische Programme (z.B. QuickTARGET, EXBAL, Sierra Infinity) als auch Zieleinrichtungen oder Entfernungsmesser mit integriertem ballistischem Rechner bekannt, bei denen zur Bestimmung einer Korrektur bzw. des Korrekturfaktors KF Umwelteinflüsse wie die Temperatur, die Luftfeuchte, die Windstärke, der Luftdruck, aber auch insbesondere Daten der Laborierung bzw. der verwendeten Munition berücksichtig werden. Derartige Geräte ertauben die Berücksichtigung der Korrektur entweder durch numerische Angabe der äquivalenten horizontalen Entfernung E oder die Anzeige eines variablen Haltepunktes (das heißt variabler Zielmarken 13,14,15). Somit wird ein Korrekturfaktor KF verwendet, der von mehreren Parametern abhängig ist. KF = KF(D,a, Laborierung,...) Gl. 4

kinn4nnC6AA Λ 4 I ΛΛ4 4 4 Γ . Λ ^ kl - ΠΛ01 m1 25 15:03:44 06-04-2011 12/31 • I I • t » • * * I t t * * * · * · · · » -8-

Eine Möglichkeit zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Bestimmung einer, äquivalenten horizontalen Entfernung E zum Anvisieren eines Ziels 2 mit einer Zieleinrichtung 8 einer Schusswaffe 9 wird anhand von Fig. 4 erläutert. Dazu ist eine Vorrichtung 21 zur Bestimmung der äquivalenten horizontalen Entfernung E vorgesehen, die vorzugsweise mit einem zentralen Mikroprozessor 22 zur automatisierten Durchführung des Verfahrens ausgestattet ist. Diese Vorrichtung 21 umfasst weiters einen Entfernungsmesser 23 zum Messen der Zieldistanz D 6 und einen Neigungssensor 24 zum Messen des Höhenwinkels α 5, unter dem das Ziel 2 dem Schützen 1 erscheint Anhand der Werte zur Zieldistanz D 6 und dem Höhenwinkel α 5 kann der Mikroprozessor 22 ohne Berücksichtigung weiterer Daten eine entsprechende Korrektur berechnen. In einem Speicher 25 können aber auch zur Vereinfachung und/oder Beschleunigung bereits vorbestimmte Korrekturfaktoren KF bereitgehalten werden, sodass der Mikroprozessor 22 durch Verknüpfung der von dem Entfernungsmesser 23 und von dem Neigungssensor 24 erhaltenen Messsignale eine Berechnung der äquivalenten horizontalen Entfernung E durchführen kann. Das Ergebnis der Berechnung wird auf einer Anzeige 26 dargestellt. Der Schütze 1 kann sodann durch Auswahl jener Zielmarke, die der angezeigten äquivalenten horizontalen Entfernung E entspricht (gemäß diesem Ausführungsbeispiel, die Zielmarke 13) die Schusswaffe 9 bzw. die Zieleinrichtung 8 auf das Ziel 2 ausrichten oder eine Änderung des Aufsatzwinkels durch eine Verstellung am Höhenturm entsprechend der angezeigten äquivalenten horizontalen Entfernung E vornehmen und einen Schuss ausführen.

Die Vorrichtung 21 zur Bestimmung der äquivalenten horizontalen Entfernung E kann sowohi als ein von der Schusswaffe 9 bzw. der Zieleinrichtung unabhängiges Gerät ausgeführt sein, kann aber alternativ auch einen Bestandteil der Schusswaffe 9 oder der Zieleinrichtung 8 bilden. Im zuletzt genannten Fall ist die Anzeige 26 der Vorrichtung 21 vorzugsweise in den Strahlengang der Zieleinrichtung 8 integriert. Die Anzeige 26 ist dazu in einer der Kidebenen der Optik der Zieleinrichtung 8 eingeblendet, sodass der Wert der berechneten äquivalenten horizontalen Entfernung E dem Schützen 1 in dem gleichen durch die Zieleinrichtung 8 dargestellten Gesichtsfeld erscheint.

Gemäß einer alternativen Ausbildung einer Kombination der Vorrichtung 21 mit einer Zieleinrichtung 8 erfolgt anstatt einer numerischen Anzeige der äquivalenten horizontalen Entfernung E auf der Anzeige 26 durch den Mikroprozessor 22 die Berechnung eines variablen Haltepunktes und dessen automatisiertes Einblenden in den Strahlengang der Zieleinrichtung 6, das heißt der Anzeige einer entsprechend positionierten Zielmarke 13, N9nmr>Mtnn nfi/n/i/onn is-nr;

Nr RRR1 P .M2/Ü31 25 15:04:30 06-04-2011 13/31 -9-14,15. Es ist aber auch denkbar, mittels einer automatischen (motorisierten) mechanischen Verstellung des Höhenturms oder einer Verstellung der Visierlinie durch Verschieben eines optischen Elementes im Strahlengang der Zieleinrichtung die notwendige Korrektor zu berücksichtigen.

Von Vorteil ist weiters eine Ausführung der Zieleinrichtung 8, bei der der Entfernungsmesser 23 in den optischen Strahlengang der Zieleinrichtung 8 zumindest teilweise integriert ist. Dies kann beispielsweise dadurch realisiert sein, dass - z.B. bei Ausführung des Entfernungsmessers 23 durch einen Laserentfemungsmesser - der zu dem Ziel 2 ausgesendete Laserstrahl und/oder das von dem Ziel 2 reflektierte Laserlicht durch das Objektiv der Zieleinrichtung 8 hindurch verläuft.

Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Bestimmung der äquivalenten horizontalen Entfernung E erfolgt deren Berechnung auf der Basis einer Korrektur, welche auf einem Wertepaar eines Werts der Zieldistanz D 6 und eines Werts des Höhenwinkels α 5 basiert. Es hat sich nämlich überraschenderweise gezeigt, dass mit einer Korrektur, die alleine für unterschiedliche Werte von Zieldistanzen D 6 und unterschied liehe Werte von Höhenwinkeln α 5 bestimmt wird, die Vorteile der oben beschriebenen Methoden (nämlich einfach und genau) verknüpft werden können, ohne deren Nachteile (nämlich Notwendigkeit der Kenntnis über die ballistischen Laborierungsdaten und Einschränkung auf kurze Distanzen und kleine Höhenwinkel) In Kauf nehmen zu müssen. Eine ausreichend genaue Berechnung der äquivalenten horizontalen Entfernung E zum Anvisieren des Ziels 2 ist somit möglich. Das erfindungsgemäße Verfahren zur Bestimmung der äquivalenten horizontalen Entfernung E basiert daher auf Korrekturfaktoren KF für die gilt: KF = KF(D, α) Gl. 5

Gemäß einem ernten Ausführungsbeispiel wird folgende Korrekturfaktor-Tabelle verwendet.

Koireklurfaktor-Tabelle 1:

Ol a2 Oa D, KFn KF12 KF« d2 kf21 KF« KF« Da KFai _KF«_ _KEaa_ nc ic\a /im 1 ις · ηκ

Nr mal fm/rm 25 15:05:07 06-04-2011 14/31 * · · fr · * * * fr f · · · I « t ♦ * # * * • 1*4 * 4 * · * fr * fr fr · · · »fr» -10-

Die Zuordnung von Korrekturfaktoren KFS zu Wertpaaren (Dtl q) kann beispielsweise nach Durchführung entsprechender Probeschlüsse erfolgen.

Flg. 5 zeigt ein Flussdiagramm der Verfahrensschritte beim erfindungsgemäßen Verfahren zur Bestimmung der äquivalenten horizontalen Entfernung E zum Anvisieren des Ziels 2 mit der Zieleinrichtung 8 der Schusswaffe 9. In einem ersten Schritt 31 erfolgt die Messung der Zieldistanz D 6 mit Hilfe des Entfernungsmessers 23. In einem weiteren Verfahrensschritt 32 wird der Höhenwinkel α 5 mit Hilfe des Neigungssensors 24 bestimmt. Die Verfahrensschritte 31 und 32 können aber auch gleichzeitig erfolgen, im Falle, dass die Vorrichtung 21 (Fig. 4) mit der Zieleinrichtung 8 bzw. der Schusswaffe 9 baulich verbunden bzw. darin integriert ist, erfolgen diese Messungen dadurch, dass die Zieleinrichtung 8 mit dem Fadenkreuz 12 auf das Ziel 2 ausgerichtet wird und der Schütze 1 den Messvorgang gemäß den Verfahreneechritten 31 und 32 auslöst. Suinil kann durch den Mikroprozessor 22 aufgrund der erhaltenen Messwerte der Zieldistanz D 6 und des Höhenwin-kels α 5 selbsttätig die Bestimmung der Korrektur in einem anschließenden Verfahrensschritt 33 erfolgen. Dies erfolgt vorzugsweise dadurch, dass der Mikroprozessor 22 aus einer Korrekturfaktor-Tabelle den den Messwerten entsprechenden Korrekturfaktor KF bestimmt Zur Vereinfachung bzw. zum Kleinhalten der Korrekturfektor-Tabeile ist es denkbar, eine Interpolation auf Grundlage der Zuordnungen der Korrekturfaktoren KF(D|, dj) vorzunehmen und so den tatsächlichen bei der Messung erhaltenen Werten der Zieldistanz D 6 und des Höhenwinkels α 5 einen entsprechenden Wert des Korrekturfaktors KF(D, α) zuzuordnen. In einem anschließenden Verfahrensschritt 34 wird sodann von dem Mikroprozessor 22 die Berechnung der äquivalenten horizontalen Entfernung E durch Multiplikation der Zieldistanz D 6 mit dem vorhergehend bestimmten Wert des Korrekturfaktors KF(D, α) durchgeführt, sodass schließlich im anschließenden Verfahrensschritt 35 die Anzeige dieses Werts der äquivalenten horizontalen Entfernung E auf der Anzeige 26 der Vorrichtung 21 erfolgen kann. Dem Schützen 1 ist es sodann in einem weiteren Verfahrensschritt 36 möglich, das Ziel 2 unter Berücksichtigung dieses Werts der äquivalenten horizontalen Entfernung E anzuvisieren und einen Schuss auf das Ziel 2 aufzulösen.

Gemäß einer weiteren AusfGhrungsvariante des erfindungsgemäßen Verfahrens ist vorgesehen, zur Bestimmung der Konektuifaktor-Tabelie handelsübliche ballistische Programme zu verwenden. Mittels handelsüblicher Balistiksoftware ist es möglich, für auswählbare bzw. einstellbare Munitionen bzw. Laborierungen sowohl für den horizontalen als auch für den Winkelschuss Parameter der entsprechenden Trajektorien 7 und somit ummnum riR ir\A / im 1 1 r nfi IUr R3fl1 014/031 25 15:05:53 06-04-2011 15/31

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Bedlngungen für einen Fleckschuss, wie den Aufsatzwinkel oder die notwendige Verstellung des Höhenturms der Zieleinrichtung 8 zu berechnen. Ein Ergebnis einer solchen Berechnung ist auch die Bestimmung der äquivalenten horizontalen Entfernung E. Beispiele für solche handelsübliche ballistische Programme sind QuickTARGET von H. Brömel -DE, EXBAL von Perry Systems - USA oder Sierra Bullets lnfinity Extenor Ballistics Software von Sierra - USA.

Die Auswertung von ballistischen Berechnungen mit handelsüblichen ballistischen Programmen erlaubt auch die Ermittlung von Korrekturfaktoren für unterschiedliche Labore-rungen bzw. Munitionen (siehe Gleichung 4). Gemäß diesem Ausführungsbeispiel der Erfindung ist nun vorgesehen, dass zur Bestimmung der Werte der Korrekturfaktoren KF(D|, dj) der Korrekturfaktor-Tabelle mit einem Baliistikprogramm Werte des Korrekturfaktors KF aus Daten der Laborterung einer Munition berechnet werden und ein Mittelwert aus Werten von Korrekturfaktoren KF zu jeweils unterschiedlichen Laborierungen gebildet wird. Die Elemente KF, der Korrekturfaktor-Tabelle bilden somit eine zweidimensionale Matrix, wobei sich diese Korrekturfaktoren KF|j = KF(D), q) berechnen zu: lr <31.5 KFij = - y KF{Dj, Q), Laborierungj) n i=i ln dem nun beschriebenen Beispiel zur Bestimmung einer Korrekturfaktor-Tabeile wurde die Ballistiksoftware QuidtTARGET verwendet und wurden dieTrajektorien 7 für drei unterschiedliche Munitionen bzw. Laborieoingen jeweils unter Höhenwinkeln α 5 mit Werten von 15e und 35° und damit Korrekturfaktoren KF( zur Bestimmung der äquivalenten horizontalen Entfernung E berechnet. Die Berechnungen erfolgten jeweils unter Zugrundelegung der drei Munitionen bzw. Laborierungen wie in der nachfolgenden Tabelle angegeben. Dabei ist in der Spalte BC der ballistische Koeffizient und in der Spalte v0 die Mündungsgeschwindigkeit (Austrittsgeschwindigkert) des Geschoßes in m/s (Meter / Sekunde) angegeben.

Bezeichnung BC v0 [m/s] .308 WIN HMK 0,356 780 .300 WIN MAG 0,421 935 7x57 R TMR 0,255 780 NWMnnmnn nc/n/i/ 9m 1 1 ς · Π7 Nr R3fl1 .015/031 25 15:06:31 06-04-2011 16/31

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Nach Bestimmung der Werte der Korrekturfaktoren KF (Di, a(, Laborierung() wurden nach Anwendung der Gleichung 6, das heißt durch Mittelwertbildung, die Elemente KFy der Korrekturfaktor-Tabelle bestimmt, wie in der nachfolgenden Tabelle angegeben.

Korrekturfaktor-T abeile 2: 10* 30® D[m] 100 0,986 0,876 200 0,987 0,884 300 0,989 0,893 400 0,990 0,902 500 0,991 0,910 Für die Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es ausreichend, die so erhaltene Korrekturfaktor-Tabelle in dem Speicher 25 der Vorrichtung 21 (Fig. 4) abzuspei-chem bzw. für die Bestimmung der äquivalenten horizontalen Entfernung E bereit zu halten. Es hat sich nämlich überraschenderweise gezeigt, dass äquivalente horizontale Entfernungen E unter Verwendung einer Korrekturfaktor-Tabelle bestimmt werden können, bei der die Korrekturfaktoren KF nur von der Zieldistanz D 6 und dem Höhenwinkel α 5 abhängig sind. Dies ist der Fall, obwohl die absoluten Flugbahnen des Geschoßes, das heißt die Trajektorien 7 relativ stark von den Daten der Laborierung der verschiedenen Munitionen abhängig sind. Die in diesem Beispiet gewählten Laborierungen/Munitionen schließen einen relativ weiten Bereich von Laborierungen ein und liefern aus den ermittel· ten Korrekturfaktoren KF( einen Mittelwert über sehr unterschiedliche Typen von Munitionen. So weist die Laborierung .300 WIN MAG eine sehr flache Trajektorie 7 auf und ist somit für weite Schüsse geeignet, im Gegensatz dazu hat die 7x57 R TMR eine relativ stark gekrümmte Trajektorie 7 und ist somit nur für kurze Zieldistanzen D 6 geeignet. Die Laborierung .308 WIN HMK ist schließlich zwischen den beiden erstgenannten angesiedelt.

Bei den in diesem Ausführungsbeispiel verwendeten Munitionen bzw. Laborierungen handelt es sich ganz allgemein um solche mit einer sehr flachen Flugbahn bzw. Trajekto-rie 7' des Geschoßes, wie sie für direkte Schüsse bzw. direktes Feuer zum Einsatz kommen. Charakteristisch für diese Munitionen ist eine hohe Rasanzzahl. Das heißt bei der

kieniiAMvnnK nfi/nd/9M1 1 R Π7 Mr RRR1 p nifi/rm 25 15:07:09 06-04-2011 17/31 ··*« » * · · · • »· · · ·#· · * * « « • II 4 * · · « · »*»»»* * »ft» - 13-

Ausführung eines waagrechten Schusses ergeben sich hohe Werte des Quotienten aus der Zieldistanz D 6 und der Distanz zwischen dem Bahngipfel der Trajektorie 7' und der Sichtlinie 4‘ (Fig. 2). Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich in vorteilhafter Weise für Munitionen und Laborierungen für einen direkten Schuss mit einer Rasanzzahl mit einem Wert im Bereich größer als 100, vorzugsweise mit einem Wert im Bereich größer als 300.

Gemäß einerweiteren AusfOhrungsvariante des erfindungsgemäßen Verfahrens ist vorgesehen, im Unterschied zur Mittelwertbildung gemäß Gleichung 6 eine gewichtete Mit-teiwertbildung anzuwenden. Dazu werden bevorzugt Beiträge von Laborierungen mit einer flacheren Trajektorie 7 für größere Schussweiten, bzw. Beiträge von Laborierungen mit einer hohen Ransanzzahi höher gewichtet und Beiträge von Laborierungen mit einer stärker gekrümmten Trajektorie 7, bzw. mit einer kleineren Ransanzzahi geringer gewichtet.

Anhand der Darstellungen in den Fig. 6 und 7 wird die Ausführung eines Winkelschusses unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens näher beschrieben.

Die Darstellung der Fig. 6 zeigt das Anvisieren des Ziels 2 mit der Zieleinrichtung 8 bei -nach dem Einschießen der Waffe 9 unveränderter - Relativstellung der Sichtlinie 4 durch den visuellen Strahlengang der Zieleinrichtung 8 relativ zu der Laufachse 10 der Schusswaffe 9. Wie vorstehend bei der Beschreibung der Fig. 2 bereits ausgeführt worden ist, ergibt sich in dieser Situation eine Veränderung der Trajekotrie 7 des Geschoßes hin zu einer relativ zu der Sichtlinie 4 etwas flacher verlaufenden Flugbahn und würde das Ziel 2 oberhalb verfehlt werden. Verfahrensgemäß wird in dieser Situation kein Schuss auf das Ziel 2 abgefeuert, sondern wird stattdessen durch den Schützen 1 die Vorrichtung 21 (Fig. 4} aktiviert während er das Fadenkreuz 12 auf das Ziel 2 ausgerichtet hält. Damit wird die Messung der Zieldistanz D 6 durch den Entfernungsmesser 23 und die Messung des Höhenwinkels α 5 durch den Neigungssensor 24 auslöst. Auf der Basis der dabei erhaltenen Messwerte erfolgt sodann im Mikroprozessor 22 der Vorrichtung 21 die Ermittlung der äquivalenten horizontalen Entfernung E, die schließlich auf der Anzeige 26 zur Darstellung gebracht wird. Im Falle der Verwendung eines Visiers mit mehreren Zielmarken 13, 14,15 wie in Fig. 4 beschrieben, wird nun der Schütze 1 jene Zielmarke auswählen, die der angezeigten, äquivalenten horizontalen Entfernung E entspricht. Dies ist gleichbedeutend mit der Auswahl einer von der Sichtlinie 4 unterschiedlichen, neuen Visierlinte 41, die HBrnnnennn ne? / n/i / om 1 1 ζ fis Nr tmi P Π17/Μ1 25 15:07:52 06-04-2011 18/31 -14- mit der Laufachse 10 der Waffe Θ einen relativ zu dem Aufsatzwinkel 11 kleineren Winkel 42 einschließt.

Der Schütze 1 hat nun die Möglichkeit de Visierlinie 42 auf das Ziel 2 hin auszurichten. Dazu wird die Waffe 9 von dem Schützen 1 soweit verschwenkt, dass die Visieriinie 41 die neue Sichtlinie auf das Ziel 2 bildet, wodurch sich auch die Flugbahn des Geschoßes gemäß der Trajektorie 7 auf das Ziel 2 hin verändert. Die Laufachse 10 der Waffe 9 ist somit in Fig. 7 gegenüber der Stellung in Fig. 6 um einen Winkel entsprechend der Differenz zwischen dem Aufsatzwinkel 11 und dem neuen Aufsatzwinkel 42 verschwenkt angeordnet.

Gemäß einer alternativen Ausführungsvariante erfolgt das Korrigieren der Ausrichtung der Schusswaffe Θ auf das Ziel 2 hin durch eine Anpassung mit Hilfe einer Verstellung des Höhenturms 16 der Zieleinrichtung 8. Die Relativstellung zwischen der Sichtlinie 4 der Zieleinrichtung 8 und der Laufachse 10 der Waffe 9 wird dabei durch eine direkte Veränderung des Aufsatzwinkels 11 mit Hilfe des Höhenturms 16 erreicht Das heißt, dass für das Anvisieren des Ziels 2 in beiden Situationen das gleiche Fadenkreuz 12 (Fig. 4) mit dem Ziel 2 zur Deckung gebracht wird. Als Konsequenz daraus wird auch in dieser Variante des Verfahrens die Waffe 9 um einen Winkel entsprechend dem Wert der Differenz zwischen dem ursprünglichen Aufsatzwinkel 11 und dem neuen veränderten Aufsatzwinkel 42 durch den Schützen 1 verschwenkt, um beim AusfQhren eines Schusses das Ziel 2 sicher zu treffen. Die beschriebene Verstellung an dem Höhenturm 16 zur Veränderung der Relativstellung zwischen der durch den visuellen Strahlengang der Zieleinrichtung 8 hindurchverlaufenden Sichtlinie 4 und der Laufachse 10 der Waffe 9 kann durch den Schützen 1 händisch vorgenommen werden, wird aber vorteilhafterweise automatisch, zum Beispiel durch eine elektromotorische Verstellung, ausgeführt

Die erforderliche Korrektur beim Anvisieren eines Zieles 2 bei Ausführung eines Winkelschusses Ist somit durch ein Verfahren zum Ermitteln einer Ersatzdistanz zwischen einem Standort eines Schützen 1 und einem Auftreffpunkt eines Geschoßes in der Horizontalebene 3 durchführbar. Die Ersatzdistanz wird dabei anstelle der Zieldistanz D 6 beim Anvisieren durch den Schützen 1 berücksichtigt. Dies setzt zunächst ein Einschießen der Waffe 9 voraus, wobei die Relativstellung der Sichtlinie 4 durch den visuellen Strahlengang der Zieleinrichtung 8 bzw, des Zielfernrohrs relativ zu der Laufachse 10 der Waffe 9 so eingestellt wird, dass für ein vorbestimmbares Geschoß und eine vorbestimmbare Einschießdistanz für Horizontalschüsse eine gewünschte hohe Treffsicherheit erreicht wird. MWMKnnm p.018/031 15:08:36 06-04-2011 19/31 25 -15-

Bei der Durchführung eines Winkelschusses wird sodann die Zieldistanz D 6 zwischen dem Standort und dem Ziel 2. die auf der Sichtlinie 4 angeordnet sind, als auch der Höhenwinkel α 5, der von der Sichtlinie 4 mit der Horizontalebene 3 eingeschlossen wird, ermittelt Daraufhin wird, basierend ausschließlich auf nicht ballistischen Kennwerten, wie der ermittelten Zieldistanz D 6 und dem Höhenwinkel α 5, eine Korrekturfunktion bestimmt Durch Anwendung der Korrekturfunktion auf den gemessenen Wert der Zieldistanz D 6 wird sodann der Wert einer Ersatzdistanz in einer Horizontalebene 3 bestimmt Dieser Wert der Ersatzdistanz wird sodann dazu herangezogen, die Relativstellung zwischen der Sichtlinie 4 und der Laufachse 10 der Waffe 9 um die Differenz der vorher ermittelten Zieldistanz und auf die ermittelte Ersatzdistanz zu verändern. Die Korrekturfunktion wird vorzugsweise durch Korrekturfaktoren KF aus einer Korrekturfaktortabelle realisiert, in der jeweils einem Wertepaar eines Wert der Zieldistanz D 6 und eines Werts des Schusswinkels a 5 ein Wert des Korrekturfaktors KF zugeordnet ist.

Die Ausführungsbeispiele zeigen mögliche Ausführungsvarianten des Verfahrens bzw. der Vorrichtung zur Bestimmung einer äquivalenten horizontalen Entfernung, wobei an dieser Stelle bemerkt sei, dass die Erfindung nicht auf die speziell dargestellfen Ausführungsvaranten derselben eingeschränkt ist, sondern vielmehr auch diverse Kombinationen der einzelnen Ausführungsvarianten untereinander möglich sind und diese Variationsmöglichkeit aufgrund der Lehre zum technischen Handeln durch gegenständliche Erfindung im Können des auf diesem technischen Gebiet tätigen Fachmannes liegt. Es sind also auch sämtliche denkbaren Ausführungsvarianten, die durch Kombinationen einzelner Details der dargestellten und beschriebenen Ausführungsvariante möglich sind, vom Schutzumfang mit umfasst.

Der Ordnung halber sei abschließend darauf hingewesen, dass zum besseren Verständnis des Aufbaus der Vorrichtung zur Bestimmung einer äquivalenten horizontalen Entfernung diese bzw. deren Bestandteile teilweise unmaßstäblich und/oder vergrößert und/oder verkleinert dargestellt wurden.

Die den eigenständigen erfinderischen Lösungen zugrundeliegende Aufgabe kann der Beschreibung entnommen werden.

Vor allem können die einzelnen in den Fig. 1,2,3,4,5,6 und 7 gezeigten Ausführungen den Gegenstand von eigenständigen, erfindungsgemäßen Lösungen bilden. Die diesbezüglichen, erfindungsgemäßen Aufgaben und Lösungen sind den Detailbeschreibungen dieser Figuren zu entnehmen. na / n/i / om 1 m m

Nr R3R1 P.019/031 25 15:12:58 06-04-2011 26 /31 ♦ · # · * * · · * * * * · ··>«*·· * * · ♦ k » * * *·»··* φ * · |

Bezugszeichenaufstellung 1 Schütze 2 Ziel 3 Horizontalebene 4 Sichtlinie 5 Höhenwinkel α 6 Zieldistanz D 7 Trajektorie θ Zieleinrichtung 9 Schusswaffe 10 Laufachse 11 Aufsatzwinkel 12 Fadenkreuz 13 Zielmarke 14 Zielmarke 15 Zielmarke 16 Höhenturm 17 18 19 20 21 Vorrichtung 22 Mikroprozessor 23 Entfernungsmesser 24 Neigungssensor 25 Speicher 26 Anzeige 27 28 29 30 31 Verfahrensschritt 32 Verfahrensschritt 33 Verfahrensschritt 34 Verfahrensschritt 35 Verfahrensschritt 36 Verfahrensschritt ηκ ιπλ /om 1 m 1 Δ

Nr R3R1 Ν2010/25800 Ρ.026/031

Claims (32)

1. 25 15:09:19 06-04-2011 20/31 ·*·« * · * · · * ι « * · ··· * ί* » m • · * * « - · · **··· · · * « -1 - Patentansprüche 1. Verfahren zur Ermittlung einer anstelle der Zieldistanz D (6) zu berücksichtigenden Ersatzdistanz beim Anvisieren eines Ziels (2) mit einer Zieldistanz D (6) und einem Höhenwinkel α (5) zwischen einer Sichtlinie (4) zum Ziel (2) und einer Horizontal-ebene (3) mit einer unter einem vom Höhenwinkel α (5) abweichenden Einschießwinkel eingeschossenen Waffe (9) zum Abfeuern von Geschossen mit einer annähernd gestreckten Flugbahn, dadurch gekennzeichnet, dass die Ersatzdistanz mittels einer ausschließlich aus nicht ballistischen Kennwerten und zumindest von der Zieldistanz D (6) und der Winkeldifferenz zwischen dem Höhenwinkel α (5) und dem Einschießwinkel abhängigen Korrekturfunktion aus der Zieldistanz D (6) bestimmt wird.
2. 2. Verfahren zur Ermittlung einer anstelle der Zieldistanz D (6) zu berücksichtigenden Ersatzdistanz beim Anvisieren eines Ziels (2) mit einer Zieldistanz D (6) und einem Höhenwinkel o (5) zwischen einer Sichtlinie (4) zum Ziel (2) und einer Horizontalebene (3) mit einer in der Horizontalen eingeschossenen Waffe (9) zum Abfeuem von Geschossen mit einer annähernd gestreckten Flugbahn, dadurch gekennzeichnet, dass die Ersatzdistanz mitteis einer ausschließlich aus nicht ballistischen Kennwerten und zumindest von der Zieldistanz D (6) und dem Höhenwinkel α (5) abhängigen Korrekturfunktion aus der Zieldistanz D (6) bestimmt wird.
3. 3. Verfahren zur Ermittlung einer Ersatzdistanz zwischen einem Standort und einem Auftreffpunkt eines Geschoßes in einer mit dem Standort gemeinsamen Horizontalebene (3), bei dem eine Zieldistanz D (6) zwischen dem Standort und einem Ziel (2), die auf einer SichtJinie (4) angeordnet sind, ermittelt wird, und bei dem ein Höhenwinkel α (5), der von der Sichtlinie (4) mit der Horizontalebene (3) eingeschlossen wird, ermittelt wird, dadurch gekennzeichnet, dass eine Korrekturfunktion ausschließlich aus nicht ballistischen Kainwerten, wie zumindest der Zieldistanz D (6) und dem Höhenwinkef α (5), ermittelt und damit die Zieldistanz D (6) zur Festlegung der Ersatzdistanz in der Horizontalebene (3) verändert wird. N2010/25800 0fi/04/?011 15:10 Nr.: R381 P.020/031 25 15:09:58 06-04-2011 21 /31 « » · « • * · · « · « · • * I · • ··· · -# · * 2-
4. 4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn zeichnet, dass eine Rasanzzahl des Gsschoßes einen Wert größer als 100 aulweist.
5. 5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Geschoß eine annähernd gestreckte Flugbahn aufweist.
6. 6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass als Ersatzdistanz eine äquivalente horizontale Entfernung E durch Anwendung der Korrekturfunktion auf die Zieldistanz O (6) bestimmt wird, wobei jeweils einem Wertepaar (D|, q) eines Werts der Zieldistanz D (6) und eines Werts des Höhenwinkeis α (5) ein Wert für das Ausmaß der Korrektur zugeordnet ist.
7. 7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass als Korrekturfunktion ein Korrekturfaktor KF verwendet wird, wobei die äquivalente horizontale Entfernung E durch Multiplikation der Zieldistanz D (6) mit dem Korrekturfaktor KF berechnet wird.
8. 8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Korrekturfaktor KF aus einer Korrekturfaktor-Tabelle bestimmt wird, in der jeweils einem Wertepaar (D;, q) eines Werts der Zieldistanz D (6) und eines Werts des Höhenwinkels α (5) ein Wert für das Ausmaß der Korrektur zugeordnet ist.
9. 9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass ein Wert eines Korrekturfaktors KF(D, α) zu einem Wertepaar (D, α) eines Werts der Zieldistanz D (6) und eines Werts des Höhenwinkels α (5) durch Interpolation auf Grundlage der Korrekturfaktoren KF$ der Korrekturfaktor-Tabelle berechnet wird.
10. 10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zur Bestimmung der Werte des Korrekturfaktors KF; der Korrekturfaktor-Tabelle mit einem Ballistik-Programm Werte des Korrekturfaktors KF aus Daten der Labo-rierung einer Munition berechnet werden und ein Mittelwert aus Werten von Korrekturfaktoren KF zu jeweils unterschiedlichen Laborierungen gebildet wird. N2010/25800 nfi/nd/?nn 15·11 Nr. ; R381 P.021 /031 25 15:10:35 06-04-2011 22 /31 • · • ft · · · ft·» · * · « Ψ -3-
11. 11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest drei voneinander verschiedene Laborierungen zur Bestimmung der Korrekturfaktor-Tabelle verwendet werden.
12. 12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass eine gewichtete Mittelwertbildung angewendet wird.
13. 13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Gewichtung von der Zieldistanz D (6) abhängt.
14. 14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Gewichtung von der Rasanzzahl des Projektils abhängt.
15. 15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zur gewichteten Mittelwertbildung Beiträge von Laborierungen mit einer hohen Rasanzzahl höher gewichtet werden und Beiträge von Laborierungen mit einer relativ kleinen Rasanzzahl geringer gewichtet werden.
16. 16. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass bei dei Korrektur auch Umweitparameter, insbesondere Luftdruck, Luit-feuchte oder Temperatur, berücksichtigt werden.
17. 17. Vorrichtung (21) zur Ermittlung einer Ersatzdistanz zwischen einem Standort und einem Auftreffpunkt eines Geschoßes in einer mit dem Standort gemeinsamen Horizontalebene (3) zum Anvisieren eines Ziels (2) für einen Winkelschuß mit einem Höhenwinkel α (5) mit einer Anzeige (26) für einen Wert der Ersatzdistanz, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (21) einen Entfernungsmesser (23) zum Messen einer Zieldistanz D (6) und einen Neigungssensor (24) zum Messen des Höhenwinkels α (5) zwischen einer Sichtlinie (4) zu dem Ziel (2) und der Horizontalebene (3) umfasst, und dass diese einen Mikroprozessor (22) umfasst, der dazu ausgebildet ist, die Ersatzdistanz durch Anwendung einer Korrekturfunktion auf die Zieldistanz 0 (6) zu berechnen, wobei der Mikroprozessor (22) einen Wert für das Ausmaß der Korrekturfunktion aus einem Speicher (25) entnimmt, wobei Jeweils einem Wertepaar (D|, Qj) eines Werts der Zieldis· N201CV25B00 nfi/nd/?nn 1R:1? Nr.: R381 P.022/031 23 /31 25 ...............* 15:11:14 06-04-2011 • * » · i t * · « • * ft I ·*««·>»* · • ft « · 4 * . 4 < • »•ft·· « ft · · -4- tanz D, (6) und eines Werts des Höhenwinkels a5 (5) ein Wert für das Ausmaß der Korrekturfunktion zugeordnet ist.
18. 18. Vorrichtung (21) Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass der Mikroprozessor (22) dazu ausgebildet ist, die Ersatzdistanz durch Multiplikation der Zieldistanz D (6) mit einem Korrekturfaktor KF zu berechnen.
19. 19. Vorrichtung (21) nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, dass der Mikroprozessor (22) dazu ausgebildet ist, den Korrekturfaktor KF aus einer Korrekturfaktor-Tabelle zu bestimmen, In der jeweils einem Wertepaar (Di, Qj) eines Werts der Zieldistanz D (6) und eines Werts des Höhenwinkels α (5) ein Wert des Korrekturfaktors KF«) zugeordnet ist.
20. 20. Vorrichtung (21) nach einem der Ansprüche 17 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass der Mikroprozessor (22) dazu ausgebildet ist, dass ein Wert eines Korrekturfaktors KF(D, a) zu einem Werfepaar (D, a) eines Werts der Zieldistanz D (6) und eines Werts des Höhenwinkels α (5) durch Interpolation auf Grundlage der Korrekturfaktoren KFij der Korrekturfaktor-Tabelle berechnet wird.
21. 21. Vorrichtung (21) nach einem der Ansprüche 17 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass, in dem Speicher (25) eine Korrekturfaktor-Tabelle gespeichert ist, zu deren Bestimmung mit einem Ballistik-Programm Werte des Korrekturfaktors KF aus Daten der Laborierung einer Munition berechnet sind und ein Mittelwert aus Werten von Korrekturfaktoren KF zu jeweils unterschiedlichen Laborierungen gebildet ist.
22. 22. Vorrichtung (21) nach einem der Ansprüche 17 bis 21, dadurch gekennzeichnet, dass der Entfernungsmesser (23) einen Laser-Entfernungsmesser umfasst.
23. 23. Zieleinrichtung (8), insbesondere Zielfernrohr, mit einer Vorrichtung (21) zur Bestimmung einer anstelle der Zieldistanz D (6) zu berücksichtigenden Ersatzdistanz zum Anvisieren eines Ziels (2) mit der Zieleinrichtung (8) einer Schusswaffe (9) nach einem der Ansprüche 17 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass eine Anzeige (26) der Vorridv N2010/25800 ηκ/ηϋ/9ηΐΐ 1^-1? Nr : R.381 P.023/031 25 15:11:51 06-04-2011 24/31 ··»· » # » ·· I » · # * ** ··· · * ' * ' t t . » · · ··*·»· · » · · -5-tung (21) für einen Wert der Ersatzdistanz beim Anvisieren für einen Schützen (1) sichtbar ist.
24. 24. Zieleinrichtung (B) nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzeige (26) in den Sichtkanal, insbesondere in den optischen Strahlengang, der Zieleinrichtung (8) integriert ist
25. 25. Zieleinrichtung (8) nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, dass ein Entfernungsmesser (23) zum Messen einer Zieldistanz D (6) in den optischen Strah-Jengang der Zieleinrichtung (8) integriert ist.
26. 26. Zieleinrichtung (8) nach einem der Ansprüche 23 bis 25, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (21) zur Bestimmung der Ersatzdistanz in das Zielfernrohr (8) integriert ist.
27. 27. Verfahren zum Ermitteln einer Ersatzdistanz zwischen einem Standort und einem Auftreffpunkt eines Geschoßes in einer Horizontalebene (3) mit einer Waffe (9) und einem auf der Waffe (9) montierten Zielfernrohr (8), bei dem eine Relativsteilung einer Sichtlinie (4) durch den visuellen Strahlengang des Zielfernrohres (8) relativ zu einer Laufachse (10) der Waffe (9) bei einem vorbestimmbaren Geschoß auf eine vorbestimnv bare Einschießdistanz zwischen dem Standort und dem Auftreffpunkt des Geschoßes in der Horizontalebene (3) eingeschossen wird, worauf die ermittelte Relativstellung zwischen der Sichtlinie (4) und der Laufachse (10) erfasst wird, dadurch gekennzeichnet, dass eine Zieldistanz D (6) zwischen dem Standort und einem Ziel (2), die auf der Sichtii-nie (4) angeordnet sind, ermittelt wird und ein Höhenwinkel α (5), der von der Sichtlinie (4) mit der Horizontalebene (3) eingeschlossen wird, ermittelt wird, und dass eine Korrekturfunktion ausschließlich aus nicht ballistischen Kennwerten wie zumindest der Zieldistanz D (6) und dem Höhenwinkel α (5) ermittelt und damit die Zieldistanz D (6) zur Festlegung der Ersatzdistanz in der Horizontalebene (3) verändert wird, und dass die Reiativstellung zwischen der Sichtlinie (4) und der Laufachse (10) um die Differenz der vorermittelten Zieldistanz D (6) und auf die ermittelte Ersatzdistanz verstellt wird. N2010/25B00 nfi/nd/?nii 15·13 Nr : R381 P.024/031 25 15:12:28 06-04-2011 25/31 %*·· * B * · · t ·· * · · M >- 4 * * * * * * % * ·*··** * *·· -0-
28. 28. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, dass die Relativstellung zwischen der Sichtlinie (4) und der Laufachse (10) durch eine Verstellung am Höhen-turm des Zielfernrohrs (8) verändert wird.
29. 29. Verfahren nach Anspruch 27 oder 28, dadurch gekennzeichnet, dass die Verstellung am Höhentumn des Zielfernrohrs (8) elektromechanisch erfolgt.
30. 30. Verfahren nach einem der Ansprüche 27 bis 29, dadurch gekennzeichnet, dass die Verstellung am Höhenturm des Zielfernrohrs (8) automatisch erfolgt.
31. 31. Verfahren nach einem der Ansprüche 27 bis 30, dadurch gekennzeichnet, dass die Relativsteliung zwischen der Sichtlinie (4) und der Laufachse (10) durch Anvisieren mit einer von einem Fadenkreuz (12) unterschiedlichen Zielmarke (13,14, 15), die der ermittelten Ersatzdistanz entspricht, verändert wird.
32. 32. Verfahren nach einem der Ansprüche 27 bis 31, dadurch gekennzeichnet, dass die Relativstellung zwischen der Sichtlinie (4) und der Laufachse (10) durch eine entsprechend der ermittelten Ersatzdistanz optoelektronisch veränderten Zielmarke (13, 14,15) verändert wird. Swarovski-Optik KG. durch Anwälte BuWera Partner Rechtsanwalt GmbH N2010/2S800 nfi/ru/9mi ir-13 Nr R381 P.025/031