ATA322587A - Vorrichtung zum reinigen von flachen, praktisch ebenen kleinteilen, insbesondere von flachen halbleitersubstraten - Google Patents
Vorrichtung zum reinigen von flachen, praktisch ebenen kleinteilen, insbesondere von flachen halbleitersubstratenInfo
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
- H10P72/0406—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT0322587A AT389019B (de) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | Vorrichtung zum reinigen von flachen, praktisch ebenen kleinteilen, insbesondere von flachen halbleitersubstraten |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT0322587A AT389019B (de) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | Vorrichtung zum reinigen von flachen, praktisch ebenen kleinteilen, insbesondere von flachen halbleitersubstraten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ATA322587A true ATA322587A (de) | 1989-02-15 |
| AT389019B AT389019B (de) | 1989-10-10 |
Family
ID=3547312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT0322587A AT389019B (de) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | Vorrichtung zum reinigen von flachen, praktisch ebenen kleinteilen, insbesondere von flachen halbleitersubstraten |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| AT (1) | AT389019B (de) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4027686A (en) * | 1973-01-02 | 1977-06-07 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for cleaning the surface of a semiconductor slice with a liquid spray of de-ionized water |
| DE2724579C3 (de) * | 1977-05-31 | 1981-01-29 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zum Reinigen der Oberflache einer Mehrzahl von Substraten für Halbleiterbauelemente und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
| DE2938863A1 (de) * | 1979-09-26 | 1981-04-09 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Einrichtung zum kontaktlosen entfernen von staub |
| DE3419028A1 (de) * | 1984-04-05 | 1985-11-21 | Kessler & Luch Gmbh, 6300 Giessen | Verfahren zum reinigen von koerpern mit luftstrahlen und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
-
1987
- 1987-12-09 AT AT0322587A patent/AT389019B/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AT389019B (de) | 1989-10-10 |
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