BE542292A

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Publication number: BE542292A
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Description


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   La présente invention se rapporte au nickelage et elle est basée sur la découverte du fait que des composés acétyléniques hydroxy et méthoxy solubles dans l'eau sont remarquablement efficaces pour favoriser la formation de dépôts électrolytiques ductiles qui sont beaucoup plus lisses que le métal de base galvanisé dans un tel bain, lorsqu'on fait usage de ces composés comme agents d'addition dans un bain galvanique au nickel que l'on fait fonctionner à des températures modérément élevées et lorsqu'on les utilise en combinaison avec divers   com-   posés   sulfo-oxygénés   du type de l'acide sulfonique.

   Cette aptitude d'un bain galvanique à améliorer l'égalité de surface du métal de base est appelée pouvoir de nivelle- ment, et on peut en faire usage industriellement pour réduire ou éliminer le finissage mécanique, chimique ou électrochimique du métal de base. La demanderesse a constaté que tous les composés acétyléniques hydroxy et 

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 méthoxy solubles dans l'eau sont capables de favoriser le nivellement dans des solutions galvaniques au nickel lorsqu'on en fait usage en combinaison avec des composés      sulfo-oxygénés; et elle a constaté que dans tous les cas l'usage du composé sulfo-oxygéné en combinaison avec le composé acétylénique conduit à des résultats améliorés en comparaison de ceux que l'on obtient en ayant recours au composé acétylénique seul.

   Néanmoins, il est possible de parvenir à un degré important de nivellement en ayant recours à certains composés acétyléniques solubles dans l'eau utilisés seuls dans le bain, et par conséquent, la présente invention prévoit l'usage de ces composés seuls, aussi bien qu'en combinaison avec des composés   s ulfo-oxygénés .    



   Conformément à la présente invention, un procédé préféré pour l'obtention de dépôts lisses de nickel consiste à réaliser un dépôt électrolytique de nickel à partir d'une solution aqueuse acide d'au moins un sel de nickel, à une température variant dans la gamme com- prise entre 51 C et le point d'ébullition, solution dans -laquelle , on dissout de   0,02   à 5 grammes par litre d'un composé acétylénique hydroxy ou méthoxy soluble dans l'eau, en combinaison avec 0,25 à 80 grammes par litre d'un composé sulfo-oxygéné soluble dans l'eau appartenant au groupe constitué par les acides   sulfoniques   aromatiques mononucléaires ou binucléaires, les acides sulfoniques hétérocycliques, les acides sulfiniques aromatiques mono- nucléaires, les sels de ces acides avec les métaux alcalins, l'ammonium,

   le magnésium et le nickel, et les sulfonamides et sulfonimides aromatiques mononucléaires. 



   Bien que l'on puisse utiliser avec succès dans le procédé défini ci-dessus n'importe quel composé acétylénique hydroxy ou méthoxy soluble dans l'eau pour l'obtention de 

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 dépôts de nickel lisses, on obtient un résultat parti- culièrement bon dans la réalisation de dépôts électroly- tiques ductiles et ayant un effet considérable de nivelle- ment lorsqu'on a recours à un composé acétylénique hydroxy 
 EMI3.1 
 choisi dans le groupe formé par le 2-butyne-134-diols le 2,4-hexadiyne-1,6-diol, le 2-propyne-1-ol, le 2-méthyl-3butyne-2-oL, le 3-butyne-1-ol, le 2-méthyl-2-oxyéthanol-3*' butyrine, le 23?-diméthylocta-3$5-dîyne-217-dïol et le 5-bromo-3-méthyl-4-pentyne-3-ol.

   En général, des composés très satisfaisants sont ceux qui sont solubles dans l'eau et qui répondent à la formule 
 EMI3.2 
 dans laquelle R' est de l'hydrogène, un radical alcoyle 
 EMI3.3 
 ou un radical alcoyle hydroxy-substitué contenant de 1 à 4 atomes de carbone, R" est un radical hydroxyle, hydroxyméthyle, méthoxyle,   oxyméthanol,     hydroxyéthyle,     éthoxyle   ou oxyéthanol, et R"' est de l'hydrogène, un halogène, (particulièrement du chlore ou du brome) ou un radical. alcoyle,   alkényle,   ou   alkynyle;   ou un radical alcoyle,   alkényle   ou   alkynyle   substitué par des groupes hydroxy, méthoxy ou   éthoxy   et contenant de 1 à 4 atomes de carbone.

   Les composés possédant cette formule générale et qui comprennent tous les composés appartenant au groupe spécifié particulièrement ci-dessus, sont des agents de nivellement efficaces dans des bains galvaniques au nickel et conduisent à la formation de dépôts lisses de nickel présentant une ductilité qui convient pour un grand nombre d'applications, même lorsqu'on les emploie seuls (c'est-à-dire lorsqu'on ne fait usage d'aucun composé   sulfo-oxygéné   en combinaison avec eux) et lorsque la 

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 quantité qui est dissoute dans le bain varie dans la gamme comprise entre environ 0,02 et environ 5 grammes par litre.

   Il est avantageux, en particulier   lorsqu'on   fait usage d'un des composés cités particulièrement ci-dessus, que la concentration de ce composé dans le bain soit comprise dans la gamme allant de 0,05 à 3 grammes par litre. 



   Pour obtenir un nivellement efficace, il faut que le bain fonctionne à une température supérieure à 51 c. Il n'y a pas de limite supérieure critique pour la température du bain en ce qui concerne son pouvoir de nivellement, et cette température peut par conséquent s'élever au maximum jusqu'au point d'ébullition. Toutefois, pour la plupart des   applications,   le nivellement maximum et l'économie de fonctionnement optimum sont atteints lorsque la température du bain est maintenue dans la gamme comprise entre   60 C   et 82 C. 



     - On   a eu recours avec un succès particulier aux additions d'agent de nivellement conformes à la présente invention dans les bains galvaniques au nickel classiques du Watts et aux sulfamates. Toutefois, ces additions d'a- gents de polissage sont également efficaces dans tous les autres bains galvaniques au nickel, et par conséquent, la présente invention est applicable à n'importe quelle opération de dépôts électrolytique de nickel au sein d'une solution aqueuse acide d'un ou de plusieurs sels de nickel. 



   On indique dans le tableau I ci-dessous, des exemples de composés acétyléniques dont on peut faire usage dans des modes de réalisation de la présente invention. 



    TABLEAU 1    
 EMI4.1 
 1) -propyr.e-1-ol (alcool propargylique) HCCCH20H 2) 3-butyne-l-ol, HC¯ CCH2CH20H, 3) à-méthYl-3-butyne-2-oi, HC=CC(OH) (CH3 )2 4) 1-Pent>e-3-01, HC=-CCH(OH)CH2CH3 

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 EMI5.1 
 5) 3-méthyl-l-pentyne-3-ol HC.CC(CH3)(OH)CCH3 6) 2-butyne-1,4-diol, HOCR2.C :::CCH2. H 7) 3-hexyne-2,5-diol, CH3CH(OH)C=CCH(OH)CH3 8) 4-octyne-3.6-djoi, CH3CRz.CH(OH)C CCH(OH)C:SZCH:3 9) 2,5-diméthyl-3-hexyne-2,5-diol, (CH3)gC(0H)C"CC(OH)(CH3)2 10 ) 3,6-diméthyl-4-octyne-316-diol CHCHZC(CH3 ) (OH)CC- (CH8 ) (OHCHCH3 11) 3-pentyne-1-ol,CH3C=CCHCIOH 1,) 2,4-hexadiyne-l ,6-diol, HOCH2C=C-G=CCHOH 13) Â-méthyl-Z-oxyéthanol-3-butyne, HC^CC (OCH40HxCH3 i 14) &,7-diméthylocta-3,5-àiyne-2,7-diol, CHaC(OR) (CE3)C=C-C=CC(OH) (CH3)CHS 15) 5-bromo-3-méthy1-4-pentyne-3-01,BrC=CC(CHa)(OH)CCH3 16) 3-butyne-l.a-diol, RC=CCH(OH)CB2.

   H 17 ) 3 5-diméthyl-l-hexyne-3-ol aHC:-CC (GH3 ) (OH)CHCH(CH3 )CH3 18)4-méthoxy-8-butyne-1-ol, HOCIC.=CCHZ(OCH3) 19) 1 4-dimthoxy-2-'bu.tyne (CH3(,CC-CC (OCH3 ) 
Lorsqu'on en fait usage comme agents uniques d'addi- tion dans un bain galvanique au nickel, les composés dont la liste est donnée dans le tableau I ont tendance à donner des dépôts fragiles pour des épaisseurs égales ou supérieures à 0,025 mm. L'usage d'un composé   sulfo-oxygéné,   appartenant au groupe sus-mentionné, en combinaison avec un composé acétylé- nique hydroxy, favorise la formation de dépôts ductiles possédant un pouvoir élevé de nivellement.

   Les composés dont on donne la liste dans le tableau II sont des exemples de composés sulfo-oxygénés qui, lorsqu'on en fait usage dans le bain galvanique à la température élevée nécessaire et en   combinaison   avec un composé acétylénique hydroxy soluble dans l'eau, favorisent la formation de dépôts de nickel convenable- ment ductiles qui sont considérablement plus lisses que le métal de base. 

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   TABLEAU II (1) acides sulfoniques aromatiques mononucléaires et sels de ces acides avec les métaux alcalins, l'ammonium, le magnésium et le nickel. 
 EMI6.1 
 acide benzène-monosulfonique, C6HtP SH benzène-monosulfonate de sodium, C6H5SO3Na 
 EMI6.2 
 benzène-monosulfonate de nickel, (C6H03)Ni para-toluène-monoaulfc\nate de sodium, C"3C6R4SOe acide para-chlorobenzéne-sulfonique , C1C6H4S03H para-chlorobenzène sulfonate de sodium, C1C6H4S03Na para-bromobenzène-sulfonate de sodium, BrC6R4SO 3Na acide 1,2-dichlorobenzène-suI.f'onique J ClaC6%SOSH 1 2-dichZorobenzène-s u, fo cate de sodium eu 5-dichlarobenzne-aulfcrate de sodium, ClaC6HaS sNa phényléthy.ne-sulfonate de sodium, CHCH"CE301a acide méta-benzène-disulfonique, C6 (S03H) méta-benzène-diaulfonate de sodium, C6H4 (S03Na)

  2 méta-benzène-disulfonat e de nickel CeH4 (SOS >aN! sel monoammonnique de l'acide ortho-suif obenzoïque, IOCOC6H$S03NH4 ecide 1-amino-;5-benzn.e-diaulfoniquea 1 HaNCeHs (SOaH)a acide ortho-aminobenzène-sulfonique, H2NC6H4SO3H (2) acides sulfiniquea aromatiques mononucléaires, et :sels de ces acides avec les métaux alcalins, l'ammonium, le magnésium et le nickel;   benzène-sulfinate   de sodium, C6H5SO2Na 
 EMI6.3 
 Para-toluène--oulfinate de sodium, CC6H4So2Na (3) sulfonamides et imides aromatiques mononucléaires:

   benzène-sultonamide CHg3càmH   para-toluène-sulfonamide,  CH3C6H4SO2NH2   sulfimide   ortho-benzoïque C6H CONHSO2 benzyl-sulfonamide, C6H5CH2SO2NH2 
 EMI6.4 
 acide benzène-suif hydroxamique, C6HSSOHF'JA N ,N-diméthy1.-para-toluène-Sulfonamide, CH3C6H4SN(Ci3)S 

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 EMI7.1 
 N,N.-dicarboxyéthyl-benzr3.e-sulfonamide, C6ii 5 SON(GH4COGH)2 (4) acides sulfoniques aromatiques bincléaires et les sels de ces acides et des métaux alcalins, de l'ammonium, du magnésium et du nickel. 
 EMI7.2 
 acide 2.-naphtalène-monosulfonique, CIOH'7S0aH acide 1,5 ou 2:,'7-naphtalène-disulfonique, C 1OH6(SO31I)a sel de nickel de l'acide 1,5 ou 2,?-naphtalène-disulfonique C10l\;

   (S03 )aNi acide naphtalène-trisulfonique, ClOHS(S03H)8 sel trisodique de l'acide naphtalène-trieulfonique cl,H5(SOoa), acide diphényl-pp'-disuJ.fonique, HS08C6H4 C6FI4S03H acide 2-naphtol-3,6-disulfonique, HOCl0H5(03FI) sel de sodium de l'acide,2-naphtol-3,6-disulfoniqne HOCIOH5(so3Na)a acide 1-naPlitflamme-3,6>8-trisUlfonique, HaN.CIOH4 (SOaH)a (5) acides sulfoniques hétérocycliques et sels de ces acides avec les métaux.alcalins, l'ammonium, le magnésium et le nickel 
 EMI7.3 
 acide thiophène-sulfonique, i C4Ii3.S0313 thîophène-sulfonate de sodium, C4ïi3S.S03Na acide - (4-pyridyl ) thyl-sulfonique C#4N.CHâ;CHaS03H 
Dans tous les cas, les acides sulfoniques libres et leurs sels avec les métaux alcalins, l'ammonium, le magnésium et le nickel sont tout à fait équivalents les uns aux autres en ce qui concerne les applications de la présente invention. 



   Il- ne faut pas que la concentration en composé acéty- lénique hydroxy soit forte, ceci dans le but de rendre le dépôt de nickel moins fragile. On a recours généralement à une concentration variant dans la gamme comprise entre 0,02 et 5 grammes par litre ; et la concentration est de préférence comprise dans la gamme allant de 0,05 à 3 grammes par   litre.   Même à l'intérieur de cette gamme préférée, il est avantageux, lorsque cela est possible, de faire usage 

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 d'une concentration appartenant à la partie inférieure de la gamme, c'est-à-dire inférieure à 1 gramme par litre. La gamme de concentration pour le composé sulfo-oxygéné est beaucoup plus large. Elle s'étend de 0,25 gramme à 
80 grammes par litre (ou même plus au prix d'une médiocre économie).

   De préférence on a recours à au moins un gramme   par litre de ce réactif ; pour des raisons d'économie   sa concentration ne dépasse pas de préférence 40 grammes   par litre.   Dans un fonctionnement normal, la concentration du composé sulfo-oxygéné se trouve dans la gamme ou au voisinage de la gamme allant de 3 à 20 grammes par litre. 



   Le tableau III montre des exemples de l'efficacité avec.laquelle des composés acétyléniques hydroxy contribuent au nivellement. Chacun des composés acétyléniques indiqué dans le tableau III est dissous à la concentration indiquée dans un bain galvanique du nickel contenant 330 grammes par litre de sulfate de nickel, 45 grammes par litre de chlorure de nickel, 37,5 grammes par litre d'acide borique et 7,5 grammes par litre d'acide naphtalène sulfonique. On règle le pH du bain à une valeur de 3,5 à l'aide d'acide sulfu- rique et on fait fonctionner le bain sous 4,3 ampères par cm2 et à environ 74 C ,ce qui donne un dépôt de nickel d'une épaisseur de   0,025   mm sur une plaque d'essai en acier.

   La racine carrée de la moyenne des carrés, exprimée en microns, de la rugosité de la surface du panneau d'essai et désignée ci-après par "RCM", est mesurée à l'aide d'un appareil d'analyse de surface de Brush à la fois avant et après avoir déposé une épaisseur de 0,025 mm de nickel. 

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  TABLEAU III 
 EMI9.1 
 
<tb> Concentration
<tb> 
 
 EMI9.2 
 Composé !3n In'arum,es par 13 re ¯ ReM avant aDrè3 2-butyne-l,4-d.iol 0,,14 0,38 0,05 2:,4-hexadiyne-l,6-diol 0,06 0,29 0,05 2-pro,pyne-1-ol 0,6 0,34 0,1 2-méthyl-3-butyne-o 0,25 0,40 0,15 8-méthyl--oxyéthanol-3-butyne 0,15 0,34 0,07 2 7-diméthylocta-3,5- diyne-,7-diol 0,18 0,33 0,08 
 EMI9.3 
 
<tb> 5-bromo-3-méthyl-4-
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> pentyne-3-ol, <SEP> 0,4 <SEP> 0,30 <SEP> 0,14
<tb> 
 
Il convient de noter que le premier, le second, le troisième, le cinquième et le sixième des composés figurant sur la liste du tableau III donnent un fort nivellement,

   en réduisant la rugosité de la surface dans des proportions comprises dans la gamme allant de 70% à près de   90%.   Le quatrième et le septième composé de ce tableau produisent un degré de nivellement moins marqué, mais même dans ces cas la rugosité de la surface est réduite de plus de   50%.   



   Le tableau IV donne d'autres exemples de l'amélioration réalisée grâce au procédé de la présente invention. On obtient les résultats du tableau   IV   en déposant sur une plaque d'essai en acier un revêtement électrolytique de nickel   à   partir d'un bain de Watts typique (330 grammes par litre de sulfate de nickel, 45 grammes par litre de chlorure de nickel,   37,5   grammes par litre d'acide borique, et la quantité nécessaire d'acide sulfurique pour régler la valeur du pH à 3,5) contenant   0,14   gramme par litre de 
 EMI9.4 
 a-butyne-l,4-diol et 16,5 grammes par litre d'acide naphtalène trisulfonique (NTS dans le tableau IV) ou bien   5,5   grammes par litre d'acide benzène   disulfonique   (BDS dans le tableau   IV),

     que l'on fait fonctionner à la tempé- 
 EMI9.5 
 rc;LGUI'(; indiquée. La racine enrrce de la moyenne des carrés exprimée en microns, de la rugosité de la   s urface   de la 

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 plaque d'essai est mesurée à l'aide d'un appareil d'analyse de surface de Brush, avant et après y avoir formé le dépôt de nickel. 



   TABLEAU IV 
 EMI10.1 
 
<tb> Température <SEP> R <SEP> C <SEP> M <SEP> 
<tb> 
<tb>   <SEP> C <SEP> avant <SEP> après <SEP> Nivellement <SEP> % <SEP> Aspect
<tb> 
<tb> NTS <SEP> 65 <SEP> 0 <SEP> 50 <SEP> 0,112 <SEP> ' <SEP> 78 <SEP> poli
<tb> 
<tb> 
<tb> NTS <SEP> 65 <SEP> 0,48 <SEP> 0,132: <SEP> 72 <SEP> poli
<tb> 
<tb> 
<tb> NTS <SEP> 71 <SEP> 0,43 <SEP> 0,070 <SEP> 84 <SEP> à <SEP> moitié <SEP> poli
<tb> 
<tb> 
<tb> NTS <SEP> 71 <SEP> 0,40 <SEP> 0,085 <SEP> 79 <SEP> poli
<tb> 
<tb> 
<tb> NTS <SEP> 76 <SEP> 0,45 <SEP> 0,062 <SEP> 86 <SEP> terne
<tb> 
<tb> 
<tb> NTS <SEP> 76 <SEP> 0,38 <SEP> 0,050 <SEP> 87 <SEP> poli
<tb> 
<tb> 
<tb> BDS <SEP> 65 <SEP> 0,43 <SEP> 0,082 <SEP> 81 <SEP> terne
<tb> 
<tb> 
<tb> BDS <SEP> 65 <SEP> 0,38 <SEP> 0,107 <SEP> 71 <SEP> ' <SEP> poli <SEP> 
<tb> 
<tb> BDS <SEP> 71 <SEP> 0,38 <SEP> 0,

  072 <SEP> 81 <SEP> à <SEP> moitié <SEP> poli
<tb> 
<tb> 
<tb> BDS <SEP> 71 <SEP> 0,35 <SEP> 0,050 <SEP> 86 <SEP> poli
<tb> 
<tb> 
<tb> BDS <SEP> 76 <SEP> 0,40 <SEP> 0,075 <SEP> 81 <SEP> poli
<tb> 
<tb> 
<tb> BDS <SEP> 76 <SEP> 0,40 <SEP> 0,080 <SEP> 80 <SEP> poli
<tb> 
 
Dans tous les exemples du tableau. IV, sauf dans quelques uns d'entre eux pour lesquels on a fonctionné avec la température de bain la plus basse de ces essais (65 C), le nivellement approche ou dépasse   80%;   et même   les.   cas qui présententl'effet de nivellement le moins impor- tant donnent un nivellement supérieur à   70%.   On remarquera en outre que dans la plupart des cas, le dépôt électro- lytique a un caractère poli.

   Ainsi, le bain fonctionne de manière à réduire l'importance du polissage nécessaire pour obtenir un fini brillant sur la plaque d'essai, à la fois par son effet de nivellement et parce qu'il con- tribue à la formation d'un dépôt poli. 



   Le tableau V donne des exemples de divers bains galvaniques dont on peut faire usage pour obtenir des dépôts électrolytiques de nickel qui présentent un effet de nivellement considérable sur la surface du métal de 

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 base. Les bains du tableau V sont donnés simplement à titre d'exemples des gammes de compositions des bains dont on peut faire usage avec succès et ne sont pas donnés pour indiquer une limite de composition du bain que l'on peut utiliser conformément à la présente invention. 



   TABLEAU V 
Concentrations   des¯bains   en grammes par ;;Litre 
 EMI11.1 
 
<tb> , <SEP> Bain <SEP> Bain <SEP> 2 <SEP> Bain <SEP> Bain <SEP> 4 <SEP> Bain <SEP> 5 <SEP> Bain <SEP> 6 <SEP> ;sain <SEP> 7 <SEP> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> Sulfate <SEP> de <SEP> nickel <SEP> 240- <SEP> 330 <SEP> 330 <SEP> 330- <SEP> - <SEP> 240
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> NiSO4.7H2O <SEP> 330
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> chlorure <SEP> de <SEP> nickel <SEP> 30- <SEP> - <SEP> - <SEP> - <SEP> 0-37,5 <SEP> 0-37,5 <SEP> 30
<tb> 
<tb> 
<tb> NiCl2,6H2O <SEP> 45
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> formiate <SEP> de <SEP> nickel <SEP> - <SEP> - <SEP> - <SEP> - <SEP> - <SEP> - <SEP> 45
<tb> 
<tb> 
<tb> Ni <SEP> (OOCH)2.2H@O
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> fluoborate <SEP> dé <SEP> nickel <SEP> - <SEP> - <SEP> - <SEP> - <SEP> - <SEP> 210 <SEP> -
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> Ni <SEP> (BF4)

  2
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> sulfamate <SEP> de <SEP> nickel <SEP> - <SEP> - <SEP> - <SEP> 225 <SEP> - <SEP> -
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> Ni <SEP> (O3SNH2)2
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> chlorure <SEP> dé <SEP> sodium <SEP> - <SEP> - <SEP> 29,5 <SEP> - <SEP> - <SEP> - <SEP> -
<tb> 
<tb> 
<tb> NaCl
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> bromure <SEP> de <SEP> sodium <SEP> - <SEP> - <SEP> - <SEP> 51,5 <SEP> - <SEP> - <SEP> -
<tb> 
<tb> 
<tb> NaBr
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> acide <SEP> borique <SEP> 30- <SEP> 37,5 <SEP> 0-37,5 <SEP> 0-37,5 <SEP> 30 <SEP> 30 <SEP> 37,5
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> H3BO3 <SEP> 37,5
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 2-butyne-1,4-diol <SEP> 0,05- <SEP> 0,05- <SEP> 0,05- <SEP> 0,05- <SEP> 0,05- <SEP> 0,05- <SEP> 0,05-
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 1,3,6-naphtalène <SEP> 3,0 <SEP> 3,0 <SEP> 3,0 <SEP> 3,0 <SEP> 3,0 <SEP> 3,0 <SEP> 3,

  0
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> 
<tb> triaulfonate <SEP> 3-20 <SEP> 3-20 <SEP> 3-20 <SEP> 3-20 <SEP> 3-20 <SEP> 3-20 <SEP> 3-20
<tb> 
 
Afin d'obtenir des dépôts de nickel exempts de piqûres, il est avantageux d'avoir recours à une forte agitation par l'air de solutions bien filtrées, ou selon une variante de faire usage d'un agent mouillant (tel que 0,25 gramme par litre de lauryl-sulfate de sodium) dans le bain. Dans ce dernier cas,la concentration du composé acétylénique hydroxy peut utilement être plusieurs fois plus grande que la quantité optimum que l'on utiliserait si on em- ployait l'agitation par l'air.

Claims

EMI12.1

>, #?UNili1 Procédé destiné J'amélioration de l'égalité de surface d'un métal de base, caractérisé par les points suivants, séparément ou en combinaisons : 1) On effectue un dépôt électrolytique de nickel sur le métal de base à partir d'une solution acide aqueuse d'au moins un sel de nickel à une température variant dans. la gamme comprise entre 51 C et le point d'ébullition, solu- tion dans laquelle on dissout environ de 0,02 à 5 grammes par litre d'un composé acétylénique soluble dans l'eau répondant à la formule.

EMI12.2 dans laquelle R' est choisi dans le groupe constitué par l'hydrogène, les radicaux alcoyle et les radicaux alcoyle substitués par des groupes hydroxy et contenant de 1 à 4 atomes de carbone, R " est choisi dans le groupe constitué par les radicaux hydroxyle, hydroxyméthyle, métho- xyle, oxyméthanol, hydroxyéthyle, éthoxyle et oxyéthanol., et R''' est choisi dans le groupe constitué par l'hy- drogène, les halogènes, et les radicaux alcoyle, alkényle . et alkynyle ainsi que les radicaux alcoyle,, alkényle et alkynyle substitués par des groupes hydroxy, méthoxy ou éthoxy et contenant de 1 à 4 atomes de carbone.

2) On opère à une température variant dans la gamme comprise entre 60 et 82 C -et on dissout dans la solution acide aqueuse, contenant au moins un sel de nickel, de 0,05 à 3 grammes par litre d'un composé acétylénique hydroxy choisi dans le groupe constitué par le 2-butyne- EMI12.3 1,4-diol, le 2.,4-hexadiyne-:

l,6-diol, le 2-propyne-1-ols le 3-méthyl-3-butyne-a-ol, le 3-butyne-l-ol, le 2-méthyl- 2-oxyéthanol-3-butyne, le 237-diméthylocta-3-diyne-2.7-diol, R 1'9 5-bromo-3-méthy7...4 pentyne-3-ol <Desc/Clms Page number 13> 3) On ajoute en outre à la solution de 0,25 à 80 grammes par litre d'un composé sulfo-oxygéné soluble dans l'eau, choisi dans le groupe constitué par des acides sulfoniques aromatiques mononucléaires et binucléaires, des acides sulfoniques hétérocycliques, des acides sulfiniques aromatiques mononucléaires, et les sole de ces acides avec les métaux alcalins, l'ammonium, le magnésium et le nickel ainsi que les sulfonamides et sulfonimides aromatiques mononucléaires.

4) La solution contient indépendamment du sel du nickel, 0,05 à 3 grammes par litre de composé acétylénique hydroxy et de 1 à 40 grammes par litre de composé sulfo- oxygéné.

5) On opère à une température variant dans la gamme comprise entre 60 et 82 C et on dissout dans la solution aqueuse acide contenant au moins un sel de nickel, environ 0,05 à 3 grammes par litre de 2-butyne-1,4-diol avec environ 1 à 40 grammes par litre d'un composé don- nant l'ion acide de l'acide naphtalène trisulfonique.

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