ATE505569T1 - Verfahren zur herstellung einer struktur mit wenigstens einer lagegenauen zone von einem oder mehreren halbleiter-nanokristallen - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer struktur mit wenigstens einer lagegenauen zone von einem oder mehreren halbleiter-nanokristallen

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ATE505569T1
ATE505569T1 AT05106613T AT05106613T ATE505569T1 AT E505569 T1 ATE505569 T1 AT E505569T1 AT 05106613 T AT05106613 T AT 05106613T AT 05106613 T AT05106613 T AT 05106613T AT E505569 T1 ATE505569 T1 AT E505569T1
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zone
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semiconductor nanocrystals
film
positional zone
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AT05106613T
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Maud Vinet
Jean-Charles Barbe
Pierre Mur
Crecy Francois De
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Commissariat Energie Atomique
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2910456B1 (fr) * 2006-12-21 2018-02-09 Commissariat A L'energie Atomique Procede de realisation de microfils et/ou de nanofils
FR2910455B1 (fr) * 2006-12-21 2009-04-03 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation de micro-cavites non alignees et a differentes profondeurs
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FR2974940B1 (fr) 2011-05-06 2015-11-13 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation de nanocristaux de semi-conducteur orientes selon une direction pre-definie
DE102012017503A1 (de) * 2012-05-30 2013-12-19 Eads Deutschland Gmbh Verfahren zur Nanostrukturierung von anorganischen und organischen Materialien durch kontinuierliche Bestrahlung mit einem Teilchenstrahl
FR3046155B1 (fr) * 2015-12-28 2020-01-10 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives Procede de realisation de nanocristaux a dimensions et densite controlees

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2779414B2 (ja) * 1988-12-01 1998-07-23 セイコーインスツルメンツ株式会社 ミクロ断面の加工・観察方法
JP3156878B2 (ja) * 1992-04-30 2001-04-16 株式会社東芝 半導体装置およびその製造方法
DE19618447A1 (de) * 1996-05-08 1997-11-20 Studiengesellschaft Kohle Mbh Lithographisches Verfahren zur Erzeugung von Nanostrukturen auf Oberflächen
JP2929005B1 (ja) * 1998-07-01 1999-08-03 科学技術庁金属材料技術研究所長 Si微結晶構造の製造方法
US7084016B1 (en) * 1998-07-17 2006-08-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Crystalline semiconductor thin film, method of fabricating the same, semiconductor device, and method of fabricating the same
JP2001023899A (ja) * 1999-07-13 2001-01-26 Hitachi Ltd 半導体薄膜とその半導体膜を用いた液晶表示装置及びその製造方法
KR20020058151A (ko) * 2000-12-29 2002-07-12 박호군 집속이온빔을 이용하는 상온동작 단전자 터널링트랜지스터 제조방법
EP1229590A1 (de) * 2001-01-31 2002-08-07 Japan Science and Technology Corporation Korrelative Ladungsverschiebungsanordnung und Verfahren zur Herstellung
JP2003086604A (ja) * 2001-09-10 2003-03-20 Advanced Lcd Technologies Development Center Co Ltd 薄膜半導体装置及びその基板ならびにその製造方法

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