BE439010A - - Google Patents

Info

Publication number
BE439010A
BE439010A BE439010DA BE439010A BE 439010 A BE439010 A BE 439010A BE 439010D A BE439010D A BE 439010DA BE 439010 A BE439010 A BE 439010A
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
bands
light
layer
field
measured
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Publication of BE439010A publication Critical patent/BE439010A/fr

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
    • G01B11/0616Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
    • G01B11/0675Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating using interferometry

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Procédé et dispositif pour le mesurage optique de l'épaisseur de couches transparentes, Demande de brevetdéposée en Allemagne le 6 juin 1939 
Le mesurage optique de couches transparentes d'épaisseur de l'ordre des couches utilisées communément comme supports pour films photographiques se faisait jusqu'ici par épreuves improvi-   sées,avec   l'aide d'un micromètre ou d'un instrument   semblable.Ce   procédé présente divers défauts.D'une   part,on   ne peut éviter qu'aux endroits où l'épreuve est effectuée, la couche soit déformée par la pression de l'instrument de mesure et d'autre   part ,on   ne peut effectuer des mesures,par ce   procédé,que   si la couche est immobile.De plus ,ce procédé a encore le défaut que pour les films qui,par sui te de leur grande largeur,

  ne peuvent être mesurés à partir dubord snr toute leur largeur par les instruments connus,il faut découper les endroits destinés aux   mesures.Enfin,   un autre défaut est que,avec les instruments connus,le film doit se trouver à un endroitbien déterminé de l'instrument pour ef-   fectuer   le mesurage. 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 



   Ces défauts sont évi tes par la présente invention. 



   Le procédé conforme à l'invention consiste en ce que l'on projette sur la couche transparente à mesurer un faisceau luni neux dont la composition spectrale comprend toutes les couleurs visibles;ce faisceau étant réfléchi à la face antérieure età la face postérieure de cette couche, en ce que le faisceau lumineux réfléchi est décomposé spectralement et en ce que le nombre des endroits d'extinction (raies ou bandes d'interférence) se présentant de ce fait dans un champ déterminé de longueur d'ondes sert de base pour la mesure de l'épaisseur de la couche.On se base sur la formule:

   
 EMI2.1 
 W
D est l'épaisseur de couche à mesurer,
P est le nombre de raies ou bandes d'extinction apparaissant dans l'image de mesure,
1 et s sont respectivement la limite inférieure et la limi- te supérieure du champ de longueurs d'ondes dans lequel sont comptées les raies ou bandes d'extinction, n est l'indice de réfraction de la couche à mesurer,   est   l'angle d'incidence du faisceau lumineux projeté sur la couche. 



   De cette formule,il ressort que le nombre P des bandes obscures dépend de l'angle ,sous lequel le faisceau lumineux tombe sur la couche à mesurer. Si le nombre de bandes obscures doit être pratiquement indépendant,dans le spectre d'analyse,de l'angle d'incidence choisi,on fait tomber autant que possible le faisceau d'éclairage verticalement sur la couche à   mesurer.On   peut aussi choisir une incidence,mais cette incidence, vis-à-vis de la direction verticale,est nuisible en ce sens que,pcur une telle incidence,il n' y a pratiquement que la face antérieure de 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 la couche qui réfléchisse la lumière.Il s'en suitune image con- fuse de mesurage. 



   Dans la réalisation pratique de l'objetde l'invention,il fautveiller également aux choix de l'ouverture du faisceau d' éclairage et/ou réfléchi, ainsi qu'il est connu en ce qui concer- ne les dispositifs employant l'interférence à d'autres buts.Par le choix d'une incidence   angulaire   ou perpendiculaire,on est ce- pendant indépendant ,dans de grandes limites,de la grandeur de cette ouverture. 



   Au point de vue de la technique du mesurage,il est particu- lièrement avantageux de choisir l'ouverture du faisceau de me-   surage   plus grande que celle du. faisceau d'éclairage,ou inverse- ment.On est ainsi largement indépendant de modifications de la position relative entre la couche à mesurer et l'instrument de mesure.Par position relative entre la couche àmesurer et l'ins- trament de mesure,on entend ici aussi bien la distance que la position angulaire de la couche par rapport   à   l'instrument.Pour limiter l'ouverture,on peut employer des diaphragmes iris connus, des volets ou fentes déplaçagles ou tous autres moyens agissant   cornue   diaphragmes, Comme il ressort de la formule ci-dessus,

  le décompte desbandes obscures est à faire dans un champ déterminé connu de longueurs   d'ondes.La   limitation du champ de longueurs d'ondes peut se faire de diverses manières.Ainsi par exemple,il est possible de fixer les limites du champ de longueurs d'ondes connues dans lequel se fera le décompte,par deuxlignes spectrales émises par une source lumineuse séparée.A cet effet, la lumière de cette source lumineuse spéciale est réflétée dans le faisceau d'éclai- rage ou le faisceau lumineux réfléchi de telle sorte que les deux lignes spectrales apparaissent dans le champ de mesurage. 



  La limitation du champ de longueurs d'ondes peut également être donnée par la largeur du spectre continu provenant de la source 

 <Desc/Clms Page number 4> 

 de lumière d'éclairage.Il est cependant également possible de ré- aliser la. limitation du champ de longueurs d'ondes par des fil- tres   d'arrêt,c'est-à-dire   des filtres de couleur, qui ne laissent passer qu'un champ déterminé du spectre.

   Il est spécialement avan- tageux de déterminer la limitation du champ de longueurs d'ondes par des diaphragmes,par exemple des diaphragmes de champ de vi- sion disposés à l'endroit du   spectre   et le cas échéant déplaça-   blcs.Le   décompte des bandes obscures peut être effectué à l'aide d'une plaque transparente de comparaison,située à l'endroit du spectre.On peut cependant aussi opérer de manière à obtenir par moyens optiques dans le champ de   ision   de l'oculaire,une image réelle ou virtuelle de la plaque de comparaison.

   La plaque de com- paraison même se compose d'un'support transparent avec bandes ab-      sorbant la lumière,disposées de préférence suivant la   mme   ré- partition que   lesandeh   d'interférence dans le spectre de mesura- ge.On établit un certain nombe de plaques de comparaison de ma- nière è posséder des plaques adaptées aux différentes épaisseurs de couches à mesurer et aux nombres différents de bandes obscu- res qui en résultent. Si les plaques de comparaison sont pourvues d'un nombre de bandes égal au nombre de raies obscures que com- porte le spectre,on peut déterminer directement l'épaissaumr de ' la couche.Chaque plaque de comparaison même peut d'ailleurs être équipée d'une indication relative à l'épaisseur de couche.

   Si tou- tes les bandes de la plaque de comparaison et les bandes obscu- res du spectre ne correspondent pas,il se produit l'effet connu en technique sous le nom de "coïncidence d'oscillations" ou de battement" c'est-à-dire qu'il se produit, à intervalles détermi- nés, des coincidences et des non-coïncidences entre les bandes de la plaque de comparaison et les'bandes obscures du spectre. Le nom- bre des coïncidences ou des non-coïncidences est une base de me- sure pour la détermination de la différence entre l'épaisseur de couche à mesurer etune épaisseur théorique fixée. 



   Pour l'analyse spectrale de la lumière réfléchie, on emploie 

 <Desc/Clms Page number 5> 

 avantageusement un prisme ou spectroscope à vision directe ou un prisme d'Amici.De préférence,on choisit un prisme à vision directe dans le champ de la plus grande sensibilité spectrale de 1' oeil,donc de 5500 A, -Or.

   peut de toute façon employer un autre prisme,mais un prisme à vision directe est particulièrement avantageux parce que son déplacement en direction axiale peut être utilisé à modifier le champ de   mesurage.On   peut alors toujours travailler avec une seule et même plaque de comparaison.Celle-ci est au reste de préférence montée ajustable dans   l'instrument.Cor-   me plaque de comparaison,on peut par exemple prendre un système photographique de bandes obscures (bandes d'interférence)ou également un/support de verre à rayures.

   On peut cependant aussi faire réfléchir dans le champ de mesorage Un système de bandes d'interférence de sorte que les deux systèmes de bandes d'interférence apparaissent séparément mais avantageusement aussi proches que possible ou en superposition partielle.Le système de bandes de comparaison peutêtre obtenu de la même manière que le système de bandes de mesurage. 



   Au des in annexé est représenté à titre d'exemple un dispositif   permettant   de mettre en oeuvre le procédé de l'invention. 



   L'ensemble de formation du faisceau d'éclairage se compose de la source lumineuse I,de la lentille 2 et  du   diaphragme d'ouvertare   3.La   lentille 2 concentre,par un miroir 4,la lumière sur   la couche 5 à mesurer. La lumière réfléchie est reçue par la len-   tille 6 et estconcentrée   Sur   la fente 7. L'objectif 8 développe 
 EMI5.1 
 1C,Y13 le plan 9,au travers du prisme 10 à vision ài,ccte,=# spectre observé au tr.-; rs de l'oculaire II et dansfiequel se trouvent les ;)::111....a ou :"'é.1..':"+:;J ,b¯,e3 --létel+'"'1.i.:1ée par la cùucl1c l'.i, mesurer. 



  Par l' 0 bSC;l'-r a. t i oü el' v.n spectre trï'e=9ß de nombreuses bandes l'int,,"r:,Ú'l:llê0,il y a avanta:;e 2" emplo:J'e::: -""1 oculaire cylindrique ' 01'tt 1=- :¯Cal,;.11 e=t rJ l.3p Jséc :le b..l1.l.ère à n'obtenir Lln&.'^'r.'"Yl- -IL:! SC' 'eüt '1'..',8 'pe.L'.Qenllc,l2.ir ;:e'"lt aux bandes d'interférence.Dans le plan 9 ou dans le voisinage immédiat,est projeté optiqueement ou mécaniquement le système de bandes de c#nparaison.Dans l'em- 

 <Desc/Clms Page number 6> 

 ple de réalisation,on suppose l'emploi d'une plaque de comparai- son qui alors serait disposée en 12. 



     Il n'est   pas absolument nécessaire d'employer un miroir 4 pour réfléchir le faisceau lumineux d'éclairage.On peut aussi bien utiliser un prisme ou même un miroir   semi-transparent   qui serait alors de préférence disposé à 45  par rapport à l'axe du faisceau d'éclairage et qui en particulier permet que le fais- ceau lumineux d'éclairage tombe perpendiculairement sur/la couche à mesurer.Enfin,il est également possible de travailler sans dé- viation dù faisceau. 



   L'invention porte aussi sur le fait d'enregistrer le spectre projeté sur le plan 9 sur une couche sensible à la lumière,avec. ou sans système de bandes de comparaison (plaque de comparaison), 
Enfin,l'invention couvre la possibilité d'amener à représen- talion par index les coïncidences entre le système de bandes du spectre et le système de bandes de comparaison, au moyen dunne photocellule et d'un instrument mesureur du courant,étalonné de préférence en pourcentage par rapport à la valeur théorique.

Claims (1)

  1. REVENDICATIONS I.-Procédé de mesurage optique de l'épaisseur de couches transparentes,caractérisé en ce qu'un faisceau lumineux dont la composition spectrale comprend toutes les couleurs visibles,est projeté sur la couche transparente à mesurer,sur laquelle il est réfléchi du côté antérieur et du côté postérieur,en ce que le faisceau lumineux réfléchi est décomposé spectralement et en ce que le nombre des endroits obscurs (bandes ou raies d'interfé- rence) se présentant de ce fait dans un champ déterminé de lon- gueurs d'ondes sert de base de mesure de l'épaisseur de la cou- che.- 2.-Procédé suivant revendication I,caractérisé en ce que le faisceau lumineux d'éclairage tombe perpendiculairement ou à peu près perpendiculairement sur la couche à mesurer.
    3.-Procédé suivant revendications I et'2,caractérisé en ce <Desc/Clms Page number 7> EMI7.1 que l'ouverture du faisceau d' éc12Í1'3,¯:o ou. du faisceau réfléchi B,'.a,:c^sti¯Cl't.JErcï.?'l'f pour un angle d'incidence non droit de ce faisceau d' G'Clû.'LI'c:.;E',.s':.kltE3 . l'épaisseur a mesurer de 18. couche par exemple par un ('.io:1l',r2.:oms iris,une '1'P-1tE' 3e'iC.
    4.'-Procède suivant revendications I à 5,caractérisé en ce que l'ouverture du faisceau d'éclairage est plus grande que celle du faisceau réfléchi ou inversement.- EMI7.2 5.
    Prcd é a:.:i-:w.lït revendications I à 4,caractérisé en ce que les limites du champ de longueurs d'ondes sont fixées par des lignes spectrale donnues, de préférence d'une source séparée de lumière,dont la lumière est par exemple reflétée dans le passage du faisceau de mesurée. - EMI7.3 6.-Procède suivant re'v-o#J.ic2ti.ons I 1. 4,caractérise en ce que la limitation de ce champ de longueurs d'ondes est donnée par la largeur du spectre continu émis par la source de lumière d'éclariage. EMI7.4
    7, Proc.t suivarit revendications I à 4,caractérisé en ce que la limitation du champ elongueurR d'ondes se fait par des filtres d'arrêt,par exemple des filtres de couleur,qui ne laissent passer que la lumière d'un champ déterminé de longueurs d' ondes.- 8.-Procédé suivant revendications I à 4,caractérisé en ce que la limitation du champ de longueurs d'ondes est effectuée EMI7.5 par des diaphragmes,de préférence délaCci3lEû,dlBpOSeS 2 l'en- droit du spectre de mesurage ou dans son voisinage.- 9.-Procédé suivant revendications I à 8,caractériséen ce que le décompte des endroits obscurs (bandes ou raies d'interféremce)
    dans le spectre de mesurée,se fait à l'aide d'une plaque transparente de compara.ison disposée à l'endroit de ce spectre ou dans son voisinage et pourvue de bandes ou raies absorbant la. lumière- <Desc/Clms Page number 8> 10.-Procède suivant revendications I à 9,caractérisé en ce que la plaque de comparaison est composée d'un système de bandes d'interférence de préférence photographié au même appareil.- II.-Procédé suivant revendications I à 10,caractérisé en ce que la plaque de comparaison estmontée de manière à pouvoir être échangée et-ou déplacée.- 12.-Procédé suivant revendications I à 8,10 et II,caractéri- sé en ce que on obtient une image réelle ou virtuelle de la plaque de comparaison,par moyens optiques,
    dans le champ de vision de l'oculaire.- 13.-Procédé suivant revendications 9 à 12,caractérisé en ce que chaque plaque de comparaison est équipée d'une indication d' épaisseur.- 14.-Procédé suivant revendications I à 13,caractérisé en ce que le nombre des coincidences entre la plaque de comparaison et le système de bandes du spectrede mesurage sert de base pour la détermination de la différence entre l'épaisseur de couche à mesurer et une épaisseur fixée comme épaisseur théorique.- 15.-Procédé suivant revendications I à 14,caractérisé en ce que,pour la décomposition spectrale du faisceau réfléchi sur la .
    couche à mesurer, on emploie un prisme à vision directe ou prisme d'Amici.- 16.-Procédé suivant revendications I à 15,caractérisé en ce que le prisme employé est à vision directe, pour le champ de lorigueurs d'ondes de 5500 17.-Procédé suivant revendications I à 16, caractérisé en ce que le'prisme à vision directe est déplaçable en direction axiale pour modifier le champ de masurage.- 18.-Procédé suivant revendications I à 17,caractérisé en ce que lesystème de bandes du spectre de mesurage est enregistré sur une ccuche mobile sensible à la lumière.
    - <Desc/Clms Page number 9> 19.-Procède suivant revendications I à 17,caractérisé en ce que les coïncidences entre le système de bandes ou raies du spectre de mesurage et celui de la plaque de comparaison sont enre- gistrées sur une couche mobile sensible à la lumière.- 20.-Procédé suivant revendications I à 17 et 19,caractérisé en ce que les coïncidences sont lisibles directement à un ins- trument de mesure de courant,par l'intermédiaire d'une photocellule,cet instrument étant é talonné en pourcentage par rapport à la valeur théorique.-
BE439010D BE439010A (fr)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE439010A true BE439010A (fr)

Family

ID=97097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE439010D BE439010A (fr)

Country Status (1)

Country Link
BE (1) BE439010A (fr)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP4042098B1 (fr) Dispositif et procede de mesures d&#39;imagerie et d&#39;interferometrie
JP4880791B2 (ja) 試料の偏光計スペクトルおよび他の特性を測定するシステム
JP2788158B2 (ja) 薄膜の厚さを測定する装置
JP4237175B2 (ja) 白色光干渉計を用いた透明薄膜の厚さ及び形状の測定装置及び方法
US20120140235A1 (en) Method for measuring the film element using optical multi-wavelength interferometry
JPH0771925A (ja) 厚いウェハ測定用の装置および方法
FR2537428A1 (fr) Procede et dispositif pour produire une image du fond de l&#39;oeil
JPH0666524A (ja) 変形した形状及び部分的に変化した傾斜を有する薄膜層上の薄膜層の厚みを計測学的に処理するための装置及びその方法
JPH01308930A (ja) 顕微分光装置
EP4214463A1 (fr) Dispositif et procédé de mesure d&#39;interfaces d&#39;un élément optique
FR2760085A1 (fr) Dispositif et procede de mesures tridimensionnelles et d&#39;observation in situ d&#39;une couche superficielle deposee sur un empilement de couches minces
FR2605100A1 (fr) Dispositif optique d&#39;eclairement d&#39;un echantillon pour un ellipsometre spectroscopique a haute resolution laterale
EP0502752B1 (fr) Appareil de spectrométrie
FR2595471A1 (fr) Dispositif d&#39;ellipsometrie spectroscopique a fibres optiques
JP3694298B2 (ja) 表面測定装置及びその測定方法
BE439010A (fr)
NL2028497B1 (en) Method and apparatus for micromachining a sample using a Focused Ion Beam
JP3219462B2 (ja) 薄膜測定器
EP2391875B1 (fr) Procede de mesure et procede de visualisation d&#39;une surface d&#39;onde par spectrophotometrie
WO2024003470A1 (fr) Dispositif d&#39;amplification d&#39;un signal en imagerie de phase quantitative autoreferencee
CN119935504B (zh) 一种基于弱相干光源干涉的镜片分析方法及装置
EP0083268B1 (fr) Procédé de réglage automatique de la netteté d&#39;images projetées sur un écran et dispositifs pour la mise en oeuvre dudit procédé
JPH1123216A (ja) 透明薄板測定用干渉計
CN118225397A (zh) 标定dmd滤出波长的系统
FR2818377A1 (fr) Dispositif et procede de caracterisation optique d&#39;une couche presentant une composition particulaire et pigmentaire particuliere