ATE536566T1 - Flachdruckplattenvorläufer - Google Patents

Flachdruckplattenvorläufer

Info

Publication number
ATE536566T1
ATE536566T1 AT00121271T AT00121271T ATE536566T1 AT E536566 T1 ATE536566 T1 AT E536566T1 AT 00121271 T AT00121271 T AT 00121271T AT 00121271 T AT00121271 T AT 00121271T AT E536566 T1 ATE536566 T1 AT E536566T1
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
plate precursor
flat plate
interlayer
photosensitive layer
photopolymerizable photosensitive
Prior art date
Application number
AT00121271T
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhito Oshima
Tadahiro Sorori
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP32264199A external-priority patent/JP3893818B2/ja
Priority claimed from JP2000014697A external-priority patent/JP4139540B2/ja
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Application granted granted Critical
Publication of ATE536566T1 publication Critical patent/ATE536566T1/de

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/094—Multilayer resist systems, e.g. planarising layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
AT00121271T 1999-10-05 2000-10-05 Flachdruckplattenvorläufer ATE536566T1 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28409199 1999-10-05
JP32264199A JP3893818B2 (ja) 1999-10-05 1999-11-12 平版印刷版用原版
JP2000014697A JP4139540B2 (ja) 2000-01-24 2000-01-24 平版印刷版用原版

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ATE536566T1 true ATE536566T1 (de) 2011-12-15

Family

ID=27337056

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT00121271T ATE536566T1 (de) 1999-10-05 2000-10-05 Flachdruckplattenvorläufer

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6558873B1 (de)
EP (2) EP1091251B1 (de)
AT (1) ATE536566T1 (de)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1172699B1 (de) * 2000-07-14 2013-09-11 FUJIFILM Corporation Verfahren zur Herstellung lithographischer Druckplatten
JP4418714B2 (ja) * 2003-07-10 2010-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
ATE491968T1 (de) * 2003-07-22 2011-01-15 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren
JP4815113B2 (ja) * 2003-09-24 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
WO2005111717A2 (en) * 2004-05-19 2005-11-24 Fujifilm Corporation Image recording method
US20090022961A1 (en) * 2004-09-01 2009-01-22 Bernd Strehmel Interlayer for lithographic plates
JP4574506B2 (ja) * 2005-03-23 2010-11-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びその製版方法
EP1788443B1 (de) 2005-11-18 2014-07-02 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
ES2396931T3 (es) 2005-11-18 2013-03-01 Agfa Graphics N.V. Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica
ATE497192T1 (de) 2005-11-18 2011-02-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
ES2346320T3 (es) 2005-11-18 2010-10-14 Agfa Graphics N.V. Metodo de fabricacion de una plancha de impresion litografica.
ATE426191T1 (de) 2005-11-18 2009-04-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte
DE602005012590D1 (de) 2005-11-18 2009-03-19 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
DE602005013536D1 (de) * 2005-11-18 2009-05-07 Agfa Graphics Nv Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
EP1788450B1 (de) 2005-11-18 2009-02-04 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
ATE426190T1 (de) 2005-11-18 2009-04-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
US8088559B2 (en) 2005-11-18 2012-01-03 Agfa Graphics Nv Method of making a photopolymer printing plate
EP1788449A1 (de) 2005-11-21 2007-05-23 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
ATE430330T1 (de) 2005-11-21 2009-05-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform
DK1788435T3 (da) 2005-11-21 2013-06-17 Agfa Graphics Nv Fremgangsmåde til fremstilling af en litografisk trykplade
JP2007233071A (ja) * 2006-03-01 2007-09-13 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
DE602007009344D1 (de) * 2006-07-25 2010-11-04 Fujifilm Corp Lithographiedruckplattenvorläufer und Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte
US8445176B2 (en) 2007-05-25 2013-05-21 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor
US8415087B2 (en) 2007-11-16 2013-04-09 Agfa Graphics Nv Method of making a lithographic printing plate
ES2382371T3 (es) 2008-10-23 2012-06-07 Agfa Graphics N.V. Plancha de impresión litográfica
EP2755088B1 (de) 2013-01-11 2016-07-27 Agfa Graphics NV Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte
EP2916171B1 (de) 2014-03-03 2017-05-31 Agfa Graphics Nv Verfahren zum Herstellen eines Lithographiedruckformvorläufers
KR20180083917A (ko) * 2015-11-19 2018-07-23 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘. 미세한 레지스트 패턴을 형성하기 위한 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법
EP3327544B1 (de) * 2016-11-25 2021-06-23 Nokia Technologies Oy Vorrichtung, zugehöriges verfahren und zugehöriges computerlesbares medium
EP3441223B1 (de) 2017-08-07 2024-02-21 Eco3 Bv Lithographiedruckplattenvorläufer
EP3474073B1 (de) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv Methode zur herstellung einer druckplatte
ES2881270T3 (es) 2017-12-08 2021-11-29 Agfa Nv Procedimiento de fabricación de una plancha de impresión litográfica
EP3650938A1 (de) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv Lithographiedruckplattenvorläufer
US11465404B2 (en) 2018-12-10 2022-10-11 Agfa Offset Bv On-press processing of a UV or violet-sensitized lithographic printing plate
EP3922462B1 (de) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithografischer photopolymerer druckplattenvorläufer mit verbesserter tageslichtstabilität
US12065573B2 (en) 2020-07-31 2024-08-20 Canon Kabushiki Kaisha Photocurable composition
ES3037727T3 (en) 2020-08-31 2025-10-06 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor, a method for making a lithographic printing plate precursor and a method for making a lithographic printing plate
CN116324620B (zh) 2020-10-09 2025-08-08 易客发有限公司 平版印刷版前体
EP4129682B1 (de) 2021-08-05 2025-10-01 Eco3 Bv Lithografiedruckplattenvorläufer

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3617411A (en) 1969-01-14 1971-11-02 Ibm Process for etching a pattern of closely spaced conducting lines in an integrated circuit
US4463112A (en) * 1980-02-13 1984-07-31 Leistner William E Phenylethylidene-substituted phenyl polyphosphites
US4388156A (en) * 1981-12-23 1983-06-14 American Hoechst Corporation Aluminum electrolysis in non-aqueous monomeric organic acid
JPS6250760A (ja) 1985-08-29 1987-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要感光性平版印刷版
US4640886A (en) * 1985-10-10 1987-02-03 Eastman Kodak Company Subbed lithographic printing plate
DE3644160A1 (de) 1986-12-23 1988-07-14 Hoechst Ag Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial mit einer lichtempfindlichen zwischenschicht
JPH0682214B2 (ja) 1986-12-26 1994-10-19 東レ株式会社 水なし平版印刷版
US4886731A (en) * 1987-01-05 1989-12-12 Cookson Graphics Inc. Multilayer photopolymeric printing plates with photoreactive diazo compounds and photopolymerizable compositions
JPH03122647A (ja) 1989-10-05 1991-05-24 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性フイルム
JP2627565B2 (ja) 1990-02-19 1997-07-09 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2648976B2 (ja) 1990-03-09 1997-09-03 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
DE4023268A1 (de) 1990-07-21 1992-01-23 Hoechst Ag Hydrophile mischpolymere sowie deren verwendung in der reprographie
JP3223222B2 (ja) 1993-12-03 2001-10-29 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
DE4415607A1 (de) * 1994-05-04 1995-11-09 Hoechst Ag Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten
DE4423140A1 (de) * 1994-07-01 1996-01-04 Hoechst Ag Hydrophiliertes Trägermaterial und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE69504951T2 (de) 1995-02-15 1999-04-15 Agfa-Gevaert N.V., Mortsel Diazo-Aufzeichnungselement mit verbesserter Beständigkeit gegen mechanischen Schaden
JP3589360B2 (ja) * 1995-03-22 2004-11-17 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
JPH09269593A (ja) 1996-04-01 1997-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
EP0871070B1 (de) 1997-04-08 2003-11-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positiv arbeitende photosensitive lithographische Druckplatte
JP3830114B2 (ja) 1997-09-29 2006-10-04 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版
JP3810215B2 (ja) 1998-06-17 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP3122647B2 (ja) 1999-01-08 2001-01-09 大日本印刷株式会社 情報記録媒体及び情報記録再生方法
US6258517B1 (en) * 2000-06-06 2001-07-10 Eastman Kodak Company Imaged element with improved wet abrasion resistance

Also Published As

Publication number Publication date
EP1091251A2 (de) 2001-04-11
US6558873B1 (en) 2003-05-06
EP1927889A1 (de) 2008-06-04
EP1091251B1 (de) 2011-12-07
EP1091251A3 (de) 2002-07-03
EP1927889B1 (de) 2014-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1091251A3 (de) Flachdruckplattenvorläufer
EP1500498A3 (de) Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches Druckverfahren
EP1788431A3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
ATE529779T1 (de) Vorläufer für eine flachdruckplatte
PL1788444T3 (pl) Sposób wytwarzania kliszy do druku litograficznego
EP1413925A3 (de) Lichtempfindliche Zusammensetzung und lichtempfindliche lithographische Druckplatte
ATE341779T1 (de) Lithographische druckplattenvorstufe
DE69227502D1 (de) Druckplatte
ATE285895T1 (de) Flachdruckplattenvorläufer
AU2001271478A1 (en) Lithographic plate having a conformal radiation-sensitive layer on a rough substrate
ATE326339T1 (de) Flachdruckplattenvorläufer
EP1249731A3 (de) Lichtempfindliche Zusammensetzung und negativ arbeitende Flachdruckplatte
EP1216830A3 (de) Negativ arbeitende licht- oder wärmeempfindliche lithographische Druckplatte
DE602004020838D1 (de) Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches Druckverfahren
EP0871070A3 (de) Positiv arbeitende lithographische Druckplatte
EP1594005A3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Flexodruckplatte
EP1630602A3 (de) Polymerisierbare Zusammensetzung, durch Aushärten dieser Zusammensetzung herstellbarer hydrophiler Film und Flachdruckplattenvorläufer
ATE371207T1 (de) Flachdruckplattenvorläufer
ATE363985T1 (de) Lithographisches druckplattenvorläufer
EP1246012A3 (de) Flachdruckplattenvorläufer
DE60204998D1 (de) Flachdruckplattenvorläufer
ATE327107T1 (de) Träger einer flachdruckplatte sowie flachdruckplattenausgangsprodukt
ZA993248B (en) IR- and UV-radiation-sensitive composition and lithographic plate.
PL1788441T3 (pl) Sposób wytwarzania kliszy do druku litograficznego
EP1832928A3 (de) Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial, Flachdruckplattenvorläufer und Stapel davon