BE1032289B1 - Procédé de galvanisation de fils en défilement continu et système de filière d'essuyage - Google Patents

Procédé de galvanisation de fils en défilement continu et système de filière d'essuyage

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BE1032289B1 BE20236075A BE202306075A BE1032289B1 BE 1032289 B1 BE1032289 B1 BE 1032289B1 BE 20236075 A BE20236075 A BE 20236075A BE 202306075 A BE202306075 A BE 202306075A BE 1032289 B1 BE1032289 B1 BE 1032289B1
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Abstract

Procédé de galvanisation de fils en défilement à grande vitesse et système de filière d'essuyage où la hauteur de la filière est ajustable

Description

a ‚ BE2023/6075
PROCEDE DE GALVANISATION DE FILS EN DEFILEMENT CONTINU ET SYSTEME
DE FILIÈRE D'ESSUYAGE.
La présente invention se rapporte à un procédé de galvanisation de fils en défilement continu.
On connait des procédés de galvanisation de fil ou de ruban en défilement continu où un bain de galvanisation est alimenté par un fil ou unruban en défilement pour passer au travers d'un lit de métal fondu.
Typiquement, les fils ou rubans sont formés d'une matière ferreuse, telle qu'un acier ou analogue.
La galvanisation peut être réalsée au travers d'un bain d'aluminium ou de zinc, ou parfois d'autres métaux ou alliages comme de l'étain ou un alliage à base d'étain. La galvanisation revient ainsi à appliquer un revêtement extérieur au fil ou au ruban pour lui conférer des propriétés particulières, comme par exemple, une résistance à la corrosion à la matière ferreuse sous-jacente.
Le contrôle de l'épaisseur de la couche de revêtement fondu est depuis longtemps un challenge technique, celui-ci étant, sans dispositif permettant de la contrôler trop épais, irrégulier ou les deux. Ainsi au cours des années, des techniques d'essuyage par un gaz, généralement inerte ou réducteur ont été développées afin d'uniformiser et/ou de réduire le poids ou l'épaisseur du revêtement.
Ainsi, les fils sont dirigés après le bain de galvanisation à travers d'une filière d'essuyage pour enlever le surplus de métal fondu servant à galvaniser le fil. La filière d'essuyage peut ainsi être disposée au- dessus du bain de galvanisation, de manière à collecter le surplus essuyé de métal fondu.
On connaît par exemple du document EP38975. On a utilisé divers dispositifs d'essuyage pour essuyer le revêtement pendant qu'il est encore à l'état fondu. Ce document adresse le problème des revêtements non uniforme de fils en proposant, au lieu de faire varier Ia vitesse de défilement du fils pour contrôler le revêtement du fil, de faire varier le débit de gaz d'essuyage inerte ou réducteur et d'utiliser certains paramètres de la filière d'essuyage.
Les paramètres critiques de la filière d'essuyage sont selon ce document comme suit: - un angle d'orifice de sortie du gaz d'essuyage vers le bas d'environ 10 à 45 degrés, de préférence de 15 à 30 degrés, par rapport à la perpendiculaire à la surface du fil traversant la filière, - une largeur d'orifice de sortie du gaz d'essuyage parallèlement à la direction de déplacement du fil à travers la filière d'environ 0,254 à 2,032 mm, de préférence de 0,508 à 1,27 mm, - des côtés essentiellement parallèles d'orifice de sortie du gaz d'essuyage, - une longueur minimale de l'orifice de sortie du gaz d'essuyage, le long de la ligne de passage du gaz d'essuyage, non inférieure 8 à 0,635 cm.
Encore selon ce document, la hauteur de l'orifice de sortie du gaz d'essuyage au-dessus du bain de revêtement en fusion devrait être de 1,27 à 38,1 cm, de préférence d'environ 1,27 à 25,4 cm, et plus particulièrement de 1,27 à 10,16 cm. L'analyse des figures révèle que la hauteur de l'orifice de sortie du gaz d'essuyage est très proche du bain de métal fondu en l'absence d'une hotte contenant une atmosphère protégeant le revêtement de l'oxydation, tandis que la filière peut être plus éloignée en présence de cette hotte.
Le document EP38975 conclut ainsi que l'association de tous les paramètres critiques est essentielle pour obtenir une épaisseur de revêtement satisfaisante. Ainsi, dans la forme de réalisation de la figure 1 de ce document, une filière d'essuyyage comprend une cavité inférieure sous atmosphère protectrice intégrée à la filière d'essuyage. Dans cette forme de réalisation, pour un orifice de sortie du gaz d'essuyage de 1 mm d'épaisseur, un angle d'inclinaison de 25° vers le bas et une lumière de filière de 2,54 cm, l'orifice de sortie de gaz d'essuyage doit être disposé à 10,16 cm du bain de galvanisation et le bas de la cavité inférieure gravite alors à 2,54 cm du bain de métal fondu. Dans la forme de réalisation de la figure 2, où une hotte protectrice est présente, l'orifice de sortie de gaz d'essuyage présente une épaisseur de 0,762 cm et un angle d'inclinaison de 30°. L'orifice de sortie de gaz d'essuyage est ainsi positionné à 12,7 cm au-dessus du bain de métal fondu. Enfin dans la forme de réalisation décrite à la figure 3, aucune hotte ni cavité protectrice n'est présente et dans ce cas, pour un orifice de sortie du gaz d'essuyage de 1] mm d'épaisseur, un angle d'inclinaïison de 25° vers le bas et une lumière de filière de 2,54 cm, l'orifice de sortie de gaz d'essuyage doit être disposé à 3,81 cm du bain de galvanisation.
Comme on peut le constater de ce document, il n'est possible d'éloigner la filière qu'en présence d'une hotte protectrice car le métal fondu serait sans cette protection sujet à une oxydation qui nuirait àla qualité du revêtement. De plus, bien que ce document soit muet sur le diamètre du fil à revêtir, il est hautement probable que les paramètres critiques décrits soient applicaboles pour un seul diamètre de fil vu que le diamètre de la lumière de la filière est toujours le même. Or celui-ci dépend du diamètre du fil à essuyer.
Dans tous les cas, identifier les paramètres de lo filière d'essuyage est une opération complexe qui dépend de nombreuses contraintes.
Actuellement les vitesses de défilement des fils sont de plus en plus élevées, et les installations de galvanisation doivent être plus flexibles.
En effet, dans la galvanisation de fil, il est fréquent de devoir produire simultanément des fils de différents diamètres ce qui implique d'avoir recours à des filières d'essuyage dans une même installation de différentes géomértries.
Or avec les vitesses de défilement de plus en plus importantes, lors du passage dans le bain de galvanisation, le fil entraine un ménisque de métal fondu qui grandit avec la vitesse de défilement du fil. La taille grandissante du ménisque a aussi pour conséquence une plus grande occurrence de l'entrainement de quantités de métal fondu partiellement oxydé, qui présente ainsi une viscosité plus importante, formant une sorte de grumeau. Pourtant, les contraintes en termes de qualité du revêtement attendu par les clients ne sont pas allégées, au contraire ; il est attendu de l'industrie une qualité constante des revêtements.
L’invention a pou but d'adresser ces challenges technologiques et de pallier au moins partiellement les inconvénients de l'état de la technique en procurant un procédé de galvanisation permettant de maintenir une qualité constante de revêtement, laquelle qualité ne dépend pas du diamètre de fil à traiter, faisant face aux vitesses de défilement de plus en plus importantes tout en apportant lo flexibilité requise en terme de production.
Pour résoudre ce problème, il est prévu suivant l'invention procédé de galvanisation de fils en défilement à grande vitesse comprenant :
(i) une alimentation d'un bain de galvanisation comprenant au moins lit de métal fondu par une série de fils en défilement où chaque fil de la série présente 5 une grandeur D.v comprise entre 140 et 400 mm.m/min (ii) Une galvanisation par défilement de chacun des fils de ladite série de fils au travers dudit bain de galvanisation, (ii Un guidage de chacun des fils de ladite série de fils en défilement d'une direction de galvanisation à une direction d'essuyage, (iv) Un essuyage de chaque fil de ladite série de fils en défilement par passage au travers d'une lumière d'essuyage d'une filière d'essuyage , ladite lumière d'essuyage étant traversée par une lame de gaz d'essuyage sortant d'une fente périphérique à ladite lumière d'essuyage à un débit de gaz d'essuyage compris entre0,6 et 9 m°/heure, ladite fente d'essuyage étant positionnée à une distance ajustable d par rapport au lit de métal fondu comprise entre 3 et 20 cm, plus particulièrement entre 4 et 15 cm, et encore plus préférentiellement entre 4,5 et 11 cm. (v) Un guidage de chacun des fils de ladite série de fils en défilement vers un dispositif de collecte.
Comme on peut le constater, dans le procédé selon la présente invention, le procédé comprend une alimentation de plusieurs fis en parallèle. Chaque fil défile, parallèlement aux autres, avec une grandeur D.v élevée qui est le produit de son diamètre par une vitesse de défilement linéaire. Ainsi un fil de diamètre important présente une grandeur D.v identique à la grandeur D.v d'un fil de diamètre plus petit.
Pourtant, pour que ces vitesses soient identiques, ceci signifie que la vitesse v de défilement du fil de diamètre important est plus faible que la vitesse v de défilement du fil de diamètre plus petit. Ces différents types de fils sont ainsi traités en parallèle dans la même installation de galvanisation/essuyage.
Chacun de ces fils est plongé dans le bain de galvanisation en continu et est ensuite dirigé par un sabot de guidage au travers de sa filière d'essuyage. Chaque fil est ainsi amené en direction d'essuyage, généralement en direction verticale, du bas vers le haut.
Lors du passage dans la filière d'essuyyage, chaque fil est essuyé ou, autrement dit, raclé sur tout son pourtour par la lame de gaz périphérique créée. Le surplus de revêtement s'écoule alors par gravité le long du fil vers le bas, soit à contre-courant par rapport à la direction d'essuyage. Le métal fondu en surplus, retourne ainsi dans le bain de galvanisation.
Comme indiqué précédemment, le métal fondu est sensible à l'oxydation et au refroidissement qui provoquent une augmentation de la viscosité du métal fondu et l'apparition de grumeau. Lors du défilement à la grandeur D.v indiquée, le fil entraine un ménisque de métal fondu qui présente une taille proportionnelle à la vitesse de défilement du fil et à son diamètre. Lorsque le ménisque est important et que la filière est disposée à proximité de la surface supérieure du lit de métal fondu, il se produit des projections de métal fondu sur la filière qui est susceptible de boucher l'entrée ou de la boucher partiellement, ce qui peut entraver la circulation du gaz. En outre, le surplus de métal fondu circulant à contre- courant crée par ailleurs une zone relativement turbulente à proximité du bain liée à la rencontre entre le surplus de métal fondu et le ménisque de métal fondu entraîné par le fil en défilement. Il est ainsi apparu que dans le cas de procédé de galvanisation où les fils présentent une vitesse de défilement élevée, il était avantageux de pouvoir disposer la fente périphérique de la filière d'essuyage à une distance d plus éloignée du bain de métal fondu et comprise entre 3 et 20 cm, plus particulièrement entre 4 et 15 cm, et encore plus préférentiellement entre 4,5 et 11 cm, et que cette distance plus éloignée n'entravait pas la qualité du revêtement, contre toute attente.
En effet, selon l’état des connaissances, il était inenvisageable d'écarter la filière d'essuyage du bain de galvanisation sans créer une atmosphère protectrice autour du système d'essuyage. Or selon la présente invention, il est apparu possible d'augmenter la distance entre l'entrée de la filière d'essuyage et la surface du lit de métal fondu, sans avoir recours à une enceinte sous atmosphère protectrice et sans augmenter de manière significative l'oxydation du métal fondu et la quantité de grumeaux formés. Par ailleurs, comme plusieurs fils de différents diamètres sont généralement galvanisés en même temps, il est par ailleurs apparu très avantageux de pouvoir ajuster la hauteur de chaque filière d'essuyage et d'ainsi écarter (augmenter la distance d) les filières d'essuyage de fils fins du bain de galvanisation et d'écarter moins (réduire la distance d) les filières d'essuyage des fils de diamètre plus important du bain de galvanisation, du moment que d reste compris entre 3 et 20 cm, plus particulièrement entre 4 et 15 cm, et encore plus préférentiellement entre 45 et 11 cm. Pourtant, vu que les fils fins entraînent moins de matière, on aura pu s'attendre à ce que le métal fondu en surplus soit plus facilement oxydé puisqu'il présente une surface de contact avec l'atmosphère ambiante plus importante. Or, il semblerait, sans que le demandeur puisse garantir l'exactitude de cette théorie que le débit de gaz d’essuyage entre 0,6 et 10 m°/heure, plus particulièrement entre 1 et 6 M°/h, qui sort de la fente périphérique pour former la lame de gaz et qui sort ensuite de la filière par le haut (par entrainement por le fil) et par le bas, par entrainement par le surplus de métal fondu suffise à créer un étui de protection permettant de maintenir une qualité de revêtement satisfaisante, sans nécessiter de changement ou de nettoyage fréquent de la filière d'essuyage.
Au sens de la présente invention, le terme « fil » signifie un fil métallique, un câble métallique ainsi que tout autre forme allongée métallique à galvaniser équivalente, de section transversale sensiblement circulaire. Il est également envisagé la possibilité de galvaniser des rubans métalliques, mais dans ce cas, la forme de la fente périphérique doit être adaptée afin de revêtir uniformément les faces du ruban.
Avantageusement, ladite lame de gaz est dirigée de lo périphérie de la lumière d'essuyage vers un axe central de ladite lumière d'essuyage et de préférence de l'intégralité de la périphérie de la lumière d'essuyage vers ledit axe central, plus particulièrement orientée selon un angle compris entre 20 et 40°, plus particulièrement entre 25 et 35°, encore plus particulièrement 27° et 32° vers le bas, mesuré par rapport à un plan perpendiculaire à ladite direction d'essuyage.
Dans une forme de réalisation selon la présente invention, la vitesse de défilement est comprise entre 20 et 200 m/min.
Dans une autre forme de réalisation avantageuse de lo présente invention, le lit de métal fondu dans le bain de galvanisation contient au moins du zinc.
Plus particulièrement selon la présente invention, le lit de métal fondu dans le bain de galvanisation présente une température comprise entre 445 et 480°C.
De manière privilégiée, selon la présente invention, le gaz d'essuyage est de l'azote.
D'autres formes de réalisation du procédé de galvanisation de fils en défilement à grande vitesse suivant l'invention sont indiquées dons les revendications annexées.
L'invention a aussi pour objet un système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés comprenant un corps muni d'un premier et d'un deuxième bloc, ledit premier bloc comprenant un orifice traversant définissant une première partie d'une lumière d'essuyage, et ledit deuxième bloc comprenant un orifice traversant définissant une deuxième partie d'une lumière d'essuyage, ledit premier bloc comprenant une tranchée annulaire disposée autour dudit orifice traversant dudit premier bloc ainsi qu'un canal évidé aboutissant d'une part dans une paroi extérieure dudit premier bloc et d'autre part dans ladite tranchée annulaire, ledit premier bloc et ledit deuxième bloc étant agencés pour être positionnés en position juxtaposée de telle façon que l'orifice traversant du premier bloc et l'orifice traversant du deuxième bloc soient alignés ensemble pour former une lumière d'essuyage formée de ladite première partie de la lumière d'essuyage et de la deuxième partie de la lumière d'essuyage et de manière à ce que ledit deuxième bloc ferme ladite tranchée annulaire pour former une chambre de réception pour ledit gaz et ferme ledit canal évidé pour former un tube d'alimentation en gaz de lo filière d'essuyoge, ladite chambre de réception étant en communication fluidique avec ladite lumière d'essuyage par des moyens de communication fluidique, ledit deuxième bloc étant agencés pour être maintenus en position juxtaposée par un moyen de fixation et pour être relié à une paroi verticale d'une ligne de galvanisation via une plaque de montage, au-dessus d'un bain de galvanisation, caractérisé en ce que ladite plaque de montage est reliée à la paroi verticale de ladite ligne de galvanisation au moyen d'un système de fixation comprenant des moyens d'ajustement de la hauteur àlaquelle la filière est fixée au-dessus du bain de galvanisation.
La filière d'essuyage comporte un corps formé de deux blocs qui sont fixés par des moyens de fixation de manière adjacente l'une à l'autre. Le fait de recourir à une filière d’essuyage en deux parties permet en cas de projection trop importantes, de pouvoir ne remplacer que la partie inférieure. Le système de filière d'essuyage est relié à la ligne de galvanisation par un système de fixation qui comprennent des moyens d'ajustement de la hauteur de la filière d'essuyage et ainsi de pouvoir placer plusieurs filières d'une série de filières d'essuyage à différentes hauteurs en fonction du diamètre du fil, tout en l'écartant du bain de métal fondu afin de le pas obstruer la filière d'essuyage par les turbulences susdites.
Dans un mode de réalisation particulier de la présente invention, ledit premier bloc comprenant un orifice traversant définissant une première partie d'une lumière d'essuyage est formé d'un premier demi-bloc et d'un deuxième demi bloc, le premier demi-bloc présentant une partie dudit orifice traversant et le deuxième demi-bloc présentant une autre partie dudit orifice traversant complémentaire à la partie de l'orifice traversant dudit premier demi-bloc, de manière à ce que lorsque le premier et le deuxième demi-bloc sont juxtaposés l'un à l'autre formant une position de juxtaposition, l'orifice traversant dudit premier bloc soit formé.
De manière similaire, ledit premier bloc présente une tranchée annulaire disposée autour dudit orifice traversant dudit premier bloc. La tranchée annulaire peut-être formée par rassemblement dudit premier et deuxième demi-blocs formant le premier bloc lorsqu'ils sont présents. EN d'autres termes, une partie de la tranchée annulaire peut- être présente dans le premier demi-bloc et une autre portie, complémentaire à la partie de la tranchée annulaire du premier demi- bloc est présente dans le deuxième demi-bloc.
Lorsque deux demi-bloc sont présents pour former le premier et/ou le deuxième bloc de la filière d’essuyage, un système de clamage maintient également en position juxtaposée les demi-blocs. Le fait de recourir à un premier et/ou deuxième bloc en plusieurs parties (au moins deux), pour former la filière d’essuyage permet en cas de projection trop importantes, de pouvoir ne remplacer qu'un seul demi-bloc, mais permet surtout de ne pos devoir retirer le fil en défilement de la ligne de galvanisation lorsqu'une partie est à remplacer.
Le système de filière d'essuyage est relié à la ligne de galvanisation par un système de fixation qui comprennent des moyens d'ajustement de la hauteur de la filière d'essuyage et ainsi de pouvoir placer plusieurs filières d'une série de filières d'essuyage à différentes hauteurs en fonction du diamètre du fil, tout en l'écartant du bain de métal fondu afin de le pas obstruer la filière d'essuyage par les turbulences susdites.
Plus particulièrement, il est également prévu suivant l'invention que ledit deuxième bloc comprenant un orifice traversant définissant une deuxième partie d'une lumière d'essuyage est formé d'un premier demi-bloc et d'un deuxième demi bloc, le premier demi-bloc présentant une partie dudit orifice traversant et le deuxième demi-bloc présentant une autre partie dudit orifice traversant complémentaire à lo partie de l'orifice traversant dudit premier demi-bloc, de manière à ce que lorsque le premier et le deuxième demi-bloc sont juxtaposés l'un à l'autre formant une position de juxtaposition, l'orifice traversant dudit deuxième bloc soit formé.
Avantageusement, dans le système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon la présente invention, ledit moyen de communication fluidique est formé d'une fente périphérique à la lumière d'essuyage qui s'étend entre la chambre de réception du gaz d'essuyage et la lumière d'essuyage et permet ainsi la formation d'une lame de gaz d'essuyage.
Dans une forme de réalisation particulière de l'invention, ladite fente périphérique est inclinée vers le bas d'un angle compris entre 20 et 40°, plus particulièrement entre 25 et 35°, encore plus particulièrement entre 27° et 32° par rapport à un plan perpendiculaire à une direction de défilement des fils galvanisés.
Plus avantageusement encore, la fente périphérique présente une paroi supérieure formée par une partie d'une face extérieure dudit premier bloc, laquelle peut être éventuellement formée par une partie d'une face extérieure du premier demi-bloc et du deuxième demi-bloc. Eventuellement, la fente périphérique présente une paroi inférieure formée par une partie d'une face extérieure dudit deuxième bloc, laquelle peut-être éventuellement formée par une partie d'une face extérieure du premier demi-bloc et du deuxième demi-bloc.
De manière avantageuse, dans le système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon la présente invention, ladite lumière d'essuyage est de forme cylindrique et présente un diamètre d constant sur une hauteur h comprise entre 80 et 100% d'une hauteur H du corps de la filière d’essuyage, de préférence comprise entre 85 et 95% de ladite hauteur H, plus particulièrement entre 90 et 95% de ladite hauteur H.
Plus particulièrement, selon la présente invention, ladite lumière d'essuyage présente une embouchure supérieure et une embouchure inférieure, aboutissant chacune de préférence dans le mileu ambiant, ladite embouchure inférieure étant agencée pour permettre une entrée de fils galvanisés et une sortie à contre-courant dudit gaz d’essuyage et ladite embouchure supérieure étant agencée pour permettre une sortie de fils galvanisés essuyés et du gaz d'essuyage de manière co-courante, ladite embouchure supérieure s'étendant sur une hauteur prédéterminée hl entre une extrémité liée à ladite lumière de diamètre constant et une extrémité liore formant une sortie pratiquée dans la face externe dudit corps de filière et présente sur cette hauteur hl un diamètre croissant allant du diamètre d à une diamètre D1 qui est le diamètre de la sortie, ladite embouchure inférieure s'étendant sur une hauteur prédéterminée h2 entre une extrémité liée à ladite lumière de diamètre constant et une extrémité libre formant une sortie pratiquée dans la face externe dudit corps de filière et présente sur cette hauteur h2 un diamètre croissant allant du diamètre d à une diamètre D2 qui est le diamètre de la sortie, avec D2>D1.
De manière encore plus avantageuse, selon la présente invention, ladite embouchure inférieure présente une première partie s'étendant sur une hauteur prédéterminée h3 juxtaposée à ladite lumière de diamètre constant qui présente sur cette hauteur h3 un diamètre croissant allant du diamètre d à un diamètre D2 et une deuxième partie s'étendant sur une hauteur prédéterminée h4, juxtaposée à ladite première partie. qui présente sur cette hauteur h4 ledit diamètre D2.
Dans un mode de réalisation particulier, ladite embouchure supérieure présente une paroi qui est formée par une partie d'une face extérieure dudit premier et dudit deuxième demi-bloc formant le premier bloc de la filière d'essuyage.
Dans un mode de réalisation particulier, ladite embouchure inférieure présente une paroi qui est formée par une partie d'une face extérieure dudit premier et dudit deuxième demi-bloc formant le deuxième bloc de la filière d'essuyage.
De préférence, selon la présente invention, ledit premier bloc présente un pourtour et ledit deuxième bloc présente un pourtour complémentaire au pourtour dudit premier bloc.
De manière plus préférentielle, dans le système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon la présente invention, ladite fente périphérique s'étend sur une distance entre ladite chambre de réception dudit gaz d'essuyage et ladite lumière d'essuyage comprise entre 1 et 4 mm.
Plus particulièrement, ladite fente périphérique présente une hauteur formant une épaisseur de ladite lame de gaz d'essuyage comprise entre 0,3 et 0,5 mm, plus particulièrement entre 0,35 et 0,45 mm et plus particulièrement d'environ 0,4 mm.
Dans une forme de réalisation avantageuse de la présente invention, ladite chambre de réception dudit gaz d'essuyage présente un volume compris entre 1,2 et 8 cm”, plus particulièrement entre 1,35 et 7 cms, et de préférence entre 1,5 et 6 cm°.
Dans encore une autre forme de réalisation avantageuse de la présente invention, la distance entre ladite chambre de réception dudit gaz d'essuyage et ladite lumière d'essuyage est comprise entre 1 et 4 mm mm
Selon la présente invention, dans le système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon la présente invention, lesdits des moyens d'ajustement de la hauteur à laquelle la filière est fixée au-dessus du bain de galvanisation sont choisis parmi une patte de fixation à orifices permettant de fixer ladite filière d'essuyage à différentes hauteurs au-dessus du bain de galvanisation, un rail de guidage cranté dans lequel coulisse un guide fixé à ladite filière d'essuyage, un système à crémaillère permettant d'ajuster la hauteur de la filière d'essuyage au-dessus du bain de galvanisation, et leurs analogues, lesdits moyens d'ajustement étant agencé pour permette une fixation de ladite filière d’essuyage à une hauteur telle que ladite fente périphérique est située à une hauteur comprise entre 3 et 20 cm, plus particulièrement entre 4 et 15 cm, et encore plus préférentiellement entre 4,5 et 11 cm par rapport à une surface supérieure du lit de métal fondu.
Plus particulièrement, lesdits des moyens d'ajustement de la hauteur à laquelle la filière est fixée au-dessus du bain de galvanisation sont agencés pour permettre un contact entre la lame de gaz d'essuyage et ledit fil en défilement à une hauteur comprise entre comprise entre 2,5 et 19,5 cm, plus particulièrement entre 3,5 et 14,5 cm, encore plus particulièrement entre 4 et 10,5 cm.
De manière avantageuse, selon la présente invention, un système de clamage est prévu qui comprend ladite plaque de montage, de préférence ladite plaque de montage dorsale qui est reliée à ladite paroi verticale de la ligne de galvanisation par l'intermédiaire dudit système de fixation.
De manière préférentielle, ledit système de fixation comprend en outre un ensemble de tiges boulonnées.
Plus particulièrement encore, selon la présente invention, une partie des tiges boulonnées est agencée pour assembler ladite plaque dorsale de montage auxdits moyens d'ajustement de la hauteur et dont une autre partie permet d'assembler lesdits moyens d'ajustement de la hauteur à ladite paroi verticale de la ligne de galvanisation.
De manière particulièrement préférentielle, selon la présente invention, ledit système de fixation comprend en outre un élément compressible disposé entre la plaque de montage dorsale et lesdits moyens d'ajustement de la hauteur qui permet le centrage de la lumière de la filière autour du fil
D'autres formes de réalisation du système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés suivant l'invention sont indiquées dans les revendications annexées.
La présente invention se rapporte enfin à une ligne de galvanisation comprenant : a. Une série de moyens d'alimentation d'une série de fils à galvaniser, agencés pour entraîner ladite série de fils à partir d'une série de sources de fils et alimenter les fils à galvaniser, chaque moyen d'alimentation de ladite série de moyens d'alimentation de fils étant indépendante ou synchronisée, b. Un bain de galvanisation agencé pour contenir au moins un métal fondu de galvanisation, ledit bain de galvanisation étant muni de moyens de chauffage et alimenté par ladite série de moyens d'alimentation en série de fils à galvaniser, ledit bain de galvanisation étant agencé pour former une série de fils galvanisés
C. Au moins un premier moyen de guidage agencé pour guider les fils de la série de fils galvanisés en dehors du bain et les mettre en position d'essuyage, d. Une série de systèmes de filière d'essuyage selon l'une quelconque des revendications 8 à 24, chaque système de filière d'essuyage étant agencé pour essuyer un fil de la série de fils galvanisés par passage au travers d'une lumière d'essuyage selon une direction de défilement, ladite lumière d'essuyage étant par ailleurs parcourue par un gaz d'essuyage présentant une direction d’essuyage différente de la direction de défilement, e. Au moins un deuxième moyen de guidage, agencé pour guider les fils de la série de fils essuyés vers une étape de collecte du fil.
Au sens de la présente invention, l'étape permettant de guider les fils de la série de fils essuyés vers une étape de collecte du fil signifie qu'entre l'essuyage et la collecte du fil galvanisé, une ou plusieurs étapes intermédiaires peuvent être présente. On peut ainsi prévoir une deuxième golvonisation identique ou différente de la première, un traitement thermique, un traitement de finissage, physique, chimique ou physico-chimique, un séchage, un bobinage du fil, et analogue…
D'autres formes de réalisation de la ligne de galvanisation suivant l'invention sont indiquées dans les revendications annexées
D'autres caractéristiques, détails et avantages de l'invention ressortiront de la description donnée ci-après, à titre non limitatif et en faisant référence aux dessins.
Dans les dessins, la figure 1 est une vue en coupe du système de filière d'essuyage selon la présente invention.
La figure 2 est une vue en perspective du corps de filière su système de filière d'essuyage de la figure 1.
La figure 3 est une vue en perspective du système présenté à la figure 1 dans laquelle les blocs du corps de la filière d'essuyage sont présentés en vue éclatée.
Les figures 4A à 4E sont des vues en coupe de différentes formes de réalisation du corps de la filière d'essuyage selon la présente invention.
La figure 5 est une vue en perspective d'une partie d'une ligne de galvanisation où l'on peut voir le système de filière d'essuyage selon l'invention intégré sur un bain de galvanisation.
Dans les figures, des éléments identiques ou similaires portent les mêmes numéros de référence.
Comme indiqué précédemment, la présente invention a pour but de procurant un procédé de galvanisation permettant de maintenir une qualité constante de revêtement, qui ne dépend pas du diamètre de fil à traiter, faisant face aux vitesses de défilement de plus en plus importantes tout en apportant la flexibilité requise pour Ia production.
Ainsi, le procédé selon l'invention est un procédé de galvanisation de fils en défilement à grande vitesse qui comprend une alimentation d'un bain contenant au moins un métal fondu pour Ia galvanisation d' une série de fils en défilement où chaque fil de la série présente une grandeur D.v comprise entre 140 et 400 mm.m/min. Une fois galvanisés par défilement dans le bain de galvanisation, chacun des fils est guidé en défilement pour passer d'une direction de galvanisation à une direction d'essuyage, typiquement une position verticale du Das vers le haut. Chaque fil de ladite série de fils en défilement passe ainsi au travers d'une filière d'essuyage traversée par une lame de gaz d'essuyage avant d'être collecté, éventuellement après avoir subi d'autres traitements ultérieurs.
L'essuyage dans le procédé selon la présente invention est réalisé au moyen d'un système de filière d'essuyage au gaz, par exemple àl'ozote tel qu'illustré à la figure 1.
Comme on peut le voir à la figure 1, le système de filière d’essuyage au gaz comprend une filière comprenant un corps 1 muni d'un premier bloc 2 et d'un deuxième bloc 3. Le premier bloc 2 comprend un orifice traversant 4 définissant une première partie d'une lumière d'essuyage 5, et le deuxième bloc 3 comprend également un orifice traversant 6 définissant une deuxième partie d'une lumière d'essuyage 5.
Le corps 1 est montré plus en détail à la figure 2. Comme on peut le voir, le premier bloc 2 est formé d'un premier demi-bloc 7 et d'un deuxième demi-bloc 8. Le premier demi-bloc 7 présente une partie dudit orifice traversant 4 et le deuxième demi-bloc 8 présente une autre partie dudit orifice traversant 4. Cette dernière est complémentaire à la partie de l'orifice traversant 4 dudit premier demi-bloc 7. Ainsi, une fois rassemblé pour former le premier bloc 2, c'est-à-dire quand le premier et le deuxième demi-blocs (7,8) sont juxtaposés l'un à l'autre (position de juxtaposition), l'orifice traversant 4 dudit premier bloc 2 est formé.
Le deuxième bloc 3 est aussi formé d'un premier demi-bloc 9 et d'un deuxième demi-bloc 10. Le premier demi-bloc 9 présente une partie de l'orifice traversant (non illustré) et le deuxième demi-bloc présente une autre partie dudit orifice traversant (non illustré). Cette dernière est complémentaire à la partie de l'orifice traversant dudit premier demi-bloc. Ainsi, une fois rassemblé pour former le deuxième bloc 3, c'est-à-dire quand le premier 9 et le deuxième demi-bloc 10 sont juxtaposés l'un à l'autre (position de juxtaposition), l'orifice traversant 6 dudit deuxième bloc 3 est formé. L'orifice traversant 4 du premier bloc 2 et l'orifice traversant 6 du deuxième bloc 3 forment ensemble la lumière de la filière 5. En d'autres termes, le premier bloc 2 et le deuxième bloc 3 sont agencés pour être positionnés en position juxtaposée (superposée) de telle façon que l'orifice traversant 4 du premier bloc 2 et l'orifice traversant 4 du deuxième bloc 3 soient alignés ensemble pour former une lumière d'essuyoge 5 formée de ladite première partie de la lumière d'essuyage et de la deuxième partie de la lumière d'essuyage.
En revenant maintenant à la figure 1, le premier bloc 2 de lo filière d'essuyage comporte une tranchée annulaire 11 disposée autour de l'orifice traversant 4 du premier bloc 2 et un canal évidé 12 aboutissant d'une part dans une paroi extérieure 13 du premier bloc 2 et d'autre part dans ladite tranchée annulaire 11.
Lorsque le premier 2 et le deuxième bloc 3 sont superposés de façon à former la lumière d'essuyage 5, le deuxième bloc 3 ferme ladite tranchée annulaire 11 pour former une chambre de réception pour le gaz d'essuyyage et ferme ledit canal évidé 12 pour former un tube d'alimentation en gaz d'essuyage de la filière d'essuyage. La chambre de réception est en communication fluidique par une fente périphérique 20 avec la lumière d'essuyage 5 par des moyens de communication fluidique.
Le deuxième bloc 3 et le premier bloc 2 sont maintenus en position juxtaposée (superposée) par un moyen de fixation 14 (voir figure 2), comme par exemple par une série de vis et sont reliés à une paroi verticale 16 d'une ligne de galvanisation via une plaque de montage 15 au-dessus d'un bain de galvanisation.
La plaque de montage 15 est de préférence une plaque de montage dorsale qui est reliée à la paroi verticale 16 de ladite ligne de galvanisation au moyen d'un système de fixation 17 comprenant des moyens d'ajustement de la hauteur 18 à laquelle la filière est fixée au- dessus du bain de galvanisation.
Dans la forme de réalisation illustrée à la figure 1, un système de clamage 19 est prévu qui comprend ladite plaque de montage dorsale 15 qui est reliée à ladite paroi verticale 16 de la ligne de galvonisation par l'intermédiaire du système de fixation 17.
Le système de clamage est par exemple celui décrit dans le document CN109666880, ainsi que son fonctionnement, incorporé en référence dans la présente demande de brevet,
Dans la forme de réalisation illustrée, le premier bloc 2 de lo filière d'essuyage comporte une tranchée annulaire 11 disposée autour de l'orifice traversant 4 dudit premier bloc 2. La tranchée annulaire 11 peut-être formée par rassemblement dudit premier 7 et deuxième demi- blocs 8 formant le premier bloc 2. En d'autres termes, une partie de la tranchée annulaire peut-être présente dans le premier demi-bloc 7 et une autre partie, complémentaire à la partie de la tranchée annulaire du premier demi-bloc 7 est présente dans le deuxième demi-bloc 8.
Le système de clamage 19 maintient également en position juxtaposée les demi-blocs 7, 8. Le fait de recourir à un premier et/ou deuxième bloc 2,3 en plusieurs parties (au moins deux), pour former la filière d'essuyage permet en cas de projection trop importantes, de pouvoir ne remplacer qu'un seul demi-bloc, mais permet surtout de ne pas devoir retirer le fil en défiement de la ligne de galvanisation lorsqu'une partie est à remplacer.
Les moyens d'ajustement de la hauteur 17,18 à laquelle la filière est fixée au-dessus du bain de galvanisation sont formés dans la forme de réalisation illustrée par une patte de fixation 17 à orifices 18 permettant de fixer ladite filière d'essuyage à différentes hauteurs au- dessus du bain de galvanisation. Les moyens d'ajustement de la hauteur 17,18 sont agencés et dimensionnés pour permette une fixation de ladite filière d'essuyage à une hauteur telle que ladite fente périphérique 20 est située à une hauteur X comprise entre 3 et 20 cm, plus particulièrement entre 4 et 15 cm, et encore plus préférentiellement entre 4,5 et 11 cm par rapport à une surface supérieure du lit 21de métal fondu.
De manière préférentielle, ledit système de fixation comprend en outre un ensemble de tiges boulonnées 22.
Plus particulièrement encore, selon la présente invention, une partie des tiges boulonnées 22 est agencée pour assembler ladite plaque dorsale de montage 15 auxdits moyens d'ajustement de la hauteur 18 et dont une autre partie permet d'assembler lesdits moyens d'ajustement de la hauteur à ladite paroi verticale 16 de la ligne de galvanisation.
De manière particulièrement préférentielle, selon la présente invention, ledit système de fixation comprend en outre un élément compressible 23 disposé entre la plaque dorsale de montage 15 du système de clamage 19 et lesdits moyens d'ajustement de la hauteur 17, 18.
Comme on peut le voir par ailleurs plus en détail sur la figure 3, qui est une vue en perspective du système de clamage et du bloc de la filière, où certains éléments ont été retirés pour permettre une meilleure visualisation, notamment des demi-blocs. Le système de fixation 17 est également indiqué et comporte une partie supérieure sensiblement rectiligne et une partie inférieure également rectiligne, ainsi qu'une partie intermédiaire qui est oblique pour faciliter l'accès. On peut également voir sur cette figure que le deuxième bloc 3 ou les premier 10 et deuxième demi-blocs 9 formant le deuxième bloc 3 sont munies d'épaulement latéraux qui facilitent l'emboitement dans le système de clamage 19. Le système de clamage 19 peut dans une variante selon la présente invention maintenir les deux premiers demi-blocs superposés 8, 10 l'un sur l'autre ainsi que les deux deuxièmes demi-blocs 7, 9 superposés l'un sur l'autre, ou encore le premier 2 et le deuxième bloc 3 superposés l'un sur l'autre.
Les figures 4A à 4E montrent différentes géométries intérieures du corps de la filière. Ainsi, pour des fils de 14 à 22 mm de diamètre voire plus, on aura recours à une lumière d'essuyage 5 plus large (figure 4A et
AC), tandis que le tube d'alimentation 12 sera plus court ou la chambre de réception 11 du goz d'essuyage sera plus restreinte. Pour des fils compris entre 6 et 10 mm de diamètre, on aura recours typiquement à des géométries telles qu'illustrées aux figures 4B, 4D OU 4E.
Sur les figures 4A à 4E, on peut aussi voir différentes géométries du moyen de communication fluidique, formé d'une fente périphérique
20 à la lumière d'essuyage 4 qui s'étend entre la chambre de réception 11 du goz d'esssyage et la lumière d'essuyoge 5. Cette fente périphérique 20 permet ainsi Ia formation d'une lame de gaz d'essuyage.
Dans la forme de réalisation illustrée à la figure 4D, ladite fente périphérique 20 est inclinée vers le bas d'un angle compris entre20 et 40°, plus particulièrement entre 25 et 35°, encore plus particulièrement entre 27° et 32° par rapport à un plan perpendiculaire à une direction de défilement des fils galvanisés.
La fente périphérique 20 présente une paroi supérieure formée par une partie d'une face extérieure dudit premier bloc 2, laquelle est formée par une partie d'une face extérieure du premier demi-bloc 7 et du deuxième demi-bloc 8. La fente périphérique 20 présente une paroi inférieure formée par une partie d'une face extérieure dudit deuxième bloc 3, laquelle est formée par une partie d'une face extérieure du premier demi-bloc 9 et du deuxième demi-bloc 10.
La lumière d'essuyage est de forme cylindrique et présente un diamètre d constant sur une hauteur h comprise entre 80 et 100% d'une hauteur H du corps de la filière d'essuyage, de préférence comprise entre 85 et 95% de ladite hauteur H, plus particulièrement entre 90 et 95% de ladite hauteur H.
Plus particulièrement, selon la présente invention, ladite lumière d'essuyage présente une embouchure supérieure 23 et une embouchure inférieure 24, aboutissant chacune de préférence dans le milieu ambiant.
L'embouchure inférieure 24 est agencée pour permettre une entrée de fils galvanisés et une sorte à contre-courant dudit gaz d'essuyage et ladite embouchure supérieure 23 est agencée pour permettre une sortie de fils galvanisés essuyés et du gaz d'essuyage de manière co-courante.
L’embouchure supérieure 23 s'étendant sur une hauteur prédéterminée hl entre une extrémité liée à ladite lumière 5 de diamètre d constant et une extrémité libre formant une sortie pratiquée dans la face externe 25 dudit corps de filière et présente sur cette hauteur hl un diamètre croissant allant du diamètre d à une diamètre D1 qui est le diamètre de la sortie.
L'embouchure inférieure 24 s'étendant sur une hauteur prédéterminée h2 entre une extrémité liée à ladite lumière 5 de diamètre d constant et une extrémité libre formant une sortie pratiquée dans la face externe 26 dudit corps de filière et présente sur cette hauteur h2 un diamètre croissant allant du diamètre d à une diamètre D2 qui est le diamètre de la sortie, avec D2>D1.
Dans certaines variantes, ladite embouchure inférieure 24 présente une première partie s'étendant sur une hauteur prédéterminée h3 juxtaposée à ladite lumière de diamètre constant d qui présente sur cette hauteur h3 un diamètre croissant allant du diamètre d à un diamètre D2 et une deuxième partie s'étendant sur une hauteur prédéterminée h4, juxtaposée à ladite première partie, qui présente sur cette hauteur h4 ledit diamètre D2.
Sur les figures 4A à 4E, l'embouchure supérieure 23 présente une paroi qui est formée par une partie d'une face extérieure dudit premier 7 et dudit deuxième demi-bloc 8 formant le premier bloc 2 de la filière d'essuyage. L'embouchure inférieure 24 présente une paroi qui est formée par une partie d'une face extérieure dudit premier demi-bloc 9 et dudit deuxième demi-bloc 10 formant le deuxième bloc 3 de la filière d'essuyage.
A la figure 5, on peut voir une partie d'une ligne de galvanisation dans laquelle le bain de galvanisation 27 se trouve sous le système de filière d'essuyage. Le moyen de guidage agencé pour guider les fils de la série de fils galvanisés en dehors du bain et les mettre en position d'essuyage est un sabot de guidage 28. Une série de systèmes de filière d'essuyage est présente et chaque système de filière d'essuyage étant agencé pour essuyer un fil 29 de la série de fils galvanisés par passage au travers d'une lumière d'essuyage 5 selon une direction de défilement.
Il est bien entendu que la présente invention n'est en aucune façon limitée aux formes de réalisations décrites ci-dessus et que bien des modifications peuvent y être apportées sans sortir du cadre des revendications annexées.

Claims (24)

REVENDICATIONS
1. Procédé de golvanisation de fils en défiement à grande vitesse comprenant: (vi) Une alimentation d'un bain de galvanisation comprenant au moins lit de métal fondu par une série de fils en défilement où chaque fil de la série présente une grandeur D.v comprise entre 140 et 400 mm.m/min (vi) Une galvonisation par défilement de chacun des fils de ladite série de fils au travers dudit bain de galvanisation, (vii) Un guidage de chacun des fils de ladite série de fils en défilement d'une direction de galvanisation à une direction d'essuyage, (x) Un essuyage de chaque fil de ladite série de fils en défilement par passage au travers d'une lumière d'essuyage d'une filière d'essuyage , ladite lumière d'essuyage étant traversée par une lame de gaz d'essuyage sortant d'une fente périphérique à ladite lumière d'essuyage à un débit de gaz d'essuyage compris entre 0,6 et 9 m°/heure, plus particulièrement entre 1 et 6 m°/heure, ladite fente d’essuyage étant positionnée à une distance ajustable d par rapport au lit de métal fondu comprise entre 3 et 20 cm, plus particulièrement entre 4 et 15 cm, et encore plus préférentiellement entre 4,5 et 11 cm. (x) Un guidage de chacun des fils de ladite série de fils en défilement vers un dispositif de collecte.
2. Procédé de galvanisation de fils en défilement à grande vitesse selon la revendication 1, dans lequel ladite lame de gaz est dirigée de la périphérie de la lumière d'essuyage vers un axe central de ladite lumière d’essuyage et de préférence de l'intégralité de la périphérie de la lumière d'essuyage vers ledit axe central, plus particulièrement orientée selon un angle compris entre 20 et 40°, plus particulièrement entre 25 et 35°, encore plus particulièrement 27° et 32° vers le bas, mesuré par rapport à un plan perpendiculaire à ladite direction d'essuyage.
3. Procédé de galvanisation de fils en défilement à grande vitesse selon la revendication 1 ou la revendication 2, dans lequel la vitesse de défilement est comprise entre 20 et 200 m/min.
4. Procédé de galvanisation de fils en défilement à grande vitesse selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le lit de métal fondu dans le bain de galvanisation contient au moins du zinc.
5. Procédé de galvanisation de fils en défilement à grande vitesse selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le lit de métal fondu dans le bain de galvanisation présente une température comprise entre 445 et 480°C.
6. Procédé de galvanisation de fils en défilement à grande vitesse selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le gaz d'essuyage est de l'azote.
7. Système de filière d’essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés comprenant un corps muni d'un premier et d'un deuxième bloc, ledit premier bloc comprenant un orifice traversant définissant une première partie d'une lumière d'essuyage, et ledit deuxième bloc comprenant un orifice traversant définissant une deuxième partie d'une lumière d'essuyage, ledit premier bloc présentant une tranchée annulaire disposée autour dudit orifice traversant dudit premier bloc ainsi qu'un canal évidé aboutissant d'une part dans une paroi extérieure dudit premier bloc et d'autre part dans ladite tranchée annulaire, ledit premier bloc et ledit deuxième bloc étant agencés pour être positionnés en position juxtaposée de telle façon que Vorifice traversant du premier bloc et l'orifice traversant du deuxième bloc soient alignés ensemble pour former une lumière d'essuyage formée de ladite première partie de la lumière d'essuyage et de la deuxième partie de la lumière d'essuyage et de manière à ce que ledit deuxième bloc ferme ladite tranchée annulaire pour former une chambre de réception pour ledit gaz et ferme ledit canal évidé pour former un tube d'alimentation en gaz de la filière d'essuyage, ladite chambre de réception étant en communication fluidique avec ladite lumière d'essuyage par des moyens de communication fluidique, ledit premier bloc et ledit deuxième bloc étant agencés pour être maintenus en position juxtaposée par un moyen de fixation et pour être relié à une paroi verticale d'une ligne de galvanisation via une plaque de montage, au-dessus d'un bain de galvanisation, caractérisé en ce que ledit système de clampage est relié à la paroi verticale de ladite ligne de galvanisation au moyen d'un système de fixation comprenant des moyens d'ajustement de la hauteur àlaquelle la filière est fixée au-dessus du bain de galvanisation.
8. Système de filière d’essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon la revendication 7, dans lequel ledit moyen de communication fluidique est formé d'une fente périphérique à la lumière d'essuyage qui s'étend entre la chambre de réception du gaz d'essuyage et la lumière d'’essuyage et permet ainsi la formation d'une lame de gaz d'essuyage.
9. Système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon la revendication 7 ou la revendication 8, dans lequel ladite fente périphérique est inclinée vers le bas d'un angle compris entre 20 et 40°, plus particulièrement entre 25 et 35°, encore plus particulièrement entre 27° et 32° par rapport à un plan perpendiculaire à une direction de défilement des fils galvanisés.
10. Système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l'une quelconque des revendications 7 à 9, dons lequel ladite lumière d'essuyoge est de forme cylindrique et présente un diamètre d constant sur une hauteur h comprise entre 80 et 100% d'une hauteur H du corps de la filière d'essuyage, de préférence comprise entre 85 et 95% de ladite hauteur H, plus particulièrement entre 90 et 95% de ladite hauteur H.
11. Système de filière d’essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l'une quelconque des revendications 7 à 10, dans lequel ladite lumière d'essuyage présente une embouchure supérieure et une embouchure inférieure, ladite embouchure inférieure étant agencée pour permettre une entrée de fils galvanisés et une sortie à contre-courant dudit gaz d'essuyage et ladite embouchure supérieure étant agencée pour permettre une sortie de fils galvanisés essuyés et du gaz d'essuyage de manière co-courante, ladite embouchure supérieure s'étendant sur une hauteur prédéterminée hl entre une extrémité liée à ladite lumière de diamètre constant et une extrémité liore formant une sortie pratiquée dans la face externe dudit corps de filière et présente sur cette hauteur hl un diamètre croissant allant du diamètre d à une diamètre D1 qui est le diamètre de la sortie, ladite embouchure inférieure s'étendant sur une hauteur prédéterminée h2 entre une extrémité liée à ladite lumière de diamètre constant et une extrémité libre formant une sortie pratiquée dans la face externe dudit corps de filière et présente sur cette hauteur h2 un diamètre croissant allant du diamètre d à une diamètre D2 qui est le diamètre de la sortie, avec D2>D1.
12. Système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l'une quelconque des revendications 7 à 11, dans lequel ladite embouchure inférieure présente une première partie s'étendant sur une hauteur prédéterminée h3 juxtaposée à ladite lumière de diamètre constant qui présente sur cette hauteur h3 un diamètre croissant allant du diamètre d à un diamètre D2 et une deuxième partie s'étendant sur une hauteur prédéterminée h4, juxtaposée à ladite première partie. qui présente sur cette hauteur h4 ledit diamètre D2.
13. Système de filière d’essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l'une quelconque des revendications 7 à 12 dans lequel ledit premier bloc présente un pourtour et ledit deuxième bloc présente un pourtour complémentaire au pourtour dudit premier bloc.
14. Système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l'une quelconque des revendications 7 à 13, dans lequel ladite fente périphérique s'étend sur une distance entre ladite chambre de réception dudit gaz d'essuyage et ladite lumière d'essuyage comprise entre 1 et 4 mm.
15. Système de filière d’essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l'une quelconque des revendications 7 à 14, dans lequel ladite fente périphérique présente une hauteur formant une épaisseur de ladite lame de gaz d'essuyage comprise entre 0,3 et 0,5 mm, plus particulièrement entre 0,35 et 0,45 mm et plus particulièrement d'environ 0,4 mm.
16. Système de filière d’essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l'une quelconque des revendications 7 à 15, dans lequel ladite chambre de réception dudit gaz d'essuyage présente un volume compris entre 1,2 et 8 cm°, plus particulièrement entre 1,35 et 7 cm3, et de préférence entre 1,5 et 6 cm:.
17. Système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l'une quelconque des revendications 7 à
16, dans lequel la distance entre ladite chambre de réception dudit gaz d'essuyage et ladite lumière d'essuyage est comprise entre 1 et 4 mm.
18. Système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l’une quelconque des revendications 7 à 17, dons lequel lesdits des moyens d'ajustement de la hauteur à laquelle la filière est fixée au-dessus du bain de galvanisation sont choisis parmi une patte de fixation à orifices permettant de fixer ladite filière d'essuyage à différentes hauteurs au-dessus du bain de galvanisation, un rail de guidage cranté dans lequel coulisse un guide fixé à ladite filière d'essuyage, un système à crémaillère permettant d'ajuster la hauteur de la filière d'essuyage au-dessus du bain de galvanisation, et leurs analogues, lesdits moyens d'ajustement étant agencé pour permette une fixation de ladite filière d'essuyage à une hauteur telle que ladite fente périphérique est située à une hauteur comprise entre 3 et 20 cm, plus particulièrement entre 4 et 15 cm, et encore plus préférentiellement entre 4,5 et 11 cm par rapport à une surface supérieure du lit de métal fondu.
19. Système de filière d’essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l’une quelconque des revendications 7 à 18, dans lequel lesdits des moyens d'ajustement de la hauteur à laquelle a filière est fixée au-dessus du bain de galvanisation sont agencés pour permettre un contact entre la lame de gaz d'essuyage et ledit fil en défilement à une hauteur comprise entre comprise entre 2,5 et 19,5 cm, plus particulièrement entre 3,5 et 14,5 cm, encore plus particulièrement entre 4 et 10,5 cm.
20. Système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l’une quelconque des revendications 7 à 19, dans lequel un système de clamage est prévu qui comprend ladite plaque de montage, de préférence ladite plaque de montage dorsale qui est reliée à ladite paroi verticale de la ligne de galvanisation par l'intermédiaire dudit système de fixation.
21. Système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l'une quelconque des revendications 7 à 20, dans lequel ledit système de fixation comprend en outre un ensemble de tiges boulonnées.
22. Système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon la revendication 21, dans lequel une partie des tiges boulonnées est agencée pour assembler ladite plaque dorsale de montage auxdits moyens d'ajustement de la hauteur et dont une autre partie permet d'assembler lesdits moyens d'ajustement de la hauteur à ladite paroi verticale de la ligne de galvanisation.
23. Système de filière d'essuyage au gaz, de préférence à l'azote de fils galvanisés selon l'une quelconque des revendications 7 à 22, dans lequel ledit système de fixation comprend en outre un élément compressible disposé entre la plaque dorsale de montage et lesdits moyens d'ajustement de la hauteur.
24. Ligne de galvanisation comprenant :
a. Une série de moyens d'alimentation d'une série de fils à galvaniser, agencés pour entraîner ladite série de fils à partir d’une série de sources de fils et alimenter les fils à galvaniser, chaque moyen d'alimentation de ladite série de moyens d'alimentation de fils étant indépendante ou synchronisée,
Db. Un bain de galvanisation agencé pour contenir au moins un métal fondu de galvanisation, ledit bain de galvanisation étant muni de moyens de chauffage et alimenté par ladite série de moyens d'alimentation en série de fils à galvaniser, ledit bain de galvanisation étant agencé pour former une série de fils galvanisés
C. Au moins un premier moyen de guidage agencé pour guider les fils de la série de fils galvanisés en dehors du bain et les mettre en position d'essuyage,
d. Une série de systèmes de filière d'essuyage selon l'une quelconque des revendications 7 à 23, chaque système de filère d'essuyage étant agencé pour essuyer un fil de la série de fils galvanisés par passage au travers d'une lumière d'essuyage selon une direction de défilement, ladite lumière d’essuyage étant par ailleurs parcourue par un gaz d'essuyage présentant une direction d'essuyage différente de la direction de défilement,
e. Au moins un deuxième moyen de guidage, agencé pour guider les fils de la série de fils essuyés vers une étape de collecte du fil.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR825276A (fr) * 1936-08-13 1938-02-28 Metalloys Company Procédé pour recouvrir des fils et appareil pour son application
FR2560218A1 (fr) * 1984-02-23 1985-08-30 Australian Wire Ind Pty Appareil et procede de refroidissement d'un revetement sur une fil metallique
EP0357297A1 (fr) * 1988-08-24 1990-03-07 Australian Wire Industries Pty. Limited Buse d'essorage par soufflage
CN109666880A (zh) * 2019-02-01 2019-04-23 法尔胜泓昇集团有限公司 钢丝抹锌气刀的夹装工具

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4339480A (en) 1980-04-11 1982-07-13 Bethlehem Steel Corporation Gas wiping apparatus and method of using

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR825276A (fr) * 1936-08-13 1938-02-28 Metalloys Company Procédé pour recouvrir des fils et appareil pour son application
FR2560218A1 (fr) * 1984-02-23 1985-08-30 Australian Wire Ind Pty Appareil et procede de refroidissement d'un revetement sur une fil metallique
EP0357297A1 (fr) * 1988-08-24 1990-03-07 Australian Wire Industries Pty. Limited Buse d'essorage par soufflage
CN109666880A (zh) * 2019-02-01 2019-04-23 法尔胜泓昇集团有限公司 钢丝抹锌气刀的夹装工具

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