ATE536566T1 - Flachdruckplattenvorläufer - Google Patents

Flachdruckplattenvorläufer

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ATE536566T1
ATE536566T1 AT00121271T AT00121271T ATE536566T1 AT E536566 T1 ATE536566 T1 AT E536566T1 AT 00121271 T AT00121271 T AT 00121271T AT 00121271 T AT00121271 T AT 00121271T AT E536566 T1 ATE536566 T1 AT E536566T1
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AT
Austria
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plate precursor
flat plate
interlayer
photosensitive layer
photopolymerizable photosensitive
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AT00121271T
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English (en)
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Yasuhito Oshima
Tadahiro Sorori
Original Assignee
Fujifilm Corp
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Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1172699B1 (de) * 2000-07-14 2013-09-11 FUJIFILM Corporation Verfahren zur Herstellung lithographischer Druckplatten
JP4418714B2 (ja) * 2003-07-10 2010-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
DE602004030519D1 (de) * 2003-07-22 2011-01-27 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches Druckverfahren
JP4815113B2 (ja) * 2003-09-24 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
US20070144384A1 (en) * 2004-05-19 2007-06-28 Fuji Photo Film Co., Ltd Image recording method
EP1787166A1 (de) * 2004-09-01 2007-05-23 Kodak Polychrome Graphics, LLC Trennschicht für lithografische druckplatten
JP4574506B2 (ja) * 2005-03-23 2010-11-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びその製版方法
ATE422253T1 (de) * 2005-11-18 2009-02-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
EP1788434B2 (de) 2005-11-18 2019-01-02 Agfa Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
PL1788442T3 (pl) 2005-11-18 2011-01-31 Agfa Graphics Nv Sposób wytwarzania litograficznej formy drukowej
DE602005026136D1 (de) 2005-11-18 2011-03-10 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
ES2346320T3 (es) 2005-11-18 2010-10-14 Agfa Graphics N.V. Metodo de fabricacion de una plancha de impresion litografica.
US8088559B2 (en) 2005-11-18 2012-01-03 Agfa Graphics Nv Method of making a photopolymer printing plate
ATE426191T1 (de) 2005-11-18 2009-04-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte
EP2772805A1 (de) 2005-11-18 2014-09-03 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte
EP1788431B1 (de) 2005-11-18 2009-01-28 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
EP1788429B1 (de) 2005-11-18 2009-03-18 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
EP1788449A1 (de) 2005-11-21 2007-05-23 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
EP1788435B1 (de) 2005-11-21 2013-05-01 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
ATE430330T1 (de) 2005-11-21 2009-05-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
JP2007233071A (ja) * 2006-03-01 2007-09-13 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
DE602007009344D1 (de) * 2006-07-25 2010-11-04 Fujifilm Corp Lithographiedruckplattenvorläufer und Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
US8445176B2 (en) 2007-05-25 2013-05-21 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor
US8415087B2 (en) 2007-11-16 2013-04-09 Agfa Graphics Nv Method of making a lithographic printing plate
ATE555903T1 (de) 2008-10-23 2012-05-15 Agfa Graphics Nv Lithographiedruckplatte
ES2588075T3 (es) 2013-01-11 2016-10-28 Agfa Graphics Nv Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica
EP2916171B1 (de) 2014-03-03 2017-05-31 Agfa Graphics Nv Verfahren zum Herstellen eines Lithographiedruckformvorläufers
CN108351606A (zh) * 2015-11-19 2018-07-31 Az电子材料（卢森堡）有限公司 用于形成细微抗蚀图案的组合物和使用该组合物的图案形成方法
EP3327544B1 (de) * 2016-11-25 2021-06-23 Nokia Technologies Oy Vorrichtung, zugehöriges verfahren und zugehöriges computerlesbares medium
EP3441223B1 (de) 2017-08-07 2024-02-21 Eco3 Bv Lithographiedruckplattenvorläufer
EP3474073B1 (de) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv Methode zur herstellung einer druckplatte
ES2881270T3 (es) 2017-12-08 2021-11-29 Agfa Nv Procedimiento de fabricación de una plancha de impresión litográfica
EP3650938A1 (de) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv Lithographiedruckplattenvorläufer
WO2020120400A1 (en) 2018-12-10 2020-06-18 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3922462B1 (de) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithografischer photopolymerer druckplattenvorläufer mit verbesserter tageslichtstabilität
US12065573B2 (en) 2020-07-31 2024-08-20 Canon Kabushiki Kaisha Photocurable composition
EP3960455B1 (de) 2020-08-31 2025-08-06 Eco3 Bv Lithografiedruckplattenvorläufer, verfahren zur herstellung eines lithografiedruckplattenvorläufers und verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte
EP4225582B1 (de) 2020-10-09 2024-08-28 Eco3 Bv Lithografiedruckplattenvorläufer
EP4129682B1 (de) 2021-08-05 2025-10-01 Eco3 Bv Lithografiedruckplattenvorläufer

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3617411A (en) 1969-01-14 1971-11-02 Ibm Process for etching a pattern of closely spaced conducting lines in an integrated circuit
US4463112A (en) * 1980-02-13 1984-07-31 Leistner William E Phenylethylidene-substituted phenyl polyphosphites
US4388156A (en) * 1981-12-23 1983-06-14 American Hoechst Corporation Aluminum electrolysis in non-aqueous monomeric organic acid
JPS6250760A (ja) 1985-08-29 1987-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要感光性平版印刷版
US4640886A (en) * 1985-10-10 1987-02-03 Eastman Kodak Company Subbed lithographic printing plate
DE3644160A1 (de) 1986-12-23 1988-07-14 Hoechst Ag Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial mit einer lichtempfindlichen zwischenschicht
JPH0682214B2 (ja) 1986-12-26 1994-10-19 東レ株式会社 水なし平版印刷版
US4886731A (en) * 1987-01-05 1989-12-12 Cookson Graphics Inc. Multilayer photopolymeric printing plates with photoreactive diazo compounds and photopolymerizable compositions
JPH03122647A (ja) 1989-10-05 1991-05-24 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性フイルム
JP2627565B2 (ja) 1990-02-19 1997-07-09 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2648976B2 (ja) 1990-03-09 1997-09-03 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
DE4023268A1 (de) 1990-07-21 1992-01-23 Hoechst Ag Hydrophile mischpolymere sowie deren verwendung in der reprographie
JP3223222B2 (ja) 1993-12-03 2001-10-29 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
DE4415607A1 (de) * 1994-05-04 1995-11-09 Hoechst Ag Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten
DE4423140A1 (de) * 1994-07-01 1996-01-04 Hoechst Ag Hydrophiliertes Trägermaterial und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0727714B1 (de) 1995-02-15 1998-09-23 Agfa-Gevaert N.V. Diazo-Aufzeichnungselement mit verbesserter Beständigkeit gegen mechanischen Schaden
JP3589360B2 (ja) * 1995-03-22 2004-11-17 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
JPH09269593A (ja) * 1996-04-01 1997-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
US6114089A (en) 1997-04-08 2000-09-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive working photosensitive lithographic printing plate
JP3830114B2 (ja) 1997-09-29 2006-10-04 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版
JP3810215B2 (ja) 1998-06-17 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP3122647B2 (ja) 1999-01-08 2001-01-09 大日本印刷株式会社 情報記録媒体及び情報記録再生方法
US6258517B1 (en) * 2000-06-06 2001-07-10 Eastman Kodak Company Imaged element with improved wet abrasion resistance

Also Published As

Publication number Publication date
EP1091251A3 (de) 2002-07-03
EP1091251B1 (de) 2011-12-07
EP1927889A1 (de) 2008-06-04
EP1091251A2 (de) 2001-04-11
EP1927889B1 (de) 2014-06-25
US6558873B1 (en) 2003-05-06

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