ATE512570T1 - Lichtquellenvorrichtung für extremes ultraviolettlicht und verfahren zur erzeugung einer extremen ultraviolettstrahlung - Google Patents

Lichtquellenvorrichtung für extremes ultraviolettlicht und verfahren zur erzeugung einer extremen ultraviolettstrahlung

Info

Publication number
ATE512570T1
ATE512570T1 AT09012287T AT09012287T ATE512570T1 AT E512570 T1 ATE512570 T1 AT E512570T1 AT 09012287 T AT09012287 T AT 09012287T AT 09012287 T AT09012287 T AT 09012287T AT E512570 T1 ATE512570 T1 AT E512570T1
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
energy beam
raw material
extreme ultraviolet
discharge electrodes
discharge
Prior art date
Application number
AT09012287T
Other languages
English (en)
Inventor
Yusuke Teramoto
Hiroshi Mizokoshi
Takuma Yokoyama
Original Assignee
Ushio Electric Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Electric Inc filed Critical Ushio Electric Inc
Application granted granted Critical
Publication of ATE512570T1 publication Critical patent/ATE512570T1/de

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70033—Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/007—Production of X-ray radiation generated from plasma involving electric or magnetic fields in the process of plasma generation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
AT09012287T 2008-09-29 2009-09-28 Lichtquellenvorrichtung für extremes ultraviolettlicht und verfahren zur erzeugung einer extremen ultraviolettstrahlung ATE512570T1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008249574A JP4623192B2 (ja) 2008-09-29 2008-09-29 極端紫外光光源装置および極端紫外光発生方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ATE512570T1 true ATE512570T1 (de) 2011-06-15

Family

ID=41381671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT09012287T ATE512570T1 (de) 2008-09-29 2009-09-28 Lichtquellenvorrichtung für extremes ultraviolettlicht und verfahren zur erzeugung einer extremen ultraviolettstrahlung

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP2170020B1 (de)
JP (1) JP4623192B2 (de)
AT (1) ATE512570T1 (de)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2380411B1 (de) * 2008-12-16 2015-04-15 Philips Deutschland GmbH Verfahren und einrichtung zum erzeugen von euv-strahlung oder weichen röntgenstrahlen mit erhöhtem wirkungsgrad
DE102010047419B4 (de) * 2010-10-01 2013-09-05 Xtreme Technologies Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von EUV-Strahlung aus einem Gasentladungsplasma
JP5849746B2 (ja) * 2012-02-06 2016-02-03 株式会社Ihi プラズマ光源
DE102013000407B4 (de) * 2013-01-11 2020-03-26 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Verbesserung der Benetzbarkeit einer rotierenden Elektrode in einer Gasentladungslampe
DE102013204444A1 (de) * 2013-03-14 2014-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für ein Maskeninspektionssystem sowie Maskeninspektionssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik
JP5962699B2 (ja) 2014-04-15 2016-08-03 ウシオ電機株式会社 エネルギービームの位置合わせ装置および位置合わせ方法
JP6252358B2 (ja) 2014-05-27 2017-12-27 ウシオ電機株式会社 極端紫外光光源装置
JP6717111B2 (ja) * 2016-08-15 2020-07-01 株式会社Ihi プラズマ光源及び極端紫外光の発光方法
JP7553296B2 (ja) * 2020-09-16 2024-09-18 ギガフォトン株式会社 極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法
US11548190B2 (en) * 2020-12-11 2023-01-10 Phoseon Technology, Inc. Nested elliptic reflector for curing optical fibers

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6972421B2 (en) * 2000-06-09 2005-12-06 Cymer, Inc. Extreme ultraviolet light source
JP2002289397A (ja) * 2001-03-23 2002-10-04 Takayasu Mochizuki レーザプラズマ発生方法およびそのシステム
US6973164B2 (en) * 2003-06-26 2005-12-06 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Laser-produced plasma EUV light source with pre-pulse enhancement
JP2007515741A (ja) * 2003-06-27 2007-06-14 イクストリーメ　テクノロジース　ゲゼルシャフト　ミット　ベシュレンクテル　ハフツング 極紫外線放射又は軟ｘ線放射を作り出すための方法及び装置
DE10342239B4 (de) * 2003-09-11 2018-06-07 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem-Ultraviolettstrahlung oder weicher Röntgenstrahlung
JP2006210157A (ja) * 2005-01-28 2006-08-10 Ushio Inc レーザ生成プラズマ方式極端紫外光光源
DE102005014433B3 (de) * 2005-03-24 2006-10-05 Xtreme Technologies Gmbh Verfahren und Anordnung zur effizienten Erzeugung von kurzwelliger Strahlung auf Basis eines lasererzeugten Plasmas
DE102005023060B4 (de) * 2005-05-19 2011-01-27 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Gasentladungs-Strahlungsquelle, insbesondere für EUV-Strahlung
EP1897422A2 (de) * 2005-06-14 2008-03-12 Philips Intellectual Property & Standards GmbH Verfahren zum schutz einer euv- und/oder weiche röntgenstrahlung erzeugenden strahlungsquelle gegen kurzschlüsse
DE102005039849B4 (de) * 2005-08-19 2011-01-27 Xtreme Technologies Gmbh Vorrichtung zur Strahlungserzeugung mittels einer Gasentladung
JP4904809B2 (ja) * 2005-12-28 2012-03-28 ウシオ電機株式会社 極端紫外光光源装置
JP2007200919A (ja) * 2006-01-23 2007-08-09 Ushio Inc 極端紫外光光源装置
KR101396158B1 (ko) * 2006-05-16 2014-05-19 코닌클리케 필립스 엔.브이. Ｅｕｖ 램프 및 연질 ｘ-선 램프의 전환 효율을 증가시키는 방법, 및 ｅｕｖ 방사선 및 연질 ｘ-선을 생성하는 장치
DE102006027856B3 (de) * 2006-06-13 2007-11-22 Xtreme Technologies Gmbh Anordnung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels elektrischer Entladung an regenerierbaren Elektroden
ATE486488T1 (de) * 2006-09-06 2010-11-15 Koninkl Philips Electronics Nv Euv plasmaentladungslampe mit förderbandelektroden
JP2008270149A (ja) * 2007-03-28 2008-11-06 Tokyo Institute Of Technology 極端紫外光光源装置および極端紫外光発生方法
EP1976344B1 (de) * 2007-03-28 2011-04-20 Tokyo Institute Of Technology Lichtquellenvorrichtung für extremes Ultraviolettlicht und Verfahren zur Erzeugung einer extremen Ultraviolettstrahlung

Also Published As

Publication number Publication date
JP4623192B2 (ja) 2011-02-02
EP2170020B1 (de) 2011-06-08
EP2170020A1 (de) 2010-03-31
JP2010080362A (ja) 2010-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1976344A3 (de) Lichtquellenvorrichtung für extremes Ultraviolettlicht und Verfahren zur Erzeugung einer extremen Ultraviolettstrahlung
WO2012173166A3 (en) System and method for generating extreme ultraviolet light
WO2012131452A8 (en) Laser apparatus, extreme ultraviolet light generation system, and method for generating laser beam
RU2013141541A (ru) Устройство и способ лазерного лечения кожи
JP6309078B2 (ja) 低減されたデブリ生成を有するレーザ生成プラズマｅｕｖ源
BRPI0512185A (pt) método e aparelho para tratar tecido
JP2008532293A5 (de)
TWI379297B (en) Optical recording method and optical recording apparatus
RU2010144542A (ru) Устройство для роста волос и способ выращивания волос
RU2012116077A (ru) Способ лазерной маркировки и система лазерной маркировки
WO2011063252A3 (en) Ultraviolet light applicator system and method
RU2015141708A (ru) Фототерапевтическое устройство, способ и применение
JP2017528922A5 (de)
ATE442095T1 (de) Gerät zur überwachung und kontrolle von laserinduzierter gewebebehandlung
EP2489402A3 (de) Verfahren und Gerät zur Bestrahlung einer Oberfläche mit kontinuierlichem wellen- oder pulslicht
ES2549832R1 (es) Conjunto de pieza de mano para dispositivo de tratamiento laser
RU2014144665A (ru) Система и способ ухода за кожей
MX338115B (es) Metodo para controlar un proceso de corte por laser y sistema de corte por laser que lo implementa.
BR112018007437A2 (pt) reticulação de colágeno induzida por laser em tecido
WO2011084863A3 (en) Fiber lasers and mid-infrared light sources in methods and systems for selective biological tissue processing and spectroscopy
WO2008129740A1 (ja) 毛成長調節方法及びその装置
EA201270688A1 (ru) Механизм сканирования и способ обработки для lllt или другой терапии с применением источника света
TW201720768A (zh) 使用脈衝雷射於玻璃基板形成孔之方法、及製造具有孔之玻璃基板之方法
EP2203033A3 (de) Extremultraviolette Lichtquellenvorrichtung
RU2015110321A (ru) Способ для создания эффектов глянца на прессовальных инструментах

Legal Events

Date Code Title Description
RER Ceased as to paragraph 5 lit. 3 law introducing patent treaties