BE488215A - - Google Patents

Info

Publication number
BE488215A
BE488215A BE488215DA BE488215A BE 488215 A BE488215 A BE 488215A BE 488215D A BE488215D A BE 488215DA BE 488215 A BE488215 A BE 488215A
Authority
BE
Belgium
Prior art keywords
electro
deposition
inversion
duration
metal
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Publication of BE488215A publication Critical patent/BE488215A/fr

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/18Electroplating using modulated, pulsed or reversing current

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  "Procédé pour l'électro-déposition sur des surfaces déjà revê- tues par électro-déposition du même métal ou groupe de métaux". 



   L'invention concerne le problème du dépôt par le   procède   de l'électro-déposition d'une couche d'un métal - généralement un métal dur - sur une surface déjà revêtue d'une telle couche en un même métal ou en un métal du même groupe. En d'autres termes, il se pose assez fréquemment dans l'industrie le problème de reprendre en quelque sorte le procédé de l'électro-déposition qui a été interrompu pour une raison quelconque. Ou bien encore, le problème se pose de devoir augmenter les dimensions d'une pièce par l'apport de métal. 



   A l'heure actuelle, ce problème n'a pas reçu de solu- tion satisfaisante car il est bien connu des spécialistes de la question, d'une part, et des usagers, d'autre part, que les recharges ou reprises ne donnent pas entière satisfaction et 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 cette situation provient du fait que les modes opératoires actuel lement en usage n'assurent pas, en quelque sorte, une adhérence ou une solidarisation suffisante entre l'ancien et le nouveau dépôt. 



   Le procédé de l'invention rendant possible de résoudre ce problème important est essentiellement caractérisé en ce que la reprise est non seulement commencée par une inversion, mais que cette inversion est soutenue pendant une durée de temps plus grande que la durée de l'inversion qui avait été appliquée au début de la première opération d'électro-déposition. 



   Dès lors, le mode opératoire est relativement très simple quisqu'il suffit de connaître les conditions dans lesquel- les la première électro-déposition sur la pièce ou partie de pièce à traiter a été faite. 



   Pour appliquer le procédé de l'invention, il faut - mais il suffit - d'opérer le dépôt d'un même métal ou d'un métal du même groupe que celui dont est revêtue la pièce à traiter en appliquant, tout d'abord une inversion dont la durée A est plus grande que la durée de l'inversion de la première électro- déposition. 



   La relation à respecter entre les   durées   et A des deux inversions est essentiellement variable au prorata des métaux à électro-déposer et des pièces à traiter. 



   D'une manière générale, néanmoins, la   durée .4   de la seconde inversion sera relativement longue et il sera très sou- vent souhaitable de la faire varier entre, par exemple, 45 et o 300 secondes, sous une intensité de courant variable entre 30 à 100   Amp./dm2,   la température moyenne variant selon le cas de 450 à 95  c. 



   A titre d'exemple d'application, n'ayant absolument aucun caractère limitatif mais permettant de mieux se rendre compte de l'efficacité du procédé objet de l'invention, le 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 Demandeur signale, entre autres, le cas du traitement, dans une série de bagues, d'une ou certaines d'entre elles, dont le diamètre extérieur, pour des raisons fortuites, est trop faibles les autres bagues étant correctes. Il faut préciser que ces bagues avaient antérieurement été traitées et notamment reçu une couche extérieure par électro-déposition. 



   La ou les bagues défectueuses, pour atteindre un diamètre extérieur correct, ont simplement été réintroduites dans le même circuit d'électro-déposition, mais l'inversion du début a été, en l'occurrence, soutenue pendant 90 secondes sous 24 Ampères. 



   Non seulement la recharge a été parfaite en ce sens que toutes les bagues avaient exactement le même diamètre exté- rieur, mais l'adhérence entre la première couche et la seconde couche électro-déposées a été absolument parfaite. 



   Des expériences contradictoires faites sans inversion prolongée préalable ont amené à conclure systématiquement à une seconde électro-déposition défectueuse par manque, quasi total, de prise, c'est-à-dire d'adhérence à la première couche électro- déposée. 



   Il va de soi que le procédé de l'invention est donc absolument général, applicable à toute pièce ou partie de pièce et que les conditions de durée de l'inversion, de l'ampérage/dm2 du courant et de la température seront judicieusement déterminées par l'homme de métier selon les normes usuelles. 



   REVENDICATIONS. 

**ATTENTION** fin du champ DESC peut contenir debut de CLMS **.

Claims (1)

  1. 1.- Procédé pour l'électro-déposition sur des surfaces déjà revêtues par électro-déposition du même métal ou groupe de métaux, caractérisé par le fait qu'il consiste à faire précéder la seconde électro-déposition par une inversion dont la durée est plus grande que la durée de l'inversion pratiquée avant la première électro-déposition sur la pièce ou partie de pièce que l'on traite. <Desc/Clms Page number 4>
    2. - Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'inversion précédant la seconde électro-déposition est prolongée pendant une durée pouvant varier entre 45 et 300 secon- des, sous une intensité de courant de l'ordre de 30 à 100 Amp./dm2 et à une température comprise entre 45 et 95 C.
BE488215D BE488215A (fr)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BE488215A true BE488215A (fr)

Family

ID=133464

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BE488215D BE488215A (fr)

Country Status (1)

Country Link
BE (1) BE488215A (fr)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0526361B1 (fr) Electrode en alliage de cuivre à hautes performances pour usinage par électro érosion et procédé de fabrication
FR2777115A1 (fr) Procede de traitement de substrats semi-conducteurs et structures obtenues par ce procede
EP0883141A1 (fr) Procédé de traitement thermique sous champ magnétique d&#39;un composant en matériau magnétique doux
FR2938119A1 (fr) Procede de detachement de couches semi-conductrices a basse temperature
EP3502288A1 (fr) Procédé de fabrication d&#39;un ressort spiral pour mouvement d&#39;horlogerie
BE488215A (fr)
FR2641126A1 (en) Method of forming low-resistance contacts with pre-ohmic regions of n&lt;+&gt; and p&lt;+&gt; types in integrated circuits
CA1132639A (fr) Methode de realisation de contacts electriques sur pieces en aluminium
WO2007077393A2 (fr) Procede de soudage par resistance par points d&#39;alliages d&#39;aluminium avec maintien du passage de courant au moins pendant un temps partant du debut de la phase de forgeage
FR2853134A1 (fr) Procede de fabrication d&#39;un transistor a grille metallique, et transistor correspondant
FR2560971A1 (fr) Bougie a incandescence pour moteurs diesel de vehicules automobiles
WO2000057480A1 (fr) Nouveau dispositif semi-conducteur combinant les avantages des architectures massive et soi, et procede de fabrication
FR2987935A1 (fr) Procede d&#39;amincissement de la couche active de silicium d&#39;un substrat du type &#34;silicium sur isolant&#34; (soi).
FR2677670A1 (fr) Bain d&#39;attaque acide des alliages de titane avant oxydation anodique macrographique.
FR2805084A1 (fr) Procede de fabrication de pistes metalliques pour des circuits integres
KR20080074023A (ko) 전기 절연 재료의 표면 상에 안착하는 반도체층의 두께감소 및 균일화 방법
EP0576575B1 (fr) Procede de preparation de corps en ceramique exempts d&#39;auto-adhesion sous contrainte ou en cours de vieillissement
FR3042510A1 (fr) Procede de reduction de rugosite de la surface d&#39;une piece
EP2230331B1 (fr) Procédé galvanique de dépôt d&#39;un revêtement de couleur anthracite et pièces métalliques munies d&#39;un tel revêtement
FR2909802A1 (fr) Procede de fabrication d&#39;une couche de siliciure ou de germano-siliciure sur des zones conductrices en silicium ou alliage silicium-germanium d&#39;un substrat
CH700646B1 (fr) Procédé galvanique de dépôt d&#39;un revêtement de couleur anthracite et piecès métalliques munies d&#39;un tel revêtement.
FR2805283A1 (fr) Procede de traitement de surface sur un substrat en cuivre ou en alliage de cuivre et installation de mise en oeuvre
BE457998A (fr)
CH717987B1 (fr) Procédé de traitement d&#39;une surface d&#39;un support en métal en vue de son émaillage.
CH268542A (fr) Procédé pour rendre une surface d&#39;aluminium recouverte d&#39;une couche d&#39;oxyde difficile à éloigner par abrasion, capable d&#39;être liée fermement et de façon résistant à la corrosion à de la soudure de plombier.