ATE53371T1 - Ultrasauberes epitaxiales silicium und verfahren zu dessen herstellung. - Google Patents

Ultrasauberes epitaxiales silicium und verfahren zu dessen herstellung.

Info

Publication number
ATE53371T1
ATE53371T1 AT83902591T AT83902591T ATE53371T1 AT E53371 T1 ATE53371 T1 AT E53371T1 AT 83902591 T AT83902591 T AT 83902591T AT 83902591 T AT83902591 T AT 83902591T AT E53371 T1 ATE53371 T1 AT E53371T1
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
epitxial
ultraclean
silicon
production
ultraclean epitxial
Prior art date
Application number
AT83902591T
Other languages
English (en)
Inventor
John C Schumacher
Original Assignee
Schumacher Co J C
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schumacher Co J C filed Critical Schumacher Co J C
Priority claimed from EP19830902591 external-priority patent/EP0114876B1/de
Application granted granted Critical
Publication of ATE53371T1 publication Critical patent/ATE53371T1/de

Links

AT83902591T 1982-07-12 1983-07-11 Ultrasauberes epitaxiales silicium und verfahren zu dessen herstellung. ATE53371T1 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US39744582A 1982-07-12 1982-07-12
EP19830902591 EP0114876B1 (de) 1982-07-12 1983-07-11 Ultrasauberes epitaxiales silicium und verfahren zu dessen herstellung
PCT/US1983/001043 WO1984000353A1 (en) 1982-07-12 1983-07-11 Ultra-pure epitaxial silicon

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ATE53371T1 true ATE53371T1 (de) 1990-06-15

Family

ID=26091244

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT83902591T ATE53371T1 (de) 1982-07-12 1983-07-11 Ultrasauberes epitaxiales silicium und verfahren zu dessen herstellung.

Country Status (1)

Country Link
AT (1) ATE53371T1 (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3650552D1 (de) Statistisches Copolymer und Verfahren zu dessen Herstellung
DE3788015D1 (de) Lautsprecherabdeckung und Verfahren zur Herstellung derselben.
ATA60583A (de) Keramisches material und verfahren zu seiner herstellung
AT378177B (de) Sinterkeramischer koerper aus siliziumkarbid und verfahren zu seiner herstellung
DE3381711D1 (de) Halbleiteranordnung und verfahren zu deren herstellung.
DE3887832D1 (de) Tiefschwarzer Überzug und Verfahren zu dessen Herstellung.
DE3766016D1 (de) Gesintertes siliziumnitrid und verfahren zu seiner herstellung.
DE3782201D1 (de) Halbleiterphotosensor und verfahren zu dessen herstellung.
KR850004442A (ko) 수소화 규소의 제조방법
DE69127949D1 (de) Thyristor und Verfahren zu dessen Herstellung
DE69017348D1 (de) Thyristor und Verfahren zu dessen Herstellung.
DE3852150D1 (de) Polysilazan und Verfahren zu dessen Herstellung.
DE3884069D1 (de) Polysilazan und Verfahren zu dessen Herstellung.
DE3578438D1 (de) Verbessertes siliziumoxynitrid-material und verfahren zu dessen herstellung.
DE68917745D1 (de) Verfahren zur Herstellung von Alkylenaminen.
PT72603B (de) Getterkorper und verfahren zu dessen herstellung
DE3764531D1 (de) Siliziumnitrid-sinterformkoerper und verfahren zu seiner herstellung.
DE3677696D1 (de) Verbessertes siliciumnitrid und verfahren zu dessen herstellung.
ATA363880A (de) Polierkoerper und verfahren zu seiner herstellung
ATE53371T1 (de) Ultrasauberes epitaxiales silicium und verfahren zu dessen herstellung.
DE3765796D1 (de) Halbleiterbauelement und verfahren zu dessen herstellung.
AT377836B (de) Federring und verfahren zu seiner herstellung
DE3483588D1 (de) Gesinterter siliziumnitridformkoerper und verfahren zu seiner herstellung.
DE68916306D1 (de) Substituiertes Siliciumnitrid und Verfahren zu dessen Herstellung.
DE3381626D1 (de) Ultrasauberes epitaxiales silicium und verfahren zu dessen herstellung.

Legal Events

Date Code Title Description
RER Ceased as to paragraph 5 lit. 3 law introducing patent treaties