AT523882A3 - Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben einer Flüssigmetall-Ionenquelle oder Flüssigmetall-Elektronenquelle sowie Flüssigmetall-Ionenquelle oder Flüssigmetall-Elektronenquelle - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Flüssigmetall-Ionenstrahlsystem (1) oder Flüssigmetall- Elektronenstrahlsystem, umfassend: - eine leitfähige Emitter-Elektrode (2), - eine der Emitter-Elektrode (2) gegenüberliegende leitfähige Extraktor- Elektrode (3), - ein Flüssigmetall-Reservoir (4), das fluidisch mit der Emitter-Elektrode (2) verbunden ist, um Flüssigmetall zur Emitter-Elektrode (2) zu transportieren, - eine Steuereinheit (5), die ausgebildet ist, um zwischen Emitter-Elektrode (2) und Extraktor-Elektrode (3) eine periodisch variierende Betriebsspannung anzulegen.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102020114999.9A DE102020114999A1 (de) | 2020-06-05 | 2020-06-05 | Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben einer Flüssigmetall-Ionenquelle oder Flüssigmetall-Elektronenquelle sowie Flüssigmetall-Ionenquelle oder Flüssigmetall-Elektronenquelle |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| AT523882A2 AT523882A2 (de) | 2021-12-15 |
| AT523882A3 true AT523882A3 (de) | 2025-03-15 |
| AT523882B1 AT523882B1 (de) | 2025-07-15 |
Family
ID=78604871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ATA50442/2021A AT523882B1 (de) | 2020-06-05 | 2021-06-01 | Verfahren und Vorrichtung zum Betreiben einer Flüssigmetall-Ionenquelle oder Flüssigmetall-Elektronenquelle sowie Flüssigmetall-Ionenquelle oder Flüssigmetall-Elektronenquelle |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11705299B2 (de) |
| AT (1) | AT523882B1 (de) |
| DE (1) | DE102020114999A1 (de) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR3156583A1 (fr) * | 2023-12-06 | 2025-06-13 | Centre National De La Recherche Scientifique | Dispositif et procédé de génération d’un faisceau de particules chargées |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61248344A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-05 | Hitachi Ltd | 溶融イオン化物質のクリ−ニング方法 |
| EP0202685A2 (de) * | 1985-05-24 | 1986-11-26 | Hitachi, Ltd. | Flüssigmetall-Ionenquelle |
| JPH0487147A (ja) * | 1990-07-26 | 1992-03-19 | Jeol Ltd | 電界放出電子銃 |
| US20090121160A1 (en) * | 2007-11-13 | 2009-05-14 | Ict Integrated Circuit Testing Gesellschaft Fur Halbleiterpruftechnik Mbh | Charged particle source with automated tip formation |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6919672B2 (en) | 2002-04-10 | 2005-07-19 | Applied Process Technologies, Inc. | Closed drift ion source |
| US8453426B2 (en) | 2009-04-06 | 2013-06-04 | Raytheon Company | Current controlled field emission thruster |
-
2020
- 2020-06-05 DE DE102020114999.9A patent/DE102020114999A1/de active Granted
-
2021
- 2021-06-01 AT ATA50442/2021A patent/AT523882B1/de active
- 2021-06-04 US US17/339,937 patent/US11705299B2/en active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61248344A (ja) * | 1985-04-26 | 1986-11-05 | Hitachi Ltd | 溶融イオン化物質のクリ−ニング方法 |
| EP0202685A2 (de) * | 1985-05-24 | 1986-11-26 | Hitachi, Ltd. | Flüssigmetall-Ionenquelle |
| JPH0487147A (ja) * | 1990-07-26 | 1992-03-19 | Jeol Ltd | 電界放出電子銃 |
| US20090121160A1 (en) * | 2007-11-13 | 2009-05-14 | Ict Integrated Circuit Testing Gesellschaft Fur Halbleiterpruftechnik Mbh | Charged particle source with automated tip formation |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AT523882B1 (de) | 2025-07-15 |
| US11705299B2 (en) | 2023-07-18 |
| DE102020114999A1 (de) | 2021-12-09 |
| US20210383994A1 (en) | 2021-12-09 |
| AT523882A2 (de) | 2021-12-15 |
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