AT523814A1 - Sicherheitselement - Google Patents

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AT523814A1
AT523814A1 ATA50402/2020A AT504022020A AT523814A1 AT 523814 A1 AT523814 A1 AT 523814A1 AT 504022020 A AT504022020 A AT 504022020A AT 523814 A1 AT523814 A1 AT 523814A1
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Mayrhofer Marco
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Hueck Folien Gmbh
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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement (1) für ein Wertdokument, ein Sicherheitspapier und dergleichen mit zumindest einer Trägerfolie (2), wobei das Sicherheitselement zumindest ein Bild als Sicherheitsmerkmal aufweist, wobei das Bild bevorzugterweise zumindest ein Zeichen, insbesondere zumindest ein alphanumerisches Zeichen und/oder ein Ikon und/oder eine geometrische Figur und/oder ein Symbol und/oder ein Porträts und/oder eine Landschaft und/oder ein Gebäude und/oder ein Tier darstellt, wobei das Sicherheitselement geprägte Strukturen (3) aufweist, wobei die geprägten Strukturen (3) unterschiedlich zu einer Oberfläche der Trägerfolie (2) geneigte Abschnitte (4, 5, 6, 7, 8, 9) aufweisen und auf die Strukturen (3) zumindest eine das Bild erzeugende Beschichtung (10) mit Bereichen unterschiedlicher Opazität aufgebracht ist und eine Schichtdicke (d1, d2, d3, d4) der zumindest einen Beschichtung (10) von einer Neigung der Abschnitte (4, 5, 6, 7, 8, 9) der geprägten Strukturen (3) abhängt.

Description

und/oder ein Tier darstellt.
Üblicherweise erfolgt die Herstellung von Bildern auf Sicherheitselementen mittels Auf- und teilweisen Abtragen von Schichten. Hierbei kommen an sich bekannte Verfahren, beispielsweise Waschverfahren zum Einsatz. Alternativ können Bilder auch mittels herkömmlicher Druckverfahren, beispielsweise mittels Tiefdruckverfahren, auf das Sicherheitselement aufgetragen werden. Nachteilig an den bekannten Verfahren ist es jedoch, dass das Erzeugen von sehr kleinen hochaufgelösten Bildern nur sehr schwierig oder nicht möglich ist, worunter die Fälschungs-
sicherheit derartiger Bilder leidet.
Es ist daher eine Aufgabe der Erfindung die oben genannten Nachteile des Stands der Technik zu überwinden und ein Sicherheitselement mit erhöhter Fälschungssi-
cherheit zu schaffen.
Diese Aufgabe wird mit einem Sicherheitselement der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass das Sicherheitselement geprägte Strukturen aufweist, wobei die geprägten Strukturen unterschiedlich zu einer Oberfläche der
Trägerfolie geneigte Abschnitte aufweisen und auf die Strukturen zumindest eine
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Neigung der Abschnitte der geprägten Strukturen abhängt.
Die erfindungsgemäße Lösung ermöglicht die Erzeugung von sehr kleinen hochaufgelösten Bildern allein durch Anpassung der Schichtdicke, wobei sich beispielsweise bei einem Aufdampfen oder Aufsprühen die unterschiedlichen Schichtdicken aufgrund der unterschiedlichen Neigungen sehr einfach realisieren lassen und durch die Wahl des Neigungswinkels die Opazität des Bildes eingestellt werden kann. Durch die erfindungsgemäße Lösung lassen sich das Bild und die Beschichtung herstellen, ohne dass hierfür ein separater Druckvorgang erforderlich
ist.
Als besonders vorteilhaft hinsichtlich der Herstellung des Sicherheitselements hat sich eine Variante erweisen, bei welcher die Schichtdicke der Beschichtung mit
Abnahme eines Betrags der Neigung der Abschnitte steigt und umgekehrt.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass ein Farb- und/oder Helligkeitseindruck an einer Stelle der Beschichtung bei Tageslicht von der Schichtdicke der Beschichtung an dieser Stelle abhängig
ist.
Eine vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung besteht darin, dass die Beschichtung über eine Fläche des Bildes ununterbrochen ausgebildet und die geprägten Strukturen vollflächig von der zumindest einen Beschichtung bedeckt sind oder dass die
Beschichtung eine partielle Schicht ist.
Bei einer Variante der Erfindung, welche sich durch eine einfache Herstellbarkeit auszeichnet, kann es vorgesehen sein, dass die Strukturen in einer Prägelack-
schicht ausgebildet sind.
Als besonders vorteilhaft hat sich eine Ausführungsform herausgestellt, bei welcher die zumindest eine Beschichtung zumindest ein metallisches Material, insbe-
sondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob,
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herstellen.
Zur Herstellung färbiger hochauflösender Bilder hat es sich als besonders günstig erwiesen, dass die Beschichtung zumindest ein farbkippendes und/oder bei Tageslicht in Auf- und/oder Durchsicht einen Farbeindruck erzeugendes Dünnschich-
telement aufweist oder dadurch gebildet ist.
Gemäß einer Variante der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass das Dünnschichtelement zumindest eine Absorberschicht und zumindest eine Distanz-
schicht aus zumindest einem dielektrischen Material aufweist.
Als besonders vorteilhaft hat sich herausgestellt, dass die zumindest eine Absorberschicht einen Transmissionskoeffizienten aufweist, der zwischen 0,1 und 0,99, insbesondere zwischen 0,5 und 0,99, besonders bevorzugt zwischen 0,7 und 0,99, liegt.
Bei einer Variante der Erfindung kann es vorgesehen sein, dass die zumindest eine Distanzschicht eine Schichtdicke von weniger als 450 nm, insbesondere von
weniger als 350 nm, besonders bevorzugt von weniger als 300 nm aufweist.
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umfassen und/oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.
Entsprechend einer vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung kann die zumindest eine Distanzschicht zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer oder gleich 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2Os), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta20s), Ceroxid (CeO2), Yitriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2Os), Eisenoxide wie zum Beispiel (IEisen(Ill)oxid (FesO4) and Eisenoxid (Fe2Os), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La203s), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd203), Praseodymoxid (PreQ11), Samariumoxid (Sm2Os), Antimontrioxid (Sb2Os), Siliziumcarbid (SIC), Siliziumnitrid (SisNa), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2Os), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WOs), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere oder zumindest ein niederbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex kleiner als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (SiO2), Aluminiumoxid (Al2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AlF3), Cerfluorid (CeF3), Natrium-Aluminium-Fluoride (z.B. NasAlFe oder NasAlsF14), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaFs), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbrechende organische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt
sein.
Weiters kann das Dünnschichtelement zumindest eine Reflektorschicht aufweisen, wobei die zumindest einen Distanzschicht zwischen der zumindest einen Absor-
berschicht und der zumindest einen Reflektorschicht angeordnet ist.
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fassen oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt sein.
Eine vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung sieht vor, dass die Trägerfolie aus Kunststoff, insbesondere aus einem lichtdurchlässigen Kunststoff, gefertigt ist, wOobei die Trägerschicht bevorzugt zumindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (Pl), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT) , Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen ( PTFE), Polyvinylfluorid ( PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF ) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Fluorterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien herge-
stellt ist.
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stellt. Es zeigt in stark vereinfachter, schematischer Darstellung: Fig. 1 einen Querschnitt durch ein erfindungsgemäßes Sicherheitselement.
Einführend sei festgehalten, dass in den unterschiedlich beschriebenen Ausführungsformen gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen versehen werden, wobei die in der gesamten Beschreibung enthaltenen Offenbarungen sinngemäß auf gleiche Teile mit gleichen Bezugszeichen bzw. gleichen Bauteilbezeichnungen übertragen werden können. Auch sind die in der Beschreibung gewählten Lageangaben, wie z.B. oben, unten, seitlich usw. auf die unmittelbar beschriebene sowie dargestellte Figur bezogen und sind diese Lage-
angaben bei einer Lageänderung sinngemäß auf die neue Lage zu übertragen.
Gemäß Fig. 1 weist ein erfindungsgemäßes Sicherheitselement 1 ein Bild als Sicherheitsmerkmal sowie eine Trägerfolie 2 auf. Die Trägerfolie 2 kann aus einem Kunststoff, insbesondere einem lichtdurchlässigen Kunststoff, hergestellt sein. Als Materialien können beispielsweise, (transparente) Trägerfolien vorzugsweise flexible Kunststofffolien, beispielsweise aus Polyimid (Pl), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT) , Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylchlorid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen (PTFE), Polyvinylfluorid (PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Fluorterpolymer (EFEP), Mischungen oder Co-Polymere dieser Materialien zum Einsatz kommen. Die Trägerfolie 2 weist bevorzugt eine Dicke von ungefähr 5 um bis ungefähr 1000 um, besonders bevorzugt eine Dicke von 10 um - 50 um, auf.
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geneigte Abschnitte 4, 5, 6, 7, 8, 9 aufweisen.
Als besonders vorteilhaft hat sich eine Ausführungsform der Erfindung erwiesen, bei welcher auf die Trägerfolie 2 mit oder ohne Anordnung einer oder mehrerer Zwischenschichten zumindest eine Prägelackschicht aufgetragen wird, in welcher
die Strukturen 3 erzeugt werden.
Zur Erzeugung der Strukturen 3 kann es vorgesehen sein, Negativmuster der Strukturen 3 in die Oberfläche eines Prägewerkzeuges, insbesondere eines Pressbleches oder eine Prägewalze, einzubringen, insbesondere einzugravieren und die Strukturen 3 durch Pressen des Prägewerkzeuges gegen eine Oberfläche der Trägerfolie 2 oder gegen die Oberfläche zumindest einer auf der Trägerfolie 2 angeordneten Schicht, beispielsweise der Prägelackschicht, auf das Sicherheit-
selement 1 zu übertragen.
Auf die Strukturen 3 ist eine das Bild erzeugende Beschichtung 10 mit Bereichen unterschiedlicher Opazität aufgebracht, wobei die Opazität der Beschichtung 10 von deren Schichtdicke d1, d2, d3, d4 bestimmt ist. Die Schichtdicke d1, d2, d3, d4 der Beschichtung 10 hängt von einer Neigung der Abschnitte 4, 5, 6, 7, 8, 9 der geprägten Strukturen 3 ab.
Wie aus Fig. 1 weiters hervorgeht, steigt die Schichtdicke d1, d2, d3, d4 der Beschichtung 10 mit Abnahme eines Betrags der Neigung der Abschnitte und umgekehrt. Die jeweiligen Neigungen ki der Abschnitte 4, 5, 6, 7, 8, 9 hängen über die Beziehung ki = tan (ai) mit den Winkeln a1, 02, as, a4, Unter welchen die Abschnitte 4, 5, 6, 7, 8, 9 gegen eine Oberfläche der Trägerfolie 2 geneigt sind zusammen.
Je nach Schichtdicke d1, d2, d3, d4 der Beschichtung 10 entstehen unterschiedliche Farb- und/oder Helligkeitseindrücke. Ein Farb- und/oder Helligkeitseindruck an einer Stelle der Beschichtung 10 bei Tageslicht hängt somit von der Schichtdicke d1, d2, d3, d4 der Beschichtung 10 an dieser Stelle ab.
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und/oder Farbwert eines zugehörigen Bildabschnittes erzeugt werden.
Das Bild kann dann durch Beschichten der Strukturen mit der Beschichtung 10 versehen werden, beispielsweise durch Aufdampfen oder Aufsprühen der Beschichtung 10. Das Beschichten der Strukturen 3 erfolgt in Abhängigkeit von einer Neigung der Abschnitte 4, 5, 6, 7, 8, 9, sodass die Schichtdicke d1, d2, d3, d4 der
Beschichtung 10 gemäß einer Neigung der Abschnitte variiert.
Die Beschichtung 10 kann über eine gesamte Fläche des Bildes ununterbrochen ausgebildet. Hierbei sind die geprägten Strukturen 3 vollflächig von der Beschichtung 10 bedeckt. Weiters kann die Beschichtung 10 aber auch eine partielle Beschichtung sein. An dieser Stelle sei auch angemerkt, dass zwischen der Oberfläche der Strukturen 3 und der Beschichtung 10 eine oder mehrere Zwischenschichten, beispielsweise eine Haftvermittlerschicht, angeordnet sein können. Die Beschichtung 10 kann aber auch direkt auf die geprägten Strukturen 3 aufgebracht
sein.
Die Beschichtung 10 kann ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen umfassen oder daraus hergestellt sein und/oder zumindest ein Material ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (Zn$S), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2Os), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta20s), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2Os), Europiumoxid (Eu2Os), Eisenoxide wie zum Beispiel (INEisen(Il)oxid (FesO4) and Eisenoxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2Os), Praseodymoxid (PresO11), Samariumoxid (Sm203), Antimontrioxid (Sb2Os), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (SizNa), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2Os), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3s) umfassen oder aus
einem oder mehreren dieser Materialien hergestellt sein.
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mindest einem dielektrischen Material aufweisen.
Die Absorberschicht ist bevorzugt aus einem Metall hergestellt, beispielsweise aus Nickel, Titan, Vanadium, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob,
Chrom, Aluminium, Kupfer oder Silber oder aus Legierungen dieser Materialien.
Die Absorberschicht kann beispielsweise einen Transmissionskoeffizienten aufweisen, der zwischen 0,1 und 0,99, insbesondere zwischen 0,5 und 0,99, beson-
ders bevorzugt zwischen 0,7 und 0,99, liegt.
Die Distanzschicht von einschlägigen Dünnschichtelementen ist üblicherweise aus einem dielektrischen Material gefertigt. Gemäß einer Variante der Erfindung kann die Distanzschicht aus einem Material mit einem niedrigen Brechungsindex, beispielsweise einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65 hergestellt sein. Geeignete Materialien mit einem niedrigen Brechungsindex sind beispielsweise Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (SIiO2), Aluminiumoxid (Al2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AlF3), Cerfluorid (CeF3), Natrium-Aluminium-Fluoride (z.B. NasAlFe oder NasAlzsF14), Neodymfluorid (NdFs), Lanthanfluorid (LaF3), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluo-
rid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), oder Kombinationen dieser Materialien.
Gemäß einer Variante der Erfindung kann die Distanzschicht auch aus einem Material mit einem hohen Brechungsindex, beispielsweise einem Brechungsindex größer 1,65 hergestellt sein. Geeignete Materialien mit einem hohen Brechungsindex sind beispielsweise Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta20s), Ceroxid (CeO»2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2Os), Eisenoxide wie zum Beispiel (I)Eisen(Ill)oxid (FezO4) and Eisenoxid (Fe203), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (PreQ 11), Samariumoxid (Sm2O3),
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Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (SisNa), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2Os), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WOs), oder Kombina-
tionen dieser Materialien.
Die Distanzschicht kann beispielsweise eine Schichtdicke von weniger als 450 nm, insbesondere von weniger als 350 nm, besonders bevorzugt von weniger als 300
nm aufweisen.
Weiters kann das Dünnschichtelement eine Reflektorschicht aufweisen, wobei die zumindest einen Distanzschicht zwischen der zumindest einen Absorberschicht
und der zumindest einen Reflektorschicht angeordnet ist.
Die Reflektorschicht kann beispielsweise aus Metallen, wie zum Beispiel Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Chrom, Vanadium, Kobalt und Palladium oder Kobalt-Nickel-Legierungen hergestellt
sein. Alternativ zur Herstellung aus Metallen kann die Reflexionsschicht aber auch aus einer hochbrechenden dielektrischen Schicht mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2Os), IndiumZinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta20s), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2Os), Europiumoxid (Eu2Os), Eisenoxide wie zum Beispiel (IHEisen(Ill)oxid (FesO4) and Eisenoxid (Fe2Os), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La203s), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (PrsQ11), Samariumoxid (Sm20Os), Antimontrioxid (Sb2Os), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (SizNa), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfassen oder aus zumindest einem dieser
Materialien hergestellt sein.
Eine optische Dichte (OD) der Reflektorschicht ist bei Verwendung von Metallen größer als 0,5, bevorzugt größer als 1, besonders bevorzugt größer als 1,5. Beispielsweise kann die optische Dichte der Reflektorschicht zwischen 1 und 3 bevorzugt zwischen 1,5 und 2,5 liegen. Bei Verwendung von hochbrechenden dielektri-
schen Materialien kann die Reflektorschicht quasi transparent sein. So könnte sich
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ein Schichtaufbau ergeben, bei dem die Distanzschicht aus einem dielektrischen Material mit einem niedrigen Brechungsindex und die Reflexionsschicht aus einem
dielektrischen Material mit einem hohen Brechungsindex hergestellt ist.
Als eine äußerste Schicht 11 des Sicherheitselements 1 kann eine Schutzschicht beispielsweise aus einem Klarlack, insbesondere aus einem UV-härtenden Klarlack oder einem Siegellack, beispielsweise einem Heißsiegellack, oder andere Lacksysteme, beispielsweise 2- oder Mehrkomponentensysteme, aufgebracht
werden. Bevorzugt wird die Beschichtung 10 mit einem Klarlack versehen.
Je nach Ausführungsform bzw. geplanter Anwendung des Sicherheitselements 1 kann dieses von unterschiedlichen Seiten bzw. von beiden Seiten betrachtet werden. So kann das Sicherheitselement 1 auf ein Wertdokument so aufgebracht werden, dass die Trägerfolie 2 zwischen Wertdokument und den Strukturen 3 zu liegen kommt, sodass die Strukturen 3 dem Betrachter zugewandt sind. Alternativ ist es jedoch auch möglich, das Sicherheitselement 1 so auf dem Wertdokument anzuordnen, dass die Trägerfolie 2 dem Betrachter zugewandt ist und die Strukturen 3 zwischen Trägerfolie 2 und Wertdokument angeordnet sind. Zudem sei darauf hingewiesen, dass, wenn das Sicherheitselement 1 in einem Fensterbereich des Wertdokuments angeordnet ist, das Sicherheitselement 1 von beiden Seiten aus betrachtet werden kann. Der erfindungsgemäße Effekt kann von der jeweiligen
Betrachtungsseite aus wahrgenommen werden.
Der Ordnung halber sei abschließend darauf hingewiesen, dass zum besseren Verständnis des Aufbaus Elemente teilweise unmaßstäblich und/oder vergrößert und/oder verkleinert dargestellt wurden. Ferner sei darauf hingewiesen, dass das Sicherheitselement auch weitere Schichten, Farblacke, Schutzlacke, Kleber, Primer und/oder Folien Magnetische Codierungen, leitfähige Schichten, elektromagnetische Wellen absorbierende und/oder reemittierende Stoffe etc. umfassen
kann.
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Sicherheitselement Trägerfolie Strukturen Abschnitt Abschnitt Abschnitt Abschnitt Abschnitt Abschnitt Beschichtung Schicht
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Bezugszeichenliste
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Claims (15)

Patentansprüche
1. Sicherheitselement (1) für ein Wertdokument, ein Sicherheitspapier und dergleichen mit zumindest einer Trägerfolie (2), wobei das Sicherheitselement zumindest ein Bild als Sicherheitsmerkmal aufweist, wobei das Bild bevorzugterweise zumindest ein Zeichen, insbesondere zumindest ein alphanumerisches Zeichen und/oder ein Ikon und/oder eine geometrische Figur und/oder ein Symbol und/oder ein Porträts und/oder eine Landschaft und/oder ein Gebäude und/oder ein Tier darstellt, dadurch gekennzeichnet, dass das Sicherheitselement geprägte Strukturen (3) aufweist, wobei die geprägten Strukturen (3) unterschiedlich zu einer Oberfläche der Trägerfolie (2) geneigte Abschnitte (4, 5, 6, 7, 8, 9) aufweisen und auf die Strukturen (3) zumindest eine das Bild erzeugende Beschichtung (10) mit Bereichen unterschiedlicher Opazität aufgebracht ist und eine Schichtdicke (d1, d2, d3, d4) der zumindest einen Beschichtung (10) von einer Neigung der Abschnitte (4, 5, 6, 7, 8, 9) der geprägten Strukturen (3) abhängt.
2. Sicherheitselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichtdicke (d1, d2, d3, d4) der Beschichtung (10) mit Abnahme eines Betrags der Neigung der Abschnitte steigt und umgekehrt.
3. Sicherheitselement nach einem Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Farb- und/oder Helligkeitseindruck an einer Stelle der Beschichtung (10) bei Tageslicht von der Schichtdicke (d1, d2, d3, d4) der Beschichtung (10) an dieser Stelle abhängig ist.
4. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (10) über eine Fläche des Bildes ununterbrochen ausgebildet und die geprägten Strukturen (3) vollflächig von der zumindest einen Beschichtung (10) bedeckt sind oder dass die Beschichtung (10) eine partielle Schicht ist.
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5. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge-
kennzeichnet, dass die Strukturen (2) in einer Prägelackschicht ausgebildet sind.
6. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Beschichtung (10) zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen umfasst oder daraus hergestellt ist und/oder zumindest ein Material ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2O3), Indium-ZinnOxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta20s), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2O3), Europiumoxid (Eu2Os), Eisenoxide wie zum Beispiel (I)Eisen(Ill)oxid (FezO4) and Eisenoxid (Fe2O3), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La203), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2Os), Praseodymoxid (PreQ11), Samariumoxid (Sm20O3), Antimontrioxid (Sb2O3), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (Si3Na), Siliziuummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WOs) umfasst oder aus zumindest einem dieser Materialien herge-
stellt ist.
7. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung (9) zumindest ein farbkippendes und/oder bei Tageslicht in Auf- und/oder Durchsicht einen Farbeindruck erzeugendes Dünn-
schichtelement aufweist oder dadurch gebildet ist.
8. Sicherheitselement nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Dünnschichtelement zumindest eine Absorberschicht und zumindest eine Dis-
tanzschicht aus zumindest einem dielektrischen Material aufweist.
9. Sicherheitselement nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass
die zumindest eine Absorberschicht einen Transmissionskoeffizienten aufweist,
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der zwischen 0,1 und 0,99, insbesondere zwischen 0,5 und 0,99, besonders be-
vorzugt zwischen 0,7 und 0,99, liegt.
10. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Distanzschicht eine Schichtdicke von weniger als 450 nm, insbesondere von weniger als 350 nm, besonders bevorzugt von
weniger als 300 nm aufweist.
11. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Absorberschicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt, Palladium, Eisen, Wolfram, Molybdän, Niob, Aluminium, Silber, Kupfer und/oder Legierungen dieser Materialien umfasst oder aus zumindest
einem dieser Materialien hergestellt ist.
12. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 7 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Distanzschicht zumindest ein niederbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex kleiner oder gleich 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Siliziumoxid (SIOx), Siliziumdioxid (SiO2), Aluminiumoxid (Al2O3), Metallfluoride, beispielsweise Magnesiumfluorid (MgF2), Aluminiumfluorid (AlF3), Cerfluorid (CeF3), Natrium-Aluminium-Fluoride (z.B. NasAlFe oder NasAlsF14), Neodymfluorid (NdF3), Lanthanfluorid (LaFs), Samariumfluorid (SmF3) Bariumfluorid (BaF2), Calciumfluorid (CaF2), Lithiumfluorid (LiF), niederbrechende organische Monomere und/oder niederbrechende organische Polymere oder zumindest ein hochbrechendes dielektrisches Material mit einem Brechungsindex größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2Os), Indium-Zinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta20s), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2Os), Europiumoxid (Eu2Os), Eisenoxide wie zum Beispiel (Il)Eisen(Ill)oxid (FesO4) und Eisenoxid (Fe2Os), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La203s), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2Os), Praseodymoxid (PreQ11), Samariumoxid (Sm20O3), Antimontrioxid
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(Sb2Os), Siliziumcarbid (SIC), Siliziumnitrid (SisNa), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se2Os), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WOs), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zu-
mindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
13. Sicherheitselement nach Anspruch 7 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Dünnschichtelement zumindest eine Reflektorschicht aufweist, wobei die zumindest einen Distanzschicht zwischen der zumindest einen Absorberschicht
und der zumindest einen Reflektorschicht angeordnet ist.
14. Sicherheitselement nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Reflektorschicht zumindest ein metallisches Material, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Aluminium, Silber, Kupfer, Gold, Platin, Niob, Zinn, oder aus Nickel, Titan, Vanadium, Chrom, Kobalt und Palladium oder Legierungen dieser Materialien, insbesondere Kobalt-Nickel-Legierungen oder aus zumindest einem hochbrechenden dielektrischen Material mit einem Brechungsindex von größer als 1,65, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe Zinksulfid (ZnS), Zinkoxid (ZnO), Titandioxid (TiO2), Kohlenstoff (C), Indiumoxid (In2Os), IndiumZinn-Oxid (ITO), Tantalpentoxid (Ta20s), Ceroxid (CeO2), Yttriumoxid (Y2Os), Europiumoxid (Eu2Os), Eisenoxide wie zum Beispiel (IHEisen(Ill)oxid (FesO4) and Eisenoxid (Fe2Os), Hafniumnitrid (HfN), Hafniumcarbid (HfC), Hafniumoxid (HfO2), Lanthanoxid (La203s), Magnesiumoxid (MgO), Neodymoxid (Nd2O3), Praseodymoxid (PrsQ11), Samariumoxid (Sm20Os), Antimontrioxid (Sb2Os), Siliziumcarbid (SiC), Siliziumnitrid (SizNa), Siliziummonoxid (SiO), Selentrioxid (Se203), Zinnoxid (SnO2), Wolframtrioxid (WO3), hochbrechende organische Monomere und/oder hochbrechende organische Polymere umfasst oder aus zumindest einem dieser
Materialien hergestellt ist.
15. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 1 bis 14 dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine Trägerfolie (2) aus Kunststoff, insbeson-
dere aus einem lichtdurchlässigen Kunststoff, gefertigt ist, wobei die Trägerfolie
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bevorzugt zumindest eines der Materialien aus der Gruppe Polyimid (P1), Polypropylen (PP), monoaxial orientiertem Polypropylen (MOPP), biaxial orientierten Polypropylen (BOPP), Polyethylen (PE), Polyphenylensulfid (PPS), Polyetheretherketon, (PEEK) Polyetherketon (PEK), Polyethylenimid (PEI), Polysulfon (PSU), Polyaryletherketon (PAEK), Polyethylennaphthalat (PEN), flüssigkristalline Polymere (LCP), Polyester, Polybutylenterephthalat (PBT) , Polyethylenterephthalat (PET), Polyamid (PA), Polycarbonat (PC), Cycloolefincopolymere (COC), Polyoximethylen (POM), Acrylnitril-butadien-styrol (ABS), Polyvinylcholrid (PVC) Ethylentetrafluorethylen (ETFE), Polytetrafluorethylen ( PTFE), Polyvinylfluorid ( PVF), Polyvinylidenfluorid (PVDF ) und Ethylen-Tetrafluorethylen-Hexafluorpropylen-Fluorterpolymer (EFEP) und/oder Mischungen und/oder Co-Polymere dieser Materialien um-
fasst oder aus zumindest einem dieser Materialien hergestellt ist.
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