ATE58972T1 - Verfahren zum entwickeln und zum entschichten von photoresistschichten mit quaternaeren ammomiumverbindungen. - Google Patents

Verfahren zum entwickeln und zum entschichten von photoresistschichten mit quaternaeren ammomiumverbindungen.

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ATE58972T1
ATE58972T1 AT85112572T AT85112572T ATE58972T1 AT E58972 T1 ATE58972 T1 AT E58972T1 AT 85112572 T AT85112572 T AT 85112572T AT 85112572 T AT85112572 T AT 85112572T AT E58972 T1 ATE58972 T1 AT E58972T1
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AT
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decoating
developing
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photoresist coatings
quaternary ammomium
Prior art date
Application number
AT85112572T
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Inventor
Kunio Itoh
Kimio Watabe
Masahiro Shiozaki
Original Assignee
Hoechst Japan
Nisso Petrochemical Ind Co Ltd
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AT85112572T 1984-10-09 1985-10-04 Verfahren zum entwickeln und zum entschichten von photoresistschichten mit quaternaeren ammomiumverbindungen. ATE58972T1 (de)

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JP59211742A JPS6191156A (ja) 1984-10-09 1984-10-09 ２−ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポリ（オキシエチル）トリアルキルアンモニウムハイドロオキサイド及びその溶液
JP60024975A JPS61186351A (ja) 1985-02-12 1985-02-12 ２−ヒドロキシエチル−モノ及び／又はポリ（オキシエチル）　トリアルキル　アンモニウムハイドロオキサイドの製造方法
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JP60135030A JPS61292641A (ja) 1985-06-20 1985-06-20 ホトレジスト用処理液
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